JPH10296067A - Solution diluting device, method for adjusting solution concentration and method for forming pattern - Google Patents

Solution diluting device, method for adjusting solution concentration and method for forming pattern

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JPH10296067A
JPH10296067A JP10453397A JP10453397A JPH10296067A JP H10296067 A JPH10296067 A JP H10296067A JP 10453397 A JP10453397 A JP 10453397A JP 10453397 A JP10453397 A JP 10453397A JP H10296067 A JPH10296067 A JP H10296067A
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JP
Japan
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solution
concentration
sulfuric acid
tank
diluted
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JP10453397A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshinori Nakano
俊典 中野
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To maintain the titration accuracy of a first solution at a high level by measuring the concentration of a second solution periodically (wherever desired) to seek an equivalent point in the mixing of the second and a third solution and titrating the first solution using the second solution again, based on the measurement results, when diluting the first solution with pure water. SOLUTION: This solution diluting device titrates (a first titration process) a diluted developer 13a by using a sulfuric acid reagent (a second solution) 15a, then titrates a NaOH solution (a third solution) by using a sulfuric acid reagent 15a before or after the first titration process, when developer 11 for a positive type resist (an alkaline solution; the first solution) is diluted with a high-purity water 12. Further, the device measures (a second titration process) a change in the concentration of the sulfuric acid reagent 15a over time periodically (whenever desired) to seek an equivalent point in the mixing of the sulfuric acid reagent 15a with the NaOH solution (the third solution) 16a. Next, the concentration is measured at a high accuracy level and again the first titration process is carried out with high accuracy.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、所定の被滴定溶液
の濃度を所定の滴定溶液で滴定しながら被滴定溶液の濃
度を調整する溶液希釈装置、溶液濃度調整方法及びパタ
ーン形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solution diluting apparatus for adjusting the concentration of a solution to be titrated while titrating the concentration of the solution to be titrated with the solution to be titrated, a method for adjusting the solution concentration, and a pattern forming method.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路の製作は、ホトエッチン
グと不純物拡散の繰返し工程からなるといってよい。こ
こで重要なホトエッチングは、高品質のホトレジストに
よって支えられている。このホトレジストは、例えばウ
エハ上に常に微細で正確なパターンを描くためのハード
マスク等に供せられるもので、例えばポジ型(可溶化
型)のレジストとしてノボラック樹脂を用いた紫外光レ
ジスト等が多用されている。
2. Description of the Related Art It can be said that the manufacture of a semiconductor integrated circuit comprises repetitive steps of photoetching and impurity diffusion. The important photoetching here is supported by high quality photoresist. This photoresist is used, for example, as a hard mask for always drawing a fine and accurate pattern on a wafer. For example, an ultraviolet light resist using a novolak resin as a positive type (solubilizing type) resist is frequently used. Have been.

【0003】かかるポジレジスト使用によりパターン形
成する動作を図6及び図7に示す。ここでは、まず基板
P1の上面にレジスト膜P2を塗布した後、その上方に
マスキングP3を行い、図6のように紫外線P4を照射
してレジスト膜P2の一部(P2a)の構造を変化させ
て、その後、溶媒(ポジ現像液)1によって可溶化す
る。このポジ現像液1としては水酸化テトラメチルアン
モニウム(TMAH)等のアルカリ系水溶液が用いられ
る。
The operation of forming a pattern by using such a positive resist is shown in FIGS. Here, first, after applying a resist film P2 on the upper surface of the substrate P1, masking P3 is performed thereon, and ultraviolet rays P4 are irradiated as shown in FIG. 6 to change the structure of a part (P2a) of the resist film P2. Then, it is solubilized by the solvent (positive developer) 1. As the positive developer 1, an alkaline aqueous solution such as tetramethylammonium hydroxide (TMAH) is used.

【0004】一般に、現像液1としてのアルカリ水溶液
とレジストの構成物質の1つであるノボラック樹脂との
溶解反応化学式は次の通りである。
In general, the chemical formula of the dissolution reaction between an aqueous alkali solution as a developing solution 1 and a novolak resin which is one of the constituents of a resist is as follows.

【0005】[0005]

【化1】 Embedded image

【0006】ここで、OHイオンは、ポジ現像液(アル
カリ水溶液)から供給されるが、この量は、ポジ現像液
の濃度と密接な関係がある。すなわち、アルカリ水溶液
を用いた現像工程では、アルカリ水溶液(ポジ現像液)
の温度及び濃度が変わると仕上がり寸法が変わってしま
い、故に現像レートが変化してしまう。このことを考慮
すると、要求される仕上がり寸法を得るには、必要な濃
度にコントロールする(2.380±0.003%)必
要がある。したがって、このような目的のため、現像液
の混合作業は、溶液希釈装置で現像液の濃度を確認しな
がら正確に混合することが重要となる。
Here, the OH ions are supplied from a positive developer (aqueous alkaline solution), and this amount is closely related to the concentration of the positive developer. That is, in the developing step using an alkaline aqueous solution, an alkaline aqueous solution (positive developer)
If the temperature and density of the film change, the finished dimensions change, and therefore the development rate changes. In consideration of this, it is necessary to control the density to a required level (2.380 ± 0.003%) in order to obtain a required finished size. Therefore, for such a purpose, it is important for the mixing operation of the developer to accurately mix the developer while checking the concentration of the developer with a solution diluting device.

【0007】従来の溶液希釈装置では、図8の如く、希
釈前のポジ型レジスト用現像液1と超純水2とを、希釈
タンク3内で所定の割合に軽量混合する際に、混合され
た現像液1を自動中和滴定分析装置4に送液し、硫酸試
薬5で滴定し、現像液1の濃度を演算する。そしてその
後、演算濃度を基に、目標とする濃度測定精度を満足さ
せるため、現像液1または超純水2を希釈タンク3へ再
投入し、再度、自動中和滴定分析装置4及び硫酸試薬5
で濃度測定する。このような手順の処理を何度か繰返す
ことにより、現像液1の濃度を適正に調整し、調整後の
現像液1を供給タンク6に収納していた。
In a conventional solution diluting apparatus, as shown in FIG. 8, when a positive type resist developing solution 1 before dilution and ultrapure water 2 are lightly mixed at a predetermined ratio in a dilution tank 3, they are mixed. The developer 1 is sent to an automatic neutralization titration analyzer 4 and titrated with a sulfuric acid reagent 5 to calculate the concentration of the developer 1. Then, based on the calculated concentration, in order to satisfy the target concentration measurement accuracy, the developer 1 or the ultrapure water 2 is re-charged into the dilution tank 3, and the automatic neutralization titration analyzer 4 and the sulfuric acid reagent 5 are again supplied.
Measure the concentration with. By repeating the procedure of such a procedure several times, the concentration of the developer 1 is appropriately adjusted, and the adjusted developer 1 is stored in the supply tank 6.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ここで、従来の方法に
よって精度良い測定を行うためには、硫酸試薬5の濃度
が安定していることが前提となる。しかしながら、実際
の硫酸試薬5の濃度は、これを収納する容器内の肩部等
に水分が凝集するなどの理由により経時的変化を起こす
ため、初期濃度を保つことは困難である。このような場
合、初期濃度からずれた硫酸を使って現像液1を滴定す
る結果、真値からずれた現像液1の濃度を示すことにな
る。この真値からのずれ量が、必要とされる現像液1の
濃度測定精度に比べて小さい場合は問題とならないが、
現像液1のように濃度測定精度の許容範囲が狭く2.3
80%±0.003%程度である場合、硫酸濃度測定精
度が基準濃度(例えば0.1N)に対し0.1%以上変
化すると、その変化した硫酸濃度から演算された現像液
1の濃度測定精度は、許容範囲を逸脱してしまう。
Here, in order to perform accurate measurement by the conventional method, it is assumed that the concentration of the sulfuric acid reagent 5 is stable. However, the actual concentration of the sulfuric acid reagent 5 changes with time due to, for example, moisture aggregating on a shoulder or the like in a container that stores the sulfuric acid reagent 5, and it is difficult to maintain the initial concentration. In such a case, as a result of titrating the developing solution 1 using sulfuric acid shifted from the initial concentration, the concentration of the developing solution 1 shifted from the true value is indicated. If the deviation from the true value is smaller than the required accuracy of the density measurement of the developer 1, no problem arises.
As in the case of the developing solution 1, the allowable range of the concentration measurement accuracy is narrow, and 2.3.
In the case of about 80% ± 0.003%, if the sulfuric acid concentration measurement accuracy changes by 0.1% or more with respect to the reference concentration (for example, 0.1N), the concentration measurement of the developer 1 calculated from the changed sulfuric acid concentration Accuracy deviates from an acceptable range.

【0009】したがって、硫酸濃度を変化させないため
の何らかの対策を採るか、または濃度が変化したとして
も初期濃度からその変化量を補正することにより硫酸を
滴定に使用する時点で正確な濃度が判るようにする必要
がある。
Therefore, by taking some measures to prevent the sulfuric acid concentration from changing, or by correcting the amount of change from the initial concentration even if the concentration changes, the accurate concentration can be determined at the time of using sulfuric acid for titration. Need to be

【0010】本発明は、上記課題に鑑み、現像液等の希
釈溶液(被滴定溶液)の滴定において、滴定溶液から演
算された希釈溶液の濃度を測定する際に、その濃度測定
精度を向上し得る溶液希釈装置、溶液濃度調整方法及び
パターン形成方法を提供することを目的とする。
[0010] In view of the above problems, the present invention improves the accuracy of concentration measurement when measuring the concentration of a dilute solution calculated from the titration solution in titration of a diluting solution (solution to be titrated) such as a developer. It is an object of the present invention to provide a solution diluting device, a solution concentration adjusting method, and a pattern forming method.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、所定の第1の溶液に対して純水を加えて希釈するた
めの第1のタンクと、希釈された前記第1の溶液に対し
て滴定を施すための第2の溶液が予め収納される第2の
タンクと、前記第2の溶液との混合における当量点を求
めることで前記第2の溶液の濃度を計測するための第3
の溶液が予め収納される第3のタンクと、前記第2の溶
液と前記第3の溶液の混合における当量点を求めること
で前記第2の溶液の濃度を計測するとともに、計測され
た前記第2の溶液の濃度に基づいて、当該第2の溶液
で、希釈された前記第1の溶液を滴定する中和滴定分析
部とを備えるものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a first tank for adding pure water to a predetermined first solution to dilute the first solution, the first tank being diluted with the first solution. For measuring the concentration of the second solution by obtaining a second tank in which a second solution for performing titration is previously stored, and an equivalent point in mixing with the second solution. Third
A third tank in which the solution is stored in advance, and measuring the concentration of the second solution by obtaining an equivalent point in mixing the second solution and the third solution, and measuring the concentration of the second solution. And a neutralization titration analyzer for titrating the first solution diluted with the second solution based on the concentration of the second solution.

【0012】請求項2に記載の発明は、前記第3のタン
クは、前記第2の溶液の濃度を計測するたびに前記第3
の溶液ごと廃棄交換される交換可能容器とされたもので
ある。
[0012] In the invention described in claim 2, the third tank is configured to store the third solution every time the concentration of the second solution is measured.
This is a replaceable container that is disposed and replaced together with the solution.

【0013】請求項3に記載の発明は、所定の第1の溶
液に対して純水を加えて希釈するための第1のタンク
と、希釈された前記第1の溶液に対して滴定を施すため
の第2の溶液が予め収納される第2のタンクと、前記第
2の溶液の濃度を計測するための比重計と、前記比重計
で計測された前記第2の溶液の濃度に基づいて、当該第
2の溶液で、希釈された前記第1の溶液を滴定する中和
滴定分析部とを備えるものである。
According to a third aspect of the present invention, a first tank for adding pure water to a predetermined first solution to dilute the first solution and titrating the diluted first solution are performed. A second tank in which a second solution is stored in advance, a hydrometer for measuring the concentration of the second solution, and a concentration of the second solution measured by the hydrometer. , A neutralization titration analyzer for titrating the first solution diluted with the second solution.

【0014】請求項4に記載の発明は、前記第2の溶液
と同材料でありかつ当該第2の溶液より濃度の高い第4
の溶液が予め収納される第4のタンクをさらに備え、前
記中和滴定分析部は、前記第1の溶液の滴定作業におけ
る初期段階において前記第4の溶液を滴下するととも
に、前記第1の溶液の滴定作業における後半段階におい
て前記第2の溶液を滴下するよう、前記第2の溶液及び
前記第4の溶液の両方を選択的に滴下切換可能とされた
ものである。
According to a fourth aspect of the present invention, the fourth solution is made of the same material as the second solution and has a higher concentration than the second solution.
Further comprising a fourth tank in which the solution is stored in advance, wherein the neutralization titration analyzer drops the fourth solution in an initial stage in the titration operation of the first solution, and the first solution And both the second solution and the fourth solution can be selectively switched so that the second solution is dropped in the latter half of the titration operation.

【0015】請求項5に記載の発明は、前記第2の溶液
は、濃度が0.1N未満の硫酸試薬であり、前記第4の
溶液は、濃度が0.1N以上かつ1.0N以下の硫酸試
薬であるものである。
According to a fifth aspect of the present invention, the second solution is a sulfuric acid reagent having a concentration of less than 0.1N, and the fourth solution has a concentration of 0.1N or more and 1.0N or less. It is a sulfuric acid reagent.

【0016】請求項6に記載の発明は、前記溶液希釈装
置は、前記第1のタンクの重量を計測する重量計をさら
に備え、前記第1のタンクは、内部に収納される希釈さ
れた前記第1の溶液に対して可及的に比重の軽い軽量材
料が使用されるものである。
According to a sixth aspect of the present invention, the solution diluting apparatus further includes a weighing scale for measuring the weight of the first tank, wherein the first tank is provided with the diluted tank contained therein. A lightweight material having a specific gravity as light as possible for the first solution is used.

【0017】請求項7に記載の発明は、前記第1の溶液
は半導体装置の製造工程中のレジスト工程において使用
される現像液であり、前記第2の溶液は中和点より水素
イオン濃度の高い酸性試薬であるものである。
According to a seventh aspect of the present invention, the first solution is a developing solution used in a resist process in a process of manufacturing a semiconductor device, and the second solution has a hydrogen ion concentration lower than a neutralization point. It is a highly acidic reagent.

【0018】加えて、請求項8に記載の発明は、前記第
3の溶液は中和点より水素イオン濃度の低いアルカリ性
試薬であるものである。
[0018] In addition, in the invention according to claim 8, the third solution is an alkaline reagent having a hydrogen ion concentration lower than the neutralization point.

【0019】請求項9に記載の発明は、希釈された第1
の溶液の濃度を、経時的に濃度変化を起す所定の第2の
溶液で滴定しながら調整する溶液濃度調整方法であっ
て、濃度変化を起す前の初期状態の前記第2の溶液を用
いて前記第1の溶液を繰返し滴定しつつ前記第1の溶液
を所望の濃度に希釈し調整する第1の工程と、前記所望
の濃度に調整された前記第1の溶液の一部と前記第2の
溶液の一部とをそれぞれ採取して中和させ、そのときの
前記両溶液の導入量から前記第2の溶液の濃度変化を計
測する第2の工程とを備えるものである。
According to a ninth aspect of the present invention, the diluted first
A solution concentration adjusting method in which the concentration of the solution is adjusted while titrating with a predetermined second solution that causes a concentration change over time, using the second solution in an initial state before the concentration change. A first step of diluting and adjusting the first solution to a desired concentration while repeatedly titrating the first solution, a part of the first solution adjusted to the desired concentration and the second step And a second step of measuring a change in the concentration of the second solution from the amounts of the two solutions introduced at that time.

【0020】請求項10に記載の発明は、前記第1の溶
液は半導体装置の製造工程中のレジスト工程において使
用される現像液であり、前記第2の溶液は中和点より水
素イオン濃度の高い酸性試薬であるものである。
According to a tenth aspect of the present invention, the first solution is a developing solution used in a resist process in a process of manufacturing a semiconductor device, and the second solution has a hydrogen ion concentration lower than a neutralization point. It is a highly acidic reagent.

【0021】請求項11に記載の発明は、所定の基板の
上面にレジストを塗布する第1のパターン形成工程と、
前記レジストの上方にマスキングを行う第2のパターン
形成工程と、紫外線照射により前記レジストの一部の構
造を変化させる第3のパターン形成工程と、構造が変化
した前記レジストの一部をアルカリ性の現像液によって
可溶化する第4のパターン形成工程とを備えるパターン
形成方法であって、前記第4の工程の前工程として、希
釈された前記現像液の濃度を、経時的に濃度変化を起す
所定の酸性試薬で滴定しながら調整する溶液濃度調整工
程をさらに備えるものである。そして、前記溶液濃度調
整工程は、濃度変化を起す前の初期状態の前記第2の溶
液を用いて前記第1の溶液を繰返し滴定しつつ前記第1
の溶液を所望の濃度に希釈し調整する第1の工程と、前
記所望の濃度に調整された前記第1の溶液の一部と前記
第2の溶液の一部とをそれぞれ採取して中和させ、その
ときの前記両溶液の導入量から前記第2の溶液の濃度変
化を計測する第2の工程とを備えるものである。
According to the present invention, a first pattern forming step of applying a resist on an upper surface of a predetermined substrate;
A second pattern forming step of masking above the resist, a third pattern forming step of changing a part of the structure of the resist by irradiating ultraviolet rays, and developing a part of the resist having changed structure with alkaline A fourth pattern forming step of solubilizing with a liquid, wherein a concentration of the diluted developer is changed over time to a predetermined value as a step prior to the fourth step. The method further includes a solution concentration adjusting step of adjusting while titrating with an acidic reagent. Then, the solution concentration adjusting step comprises repeatedly titrating the first solution using the second solution in an initial state before a concentration change occurs.
A first step of diluting and adjusting the solution to a desired concentration, and collecting and neutralizing a part of the first solution and a part of the second solution adjusted to the desired concentration, respectively. And a second step of measuring a change in the concentration of the second solution from the introduction amounts of the two solutions at that time.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

{実施の形態1} <構成>本発明の実施の形態1の溶液希釈装置は、第1
の試薬を超純水で希釈するものであって、特に、この第
1の試薬に対しこれとは別の第2の試薬を滴定して濃度
分析(第1の滴定処理)を行いながら希釈処理を実行す
るものである。具体的には、この溶液希釈装置は、ポジ
型レジスト用現像液(アルカリ溶液:第1の試薬)を超
純水で希釈する際、この現像液に対して、酸である硫酸
試薬(第2の試薬)を用いて滴定(第1の滴定処理)を
行うものであるが、さらにこの第1の滴定処理に前後し
て、硫酸試薬をNaOH溶液(第3の試薬)に対して滴
定することで、硫酸試薬の経時的濃度変化を定期的に測
定(第2の滴定処理)し、その濃度を高精度に調整して
から、上記した第1の滴定処理を高精度に実行するよう
にされている。
<< First Embodiment >><Structure> The solution diluting apparatus according to the first embodiment of the present invention
Is diluted with ultrapure water. In particular, the first reagent is subjected to a concentration analysis (first titration process) by titrating a second reagent different from the first reagent to perform a dilution process. Is to execute. More specifically, when diluting a positive resist developing solution (alkali solution: first reagent) with ultrapure water, the solution diluting apparatus uses a sulfuric acid reagent (second (First reagent)), and before and after this first titration, the sulfuric acid reagent is titrated against the NaOH solution (third reagent). Then, a change in the concentration of the sulfuric acid reagent over time is periodically measured (second titration process), the concentration is adjusted with high accuracy, and then the above-described first titration process is executed with high accuracy. ing.

【0023】図1は溶液希釈装置を示す図である。この
溶液希釈装置は、図1の如く、希釈前のポジ型レジスト
用現像液(アルカリ溶液)11と超純水12とを、希釈
タンク13内において所定の割合に計量混合する際に、
混合された希釈現像液13aの濃度を所定の値に調整す
べく測定しながら希釈処理を行うものであって、当該希
釈タンク13と、上記した第1の滴定処理及び第2の滴
定処理の両方を交互に行うための自動中和滴定分析装置
14と、この自動中和滴定分析装置14に硫酸試薬15
aを導入する硫酸タンク15と、自動中和滴定分析装置
14にNaOH溶液16aを導入するNaOH容器16
とを備えている。
FIG. 1 is a diagram showing a solution diluting apparatus. As shown in FIG. 1, the solution diluting apparatus is used to measure and mix a positive resist developing solution (alkaline solution) 11 and ultrapure water 12 at a predetermined ratio in a dilution tank 13 as shown in FIG.
The dilution process is performed while measuring the concentration of the mixed diluted developer 13a to a predetermined value. The dilution tank 13 is used for both the first titration process and the second titration process. And a sulfuric acid reagent 15 in the automatic neutralization titration analyzer 14.
a NaOH container 16 for introducing a NaOH solution 16a to the automatic neutralization titration analyzer 14
And

【0024】希釈タンク13は、重量計19の上に載置
されており、現像液11及び超純水12の希釈処理はこ
の重量計19の計量値を見ながら行われる。このときの
計量精度を向上させるため、FRP(fiber reinfoced
plastic)等の軽量な材料が使用されている。
The dilution tank 13 is placed on a weighing scale 19, and the dilution of the developing solution 11 and the ultrapure water 12 is performed while observing the measured value of the weighing scale 19. In order to improve weighing accuracy at this time, FRP (fiber reinfoced
Light materials such as plastic) are used.

【0025】自動中和滴定分析装置14は、図2の如
く、一方の試薬に対し他方の試薬を滴定して濃度分析を
行うものであって、一方の試薬(すなわち希釈現像液1
3aまたはNaOH溶液16a)を第1の導入管21ま
たは第2の導入管22から導入して計量畜液する計量管
23と、他方の試薬(すなわち硫酸試薬15a)を第3
の導入管24から導入して計量畜液するビュレット25
と、計量管23で計量された一方の試薬を収納するとと
もにビュレット25を通じて他方の試薬を滴定するため
の滴定セル26と、滴定セル26内の混合液の酸塩基度
数(pH)を測定するガラス電極pHメータ等のpH電
極27と、pH電極27において当量点を検出したとき
にビュレット25のバルブ28をオフにするよう制御す
るバルブ制御装置29と、このバルブ制御装置29にお
ける当量点の検出に基づいて一方の試薬(すなわち希釈
現像液13aまたはNaOH溶液16a)の濃度を演算
し且つ表示する濃度演算表示部30と備えている。
As shown in FIG. 2, the automatic neutralization titration analyzer 14 performs a concentration analysis by titrating one of the reagents to the other reagent.
3a or the NaOH solution 16a) is introduced from the first introduction pipe 21 or the second introduction pipe 22 to measure and store the liquid, and the other reagent (that is, the sulfuric acid reagent 15a) to the third
Burette 25 which is introduced from the introduction pipe 24 of the weighing medium
A titration cell 26 for accommodating one of the reagents measured by the measuring tube 23 and titrating the other reagent through the burette 25; and a glass for measuring the acid-base frequency (pH) of the mixed solution in the titration cell 26. A pH electrode 27 such as an electrode pH meter, a valve controller 29 for controlling the valve 28 of the burette 25 to be turned off when an equivalent point is detected at the pH electrode 27, and a valve controller 29 for detecting the equivalent point. A concentration calculation display section 30 is provided for calculating and displaying the concentration of one of the reagents (that is, the diluted developer 13a or the NaOH solution 16a) based on the reagent.

【0026】ここで、第1の導入管21は希釈タンク1
3に接続されてこの中の希釈現像液13aが導入され、
第2の導入管22はNaOH容器16に接続されてNa
OH溶液16aが導入される。また、第3の導入管24
は硫酸タンク15に接続されて硫酸試薬15aが導入さ
れる。
Here, the first introduction pipe 21 is connected to the dilution tank 1
3, and the diluted developer 13a therein is introduced,
The second introduction pipe 22 is connected to the NaOH container 16 to
An OH solution 16a is introduced. In addition, the third introduction pipe 24
Is connected to the sulfuric acid tank 15 and the sulfuric acid reagent 15a is introduced.

【0027】そして、操作者の指定によって第1の導入
管21と第2の導入管22とを切換えることで、この自
動中和滴定分析装置14は、希釈現像液13aに対して
硫酸試薬15aで滴定する第1の機能と、硫酸試薬15
aとNaOH溶液16aとを適宜混合する第2の機能と
を有せしめられる。
By switching between the first introduction pipe 21 and the second introduction pipe 22 according to the designation of the operator, the automatic neutralization titration analyzer 14 can use the sulfuric acid reagent 15a with respect to the diluted developer 13a. The first function of titration and the sulfuric acid reagent 15
a and the second function of appropriately mixing the NaOH solution 16a.

【0028】ここで、NaOH容器16は、経時的にN
aOHの濃度が変化するのを避けるため、使い捨てのパ
ッケージ(交換可能容器)が使用されており、使用時に
封を切るまでは密封状態に保持されるものである。ま
た、使い捨てであるため、無駄なNaOH溶液16aの
廃棄を避けるため、NaOH容器16の容量は必要最小
限の量に小容量とされている。
Here, the NaOH container 16 stores N
In order to avoid a change in the concentration of aOH, a disposable package (replaceable container) is used, which is kept sealed until the seal is opened at the time of use. In addition, since it is disposable, the capacity of the NaOH container 16 is reduced to a necessary minimum amount in order to avoid wasteful disposal of the NaOH solution 16a.

【0029】また、当量点の判断を行うpH電極27
は、既知の一般的なものを使用すれば良く、例えば、溶
液の電気的特性の変化等に応じて内部回路中の電位差測
定が変化する場合の変化量を測定するよう構成されてい
る。
Further, the pH electrode 27 for determining the equivalent point is used.
A known general device may be used. For example, the device is configured to measure the amount of change in the case where the measurement of the potential difference in the internal circuit changes according to the change in the electrical characteristics of the solution.

【0030】なお、バルブ制御装置29及び濃度演算表
示部30の一部は、ROM、RAMおよびCPUを備え
たマイクロコンピュータチップが使用されており、RO
M等の記録媒体に予め記録されたプログラムに基づいて
作動する機能要素として実現されるものである。また、
濃度演算表示部30において表示機能を奏する要素につ
いては、図示しない自動中和滴定分析装置本体の表面に
取付けられた液晶表示パネル等を使用するものである。
A microcomputer chip having a ROM, a RAM, and a CPU is used for a part of the valve control device 29 and the concentration calculation display section 30.
It is realized as a functional element that operates based on a program recorded in advance on a recording medium such as M. Also,
As the element having a display function in the concentration calculation display section 30, a liquid crystal display panel or the like attached to the surface of the automatic neutralization titration analyzer main body (not shown) is used.

【0031】<動作>現像液11と超純水12と混合す
る場合、予め、第2の滴定処理を行った後、第1の滴定
処理を行う。以下、その手順を説明する。
<Operation> When the developer 11 and the ultrapure water 12 are mixed, a second titration process is performed in advance, and then a first titration process is performed. Hereinafter, the procedure will be described.

【0032】まず第2の滴定処理については、NaOH
容器16内のNaOH溶液16aを第2の導入管22を
通じて計量管23に適量だけ導入し、次いでpH電極2
7により等量点を検知するまで硫酸タンク15内の硫酸
試薬15aをビュレット25で滴定する。ここで使用さ
れる硫酸試薬15aとしては、濃度が0.1〜1.0N
の一般的なものである。また、NaOH容器16は、経
時的にNaOHの濃度が変化するのを避けるため、測定
のたびに常に新たなパッケージとして提供され、新たに
封を切ってから供せられる。
First, in the second titration treatment, NaOH
An appropriate amount of the NaOH solution 16a in the container 16 is introduced into the measuring tube 23 through the second introducing tube 22, and then the pH electrode 2
The titration of the sulfuric acid reagent 15 a in the sulfuric acid tank 15 with the burette 25 is performed until the equivalence point is detected by 7. The sulfuric acid reagent 15a used here has a concentration of 0.1 to 1.0N.
Is a general one. Further, the NaOH container 16 is always provided as a new package each time measurement is performed, and is provided after being newly sealed in order to avoid a change in NaOH concentration over time.

【0033】そして、当量点に達した時点でバルブ制御
装置29がビュレット25のバルブ28を自動的に閉塞
する。このときの硫酸試薬15aの滴下量(ビュレット
25における硫酸試薬15aの減少量)と、滴定セル2
6中のNaOH溶液16aの量とを比較することで、濃
度演算表示部30は硫酸試薬15aの濃度を正確に検出
して表示する。このときの演算式は次の(1)式の通り
である。
When the equivalent point is reached, the valve controller 29 automatically closes the valve 28 of the burette 25. At this time, the drop amount of the sulfuric acid reagent 15a (the decrease amount of the sulfuric acid reagent 15a in the burette 25) and the titration cell 2
By comparing with the amount of the NaOH solution 16a in 6, the concentration calculation display section 30 accurately detects and displays the concentration of the sulfuric acid reagent 15a. The arithmetic expression at this time is as in the following expression (1).

【0034】 硫酸濃度=(NaOHの規定濃度×NaOHの導入量)/硫酸消費量…(1) このようにして硫酸タンク15における硫酸試薬15a
の濃度を高精度に滴定(測定)した後、滴定セル26内
の溶液を廃棄しておく。
Sulfuric acid concentration = (Specified concentration of NaOH × NaOH introduction amount) / Sulfuric acid consumption amount (1) In this manner, the sulfuric acid reagent 15 a in the sulfuric acid tank 15.
After the concentration of is determined (measured) with high accuracy, the solution in the titration cell 26 is discarded.

【0035】次に、第1の滴定処理については、水酸化
テトラメチルアンモニウム(TMAH)等のアルカリ系
水溶液を現像液11として希釈タンク13に導入すると
ともに、超純水12を希釈タンク13内に加えて現像液
11を希釈する。
Next, in the first titration treatment, an alkaline aqueous solution such as tetramethylammonium hydroxide (TMAH) is introduced into the dilution tank 13 as the developer 11 and the ultrapure water 12 is introduced into the dilution tank 13. In addition, the developer 11 is diluted.

【0036】このとき、第1の導入管21を通じて希釈
タンク13内の希釈現像液13aを滴定セル26内に導
入し、次いで前述の硫酸試薬15aをビュレット25を
通じて滴定セル26内に滴下する。この作業はpH電極
27で当量点を検出するまで続けられ、当量点に達した
とき、バルブ制御装置29はビュレット25のバルブ2
8を閉塞する。そしてこのときのビュレット25の減少
量に基づいて、濃度演算表示部30により希釈現像液1
3aの濃度を演算する。このときの演算式は次の(2)
式の通りである。
At this time, the diluted developer 13 a in the dilution tank 13 is introduced into the titration cell 26 through the first introduction pipe 21, and then the aforementioned sulfuric acid reagent 15 a is dropped into the titration cell 26 through the burette 25. This operation is continued until the equivalence point is detected by the pH electrode 27, and when the equivalence point is reached, the valve control device 29 sets the valve 2 of the burette 25.
8 is closed. Then, based on the decrease amount of the buret 25 at this time, the diluted developer 1
The density of 3a is calculated. The operation formula at this time is as follows (2)
It is as the formula.

【0037】 現像液濃度=(硫酸試薬の濃度×硫酸試薬の滴下量)/現像液の導入量…(2 ) この(2)式において、硫酸試薬の濃度は、第2の滴定
処理によって(1)式を用いて演算された硫酸濃度をそ
のまま使用する。
Developer concentration = (concentration of sulfuric acid reagent × amount of sulfuric acid reagent dropped) / introduced amount of developer (2) In the formula (2), the concentration of the sulfuric acid reagent is determined by the second titration process to be (1) ) Use the sulfuric acid concentration calculated using the equation as it is.

【0038】その後、演算濃度を基に、目標とする濃度
測定精度を満足させるため、現像液11または超純水1
2を希釈タンク13へ再投入し、再度、自動中和滴定分
析装置14及び硫酸試薬15aで濃度測定する。このよ
うな手順の処理を何度か繰返すことにより、希釈現像液
13aの濃度測定を必要な精度に調整する。最後に、調
整された希釈現像液13aは供給タンク17に移送し
て、現像液の希釈処理は完了する。
Thereafter, based on the calculated density, the developing solution 11 or ultrapure water 1
2 is again charged into the dilution tank 13, and the concentration is measured again with the automatic neutralization titration analyzer 14 and the sulfuric acid reagent 15a. By repeating the processing of such a procedure several times, the concentration measurement of the diluted developer 13a is adjusted to the required accuracy. Finally, the adjusted diluted developer 13a is transferred to the supply tank 17, and the process of diluting the developer is completed.

【0039】以上の処理に並行して、従来例で説明した
場合と同様、基板の上面にレジスト膜を塗布し、その上
方にマスキングを行った後、紫外線を照射してレジスト
膜の一部の構造を変化させておく。そして、上記のよう
に希釈処理された希釈現像液13aによって可溶化し、
所定の配線設計が施されたパターン形成処理を行えばよ
い(図6及び図7参照)。
In parallel with the above processing, a resist film is applied to the upper surface of the substrate, masked thereabove, and then irradiated with ultraviolet rays to partially remove the resist film, as in the case described in the conventional example. Change the structure. And it is solubilized by the diluted developer 13a diluted as described above,
What is necessary is just to perform the pattern formation process which performed the predetermined wiring design (refer FIG. 6 and FIG. 7).

【0040】ここで図3はこの溶液希釈装置における測
定結果を示す図であり、図中の白丸が硫酸で校正を行っ
ていない場合を示すもの(従来の方法)、黒丸がこの実
施の形態のように定期的に硫酸で校正を行ったものをそ
れぞれ示している。この図から明らかなように、この実
施の形態の溶液希釈装置によると、従来に比べて測定結
果にばらつきが殆ど見られず、測定精度が飛躍的に向上
していることが判る。このように、滴定用の硫酸試薬1
5aの濃度を高精度に測定し、この測定結果に応じて希
釈現像液13aの濃度を測定するので、極めて精度の良
い現像液濃度の測定を行い得、ひいては希釈現像液の希
釈濃度を高精度化し得る。
Here, FIG. 3 is a diagram showing the measurement results in this solution diluting apparatus, in which white circles show the case where calibration was not performed with sulfuric acid (conventional method), and black circles show the results of this embodiment. As shown in FIG. As is apparent from this figure, according to the solution diluting apparatus of this embodiment, there is almost no variation in the measurement results as compared with the prior art, and it can be seen that the measurement accuracy is dramatically improved. Thus, the sulfuric acid reagent 1 for titration
Since the concentration of the developer 5a is measured with high accuracy and the concentration of the diluted developer 13a is measured according to the measurement result, the developer concentration can be measured with extremely high accuracy. Can be

【0041】{実施の形態2}図4は本発明の実施の形
態2の溶液希釈装置を示す図である。なお、図4では実
施の形態1と同様の機能を有する要素については同一符
号を付している。実施の形態1では、硫酸試薬15aと
して濃度が0.1〜1.0Nの一般的なものを使用して
いたが、希釈現像液13aに対する滴定精度を高めるた
めには、硫酸試薬として希薄なものを使用する方が望ま
しい。ただし、硫酸タンク15内の硫酸試薬15aをそ
のままの状態で希薄なものを使用すればするほど、当量
点に達するまでに時間がかかってしまう。
Embodiment 2 FIG. 4 shows a solution diluting apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. In FIG. 4, elements having the same functions as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals. In the first embodiment, a general sulfuric acid reagent 15a having a concentration of 0.1 to 1.0 N is used. However, in order to enhance the titration accuracy with respect to the diluted developer 13a, a dilute sulfuric acid reagent is used. It is preferable to use. However, the longer the sulfuric acid reagent 15a in the sulfuric acid tank 15 is used as it is, the longer it takes to reach the equivalent point.

【0042】そこで、この実施の形態では、濃度が0.
1N未満の希薄な硫酸試薬15aを滴定の少なくとも最
終段階、すなわち後半段階で使用するとともに、これに
加えて濃度が0.1〜1.0Nの一般的な硫酸試薬18
aを滴定の初期段階で使用できるようにしたものであ
る。すなわち、この実施の形態の溶液希釈装置は、実施
の形態1で説明した構成の溶液希釈装置において濃度が
0.1N未満の希薄な硫酸試薬15aを使用するととも
に、実施の形態1で説明した構成の溶液希釈装置に加え
て、図4のように通常濃度の硫酸試薬18aを収納した
硫酸タンク18をさらに備えている。ここで、硫酸試薬
15aは一般的な硫酸試薬18aのビュレットとは別途
設けられたビュレットにより自動中和滴定分析装置14
内に滴下される。その他の構成、例えば希釈タンク13
の重量を重量計19で計測可能としている点、希釈タン
ク13を軽量な材料で構成している点、及びNaOH容
器16が使い捨て状にパッケージ化されている点等は、
全て実施の形態1と同様である。
Therefore, in this embodiment, the density is set to 0.
A dilute sulfuric acid reagent 15a of less than 1N is used at least in the final stage of the titration, that is, in the latter half of the titration, and in addition, a general sulfuric acid reagent 18 having a concentration of 0.1 to 1.0N is added.
a was used in the initial stage of titration. That is, the solution diluting apparatus according to the present embodiment uses the dilute sulfuric acid reagent 15a having a concentration of less than 0.1 N in the solution diluting apparatus having the configuration described in the first embodiment, and the configuration described in the first embodiment. 4, a sulfuric acid tank 18 containing a sulfuric acid reagent 18a having a normal concentration is further provided as shown in FIG. Here, the sulfuric acid reagent 15a is supplied to the automatic neutralization titration analyzer 14 by a burette separately provided from the burette of the general sulfuric acid reagent 18a.
It is dripped in. Other configurations, for example, dilution tank 13
Is that the weight of the dilution tank 13 can be measured by a weighing scale 19, that the dilution tank 13 is made of a lightweight material, and that the NaOH container 16 is packaged in a disposable form.
All are the same as in the first embodiment.

【0043】なお、この実施の形態では、2種類の濃度
の硫酸試薬18a,15aを使用するため、希釈現像液
13aを希釈硫酸試薬15aで滴定する第1の滴定処
理、及びNaOH溶液16aと希釈硫酸試薬15aとを
混合する第2の滴定処理以外に、NaOH溶液16aと
硫酸試薬18aとを混合する第3の滴定処理が必要とな
る。
In this embodiment, since two kinds of concentrations of the sulfuric acid reagents 18a and 15a are used, a first titration process in which the diluted developing solution 13a is titrated with the diluted sulfuric acid reagent 15a, and a dilution with the NaOH solution 16a In addition to the second titration process of mixing the sulfuric acid reagent 15a, a third titration process of mixing the NaOH solution 16a and the sulfuric acid reagent 18a is required.

【0044】すなわち、前述の第2の滴定処理の前後い
ずれかにおいて、第3の滴定処理として、使い捨て状に
パッケージ化されたNaOH容器16内のNaOH溶液
16aを適量だけ自動中和滴定分析装置14に導入し、
次いでpH電極等により等量点を検知するまで硫酸タン
ク18内の硫酸試薬18aを図示しないビュレットで滴
定する。ここで使用される硫酸試薬18aとしては、濃
度が0.1N以上かつ1.0N以下の一般的なものであ
る。
That is, before or after the second titration process, as a third titration process, an appropriate amount of the NaOH solution 16a in the disposable packaged NaOH container 16 is automatically neutralized by the titration analyzer 14 Introduced to
Next, the sulfuric acid reagent 18a in the sulfuric acid tank 18 is titrated with a buret (not shown) until an equivalent point is detected by a pH electrode or the like. The sulfuric acid reagent 18a used here is a general one having a concentration of 0.1N or more and 1.0N or less.

【0045】そして、当量点に達した時点で自動中和滴
定分析装置14が実施の形態1と同様の手順で希釈硫酸
試薬15aの濃度を正確に検出して表示する。
When the equivalence point is reached, the automatic neutralization titration analyzer 14 accurately detects and displays the concentration of the diluted sulfuric acid reagent 15a in the same procedure as in the first embodiment.

【0046】このようにして硫酸タンク18における硫
酸試薬18aの濃度を高精度に滴定(測定)した後、自
動中和滴定分析装置14内の溶液を廃棄しておく。
After the concentration of the sulfuric acid reagent 18a in the sulfuric acid tank 18 is titrated (measured) with high precision in this way, the solution in the automatic neutralization titration analyzer 14 is discarded.

【0047】また、かかる第3の滴定処理に前後して、
0.1N未満の濃度の希釈硫酸試薬15aを使用した第
2の滴定処理も済ませておく。
Before and after the third titration process,
The second titration treatment using the diluted sulfuric acid reagent 15a having a concentration of less than 0.1N has also been completed.

【0048】次に、第1の滴定処理については、重量計
19により希釈タンク13の重量を計測しながら水酸化
テトラメチルアンモニウム(TMAH)等のアルカリ系
水溶液を現像液11として希釈タンク13に導入すると
ともに、超純水12を希釈タンク13内に加えて現像液
11を希釈する。
Next, in the first titration process, an alkaline aqueous solution such as tetramethylammonium hydroxide (TMAH) is introduced into the dilution tank 13 as a developer 11 while measuring the weight of the dilution tank 13 with a weighing machine 19. At the same time, ultrapure water 12 is added into the dilution tank 13 to dilute the developer 11.

【0049】このとき、第1の導入管21を通じて希釈
タンク13内の希釈現像液13aを自動中和滴定分析装
置14内に導入し、次いで前述の硫酸試薬18aをビュ
レット等を通じて一定量だけ自動中和滴定分析装置14
内に滴下する。粗い精度でだいたい当量点に近似するま
で硫酸試薬18aを滴下し終えたら、その後、さらに希
薄硫酸タンク15内の希釈硫酸試薬15aをビュレット
等を通じて自動中和滴定分析装置14内に滴下する。こ
の希釈硫酸試薬15aの滴下作業はpH電極等で当量点
を検出するまで続けられる。
At this time, the diluted developer 13a in the dilution tank 13 is introduced into the automatic neutralization titration analyzer 14 through the first introduction pipe 21, and then the sulfuric acid reagent 18a described above is automatically supplied by a fixed amount through a burette or the like. Japanese titration analyzer 14
Drop into. After the dropping of the sulfuric acid reagent 18a with coarse accuracy until the approximate equivalent point is completed, the diluted sulfuric acid reagent 15a in the diluted sulfuric acid tank 15 is further dropped into the automatic neutralization titrator 14 through a burette or the like. The operation of dropping the diluted sulfuric acid reagent 15a is continued until an equivalent point is detected by a pH electrode or the like.

【0050】そして、当量点に達したとき、硫酸試薬1
8a及び希薄硫酸タンク15の各滴下量及び第2及び第
3の滴定処理で求められたそれぞれの濃度に基づいて希
釈現像液13aの濃度を演算する。
When the equivalent point is reached, the sulfuric acid reagent 1
The concentration of the diluted developer 13a is calculated based on the amount of each drop of the diluted sulfuric acid tank 8a and the diluted sulfuric acid tank 15 and the respective concentrations determined in the second and third titration processes.

【0051】その後、演算濃度を基に、目標とする濃度
測定精度を満足させるため、現像液11または超純水1
2を希釈タンク13へ再投入し、再度、自動中和滴定分
析装置14において希釈硫酸試薬15aを用いて濃度測
定する。このような手順の処理を何度か繰返すことによ
り、希釈現像液13aの濃度測定を必要な精度に調整す
る。最後に、調整された希釈現像液13aは供給タンク
17に移送して、現像液の希釈処理は完了する。
Thereafter, based on the calculated density, the developer 11 or the ultrapure water 1
2 is again charged into the dilution tank 13, and the concentration is measured again in the automatic neutralization titration analyzer 14 using the diluted sulfuric acid reagent 15a. By repeating the processing of such a procedure several times, the concentration measurement of the diluted developer 13a is adjusted to the required accuracy. Finally, the adjusted diluted developer 13a is transferred to the supply tank 17, and the process of diluting the developer is completed.

【0052】この実施の形態によると、硫酸試薬の導入
の初期段階においては硫酸タンク18中の通常濃度の硫
酸試薬18aを導入し、導入に要する時間の増大を防止
するとともに、後半において精度良く滴定を行う際に希
薄硫酸タンク15中の希薄硫酸試薬15aを徐々に加え
ていくことで、正確な滴定を行うことが可能となる。し
たがって、1種類の濃度の硫酸試薬のみを扱う場合(例
えば実施の形態1)に比べて、滴定に要する時間を増大
することなく測定精度を向上できる。
According to this embodiment, in the initial stage of the introduction of the sulfuric acid reagent, the sulfuric acid reagent 18a having a normal concentration in the sulfuric acid tank 18 is introduced to prevent an increase in the time required for the introduction, and to accurately titrate in the latter half. When performing the above, by gradually adding the dilute sulfuric acid reagent 15a in the dilute sulfuric acid tank 15, accurate titration can be performed. Therefore, the measurement accuracy can be improved without increasing the time required for titration as compared with the case where only one type of sulfuric acid reagent is used (for example, Embodiment 1).

【0053】{実施の形態3}図5は本発明の実施の形
態3の溶液希釈装置を示す図である。なお、図5では実
施の形態1と同様の機能を有する要素については同一符
号を付している。
Third Embodiment FIG. 5 is a view showing a solution diluting apparatus according to a third embodiment of the present invention. In FIG. 5, the same reference numerals are given to elements having the same functions as in the first embodiment.

【0054】実施の形態1では、自動中和滴定分析装置
14でNaOH溶液16aに対して硫酸試薬15aの滴
定を定期滴定に行うことで、硫酸タンク15内の硫酸試
薬15aの濃度を測定していたが、この実施の形態の溶
液希釈装置では、図5のように硫酸タンク15内の硫酸
試薬15aの一部を採取して比重計(密度計)31に移
送し、ここでの硫酸試薬15aの比重を計測することで
硫酸タンク15内の硫酸試薬15aの濃度を測定するも
のである。
In the first embodiment, the concentration of the sulfuric acid reagent 15a in the sulfuric acid tank 15 is measured by performing the periodic titration of the sulfuric acid reagent 15a on the NaOH solution 16a by the automatic neutralization titration analyzer 14. However, in the solution diluting apparatus of this embodiment, a part of the sulfuric acid reagent 15a in the sulfuric acid tank 15 is sampled and transferred to a hydrometer (densitometer) 31, as shown in FIG. Is measured to measure the concentration of the sulfuric acid reagent 15a in the sulfuric acid tank 15.

【0055】そして、この比重計31で計測した硫酸試
薬15aの濃度は、キーボードパネル等の図示しない入
力装置によって自動中和滴定分析装置14に数値入力
し、14ではここで入力された数値に基づいて希釈現像
液13aの濃度を演算する。
Then, the concentration of the sulfuric acid reagent 15a measured by the hydrometer 31 is numerically input to the automatic neutralization titration analyzer 14 by an input device (not shown) such as a keyboard panel, and is based on the numerical value input here. To calculate the concentration of the diluted developer 13a.

【0056】このように構成することで、自動中和滴定
分析装置14で希釈現像液13aに対して硫酸試薬15
aで滴定している間も、いつでも硫酸試薬15aの濃度
を測定できる。したがって、常に自動中和滴定分析装置
14での希釈現像液13aの濃度測定精度を高水準に維
持できる。
With this configuration, the sulfuric acid reagent 15 is added to the diluted developer 13a by the automatic neutralization titration analyzer 14.
The concentration of the sulfuric acid reagent 15a can be measured at any time during the titration with a. Therefore, the concentration measurement accuracy of the diluted developer 13a in the automatic neutralization titration analyzer 14 can always be maintained at a high level.

【0057】なお、この実施の形態では、比重計31で
の計測結果を自動中和滴定分析装置14に伝達する手段
としてキーボードパネル等の入力装置を使用している
が、これに代えて、比重計31での濃度計測結果を配線
ケーブルを通じて自動中和滴定分析装置14に直接入力
するようにしてもよいことは勿論である。
In this embodiment, an input device such as a keyboard panel is used as a means for transmitting the measurement result of the hydrometer 31 to the automatic neutralization titration analyzer 14. However, instead of this, a specific gravity is used. It goes without saying that the result of the concentration measurement by the total 31 may be directly input to the automatic neutralization titration analyzer 14 through the wiring cable.

【0058】{実施の形態4}上述した各実施の形態で
は、現像液の希釈工程においてその濃度精度を向上する
場合の例について述べたが、この発明は希釈現像液に限
られるものではなく、その他の酸またはアルカリ性試薬
を希釈して作製する場合にも適用できる。
Embodiment 4 In each of the embodiments described above, an example was described in which the concentration accuracy was improved in the step of diluting the developing solution. However, the present invention is not limited to the diluting developing solution. The present invention can also be applied to a case in which another acid or alkaline reagent is diluted and produced.

【0059】例えば、デバイス製造プロセス中の洗浄工
程等で使用するアンモニア水溶液等を希釈する場合、そ
の濃度を適正なものにするために硫酸、塩酸またはその
他の酸性試薬で滴定することになるが、この場合、これ
らの酸性試薬の濃度変化を高精度に測定するため、Na
OH、KOHまたはその他のアルカリ性試薬で滴定を行
う。なお、例えば希釈タンク13の重量を重量計19で
計測可能としている点、希釈タンク13を軽量な材料で
構成している点、及び容器16が使い捨て状にパッケー
ジ化されている点等は、全て実施の形態1と同様であ
る。
For example, when diluting an aqueous ammonia solution or the like used in a cleaning step or the like in a device manufacturing process, titration with sulfuric acid, hydrochloric acid, or another acidic reagent is performed to make the concentration appropriate. In this case, in order to measure the concentration change of these acidic reagents with high accuracy, Na
Titrate with OH, KOH or other alkaline reagents. For example, the point that the weight of the dilution tank 13 can be measured by the weighing scale 19, the point that the dilution tank 13 is made of a lightweight material, the point that the container 16 is packaged in a disposable shape, and the like are all This is the same as in the first embodiment.

【0060】この場合、図1(実施の形態1)に示した
ものと同一の構成の溶液希釈装置で目的物である希釈溶
液の濃度を高精度に測定できる。
In this case, the concentration of the objective diluting solution can be measured with high accuracy using a solution diluting apparatus having the same configuration as that shown in FIG. 1 (Embodiment 1).

【0061】すなわち、まず第2の滴定処理について、
使い捨て状にパッケージ化された容器16内のアルカリ
性試薬(NaOH、KOH等)16aを適量だけ自動中
和滴定分析装置14に導入し、次いでpH電極により等
量点を検知するまでタンク15内の硫酸、塩酸またはそ
の他の酸性試薬15aをビュレット等で滴定する。そし
て、当量点に達した時点で自動中和滴定分析装置14が
実施の形態1と同様の手順で酸性試薬15aの濃度を正
確に検出して表示する。このようにしてタンク15内の
酸性試薬15aの濃度を高精度に滴定(測定)した後、
自動中和滴定分析装置14内の溶液を廃棄しておく。
That is, first, in the second titration process,
An appropriate amount of an alkaline reagent (NaOH, KOH, etc.) 16a in a disposable packaged container 16 is introduced into the automatic neutralization titration analyzer 14, and then the sulfuric acid in the tank 15 is detected until an equivalent point is detected by a pH electrode. , Hydrochloric acid or another acidic reagent 15a is titrated with a burette or the like. Then, when the equivalent point is reached, the automatic neutralization titration analyzer 14 accurately detects and displays the concentration of the acidic reagent 15a in the same procedure as in the first embodiment. After titrating (measuring) the concentration of the acidic reagent 15a in the tank 15 with high accuracy in this manner,
The solution in the automatic neutralization titration analyzer 14 is discarded.

【0062】次に、第1の滴定処理については、希釈作
製の目的物であるアンモニア水溶液等のアルカリ系水溶
液(以下「溶液」という)11を希釈タンク13内で超
純水12で希釈し、希釈タンク13内の希釈溶液13a
を自動中和滴定分析装置14内に導入し、次いで前述の
硫酸試薬15aをビュレット等を通じて一定量だけ自動
中和滴定分析装置14内に滴下する。この酸性試薬15
aの滴下作業はpH電極等で当量点を検出するまで続け
られ、当量点に達したとき、硫酸試薬15a及びタンク
15の各滴下量及び第2及び第3の滴定処理で求められ
たそれぞれの濃度に基づいて希釈溶液13aの濃度を演
算する。
Next, in the first titration treatment, an alkaline aqueous solution (hereinafter referred to as “solution”) 11 such as an aqueous ammonia solution, which is an object of dilution production, is diluted with ultrapure water 12 in a dilution tank 13, Dilution solution 13a in dilution tank 13
Is introduced into the automatic neutralization titration analyzer 14, and then the sulfuric acid reagent 15a described above is dropped into the automatic neutralization titration analyzer 14 by a predetermined amount through a burette or the like. This acidic reagent 15
The dropping operation of a is continued until the equivalence point is detected with a pH electrode or the like. When the equivalence point is reached, the respective drop amounts of the sulfuric acid reagent 15a and the tank 15 and the respective amounts determined in the second and third titration treatments The concentration of the diluting solution 13a is calculated based on the concentration.

【0063】その後、演算濃度を基に、目標とする濃度
測定精度を満足させるため、溶液11または超純水12
を希釈タンク13へ再投入し、再度、自動中和滴定分析
装置14において酸性試薬15aを用いて濃度測定す
る。このような手順の処理を何度か繰返すことにより、
希釈溶液13aの濃度測定を必要な精度に調整する。最
後に、調整された希釈溶液13aは供給タンク17に移
送して、溶液の希釈処理は完了する。
Then, based on the calculated concentration, the solution 11 or the ultrapure water 12 is used to satisfy the target concentration measurement accuracy.
Is again charged into the dilution tank 13, and the concentration is measured again in the automatic neutralization titration analyzer 14 using the acidic reagent 15a. By repeating such a procedure several times,
The concentration measurement of the dilution solution 13a is adjusted to the required accuracy. Finally, the adjusted diluted solution 13a is transferred to the supply tank 17, and the solution diluting process is completed.

【0064】{実施の形態5}本発明の実施の形態5で
は、基本的構成が図8で示した従来の溶液希釈装置とほ
ぼ同一のものを使用しながら、滴定用の硫酸試薬の濃度
を定期的に測定することで、希釈現像液の滴定精度を向
上するものである。
Fifth Embodiment In a fifth embodiment of the present invention, the concentration of the sulfuric acid reagent for titration is adjusted while using the same basic structure as the conventional solution diluting apparatus shown in FIG. By performing the measurement periodically, the titration accuracy of the diluted developer is improved.

【0065】一般の希釈タンク3は、大容量かつ気密状
のものを使用していることから、希釈タンク3内で濃度
が調整されて希釈された後の希釈現像液1は、硫酸試薬
5よりも濃度の変化が極めて緩やかである。また、硫酸
試薬5についても、経時的変化により濃度が変化するも
のの、初期導入段階では濃度は規定値との誤差が殆ど見
られない。
Since the general dilution tank 3 is of a large capacity and airtight, the diluted developer 1 whose concentration has been adjusted and diluted in the dilution tank 3 is less than the sulfuric acid reagent 5. Also, the change in concentration is extremely slow. In addition, although the concentration of the sulfuric acid reagent 5 changes with the lapse of time, there is almost no difference between the concentration and the specified value in the initial introduction stage.

【0066】このような状況に着目すると、初期的には
硫酸試薬5で希釈現像液1の濃度を高精度に滴定し、そ
の後に時間とともに変化する硫酸試薬5の濃度について
は、先に濃度測定された希釈現像液1そのものを使用し
て検出することが可能であることがわかる。つまり、一
旦硫酸試薬5での滴定により高精度に濃度調整された希
釈現像液1を、結果物として供給タンク6に移送する直
前に、一定量だけ自動中和滴定分析装置4内に導入し、
この希釈現像液1に対して硫酸試薬5を滴下し、中和に
達するまでに導入した硫酸試薬5の量を計測する。これ
により、時間の経過とともに変化した硫酸試薬5の濃度
を高精度に計測することができる。
Focusing on this situation, initially, the concentration of the diluted developer 1 is titrated with the sulfuric acid reagent 5 with high accuracy, and then the concentration of the sulfuric acid reagent 5 that changes with time is measured first. It can be seen that the detection can be performed using the diluted developer 1 itself. That is, just before transferring the diluted developer 1 whose concentration has been adjusted with high accuracy by titration with the sulfuric acid reagent 5 to the supply tank 6 as a result, a certain amount is introduced into the automatic neutralization titration analyzer 4,
The sulfuric acid reagent 5 is dropped into the diluted developer 1 and the amount of the sulfuric acid reagent 5 introduced until neutralization is reached is measured. Thus, the concentration of the sulfuric acid reagent 5 that has changed with the passage of time can be measured with high accuracy.

【0067】そして、希釈タンク3内の希釈現像液1を
供給タンク6に移送した後、新たに現像液1を希釈タン
ク3内で希釈する際に、上記のように高精度に濃度計測
された硫酸試薬5を使用して、現像液1の希釈処理を高
精度に濃度調整しながら実行すればよい。
After the diluted developer 1 in the dilution tank 3 is transferred to the supply tank 6, when the developer 1 is newly diluted in the dilution tank 3, the concentration is measured with high precision as described above. The dilution process of the developing solution 1 may be performed while adjusting the concentration with high precision using the sulfuric acid reagent 5.

【0068】このようにすることによって、従来のもの
に対して装置構成を一切変更することなく、現像液1の
希釈濃度を高精度に調整できる。
By doing so, the dilution concentration of the developing solution 1 can be adjusted with high precision without changing the apparatus configuration at all.

【0069】{変形例}上記した実施の形態1及び実施
の形態2において、硫酸試薬の濃度分析を行う試薬とし
てNaOH溶液16aを使用していたが、KOH等の他
のアルカリ性試薬を使用してもよいことは勿論である。
[Modification] In Embodiments 1 and 2 described above, the NaOH solution 16a was used as the reagent for performing the concentration analysis of the sulfuric acid reagent, but another alkaline reagent such as KOH was used. Of course, it is good.

【0070】また、実施の形態2では、実施の形態1の
構成に加えて硫酸タンク18を新たに加えるものとして
説明したが、例えば実施の形態3の構成について硫酸試
薬15aとして希薄なものを使用し、これに濃度の一般
的な硫酸試薬18aが収納された硫酸タンク18を新た
に加えるものであってもよい。
In the second embodiment, the sulfuric acid tank 18 is newly added in addition to the structure of the first embodiment. For example, in the structure of the third embodiment, a dilute sulfuric acid reagent 15a is used. Then, a sulfuric acid tank 18 containing a general sulfuric acid reagent 18a having a concentration may be newly added thereto.

【0071】[0071]

【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、第1の
溶液に対して純水を加えて希釈する際に、中和滴定分析
部において、前記第2の溶液と第3の溶液との混合にお
ける当量点を求めて前記第2の溶液の濃度を定期的また
は随時計測し、この計測結果に基づいて、再び中和滴定
分析部において当該第2の溶液を使って記第1の溶液を
滴定しているので、第2の溶液の濃度が経時的に変化し
ても、変化した第2の溶液の濃度を正確に把握でき、故
に第1の溶液の滴定精度を高水準に維持できる。
According to the first aspect of the present invention, when the first solution is diluted by adding pure water, the second solution and the third solution are supplied to the neutralization titration analyzer. The concentration of the second solution is measured periodically or as needed by determining the equivalent point in mixing with the first solution, and based on the measurement result, the second solution is again used in the neutralization titration analyzer using the second solution. Since the solution is titrated, even if the concentration of the second solution changes with time, the changed concentration of the second solution can be accurately grasped, and thus the titration accuracy of the first solution is maintained at a high level. it can.

【0072】請求項2に記載の発明によれば、前記第3
のタンクを交換可能容器としているので、第2の容器の
濃度測定ごとに新たな第3のタンクを導入すれば、第2
の容器の濃度測定の精度を常に高水準に維持できる。
According to the second aspect of the present invention, the third
Is a replaceable container, a new third tank is introduced every time the concentration of the second container is measured.
The accuracy of the concentration measurement of the container can always be maintained at a high level.

【0073】請求項3に記載の発明によれば、第2の溶
液の濃度を比重計で計測し、この計測結果に基づいて、
当該第2の溶液を使って記第1の溶液を滴定しているの
で、第2の溶液の濃度が経時的に変化しても、変化した
第2の溶液の濃度を正確に把握でき、故に第1の溶液の
滴定精度を高水準に維持できる。
According to the third aspect of the invention, the concentration of the second solution is measured by a hydrometer, and based on the measurement result,
Since the first solution is titrated using the second solution, even if the concentration of the second solution changes over time, the changed concentration of the second solution can be accurately grasped. The titration accuracy of the first solution can be maintained at a high level.

【0074】請求項4及び請求項5に記載の発明によれ
ば、第1の溶液を第2の溶液で滴定する際に、初期段階
においては相対的に濃度の高い第4の溶液を導入し、導
入に要する時間の増大を防止するとともに、後半におい
て精度良く滴定を行う際に、相対的に濃度の低い第2の
溶液を徐々に加えていくことで、正確な滴定を行うこと
が可能となる。したがって、1種類の濃度の溶液のみを
用いて滴定する場合に比べて、滴定に要する時間を増大
することなく測定精度を向上できる。
According to the fourth and fifth aspects of the present invention, when the first solution is titrated with the second solution, the fourth solution having a relatively high concentration is introduced in the initial stage. In addition, it is possible to prevent an increase in the time required for introduction, and to perform accurate titration by gradually adding the second solution having a relatively low concentration when performing accurate titration in the second half. Become. Therefore, the measurement accuracy can be improved without increasing the time required for titration, as compared with the case where titration is performed using only one type of solution.

【0075】請求項6に記載の発明によれば、第1のタ
ンクの重量を重量計で計測しながら第1の溶液を希釈す
る場合、第1のタンクとして軽量材料を使用しているの
で、重量を正確に計測できる。したがって、第2の溶液
で滴定を行う前段階において、第1の溶液の濃度を所望
の濃度値に対してある程度近似させることができ、故に
第2の溶液を用いた滴定処理を短時間で済ますことが濃
度となる。
According to the sixth aspect of the present invention, when diluting the first solution while measuring the weight of the first tank with a weighing scale, a lightweight material is used as the first tank. We can measure weight accurately. Therefore, before performing the titration with the second solution, the concentration of the first solution can be approximated to a desired concentration value to some extent, so that the titration process using the second solution can be completed in a short time. That is the concentration.

【0076】請求項7及び請求項8に記載の発明によれ
ば、半導体装置の製造工程中のレジスト工程において使
用される現像液は、その濃度調整を精度良く行う必要が
あるため、上記した第1の溶液としてこの現像液を適用
すると、半導体装置の製造分野における有用性が極めて
高いものとなる。
According to the seventh and eighth aspects of the present invention, since the concentration of the developing solution used in the resist process in the manufacturing process of the semiconductor device needs to be adjusted with high accuracy, the above-mentioned developing solution is used. When this developer is applied as the solution (1), the utility in the field of manufacturing semiconductor devices becomes extremely high.

【0077】請求項9ないし請求項11に記載の発明に
よれば、経時的に濃度変化を起す第2の溶液(酸性試
薬)について、濃度変化を起す前の初期状態で第1の溶
液(現像液)を繰返し滴定しつつ第1の溶液を所望の濃
度に希釈し、ここで所望の濃度に調整された前記第1の
溶液の一部と前記第2の溶液(酸性試薬)の一部とをそ
れぞれ採取して中和させ、そのときの前記両溶液の導入
量から前記第2の溶液の濃度変化を計測するようにして
いるので、時間の経過とともに変化した第2の溶液の濃
度を高精度に計測することができる。そして、再び第1
の試薬を滴定する際に、上記のように高精度で測定した
第2の溶液を使用することで、第1の滴定精度を大幅に
向上できるという効果がある。
According to the ninth to eleventh aspects of the present invention, with respect to the second solution (acidic reagent) having a concentration change with time, the first solution (development) in the initial state before the concentration change occurs. Liquid), the first solution is diluted to a desired concentration while repeatedly titrating, and a part of the first solution and a part of the second solution (acidic reagent) adjusted to the desired concentration are mixed here. And neutralized, and the change in the concentration of the second solution is measured from the amounts of the two solutions introduced at that time, so that the concentration of the second solution that has changed over time is increased. It can be measured with high accuracy. And again the first
The use of the second solution measured with high accuracy as described above when titrating the reagent (1) has an effect that the first titration accuracy can be greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1の溶液希釈装置の全体
を示す原理図である。
FIG. 1 is a principle diagram showing an entire solution diluting apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態1の溶液希釈装置におけ
る自動中和滴定分析装置の詳細を示す原理図である。
FIG. 2 is a principle diagram showing details of an automatic neutralization titration analyzer in the solution dilution device according to the first embodiment of the present invention.

【図3】 本発明の実施の形態1の溶液希釈装置におけ
る測定結果を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a measurement result in the solution diluting apparatus according to the first embodiment of the present invention.

【図4】 本発明の実施の形態2の溶液希釈装置の全体
を示す原理図である。
FIG. 4 is a principle view showing an entire solution diluting apparatus according to Embodiment 2 of the present invention.

【図5】 本発明の実施の形態3の溶液希釈装置の全体
を示す原理図である。
FIG. 5 is a principle view showing an entire solution diluting apparatus according to Embodiment 3 of the present invention.

【図6】 一般的なレジスト工程を示す図である。FIG. 6 is a view showing a general resist process.

【図7】 一般的なレジスト工程を示す図である。FIG. 7 is a view showing a general resist process.

【図8】 従来の溶液希釈装置の全体を示す原理図であ
る。
FIG. 8 is a principle view showing the whole of a conventional solution diluting apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 現像液、2 超純水、3 希釈タンク、4 自動中
和滴定分析装置、5硫酸試薬、6 供給タンク、11
現像液、12 超純水、13 希釈タンク、13a 希
釈現像液、14 自動中和滴定分析装置、15 硫酸タ
ンク、15a硫酸試薬、16 NaOH容器、16a
NaOH溶液、17 供給タンク、18 硫酸タンク、
18a 硫酸試薬、19 重量計、21 第1の導入
管、22 第2の導入管、23 計量管、24 第3の
導入管、25 ビュレット、26 滴定セル、27 p
H電極、28 バルブ、29 バルブ制御装置、30濃
度演算表示部、31 比重計。
1 developer, 2 ultrapure water, 3 dilution tank, 4 automatic neutralization titration analyzer, 5 sulfuric acid reagent, 6 supply tank, 11
Developer, 12 ultrapure water, 13 dilution tank, 13a dilution developer, 14 automatic neutralization titration analyzer, 15 sulfuric acid tank, 15a sulfuric acid reagent, 16 NaOH container, 16a
NaOH solution, 17 supply tank, 18 sulfuric acid tank,
18a sulfuric acid reagent, 19 weighing scale, 21 first inlet tube, 22 second inlet tube, 23 measuring tube, 24 third inlet tube, 25 burette, 26 titration cell, 27 p
H electrode, 28 valves, 29 valve control unit, 30 concentration calculation display unit, 31 hydrometer.

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の第1の溶液に対して純水を加えて
希釈するための第1のタンクと、 希釈された前記第1の溶液に対して滴定を施すための第
2の溶液が予め収納される第2のタンクと、 前記第2の溶液との混合における当量点を求めることで
前記第2の溶液の濃度を計測するための第3の溶液が予
め収納される第3のタンクと、 前記第2の溶液と前記第3の溶液の混合における当量点
を求めることで前記第2の溶液の濃度を計測するととも
に、計測された前記第2の溶液の濃度に基づいて、当該
第2の溶液で、希釈された前記第1の溶液を滴定する中
和滴定分析部とを備えることを特徴とする溶液希釈装
置。
1. A first tank for adding pure water to a predetermined first solution to dilute the first solution, and a second solution for titrating the diluted first solution comprises: A second tank to be stored in advance, and a third tank to store in advance a third solution for measuring the concentration of the second solution by determining an equivalent point in mixing with the second solution. And measuring the concentration of the second solution by obtaining an equivalent point in the mixing of the second solution and the third solution, and based on the measured concentration of the second solution, A neutralization titration analyzer for titrating the first solution diluted with the second solution.
【請求項2】 請求項1に記載の溶液希釈装置であっ
て、前記第3のタンクは、前記第2の溶液の濃度を計測
するたびに前記第3の溶液ごと廃棄交換される交換可能
容器とされたことを特徴とする溶液希釈装置。
2. The replaceable container according to claim 1, wherein the third tank is disposed and replaced together with the third solution every time the concentration of the second solution is measured. A solution diluting device, characterized in that:
【請求項3】 所定の第1の溶液に対して純水を加えて
希釈するための第1のタンクと、 希釈された前記第1の溶液に対して滴定を施すための第
2の溶液が予め収納される第2のタンクと、 前記第2の溶液の濃度を計測するための比重計と、 前記比重計で計測された前記第2の溶液の濃度に基づい
て、当該第2の溶液で、希釈された前記第1の溶液を滴
定する中和滴定分析部とを備えることを特徴とする溶液
希釈装置。
3. A first tank for adding pure water to a predetermined first solution to dilute the first solution, and a second solution for titrating the diluted first solution is provided. A second tank to be stored in advance, a hydrometer for measuring the concentration of the second solution, and a second solution based on the concentration of the second solution measured by the hydrometer. And a neutralization titration analyzer for titrating the diluted first solution.
【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれかに記
載の溶液希釈装置であって、 前記第2の溶液と同材料でありかつ当該第2の溶液より
濃度の高い第4の溶液が予め収納される第4のタンクを
さらに備え、 前記中和滴定分析部は、前記第1の溶液の滴定作業にお
ける初期段階において前記第4の溶液を滴下するととも
に、前記第1の溶液の滴定作業における後半段階におい
て前記第2の溶液を滴下するよう、前記第2の溶液及び
前記第4の溶液の両方を選択的に滴下切換可能とされた
ことを特徴とする溶液希釈装置。
4. The solution diluting device according to claim 1, wherein a fourth solution of the same material as the second solution and having a higher concentration than the second solution is used. The apparatus further comprises a fourth tank stored in advance, wherein the neutralization titration analyzer drops the fourth solution in an initial stage of the first solution titration operation, and performs the first solution titration operation. Wherein both of the second solution and the fourth solution can be selectively switched so as to drop the second solution in the latter half of the step.
【請求項5】 請求項4に記載の溶液希釈装置であっ
て、 前記第2の溶液は、濃度が0.1N未満の硫酸試薬であ
り、 前記第4の溶液は、濃度が0.1N以上かつ1.0N以
下の硫酸試薬であることを特徴とする溶液希釈装置。
5. The solution diluting apparatus according to claim 4, wherein the second solution is a sulfuric acid reagent having a concentration of less than 0.1N, and the fourth solution is having a concentration of 0.1N or more. And a sulfuric acid reagent of 1.0N or less.
【請求項6】 請求項1ないし請求項5のいずれかに記
載の溶液希釈装置であって、 前記溶液希釈装置は、前記第1のタンクの重量を計測す
る重量計をさらに備え、 前記第1のタンクは、内部に収納される希釈された前記
第1の溶液に対して可及的に比重の軽い軽量材料が使用
されることを特徴とする溶液希釈装置。
6. The solution diluting device according to claim 1, wherein the solution diluting device further includes a weighing scale for measuring a weight of the first tank. The liquid diluting apparatus is characterized in that a lighter material having a specific gravity as light as possible is used for the diluted first solution contained in the tank.
【請求項7】 請求項1ないし請求項6のいずれかに記
載の溶液希釈装置であって、 前記第1の溶液は半導体装置の製造工程中のレジスト工
程において使用される現像液であり、 前記第2の溶液は中和点より水素イオン濃度の高い酸性
試薬であることを特徴とする溶液希釈装置。
7. The solution diluting device according to claim 1, wherein the first solution is a developer used in a resist process in a semiconductor device manufacturing process. The solution diluting apparatus, wherein the second solution is an acidic reagent having a higher hydrogen ion concentration than the neutralization point.
【請求項8】 請求項1または請求項2に記載の溶液希
釈装置であって、 前記第1の溶液は半導体装置の製造工程中のレジスト工
程において使用される現像液であり、 前記第2の溶液は中和点より水素イオン濃度の高い酸性
試薬であり、 前記第3の溶液は中和点より水素イオン濃度の低いアル
カリ性試薬であることを特徴とする溶液希釈装置。
8. The solution diluting apparatus according to claim 1, wherein the first solution is a developing solution used in a resist process in a semiconductor device manufacturing process, and the second solution is The solution diluting apparatus, wherein the solution is an acidic reagent having a higher hydrogen ion concentration than the neutralization point, and the third solution is an alkaline reagent having a lower hydrogen ion concentration than the neutralization point.
【請求項9】 希釈された第1の溶液の濃度を、経時的
に濃度変化を起す所定の第2の溶液で滴定しながら調整
する溶液濃度調整方法であって、 濃度変化を起す前の初期状態の前記第2の溶液を用いて
前記第1の溶液を繰返し滴定しつつ前記第1の溶液を所
望の濃度に希釈し調整する第1の工程と、 前記所望の濃度に調整された前記第1の溶液の一部と前
記第2の溶液の一部とをそれぞれ採取して中和させ、そ
のときの前記両溶液の導入量から前記第2の溶液の濃度
変化を計測する第2の工程とを備えることを特徴とする
溶液濃度調整方法。
9. A solution concentration adjusting method for adjusting the concentration of a diluted first solution while titrating it with a predetermined second solution that causes a change in concentration over time, wherein the initial concentration before the change in concentration is adjusted. A first step of diluting and adjusting the first solution to a desired concentration while repeatedly titrating the first solution using the second solution in a state, and the second step adjusted to the desired concentration. A second step of collecting and neutralizing a part of the first solution and a part of the second solution, respectively, and measuring a change in the concentration of the second solution from the introduction amounts of the two solutions at that time And a method for adjusting a solution concentration.
【請求項10】 請求項9に記載の溶液濃度調整方法で
あって、 前記第1の溶液は半導体装置の製造工程中のレジスト工
程において使用される現像液であり、 前記第2の溶液は中和点より水素イオン濃度の高い酸性
試薬であることを特徴とする溶液濃度調整方法。
10. The solution concentration adjusting method according to claim 9, wherein the first solution is a developer used in a resist process in a semiconductor device manufacturing process, and the second solution is a medium. A method for adjusting the concentration of a solution, characterized in that the acidic reagent has a higher hydrogen ion concentration than the sum point.
【請求項11】 所定の基板の上面にレジストを塗布す
る第1のパターン形成工程と、前記レジストの上方にマ
スキングを行う第2のパターン形成工程と、所定の処理
により前記レジストの一部の構造を変化させる第3のパ
ターン形成工程と、構造が変化した前記レジストのみま
たは構造が変化しなかった前記レジストストのみについ
て所定のアルカリ性現像液によって可溶化する第4のパ
ターン形成工程とを備えるパターン形成方法において、 前記第4の工程の前工程として、希釈された前記現像液
の濃度を、経時的に濃度変化を起す所定の酸性試薬で滴
定しながら調整する溶液濃度調整工程をさらに備え、 前記溶液濃度調整工程は、 濃度変化を起す前の初期状態の前記第2の溶液を用いて
前記第1の溶液を繰返し滴定しつつ前記第1の溶液を所
望の濃度に希釈し調整する第1の工程と、 前記所望の濃度に調整された前記第1の溶液の一部と前
記第2の溶液の一部とをそれぞれ採取して中和させ、そ
のときの前記両溶液の導入量から前記第2の溶液の濃度
変化を計測する第2の工程とを備えることを特徴とする
パターン形成方法。
11. A first pattern forming step of applying a resist on the upper surface of a predetermined substrate, a second pattern forming step of masking above the resist, and a partial structure of the resist by a predetermined process. Forming a third pattern and a fourth pattern forming step of solubilizing only the resist having a changed structure or only the resist having a unchanged structure with a predetermined alkaline developer. In the method, as a step before the fourth step, the method further comprises a solution concentration adjusting step of adjusting the concentration of the diluted developer by titrating with a predetermined acidic reagent causing a concentration change with time, In the concentration adjusting step, the first solution is repeatedly titrated using the second solution in an initial state before a concentration change occurs, while the first solution is being titrated. A first step of diluting and adjusting the solution to a desired concentration; and collecting and neutralizing a part of the first solution and a part of the second solution adjusted to the desired concentration, respectively. A second step of measuring a change in the concentration of the second solution from the amounts of introduction of the two solutions at that time.
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