JPH10310450A - Glass paste composition - Google Patents

Glass paste composition

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JPH10310450A
JPH10310450A JP11979197A JP11979197A JPH10310450A JP H10310450 A JPH10310450 A JP H10310450A JP 11979197 A JP11979197 A JP 11979197A JP 11979197 A JP11979197 A JP 11979197A JP H10310450 A JPH10310450 A JP H10310450A
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film
meth
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material layer
acrylate
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英明 増子
Tadahiko Udagawa
忠彦 宇田川
Shigeru Abe
慈 阿部
Koji Kumano
厚司 熊野
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a glass paste compsn. excellent in rapid dryability, not causing film defects in a film forming material layer formed by drying a coating film, capable of forming a dielectric layer having high light transmissivity and capable of producing a transfer film having satisfactory blocking resistance. SOLUTION: This glass paste compsn. contains glass powder, a bonding resin and at least one org. solvent selected from among ketones, alcohols and esters each having 100-200 deg.C standard b.p. and 0.5-50 mmHg vapor pressure at 20 deg.C and preferably having >=25 dyn/cm surface tension at 20 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスペースト組
成物に関し、さらに詳しくは、プラズマディスプレイパ
ネルの誘電体層を形成するために好適に使用することが
できるガラスペースト組成物に関する。
The present invention relates to a glass paste composition, and more particularly, to a glass paste composition that can be suitably used for forming a dielectric layer of a plasma display panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】最近において、平板状の蛍光表示体とし
てプラズマディスプレイが注目されている。図1は交流
型のプラズマディスプレイパネル(以下、「PDP」と
もいう。)の断面形状を示す模式図である。同図におい
て、1及び2は、対向配置されたガラス基板、3は隔壁
であり、ガラス基板1、ガラス基板2及び隔壁3により
セルが区画形成されている。4はガラス基板1に固定さ
れたバス電極、5はガラス基板2に固定されたアドレス
電極、6はセル内に保持された蛍光物質、7はバス電極
4を被覆するようガラス基板1の表面に形成された誘電
体層、8は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜であ
る。誘電体層7はガラス焼結体より形成され、その膜厚
は例えば20〜50μmとされる。
2. Description of the Related Art Recently, a plasma display has attracted attention as a flat fluorescent display. FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional shape of an AC type plasma display panel (hereinafter, also referred to as “PDP”). In FIG. 1, reference numerals 1 and 2 denote glass substrates arranged opposite to each other, and reference numeral 3 denotes a partition. A cell is defined by the glass substrate 1, the glass substrate 2 and the partition 3. 4 is a bus electrode fixed to the glass substrate 1, 5 is an address electrode fixed to the glass substrate 2, 6 is a fluorescent substance held in a cell, and 7 is a surface of the glass substrate 1 so as to cover the bus electrode 4. The formed dielectric layer 8 is a protective film made of, for example, magnesium oxide. The dielectric layer 7 is formed of a glass sintered body and has a thickness of, for example, 20 to 50 μm.

【0003】誘電体層7の形成方法としては、ガラス粉
末、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状の組成物
(ガラスペースト組成物)を調製し、このガラスペース
ト組成物をスクリーン印刷法によってガラス基板1の表
面に塗布して乾燥することにより膜形成材料層を形成
し、次いでこの膜形成材料層を焼成することにより有機
物質を除去してガラス粉末を焼結させる方法が知られて
いる。
As a method for forming the dielectric layer 7, a paste-like composition (glass paste composition) containing glass powder, a binder resin and a solvent is prepared, and the glass paste composition is glass-screened by a screen printing method. A method is known in which a film-forming material layer is formed by applying the film-forming material to the surface of a substrate 1 and drying, and then the film-forming material layer is baked to remove organic substances and sinter glass powder.

【0004】ガラスペースト組成物を構成する溶剤とし
ては、当該ガラスペースト組成物の好ましい粘性(スク
リーン版の目詰まりを発生させない粘性)を長期間にわ
たり発現させる観点から、比較的高沸点(例えば220
℃以上)の有機溶剤が使用されている(例えば特開平6
−321619号公報参照)。また、膜形成材料層を得
るための塗膜の乾燥条件としては、通常100〜150
℃で10〜15分間とされる。
[0004] As a solvent constituting the glass paste composition, a relatively high boiling point (for example, 220) is used from the viewpoint of exhibiting a desirable viscosity (viscosity that does not cause clogging of the screen plate) of the glass paste composition for a long period of time.
(° C. or higher).
-31619). The drying conditions of the coating film for obtaining the film forming material layer are usually 100 to 150.
C. for 10-15 minutes.

【0005】ここで、ガラス基板1上に形成する膜形成
材料層の厚さは、焼成工程における有機物質の除去に伴
う膜厚の目減量を考慮して、形成すべき誘電体層7の膜
厚の1.3〜2.0倍程度とすることが必要であり、例
えば、誘電体層7の膜厚を20〜50μmとするために
は、30〜100μm程度の厚さの膜形成材料層を形成
する必要がある。一方、前記ガラスペースト組成物をス
クリーン印刷法により塗布する場合に、1回の塗布処理
によって形成される塗膜の厚さは15〜25μm程度で
ある。このため、膜形成材料層を所定の厚さとするため
には、ガラス基板の表面に対して、当該ガラスペースト
組成物を複数回(例えば2〜7回)にわたり繰り返して
塗布(多重印刷)する必要がある。
Here, the thickness of the film forming material layer formed on the glass substrate 1 is determined in consideration of the reduction in the film thickness accompanying the removal of the organic substance in the firing step. It is necessary that the thickness is about 1.3 to 2.0 times the thickness. For example, in order to make the thickness of the dielectric layer 7 20 to 50 μm, a film forming material layer having a thickness of about 30 to 100 μm Need to be formed. On the other hand, when the glass paste composition is applied by a screen printing method, the thickness of a coating film formed by one application treatment is about 15 to 25 μm. Therefore, in order to make the film-forming material layer have a predetermined thickness, the glass paste composition needs to be repeatedly applied (multiple printing) a plurality of times (for example, 2 to 7 times) to the surface of the glass substrate. There is.

【0006】しかしながら、スクリーン印刷法を利用す
る多重印刷によって膜形成材料層を形成する場合には、
当該膜形成材料層を焼成して形成される誘電体層が均一
な膜厚(例えば公差が±5%以内)を有するものとなら
ない。これは、スクリーン印刷法による多重印刷では、
ガラス基板の表面に対してガラスペースト組成物を均一
に塗布することが困難だからであり、塗布面積(パネル
サイズ)が大きいほど、また、塗布回数が多いほど誘電
体層における膜厚のバラツキの程度は大きいものとな
る。そして、多重印刷による塗布工程を経て得られるパ
ネル材料(当該誘電体層を有するガラス基板)には、そ
の面内において、膜厚のバラツキに起因する誘電特性に
バラツキが生じ、誘電特性のバラツキは、PDPにおけ
る表示欠陥(輝度ムラ)の原因となる。さらに、スクリ
ーン印刷法では、スクリーン版のメッシュ形状が膜形成
材料層の表面に転写されることがあり、このような膜形
成材料層を焼成して形成される誘電体層は、表面の平滑
性に劣るものとなる。
However, in the case of forming a film forming material layer by multiple printing using a screen printing method,
The dielectric layer formed by firing the film forming material layer does not have a uniform thickness (for example, the tolerance is within ± 5%). This is due to the multiple printing by the screen printing method,
This is because it is difficult to uniformly apply the glass paste composition to the surface of the glass substrate, and the larger the application area (panel size) and the greater the number of applications, the greater the degree of variation in the thickness of the dielectric layer. Will be large. Then, in the panel material (glass substrate having the dielectric layer) obtained through the application process by the multiple printing, the dielectric characteristics due to the film thickness variations occur in the plane, and the dielectric characteristics vary. This causes display defects (luminance unevenness) in the PDP. Further, in the screen printing method, the mesh shape of the screen plate may be transferred to the surface of the film forming material layer, and the dielectric layer formed by firing such a film forming material layer has a smooth surface. Inferior to

【0007】スクリーン印刷法によって膜形成材料層を
形成する場合における上記のような問題を解決する手段
として、本発明者らは、ガラスペースト組成物を支持フ
ィルム上に塗布し、塗膜を乾燥して膜形成材料層を形成
し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極
が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜
形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表
面に誘電体層を形成する工程(以下、「ドライフィルム
法」ともいう。)を含むPDPの製造方法を提案してい
る(特願平8−196304号明細書参照)。このよう
な製造方法によれば、膜厚の均一性および表面の均一性
に優れた誘電体層を形成することができ、また、膜形成
材料層が支持フィルム上に形成されてなる複合フィルム
(以下、「転写フィルム」ともいう。)は、これをロー
ル状に巻き取って保存することができる点でも有利であ
る。ここに、支持フィルム上に塗布した塗膜(ガラスペ
ースト組成物)の乾燥条件としては、支持フィルムの耐
熱性および製造効率の観点から、110℃以下で、10
分以内に制約される。
As a means for solving the above-mentioned problems in the case where the film-forming material layer is formed by the screen printing method, the present inventors apply a glass paste composition on a supporting film, dry the coating film, and dry the coating film. Forming a film forming material layer on the support film, transferring the film forming material layer formed on the support film to the surface of the glass substrate to which the electrodes are fixed, and baking the transferred film forming material layer to form the glass forming material layer. A method of manufacturing a PDP including a step of forming a dielectric layer on the surface of a substrate (hereinafter, also referred to as “dry film method”) has been proposed (see Japanese Patent Application No. 8-196304). According to such a manufacturing method, a dielectric layer having excellent film thickness uniformity and surface uniformity can be formed, and a composite film (a film-forming material layer formed on a supporting film) can be formed. Hereinafter, also referred to as a “transfer film”) is advantageous in that it can be wound and stored in a roll shape. Here, the drying conditions of the coating film (glass paste composition) applied on the support film are set at 110 ° C. or less from the viewpoint of heat resistance and production efficiency of the support film.
Be constrained within minutes.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような低温・短時間の乾燥条件では、通常220℃以上
の沸点を有する有機溶剤を十分に除去することができ
ず、支持フィルム上に形成される膜形成材料層には、相
当量(例えば5〜15重量%)の有機溶剤が残留してし
まう。そして、このような膜形成材料層を備えてなる転
写フィルムをロール状に巻き取って保存すると、転写フ
ィルム同士(膜形成材料層と支持体裏面)が固着してし
まい(このような現象を、以下「ブロッキング現象」と
いう。)、ロールから転写フィルムを引き出すことがで
きなくなる、という新たな問題が生じた。
However, under the above-mentioned low-temperature and short-time drying conditions, an organic solvent having a boiling point of usually 220 ° C. or more cannot be sufficiently removed, and the organic solvent formed on the supporting film cannot be removed. A considerable amount (eg, 5 to 15% by weight) of the organic solvent remains in the film forming material layer. When a transfer film including such a film-forming material layer is wound into a roll and stored, the transfer films (the film-forming material layer and the back surface of the support) are fixed to each other. This causes a new problem that the transfer film cannot be pulled out from the roll.

【0009】このような問題を回避するために、低沸点
の有機溶剤を使用してガラスペースト組成物を調製する
ことにより、膜形成材料層中における溶剤の残留量を可
及的に少なくすることも考えられる。しかしながら、低
沸点の有機溶剤は、概して、ガラス粉末との親和性に劣
るものであり、このような有機溶剤を含有するガラスペ
ーストには、ガラス粉末の凝集物が発生しやすい。そし
て、ガラス粉末の凝集物を含むガラスペースト組成物を
支持フィルム上に塗布して形成される膜形成材料層に
は、前記凝集物に起因する筋状の塗装跡、クレーター、
ピンホールなどの膜欠陥が発生してしまう。また、低沸
点の有機溶剤を含有するガラスペーストを塗布して膜形
成材料層を形成し、この膜形成材料層を焼成して形成さ
れるガラス焼結体(誘電体層)は、微小な気泡が残留し
ているために白濁しやすく、これにより、当該誘電体層
は、十分な透明性(光透過率)を有するものとならな
い。
In order to avoid such a problem, the residual amount of the solvent in the film forming material layer is reduced as much as possible by preparing the glass paste composition using a low boiling organic solvent. Is also conceivable. However, organic solvents having a low boiling point generally have poor affinity for glass powder, and glass paste containing such an organic solvent is liable to produce aggregates of glass powder. And a film-forming material layer formed by applying a glass paste composition containing an aggregate of glass powder on a support film, a streaky coating trace due to the aggregate, a crater,
Film defects such as pinholes occur. In addition, a glass paste containing a low-boiling organic solvent is applied to form a film-forming material layer, and the glass-sintered body (dielectric layer) formed by firing this film-forming material layer contains fine bubbles. , The dielectric layer is liable to be clouded, and the dielectric layer does not have sufficient transparency (light transmittance).

【0010】本発明は以上のような事情に基づいてなさ
れたものであって、本発明の第1の目的は、低温・短時
間の乾燥条件(例えば50〜110℃で1〜10分間)
により、含有している溶剤の殆どを除去すること(例え
ば、乾燥後における溶剤の含有率が0〜1重量%となる
こと)ができる、速乾性に優れたガラスペースト組成物
を提供することにある。本発明の第2の目的は、ガラス
粉末の凝集物を含まないガラスペースト組成物を提供す
ることにある。本発明の第3の目的は、塗膜を乾燥して
形成される膜形成材料層に、筋状の塗装跡、クレータ
ー、ピンホールなどの膜欠陥を発生させないガラスペー
スト組成物を提供することにある。本発明の第4の目的
は、得られる膜形成材料層を焼成することにより、高い
光透過率(十分な透明性)を有する誘電体層を形成する
ことができるガラスペースト組成物を提供することにあ
る。本発明の第5の目的は、転写フィルムの製造に好適
に用いることができ、得られる転写フィルムをロール状
に巻き取って保存する場合において、ブロッキング現象
を生じさせないガラスペースト組成物を提供することに
ある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and a first object of the present invention is to provide low-temperature, short-time drying conditions (for example, 50 to 110 ° C. for 1 to 10 minutes).
To provide a glass paste composition excellent in quick drying, which can remove most of the contained solvent (for example, the content of the solvent after drying becomes 0 to 1% by weight). is there. A second object of the present invention is to provide a glass paste composition that does not contain aggregates of glass powder. A third object of the present invention is to provide a glass paste composition that does not cause film defects such as streak-like coating marks, craters and pinholes in a film-forming material layer formed by drying a coating film. is there. A fourth object of the present invention is to provide a glass paste composition capable of forming a dielectric layer having high light transmittance (sufficient transparency) by firing the obtained film-forming material layer. It is in. A fifth object of the present invention is to provide a glass paste composition which can be suitably used for the production of a transfer film and which does not cause a blocking phenomenon when the obtained transfer film is wound up in a roll and stored. It is in.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明のガラスペースト
組成物は、(A)ガラス粉末、(B)結着樹脂、並びに
(C)下記の条件(1)および(2)を満足するケトン
類、アルコール類およびエステル類から選ばれた少なく
とも1種の有機溶剤(以下、「特定溶剤」ともいう。)
を含有することを特徴とする。また、上記特定溶剤は、
下記の条件(3)を併せて満足することが好ましい。 条件(1):標準沸点が100〜200℃であること。 条件(2):20℃における蒸気圧が0.5〜50mm
Hgであること。 条件(3):20℃における表面張力が25dyn/c
m以上であること。
The glass paste composition of the present invention comprises (A) a glass powder, (B) a binder resin, and (C) a ketone which satisfies the following conditions (1) and (2). , At least one organic solvent selected from alcohols and esters (hereinafter also referred to as “specific solvent”)
It is characterized by containing. Further, the specific solvent,
It is preferable to satisfy the following condition (3). Condition (1): The standard boiling point is 100 to 200 ° C. Condition (2): vapor pressure at 20 ° C. is 0.5 to 50 mm
Hg. Condition (3): The surface tension at 20 ° C. is 25 dyn / c.
m or more.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明のガラスペースト組
成物について詳細に説明する。本発明のガラスペースト
組成物は、ガラス粉末、結着樹脂および溶剤を必須成分
として含有する。 <ガラス粉末>本発明の組成物を構成するガラス粉体と
しては、その軟化点が400〜600℃の範囲内にある
ものが好ましい。ガラス粉末の軟化点が400℃未満で
ある場合には、当該組成物による膜形成材料層の焼成工
程において、結着樹脂などの有機物質が完全に分解除去
されない段階でガラス粉末が溶融してしまうため、形成
される誘電体層中に有機物質の一部が残留し、この結
果、誘電体層の光透過率が低下する傾向がある。一方、
ガラス粉末の軟化点が600℃を超える場合には、60
0℃より高温で焼成する必要があるために、ガラス基板
に歪みなどが発生しやすい。好適なガラス粉末の具体例
としては、 酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素(Pb
O−B2 3 −SiO2 系)の混合物、 酸化亜鉛、
酸化ホウ素、酸化ケイ素(ZnO−B2 3 −SiO2
系)の混合物、 酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、
酸化アルミニウム(PbO−B2 3 −SiO2 −Al
2 3 系)の混合物、 酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ
素、酸化ケイ素(PbO−ZnO−B 2 3 −SiO2
系)の混合物などを例示することができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a glass paste set of the present invention will be described.
The product will be described in detail. Glass paste of the present invention
The composition contains glass powder, binder resin and solvent as essential components
Contained as <Glass powder> a glass powder constituting the composition of the present invention;
The softening point is in the range of 400-600 ° C
Are preferred. When the softening point of the glass powder is less than 400 ° C
In some cases, baking of the film forming material layer with the composition
Process, organic substances such as binder resin are completely decomposed and removed
Glass powder melts at a stage where it is not
Some of the organic material remains in the dielectric layer
As a result, the light transmittance of the dielectric layer tends to decrease. on the other hand,
When the softening point of the glass powder exceeds 600 ° C, 60
Because it is necessary to fire at a temperature higher than 0 ° C, a glass substrate
Is easily distorted. Specific examples of suitable glass powder
As lead oxide, boron oxide, silicon oxide (Pb
OBTwoOThree-SiOTwoSystem), zinc oxide,
Boron oxide, silicon oxide (ZnO-BTwoOThree-SiOTwo
Mixture), lead oxide, boron oxide, silicon oxide,
Aluminum oxide (PbO-BTwoOThree-SiOTwo-Al
TwoOThreeSystem), lead oxide, zinc oxide, borate oxide
Element, silicon oxide (PbO-ZnO-B TwoOThree-SiOTwo
System) and the like.

【0013】<結着樹脂>本発明の組成物は、結着樹脂
がアクリル樹脂であることが好ましい。結着樹脂として
アクリル樹脂が含有されていることにより、形成される
膜形成材料層が柔軟性に優れたものとなり、当該膜形成
材料層を支持フィルム上に形成して転写フィルムを構成
する場合において、当該転写フィルムのロール加工性が
格段に向上する。また、アクリル樹脂が含有されている
膜形成材料層は、ガラス基板に対する接着性ないし密着
性にも優れている。
<Binder Resin> In the composition of the present invention, the binder resin is preferably an acrylic resin. By containing an acrylic resin as a binder resin, the formed film-forming material layer becomes excellent in flexibility, and when forming the transfer film by forming the film-forming material layer on a support film. In addition, the roll processability of the transfer film is significantly improved. Further, the film-forming material layer containing the acrylic resin has excellent adhesiveness or adhesion to a glass substrate.

【0014】かかるアクリル樹脂としては、適度な粘着
性を有してガラス粉末を結着させることができ、膜形成
材料の焼成処理(400℃〜600℃)によって完全に
酸化除去される(共)重合体の中から選択される。かか
るアクリル樹脂には、下記一般式(I)で表される(メ
タ)アクリレート化合物の単独重合体、下記一般式
(I)で表される(メタ)アクリレート化合物の2種以
上の共重合体、および下記一般式(I)で表される(メ
タ)アクリレート化合物と共重合性単量体との共重合体
が含まれる。
[0014] Such an acrylic resin is capable of binding glass powder with appropriate tackiness, and is completely oxidized and removed by baking (400 ° C to 600 ° C) the film forming material (co). It is selected from polymers. Such acrylic resins include a homopolymer of a (meth) acrylate compound represented by the following general formula (I), a copolymer of two or more (meth) acrylate compounds represented by the following general formula (I), And a copolymer of a (meth) acrylate compound represented by the following general formula (I) and a copolymerizable monomer.

【0015】[0015]

【化1】 Embedded image

【0016】〔式中、R1 は水素原子またはメチル基を
示し、R2 は1価の有機機を示す。〕
[Wherein, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a monovalent organic compound. ]

【0017】上記一般式(I)で表される(メタ)アク
リレート化合物の具体例としては、メチル(メタ)アク
リレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メ
タ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレー
ト、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)
アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペン
チル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレー
ト、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メ
タ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オ
クチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)ア
クリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノ
ニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレー
ト、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メ
タ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラ
ウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アク
リレート、イソステアリル(メタ)アクリレートなどの
アルキル(メタ)アクリレート;ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)ア
クリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロ
キシブチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアル
キル(メタ)アクリレート;フェノキシエチル(メタ)
アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピ
ル(メタ)アクリレートなどのフェノキシアルキル(メ
タ)アクリレート;2−メトキシエチル(メタ)アクリ
レート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2
−プロポキシエチル(メタ)アクリレート、2−ブトキ
シエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシブチル
(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキル(メ
タ)アクリレート;ポリエチレングリコールモノ(メ
タ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メ
タ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール
(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコ
ール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチ
レングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレン
グリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリプ
ロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポ
リプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ノニル
フェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレ
ートなどのポリアルキレングリコール(メタ)アクリレ
ート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、4−ブチ
ルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペン
タニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メ
タ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)ア
クリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボル
ニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メ
タ)アクリレートなどのシクロアルキル(メタ)アクリ
レート;ベンジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロ
フルフリル(メタ)アクリレートなどを挙げることがで
きる。これらのうち、上記一般式(I)中、R2 で示さ
れる基が、アルキル基またはオキシアルキレン基を含有
する基であることが好ましく、特に好ましい(メタ)ア
クリレート化合物として、メチル(メタ)アクリレー
ト、ブチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イ
ソデシル(メタ)アクリレートおよび2−エトキシエチ
ル(メタ)アクリレートを挙げることができる。他の共
重合性単量体としては、上記(メタ)アクリレート化合
物と共重合可能な化合物ならば特に制限はないが、例え
ば、(メタ)アクリル酸、ビニル安息香酸、マイレン
酸、ビニルフタル酸などの不飽和カルボン酸類;ビニル
ベンジルメチルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、
スチレン、α−メチルスチレン、ブタジエン、イソプレ
ンなどのビニル基含有ラジカル重合性化合物が挙げられ
る。本発明の組成物を構成するアクリル樹脂における、
上記一般式(I)で表される(メタ)アクリレート化合
物由来の共重合成分は、通常70重量%以上、好ましく
は90重量%以上、さらに好ましくは100重量%であ
る。
Specific examples of the (meth) acrylate compound represented by the general formula (I) include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate. (Meth) acrylate, isobutyl (meth)
Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) Acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, Alkyl (meth) acrylates such as isostearyl (meth) acrylate; hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, Rokishipuropiru (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3
Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as -hydroxybutyl (meth) acrylate and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate; phenoxyethyl (meth)
Phenoxyalkyl (meth) acrylates such as acrylate and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate; 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2
-Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as propoxyethyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate and 2-methoxybutyl (meth) acrylate; polyethylene glycol mono (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxy Polyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, ethoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxy Polyalkylenes such as polypropylene glycol (meth) acrylate Recol (meth) acrylate; cyclohexyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, bornyl ( Examples thereof include cycloalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and tricyclodecanyl (meth) acrylate; benzyl (meth) acrylate, and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate. Among these, in the above general formula (I), the group represented by R 2 is preferably a group containing an alkyl group or an oxyalkylene group, and a particularly preferred (meth) acrylate compound is methyl (meth) acrylate. Butyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate and 2-ethoxyethyl (meth) acrylate. The other copolymerizable monomer is not particularly limited as long as it is a compound copolymerizable with the above (meth) acrylate compound. For example, (meth) acrylic acid, vinyl benzoic acid, maleic acid, vinyl phthalic acid, etc. Unsaturated carboxylic acids; vinylbenzyl methyl ether, vinyl glycidyl ether,
Examples include a vinyl group-containing radically polymerizable compound such as styrene, α-methylstyrene, butadiene, and isoprene. In the acrylic resin constituting the composition of the present invention,
The content of the copolymer component derived from the (meth) acrylate compound represented by the general formula (I) is usually 70% by weight or more, preferably 90% by weight or more, and more preferably 100% by weight.

【0018】本発明の組成物を構成するアクリル樹脂の
分子量としては、GPCによるポリスチレン換算の重量
平均分子量として4,000〜300,000であるこ
とが好ましく、さらに好ましくは10,000〜20
0,000とされる。本発明の組成物における結着樹脂
の含有割合としては、ガラス粉末100重量部に対し
て、5〜40重量部であることが好ましく、さらに好ま
しくは10〜30重量部とされる。結着樹脂の割合が過
小である場合には、ガラス粉末を確実に結着保持するこ
とができず、一方、この割合が過大である場合には、焼
成工程に長い時間を要したり、形成されるガラス焼結体
(誘電体層)が十分な強度や膜厚を有するものとならな
かったりする。
The molecular weight of the acrylic resin constituting the composition of the present invention is preferably 4,000 to 300,000, more preferably 10,000 to 20, as a weight average molecular weight in terms of polystyrene by GPC.
0000. The content of the binder resin in the composition of the present invention is preferably 5 to 40 parts by weight, more preferably 10 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the glass powder. If the ratio of the binder resin is too small, the glass powder cannot be securely bound and held.On the other hand, if the ratio is too large, a long time is required for the firing step or formation. The resulting glass sintered body (dielectric layer) may not have sufficient strength and film thickness.

【0019】<溶剤>本発明においては、組成物を構成
する溶剤として特定溶剤を含有する点に特徴を有してい
る。 (1)特定溶剤の標準沸点(1気圧における沸点)は1
00〜200℃とされ、好ましくは110〜180℃と
される。特定溶剤の標準沸点が200℃を超える場合に
は、含有される溶剤全体の沸点が高くなりすぎて、その
ような溶剤を含有してなるガラスペースト組成物を塗布
して転写フィルムを製造するときに、得られる転写フィ
ルムの膜形成材料層中に相当量の有機溶剤が残留し、当
該転写フィルムをロール状に巻き取って保存する際にブ
ロッキング現象が発生しやすくなる。一方、特定溶剤の
標準沸点が100℃未満である場合には、溶剤全体の沸
点が低くなりすぎて、そのような溶剤を含有してなるガ
ラスペースト組成物中において、ガラス粉末の凝集物が
発生しやすくなり、当該組成物を塗布して形成される膜
形成材料層に、筋状の塗装跡、クレーター、ピンホール
などの膜欠陥が発生しやすくなる。
<Solvent> The present invention is characterized in that a specific solvent is contained as a solvent constituting the composition. (1) The standard boiling point (boiling point at 1 atm) of the specific solvent is 1
The temperature is set to 100 to 200 ° C, preferably 110 to 180 ° C. When the standard boiling point of the specific solvent exceeds 200 ° C., the boiling point of the whole contained solvent is too high, and when a glass paste composition containing such a solvent is applied to produce a transfer film. In addition, a considerable amount of organic solvent remains in the film-forming material layer of the obtained transfer film, and a blocking phenomenon is likely to occur when the transfer film is wound up in a roll and stored. On the other hand, when the standard boiling point of the specific solvent is lower than 100 ° C., the boiling point of the entire solvent is too low, and an agglomerate of glass powder is generated in the glass paste composition containing such a solvent. The film-forming material layer formed by applying the composition is liable to generate film defects such as streaky coating marks, craters, and pinholes.

【0020】(2)特定溶剤の20℃における蒸気圧は
0.5〜50mmHgとされ、好ましくは0.7〜30
mmHgとされる。特定溶剤の20℃における蒸気圧が
0.5mmHg未満である場合には、含有される溶剤全
体の蒸気圧が低くなりすぎて、そのような溶剤を含有し
てなるガラスペースト組成物を塗布して転写フィルムを
製造するときに、得られる転写フィルムの膜形成材料層
中に相当量の有機溶剤が残留し、当該転写フィルムをロ
ール状に巻き取って保存する際にブロッキング現象が発
生しやすくなる。一方、特定溶剤の20℃における蒸気
圧が50mmHgを超える場合には、溶剤全体の蒸気圧
が高くなりすぎて、そのような溶剤を含有してなるガラ
スペースト組成物が速乾性を有し、塗布時のレベリング
性が不足して、膜厚均一性が悪くなりやすい。
(2) The vapor pressure of the specific solvent at 20 ° C. is 0.5 to 50 mmHg, preferably 0.7 to 30 mmHg.
mmHg. If the vapor pressure of the specific solvent at 20 ° C. is less than 0.5 mmHg, the vapor pressure of the contained solvent as a whole is too low, and the glass paste composition containing such a solvent is applied. When a transfer film is manufactured, a considerable amount of an organic solvent remains in the film forming material layer of the obtained transfer film, and a blocking phenomenon is likely to occur when the transfer film is wound up in a roll and stored. On the other hand, when the vapor pressure of the specific solvent at 20 ° C. exceeds 50 mmHg, the vapor pressure of the entire solvent becomes too high, and the glass paste composition containing such a solvent has a quick drying property and is coated. The leveling property at the time is insufficient, and the uniformity of the film thickness tends to deteriorate.

【0021】(3)特定溶剤の20℃における表面張力
は25dyn/cm以上であることが好ましい。特定溶
剤の20℃における表面張力が25dyn/cm未満で
ある場合には、含有される溶剤全体の表面張力が低くな
り、そのような溶剤を含有してなるガラスペースト組成
物を塗布して膜形成材料層を形成するときに、当該膜形
成材料層を焼成して形成されるガラス焼結体(誘電体
層)が白濁して、十分な透明性(光透過率)を有するも
のとならない場合がある。
(3) The surface tension of the specific solvent at 20 ° C. is preferably 25 dyn / cm or more. When the surface tension of the specific solvent at 20 ° C. is less than 25 dyn / cm, the surface tension of the contained solvent becomes low, and a glass paste composition containing such a solvent is applied to form a film. When a material layer is formed, a glass sintered body (dielectric layer) formed by firing the film forming material layer may become cloudy and may not have sufficient transparency (light transmittance). is there.

【0022】本発明の組成物を構成する特定溶剤は、上
記の条件(1)および(2)を満足し、好ましくは上記
の条件(3)を満足する、ケトン類、アルコール類およ
びエステル類の中から選択される。
The specific solvent constituting the composition of the present invention satisfies the above conditions (1) and (2), and preferably satisfies the above condition (3), of ketones, alcohols and esters. Selected from among.

【0023】特定溶剤の具体例としては、ジエチルケト
ン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘ
キサノンなどのケトン類;n−ペンタノール、4−メチ
ル−2−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセト
ンアルコールなどのアルコール類;エチレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエ
ーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリ
コールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール
類;酢酸−n−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モ
ノカルボン酸アルキルエステル類;乳酸エチル、乳酸−
n−ブチルなどの乳酸エステル類;メチルセロソルブア
セテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−3−
エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類な
どを例示することができ、これらのうち、メチルブチル
ケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エ
チレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールモノメチルエーテル、乳酸エチル、エチル−3−
エトキシプロピオネートなどが好ましい。これらの特定
溶剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用する
ことができる。
Specific examples of the specific solvent include ketones such as diethyl ketone, methyl butyl ketone, dipropyl ketone and cyclohexanone; and n-pentanol, 4-methyl-2-pentanol, cyclohexanol and diacetone alcohol. Alcohols; ether alcohols such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monoethyl ether; saturated aliphatic monocarbonates such as n-butyl acetate and amyl acetate Carboxylic acid alkyl esters; ethyl lactate, lactic acid-
Lactic acid esters such as n-butyl; methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl-3-
Examples thereof include ether esters such as ethoxypropionate. Of these, methyl butyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate, and ethyl-3-
Ethoxypropionate and the like are preferred. These specific solvents can be used alone or in combination of two or more.

【0024】本発明の組成物に含有されることがある特
定溶剤以外の溶剤としては、 ガラス粉末との親和性(分散性)、結着樹脂の溶解
性、特定溶剤との相溶性が良好で、 特定溶剤と共に、ガラスペースト組成物に適度な粘
性を付与することができ、 乾燥されることによって容易に蒸発除去できるもの
中から選択することができる。かかる溶剤の具体例とし
ては、テレビン油、エチルセロソルブ、メチルセロソル
ブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、
ブチルカルビトール、イソプロピルアルコール、ベンジ
ルアルコールなどを挙げることができる。
The solvent other than the specific solvent which may be contained in the composition of the present invention has good affinity (dispersibility) with the glass powder, solubility of the binder resin, and good compatibility with the specific solvent. The glass paste composition can be given an appropriate viscosity together with the specific solvent, and can be selected from those which can be easily evaporated and removed by drying. Specific examples of such solvents include turpentine, ethyl cellosolve, methyl cellosolve, terpineol, butyl carbitol acetate,
Examples thereof include butyl carbitol, isopropyl alcohol, and benzyl alcohol.

【0025】本発明の組成物において、全溶剤に対する
割合特定溶剤の含有割合としては、通常50重量%以上
とされ、好ましくは70重量%以上とされる。また、本
発明の組成物における溶剤(特定溶剤およびその他の溶
剤)の含有割合としては、組成物の粘度を好適な範囲に
維持する観点から、ガラス粉末100重量部に対して、
5〜50重量部であることが好ましく、さらに好ましく
は10〜40重量部とされる。
In the composition of the present invention, the ratio of the specific solvent to the total solvent is usually 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more. In addition, the content of the solvent (specific solvent and other solvents) in the composition of the present invention, from the viewpoint of maintaining the viscosity of the composition in a suitable range, based on 100 parts by weight of glass powder,
It is preferably 5 to 50 parts by weight, more preferably 10 to 40 parts by weight.

【0026】本発明のガラスペースト組成物には、上記
の必須成分のほかに、分散剤、粘着性付与剤、可塑剤、
表面張力調整剤、安定剤、消泡剤などの各種添加剤が任
意成分として含有されていてもよい。好ましいガラスペ
ースト組成物の一例を示せば、ガラス粉末として、酸化
鉛50〜80重量%、酸化ホウ素5〜20重量%、酸化
ケイ素10〜30重量%からなる混合物100重量部
と、ポリブチルメタクリレート(アクリル樹脂)10〜
30重量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル(特定溶剤)10〜50重量部とを必須成分として含
有する組成物を挙げることができる。
The glass paste composition of the present invention contains, in addition to the above essential components, a dispersant, a tackifier, a plasticizer,
Various additives such as a surface tension modifier, a stabilizer, and an antifoaming agent may be contained as optional components. As an example of a preferred glass paste composition, as a glass powder, 100 parts by weight of a mixture composed of 50 to 80% by weight of lead oxide, 5 to 20% by weight of boron oxide, and 10 to 30% by weight of silicon oxide, and polybutyl methacrylate ( Acrylic resin)
Examples of the composition include 30 parts by weight and 10 to 50 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether (specific solvent) as essential components.

【0027】本発明の組成物は、上記ガラス粉末、結着
樹脂および溶剤並びに任意成分を、ロール混練機、ミキ
サー、ホモミキサー、ボールミル、ビーズミルなどの混
練機を用いて混練することにより調製することができ
る。上記のようにして調製される本発明の組成物は、塗
布に適した流動性を有するペースト状の組成物であり、
その粘度は、通常1,000〜30,000cpとさ
れ、好ましくは3,000〜10,000cpとされ
る。
The composition of the present invention is prepared by kneading the above-mentioned glass powder, binder resin, solvent and optional components using a kneader such as a roll kneader, a mixer, a homomixer, a ball mill, a bead mill and the like. Can be. The composition of the present invention prepared as described above is a paste-like composition having fluidity suitable for application,
The viscosity is usually from 1,000 to 30,000 cp, preferably from 3,000 to 10,000 cp.

【0028】本発明の組成物は、転写フィルムを製造す
るために好適に使用することができる。この転写フィル
ムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成され
た膜形成材料層とにより構成され、ドライフィルム法に
適用される複合材料である。
The composition of the present invention can be suitably used for producing a transfer film. This transfer film is a composite material composed of a support film and a film-forming material layer formed on the support film, and applied to a dry film method.

【0029】転写フィルムを構成する支持フィルムは、
耐熱性及び耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹
脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓
性を有することにより、ロールコーター、ブレードコー
ターなどによって本発明の組成物を塗布することがで
き、膜形成材料層をロール状に巻回した状態で保存し、
供給することができる。支持フィルムを形成する樹脂と
しては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエス
テル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、
ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、
ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セ
ルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚
さとしては、例えば20〜100μmとされる。
The supporting film constituting the transfer film includes:
It is preferable that the resin film has heat resistance and solvent resistance and is flexible. Since the support film has flexibility, the composition of the present invention can be applied by a roll coater, a blade coater, or the like, and the film-forming material layer is stored in a rolled state,
Can be supplied. As the resin forming the support film, for example, polyethylene terephthalate, polyester, polyethylene, polypropylene, polystyrene,
Polyimide, polyvinyl alcohol, polyvinyl chloride,
Examples thereof include fluorine-containing resins such as polyfluoroethylene, nylon, and cellulose. The thickness of the support film is, for example, 20 to 100 μm.

【0030】転写フィルムを構成する膜形成材料層は、
本発明の組成物を前記支持フィルム上に塗布し、塗膜を
乾燥して溶剤の一部又は全部を除去すること(例えば、
溶剤の含有率が0〜1.0重量%となるまで除去するこ
と)により形成することができる。
The film forming material layer constituting the transfer film includes:
Applying the composition of the present invention on the support film, drying the coating film to remove part or all of the solvent (for example,
(Until the solvent content becomes 0 to 1.0% by weight).

【0031】本発明の組成物を支持フィルム上に塗布す
る方法としては、膜厚の均一性に優れた膜厚の大きい
(例えば20μm以上)塗膜を効率よく形成することが
できるものであることが好ましく、具体的には、ロール
コーターによる塗布方法、ブレードコーターによる塗布
方法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコー
ターによる塗布方法などを好ましいものとして挙げるこ
とができる。なお、本発明の組成物が塗布される支持フ
ィルムの表面には離型処理が施されていることが好まし
い。これにより、ガラス基板への転写工程において、支
持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。ま
た、転写フィルムには、膜形成材料層の表面に保護フィ
ルム層が設けられてもよい。このような保護フィルム層
としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリ
エチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムな
どを挙げることができる。本発明の組成物を支持フィル
ム上に塗布して形成される膜形成材料層(転写フィルム
を構成する膜形成材料層)は、アクリル樹脂を含有する
ことによる優れた柔軟性(ロール加工性)、およびガラ
ス基板に対する優れた密着性を有するものとなる。
The method of applying the composition of the present invention on a supporting film is a method capable of efficiently forming a large (eg, 20 μm or more) coating film having excellent thickness uniformity. Specific examples include a coating method using a roll coater, a coating method using a blade coater, a coating method using a curtain coater, and a coating method using a wire coater. The surface of the support film to which the composition of the present invention is applied is preferably subjected to a release treatment. Thereby, in the step of transferring to the glass substrate, the operation of peeling the support film can be easily performed. Further, the transfer film may be provided with a protective film layer on the surface of the film forming material layer. Examples of such a protective film layer include a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, and a polyvinyl alcohol-based film. A film-forming material layer formed by applying the composition of the present invention on a support film (a film-forming material layer constituting a transfer film) has excellent flexibility (roll processability) due to containing an acrylic resin, And it has excellent adhesion to a glass substrate.

【0032】本発明の組成物は、上記のように、支持フ
ィルム上に膜形成材料層を形成して転写フィルムを製造
する際に好適に使用することができるが、これらの用途
に限定されるものではなく、従来において公知の膜形成
材料層の形成方法、すなわち、スクリーン印刷法などに
よって当該組成物をガラス基板の表面に直接塗布し、塗
膜を乾燥することにより膜形成材料層を形成する方法に
も好適に使用することができる。
As described above, the composition of the present invention can be suitably used for producing a transfer film by forming a film-forming material layer on a support film, but is limited to these uses. Instead, a method for forming a film-forming material layer conventionally known, that is, the composition is directly applied to the surface of a glass substrate by a screen printing method or the like, and the film is dried to form a film-forming material layer. The method can also be suitably used.

【0033】[0033]

【実施例】以下、本発明の実施例について説明するが、
本発明はこれらによって限定されるものではない。な
お、以下において「部」は「重量部」を示す。 <実施例1> (1)ガラスペースト組成物の調製:ガラス粉末とし
て、酸化鉛60重量%、酸化ホウ素10重量%、酸化ケ
イ素30重量%の組成を有するPbO−B2 3 −Si
2 系の混合物(軟化点550℃)100部、結着樹脂
として、ブチルメタクリレート(70重量%)とメチル
メタクリレート(30重量%)とを共重合させて得られ
たアクリル樹脂(GPCによるポリスチレン換算の重量
平均分子量:80,000)20部、溶剤としてメチル
ブチルケトン(特定溶剤)20部を分散機を用いて混練
することにより、粘度が7,000cpである本発明の
組成物を調製した。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
The present invention is not limited by these. In the following, “parts” indicates “parts by weight”. Preparation of <Example 1> (1) Glass paste composition: as glass powder, lead oxide 60 wt%, boron oxide 10 wt%, PbO-B 2 O 3 -Si having a composition of silicon oxide 30 wt%
Acrylic resin (polystyrene conversion by GPC) obtained by copolymerizing 100 parts of an O 2 -based mixture (softening point: 550 ° C.) and butyl methacrylate (70% by weight) and methyl methacrylate (30% by weight) as a binder resin (Weight average molecular weight: 80,000) and 20 parts of methyl butyl ketone (specific solvent) as a solvent were kneaded using a disperser to prepare a composition of the present invention having a viscosity of 7,000 cp.

【0034】(2)転写フィルムの製造:上記(1)で
調製した本発明の組成物を、予め離型処理したポリエチ
レンテレフタレート(PET)よりなる支持フィルム
(幅400mm,長さ30m,厚さ38μm)上にブレ
ードコーターを用いて塗布し、形成された塗膜を100
℃で5分間乾燥することにより溶剤を除去し、これによ
り、厚さ50μmの膜形成材料層が支持フィルム上に形
成されてなる転写フィルムを製造した。
(2) Production of transfer film: A support film (400 mm wide, 30 m long, 38 μm thick) made of polyethylene terephthalate (PET) which has been pre-released from the composition of the present invention prepared in the above (1). ) Was applied using a blade coater.
The solvent was removed by drying at 5 ° C. for 5 minutes, thereby producing a transfer film having a 50 μm-thick film-forming material layer formed on a support film.

【0035】(3)転写フィルムの評価:上記(2)で
製造した転写フィルムについて、膜形成材料層に残留し
ている溶剤(メチルブチルケトン)の含有率をガスクロ
マトグラフィーにより定量したところ、1重量%以下で
あり、この膜形成材料層の表面においてベタツキは認め
られなかった。また、この膜形成材料層の表面状態を顕
微鏡を用いて観察したところ、ガラス粉末の凝集物、筋
状の塗装跡、クレーター、ピンホールなどの膜欠陥は全
く認められなかった。さらに、この転写フィルムを10
cm×10cmの大きさに裁断して試験片を10枚作製
し、これらを重ね合わせて積層体を作製し、この積層体
の両面に圧縮荷重(20gf/cm2 )を架けた状態
で、恒温恒湿環境下(温度40℃,相対湿度60%)に
24時間放置した後、積層体から試験片を1枚ずつ剥が
してみたところ、容易に剥がすことができ、ブロッキン
グ現象は認められなかった。
(3) Evaluation of transfer film: The content of the solvent (methyl butyl ketone) remaining in the film forming material layer of the transfer film manufactured in the above (2) was determined by gas chromatography. % By weight or less, and no stickiness was observed on the surface of the film forming material layer. Further, when the surface state of the film-forming material layer was observed using a microscope, no film defects such as agglomerates of glass powder, streaky coating marks, craters and pinholes were observed. Further, this transfer film is
The test piece was cut into a size of 10 cm × 10 cm to prepare 10 test pieces, and the test pieces were superimposed to form a laminate. The laminate was subjected to a compressive load (20 gf / cm 2 ) on both sides, and then subjected to constant temperature After standing for 24 hours in a constant humidity environment (temperature: 40 ° C., relative humidity: 60%), the test pieces were peeled off from the laminate one by one. As a result, the test pieces could be easily peeled off, and no blocking phenomenon was observed.

【0036】(4)膜形成材料層の転写:20インチパ
ネル用のガラス基板の表面(バス電極の固定面)に、膜
形成材料層の表面が当接されるよう、上記(2)で製造
した転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加
熱ロールにより熱圧着した。ここで、圧着条件として
は、加熱ロールの表面温度を110℃、ロール圧を3k
g/cm2 、加熱ロールの移動速度を1m/分とした。
熱圧着処理の終了後、膜形成材料層から支持フィルムを
剥離除去した。これにより、ガラス基板の表面に膜形成
材料層が転写されて密着した状態となった。
(4) Transfer of the film forming material layer: manufactured in the above (2) so that the surface of the film forming material layer is brought into contact with the surface of the glass substrate for a 20-inch panel (the fixed surface of the bus electrode). The transfer films thus obtained were overlapped, and the transfer film was thermocompression-bonded with a heating roll. Here, as the pressing conditions, the surface temperature of the heating roll is 110 ° C., and the roll pressure is 3 k.
g / cm 2 , and the moving speed of the heating roll was 1 m / min.
After the completion of the thermocompression bonding, the support film was peeled off from the film forming material layer. As a result, the film-forming material layer was transferred to and adhered to the surface of the glass substrate.

【0037】(5)膜形成材料層の焼成(誘電体層の形
成):上記(4)により膜形成材料層を転写形成したガ
ラス基板を焼成炉内に配置し、炉内の温度を、常温から
10℃/分の昇温速度で560℃まで昇温し、560℃
の温度雰囲気下30分間にわたって焼成処理することに
より、ガラス基板の表面に、ガラス焼結体よりなる誘電
体層を形成した。
(5) Firing the film-forming material layer (forming the dielectric layer): The glass substrate on which the film-forming material layer was transferred and formed by the above (4) was placed in a firing furnace, and the temperature in the furnace was set to room temperature. To 560 ° C at a rate of 10 ° C / min.
By baking for 30 minutes in the temperature atmosphere, a dielectric layer made of a glass sintered body was formed on the surface of the glass substrate.

【0038】(6)誘電体層の評価:この誘電体層の膜
厚(平均膜厚および公差)を測定したところ30μm±
0.5μmの範囲にあり、膜厚の均一性に優れているも
のであった。また、このようにして、誘電体層を有する
ガラス基板よりなるパネル材料を5台分作製し、形成さ
れた誘電体層の光透過率(測定波長600nm)を測定
したところ80%であり、良好な透明性を有するもので
あることが認められた。
(6) Evaluation of dielectric layer: The thickness (average thickness and tolerance) of this dielectric layer was measured to be 30 μm ±
The thickness was in the range of 0.5 μm, and the uniformity of the film thickness was excellent. Further, five panel materials made of a glass substrate having a dielectric layer were prepared in this way, and the light transmittance (measurement wavelength: 600 nm) of the formed dielectric layer was 80%. It was confirmed that the composition had excellent transparency.

【0039】<実施例2〜4>表1に示す処方に従って
溶剤の組成を変更したこと以外は実施例1と同様にして
本発明のガラスペースト組成物を調製した。次いで、得
られたガラスペースト組成物の各々を使用したこと以外
は実施例1と同様にして転写フィルムを製造した。その
後、得られた転写フィルムの各々を使用したこと以外は
実施例1と同様にして、膜形成材料層の転写および膜形
成材料層の焼成処理を行って、ガラス基板の表面に誘電
体層(厚さ30μm±0.5μm)を形成した。転写フ
ィルムの評価結果(膜形成材料層中における溶剤の含有
率・膜形成材料層表面におけるベタツキ・転写フィルム
のブロッキング現象・膜形成材料層における膜欠陥の有
無)並びに形成された誘電体層の光透過率を表1に示
す。
<Examples 2 to 4> A glass paste composition of the present invention was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the solvent was changed according to the formulation shown in Table 1. Next, a transfer film was produced in the same manner as in Example 1 except that each of the obtained glass paste compositions was used. After that, the transfer of the film-forming material layer and the baking treatment of the film-forming material layer were performed in the same manner as in Example 1 except that each of the obtained transfer films was used, and the dielectric layer ( (Thickness: 30 μm ± 0.5 μm). Evaluation results of the transfer film (content of solvent in the film forming material layer, stickiness on the surface of the film forming material layer, blocking phenomenon of the transfer film, presence / absence of a film defect in the film forming material layer) and light of the formed dielectric layer Table 1 shows the transmittance.

【0040】<比較例1>表1に示す処方に従って、メ
チルブチルケトン(特定溶剤)に代えてイソプロピルア
ルコール20部を使用したこと以外は実施例1と同様に
して、比較用のガラスペースト組成物を調製し、当該ガ
ラスペースト組成物を使用して転写フィルムを製造し
た。得られた転写フィルムについて、膜形成材料層にお
ける溶剤(イソプロピルアルコール)の含有率は1重量
%以下であり、この膜形成材料層の表面にベタツキは認
められなかった。また、当該転写フィルムの積層体にお
いて、ブロッキング現象は認められなかった。しかしな
がら、膜形成材料層の表面には、20〜50μm程度の
ガラスの凝集物が多数認められ、当該凝集物を核に発生
している筋状の塗装跡およびクレーターも認められた。
次いで、当該転写フィルムを使用したこと以外は実施例
1と同様にして、膜形成材料層の転写および膜形成材料
層の焼成処理を行って、ガラス基板の表面に誘電体層
(厚さ30μm±1.5μm)を形成し、当該誘電体層
の光透過率を測定したところ50%であり、透明性に劣
るものであった。以上の結果を表1にまとめて示す。
Comparative Example 1 A glass paste composition for comparison was prepared in the same manner as in Example 1 except that 20 parts of isopropyl alcohol was used in place of methyl butyl ketone (specific solvent) according to the formulation shown in Table 1. Was prepared, and a transfer film was produced using the glass paste composition. In the obtained transfer film, the content of the solvent (isopropyl alcohol) in the film forming material layer was 1% by weight or less, and no stickiness was observed on the surface of the film forming material layer. No blocking phenomenon was observed in the transfer film laminate. However, a large number of glass aggregates of about 20 to 50 μm were observed on the surface of the film-forming material layer, and streak-like coating traces and craters generated in the nuclei of the aggregates were also observed.
Next, the transfer of the film-forming material layer and the baking treatment of the film-forming material layer were performed in the same manner as in Example 1 except that the transfer film was used, and a dielectric layer (thickness: 30 μm ±) was formed on the surface of the glass substrate. 1.5 μm), and the light transmittance of the dielectric layer was measured to be 50%, which was inferior in transparency. The above results are summarized in Table 1.

【0041】<比較例2>表1に示す処方に従って、メ
チルブチルケトン(特定溶剤)に代えてジエチレングリ
コールモノブチルエーテル20部を使用したこと以外は
実施例1と同様にして、比較用のガラスペースト組成物
を調製し、当該ガラスペースト組成物を使用して転写フ
ィルムを製造した。得られた転写フィルムについて、膜
形成材料層の表面状態を観察したところ、ガラス粉末の
凝集物、筋状の塗装跡、クレーター、ピンホールなどの
膜欠陥は認められなかった。しかしながら、当該膜形成
材料層における溶剤(ジエチレングリコールモノブチル
エーテル)の含有率は11重量%と高く、この膜形成材
料層の表面全体にベタツキが認められた。また、ブロッ
キング現象の有無を確認するために作製した当該転写フ
ィルムの積層体において、試験片を剥離することができ
なかった。次いで、当該転写フィルムを使用したこと以
外は実施例1と同様にして、膜形成材料層の転写および
膜形成材料層の焼成処理を行って、ガラス基板の表面に
誘電体層(厚さ30μm±0.5μm)を形成し、当該
誘電体層の光透過率を測定したところ82%であった。
以上の結果を表1にまとめて示す。
Comparative Example 2 A glass paste composition for comparison was prepared in the same manner as in Example 1 except that 20 parts of diethylene glycol monobutyl ether was used in place of methyl butyl ketone (specific solvent) in accordance with the formulation shown in Table 1. An article was prepared, and a transfer film was manufactured using the glass paste composition. Observation of the surface state of the film-forming material layer of the obtained transfer film revealed no film defects such as agglomerates of glass powder, streaky coating marks, craters and pinholes. However, the content of the solvent (diethylene glycol monobutyl ether) in the film forming material layer was as high as 11% by weight, and stickiness was observed on the entire surface of the film forming material layer. In addition, the test piece could not be peeled off from the laminate of the transfer film prepared for confirming the presence or absence of the blocking phenomenon. Next, the transfer of the film-forming material layer and the baking treatment of the film-forming material layer were performed in the same manner as in Example 1 except that the transfer film was used, and a dielectric layer (thickness: 30 μm ± 0.5 μm), and the light transmittance of the dielectric layer was measured to be 82%.
The above results are summarized in Table 1.

【0042】[0042]

【表1】 [Table 1]

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明の組成物によれば下記のような効
果が奏される。 (1)低温・短時間の乾燥によって、溶剤含有率の低い
膜形成材料層を形成することができる。 (2)ガラス粉末との親和性に優れる特定溶剤が含有さ
れているので、組成物中においてガラス粉末の凝集物が
生成することはない。 (3)膜欠陥のない均質性に優れた膜形成材料層を形成
することができる。 (4)柔軟性に優れた膜形成材料層を形成することがで
きる。 (5)ガラス基板との接着性に優れた膜形成材料層を形
成することができる。 (6)高い光透過率を有する誘電体層を形成することが
できる。 (7)転写フィルムの製造に好適に使用することができ
る。 (8)耐ブロッキング性に優れた転写フィルムを製造す
ることができる。 (9)ロール加工性に優れた転写フィルムを製造するこ
とができる。
According to the composition of the present invention, the following effects can be obtained. (1) A film-forming material layer having a low solvent content can be formed by low-temperature and short-time drying. (2) Since a specific solvent having an excellent affinity for glass powder is contained, no aggregate of glass powder is formed in the composition. (3) It is possible to form a film forming material layer excellent in uniformity without film defects. (4) A film-forming material layer having excellent flexibility can be formed. (5) A film-forming material layer having excellent adhesion to a glass substrate can be formed. (6) A dielectric layer having a high light transmittance can be formed. (7) It can be suitably used for the production of a transfer film. (8) A transfer film having excellent blocking resistance can be manufactured. (9) A transfer film having excellent roll processability can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】交流型のプラズマディスプレイパネルの断面形
状を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional shape of an AC type plasma display panel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス基板 2 ガラス基板 3 隔壁 4 バス電極 5 アドレス電極 6 蛍光物質 7 誘電体層 8 保護層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Glass substrate 3 Partition wall 4 Bus electrode 5 Address electrode 6 Phosphor 7 Dielectric layer 8 Protective layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 熊野 厚司 東京都中央区築地2丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued from the front page (72) Inventor Atsushi Kumano 2--11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Inside Nippon Gosei Rubber Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)ガラス粉末、(B)結着樹脂、並
びに(C)下記の条件(1)および(2)を満足するケ
トン類、アルコール類およびエステル類から選ばれた少
なくとも1種の有機溶剤を含有することを特徴とするガ
ラスペースト組成物。 条件(1):標準沸点が100〜200℃であること。 条件(2):20℃における蒸気圧が0.5〜50mm
Hgであること。
1. A glass powder, (B) a binder resin, and (C) at least one selected from ketones, alcohols and esters satisfying the following conditions (1) and (2): A glass paste composition comprising: an organic solvent. Condition (1): The standard boiling point is 100 to 200 ° C. Condition (2): vapor pressure at 20 ° C. is 0.5 to 50 mm
Hg.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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