JPH10298138A - Production of unsaturated glycol diester - Google Patents

Production of unsaturated glycol diester

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JPH10298138A
JPH10298138A JP9105841A JP10584197A JPH10298138A JP H10298138 A JPH10298138 A JP H10298138A JP 9105841 A JP9105841 A JP 9105841A JP 10584197 A JP10584197 A JP 10584197A JP H10298138 A JPH10298138 A JP H10298138A
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JP
Japan
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compound
rhodium
tellurium
solution
organic solvent
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JP9105841A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshinori Hara
善則 原
Haruhiko Kusaka
晴彦 日下
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Mitsubishi Chemical Corp
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Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently produce an unsaturated glycol diester by reaction of a conjugated diene, a carboxylic acid and oxygen in the presence of a rhodium catalyst. SOLUTION: A rhodium compound and tellurium compound are dissolved in an organic solvent containing <50 wt.% water and the resultant solution is supported on an inorganic porous carrier, then baked when necessary and reduced. The resultant catalyst is used to carry out the above-stated ester- formation reaction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、不飽和グリコール
ジエステルの製造法に関する。詳しくは、本発明は、特
定の方法で調製されたロジウム−テルル系触媒を用いて
不飽和グリコールジエステルを製造する方法に関する。
不飽和グリコールジエステル、例えばブテンジオールジ
エステルは、エンジニアリングプラスチックス、エラス
トマー、弾性繊維、合成皮革等の原料である1,4−ブ
タンジオールを製造するための重要な中間化合物であ
る。また、ブテンジオールジエステルは、高性能溶剤や
弾性繊維の原料であると共に、沸点が低く優れた溶解性
を有する溶媒でもあるテトラヒドロフランを製造するた
めの重要な中間体でもある。
The present invention relates to a method for producing an unsaturated glycol diester. More specifically, the present invention relates to a method for producing an unsaturated glycol diester using a rhodium-tellurium-based catalyst prepared by a specific method.
Unsaturated glycol diesters such as butenediol diester are important intermediate compounds for producing 1,4-butanediol, which is a raw material for engineering plastics, elastomers, elastic fibers, synthetic leather, and the like. In addition, butenediol diester is an important intermediate for producing tetrahydrofuran, which is a raw material for high-performance solvents and elastic fibers, and also a solvent having a low boiling point and excellent solubility.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、このブテンジオールジエステルを
製造する方法としては数多くの提案がなされており、な
かでも、パラジウムを主成分とし、これにテルル、セレ
ン、アンチモン等から選ばれる第二成分を共存させた固
体触媒を使用し、ブタジエンを酢酸及び分子状酸素と反
応させてブテンジオールジアセテートを製造する方法が
よく知られている。この方法は優れた方法ではあるが、
触媒の活性及び1,4−ジアセトキシ−2−ブテンの選
択性を更に高めることが要望されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, many methods have been proposed for producing this butenediol diester. In particular, palladium as a main component and a second component selected from tellurium, selenium, antimony and the like coexist. A method for producing butenediol diacetate by reacting butadiene with acetic acid and molecular oxygen using a solid catalyst thus obtained is well known. While this is a great method,
It is desired to further increase the activity of the catalyst and the selectivity of 1,4-diacetoxy-2-butene.

【0003】また、ロジウムを主成分とする触媒系も提
案されており、公知である。例えば、特開昭52−13
9004号公報には、活性成分としてロジウムとテルル
及び/又はセレンを用いることが、特開昭53−376
09号公報には、活性成分としてロジウム又はロジウム
とテルル及び/又はセレンを用いることが、又、特開昭
53−44502号公報には、これに更にモリブデンを
添加した触媒を用いることが、それぞれ開示されてい
る。また、特開昭53−2414号公報には、ロジウ
ム、パラジウム、白金のうちの少なくとも一種の金属と
硫黄を組合せて用いることが、特開昭51−10801
0号公報には、パラジウム、ロジウム、白金の中から選
ばれる金属の一種以上とテルル及び/又は硫黄を組合せ
て用いることが、更に特開昭52−91817号公報に
は、ある特定の割合のロジウム、白金、パラジウム、テ
ルルを活性成分として用いることが、それぞれ開示され
ている。
[0003] Further, a catalyst system containing rhodium as a main component has also been proposed and is known. For example, JP-A-52-13
Japanese Patent Application Laid-open No. 9004 discloses that rhodium, tellurium and / or selenium are used as active ingredients.
No. 09 discloses the use of rhodium or rhodium and tellurium and / or selenium as active ingredients, and JP-A-53-44502 discloses that a catalyst obtained by further adding molybdenum thereto is used. It has been disclosed. JP-A-53-2414 discloses that at least one metal selected from rhodium, palladium and platinum is used in combination with sulfur.
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-91817, Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-91817 discloses that at least one metal selected from palladium, rhodium and platinum is used in combination with tellurium and / or sulfur. The use of rhodium, platinum, palladium and tellurium as active ingredients is disclosed respectively.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
のロジウムを主成分とする触媒の反応成績は、未だ満足
できるものではない。ロジウムは特に高価な金属なの
で、反応成績も優れたものであることが要求される。本
発明はこのような要求に応えようとするものである。
However, the reaction results of these rhodium-based catalysts are not yet satisfactory. Since rhodium is a particularly expensive metal, it is required that the reaction result be excellent. The present invention addresses this need.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、ロジウ
ム及びテルルを活性成分として含む固体触媒の存在下
に、共役ジエンをカルボン酸及び分子状酸素と反応させ
て対応する不飽和グリコールのカルボン酸ジエステルを
製造する方法において、固体触媒として、ロジウム化合
物及びテルル化合物を、水の含有量が50重量%未満の
有機溶媒の溶液として無機多孔質体に担持したものを還
元して得られる触媒を用いることにより、優れた反応成
績を達成することができる。
According to the present invention, a conjugated diene is reacted with a carboxylic acid and molecular oxygen in the presence of a solid catalyst containing rhodium and tellurium as active components to form a carboxylic acid of the corresponding unsaturated glycol. In the method for producing an acid diester, a catalyst obtained by reducing a rhodium compound and a tellurium compound supported on an inorganic porous material as a solution of an organic solvent having a water content of less than 50% by weight as a solid catalyst is used. By using the compound, excellent reaction results can be achieved.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明では触媒として、ロジウム
化合物及びテルル化合物を水の含有量が50重量%未満
の有機溶媒の溶液として無機多孔質体に担持したものを
還元することにより調製される担持触媒を用いる。無機
多孔質体としては、エステル化反応条件下で本質的に変
化しないものが使用される。例えば、活性炭、グラファ
イト等の炭素質担体、又はシリカ、アルミナ、チタニ
ア、ジルコニア、等の酸化物及びこれらの混合酸化物か
らなる酸化物担体が使用される。特に活性及び選択性に
優れ、又、強度的にも優れた触媒を与える点から、シリ
カが好適に用いられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, a catalyst prepared by reducing a rhodium compound and a tellurium compound supported on an inorganic porous material as a solution of an organic solvent having a water content of less than 50% by weight is prepared. A supported catalyst is used. As the inorganic porous material, those which do not substantially change under the esterification reaction conditions are used. For example, a carbonaceous carrier such as activated carbon or graphite, or an oxide carrier composed of an oxide such as silica, alumina, titania, zirconia, or a mixed oxide thereof is used. In particular, silica is preferably used because it has excellent activity and selectivity and gives a catalyst excellent in strength.

【0007】触媒調製に使用されるロジウム化合物及び
テルル化合物は、水の含有量が50重量%未満、好まし
くは10重量%未満の有機溶媒に可溶でなければならな
い。この条件を満たすロジウム化合物としては、有機溶
媒の種類にもよるが、無機塩、酢酸等の有機酸塩、有機
錯塩、更には、カルボニル錯体や、アセチルアセトナー
ト塩などがある。そのいくつかを例示すると、塩化ロジ
ウム、硝酸ロジウム、硫酸ロジウム、酢酸ロジウム、ヘ
キサクロロロジウムナトリウム、ヘキサクロロロジウム
アンモニウム、クロロペンタアンミンロジウム、クロロ
ヘキサアンミンロジウム、ヘキサシアノロジウムカリウ
ム、トリクロロトリピリジンロジウム、クロロシクロオ
クタジエニルロジウム、テトラロジウムドデカカルボニ
ル、ジカルボニルアセチルアセトナートロジウム等が挙
げられる。またテルル化合物としては、塩化テルル(I
I)、(IV)、ソジウムハイドロジェンテルライド(N
aHTe)、ジフェニルジテルライド(PhTe)2
が挙げられ、なかでも少なくとも1つのTe−芳香族間
結合、特にTe−フェニル基結合を有する化合物が好ま
しく用いられる。また、トリスジフェニルテルルロジウ
ムトリクロライド(RhCl3(TePh2)3)に代表されるロジウ
ムとテルルを両方含有する化合物も、水の含有量が50
重量%未満の有機溶媒に可溶なものは使用可能である。
ロジウム化合物及びテルル化合物の少なくとも一方は、
有機化合物、例えば有機酸塩や配位子として一酸化炭素
を含むものであるのが好ましい。
The rhodium and tellurium compounds used in the preparation of the catalyst must be soluble in organic solvents having a water content of less than 50% by weight, preferably less than 10% by weight. Rhodium compounds satisfying these conditions include inorganic salts, organic acid salts such as acetic acid, organic complex salts, carbonyl complexes, and acetylacetonate salts, depending on the type of organic solvent. Some examples are rhodium chloride, rhodium nitrate, rhodium sulfate, rhodium acetate, hexachlororhodium sodium, hexachlororhodium ammonium, chloropentaamminerhodium, chlorohexamminerhodium, hexacyanorhodium potassium, trichlorotripyridinerhodium, chlorocyclooctadidium. Enyl rhodium, tetrarhodium dodecacarbonyl, dicarbonylacetylacetonatotrodium and the like. As the tellurium compound, tellurium chloride (I
I), (IV), sodium hydrogen telluride (N
aHTe), diphenyl ditelluride (PhTe) 2 and the like, and among them, a compound having at least one Te-aromatic bond, particularly a Te-phenyl group bond is preferably used. Further, a compound containing both rhodium and tellurium represented by trisdiphenyltellurium rhodium trichloride (RhCl 3 (TePh 2 ) 3 ) also has a water content of 50%.
Those that are soluble in less than the weight% of the organic solvent can be used.
At least one of the rhodium compound and the tellurium compound is
Organic compounds such as organic acid salts and those containing carbon monoxide as a ligand are preferred.

【0008】触媒調製に使用される溶媒は、水の含有量
が50重量%未満の有機溶媒でなければならない。これ
以外の溶媒を用いたのでは本発明の効果は発揮されな
い。その理由は不明であるが、溶媒中の水が担体上での
ロジウムとテルルとの分散状態に影響を与え、含水量の
少ない有機溶媒を用いることにより、ロジウムとテルル
との合金化が促進され易いように両者が無機多孔質体に
担持されるためではないかと推定される。
[0008] The solvent used in the preparation of the catalyst must be an organic solvent having a water content of less than 50% by weight. If the other solvent is used, the effect of the present invention is not exhibited. Although the reason is unknown, water in the solvent affects the dispersion state of rhodium and tellurium on the carrier, and by using an organic solvent having a low water content, alloying of rhodium and tellurium is promoted. It is presumed that both are supported on the inorganic porous material so that they can be easily carried out.

【0009】本発明で使用される溶媒は、水の含有量が
50重量%未満、好ましくは10重量%未満の有機溶媒
であればよいが、汎用性、経済性等の面から、通常は炭
素数10以下の有機化合物が使用される。その好適なも
ののいくつかを例示するとペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水
素、アセトン、メチルブチルケトン、メチルエチルケト
ン等のカルボニル化合物、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジヒドロピラン、フラン等のエーテル、酢酸エチ
ル、蟻酸エチル、安息香酸メチル等のエステル、酢酸、
プロピオン酸等のカルボン酸、エタノール、メタノー
ル、イソプロパノール、フェノール等のアルコールなど
が挙げられる。有機溶媒は所望ならば2種以上を併用し
てもよい。
The solvent used in the present invention may be any organic solvent having a water content of less than 50% by weight, preferably less than 10% by weight. Several tens or less of organic compounds are used. Some preferred examples thereof include hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane, cyclohexane, benzene, and toluene, carbonyl compounds such as acetone, methyl butyl ketone, and methyl ethyl ketone, dioxane, tetrahydrofuran, dihydropyran, ethers such as furan, and acetic acid. Ester such as ethyl, ethyl formate, methyl benzoate, acetic acid,
Examples include carboxylic acids such as propionic acid, and alcohols such as ethanol, methanol, isopropanol, and phenol. If desired, two or more organic solvents may be used in combination.

【0010】触媒調製に際しては、上記の有機溶媒にロ
ジウム化合物及びテルル化合物を溶解した溶液を無機多
孔質体と接触させて、ロジウム化合物及びテルル化合物
を無機多孔質体に担持させる。担持は、ロジウム化合物
及びテルル化合物の両者を溶解した有機溶媒溶液を用い
て行う同時担持法でも、ロジウム化合物を溶解した溶液
とテルル化合物を溶解した溶液とをそれぞれ準備し、両
者を順次担持する逐次担持法のいずれでも行うことがで
きる。例えばロジウム化合物の有機溶媒溶液と無機多孔
質体とを接触させたのち一旦乾燥し、次いでこれにテル
ル化合物の有機溶媒溶液を接触させる方法、又はその逆
の方法で担持することができる。担持は含浸法、浸漬
法、沈澱法、ポアフィリング法など、常用の任意の方法
で行うことができる。
In preparing the catalyst, a solution in which the rhodium compound and the tellurium compound are dissolved in the above-mentioned organic solvent is brought into contact with the inorganic porous material to support the rhodium compound and the tellurium compound on the inorganic porous material. The loading is also performed simultaneously using an organic solvent solution in which both the rhodium compound and the tellurium compound are dissolved, a solution in which the rhodium compound is dissolved and a solution in which the tellurium compound is dissolved are prepared, and both are sequentially loaded. Any of the supporting methods can be used. For example, it can be supported by a method in which an organic solvent solution of a rhodium compound is brought into contact with an inorganic porous material, then dried once, and then contacted with a solution of a tellurium compound in an organic solvent, or vice versa. Loading can be carried out by any conventional method such as an impregnation method, a dipping method, a precipitation method, and a pore filling method.

【0011】また、担持は必要な量を一度に担持して
も、数回に分けて担持してもよい。但し、複数回に分け
て担持する場合には、一回の担持毎に乾燥又は還元を行
うのが好ましい。ロジウムの担持量は、多いほど単位触
媒重量当りの反応活性は高くなるが、多すぎると経済的
でなくなる。従って、通常はロジウムの担持量は触媒の
総量に対し、ロジウム金属として0.01〜20重量%
の範囲から選択され、更には0.1〜10重量%の範囲
が好ましい。これに対しテルルの担持量は、多すぎると
反応を阻害するうえ、選択性も低下するので好ましくな
い。一方、少なすぎると、やはり反応活性が低くなるの
に加えて反応の際にロジウムが触媒系外に溶出するとい
う問題を生ずる。テルルの担持量は通常はロジウムに対
し、原子比で、0.01〜2.0の範囲から選択される
が、0.05〜1.0の範囲から選択するのが好まし
い。
In addition, the support may be carried in a necessary amount at once, or may be carried in several times. However, in the case of loading a plurality of times, it is preferable to carry out drying or reduction for each loading. The higher the supported amount of rhodium, the higher the reaction activity per unit weight of the catalyst. However, too much rhodium is not economical. Therefore, usually, the supported amount of rhodium is 0.01 to 20% by weight as rhodium metal based on the total amount of the catalyst.
And more preferably 0.1 to 10% by weight. On the other hand, if the supported amount of tellurium is too large, it is not preferable because the reaction is inhibited and the selectivity is lowered. On the other hand, if the amount is too small, there is a problem that rhodium is eluted out of the catalyst system during the reaction in addition to the fact that the reaction activity is low. The amount of tellurium supported is usually selected from the range of 0.01 to 2.0 in atomic ratio with respect to rhodium, but is preferably selected from the range of 0.05 to 1.0.

【0012】ロジウム化合物及びテルル化合物の溶液を
無機多孔質体と接触させてこれらを担持したならば、還
元前に溶媒を無機多孔質体から除去するため、乾燥する
のが好ましい。乾燥は、加熱された乾燥ガスを流通させ
て行う方法、減圧下に行う方法、100℃以上に過熱し
た水蒸気を流通させて行う方法など常用の方法で行えば
よい。乾燥ガスを流通させる場合には、窒素、酸素、ア
ルゴン、水素、又は、これらガスの混合ガスなどを用い
ればよい。混合ガスの場合、工業的に安全な範囲であれ
ば、その組成比は任意である。ガス流量は、通常無機多
孔質体に対して、空間速度(SV)で20hr-1以上の
範囲で選択されるが、1000〜8000hr-1が好ま
しい。SV値が低すぎると乾燥時間が長くなり、また、
高すぎるとガス使用量が多くなるので不経済である。乾
燥温度は、通常、40〜150℃の範囲で選択される
が、60〜120℃の範囲で選択するのが好ましい。
When a solution of a rhodium compound and a tellurium compound is brought into contact with an inorganic porous material to support them, it is preferable to dry the solution in order to remove the solvent from the inorganic porous material before reduction. Drying may be performed by a conventional method such as a method in which a heated drying gas is passed, a method in which the drying is performed under reduced pressure, and a method in which steam heated to 100 ° C. or more is passed. When a dry gas is allowed to flow, nitrogen, oxygen, argon, hydrogen, or a mixed gas of these gases may be used. In the case of a mixed gas, the composition ratio is arbitrary as long as it is industrially safe. Gas flow rate, the normal inorganic porous material is chosen with 20 hr -1 or more ranges at a space velocity (SV), 1000~8000hr -1 are preferred. If the SV value is too low, the drying time becomes longer, and
If it is too high, the amount of gas used increases, which is uneconomical. The drying temperature is usually selected in the range of 40 to 150 ° C, but is preferably selected in the range of 60 to 120 ° C.

【0013】減圧下に乾燥を行う場合の減圧度は、基本
的には、常圧以下であれば構わないが、実用的な乾燥速
度を得るためには、100torr以下、特に50to
rr以下が好ましい。また、乾燥温度は室温でも十分で
あるが乾燥速度を早くするために加温してもかまわな
い。加温する場合には、50〜300℃とすればよい。
The degree of reduced pressure in the case of drying under reduced pressure may be basically not more than normal pressure, but in order to obtain a practical drying speed, it is not more than 100 torr, especially 50 torr.
rr or less is preferable. Although the drying temperature is sufficient even at room temperature, it may be heated to increase the drying speed. In the case of heating, the temperature may be 50 to 300 ° C.

【0014】ロジウム及びテルルを担持した無機多孔質
体は乾燥後還元して触媒とするが、その前に焼成しても
よい。焼成は、乾燥ガスの流通下に加熱する方法、又
は、ガスを流通させずに加熱する方法のいずれも採用す
ることができる。ガスを流通させる場合には、窒素、酸
素、アルゴン、又は、これらガスの混合ガスが使用され
る。混合ガスの場合、その組成比は任意である。ガス流
量は、通常無機多孔質体に対して、空間速度(SV)で
20hr-1以上の範囲で選択される。焼成は200〜8
00℃、好ましくは300〜600℃で、1〜20時
間、好ましくは1〜5時間行えばよい。
The inorganic porous body carrying rhodium and tellurium is reduced after drying to form a catalyst, but may be calcined before that. For calcination, either a method of heating under a flow of a dry gas or a method of heating without a flow of a gas can be adopted. When flowing a gas, nitrogen, oxygen, argon, or a mixed gas of these gases is used. In the case of a mixed gas, the composition ratio is arbitrary. The gas flow rate is usually selected in the range of 20 hr -1 or more in space velocity (SV) with respect to the inorganic porous material. Firing is 200 ~ 8
The heat treatment may be performed at 00 ° C., preferably 300 to 600 ° C., for 1 to 20 hours, preferably 1 to 5 hours.

【0015】無機多孔質体に担持されているロジウム及
びテルルの還元は、気相還元及び液相還元のいずれでも
行うことができる。液相還元は、ヒドラジン、ソジウム
ボロンハイドライド(NaBH4 )、蟻酸、ホルマリン
など通常用いられる還元剤を用いて常法に従って行うこ
とができる。気相還元も、常用の水素、メタノール、又
は、これらの還元性気体を不活性ガスで希釈した混合ガ
スを用いて常法に従って行うことができる。その還元温
度は、100〜600℃、好ましくは、150〜500
℃の範囲から選ばれる。この還元処理によりロジウム及
びテルルは金属にまで還元され、かつ両者は合金を形成
するものと考えられる。
The reduction of rhodium and tellurium carried on the inorganic porous material can be performed by either gas phase reduction or liquid phase reduction. The liquid phase reduction can be carried out according to a conventional method using a commonly used reducing agent such as hydrazine, sodium boron hydride (NaBH 4 ), formic acid, and formalin. The gas phase reduction can also be carried out according to a conventional method using common hydrogen, methanol, or a mixed gas obtained by diluting these reducing gases with an inert gas. The reduction temperature is 100-600 ° C, preferably 150-500.
It is selected from the range of ° C. It is considered that rhodium and tellurium are reduced to metal by this reduction treatment, and that both form an alloy.

【0016】本発明では上記のようにして調製した触媒
を用いる以外は常法に従って、共役ジエン、カルボン酸
及び分子状酸素を反応させて不飽和グリコールジエステ
ルを製造することができる。反応原料の共役ジエンは通
常はブタジエンであるが、これは必ずしも純粋なもので
ある必要はなく、窒素ガスのような不活性ガスや、メタ
ン、エタン、ブタン等の飽和炭化水素、又は、ブテン等
のような不飽和炭化水素を含むものであってもよい。共
役ジエンとしてはブタジエン以外にも、イソプレン、
2,3−ジメチルブタジエン、ピペリレン等のアルキル
置換ブタジエン、更に、シクロペンタジエンのような環
状ジエンを使用することもできる。これらの共役ジエン
も必ずしも純粋なものでなくてもよい。
In the present invention, an unsaturated glycol diester can be produced by reacting a conjugated diene, a carboxylic acid and molecular oxygen according to a conventional method except that the catalyst prepared as described above is used. The conjugated diene of the reaction material is usually butadiene, but this need not necessarily be pure, but may be an inert gas such as nitrogen gas, a saturated hydrocarbon such as methane, ethane, or butane, or butene. And unsaturated hydrocarbons such as As conjugated dienes, besides butadiene, isoprene,
Alkyl-substituted butadienes such as 2,3-dimethylbutadiene and piperylene, and cyclic dienes such as cyclopentadiene can also be used. These conjugated dienes need not necessarily be pure.

【0017】もう一つの反応原料であるカルボン酸とし
ては、通常は低級脂肪族モノカルボン酸、例えば、蟻
酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸等が用いられ、特に反応
性、価格の点から酢酸が好ましい。カルボン酸の使用量
は共役ジエン1モルに対して、1〜60モルの範囲が好
ましい。通常はカルボン酸は溶媒を兼ねて大量に使用す
るのが好ましい。所望ならば他の有機溶媒、例えば飽和
炭化水素やエステル等を用いることもできるが、その場
合でも反応媒体の50重量%以上は原料のカルボン酸で
あることが好ましい。
As the carboxylic acid which is another reaction raw material, lower aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid and butyric acid are usually used, and acetic acid is particularly preferred in terms of reactivity and cost. . The amount of the carboxylic acid used is preferably in the range of 1 to 60 mol per 1 mol of the conjugated diene. Usually, it is preferable to use a large amount of the carboxylic acid also as a solvent. If desired, other organic solvents such as saturated hydrocarbons and esters can be used, but even in this case, it is preferable that 50% by weight or more of the reaction medium is a carboxylic acid as a raw material.

【0018】分子状酸素としては、通常は窒素等の不活
性ガスで希釈されたもの、例えば空気を用いる。純粋な
酸素は、安全上の理由から好ましくはない。酸素の使用
量は、反応当量以上であればよく、特に制限はない。反
応は回分式、又は連続式のいずれの方法でも行うことが
できる。また、反応器への触媒の収容状態としては、固
定床式、流動床式、懸濁槽式など任意の方式を採用する
ことができる。
As the molecular oxygen, one diluted with an inert gas such as nitrogen, for example, air is usually used. Pure oxygen is not preferred for safety reasons. The amount of oxygen used is not particularly limited as long as it is equal to or more than the reaction equivalent. The reaction can be performed in either a batch system or a continuous system. Further, as the state of accommodating the catalyst in the reactor, any system such as a fixed bed system, a fluidized bed system, and a suspension tank system can be adopted.

【0019】反応は、通常20℃以上の温度で行われる
が、反応速度、及び副生物の生成等を考慮すると、好適
な反応温度の範囲は、50〜120℃である。反応圧力
は、常圧、加圧いずれも可能であるが、反応速度を高め
るには加圧の方が好ましい。好適には、1〜100気圧
の範囲から選択される。反応終了後、反応混合物から蒸
留等の通常の手段により目的生成物である不飽和グリコ
ールジエステルを分離し、未反応の共役ジエン及びカル
ボン酸は回収して再び反応系に循環、再使用する。
The reaction is usually carried out at a temperature of 20 ° C. or higher, but a preferable reaction temperature is 50 to 120 ° C. in consideration of the reaction rate and by-product formation. The reaction pressure can be normal pressure or pressurization, but pressurization is more preferable to increase the reaction rate. Preferably, it is selected from the range of 1 to 100 atmospheres. After completion of the reaction, the desired product, unsaturated glycol diester, is separated from the reaction mixture by ordinary means such as distillation, and the unreacted conjugated diene and carboxylic acid are recovered, circulated and reused in the reaction system.

【0020】[0020]

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をさ
らに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、
以下において「%」は、「重量%」を示す。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples unless it exceeds the gist thereof. In addition,
In the following, “%” indicates “% by weight”.

【0021】実施例1 <触媒の調製>50mLメスフラスコに、ジカルボニル
アセチルアセトナートロジウム(I)(Rh(acac)(CO)2)
1.35g及びトルエン約15mLを入れ、湯浴上で加
温しながら溶解した。これにジフェニルジテルライド
((TePh)2) 0.32gを加え、更にトルエンを追加する
ことにより全量を50mLとした。溶液の重量は、4
3.80gであった。この溶液にシリカ(富士シリシア
化学社製、Q−15、粒径6〜10メッシュ、平均細孔
直径14.0nm、細孔容積0.99ml/g)32.
49gを加え、約1時間攪拌した。シリカ内部にまで溶
液が浸透したことを目視で確認した後、遠心脱液を行っ
た。得られた湿潤シリカの重量は60.64gであっ
た。これより計算されるロジウムの担持量は1.1重量
%、Te/Rh原子比は0.3であった。この湿潤シリ
カを、減圧下80℃で3時間乾燥した。更にSV=10
00hr-1の水素気流下、30分で200℃まで昇温
し、この温度で2時間還元して触媒とした。
Example 1 <Preparation of catalyst> In a 50 mL volumetric flask, dicarbonylacetylacetonatotrodium (I) (Rh (acac) (CO) 2 ) was placed.
1.35 g and about 15 mL of toluene were added and dissolved while heating on a hot water bath. Diphenyl ditelluride
0.32 g of ((TePh) 2 ) was added, and the total amount was made up to 50 mL by further adding toluene. The weight of the solution is 4
The weight was 3.80 g. Silica (Q-15, particle size 6-10 mesh, average pore diameter 14.0 nm, pore volume 0.99 ml / g) manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd.
49 g was added and stirred for about 1 hour. After visually confirming that the solution had penetrated into the silica interior, centrifugal drainage was performed. The weight of the obtained wet silica was 60.64 g. The supported amount of rhodium calculated from this was 1.1% by weight, and the Te / Rh atomic ratio was 0.3. The wet silica was dried at 80 ° C. under reduced pressure for 3 hours. Furthermore, SV = 10
The temperature was raised to 200 ° C. in 30 minutes under a stream of hydrogen of 00 hr −1 and reduced at this temperature for 2 hours to obtain a catalyst.

【0022】<ブタジエンのジアセトキシ化反応>この
触媒6.02gを内径12mmのガラス管に充てんし、
酢酸12mL/時、ブタジエン6.4g/時、酸素9容
量%を含む酸素−窒素混合ガス1800mL/時を供給
して、反応温度80℃で8時間反応させた。この間、反
応開始から5〜6時間の1時間と、6〜7時間の1時間
の2回サンプリングし、ガスクロマトグラフィーにより
生成物を定量した。この2回の分析値から計算される活
性及び選択率の平均値を表1に示す。
<Diacetoxylation reaction of butadiene> 6.02 g of this catalyst was filled in a glass tube having an inner diameter of 12 mm.
Acetic acid (12 mL / hour), butadiene (6.4 g / hour), and oxygen-nitrogen mixed gas (1800 mL / hour) containing 9% by volume of oxygen were supplied, and the mixture was reacted at a reaction temperature of 80 ° C. for 8 hours. During this time, sampling was performed twice, one hour for 5 to 6 hours and one hour for 6 to 7 hours from the start of the reaction, and the product was quantified by gas chromatography. Table 1 shows the average values of the activity and the selectivity calculated from the two analysis values.

【0023】実施例2 遠心脱液及び乾燥を経たシリカをSV=1000hr-1
の水素気流下、1時間で400℃まで昇温し、この温度
で2時間還元した以外は実施例1と同様にして、触媒の
調製及びブタジエンのジアセトキシ化反応を行った。結
果を表1に示す。
Example 2 Silica subjected to centrifugal dewatering and drying was subjected to SV = 1000 hr -1.
The catalyst was prepared and the butadiene diacetoxylation reaction was carried out in the same manner as in Example 1 except that the temperature was raised to 400 ° C. in 1 hour under a hydrogen stream of, and reduced at this temperature for 2 hours. Table 1 shows the results.

【0024】実施例3 乾燥をSV=2000hr-1の空気気流下、150℃で
3時間行い、次いでSV=1000hr-1の水素気流
下、1時間で400℃まで昇温し、この温度で2時間還
元した以外は実施例1と同様にして触媒の調製およびブ
タジエンのジアセトキシ化反応を行った。結果を表1に
示す。
The air stream of Example 3 dried SV = 2000 hr -1, performed for 3 hours at 0.99 ° C., then a stream of hydrogen of SV = 1000 hr -1, the temperature was raised to 400 ° C. in 1 hour, 2 at this temperature Preparation of a catalyst and diacetoxylation reaction of butadiene were carried out in the same manner as in Example 1 except that the reduction was carried out for an hour. Table 1 shows the results.

【0025】実施例4 乾燥をSV=2000hr-1の窒素気流下、150℃で
3時間行い、次いでSV=1000hr-1の水素気流
下、1時間で400℃まで昇温し、この温度で2時間還
元した以外は実施例1と同様にして触媒の調製およびブ
タジエンのジアセトキシ化反応を行った。結果を表1に
示す。
The nitrogen stream in Example 4 Dry the SV = 2000 hr -1, performed for 3 hours at 0.99 ° C., then a stream of hydrogen of SV = 1000 hr -1, the temperature was raised to 400 ° C. in 1 hour, 2 at this temperature Preparation of a catalyst and diacetoxylation reaction of butadiene were carried out in the same manner as in Example 1 except that the reduction was carried out for an hour. Table 1 shows the results.

【0026】比較例1 25mLメスフラスコに、金属テルル0.10gを入
れ、35%硝酸水溶液10mLを加えて溶解した。これ
に5.00%硝酸ロジウム硝酸溶液(NEケムキャット
社製)5.39gを加え、更に35%硝酸水溶液を加え
て全量を25mLとした。この溶液の重量は、30.6
6gであった。この溶液にシリカ(富士シリシア化学社
製、Q−15、粒径6〜10メッシュ、平均細孔直径1
4.0nm、細孔容積0.99ml/g)14.55g
を加え約1時間攪拌した。シリカ内部にまで溶液が浸透
したことを目視で確認した後、遠心脱液を行った。得ら
れた湿潤シリカの重量は31.99gであった。これよ
り計算されるロジウムの担持量は1.1重量%、Te/
Rh原子比は0.3であった。この湿潤シリカをSV=
2000hr-1の窒素気流下、150℃で3時間乾燥し
た。更にSV=500hr-1の水素気流下、1時間で4
00℃まで昇温し、この温度で2時間還元して触媒を調
製した。ブタジエンのジアセトキシ化反応は実施例1と
同様に行った。結果を表1に示す。
Comparative Example 1 0.10 g of tellurium metal was placed in a 25-mL volumetric flask, and dissolved by adding 10 mL of 35% aqueous nitric acid. To this, 5.39 g of a 5.00% rhodium nitrate solution (manufactured by NE Chemcat) was added, and a 35% nitric acid aqueous solution was further added to make a total volume of 25 mL. The weight of this solution is 30.6
6 g. To this solution was added silica (Q-15, manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd., particle size 6-10 mesh, average pore diameter 1).
4.0 nm, pore volume 0.99 ml / g) 14.55 g
Was added and stirred for about 1 hour. After visually confirming that the solution had penetrated into the silica interior, centrifugal drainage was performed. The weight of the obtained wet silica was 31.99 g. The supported amount of rhodium calculated from this is 1.1% by weight, Te /
The Rh atomic ratio was 0.3. This wet silica is SV =
It was dried at 150 ° C. for 3 hours under a nitrogen stream of 2000 hr −1 . Further, under a hydrogen stream of SV = 500 hr -1 ,
The temperature was raised to 00 ° C. and reduced at this temperature for 2 hours to prepare a catalyst. The diacetoxylation reaction of butadiene was carried out in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0027】実施例5 50mLメスフラスコに、テトラロジウムドデカカルボ
ニル(Rh4(CO)12)0.98gを入れ、これにアセトン約
15mLを加えて溶解した。これにジフェニルジテルラ
イド((TePh)2) 0.32gを加え、更にアセトンを追加
することにより全量を50mLとした。溶液の重量は、
39.87gであった。この溶液にシリカ(富士シリシ
ア化学社製、Q−15、粒径6〜10メッシュ、平均細
孔直径14.0nm、細孔容積0.99ml/g)3
2.76gを加え約1時間攪拌した。シリカ内部にまで
溶液が浸透したことを目視で確認した後、遠心脱液を行
った。得られた湿潤シリカの重量は58.35gであっ
た。これより計算されるロジウムの担持量は1.1重量
%、Te/Rh原子比は0.3であった。この湿潤シリ
カを減圧下50℃で3時間乾燥した。更にSV=100
0hr-1の水素気流下、1時間で400℃まで昇温し、
この温度で2時間還元して触媒とした。ブタジエンのジ
アセトキシ化反応は実施例1と同様に行った。結果を表
1に示す。
Example 5 0.98 g of tetrarhodium dodecacarbonyl (Rh 4 (CO) 12 ) was placed in a 50-mL volumetric flask, and about 15 mL of acetone was added thereto and dissolved. To this, 0.32 g of diphenyl ditelluride ((TePh) 2 ) was added, and acetone was further added to adjust the total amount to 50 mL. The weight of the solution is
39.87 g. Silica (Q-15, particle size: 6-10 mesh, average pore diameter: 14.0 nm, pore volume: 0.99 ml / g) manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. 3
2.76 g was added and stirred for about 1 hour. After visually confirming that the solution had penetrated into the silica interior, centrifugal drainage was performed. The weight of the obtained wet silica was 58.35 g. The supported amount of rhodium calculated from this was 1.1% by weight, and the Te / Rh atomic ratio was 0.3. The wet silica was dried at 50 ° C. under reduced pressure for 3 hours. Further, SV = 100
The temperature was raised to 400 ° C. in 1 hour under a hydrogen stream of 0 hr −1 ,
The catalyst was reduced at this temperature for 2 hours. The diacetoxylation reaction of butadiene was carried out in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0028】実施例6 乾燥をSV=2000hr-1の空気気流下、150℃で
3時間行った以外は実施例5と同様にして、触媒の調製
及びブタジエンのジアセトキシ化反応を行った。結果を
表1に示す。
Example 6 A catalyst was prepared and a butadiene diacetoxylation reaction was carried out in the same manner as in Example 5, except that drying was carried out at 150 ° C. for 3 hours in an air stream of SV = 2000 hr −1 . Table 1 shows the results.

【0029】実施例7 50mLメスフラスコに、トリスジフェニルテルルロジ
ウムトリクロライド(RhCl3(TePh2)3)0.552gを入
れ、アセトン約15mLを加えて溶解した。これに塩化
ロジウム(ロジウム金属含有量39重量%、NEケムキ
ャット社製)1.105gを加え、更にアセトンを追加
することにより全量を50mLとした。溶液の重量は、
40.83gであった。この溶液にシリカ(富士シリシ
ア化学社製、Q−15、粒径6〜10メッシュ、平均細
孔直径14.0nm、細孔容積0.99ml/g)3
2.11gを加え、約1時間攪拌した。シリカ内部にま
で溶液が浸透したことを目視で確認した後、遠心脱液を
行った。得られた湿潤シリカの重量は57.53gであ
った。これより計算されるロジウムの担持量は0.93
重量%、Te/Rh原子比は0.33であった。この湿
潤シリカを減圧下50℃で3時間乾燥した。更にSV=
1000hr-1の水素気流下、1時間で400℃まで昇
温し、この温度で2時間還元して触媒とした。ブタジエ
ンのジアセトキシ化反応は実施例1と同様に行った。結
果を表1に示す。
Example 7 A 50 mL volumetric flask was charged with 0.552 g of trisdiphenyltellurium rhodium trichloride (RhCl 3 (TePh 2 ) 3 ), and dissolved by adding about 15 mL of acetone. To this was added 1.105 g of rhodium chloride (rhodium metal content 39% by weight, manufactured by NE Chemcat), and acetone was further added to adjust the total volume to 50 mL. The weight of the solution is
40.83 g. Silica (Q-15, particle size 6-10 mesh, average pore diameter 14.0 nm, pore volume 0.99 ml / g) manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. 3
2.11 g was added and stirred for about 1 hour. After visually confirming that the solution had penetrated into the silica interior, centrifugal drainage was performed. The weight of the obtained wet silica was 57.53 g. The supported amount of rhodium calculated from this is 0.93
% By weight, and the atomic ratio of Te / Rh was 0.33. The wet silica was dried at 50 ° C. under reduced pressure for 3 hours. Furthermore, SV =
The temperature was raised to 400 ° C. in 1 hour under a hydrogen stream of 1000 hr −1 and reduced at this temperature for 2 hours to obtain a catalyst. The diacetoxylation reaction of butadiene was carried out in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.

【0030】実施例8 乾燥をSV=2000hr-1の空気気流下、150℃で
3時間行った以外は実施例7と同様にして、触媒の調製
及びブタジエンのジアセトキシ化反応を行った。結果を
表1に示す。
Example 8 A catalyst was prepared and a diacetoxylation reaction of butadiene was carried out in the same manner as in Example 7 except that drying was carried out at 150 ° C. for 3 hours in an air stream of SV = 2000 hr −1 . Table 1 shows the results.

【0031】比較例2 50mLメスフラスコに、テトラロジウムドデカカルボ
ニル(Rh4(CO)12) 0.49gを入れ、これに含水アセト
ン(含水率60%)25mLを加えて溶解させようとし
たが、テトラロジウムドデカカルボニルは殆ど溶解せ
ず、触媒調製は不可能であった。
COMPARATIVE EXAMPLE 2 0.49 g of tetrarhodium dodecacarbonyl (Rh 4 (CO) 12 ) was placed in a 50-mL volumetric flask, and 25 mL of aqueous acetone (water content 60%) was added thereto to dissolve. The tetrarhodium dodecacarbonyl hardly dissolved, and catalyst preparation was impossible.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】*1:活性の評価:反応生成物のうち、中
沸点生成物である 3,4−ジアセトキシブテン 3−ヒドロキシ−4−アセトキシブテン 1−アセトキシクロトンアルデヒド 1,4−ジアセトキシブテン(1,4−DABE) 1−ヒドロキシ−4−アセトキシブテン 及び高沸点生成物である 1,4−ジヒドロキシブテン−2 ジアセトキシオクタトリエン 1,1,4−トリアセトキシブテン−2 の合計の生成量がロジウム1グラム原子当り、1時間当
り何mmolであったかで表示した(mmol生成物/
g・atm−Rh/hr)。
* 1: Activity evaluation: Among the reaction products, 3,4-diacetoxybutene 3-hydroxy-4-acetoxybutene 1-acetoxycyclotonaldehyde 1,4-diacetoxybutene which is a medium boiling point product ( 1,4-DABE) 1-hydroxy-4-acetoxybutene and 1,4-dihydroxybutene-2, a high boiling point product, diacetoxyoctatriene 1,1,4-triacetoxybutene-2 The number of mmol per hour per gram atom of rhodium was expressed (mmol product /
g · atm-Rh / hr).

【0034】*2:1,4−DABE選択率 上記の高、中沸点生成物の生成量の合計に下記の低沸点
生成物の生成量を加えた全生成物の生成量のうち、1,
4−ジアセトキシブテンの占めるmmol数の割合をm
ol%で表示した。 低沸点生成物 フラン アクロレイン モノアセトキシブテン ブタノール モノアセトキシ−1,3−ブタジエン
* 2: 1,4-DABE selectivity Of the total product amount obtained by adding the following low-boiling product production amount to the total of the above-mentioned high and medium-boiling product production amounts, 1,
The ratio of the number of mmols occupied by 4-diacetoxybutene is m
ol%. Low boiling products furan acrolein monoacetoxybutene butanol monoacetoxy-1,3-butadiene

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明によれば、固体触媒の存在下、共
役ジエンをカルボン酸及び分子状酸素と反応させて対応
する不飽和グリコールのカルボン酸ジエステルを製造す
る方法において、固体触媒としてロジウム化合物及びテ
ルル化合物を水の含有量が50重量%未満の有機溶媒の
溶液として無機多孔質体に担持した後、還元して得られ
る触媒を用いることにより、不飽和グリコールジエステ
ルを高活性、高選択的に得ることができるので、その工
業的利用価値は極めて大である。
According to the present invention, there is provided a method for producing a carboxylic acid diester of an unsaturated glycol by reacting a conjugated diene with a carboxylic acid and molecular oxygen in the presence of a solid catalyst. And a method in which a tellurium compound is supported on an inorganic porous material as a solution of an organic solvent having a water content of less than 50% by weight and then reduced to thereby use a catalyst obtained by reducing the unsaturated glycol diester with high activity and high selectivity. Therefore, its industrial utility value is extremely large.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 67/055 C07C 67/055 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C07C 67/055 C07C 67/055 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ロジウム及びテルルを活性成分として含
む固体触媒の存在下に、共役ジエンをカルボン酸及び分
子状酸素と反応させて対応する不飽和グリコールのカル
ボン酸ジエステルを製造する方法において、固体触媒と
してロジウム化合物及びテルル化合物を水の含有量が5
0重量%未満の有機溶媒の溶液として無機多孔質体に担
持したものを還元して得られる触媒を用いることを特徴
とする不飽和グリコールジエステルの製造法。
1. A method for producing a corresponding carboxylic acid diester of unsaturated glycol by reacting a conjugated diene with a carboxylic acid and molecular oxygen in the presence of a solid catalyst containing rhodium and tellurium as active components. And a rhodium compound and a tellurium compound having a water content of 5
A process for producing an unsaturated glycol diester, comprising using a catalyst obtained by reducing a solution supported on an inorganic porous material as a solution of an organic solvent of less than 0% by weight.
【請求項2】 ロジウム化合物及びテルル化合物の少な
くとも一方が、有機金属化合物であることを特徴とする
請求項1の製造法。
2. The method according to claim 1, wherein at least one of the rhodium compound and the tellurium compound is an organometallic compound.
【請求項3】 ロジウム化合物及びテルル化合物を、水
の含有量が10重量%未満の有機溶媒の溶液として無機
多孔質体に担持することを特徴とする請求項1又は2に
記載の製造法。
3. The method according to claim 1, wherein the rhodium compound and the tellurium compound are supported on the inorganic porous material as a solution of an organic solvent having a water content of less than 10% by weight.
【請求項4】 有機溶媒が、炭素数10以下の有機化合
物であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか
に記載の製造法。
4. The method according to claim 1, wherein the organic solvent is an organic compound having 10 or less carbon atoms.
【請求項5】 有機溶媒が、炭化水素、カルボニル化合
物、エーテル、エステル、カルボン酸及びアルコールか
ら選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求
項4に記載の製造法。
5. The method according to claim 4, wherein the organic solvent is at least one selected from hydrocarbons, carbonyl compounds, ethers, esters, carboxylic acids and alcohols.
【請求項6】 ロジウム化合物が、少なくとも1つの一
酸化炭素を配位子として有することを特徴とする請求項
1ないし5のいずれかに記載の製造法。
6. The method according to claim 1, wherein the rhodium compound has at least one carbon monoxide as a ligand.
【請求項7】 ロジウム化合物が、ロジウムジカルボニ
ルアセチルアセトナート、ヘキサロジウムヘキサデカカ
ルボニル及びテトラロジウムドデカカルボニルよりなる
群から選ばれるものであることを特徴とする請求項6に
記載の製造法。
7. The method according to claim 6, wherein the rhodium compound is selected from the group consisting of rhodium dicarbonyl acetylacetonate, hexarhodium hexadecacarbonyl and tetrarhodium dodecacarbonyl.
【請求項8】 テルル化合物が、少なくとも1つのTe
−芳香族間結合を有する化合物であることを特徴とする
請求項1ないし7のいずれかに記載の製造法。
8. The tellurium compound, wherein at least one Te compound is used.
The method according to any one of claims 1 to 7, wherein the compound is a compound having an interaromatic bond.
【請求項9】 テルル化合物が、少なくとも1つのTe
−フェニル基結合を有する化合物であることを特徴とす
る請求項1ないし7のいずれかに記載の製造法。
9. The tellurium compound comprising at least one Te
The method according to any one of claims 1 to 7, which is a compound having a phenyl group bond.
【請求項10】 テルル化合物が、ジフェニルジテルラ
イド又はトリスジフェニルテルルロジウムトリクロリド
であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに
記載の製造法。
10. The method according to claim 1, wherein the tellurium compound is diphenyl ditelluride or trisdiphenyl tellurium rhodium trichloride.
【請求項11】 ロジウム化合物及びテルル化合物を無
機多孔質体に担持したものを、乾燥してから還元するこ
とを特徴とする請求項1ないし10のいずれかに記載の
製造法。
11. The method according to claim 1, wherein the rhodium compound and the tellurium compound supported on the inorganic porous material are dried and then reduced.
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