JPH103047A - Light source device for two beam scanning - Google Patents

Light source device for two beam scanning

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JPH103047A
JPH103047A JP15380896A JP15380896A JPH103047A JP H103047 A JPH103047 A JP H103047A JP 15380896 A JP15380896 A JP 15380896A JP 15380896 A JP15380896 A JP 15380896A JP H103047 A JPH103047 A JP H103047A
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light source
source device
sub
beams
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Migaku Amada
天田  琢
Tomohiro Nakajima
智宏 中島
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light source device for two beam scanning easy to adjust and change the pitch of a scanning line and capable of effectively making the bent and the deviation of pitch of a scanning line smaller without making the light source side of an optical scanning system larger. SOLUTION: By adjusting the tilt angle Σ of the arranging direction 1-1 of two collimator lenses 2a, 2b to the arranging direction 5-1 of a reflection surface 51 and a beam splitting surface 52 in a composite prism member 5, a distance (d) between optical axes of two collimators in the optical path after the beam splitting surface 52 is made adjustable. By shifting at least one of two light emitting sources 1a, 1b from the optical axis of the corresponding collimator lens, by the shifting direction and shifted amount, the degree of approach in the main scanning corresponding direction and the degree of separation in the sub-scanning corresponding direction of the respective beams in the optical path after the beam splitting surface 52 are made to be adjustable.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は2ビーム走査用光
源装置に関する。
The present invention relates to a two-beam scanning light source device.

【0002】[0002]

【従来の技術】光走査による画像記録の高速化を目し
て、複数の走査線を一度に走査するマルチビーム走査方
式が意図されている。マルチビーム走査方式の1形態と
して、2つの発光源からのビームを利用する「2ビーム
走査方式」がある。
2. Description of the Related Art In order to speed up image recording by optical scanning, a multi-beam scanning system for scanning a plurality of scanning lines at once is intended. As one form of the multi-beam scanning method, there is a “two-beam scanning method” using beams from two light emitting sources.

【0003】マルチビーム走査方式で問題となるのは、
通常のシングルビーム走査方式に比してビームによる光
走査の軌跡である「走査線」が顕著に曲がりやすく、走
査線の「ピッチ偏差(隣接する走査線間隔の最大値と最
小値の差の、設計上の走査線間隔に対する割合)」が大
きくなり易いことである。
The problem with the multi-beam scanning method is that
The “scanning line”, which is the trajectory of light scanning by a beam, is remarkably easy to bend as compared with the ordinary single beam scanning method, and the “pitch deviation” of the scanning line (the difference between the maximum value and the minimum value (The ratio to the designed scanning line interval) is likely to be large.

【0004】走査線の曲がりやピッチ偏差を有効に軽減
する方法としては、特開平7−209596号公報や特
開平6−18802号公報記載のものが知られている。
しかし、前者は「テレセントリック」という特別な光学
配置が必要であり、これを実現するため、光源装置と光
偏向器との間にあるシリンダレンズと、このシリンダレ
ンズと光源装置の間にあるアパーチュアとの間隔を大き
くとる必要があり、光走査装置の光源側の大型化を招来
する。
[0004] As a method for effectively reducing the bending and the pitch deviation of the scanning line, those described in JP-A-7-209596 and JP-A-6-18802 are known.
However, the former requires a special optical arrangement called "telecentric", and in order to realize this, a cylinder lens between the light source device and the optical deflector, and an aperture between this cylinder lens and the light source device are required. It is necessary to increase the interval between the light sources, which causes an increase in the size of the light source side of the optical scanning device.

【0005】また後者では、光偏向器と被走査面との間
に配備される結像光学系と上記アパーチュアとの位置
を、アパーチュアと光偏向器との間に配備されるシリン
ダレンズにより共役関係とするものであり、適用できる
光学系が限られてしまう。
In the latter, the position of the imaging optical system provided between the optical deflector and the surface to be scanned and the aperture is conjugated by a cylinder lens provided between the aperture and the optical deflector. Therefore, applicable optical systems are limited.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】この発明は上述した事
情に鑑み、走査線ピッチの調整や変更が容易で、光走査
光学系の光源側を大型化することなく、走査線の曲がり
や走査線のピッチ偏差を有効に小さくできる新規な2ビ
ーム走査用光源装置の実現を課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned circumstances, the present invention makes it easy to adjust or change the scanning line pitch, without bending the scanning line or increasing the scanning line without increasing the size of the light source side of the optical scanning optical system. It is an object of the present invention to realize a novel two-beam scanning light source device capable of effectively reducing the pitch deviation of the light source.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】この発明の2ビーム走査
用光源装置は「独立した2つの発光源からのビームを別
個にコリメートしたのち、主走査対応方向には互いに近
づき、副走査対応方向には互いに遠ざかる2ビームとし
て合成して放射する光源装置」である。
According to the light source device for two-beam scanning of the present invention, "after independently collimating beams from two independent light-emitting sources, they approach each other in the main scanning direction and move in the sub-scanning direction. Is a light source device that combines and emits as two beams moving away from each other.

【0008】この光源装置の使用される光走査装置は、
光走査装置として一般的な「光源装置からの平行ビーム
をシリンダレンズにより副走査対応方向(光源から被走
査面までの光路を光軸に沿って直線的に展開した仮想的
な光路上で副走査方向と平行的に対応する方向)に集光
させて、主走査対応方向(上記仮想的な光路上で主走査
方向に平行的に対応する方向)に長い線像として結像せ
しめ、線像の結像位置近傍に偏向反射面を持つポリゴン
ミラーにより偏向させ、偏向ビームを面倒れ補正機能を
持つアナモフィックな結像光学系により被走査面上に光
スポットとして集光し、光走査を行なう」方式のもので
ある。
[0008] An optical scanning device using the light source device is as follows.
As a general optical scanning device, a parallel beam from a light source device is scanned in a sub-scanning direction by a cylinder lens (sub-scanning is performed on a virtual optical path in which the optical path from the light source to the surface to be scanned is linearly developed along the optical axis. (In a direction corresponding to the direction parallel to the main scanning direction) to form a long line image in the main scanning corresponding direction (a direction corresponding to the main scanning direction on the virtual optical path in parallel). Deflected by a polygon mirror having a deflecting / reflecting surface in the vicinity of the image forming position, and the deflecting beam is condensed as a light spot on the surface to be scanned by an anamorphic image forming optical system having a surface tilt correction function, and optical scanning is performed. belongs to.

【0009】アナモフィックな結像光学系は通常、長尺
トロイダルレンズや長尺シリンダレンズ等を「面倒れ補
正用の光学素子」として有する。上記結像光学系は、一
般に、偏向反斜面による偏向の起点と被走査面位置とを
副走査対応方向に関して共役な関係とする。
An anamorphic imaging optical system usually has a long toroidal lens, a long cylinder lens, and the like as "optical elements for correcting surface tilt". In the imaging optical system, generally, the starting point of the deflection by the deflection anti-slope surface and the position of the surface to be scanned have a conjugate relationship with respect to the sub-scanning corresponding direction.

【0010】請求項1記載の2ビーム走査用光源装置
は、「2ビームの、主走査対応方向における近づき度
と、副走査対応方向における遠ざかり度、上記2ビーム
をコリメートする2個のコリメートレンズの、合成後に
おける副走査対応方向の光軸間隔を可調整とした」こと
を特徴とする。
[0010] The two-beam scanning light source device according to the first aspect of the present invention is characterized in that "the degree of approach of the two beams in the main scanning direction and the degree of the distance in the sub-scanning direction, and two collimating lenses for collimating the two beams. , The optical axis interval in the sub-scanning corresponding direction after the synthesis is adjustable ".

【0011】ここで、図3を参照して、上記「近づき
度」と「遠ざかり度」を説明する。図3(a)は、2ビ
ーム走査用光源装置100から合成されて射出する2ビ
ームL1,L2の様子を副走査対応方向から見た状態を説
明図的に示している。図3(a)における上下方向が
「主走査対応方向」である。図3(a)に示すように、
合成されて射出する2ビームL1,L2は、射出後、主走
査対応方向において次第に近づきあい、図中の位置:P
において交差するようになる。交差位置:Pにおけるビ
ームL1,L2の交差角:αを「近づき度」という。
Here, with reference to FIG. 3, the above “degree of approach” and “degree of distance” will be described. FIG. 3A is an explanatory diagram showing the state of the two beams L 1 and L 2 synthesized and emitted from the two-beam scanning light source device 100 as viewed in the sub-scanning corresponding direction. The vertical direction in FIG. 3A is the “main scanning corresponding direction”. As shown in FIG.
The two beams L 1 and L 2 that are combined and emitted gradually approach each other in the main scanning corresponding direction after the emission, and the position in the figure: P
At the intersection. The intersection angle α between the beams L 1 and L 2 at the intersection position P is referred to as “approach degree”.

【0012】図3(b)は、2ビーム走査用光源装置1
00から合成されて射出する2ビームL1,L2の様子を
主走査対応方向から見た状態を説明図的に示している。
図3(b)における上下方向が副走査対応方向である。
図3(b)において、符号AX1,AX2は、2ビーム走
査用光源装置における2個のコリメートレンズの、ビー
ム合成後の光軸を示し、光軸AX1,AX2の副走査対応
方向における光軸間隔:dは上記の如く調整可能であ
る。
FIG. 3B shows a light source device 1 for two-beam scanning.
The state of the two beams L 1 and L 2 synthesized and emitted from 00 when viewed from the main scanning corresponding direction is illustrated in an explanatory diagram.
The vertical direction in FIG. 3B is the sub-scanning corresponding direction.
In FIG. 3B, reference numerals AX 1 and AX 2 denote the optical axes of the two collimating lenses in the two-beam scanning light source device after the beam combination, and correspond to the sub-scanning directions of the optical axes AX 1 and AX 2. Can be adjusted as described above.

【0013】図3(b)に示すように、2ビーム走査用
光源装置100から射出する2ビームL1,L2は、射出
後、副走査対応方向において互いに次第に遠ざかる。換
言すれば、ビームL1,L2は、図3(b)における位
置:qを交差位置として、交差位置:qから互いに異な
る方向へ進行するように進む。交差位置:qにおけるビ
ームL1,L2の仮想上の交差角:βを「遠ざかり度」と
いう。2ビーム走査用光源装置から被走査面に到る光学
系が定まっていれば、交差角:βにより被走査面上にお
ける光スポットの副走査方向の間隔、即ち走査線のピッ
チが定まる。
As shown in FIG. 3B, the two beams L 1 and L 2 emitted from the two-beam scanning light source device 100 gradually move away from each other in the sub-scanning corresponding direction after the emission. In other words, the beams L 1 and L 2 advance so as to travel in different directions from the intersection position: q, with the position: q in FIG. 3B as the intersection position. The virtual intersection angle β of the beams L 1 and L 2 at the intersection position: q is referred to as “degree of distance”. If the optical system extending from the two-beam scanning light source device to the surface to be scanned is determined, the crossing angle β determines the interval between the light spots on the surface to be scanned in the sub-scanning direction, that is, the pitch of the scanning lines.

【0014】遠ざかり度、即ち交差角:βを一定にして
おいて、光軸AX1,AX2の間隔を調整すると、交差位
置:qを図3(b)において左右方向に変位できること
が容易に理解されるであろう。
If the distance between the optical axes AX 1 and AX 2 is adjusted while keeping the distance, that is, the intersection angle β, constant, it is easy to displace the intersection position q in the left-right direction in FIG. 3B. Will be appreciated.

【0015】2ビーム走査方式において、2ビーム走査
用光源装置から放射された2ビームがシリンダレンズに
より結像する「2つの線像」の位置が主走査対応方向に
ずれると、2つの偏向ビームに対して「面倒れ補正機
能」が異なって作用し、走査線に大きな曲がりが発生し
易くなる。
In the two-beam scanning system, when the position of the "two line images" in which the two beams emitted from the two-beam scanning light source device are formed by the cylinder lens is shifted in the main scanning corresponding direction, the two deflected beams are formed. On the other hand, the “surface tilt correction function” operates differently, and a large bending is likely to occur in the scanning line.

【0016】この発明の2ビーム走査用光源装置のよう
に、光源装置から放射される2ビームが、主走査対応方
向に互いに近づくようにすると、両ビームを主走査方向
に関して交差させることができるから、交差位置(図3
(a)の位置:P)を前記偏向反射面による偏向の起点
の近傍とすることにより、面倒れ補正効果が主走査方向
に関して各ビームに同じように作用するようにでき、走
査線に大きな曲がりが発生するのを有効に軽減できる。
As in the two-beam scanning light source device of the present invention, when the two beams emitted from the light source device are brought closer to each other in the main scanning direction, the two beams can intersect in the main scanning direction. , Intersection position (Fig. 3
By setting the position (a): P) near the starting point of the deflection by the deflecting reflection surface, the surface tilt correction effect can be applied to each beam in the main scanning direction in the same manner, and the scanning line can be greatly bent. Can be effectively reduced.

【0017】また前記の光走査装置では、一般に、2つ
の偏向ビームは副走査対応方向に関して、被走査面と上
記偏向の起点との間で互いに交差する。このような光走
査装置では2ビーム走査の際の走査線の「ピッチ偏差」
は、前記結像光学系に用いられる面倒れ補正用光学素子
の影響を強く受ける。
In the above-described optical scanning device, the two deflection beams generally cross each other between the surface to be scanned and the starting point of the deflection in the sub-scanning corresponding direction. In such an optical scanning device, the “pitch deviation” of a scanning line in two-beam scanning is used.
Is strongly affected by the surface tilt correction optical element used in the imaging optical system.

【0018】これを避けるには、偏向された2ビームの
副走査対応方向の交差位置を、上記面倒れ補正用光学素
子の近傍(面倒れ補正用光学素子の物体側焦点位置より
も被走査面側)に位置させればよい。このようにする
と、面倒れ補正用光学素子の作用が、2ビームのそれぞ
れに就いて略同様となるからである。
In order to avoid this, the intersection of the two deflected beams in the direction corresponding to the sub-scanning direction should be set near the above-mentioned surface tilt correction optical element (ie, on the scanning surface than the object-side focal position of the surface tilt correction optical element). Side). This is because the operation of the optical element for correcting surface tilt becomes substantially the same for each of the two beams.

【0019】上記「偏向された2ビームの副走査対応方
向の交差位置」は、2ビーム走査用光源装置と上記交差
位置との間にある光学素子による、図3(b)の交差位
置:qの共役位置である。そこで、図3(b)における
光軸AX1,AX2の間隔を調整することにより交差位
置:qの位置を調整することにより、偏向された2ビー
ムL1,L2の副走査対応方向の交差位置を容易に面倒れ
補正用光学素子の近傍に位置させることができ、このよ
うにしてピッチ偏差の有効な軽減が可能になる。
The “intersecting position of the deflected two beams in the sub-scanning corresponding direction” is the intersecting position q in FIG. 3B by an optical element between the two-beam scanning light source device and the intersecting position. Are conjugate positions. Therefore, by adjusting the distance between the optical axes AX 1 and AX 2 in FIG. 3B to adjust the position of the intersection position: q, the two beams L 1 and L 2 deflected in the sub-scanning direction are adjusted. The intersection position can be easily located near the optical element for correcting surface tilt, and thus the pitch deviation can be effectively reduced.

【0020】請求項2記載の2ビーム走査用光源装置
は、2個のコリメートレンズと、2つの発光源と、合成
プリズム部材とを有する。「2個のコリメートレンズ」
は、互いに所定の距離を隔し、光軸を平行にして配備さ
れる。「2つの発光源」は、これらコリメートレンズの
個々に対応して設けられる。発光源としてはLD(半導
体レーザ)素子やLED(発光ダイオード)素子を利用
することができる。2つの発光源が独立しているとは、
例えば、上記LD素子を発光源とする場合で言えば、発
光源が「LD素子として互いに別個」であることを意味
する。
According to a second aspect of the present invention, a two-beam scanning light source device includes two collimating lenses, two light emitting sources, and a combining prism member. "Two collimating lenses"
Are arranged at a predetermined distance from each other and with their optical axes parallel. “Two light sources” are provided corresponding to each of these collimating lenses. As a light emitting source, an LD (semiconductor laser) element or an LED (light emitting diode) element can be used. Two light sources are independent
For example, in the case where the LD element is used as a light emitting source, it means that the light emitting sources are “separate from each other as LD elements”.

【0021】「合成プリズム部材」は、2つの発光源か
ら放射され、対応するコリメートレンズでコリメートさ
れた2ビームを合成する。即ち、合成プリズム部材は、
反射面とビームスプリット面とを互いに平行、且つ、所
定の距離だけ離して有する。反射面は、一方のコリメー
トレンズによりコリメートされたビームをビームスプリ
ット面に向けて反射させる。ビームスプリット面は、上
記反射面により反射されたビームを反射するとともに、
他方のコリメートレンズによりコリメートされたビーム
を透過させる。このようにして、ビームスプリット面に
より反射されたビームと、ビームスプリット面を透過し
たビームとが合成された2ビームとして放射される。
The "combining prism member" combines two beams emitted from two light sources and collimated by the corresponding collimating lenses. That is, the synthetic prism member is
The reflecting surface and the beam splitting surface are parallel to each other and separated by a predetermined distance. The reflecting surface reflects the beam collimated by one collimating lens toward the beam splitting surface. The beam split surface reflects the beam reflected by the reflecting surface,
The beam collimated by the other collimating lens is transmitted. In this way, a beam reflected by the beam splitting surface and a beam transmitted through the beam splitting surface are radiated as two combined beams.

【0022】合成プリズム部材における「反射面とビー
ムスプリット面との配列方向」に対する「2個のコリメ
ートレンズの配列方向」の傾き角が可調整であり、傾き
角の調整により、ビームスプリット面以後の光路におけ
る2個のコリメートレンズの光軸の副走査対応方向の間
隔が調整可能である。
The inclination angle of the "arrangement direction of the two collimating lenses" with respect to the "arrangement direction of the reflection surface and the beam split surface" in the combining prism member is adjustable. By adjusting the inclination angle, the inclination angle after the beam split surface can be adjusted. The distance between the optical axes of the two collimating lenses in the sub-scanning direction in the optical path can be adjusted.

【0023】また、2つの発光源の少なくとも一方は、
対応するコリメートレンズの光軸からずらして配備で
き、ずらされる発光源の、ずらし方向とずらし量とによ
り、ビームスプリット面以後の光路における各ビームの
主走査対応方向における近づき度と、副走査対応方向に
おける遠ざかり度とが調整可能である。
At least one of the two light sources is
It can be deployed offset from the optical axis of the corresponding collimating lens, and the degree of approach of each beam on the optical path after the beam split plane in the main scanning corresponding direction and the sub-scanning corresponding direction depend on the shifting direction and the shifting amount of the shifted light source. Is adjustable.

【0024】上記合成プリズム部材における「ビームス
プリット面」は例えば「半透鏡面」でもよいが、半透鏡
面では光利用効率が低い。そこで「2つの発光源」を
「独立したLD素子」とすれば、放射されるビームは実
質的に直線偏光状態であるので、一方の発光源と合成プ
リズム部材との間に1/2波長板を有し、合成プリズム
におけるビームスプリット面を「偏光ビームスプリット
面」とする(請求項3)ことにより、光の利用項率を高
めることができる。この場合において、独立した各LD
素子を、放射ビームの主光線の回りに回転調整可能とす
ることができる(請求項4)。
The “beam splitting surface” in the above-mentioned composite prism member may be, for example, a “semi-transmissive mirror surface”, but the semi-transmissive mirror surface has low light use efficiency. Therefore, if the “two light sources” are “independent LD elements”, the emitted beam is substantially in a linearly polarized state, so that a half-wave plate is provided between one light source and the combining prism member. By setting the beam splitting surface of the combining prism as a “polarizing beam splitting surface” (claim 3), the utilization factor of light can be increased. In this case, each independent LD
The element may be adjustable in rotation about the chief ray of the radiation beam (claim 4).

【0025】請求項5記載の発明の2ビーム走査用光源
装置は、上記請求項2または3または4記載の2ビーム
走査用光源装置において、各可調整部分を調整した後、
全体を一体として固定した2ビーム走査用光源装置であ
る。
According to a fifth aspect of the present invention, in the two-beam scanning light source device according to the second, third or fourth aspect, after adjusting each adjustable portion,
This is a two-beam scanning light source device that is integrally fixed as a whole.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】発明の実施の形態を示す図1で、
(a)においては、上下方向が副走査対応方向で、図面
に直交する方向が主走査対応方向、(b)においては左
右方向が主走査対応方向、上下方向が副走査対応方向で
ある。
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention.
In (a), the vertical direction is the sub-scanning corresponding direction, the direction orthogonal to the drawing is the main scanning corresponding direction, and in (b), the horizontal direction is the main scanning corresponding direction, and the vertical direction is the sub-scanning corresponding direction.

【0027】図1(a)において、独立した2つの発光
源1a,1bは「LD素子」であり、2個のコリメート
レンズ2a,2bおよび、開口部を持つ絞り板3a,3
bは、発光源1a,1bと共にホルダ10により保持さ
れている。
In FIG. 1A, two independent light emitting sources 1a and 1b are "LD elements", and have two collimating lenses 2a and 2b and aperture plates 3a and 3 having openings.
b is held by the holder 10 together with the light emitting sources 1a and 1b.

【0028】2個のコリメートレンズ2a,2bは「互
いに所定の距離を隔し、光軸を平行にして」ホルダ10
に固定的に保持されている。コリメート2a,2bの光
軸に沿って穿設された穴には絞り板3a,3bが設けら
れている。
The two collimating lenses 2a and 2b are "separated by a predetermined distance from each other and have their optical axes parallel".
Is fixedly held. Aperture plates 3a, 3b are provided in holes formed along the optical axis of the collimators 2a, 2b.

【0029】発光源1a,1bはそれぞれ、コリメート
レンズ2a,2bの入射側に設けられた保持穴に設けら
れている。保持穴は、これに保持される発光源の係合部
分よりも大きく、発光源1a,1bは、その発光部の位
置を対応するコリメートレンズ2a,2bの光軸に直交
する方向へ変位調整することができ、このように調整し
た状態でホルダ10に固定できるようになっている。
The light emitting sources 1a and 1b are provided in holding holes provided on the incident side of the collimating lenses 2a and 2b, respectively. The holding hole is larger than the engaging portion of the light emitting source held by the holding hole, and the light emitting sources 1a and 1b adjust the position of the light emitting portion in the direction orthogonal to the optical axis of the corresponding collimating lens 2a or 2b. In this manner, the holder 10 can be fixed to the holder 10 in such an adjusted state.

【0030】合成プリズム部材5は透明な光学素子であ
り、反射面51と偏向ビームスプリット面52とを互い
に平行且つ所定の距離だけ離して有し、コリメートレン
ズ2b側からのビームの入射部には1/2波長板4が固
設されている(請求項3)。
The combining prism member 5 is a transparent optical element and has a reflecting surface 51 and a deflecting beam splitting surface 52 which are parallel to each other and separated by a predetermined distance. The half-wave plate 4 is fixedly provided (claim 3).

【0031】図1(a)に示すように、副走査対応方向
(図の上下方向)に就いて見ると、発光源1aの発光部
は「コリメートレンズ2aの光軸と同一平面内」にあ
り、ビームL1は図示のように偏向ビームスプリット面
52を透過する。
As shown in FIG. 1A, when viewed in the sub-scanning corresponding direction (vertical direction in the figure), the light emitting portion of the light emitting source 1a is "in the same plane as the optical axis of the collimating lens 2a". , the beam L 1 is transmitted through the polarization beam splitting surface 52 as shown.

【0032】発光源1bから放射されたビームはコリメ
ートレンズ2bによりコリメートされ、1/2波長板4
により偏光面を90度旋回され、反射面51と偏光ビー
ムスプリット面52とにより順次反射され、ビームL2
として射出する。
The beam emitted from the light emitting source 1b is collimated by a collimating lens 2b,
Is turned by 90 degrees, and is sequentially reflected by the reflecting surface 51 and the polarizing beam splitting surface 52 to form the beam L 2.
Inject as

【0033】コリメートレンズ2bの光軸AX2を、合
成プリズム部材5側へ延長し、反射面51および偏向ビ
ームスプリット面52により光線と同様に反射させる
と、図1(a)に示すように、コリメートレンズ2aの
光軸光軸AX1(図1(a)において、ビームL1と重な
っている)と副走査対応方向において間隔:dを形成す
る。
When the optical axis AX 2 of the collimating lens 2b is extended toward the combining prism member 5 and reflected by the reflecting surface 51 and the deflecting beam splitting surface 52 in the same manner as a light beam, as shown in FIG. (in FIG. 1 (a), the beam L is 1 and overlaps) the optical axis optical axis AX 1 of the collimator lens 2a and spacing in the sub-scanning direction: forming a d.

【0034】発光源1bの発光部は上述の如く、副走査
対応方向においてコリメートレンズ2bの光軸からずれ
ているので、反射面51および偏向ビームスプリット面
52に反射された後のビームL2は、副走査対応方向に
おいて遠ざかり度:βだけ、ビームL1に対して傾く。
遠ざかり度:βは、被走査面上に所望のピッチで光スポ
ットが集光するように定められる。
As described above, the light-emitting portion of the light-emitting source 1b is shifted from the optical axis of the collimator lens 2b in the direction corresponding to the sub-scan, so that the beam L 2 reflected by the reflecting surface 51 and the deflecting beam split surface 52 is , degree away in the sub-scanning direction: beta only, inclined relative to the beam L 1.
The degree of separation: β is determined so that light spots are condensed at a desired pitch on the surface to be scanned.

【0035】図1(b)は、図1(a)の状態を、図1
(a)の右側即ち、合成されたビームの射出側から見た
状態を説明図的に描いている。
FIG. 1B shows the state of FIG.
(A) is an explanatory diagram illustrating a state viewed from the emission side of the combined beam.

【0036】図中の各記号に就き説明すると、距離:Δ
Pは、合成プリズム部材5における反射面51と偏向ビ
ームスプリット面52の中央部間距離で、この距離:Δ
Pが「反射面と偏向ビームスプリット面の距離」であっ
て「所定の距離」である。距離:ΔCは、2個のコリメ
ートレンズ2a,2bの光軸間距離であり「所定の距
離」である。説明中の実施の形態において、距離:ΔP
とΔCとは等しく設定されている。角:σは、合成プリ
ズム部材5における反射面51と偏向ビームスプリット
面52との配列方向(図1(b)における鎖線5−1)
に対する、2個のコリメートレンズ2a,2bの配列方
向(図1(b)における鎖線1−1)の傾き角である。
傾き角:σのため、コリメートレンズ2a,2bの配列
間隔は、副走査対応方向に対し「ΔC・cosσ」、主
走査対応方向に対し「ΔC・sinσ」となる。
Explaining each symbol in the figure, the distance: Δ
P is the distance between the central part of the reflecting surface 51 and the deflected beam splitting surface 52 in the synthetic prism member 5, and this distance: Δ
P is the “distance between the reflecting surface and the deflecting beam splitting surface” and is the “predetermined distance”. Distance: ΔC is the distance between the optical axes of the two collimating lenses 2a and 2b, and is a “predetermined distance”. In the embodiment being described, the distance: ΔP
And ΔC are set equal. Angle: σ is the direction of arrangement of the reflecting surface 51 and the deflecting beam splitting surface 52 in the synthetic prism member 5 (chain line 5-1 in FIG. 1B).
Is the inclination angle in the arrangement direction of the two collimating lenses 2a and 2b (the chain line 1-1 in FIG. 1B).
Since the inclination angle is σ, the arrangement interval of the collimating lenses 2a and 2b is “ΔC · cosσ” in the sub-scanning corresponding direction and “ΔC · sin σ” in the main scanning corresponding direction.

【0037】間隔:δ1は、コリメートレンズ2aの光
軸と発光源1aの発光部1a1の主走査対応方向におけ
る「ずらし量」であり、この実施の形態において発光部
1a1は、主走査対応方向にのみコリメートレンズ2a
の光軸からずれている。これに対し、発光源1bの発光
部1b1は、コリメートレンズ2bの光軸から、主走査
対応方向にずらし量:δ2だけずれ、同時に副走査対応
方向にずらし量:δ3だけずれている。従って、これら
のずらし量:δ2,δ3により発光部1b1の「ずらし方
向」が定まる。
The interval: δ 1 is the “shift amount” between the optical axis of the collimating lens 2 a and the light emitting portion 1 a 1 of the light emitting source 1 a in the main scanning corresponding direction. In this embodiment, the light emitting portion 1 a 1 is in the main scanning corresponding direction. Only collimating lens 2a
Is off the optical axis. In contrast, the light emitting portion 1b1 of the light emitting source 1b is from the optical axis of the collimator lens 2b, the amount of shift in the main scanning corresponding direction: [delta] 2 shifted, the sub-scanning direction to the shift amount at the same time: and [delta] 3 shifted. Therefore, the “shift direction” of the light emitting unit 1b1 is determined by these shift amounts: δ 2 and δ 3 .

【0038】発光部1a1がコリメートレンズ1aの光
軸からずらし量:δ1だけずれることにより、合成プリ
ズム部材5から射出するビームL1は、光軸AX1に対し
て傾くけれども、この傾きは専ら主走査対応方向におい
てのみ生じるので、図1(a)においては、光軸AX1
とビームL1とは互いに重なって描かれている。
The shift amount emitting portion 1a1 from the optical axis of the collimator lens 1a: By offset by [delta] 1, the beam L 1 emitted from the synthesizing prism member 5, but inclined with respect to the optical axis AX 1, the inclination exclusively Since this occurs only in the main scanning corresponding direction, the optical axis AX 1 in FIG.
It is drawn on top of each other and the beams L 1 and.

【0039】一方、発光部1b1はコリメートレンズ2
bの光軸に対し主・副走査対応方向にともにずらされて
いるので、合成プリズム部材5から射出するビームL2
は、主・副走査対応方向とも光軸AX2に対して傾く。
このときの「副走査対応方向における光軸AX2に対す
るビームL2の傾き」が前述の遠ざかり度:βである。
On the other hand, the light emitting portion 1b1 is a collimating lens 2
The beam L 2 emitted from the combining prism member 5 is shifted from the optical axis b in the main / sub-scanning corresponding directions.
Is both main and sub-scanning corresponding direction inclined with respect to the optical axis AX 2.
"Slope of beam L 2 with respect to the optical axis AX 2 in the sub-scanning corresponding direction" in this case is the aforementioned away index: is beta.

【0040】図1(b)に示すように、発光部1a1,
1b1は、主走査対応方向においては、対応するコリメ
ートレンズの光軸からのずれの方向が互いに逆、即ち、
発光部1a1,1b1が主走査対応方向に互いに離れる
ようにずれている(ずらし量:δ1,δ2)ので、合成プ
リズム5から射出するビームL1とL2とは、互いに主走
査対応方向において近づき合うようになる。従って、ず
らし量:δ1,δ2を調整することにより前記「近づき
度」を調整することができる。
As shown in FIG. 1B, the light emitting units 1a1,
1b1 indicates that the directions of deviation from the optical axis of the corresponding collimating lens are opposite to each other in the main scanning corresponding direction, that is,
Since the light-emitting portions 1a1 and 1b1 are shifted away from each other in the main scanning direction (shift amounts: δ 1 and δ 2 ), the beams L 1 and L 2 emitted from the combining prism 5 are mutually shifted in the main scanning direction. To get closer to each other. Therefore, by adjusting the shift amounts: δ 1 and δ 2 , the “approach degree” can be adjusted.

【0041】同様の考察により、ずらし量:δ3の調整
により、前記遠ざかり度:βを調整できること、前記
角:σを調整することにより偏向ビームスプリット面5
2以降における光軸AX1,AX2の副走査対応方向にお
ける光軸間隔:dを調整できることは容易に理解される
であろう。
Based on the same considerations, the distance: β can be adjusted by adjusting the shift amount: δ 3 , and the deflection beam split surface 5 can be adjusted by adjusting the angle: σ.
It will be easily understood that the optical axis interval d in the sub-scanning corresponding direction of the optical axes AX 1 and AX 2 in the second and subsequent directions can be adjusted.

【0042】上記の如く、傾き角:σ、ずらし量:
δ1,δ2,δ3を調整したのち、図示されない適宜の一
体化手段(接着、螺子止め手段、ハウジング等)によ
り、ホルダ10と発光源1a,1bおよび合成プリズム
部材5を一体化すれば、請求項5記載の2ビーム走査用
光源装置を実現できる。
As described above, the inclination angle: σ and the shift amount:
After adjusting δ 1 , δ 2 , and δ 3 , the holder 10, the light emitting sources 1 a, 1 b, and the composite prism member 5 can be integrated by appropriate unillustrated integrating means (adhesion, screwing means, housing, etc.). The light source device for two-beam scanning according to claim 5 can be realized.

【0043】かくして得られる光源装置は、独立した2
つの発光源1a,1bからのビームを別個にコリメート
したのち、主走査対応方向には互いに近づき、副走査対
応方向には互いに遠ざかる2ビームとして合成して放射
する。
The light source device thus obtained has two independent light sources.
After the beams from the two light emitting sources 1a and 1b are separately collimated, they are combined and emitted as two beams that approach each other in the main scanning direction and move away from each other in the sub-scanning direction.

【0044】図1の実施の形態において、発光源1a,
1bはLD素子であるので、放射されるビームはレーザ
ビームで実質的に直線偏光しており、その偏光面は、コ
リメートレンズ2a,2bの光軸の配列方向(図1
(b)で鎖線1−1で示す方向)に向いている。一方に
おいて、偏光ビームスプリット面52は、ビームの偏光
面が、図1(b)における鎖線5−1に平行なときにビ
ームを完全に反射し、鎖線5−1に対して直交する偏光
面を持つビームを完全に透過するような特性を有してい
る。
In the embodiment of FIG. 1, the light emitting sources 1a,
Since 1b is an LD element, the emitted beam is substantially linearly polarized by a laser beam, and the plane of polarization is in the direction of arrangement of the optical axes of the collimating lenses 2a and 2b (FIG. 1).
(B) in the direction indicated by the chain line 1-1). On the other hand, when the polarization plane of the beam is parallel to the chain line 5-1 in FIG. 1B, the polarization beam split plane 52 completely reflects the beam and sets the polarization plane orthogonal to the chain line 5-1. It has the property of completely transmitting the beam it has.

【0045】このため、図1の実施の形態においては、
図1(b)における角:σが0でないと、発光源1a,
1bからのビームの一部が偏光ビームスプリット面52
により、それぞれ反射され・透過することになり、光の
利用効率が悪い。
Therefore, in the embodiment of FIG.
If the angle in FIG. 1B: σ is not 0, the light emitting sources 1a,
1b is part of the polarization beam splitting surface 52
Therefore, the light is reflected and transmitted, respectively, and the light use efficiency is poor.

【0046】そこで請求項3記載の発明では、図2に示
すように2つの独立した発光源1a,1bである各LD
素子を「放射ビームの主光線(対応するコリメートレン
ズの光軸に平行である)の回りに回転調整可能」とす
る。各LD素子の回転調整により、放射ビームにおける
偏光面の向き1a10,1b10を調整し、合成プリズ
ム部材5における偏光反射面が、入射するビームのう
ち、発光源1aからのビームを全て透過させ、発光源1
bからのビームを全て反射するようにすることにより、
良好な光利用効率での2ビーム走査が可能になる。
Therefore, according to the third aspect of the present invention, as shown in FIG. 2, each of the LDs which are two independent light emitting sources 1a and 1b.
Let the element be "rotatably adjustable about the chief ray of the radiation beam (parallel to the optical axis of the corresponding collimating lens)." By adjusting the rotation of each LD element, the directions 1a10 and 1b10 of the polarization plane of the radiation beam are adjusted, and the polarization reflection surface of the combining prism member 5 transmits all of the incident light beams from the light emission source 1a to emit light. Source 1
By reflecting all the beams from b,
Two-beam scanning with good light use efficiency becomes possible.

【0047】図4は、この発明の2ビーム走査用光源装
置41を用いた光走査装置を説明図的に示している。2
ビーム走査用光源装置41は上述した如き構成であり、
光利用効率が最大になるように、各LD素子からのビー
ムの偏光面の方向を調整してある(請求項3)。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing an optical scanning device using the two-beam scanning light source device 41 of the present invention. 2
The beam scanning light source device 41 has a configuration as described above,
The direction of the polarization plane of the beam from each LD element is adjusted so that the light use efficiency is maximized (claim 3).

【0048】図4において、2ビーム走査用光源装置4
1から放射された2つのビームは2個のコリメートレン
ズにより共に平行ビーム化されており、シリンダレンズ
43に入射する。シリンダレンズ43は副走査対応方向
にのみ正のパワーを持ち、2ビームをそれぞれ副走査対
応方向にのみ集束させて主走査対応方向に長い2つの線
像として結像させる。
In FIG. 4, the light source device 4 for two-beam scanning
The two beams emitted from 1 are both collimated by two collimating lenses, and enter the cylinder lens 43. The cylinder lens 43 has a positive power only in the sub-scanning corresponding direction, focuses the two beams only in the sub-scanning corresponding direction, and forms two linear images long in the main scanning corresponding direction.

【0049】光偏向器であるポリゴンミラーは偏向反射
面44を上記2つの線像の結像位置近傍に有し、2ビー
ムを偏向させる。偏向された2ビームは、fθレンズ4
5と長尺レンズ(面倒れ補正用光学素子)46の結像作
用により被走査面(ドラム状の光導電性感光体48の周
面)上に、互いに副走査方向に離れ、ビームの偏向に伴
い被走査面を同時に光走査する2つの光スポットとして
集光する。長尺レンズ46は「長尺トロイダルレンズ」
である。
The polygon mirror, which is an optical deflector, has a deflecting / reflecting surface 44 near an image forming position of the two line images and deflects two beams. The deflected two beams are input to the fθ lens 4
5 and a long lens (optical element for correcting surface tilt) 46 form an image on the surface to be scanned (the peripheral surface of the drum-shaped photoconductive photoreceptor 48) in the sub-scanning direction. Accordingly, the light is converged as two light spots that scan the surface to be scanned simultaneously. The long lens 46 is a "long toroidal lens"
It is.

【0050】図4において、長尺レンズ46を透過した
ビームは光路屈曲ミラー47により光路を屈曲され、被
走査面に周面を合致させた光導電性の感光体48上に集
光し、感光体周面を光走査する。かくして、被走査面は
2走査線を同時に光走査されることになる。
In FIG. 4, the beam transmitted through the long lens 46 has its optical path bent by an optical path bending mirror 47, and is condensed on a photoconductive photosensitive member 48 whose peripheral surface matches the surface to be scanned. Optical scanning of the body surface. Thus, the surface to be scanned is optically scanned on two scanning lines simultaneously.

【0051】図5は、2ビーム走査用光源装置41から
被走査面48までを、光軸に沿って直線的に展開した前
述の「仮想的な光路上」における光学配置を示し、(a)
では上下方向が主走査対応方向であり、(b)では上下方
向が副走査対応方向である。
FIG. 5 shows the optical arrangement in the “virtual optical path” described above, in which the area from the two-beam scanning light source device 41 to the surface to be scanned 48 is linearly developed along the optical axis.
In FIG. 3, the vertical direction is the main scanning corresponding direction, and in FIG. 3B, the vertical direction is the sub scanning corresponding direction.

【0052】図5(a)に示すように、2ビーム走査用
光源装置41からのビームL1,L2は、主走査対応方向
において近づき度:αを持って互いに近づくように放射
され、その交差位置:Pは偏向反射面44の位置に設定
されている。
As shown in FIG. 5A, the beams L 1 and L 2 from the two-beam scanning light source device 41 are radiated so as to approach each other with an approaching degree α in the main scanning corresponding direction. Intersecting position: P is set at the position of the deflecting reflection surface 44.

【0053】その結果、fθレンズ45および長尺レン
ズ46による「面倒れ補正効果」が主走査方向に関して
ビームL1,L2に同じように作用し、走査線に大きな曲
がりが発生するのを有効に軽減できる。
As a result, the “surface tilt correction effect” by the fθ lens 45 and the long lens 46 acts on the beams L 1 and L 2 in the main scanning direction in the same manner, and it is effective to generate a large bend in the scanning line. Can be reduced.

【0054】図5(b)に示すように、2つのビームL
1,L2は遠ざかり度:βを持って互いに遠ざかり、副走
査対応方向に関して被走査面48と偏向の起点との間の
位置:Qで互いに交差する。副走査対応方向における位
置:Qは、シリンダレンズ43とfθレンズ45および
長尺レンズ46とによる位置:q(副走査対応方向にお
けるビームL1,L2の分岐位置)に対する共役点であ
る。従って、前記傾き角:σを調整することで位置qを
調整し、その共役点たる位置:Qを、面倒れ補正用光学
素子である長尺レンズ46の近傍(長尺レンズ46と被
走査面48の間)に位置させることにより、長尺レンズ
46のビームL1,L2のそれぞれに就いての作用を互い
に略同様とすることができ、ピッチ偏差の有効な軽減が
可能になる。
As shown in FIG. 5B, two beams L
1, L 2 moves away index: with β away from each other, the position between the starting point of deflection and the scanned surface 48 in the sub-scanning corresponding direction: cross each other at Q. The position in the sub-scanning corresponding direction: Q is a conjugate point with respect to the position: q (branch position of the beams L 1 and L 2 in the sub-scanning corresponding direction) by the cylinder lens 43, the fθ lens 45, and the long lens 46. Therefore, the position q is adjusted by adjusting the inclination angle: σ, and the position, which is the conjugate point, is changed to the vicinity of the long lens 46 which is the optical element for correcting surface tilt (the long lens 46 and the surface to be scanned). 48), the effects on the beams L 1 and L 2 of the long lens 46 can be made substantially similar to each other, and the pitch deviation can be effectively reduced.

【0055】図1の実施の形態において、ΔP=ΔC=
12mm、傾き角:σ=9.5度、ずらし量:δ1=δ2
=0.046mm、δ3=0.006mmとし、走査線
の曲がりが少なく、ピッチ偏差も小さい良好な2ビーム
走査を実現できた。
In the embodiment of FIG. 1, ΔP = ΔC =
12 mm, tilt angle: σ = 9.5 degrees, shift amount: δ 1 = δ 2
= 0.046 mm, δ 3 = 0.006 mm, and good two-beam scanning with little bending of the scanning line and small pitch deviation was realized.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば2ビーム走査用の新規な光源装置を実現できる。この
発明の2ビーム走査用光源装置は、放射する2ビーム
が、副走査対応方向においては互いに遠ざかり、主走査
対応方向においては互いに近づき、副走査対応方向の遠
ざかり度や、2つのコリメートレンズの放射ビームに関
する光軸間距離、主走査対応方向における近づき度を調
整できるので、走査線ピッチの調整・変更が容易であ
り、走査線の曲がりや走査線のピッチ偏差を有効に軽減
して良好な光走査が可能になり、光走査光学系の光源側
が大型化することもない。また請求項3記載の発明は、
光の利用効率が良い。
As described above, according to the present invention, a novel light source device for two-beam scanning can be realized. In the light source device for two-beam scanning according to the present invention, the two beams to be radiated move away from each other in the direction corresponding to the sub-scanning, approach each other in the direction corresponding to the main scanning, the degree of separation in the direction corresponding to the sub-scanning, and the radiation of the two collimating lenses. Since the distance between the optical axes of the beams and the degree of approach in the main scanning direction can be adjusted, it is easy to adjust and change the scanning line pitch, and it is possible to effectively reduce the bending of the scanning line and the pitch deviation of the scanning line to obtain a good light. Scanning becomes possible, and the light source side of the optical scanning optical system does not increase in size. The invention according to claim 3 is:
Light use efficiency is good.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施の1形態を説明するための図で
ある。
FIG. 1 is a diagram for describing one embodiment of the present invention.

【図2】請求項3記載の発明の実施の形態の特徴部分を
説明する図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a characteristic portion of the embodiment of the invention described in claim 3;

【図3】この発明の2ビーム走査用光源装置から放射さ
れる2ビームの遠ざかり度・近づき度を説明するための
図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining the distance between two beams emitted from the two-beam scanning light source device of the present invention;

【図4】この発明の2ビーム走査要項源装置を用いた光
走査装置の形態の1例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an example of an embodiment of an optical scanning device using a two-beam scanning essential element source device according to the present invention.

【図5】図4の光走査装置において、2ビーム走査用光
源装置から放射された2ビームの様子を説明するための
図である。
FIG. 5 is a diagram for explaining a state of two beams emitted from a two-beam scanning light source device in the optical scanning device of FIG. 4;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a,1b 発光源であるLD素子 2a,2b コリメートレンズ 4 1/2波長板 5 合成プリズム部材 1a, 1b LD element as a light emitting source 2a, 2b Collimating lens 4 1/2 wavelength plate 5 Synthetic prism member

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】独立した2つの発光源からのビームを別個
にコリメートしたのち、主走査対応方向には互いに近づ
き、副走査対応方向には互いに遠ざかる2ビームとして
合成して放射する光源装置であって、 上記2ビームの、主走査対応方向における近づき度と、
副走査対応方向における遠ざかり度、上記2ビームをコ
リメートする2個のコリメートレンズの、ビーム合成後
における副走査対応方向の光軸間隔を可調整としたこと
を特徴とする2ビーム走査用光源装置。
1. A light source device for separately collimating beams from two independent light-emitting sources and then combining and radiating them as two beams approaching each other in a main scanning direction and moving away from each other in a sub-scanning direction. The proximity of the two beams in the main scanning corresponding direction;
A light source device for two-beam scanning, wherein a distance in a sub-scanning corresponding direction and an optical axis interval of two collimating lenses for collimating the two beams in a sub-scanning corresponding direction after beam combining are adjustable.
【請求項2】請求項1記載の2ビーム走査用光源装置に
おいて、 互いに所定の距離を隔し、光軸を平行にして配備された
2個のコリメートレンズと、 これらコリメートレンズの個々に対応して設けられる2
つの発光源と、 反射面とビームスプリット面とを互いに平行、且つ、所
定の距離だけ離して有し、一方のコリメートレンズによ
りコリメートされたビームをして上記ビームスプリット
面を透過せしめ、他方のコリメートレンズによりコリメ
ートされたビームを上記反射面とビームスプリット面と
で順次反射して、2ビームの合成を行なう合成プリズム
部材とを有し、 この合成プリズム部材における反射面とビームスプリッ
ト面との配列方向に対して、上記2個のコリメートレン
ズの配列方向の傾き角を可調整とすることにより、上記
ビームスプリット面以後の光路における2個のコリメー
トレンズの光軸の副走査対応方向の間隔を可調整にする
とともに、 上記2つの発光源の少なくとも一方を、対応するコリメ
ートレンズの光軸からずらせるようにし、ずらされる発
光源の、ずらし方向とずらし量とにより、上記ビームス
プリット面以後の光路における各ビームの主走査対応方
向における近づき度と、副走査対応方向における遠ざか
り度とを可調整としたことを特徴とする2ビーム走査用
光源装置。
2. The light source device for two-beam scanning according to claim 1, wherein two collimating lenses are provided at a predetermined distance from each other and arranged in parallel with the optical axis, and each of the collimating lenses corresponds to the collimating lens. Provided 2
One light source, a reflecting surface and a beam splitting surface are parallel to each other and are separated by a predetermined distance. A beam collimated by one collimating lens is transmitted through the beam splitting surface, and the other collimating A combining prism member for combining the two beams by sequentially reflecting the beam collimated by the lens on the reflecting surface and the beam splitting surface, and the arrangement direction of the reflecting surface and the beam splitting surface in the combining prism member In contrast, by adjusting the inclination angle of the two collimating lenses in the arrangement direction, the distance between the optical axes of the two collimating lenses in the sub-scanning direction in the optical path after the beam splitting plane is adjustable. And at least one of the two light sources is displaced from the optical axis of the corresponding collimating lens. In this manner, the degree of approach of each beam in the optical path after the beam splitting plane in the main scanning corresponding direction and the degree of separation in the sub-scanning corresponding direction can be adjusted by the shifting direction and the shifting amount of the light emitting source to be shifted. A light source device for two-beam scanning characterized by the above-mentioned.
【請求項3】請求項2記載の2ビーム走査用光学系にお
いて、 2つの発光源が独立したLD素子であり、一方の発光源
と合成プリズム部材との間に1/2波長板を有し、合成
プリズムにおけるビームスプリット面が偏光ビームスプ
リット面であることを特徴とする2ビーム走査用光源装
置。
3. The two-beam scanning optical system according to claim 2, wherein the two light sources are independent LD elements, and a half-wave plate is provided between one of the light sources and the combining prism member. A light source device for two-beam scanning, wherein the beam splitting surface of the combining prism is a polarizing beam splitting surface.
【請求項4】請求項3記載の2ビーム走査用光源装置に
おいて、 各LD素子を、放射ビームの主光線の回りに回転調整可
能としたことを特徴とする2ビーム走査用光源装置。
4. The two-beam scanning light source device according to claim 3, wherein each LD element is rotatable around a principal ray of the radiation beam.
【請求項5】請求項2または3または4記載の2ビーム
走査用光源装置において、 各可調整部分を調整した後、全体を一体として固定した
ことを特徴とする2ビーム走査用光源装置。
5. The light source device for two-beam scanning according to claim 2, wherein the adjustable portions are adjusted and then fixed as a whole.
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