JPH10292118A - Resin composition for sealing electronic parts and sealed electronic part - Google Patents

Resin composition for sealing electronic parts and sealed electronic part

Info

Publication number
JPH10292118A
JPH10292118A JP29475197A JP29475197A JPH10292118A JP H10292118 A JPH10292118 A JP H10292118A JP 29475197 A JP29475197 A JP 29475197A JP 29475197 A JP29475197 A JP 29475197A JP H10292118 A JPH10292118 A JP H10292118A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
inorganic filler
sealing
red phosphorus
inorganic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP29475197A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Otsu
正明 大津
Shinji Hashimoto
眞治 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP29475197A priority Critical patent/JPH10292118A/en
Publication of JPH10292118A publication Critical patent/JPH10292118A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject resin composition having excellent moisture- resistant reliability and moldability, by making the resin composition include a polyphenylene sulfide(PPS), an inorganic ion exchange material, a surface- coated red phosphorus or silicon powder and a specified inorganic filler. SOLUTION: The objective composition is produced including (A) 100 pts.wt. of PPS containing the recurring unit of the formula as the main constituent unit and preferably having a melting point of >=260 deg.C and a melt viscosity of 50-500 poise, (B) 0.5-5 pts.wt. of an inorganic ion exchange material preferably expressed by the formula Sba Bib Oc (OH)d (NO3 )e .nH2 O ((a) and (b) are each 1-2; (c) is 1-7; (d) is 0.2-3; (e) is 0.05-3; (n) is 0-2), (C) 0.1-10 pts.wt. of surface-coated red phosphorus and/or silicon powder and (D) 20-500 pts.wt. of an inorganic filler at a volume fraction of >=75% in a molded article produced by the compression molding of the inorganic filler under a pressure to keep the original average particle diameter of the inorganic filler even after the compression molding.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、LSI、IC、ハ
イブリッドIC、トランジスター、ダイオード、キャパ
シター、サイリスター、コイル、トランス、コネクタ
ー、センサー、水晶発振器、電源スイッチ類等やこれら
のハイブリッド部品など、電子部品の封止に用いられる
電子部品封止用樹脂組成物、及びこの電子部品封止用樹
脂組成物を用いてこれらの電子部品を封止した封止電子
部品に関するものである。
The present invention relates to electronic components such as LSIs, ICs, hybrid ICs, transistors, diodes, capacitors, thyristors, coils, transformers, connectors, sensors, crystal oscillators, power switches, etc., and hybrid components thereof. The present invention relates to an electronic component encapsulating resin composition used for encapsulation, and an electronic component encapsulating these electronic components using the electronic component encapsulating resin composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、電子部品の封止にはエポキシ樹脂
等の熱硬化性樹脂が用いられてきたが、熱硬化性樹脂は
硬化に時間がかかるため成形サイクルが長く生産性が悪
いこと、成形時に発生するスプルやランナーの再生が出
来ず、材料の利用効率が低いこと、等の欠点が指摘され
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, thermosetting resins such as epoxy resins have been used for encapsulating electronic components. However, thermosetting resins take a long time to cure, so that molding cycles are long and productivity is poor. It has been pointed out that sprues and runners generated during molding cannot be regenerated, and the efficiency of material utilization is low.

【0003】一方、熱硬化性樹脂のこれらの欠点を解消
するために、ポリフェニレンスルフイド(以下PPSと
略記)や液晶ポリマー(以下LCPと略記)等の熱可塑
性樹脂組成物を電子部品封止用樹脂組成物として用いる
ことが、特公平7−98901号公報、特開平7−33
1036号公報、特開昭62−150752号公報等で
提案されている。
On the other hand, in order to solve these disadvantages of the thermosetting resin, a thermoplastic resin composition such as polyphenylene sulfide (hereinafter abbreviated as PPS) or liquid crystal polymer (hereinafter abbreviated as LCP) is sealed with an electronic component. Can be used as a resin composition for use in Japanese Patent Publication No. 7-98901 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-33.
No. 1036, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-150752, and the like.

【0004】しかしながら、LCP樹脂組成物系は成形
時の溶融粘度が高いため、ボンディング用金線等のワイ
ヤーが樹脂の流動によって流されて変形するスイープが
発生したり、ワイヤーの断線が発生したりする成形不良
が発生し易く、さらに電子部品のリードフレームや素子
への密着性が劣るという問題があり、更に、分子構造が
ポリエステルであるのでPCT(プレッシャークッカー
テスト)等の信頼性加速試験に供すると、分子が加水分
解して耐湿信頼性が大きく低下するという問題があっ
た。
However, since the LCP resin composition has a high melt viscosity at the time of molding, a wire such as a gold wire for bonding is caused to flow by the flow of the resin, thereby causing a sweep or deformation of the wire, or a wire breakage. In addition, there is a problem that molding defects are likely to occur, and the adhesion of electronic components to lead frames and elements is poor. In addition, since the molecular structure is polyester, it is used for reliability acceleration tests such as PCT (pressure cooker test). Then, there is a problem that the molecules are hydrolyzed, and the moisture resistance reliability is greatly reduced.

【0005】また、PPS樹脂組成物で封止した封止電
子部品についても耐湿信頼性は不十分であり、特にPP
S樹脂組成物系にはイオン性不純物(Cl、Na等)が
多く含まれているので、封止電子部品の耐湿信頼性を高
めることが困難であった。一方、本発明者等は特開昭6
2−36461号公報で、PPSに無機イオン交換体を
配合することによって、イオン性不純物の少ない樹脂組
成物を提供している。しかしこの樹脂組成物を用いて封
止した封止電子部品は、信頼性加速試験のPCTでは実
用レベルの耐湿信頼性を得ることができるものの、バイ
アス電圧をかけて試験を行なうTHB(Tempera
ture Humidity Bias)のような信頼
性加速試験では、高い耐湿信頼性を得ることは困難であ
った。
[0005] Also, sealed electronic components sealed with a PPS resin composition have insufficient moisture resistance reliability.
Since the S resin composition system contains a large amount of ionic impurities (such as Cl and Na), it has been difficult to increase the moisture resistance reliability of the sealed electronic component. On the other hand, the present inventors have disclosed in
In JP-A-2-36461, a resin composition with less ionic impurities is provided by blending an inorganic ion exchanger with PPS. However, although the encapsulated electronic component sealed with this resin composition can obtain a practical level of humidity resistance reliability in the PCT of the accelerated reliability test, a THB (Tempera) that performs the test by applying a bias voltage is used.
In a reliability accelerated test such as T. Humidity Bias, it was difficult to obtain high humidity resistance reliability.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、熱可塑
性樹脂を電子部品封止用樹脂組成物として用いることに
は、解決すべき課題が多く、未だに実用化されていない
のが現状である。本発明は上記の点に鑑みてなされたも
のであり、耐湿信頼性や成形性に優れた熱可塑性樹脂の
電子部品封止用樹脂組成物及び封止電子部品を提供する
ことを目的とするものである。
As described above, the use of a thermoplastic resin as a resin composition for encapsulating electronic components has many problems to be solved, and at present it has not been put to practical use yet. . The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to provide a resin composition for sealing electronic components of a thermoplastic resin having excellent moisture resistance reliability and moldability, and a sealed electronic component. It is.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明に係る電子部品封
止用樹脂組成物は、ポリフェニレンスルフィドを100
重量、無機イオン交換体を0.5〜5重量部、表面被覆
された赤リンとシリコンパウダーのうち少なくとも一方
を0.1〜10重量部、圧縮成形前の無機充填材の平均
粒子径が圧縮成形後も保持される圧力で、無機充填材を
圧縮成形して得られる成形体における無機充填材の体積
分率が75%以上の無機充填材を20〜500重量部配
合して成ることを特徴とするものである。
The resin composition for encapsulating an electronic component according to the present invention comprises polyphenylene sulfide of 100%.
Weight, 0.5 to 5 parts by weight of inorganic ion exchanger, 0.1 to 10 parts by weight of at least one of red phosphorus and silicon powder coated on the surface, average particle size of inorganic filler before compression molding is compressed It is characterized by comprising 20 to 500 parts by weight of an inorganic filler having a volume fraction of 75% or more in a molded body obtained by compression-molding the inorganic filler at a pressure maintained after molding. It is assumed that.

【0008】また請求項2の発明は、ポリフェニレンス
ルフィドは、次に示す繰り返し単位を主構成単位とする
ポリマーであり、
According to a second aspect of the present invention, the polyphenylene sulfide is a polymer having the following repeating unit as a main structural unit:

【0009】[0009]

【化2】 Embedded image

【0010】融点が260℃以上、溶融粘度が50〜5
00ポイズ(温度300℃、剪断速度1000(1/
秒)で測定)のものであることを特徴とするものであ
る。また請求項3の発明は、無機イオン交換体は、 Sba Bib c (OH)d (NO3 e ・nH2 O (但し、a,bはそれぞれ1〜2、cは1〜7、dは
0.2〜3、eは0.05〜3、nは0〜2)の一般式
で示されるものであることを特徴とするものである。
The melting point is 260 ° C. or higher, and the melt viscosity is 50 to 5
00 poise (temperature 300 ° C, shear rate 1000 (1 /
(Measured in seconds). According to a third aspect of the present invention, the inorganic ion exchanger is Sb a Bi b O c (OH) d (NO 3 ) e · nH 2 O (where a and b are 1-2 and c is 1-7, respectively). , D is 0.2 to 3, e is 0.05 to 3, and n is 0 to 2).

【0011】また請求項4の発明は、赤リンはフェノー
ル樹脂及び水酸化アルミニウムで表面被覆がされている
ことを特徴とするものである。また請求項5の発明は、
赤リンはスチレン樹脂及び水酸化アルミニウムで表面被
覆がされていることを特徴とするものである。また請求
項6の発明は、赤リンはTiO2 で表面被覆がされてい
ることを特徴とするものである。
The invention according to claim 4 is characterized in that red phosphorus is surface-coated with a phenol resin and aluminum hydroxide. The invention of claim 5 is
Red phosphorus is characterized in that its surface is coated with a styrene resin and aluminum hydroxide. The invention according to claim 6 is characterized in that red phosphorus is surface-coated with TiO 2 .

【0012】また請求項7の発明は、シリコンパウダー
は最大粒径が200μm以下であることを特徴とするも
のである。また請求項8の発明は、シリコンパウダーは
グリシジル基含有のものであることを特徴とするもので
ある。また請求項9の発明は、シリコンパウダーはメタ
クリル基含有のものであることを特徴とするものであ
る。
According to a seventh aspect of the present invention, the silicon powder has a maximum particle size of 200 μm or less. The invention of claim 8 is characterized in that the silicon powder contains a glycidyl group. The invention according to claim 9 is characterized in that the silicon powder has a methacryl group.

【0013】また請求項10の発明は、無機充填材は非
晶質シリカであることを特徴とするものである。また請
求項11の発明は、無機充填材は、無機充填材中に体積
分率で40〜90%の範囲で結晶シリカを含むものであ
ることを特徴とするものである。また請求項12の発明
は、無機充填材は、無機充填材中に体積分率で30〜1
00%の範囲で球状アルミナを含むものであることを特
徴とするものである。
[0013] The invention according to claim 10 is characterized in that the inorganic filler is amorphous silica. The invention according to claim 11 is characterized in that the inorganic filler contains crystalline silica in a volume fraction of 40 to 90% in the inorganic filler. According to a twelfth aspect of the present invention, the inorganic filler has a volume fraction of 30 to 1 in the inorganic filler.
It is characterized by containing spherical alumina in the range of 00%.

【0014】また請求項13の発明は、無機充填材は合
成シリカであることを特徴とするものである。さらに、
本発明に係る封止電子部品は、上記の電子部品封止用樹
脂組成物で封止して成ることを特徴とするものである。
The invention of claim 13 is characterized in that the inorganic filler is synthetic silica. further,
A sealed electronic component according to the present invention is characterized by being sealed with the above-described resin composition for electronic component sealing.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。本発明において用いるポリフェニレンスルフィド
(PPS)は、上記の「化2」に示すp−フェニレンス
ルフィドを主たる繰り返し単位として構成されるポリマ
ーであり、融点が260℃以上、溶融粘度が50〜50
0ポイズ(温度300℃、剪断速度1000(1/秒)
で測定)のものが好ましい。融点が260℃未満のPP
Sは分子量が小さく、封止樹脂の機械的強度が弱くなる
ので好ましくない。PPSの融点の上限は特に限定され
ないが、290℃程度が実用上の上限である。またPP
Sの溶融粘度が50ポイズ未満であると、PPSの分子
量が小さく、封止樹脂の機械的強度が弱くなるので好ま
しくない。逆にPPSの溶融粘度が500ポイズを超え
ると、成形流動性が悪くなり、成形時にワイヤーにスイ
ープを起こしたり断線を生じたりするおそれがあるので
好ましくない。
Embodiments of the present invention will be described below. The polyphenylene sulfide (PPS) used in the present invention is a polymer composed of p-phenylene sulfide as a main repeating unit shown in the above “Chemical Formula 2”, and has a melting point of 260 ° C. or more and a melt viscosity of 50 to 50.
0 poise (temperature 300 ° C, shear rate 1000 (1 / sec))
Is preferred. PP with a melting point of less than 260 ° C
S is not preferred because it has a small molecular weight and weakens the mechanical strength of the sealing resin. Although the upper limit of the melting point of PPS is not particularly limited, about 290 ° C. is a practical upper limit. Also PP
If the melt viscosity of S is less than 50 poise, the molecular weight of PPS is small, and the mechanical strength of the sealing resin is undesirably reduced. Conversely, if the melt viscosity of PPS exceeds 500 poise, molding fluidity deteriorates, and the wire may be swept or broken during molding, which is not preferable.

【0016】本発明で用いるPPSはp−フェニレンス
ルフィドの繰り返し単位を70重量%以上、好ましくは
90重量%以上含むものであれば、他の構成単位と共重
合されたものが併用されていてもよい。このような他の
構成単位としてはm−フェニレンスルフィドなどがあ
る。また本発明で用いるPPSは、PPSに含まれるC
lやNa等のイオン性不純物を予め少量にしておく必要
はないが、PPSを純水で抽出したときの電気伝導度が
50μS/cm以下のものを用いるのが好ましい。
As long as the PPS used in the present invention contains 70% by weight or more, preferably 90% by weight or more of the repeating unit of p-phenylene sulfide, it may be used in combination with other structural units. Good. Such other structural units include m-phenylene sulfide. The PPS used in the present invention is CPS contained in the PPS.
It is not necessary to reduce the amount of ionic impurities such as 1 and Na in advance, but it is preferable to use one having an electric conductivity of 50 μS / cm or less when PPS is extracted with pure water.

【0017】また本発明において無機イオン交換体とし
ては、ゼオライト、ハイドロタルサイト、チタニアや、
次の一般式で示されるものなどを用いることができる
が、中でも次の一般式で示されるものを用いるのが好ま
しい。 Sba Bib c (OH)d (NO3 e ・nH2 O (但し、一般式中のa,bはそれぞれ1〜2、cは1〜
7、dは0.2〜3、eは0.05〜3、nは0〜2で
ある) この無機イオン交換体をPPSと配合することによっ
て、PPSに含有されるイオン性不純物や、PCT処理
したときに加水分解されるイオンを吸着して捕捉し、封
止樹脂の耐湿信頼性の低下を防ぐと共に、封止電子部品
のアルミニウム配線の腐食を抑制することができるもの
である。無機イオン交換体の配合量は、PPS100重
量部に対して0.5〜5重量部の範囲が好ましい。無機
イオン交換体の配合量が0.5重量部未満であると、イ
オンの吸着・捕捉の効果を十分に得ることができない。
しかし逆に無機イオン交換体の配合量が5重量部を超え
ると、バイアス電圧のかかるTHBやUSPCBT(U
nsaturated Pressure Cooke
r Bias Test)のような耐湿信頼性の加速試
験では、無機イオン交換体がイオン化するために、却っ
て耐湿信頼性の極端な悪化が生じるおそれがある。
In the present invention, examples of the inorganic ion exchanger include zeolite, hydrotalcite, titania, and the like.
Although those represented by the following general formula can be used, it is particularly preferable to use those represented by the following general formula. Sb a Bi b O c (OH) d (NO 3 ) e · nH 2 O (where a and b in the general formula are 1-2 and c is 1 to 2, respectively)
7, d is 0.2-3, e is 0.05-3, and n is 0-2) By blending this inorganic ion exchanger with PPS, ionic impurities contained in PPS, PCT It is capable of adsorbing and capturing ions hydrolyzed during the treatment, preventing a reduction in the moisture resistance reliability of the sealing resin, and suppressing corrosion of the aluminum wiring of the sealing electronic component. The compounding amount of the inorganic ion exchanger is preferably in the range of 0.5 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of PPS. If the amount of the inorganic ion exchanger is less than 0.5 part by weight, the effect of adsorbing and trapping ions cannot be sufficiently obtained.
Conversely, if the amount of the inorganic ion exchanger exceeds 5 parts by weight, THB or USPCBT (U.
nsaturated Pressure Cooke
In an accelerated test for moisture resistance reliability such as (R Bias Test), the inorganic ion exchanger may be ionized, which may rather cause extreme deterioration in humidity resistance reliability.

【0018】ここで、PPSは元々、非常に難燃性に優
れるので、あえて難燃剤を配合する必要はないのである
が、本発明は無機イオン交換体と併用して難燃剤として
知られる、表面被覆された赤リン及び/又はシリコンパ
ウダーを配合することによって、バイアス電圧のかかる
THBやUSPCBTのような耐湿信頼性の加速試験で
も、耐湿信頼性が悪化したり、封止電子部品のアルミニ
ウム配線に腐食が生じたりすることを抑制することがで
きるという、従来予測できない効果を得ることができた
ものである。この効果の理由は、表面被覆された赤リン
やシリコンパウダーが無機イオン交換体のイオン化を抑
制しているのではないかと考えられる。
Here, PPS originally has a very good flame retardancy, so that it is not necessary to add a flame retardant. However, the present invention relates to a surface treatment known as a flame retardant in combination with an inorganic ion exchanger. By blending the coated red phosphorus and / or silicon powder, even in accelerated tests for moisture resistance reliability such as THB or USPCBT, which require a bias voltage, the moisture resistance reliability is deteriorated, and the aluminum wiring of sealed electronic components is deteriorated. This is an effect which can be prevented from being caused by corrosion, and an effect which cannot be predicted conventionally can be obtained. It is considered that the reason for this effect is that red phosphorus or silicon powder coated on the surface suppresses ionization of the inorganic ion exchanger.

【0019】この表面被覆された赤リン及び/又はシリ
コーンパウダーの配合量は、PPS100重量部に対し
て0.1〜10重量部が好ましい。配合量が0.1重量
部未満であればイオン化を抑制する効果が不十分にな
り、逆に配合量が10重量部を超えると樹脂組成物の溶
融粘度が高くなって、ワイヤーのスイープや断線等の成
形不良が起こり易くなる。
The amount of the red phosphorus and / or silicone powder coated on the surface is preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of PPS. If the compounding amount is less than 0.1 part by weight, the effect of suppressing ionization becomes insufficient, and if the compounding amount exceeds 10 parts by weight, the melt viscosity of the resin composition increases, and the wire sweeps or breaks. Molding defects such as are likely to occur.

【0020】ここで、表面被覆した赤リンとしては、ポ
リオレフイン、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボ
ネート、ポリスルフォン、ポリエ−テルスルフォン、ポ
リフェニレンエーテル、ポリエーテルエーテルケトン、
ポリアセタール、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポ
リスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ABS
樹脂、ポリ四フツ化エチレン、エポキシ樹脂、フェノー
ル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等の合成樹脂を
第一層として赤リンの表面に被覆し、さらにこの上に水
酸化アルミニウムを第二層として被覆して2層被覆に形
成したものや、赤リンの表面に二酸化珪素(Si
2 )、二酸化チタン(TiO2 )等の無機物を被覆し
て形成したものなどを用いることができる。中でも好ま
しいのは、第一層をフェノール樹脂で、第二層を水酸化
アルミニウムで表面被覆した赤リン、第一層をポリスチ
レンで、第二層を水酸化アルミニウムで表面被覆した赤
リン、TiO2 で表面被覆した赤リンである。フェノー
ル樹脂と水酸化アルミニウムで表面被覆した赤リンの場
合、フェノール樹脂/水酸化アルミニウム=1/9〜9
/1の範囲の重量比率で表面被覆を形成するのが好まし
く、ポリスチレンと水酸化アルミニウムで表面被覆した
赤リンの場合、ポリスチレン/水酸化アルミニウム=1
/9〜9/1の範囲の重量比率で表面被覆を形成するの
が好ましい。また表面被覆した赤リンの粒径は、平均粒
径が0.5〜50μmの範囲が好ましく、最大粒径は1
50μm以下が好ましい。平均粒径が0.5μm未満の
ものは、赤リンを表面被覆(特に2層被覆)することが
困難であり、平均粒径が50μmを超えるものは樹脂組
成物中への分散性が低下する。また最大粒径が150μ
mを超えるものは封止樹脂への充填性に問題が生じる。
Here, the surface-coated red phosphorus includes polyolefin, polyester, polyamide, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene ether, polyether ether ketone,
Polyacetal, polyetherimide, polyimide, polystyrene, syndiotactic polystyrene, ABS
A resin, a synthetic resin such as polytetrafluoroethylene, an epoxy resin, a phenol resin, a silicone resin, and a urethane resin is coated on the surface of red phosphorus as a first layer, and further, aluminum hydroxide is coated thereon as a second layer. Or a two-layer coating, or silicon dioxide (Si
O 2), it can be used such as those formed by coating an inorganic material such as titanium dioxide (TiO 2). Among them, red phosphorus whose first layer is coated with phenol resin, whose second layer is coated with aluminum hydroxide, red phosphorus whose first layer is coated with polystyrene and whose second layer is coated with aluminum hydroxide, TiO 2 are preferable. Is red phosphorus surface-coated with. In the case of red phosphorus coated on the surface with a phenol resin and aluminum hydroxide, phenol resin / aluminum hydroxide = 1/9 to 9
It is preferable to form the surface coating in a weight ratio in the range of / 1, and in the case of red phosphorus surface-coated with polystyrene and aluminum hydroxide, polystyrene / aluminum hydroxide = 1
It is preferred to form the surface coating with a weight ratio in the range of / 9 to 9/1. The average particle diameter of the surface-coated red phosphorus is preferably 0.5 to 50 μm, and the maximum particle diameter is 1 μm.
It is preferably 50 μm or less. If the average particle diameter is less than 0.5 μm, it is difficult to coat red phosphorus on the surface (especially, two layers), and if the average particle diameter exceeds 50 μm, the dispersibility in the resin composition decreases. . The maximum particle size is 150μ
If it exceeds m, there is a problem in the filling property of the sealing resin.

【0021】また、シリコーンパウダーとしては、「化
3」に示す構造式を繰り返し単位として三次元架橋させ
たポリシロキサンの粉末を用いることができるものであ
る。
As the silicone powder, there can be used a polysiloxane powder obtained by three-dimensionally cross-linking the compound represented by the formula (3) as a repeating unit.

【0022】[0022]

【化3】 Embedded image

【0023】中でも好ましいのは、R1 ,R2 がメチル
基等のアルキル基である通常のシリコーンパウダー、R
1 ,R2 の少なくとも一方がグリシジル基(他方はアル
キル基)であるグリシジル基含有シリコーンパウダー、
1 ,R2 の少なくとも一方がメタクリル基(他方はア
ルキル基)であるメタクリル基含有シリコーンパウダー
である。シリコーンパウダーは最大粒径が200μm以
下のものが望ましい。粒径が200μmを越えるシリコ
ーンパウダーは分散性に劣り、無機イオン交換体との接
触機会が少なくなって、無機イオン交換体のイオン化を
抑制する効果が不十分になる。
Among them, preferred are ordinary silicone powders in which R 1 and R 2 are alkyl groups such as methyl groups.
A glycidyl group-containing silicone powder wherein at least one of 1 and R 2 is a glycidyl group (the other is an alkyl group);
A methacryl group-containing silicone powder in which at least one of R 1 and R 2 is a methacryl group (the other is an alkyl group). It is desirable that the silicone powder has a maximum particle size of 200 μm or less. Silicone powders having a particle size of more than 200 μm have poor dispersibility, reduce the chance of contact with an inorganic ion exchanger, and have an insufficient effect of suppressing ionization of the inorganic ion exchanger.

【0024】上記の表面被覆された赤リン系とシリコー
ンパウダーは、それぞれ単独で用いても良いが、両者を
併用するようにしてもよい。また、本発明において使用
する無機充填材は、特開平5−170967号公報に開
示されるような、圧縮成形前の無機充填材の平均粒子径
が圧縮成形後も保持される圧力で、無機充填材を圧縮成
形して得られる成形体における無機充填材の体積分率
(この体積分率をφmと表示する)が75%以上のもの
が好ましい。
The above-mentioned red phosphorus-based surface-coated silicone powder and silicone powder may be used alone or in combination. Further, the inorganic filler used in the present invention may be used under the pressure at which the average particle diameter of the inorganic filler before compression molding is maintained after compression molding as disclosed in JP-A-5-170967. It is preferable that the inorganic filler has a volume fraction of 75% or more (this volume fraction is expressed as φm) in a compact obtained by compression-molding the material.

【0025】この体積分率φmを詳しく説明すると、無
機充填材として使用するn種(nは1以上の整数)の各
無機充填材のそれぞれの真比重をdi 、各無機充填材の
それぞれの配合重量をwi (di 、wi においてiは1
〜nの整数)とした場合の、無機充填材の全体の比重は
次の(A)式で算出される値になる。尚、真比重は無機
充填材の粒子中の空隙等を含まない無機充填材の物質本
来の比重である。
The volume fraction φm will be described in detail. The true specific gravity of each of the n inorganic fillers (n is an integer of 1 or more) used as the inorganic filler is represented by d i , and the respective inorganic fillers are represented by: the mixing weight w i (d i, the i in w i 1
, The specific gravity of the entire inorganic filler is a value calculated by the following equation (A). The true specific gravity is the original specific gravity of the material of the inorganic filler that does not include voids in the particles of the inorganic filler.

【0026】[0026]

【数1】 (Equation 1)

【0027】そして、無機充填材を圧縮成形して得られ
る成形体中の無機充填材の体積分率φm(%)は、無機
充填材の重量をW(g)とし、これを圧縮して得られる
成形体の体積をV(cc)とした場合、次の(B)式で
算出される。 φm=100(W/d)/V …(B) そして圧縮成形前の無機充填材の平均粒子径が圧縮成形
の後も保持される最高の圧力未満で成形した成形体の無
機充填材の体積分率φmは前記の最高の圧力で成形した
場合の成形体の無機充填材の体積分率φmより小さい値
となる。
The volume fraction φm (%) of the inorganic filler in the compact obtained by compression-molding the inorganic filler is obtained by compressing the weight of the inorganic filler to W (g). Assuming that the volume of the formed body is V (cc), it is calculated by the following equation (B). φm = 100 (W / d) / V (B) And the volume of the inorganic filler of the molded article molded under the maximum pressure at which the average particle diameter of the inorganic filler before compression molding is maintained after compression molding The fraction φm is a value smaller than the volume fraction φm of the inorganic filler of the molded product when molded at the above-mentioned maximum pressure.

【0028】体積分率φmが75%以上となる粒径の無
機充填材を用いることによって、無機充填材の含有率を
高くしても流動性を低く保持した封止用樹脂組成物を得
ることができるものである。従って、体積分率φmが7
5%未満となる粒径の無機充填材を配合すると、封止用
樹脂組成物の溶融粘度が高くなり、未充填やボイドが発
生し、また成形時にワイヤーにスイープを起こしたり断
線を生じたりして成形性が大きく低下することになる。
体積分率φmの上限は特に設定されないが、実用上は9
0%が上限である。
By using an inorganic filler having a particle diameter such that the volume fraction φm is 75% or more, it is possible to obtain a sealing resin composition having low fluidity even when the content of the inorganic filler is increased. Can be done. Therefore, the volume fraction φm is 7
When an inorganic filler having a particle size of less than 5% is blended, the melt viscosity of the sealing resin composition increases, unfilling or voids are generated, and the wire may be swept or broken during molding. As a result, the moldability is greatly reduced.
The upper limit of the volume fraction φm is not particularly set, but is practically 9
0% is the upper limit.

【0029】体積分率φmが75%以上の無機充填材
は、PPS100重量部に対して20〜500重量部の
範囲で配合することができる。無機充填材は封止樹脂硬
化体の線膨張係数を低下させて熱に対する応力を小さく
し、封止電子部品にクラック等が生じることを防ぐこと
を目的として配合されるものであり、無機充填材の配合
量が20重量部未満であれば、この線膨張係数の低下に
よる低応力性が期待できず、また無機充填材の配合量が
500重量部を超えると、成形時の流動性が悪くなり、
実用に供することができなくなる。
The inorganic filler having a volume fraction φm of 75% or more can be blended in the range of 20 to 500 parts by weight based on 100 parts by weight of PPS. The inorganic filler is blended for the purpose of lowering the linear expansion coefficient of the sealing resin cured body to reduce the stress to heat and preventing cracks and the like from occurring in the sealing electronic component. If the compounding amount is less than 20 parts by weight, low stress property due to the decrease of the linear expansion coefficient cannot be expected, and if the compounding amount of the inorganic filler exceeds 500 parts by weight, the fluidity during molding becomes poor. ,
It cannot be put to practical use.

【0030】また無機充填材としては、非晶質シリカ、
結晶シリカ、合成シリカ等のシリカや、アルミナ、ガラ
ス、ミルドフアイバーガラス、酸化チタン、炭酸カルシ
ウム、クレー、タルク、カオリン、窒化ケイ素、窒化ア
ルミニウム等を用いることができるが、特に好ましいの
は非晶質シリカ、結晶シリカ、合成シリカ等のシリカ類
や、球状アルミナである。
As the inorganic filler, amorphous silica,
Crystalline silica, silica such as synthetic silica, alumina, glass, milled fiber glass, titanium oxide, calcium carbonate, clay, talc, kaolin, silicon nitride, aluminum nitride, etc. can be used, but amorphous is particularly preferable. Silica such as silica, crystalline silica, synthetic silica, and spherical alumina.

【0031】高熱伝導向けの封止用樹脂組成物には無機
充填材として、結晶シリカや球状アルミナを用いるのが
好ましい。しかし成形性を考慮すると、結晶シリカの場
合、無機充填材中に体積分率で40〜90%の範囲で結
晶シリカを含むようにするのが好ましい。また球状アル
ミナの場合は、無機充填材中に体積分率で30〜100
%の範囲で球状アルミナを含むようにするのが好まし
い。尚、結晶シリカや球状アルミナのこれらの体積分率
は、真比重換算での数値である。結晶シリカの体積分率
が40%未満や球状アルミナの体積分率が30%未満で
あると、所望の熱伝導性を得ることが困難になり、また
結晶シリカの体積分率が90%を超えると、成形時の流
動性が悪くなってワイヤースイープや断線が発生し易く
なる。
It is preferable to use crystalline silica or spherical alumina as an inorganic filler in the sealing resin composition for high heat conduction. However, in consideration of moldability, in the case of crystalline silica, it is preferable that the inorganic filler contains crystalline silica in a volume fraction of 40 to 90%. In the case of spherical alumina, the inorganic filler has a volume fraction of 30 to 100.
It is preferable to include spherical alumina in the range of%. These volume fractions of crystalline silica and spherical alumina are numerical values in terms of true specific gravity. If the volume fraction of crystalline silica is less than 40% or the volume fraction of spherical alumina is less than 30%, it becomes difficult to obtain a desired thermal conductivity, and the volume fraction of crystalline silica exceeds 90%. In such a case, the fluidity at the time of molding is deteriorated, and wire sweep and disconnection are likely to occur.

【0032】一方、メモリー向けの封止用樹脂組成物に
は、無機充填材として合成シリカを用いるのが好まし
い。シリカは通常、天然に産する珪石を粉砕して生産さ
れているが、このような天然のシリカはウランやトリウ
ム等を不純物として含むので、α線により悪影響を受け
るメモリー素子等の封止に用いるのは不適当である。こ
れに対して、合成シリカは塩化珪素や水ガラス、アルコ
キシシラン等を原料にして工業的に合成されたものであ
り、不純物を極小にすることができる。従って合成シリ
カを用いることは半導体素子のソフトエラーを防止する
のに有用である。
On the other hand, it is preferable to use synthetic silica as an inorganic filler in the sealing resin composition for memory. Silica is usually produced by crushing naturally occurring silica, but such natural silica contains uranium and thorium as impurities, so it is used for sealing memory elements and the like that are adversely affected by α-rays. Is inappropriate. On the other hand, synthetic silica is industrially synthesized using silicon chloride, water glass, alkoxysilane, or the like as a raw material, and can minimize impurities. Therefore, the use of synthetic silica is useful for preventing soft errors in semiconductor devices.

【0033】そして本発明の電子部品封止用樹脂組成物
には必要に応じて、本発明の目的を損なわない限り、他
の合成樹脂、エラストマー、酸化防止剤、結晶核剤、カ
ップリング剤、離型剤、滑剤、着色剤等を配合すること
ができる。この合成樹脂としては、例えば、ポリオレフ
イン、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニ
レンエーテル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアセ
タール、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリスチレ
ン、シンジオタクチックポリスチレン、ABS樹脂、ポ
リ四フツ化エチレン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、
シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等を、エラストマーとし
ては、ポリオレフィンゴム、オレフィン系共重合体、グ
リシジル基含有オレフィン系共重合体等をそれぞれ挙げ
ることが出来る。
If necessary, the resin composition for sealing electronic parts of the present invention may contain another synthetic resin, an elastomer, an antioxidant, a crystal nucleating agent, a coupling agent, or the like, as long as the object of the present invention is not impaired. A release agent, a lubricant, a coloring agent and the like can be blended. As this synthetic resin, for example, polyolefin, polyester, polyamide, polycarbonate,
Polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene ether, polyetheretherketone, polyacetal, polyetherimide, polyimide, polystyrene, syndiotactic polystyrene, ABS resin, polytetrafluoroethylene, epoxy resin, phenolic resin,
Silicone resins, urethane resins, etc., and elastomers include polyolefin rubbers, olefin copolymers, glycidyl group-containing olefin copolymers, and the like.

【0034】しかして、既述の各成分を配合することに
よって、本発明に係る電子部品封止用樹脂組成物を製造
することができるものであり、製造にあたっては、一般
的には各成分をヘンシェルミキサー等の混合機で混合す
るか、必要に応じて予め必要成分の一部をマスターバッ
チ化して混合した後、エクストルーダ等の混練機で溶融
混練してペレタイズする方法を用いることができるが、
勿論これらに限定されるものではない。
By blending the above-mentioned components, the resin composition for sealing electronic parts according to the present invention can be produced. A method of mixing with a mixer such as a Henschel mixer, or, if necessary, mixing and mixing a part of the necessary components in advance in a master batch, followed by melting and kneading with a kneading machine such as an extruder can be used.
Of course, it is not limited to these.

【0035】また、この電子部品封止用樹脂組成物を用
いて電子部品を封止するにあたって、封止方法は特に制
限されないものであり、例えば、金型中に電子素子を固
定しておき、電子部品封止用樹脂組成物を射出成形、ト
ランスファー成形、ポッティング成形で成形する方法な
どが挙げられる。
In sealing an electronic component using the electronic component sealing resin composition, the sealing method is not particularly limited. For example, an electronic element is fixed in a mold, Examples of the method include molding a resin composition for sealing electronic components by injection molding, transfer molding, or potting molding.

【0036】[0036]

【実施例】次に、本発明を実施例によって具体的に説明
する。表1〜表4に示す配合(配合量は重量部)の各成
分をヘンシェルミキサーを用いて均一に混合した後、ス
クリュー径40mmの二軸混練押し出し機を用いて、シ
リンダー温度300℃の条件で押し出して、ペレット化
し、実施例1〜12及び比較例1〜8の電子部品封止用
樹脂組成物を調製した。
Next, the present invention will be described specifically with reference to examples. After uniformly mixing each component of the composition shown in Tables 1 to 4 (the blending amount is part by weight) using a Henschel mixer, using a twin-screw kneading extruder having a screw diameter of 40 mm at a cylinder temperature of 300 ° C. The resin composition was extruded and pelletized to prepare the electronic component sealing resin compositions of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 8.

【0037】尚、表1の樹脂A〜D、カップリング剤、
無機イオン交換体A〜B、難燃剤A〜Gとして、次に示
すものを用いた。 ・樹脂A:PPS樹脂(呉羽化学社製品番「W−203
A」、溶融粘度250ポイズ(300℃、剪断速度10
00/secで測定)) ・樹脂B:PPS樹脂(呉羽化学社製品番「W−21
4」、溶融粘度1800ポイズ(300℃、剪断速度1
000/secで測定)) ・樹脂C:LCP(液晶ポリマー)樹脂(住友化学社製
品番「E7000P」、溶融粘度2000ポイズ(30
0℃、剪断速度1000/secで測定)) ・樹脂D:SPS(シンジオタクチックポリスチレン)
樹脂(出光石油化学社製品番「S100」、溶融粘度8
20ポイズ(300℃、剪断速度1000/secで測
定)) ・カップリング剤:エポキシシラン系カップリング剤
(東レシリコーン社製品番「SH6040」) ・無機イオン交換体A: Sb2 Bi1.4 6.4 (OH)0.9 (NO3 0.4
0.6H2 O ・無機イオン交換体B: Sb2 Bi1.3 6.6 (OH)0.8 (NO3 0.06
0.6H2 O ・難燃剤A:フェノール樹脂と水酸化アルミニウムで表
面被覆した赤リン(燐化学産業社製品番「ノーバエクセ
ル140」、フェノール樹脂と水酸化アルミニウムの重
量比率3:1、被覆量赤リンの1重量%、平均粒径35
μ) ・難燃剤B:ポリスチレン樹脂と水酸化アルミニウムで
表面被覆した赤リン(燐化学産業社製品番「ノーバエク
セル」、フェノール樹脂とポリスチレン樹脂の重量比率
4:1、被覆量赤リンの1重量%、平均粒径30μ) ・難燃剤C:TiO2 で表面被覆した赤リン(日本合成
化学社製品番「TP−10」、被覆量赤リンの2重量
%、平均粒径40μ) ・難燃剤D:「化3」に示す構造式のR1 ,R2 がメチ
ル基のものを繰り返し単位として三次元架橋させたシリ
コーンパウダー(東レ・ダウコーニング・シリコーン社
製品番「DC4−7105」を分級して最大粒径を20
0μm以下にしたもの)・難燃剤E:最大粒径が1mm
の上記シリコーンパウダー(東レ・ダウコーニング・シ
リコーン社製品番「DC4−7105」) ・難燃剤F:「化3」に示す構造式のR1 ,R2 の一部
がグリシジル基、他がメチル基等のアルキル基のものを
繰り返し単位として三次元架橋させたグリシジル基含有
シリコーンパウダー(東レ・ダウコーニング・シリコー
ン社製品番「DC4−7051」を分級して最大粒径を
200μm以下にしたもの) ・難燃剤G:「化3」に示す構造式のR1 ,R2 の一部
がメタクリル基、他がメチル基等のアルキル基のものを
繰り返し単位として三次元架橋させたメタクリル基含有
シリコーンパウダー(東レ・ダウコーニング・シリコー
ン社製品番「DC4−7081」を分級して最大粒径を
200μm以下にしたもの) また、無機充填材A〜Eは、次のF1〜F10の充填材
を混合することによって調製した。 ・F1:球状非晶質シリカ(電気化学工業社製品番「F
B−74」)を空気分級して得られた平均粒径17μm
のシリカ粉 ・F2:球状非晶質シリカ(電気化学工業社製品番「F
B−30」)を空気分級して得られた平均粒径4μmの
シリカ粉 ・F3:球状非晶質シリカ(アドマテック社製品番「S
O−25R」、平均粒径0.5μm) ・F4:結晶シリカ粉(龍森社製品番「3K」)を空気
分級して得られた平均粒径18μmのシリカ粉 ・F5:球状アルミナ(昭和電工社製品番「AS−3
0」)を空気分級して得られた平均粒径23μmのアル
ミナ粉 ・F6:球状アルミナ(昭和電工社製品番「AS−6
0」)を空気分級して得られた平均粒径7μmのアルミ
ナ粉 ・F7:球状アルミナ(アドマテック社製品番「AO−
502」、平均粒径0.4μm) ・F8:合成シリカ(マイクロン社製品番「SW−CO
Y21」)を空気分級して得られた平均粒径23μmの
合成シリカ粉 ・F9:合成シリカ(トクヤマ社製品番「SE−8」)
を空気分級して得られた平均粒径5μmの合成シリカ粉 ・F10:合成シリカ(アドマテック社製品番「SO−
25H」、平均粒径0.5μm) ・無機充填材A:F1/F2/F3=70/20/10
の重量比率で混合した非晶質シリカ、φm=81% ・無機充填材B:F1/F2=70/30の重量比率で
混合した非晶質シリカ、φm=70% ・無機充填材C:F3/F4=90/10の重量比率で
混合した非晶質シリカと結晶シリカ、φm=75% ・無機充填材D:F5/F6/F7=70/20/10
の重量比率で混合した球状アルミナ、φm=84% ・無機充填材E:F8/F9/F10=70/20/1
0の重量比率で混合した合成シリカ、φm=88% (上記の体積分率φmは、無機充填材を300kg/c
2 の圧力で圧縮成形して円筒状の成形体を作製し、成
形体の直径と厚みから算出される成形体の体積Vと重量
W及び無機充填材の真比重dから式(B)で算出した値
である。尚、成形体を解砕して得られる無機充填材の平
均粒径を測定したところ、成形前の無機充填材の平均粒
径と同じであり、300kg/cm2 の圧力では無機充
填材の粒子の破壊は生じていない。) 上記のようにして調製した実施例1〜12及び比較例1
〜8の電子部品封止用樹脂組成物のペレットを用い、評
価用の封止電子部品を作製した。評価用封止電子部品の
作製は、チップサイズが3mm角でガラス系保護膜付き
の半導体ゲートアレイ素子を42アロイよりなるリード
フレームに銀ペーストを用いて実装し、次いで、半導体
チップを16DIP成形用金型にセットして、シリンダ
ー温度300℃、金型温度130℃の条件で、上記の実
施例1〜12及び比較例1〜8の電子部品封止用樹脂組
成物を射出成形することによって行なった。 (1)成形性 このようにして作製した評価用封止電子部品の外観状態
(充填性、ボイド)及びワイヤーの断線状態を軟X線で
確認して成形性を評価し、成形不良(未充填、ボイド発
生、ワイヤー断線)が発生しなかったものを「○」、発
生したものを「×」として表1〜表4に示した。 (2)耐湿信頼性(PCT) 上記と同様の操作で得られた評価用封止電子部品を12
1℃、100%RHの条件下で、1000時間の処理を
実施した。この試験を終えたサンプルについて、ゲート
アレイ素子の動作確認を行い、動作不良が生じているサ
ンプルを不良とした。得られた結果を(不良個数/試験
したサンプル数)として表1〜表4に示した。 (3)耐湿信頼性(THB) 上記と同様の操作で得られた評価用封止電子部品を85
℃、85%RHの条件下で30Vの電圧をかけ、200
0時間の連続通電試験を実施した。この通電試験を終え
たゲートアレイ素子について抵抗値を調べ、試験前の抵
抗の初期値から大きく抵抗の変化したサンプルを不良と
した。得られた結果を(不良個数/試験したサンプル
数)として表1〜表4に示した。
In addition, resins A to D in Table 1, a coupling agent,
The following were used as inorganic ion exchangers AB and flame retardants AG. -Resin A: PPS resin (Kureha Chemical product number "W-203"
A ", melt viscosity 250 poise (300 ° C., shear rate 10
00 / sec)) ・ Resin B: PPS resin (Kuha Chemical Co., product number “W-21”)
4 ", melt viscosity 1800 poise (300 ° C., shear rate 1
Resin C: LCP (liquid crystal polymer) resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd. product number "E7000P", melt viscosity 2000 poise (30
0 ° C., measured at a shear rate of 1000 / sec)) Resin D: SPS (Syndiotactic polystyrene)
Resin (Idemitsu Petrochemical Co., product number "S100", melt viscosity 8
20 poise (measured at a shear rate of 1000 / sec at 300 ° C.)) Coupling agent: epoxy silane coupling agent (product number “SH6040” manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.) Inorganic ion exchanger A: Sb 2 Bi 1.4 O 6.4 ( OH) 0.9 (NO 3 ) 0.4
0.6H 2 O. Inorganic ion exchanger B: Sb 2 Bi 1.3 O 6.6 (OH) 0.8 (NO 3 ) 0.06
0.6H 2 O • Flame retardant A: Red phosphorus coated on the surface with phenol resin and aluminum hydroxide (Rinno Kagaku Sangyo Co., Ltd. product number “NOVA EXCEL 140”, weight ratio of phenol resin to aluminum hydroxide 3: 1, coating amount) 1% by weight of red phosphorus, average particle size 35
μ) Flame retardant B: Red phosphorus coated on the surface with polystyrene resin and aluminum hydroxide (Rinno Kagaku Sangyo Co., Ltd. product No. Excel, weight ratio of phenol resin to polystyrene resin 4: 1, coating amount 1 weight of red phosphorus %, Average particle size 30μ) Flame retardant C: Red phosphorus surface-coated with TiO 2 (Nippon Synthetic Chemical Company product number “TP-10”, coating amount 2% by weight of red phosphorus, average particle size 40μ) ・ Flame retardant D: Silicone powder (Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd., product number "DC4-7105") obtained by three-dimensionally cross-linking a compound represented by the chemical formula 3 in which R 1 and R 2 are each a methyl group as a repeating unit. Maximum particle size of 20
0 μm or less) Flame retardant E: maximum particle size is 1 mm
The above silicone powder (Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd., product number “DC4-7105”) Flame retardant F: R 1 and R 2 in the structural formula shown in Chemical Formula 3 are partially glycidyl groups and others are methyl groups. Glycidyl group-containing silicone powder obtained by three-dimensionally cross-linking an alkyl group having a maximum particle size of 200 μm or less by classifying Dow Corning Silicone Co., Ltd. product number “DC4-7051”. Flame retardant G: a methacrylic group-containing silicone powder obtained by three-dimensionally cross-linking, as a repeating unit, a part of R 1 and R 2 in the structural formula shown in Chemical Formula 3, and the other part is an alkyl group such as a methyl group ( Classification of Toray Dow Corning Silicone product number “DC4-7081” to reduce the maximum particle size to 200 μm or less) In addition, inorganic fillers A to E are: It was prepared by mixing the filler F1~F10 of.・ F1: Spherical amorphous silica (Electrochemical Industry Co., Ltd. product number “F
B-74 ”) having an average particle size of 17 μm obtained by air classification.
Silica powder F2: spherical amorphous silica (Denka Chemical Co., product number "F
B-30 "), which is air-classified to obtain a silica powder having an average particle size of 4 µm. F3: spherical amorphous silica (Admatech product number" S
O-25R ”, average particle size 0.5 μm) F4: Silica powder with an average particle size of 18 μm obtained by air classification of crystalline silica powder (Tatsumori product number“ 3K ”) F5: Spherical alumina (Showa) Denko product number “AS-3
0 ") by air classification and an alumina powder having an average particle size of 23 µm. F6: spherical alumina (product number" AS-6 "manufactured by Showa Denko KK)
0 ”) by air classification and an alumina powder having an average particle diameter of 7 μm. • F7: spherical alumina (Admatech product number“ AO-
F8: Synthetic silica (Micron product number "SW-CO"
Y21 ”) is a synthetic silica powder having an average particle size of 23 μm obtained by air classification. • F9: Synthetic silica (Tokuyama product number“ SE-8 ”)
Of synthetic silica having an average particle size of 5 μm obtained by air classification of F10: Synthetic silica (Admatech product number “SO-
25H ", average particle size 0.5 μm) Inorganic filler A: F1 / F2 / F3 = 70/20/10
Amorphous silica mixed at a weight ratio of φm = 81% inorganic filler B: amorphous silica mixed at a weight ratio of F1 / F2 = 70/30, φm = 70% inorganic filler C: F3 Amorphous silica and crystalline silica mixed at a weight ratio of / F4 = 90/10, φm = 75% Inorganic filler D: F5 / F6 / F7 = 70/20/10
Alumina, φm = 84%, inorganic filler E: F8 / F9 / F10 = 70/20/1
Synthetic silica mixed at a weight ratio of 0, φm = 88% (The above volume fraction φm is determined by using an inorganic filler of 300 kg / c
The compression molding is performed at a pressure of m 2 to produce a cylindrical molded body, and the volume V and the weight W of the molded body calculated from the diameter and the thickness of the molded body and the true specific gravity d of the inorganic filler are expressed by the formula (B) This is a calculated value. When the average particle size of the inorganic filler obtained by crushing the compact was measured, the average particle size was the same as the average particle size of the inorganic filler before molding. At a pressure of 300 kg / cm 2 , the particles of the inorganic filler were measured. No destruction has occurred. Examples 1 to 12 and Comparative Example 1 prepared as described above
Using the pellets of the electronic component sealing resin compositions of Nos. 8 to 8, sealed electronic components for evaluation were produced. For the production of the encapsulated electronic component for evaluation, a semiconductor gate array element having a chip size of 3 mm square and having a glass-based protective film was mounted on a lead frame made of 42 alloy using silver paste, and then the semiconductor chip was molded for 16 DIP. This is performed by setting the mold in a mold and injection molding the electronic component sealing resin compositions of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 8 under the conditions of a cylinder temperature of 300 ° C. and a mold temperature of 130 ° C. Was. (1) Formability The appearance state (filling property, void) and the disconnection state of the wire of the thus-prepared sealed electronic component for evaluation were confirmed by soft X-ray to evaluate the formability, and the molding failure (unfilled) , Voids and wire breaks) are shown in Tables 1 to 4 as “○” and those that did occur as “X”. (2) Moisture resistance reliability (PCT) The sealed electronic component for evaluation obtained by the same operation as above was
The treatment was performed for 1000 hours under the conditions of 1 ° C. and 100% RH. The operation of the gate array element was confirmed for the sample after the test, and the sample in which the operation failure occurred was determined to be defective. The obtained results are shown in Tables 1 to 4 as (number of defectives / number of tested samples). (3) Humidity Reliability (THB) The sealed electronic component for evaluation obtained by the same operation as above
A voltage of 30 V was applied under the condition of 85 ° C. and 85% RH.
A 0-hour continuous energization test was performed. The resistance value of the gate array element after the energization test was examined, and a sample whose resistance greatly changed from the initial value of the resistance before the test was regarded as defective. The obtained results are shown in Tables 1 to 4 as (number of defectives / number of tested samples).

【0038】[0038]

【表1】 [Table 1]

【0039】[0039]

【表2】 [Table 2]

【0040】[0040]

【表3】 [Table 3]

【0041】[0041]

【表4】 [Table 4]

【0042】尚、比較例5はn=50のうち15個にワ
イヤー切断が発生、比較例7はn=50のうち40個に
ワイヤー切断が発生、比較例8はn=50のうち35個
にワイヤー切断が発生。表1〜表4にみられるように、
各実施例のものは、成形性、耐湿信頼性のいずれも極め
て優れるものであった。
In Comparative Example 5, wire cutting occurred in 15 of n = 50, in Comparative Example 7, wire cutting occurred in 40 of n = 50, and in Comparative Example 8, 35 of n = 50. Wire cutting occurs. As seen in Tables 1 to 4,
Each of the examples was extremely excellent in both moldability and moisture resistance reliability.

【0043】[0043]

【発明の効果】上記のように本発明は、ポリフェニレン
スルフィドを100重量、無機イオン交換体を0.5〜
5重量部、表面被覆された赤リンとシリコンパウダーの
うち少なくとも一方を0.1〜10重量部、圧縮成形前
の無機充填材の平均粒子径が圧縮成形後も保持される圧
力で、無機充填材を圧縮成形して得られる成形体におけ
る無機充填材の体積分率が75%以上の無機充填材を2
0〜500重量部配合して成ることを特徴とするもので
あり、無機イオン交換体に表面被覆された赤リンやシリ
コンパウダーを併用することによって、無機イオン交換
体がイオン化することを抑制することができ、バイアス
電圧のかかる試験でも高い耐湿信頼性を得ることができ
るものである。またこのような体積分率が75%以上の
無機充填材を用いることによって、封止成形用樹脂組成
物の溶融粘度を低くすることができ、封止成形時のワイ
ヤーのスイープや断線を未然に防いで成形性を高めるこ
とができるものである。
As described above, according to the present invention, polyphenylene sulfide is used in an amount of 100 wt.
5 parts by weight, 0.1 to 10 parts by weight of at least one of surface-coated red phosphorus and silicon powder, inorganic filler at a pressure at which the average particle diameter of the inorganic filler before compression molding is maintained after compression molding. An inorganic filler having a volume fraction of 75% or more in a molded product obtained by compression molding of
Characterized in that the inorganic ion exchanger is combined with red phosphorus or silicon powder coated on the surface of the inorganic ion exchanger to suppress ionization of the inorganic ion exchanger. Thus, high humidity resistance reliability can be obtained even in a test in which a bias voltage is applied. Further, by using such an inorganic filler having a volume fraction of 75% or more, the melt viscosity of the resin composition for encapsulation molding can be reduced, and sweeping and disconnection of the wire during encapsulation molding can be prevented. It can improve moldability by preventing the formation.

【0044】また請求項2の発明は、ポリフェニレンス
ルフィドとして、次に示す繰り返し単位を主構成単位と
するポリマーであり、
A second aspect of the present invention is a polymer having, as a polyphenylene sulfide, a main structural unit represented by the following repeating unit:

【0045】[0045]

【化4】 Embedded image

【0046】融点が260℃以上、溶融粘度が50〜5
00ポイズ(温度300℃、剪断速度1000(1/
秒)で測定)のものを用いるようにしたので、成形性に
優れると共に機械的強度の高い封止樹脂を得ることがで
きるものである。また請求項3の発明は、無機イオン交
換体として、 Sba Bib c (OH)d (NO3 e ・nH2 O (但し、a,bはそれぞれ1〜2、cは1〜7、dは
0.2〜3、eは0.05〜3、nは0〜2)の一般式
で示されるものを用いるようにしたので、ポリフェニレ
ンスルフィドの不純物イオンの吸着・捕捉を効率高く行
なうことができ、耐湿信頼性を高く得ることができるも
のである。
The melting point is 260 ° C. or more, and the melt viscosity is 50 to 5
00 poise (temperature 300 ° C, shear rate 1000 (1 /
(Measured in seconds)), it is possible to obtain a sealing resin having excellent moldability and high mechanical strength. In the invention of claim 3, the inorganic ion exchanger may be Sb a Bi b O c (OH) d (NO 3 ) e · nH 2 O (where a and b are 1-2 and c is 1-7, respectively). , D is from 0.2 to 3, e is from 0.05 to 3, and n is from 0 to 2), so that adsorption and capture of impurity ions of polyphenylene sulfide can be performed efficiently. Therefore, high moisture resistance reliability can be obtained.

【0047】また請求項4の発明は、赤リンとして、フ
ェノール樹脂及び水酸化アルミニウムで表面被覆がされ
ているものを用いるようにしたので、無機イオン交換体
がイオン化することを抑制する効果を高く得ることがで
きるものである。また請求項5の発明は、赤リンとし
て、スチレン樹脂及び水酸化アルミニウムで表面被覆が
されているものを用いるようにしたので、無機イオン交
換体がイオン化することを抑制する効果を高く得ること
ができるものである。
According to the fourth aspect of the present invention, the red phosphorus whose surface is coated with a phenol resin and aluminum hydroxide is used, so that the effect of suppressing the ionization of the inorganic ion exchanger is enhanced. What you can get. Further, in the invention of claim 5, since a red phosphorus having a surface coated with a styrene resin and aluminum hydroxide is used, it is possible to obtain a high effect of suppressing ionization of the inorganic ion exchanger. You can do it.

【0048】また請求項6の発明は、赤リンとして、T
iO2 で表面被覆がされているものを用いるようにした
ので、無機イオン交換体がイオン化することを抑制する
効果を高く得ることができるものである。また請求項7
の発明は、シリコンパウダーとして、最大粒径が200
μm以下のものを用いるようにしたので、シリコンパウ
ダーの混合分散性を高めて無機イオン交換体がイオン化
することを抑制する効果を高く得ることができるもので
ある。
Further, according to the invention of claim 6, as red phosphorus, T
Since the one coated with iO 2 is used, the effect of suppressing the ionization of the inorganic ion exchanger can be enhanced. Claim 7
Has a maximum particle size of 200 as a silicon powder.
Since the particles having a particle diameter of not more than μm are used, the effect of suppressing the ionization of the inorganic ion exchanger by increasing the mixing and dispersibility of the silicon powder can be obtained.

【0049】また請求項8の発明は、シリコンパウダー
としてグリシジル基含有のものを用いるようにしたの
で、無機イオン交換体がイオン化することを抑制する効
果を高く得ることができるものである。また請求項9の
発明は、シリコンパウダーはメタクリル基含有のものを
用いるようにしたので、無機イオン交換体がイオン化す
ることを抑制する効果を高く得ることができるものであ
る。
In the invention of claim 8, since a silicon powder containing a glycidyl group is used as the silicon powder, it is possible to obtain a high effect of suppressing ionization of the inorganic ion exchanger. According to the ninth aspect of the present invention, since the silicon powder having a methacryl group is used, the effect of suppressing the ionization of the inorganic ion exchanger can be enhanced.

【0050】また請求項10の発明は、無機充填材とし
て非晶質シリカを用いるようにしたので、無機充填材の
配合による封止樹脂硬化体の線膨張係数を低下させて熱
に対する応力を小さくする効果を高く得ることができる
ものである。また請求項11の発明は、無機充填材とし
て、無機充填材中に体積分率で40〜90%の範囲で結
晶シリカを含むものを用いるようにしたので、無機充填
材の配合による封止樹脂硬化体の線膨張係数を低下させ
て熱に対する応力を小さくする効果を高く得ることがで
きるものである。
According to the tenth aspect of the present invention, since amorphous silica is used as the inorganic filler, the linear expansion coefficient of the sealing resin cured body due to the blending of the inorganic filler is reduced to reduce the heat stress. It is possible to obtain a high effect. The invention according to claim 11 uses an inorganic filler containing crystalline silica in a volume fraction of 40 to 90% in the inorganic filler, so that the sealing resin obtained by blending the inorganic filler is used. The effect of reducing the thermal stress by reducing the coefficient of linear expansion of the cured product can be enhanced.

【0051】また請求項12の発明は、無機充填材とし
て、無機充填材中に体積分率で30〜100%の範囲で
球状アルミナを含むものを用いるようにしたので、無機
充填材の配合による封止樹脂硬化体の線膨張係数を低下
させて熱に対する応力を小さくする効果を高く得ること
ができるものである。また請求項13の発明は、無機充
填材として合成シリカを用いるようにしたので、不純物
を極小にすることができる合成シリカによって半導体素
子のソフトエラーを防止することができるものである。
According to a twelfth aspect of the present invention, the inorganic filler contains spherical alumina in the range of 30 to 100% by volume in the inorganic filler. The effect of reducing the stress against heat by reducing the linear expansion coefficient of the cured sealing resin can be enhanced. According to the invention of claim 13, since synthetic silica is used as the inorganic filler, soft errors in the semiconductor element can be prevented by the synthetic silica capable of minimizing impurities.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 23/31 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 23/31

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ポリフェニレンスルフィドを100重
量、無機イオン交換体を0.5〜5重量部、表面被覆さ
れた赤リンとシリコンパウダーのうち少なくとも一方を
0.1〜10重量部、圧縮成形前の無機充填材の平均粒
子径が圧縮成形後も保持される圧力で、無機充填材を圧
縮成形して得られる成形体における無機充填材の体積分
率が75%以上の無機充填材を20〜500重量部配合
して成ることを特徴とする電子部品封止用樹脂組成物。
1. 100 parts by weight of polyphenylene sulfide, 0.5 to 5 parts by weight of an inorganic ion exchanger, 0.1 to 10 parts by weight of at least one of red phosphorus and silicon powder coated on the surface, before compression molding At a pressure at which the average particle diameter of the inorganic filler is maintained even after the compression molding, the inorganic filler having a volume fraction of 75% or more of the inorganic filler in the molded product obtained by compression-molding the inorganic filler is from 20 to 500. What is claimed is: 1. A resin composition for sealing electronic parts, characterized by being blended in parts by weight.
【請求項2】 ポリフェニレンスルフィドは、次に示す
繰り返し単位を主構成単位とするポリマーであり、 【化1】 融点が260℃以上、溶融粘度が50〜500ポイズ
(温度300℃、剪断速度1000(1/秒)で測定)
のものであることを特徴とする請求項1に記載の電子部
品封止用樹脂組成物。
2. Polyphenylene sulfide is a polymer having a repeating unit shown below as a main structural unit. Melting point is at least 260 ° C and melt viscosity is 50-500 poise (measured at a temperature of 300 ° C and a shear rate of 1000 (1 / sec))
The resin composition for sealing electronic parts according to claim 1, wherein:
【請求項3】 無機イオン交換体は、 Sba Bib c (OH)d (NO3 e ・nH2 O (但し、a,bはそれぞれ1〜2、cは1〜7、dは
0.2〜3、eは0.05〜3、nは0〜2)の一般式
で示されるものであることを特徴とする請求項1又は2
に記載の電子部品封止用樹脂組成物。
Wherein the inorganic ion exchangers, Sb a Bi b O c ( OH) d (NO 3) e · nH 2 O ( where, a, b respectively 1 to 2, c is 1 to 7, d is 3. The method according to claim 1, wherein 0.2 to 3, e is 0.05 to 3, and n is 0 to 2).
4. The resin composition for sealing electronic components according to item 1.
【請求項4】 赤リンはフェノール樹脂及び水酸化アル
ミニウムで表面被覆がされていることを特徴とする請求
項1乃至3のいずれかに記載の電子部品封止用樹脂組成
物。
4. The resin composition for sealing electronic parts according to claim 1, wherein the surface of the red phosphorus is coated with a phenol resin and aluminum hydroxide.
【請求項5】 赤リンはスチレン樹脂及び水酸化アルミ
ニウムで表面被覆がされていることを特徴とする請求項
1乃至3のいずれかに記載の電子部品封止用樹脂組成
物。
5. The resin composition according to claim 1, wherein the surface of the red phosphorus is coated with a styrene resin and aluminum hydroxide.
【請求項6】 赤リンはTiO2 で表面被覆がされてい
ることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の
電子部品封止用樹脂組成物。
6. The resin composition for sealing electronic parts according to claim 1, wherein the surface of the red phosphorus is coated with TiO 2 .
【請求項7】 シリコンパウダーは最大粒径が200μ
m以下であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれ
かに記載の電子部品封止用樹脂組成物。
7. Silicon powder has a maximum particle size of 200 μm.
The resin composition for sealing electronic parts according to any one of claims 1 to 6, wherein m is equal to or less than m.
【請求項8】 シリコンパウダーはグリシジル基含有の
ものであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか
に記載の電子部品封止用樹脂組成物。
8. The resin composition according to claim 1, wherein the silicon powder contains a glycidyl group.
【請求項9】 シリコンパウダーはメタクリル基含有の
ものであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか
に記載の電子部品封止用樹脂組成物。
9. The resin composition for sealing electronic components according to claim 1, wherein the silicon powder contains a methacryl group.
【請求項10】 無機充填材は非晶質シリカであること
を特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の電子部
品封止用樹脂組成物。
10. The resin composition for sealing electronic parts according to claim 1, wherein the inorganic filler is amorphous silica.
【請求項11】 無機充填材は、無機充填材中に体積分
率で40〜90%の範囲で結晶シリカを含むものである
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の電
子部品封止用樹脂組成物。
11. The electronic component sealing according to claim 1, wherein the inorganic filler contains crystalline silica in a volume fraction of 40 to 90% in the inorganic filler. A resin composition for stopping.
【請求項12】 無機充填材は、無機充填材中に体積分
率で30〜100%の範囲で球状アルミナを含むもので
あることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載
の電子部品封止用樹脂組成物。
12. The electronic component sealing according to claim 1, wherein the inorganic filler contains spherical alumina in a volume fraction of 30 to 100% in the inorganic filler. A resin composition for stopping.
【請求項13】 無機充填材は合成シリカであることを
特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の電子部品
封止用樹脂組成物。
13. The resin composition for sealing electronic parts according to claim 1, wherein the inorganic filler is synthetic silica.
【請求項14】 請求項1乃至13のいずれかに記載の
電子部品封止用樹脂組成物で封止して成ることを特徴と
する封止電子部品。
14. A sealed electronic component, which is sealed with the electronic component sealing resin composition according to claim 1. Description:
JP29475197A 1997-02-19 1997-10-28 Resin composition for sealing electronic parts and sealed electronic part Withdrawn JPH10292118A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29475197A JPH10292118A (en) 1997-02-19 1997-10-28 Resin composition for sealing electronic parts and sealed electronic part

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3480897 1997-02-19
JP9-34808 1997-02-19
JP29475197A JPH10292118A (en) 1997-02-19 1997-10-28 Resin composition for sealing electronic parts and sealed electronic part

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10292118A true JPH10292118A (en) 1998-11-04

Family

ID=26373655

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29475197A Withdrawn JPH10292118A (en) 1997-02-19 1997-10-28 Resin composition for sealing electronic parts and sealed electronic part

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10292118A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10330617A (en) * 1997-06-03 1998-12-15 Jsr Corp Thermoplastic resin composition
JP2001247767A (en) * 2000-03-07 2001-09-11 Toray Ind Inc Resin composition
JPWO2011118508A1 (en) * 2010-03-20 2013-07-04 大同特殊鋼株式会社 Method for producing coated coil molded body and coated coil molded body

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10330617A (en) * 1997-06-03 1998-12-15 Jsr Corp Thermoplastic resin composition
JP2001247767A (en) * 2000-03-07 2001-09-11 Toray Ind Inc Resin composition
JPWO2011118508A1 (en) * 2010-03-20 2013-07-04 大同特殊鋼株式会社 Method for producing coated coil molded body and coated coil molded body

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5391924A (en) Plastic package type semiconductor device
EP3024021B1 (en) Method for manufacturing a semiconductor apparatus
KR101287712B1 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP3995421B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device using the same
EP0407585A1 (en) Semiconductor device sealed with resin and a method of producing the same
JP2853550B2 (en) Epoxy resin composition, method for producing the same, and semiconductor device using the same
JPH10292118A (en) Resin composition for sealing electronic parts and sealed electronic part
JPH032390B2 (en)
KR20130064000A (en) Epoxy resin composition for electronic parts encapsulation and electronic parts-equipped device using the same
JP3451732B2 (en) Resin composition
JP3214266B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation and semiconductor device
JP4019508B2 (en) Resin composition for encapsulating electronic components, method for producing the same, and encapsulated electronic component using the resin composition for encapsulating electronic components
JPH08162573A (en) Semiconductor device
JP3237757B2 (en) Resin composition for sealing electronic parts and sealed electronic parts
JP2001354754A (en) Epoxy resin composition for semiconductor sealing and semiconductor device using the same
JP4759994B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2000160010A (en) Electrical component sealing resin composition, its preparation and sealed electrical component using this electrical component sealing resin composition
JP2000281876A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JPH11343392A (en) Epoxy resin composition for tape carrier package
WO1999032553A1 (en) Epoxy mold compound and method
JP4543638B2 (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JPH01263112A (en) Epoxy resin composition for sealing semiconductor
JP2000302968A (en) Resin composition for sealing electronic part, its production and sealed electronic part using the same resin composition
JPH1180509A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2000281869A (en) Epoxy resin composition and semiconductor device

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20050104