JPH10292058A - Production of graft polymer material - Google Patents

Production of graft polymer material

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JPH10292058A
JPH10292058A JP11419597A JP11419597A JPH10292058A JP H10292058 A JPH10292058 A JP H10292058A JP 11419597 A JP11419597 A JP 11419597A JP 11419597 A JP11419597 A JP 11419597A JP H10292058 A JPH10292058 A JP H10292058A
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JP
Japan
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polymer material
gas
grafting
film
acrylate
Prior art date
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Application number
JP11419597A
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Japanese (ja)
Inventor
Minoru Tsuchida
実 土田
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Tomoegawa Co Ltd
Original Assignee
Tomoegawa Paper Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a graft polymer material which is not limited in the kind of the substrate polymer, of which the substrate polymer is not damaged, and in which a staining substance (e.g. a sensitizer) does not remain after the completion of polymn. by forming peroxy groups on the surface of a polymer material by a lowtemp. plasma treatment and exposing the surface to light in the presence of a polymerizable monomer to cause the graft polymn. of the monomer. SOLUTION: Peroxy groups are formed on the surface of a polymer material by subjecting the surface to a low-temp. plasma treatment in the presence of an oxygen-contg. gas or by subjecting the surface to a low-temp. plasma treatment in the presence of an inert gas or a nonpolymerizable gas and then exposing the treated surface to an oxygen-contg. gas. The objective graft polymer material is prepd. by subjecting a polymerizable monomer to graft polymn. onto the surface under the exposure to light while utilizing the peroxy groups as the photopolymn. initiation sites. The polymer material used can be in the form of film, plates, rods, particles, fibers, porous bodies, molded articles, etc. The monomer can be selected from among many kinds of monomers in accordance with the desired surface properties.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フィルム状、板状、棒
状、粒子状、繊維状、多孔質状等の多様な形態の高分子
材料の表面に、接着性、印刷性、塗装性、親水性、疎水
性等の所望の特性を付与するために、機能を発現する官
能基を有する重合性単量体を表面にグラフト重合する高
分子材料の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to adhesiveness, printability, paintability, and the like of various forms of polymer materials such as films, plates, rods, particles, fibers, and porous materials. The present invention relates to a method for producing a polymer material in which a polymerizable monomer having a functional group exhibiting a function is graft-polymerized on the surface in order to impart desired properties such as hydrophilicity and hydrophobicity.

【0002】[0002]

【従来の技術】高分子材料の表面をグラフト化し、その
表面特性を制御することは、高分子の表面改質方法の一
つとして広く用いられている。そしてこのようなグラフ
ト化の方法としては基材高分子に、γ線、電子線、紫外
線等を照射し、基材表面に重合開始が可能なラジカル種
を生成させ、このラジカルにラジカル重合性単量体を反
応させ、グラフト高分子を生成させることにより行なわ
れる。そしてこのようなグラフト重合処理は、成型加工
された種々の形態の高分子材料に直接応用できるという
利点を有している。
2. Description of the Related Art Grafting the surface of a polymer material and controlling its surface properties are widely used as one method of modifying the surface of a polymer. As such a grafting method, a base polymer is irradiated with γ-rays, electron beams, ultraviolet rays, or the like to generate radical species capable of initiating polymerization on the base material surface. The reaction is carried out by reacting the monomers to form a graft polymer. Such a graft polymerization treatment has an advantage that it can be directly applied to various shaped polymer materials.

【0003】しかしながら、γ線、電子線を用いて高分
子材料にグラフト重合する場合は、γ線、電子線の照射
により基材高分子材料がダメージを受け、高分子鎖の切
断や架橋反応を生じ、基材の強度や伸び等の物性が大き
く低下するという問題がある。更に、高分子の種類によ
っては、このような劣化反応が著しく生じるため、処理
できる高分子材料に制約を受けるという問題がある。
[0003] However, when graft polymerizing a polymer material using γ-rays and electron beams, the base polymer material is damaged by irradiation with γ-rays and electron beams, and the polymer chains are cut or cross-linked. Therefore, there is a problem that physical properties such as strength and elongation of the base material are greatly reduced. Furthermore, depending on the type of the polymer, such a deterioration reaction occurs remarkably, so that there is a problem that the polymer material that can be treated is restricted.

【0004】紫外線を用いて高分子材料にグラフト重合
する場合は、γ線、電子線を照射してグラフト化する場
合よりも基材の受けるダメージが少ないが、均一で良好
なグラフト重合を行なうために、増感剤を基材表面に塗
布する等の方法で担持することが行なわれている。そし
て、増感剤は、基材高分子の種類や重合に使用する重合
性単量体の種類により、適当な組み合わせを決めること
が必要であり、また、基材の種類や重合系によっては、
適当な増感剤の選択が困難になる問題がある。さらに重
合処理後、基材表面には、増感剤や増感剤を基材表面に
担持するためのバインダーが残留するため、用途によっ
ては増感剤がグラフト化高分子材料を使用する系を汚染
する等の問題を生じ、目的とする用途に適さないという
問題が生じるおそれがある。
[0004] When graft polymerization is carried out on a polymer material using ultraviolet rays, the substrate suffers less damage than when grafting is performed by irradiating with γ-rays or electron beams. In addition, the sensitizer is supported by a method such as applying the sensitizer to the substrate surface. Then, it is necessary to determine an appropriate combination of the sensitizer depending on the type of the base polymer and the type of the polymerizable monomer used for the polymerization, and depending on the type of the base and the polymerization system,
There is a problem that it is difficult to select an appropriate sensitizer. Further, after the polymerization treatment, a sensitizer and a binder for supporting the sensitizer on the substrate surface remain on the substrate surface. There is a possibility that a problem such as contamination may occur, and a problem that it is not suitable for the intended use may occur.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高分子材料
の表面の特性を制御できるグラフト重合処理において、
前記従来の技術で問題とされている基材高分子の種類の
制約がなく、基材高分子に対するダメージが無く、更
に、重合終了後に残留する増感剤等の汚染物質を含まな
い高分子材料の製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a graft polymerization process capable of controlling the surface properties of a polymer material.
There is no restriction on the type of the base polymer that has been a problem in the conventional technique, there is no damage to the base polymer, and further, a polymer material that does not contain contaminants such as sensitizers remaining after completion of polymerization. It is an object of the present invention to provide a method for producing the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記の如きグ
ラフト重合における問題点を解決し、高分子基材の形態
や種類に制限されず、基材にダメージを与えることな
く、更に重合終了後、増感剤等の不純物を含まないグラ
フト重合処理の方法を鋭意研究した結果なされたもので
ある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems in the graft polymerization, and is not limited to the form and type of the polymer base material, and furthermore, the polymerization can be completed without damaging the base material. After that, they have been made as a result of earnestly studying a method of a graft polymerization treatment that does not include impurities such as a sensitizer.

【0007】本発明は、高分子基材の表面に酸素プラズ
マ処理等で直接パーオキシ基を生成させ、あるいは、ア
ルゴンプラズマ処理等で基材表面にラジカル種を生成さ
せた後、大気中に曝露し大気中の酸素ガスと反応させて
パーオキシ基を生成させ、次いで、ラジカル重合性単量
体単独または溶媒等との混合物中に浸漬するか、あるい
は重合性単量体存在下の気相中で光を照射し、パーオキ
シ基を光重合開始点としてグラフト重合を行なうことに
より、高分子基材の形態や種類に制限されず、基材のダ
メージや劣化がなく、更に不純物を含まないグラフト重
合された高分子材料が得られることを見出した。すなわ
ち、本発明で得られる高分子材料は、基材高分子の種類
に制限がなく、処理による基材の物性劣化がなく、処理
後不純物を含まないことを特徴とする高分子材料の製造
方法であり、低温プラズマ処理により高分子材料基材表
面にパーオキシ基を導入した後、重合性単量体の存在下
で光を照射し、前記パーオキシ基を光重合開始点として
グラフト重合することを特徴とする製造方法である。
According to the present invention, a peroxy group is directly generated on the surface of a polymer substrate by oxygen plasma treatment or the like, or radical species are generated on the surface of the substrate by argon plasma treatment or the like and then exposed to the air. It reacts with oxygen gas in the atmosphere to generate a peroxy group, and then is immersed in a radical polymerizable monomer alone or in a mixture with a solvent or the like, or is immersed in a gas phase in the presence of a polymerizable monomer. Irradiation, and by performing the graft polymerization with the peroxy group as the photopolymerization starting point, the graft polymerization was carried out without being limited to the form and type of the polymer base material, causing no damage or deterioration of the base material, and further containing no impurities. It has been found that a polymer material can be obtained. That is, the polymer material obtained by the present invention has no limitation on the type of the base polymer, does not deteriorate the properties of the base material due to the treatment, and does not contain impurities after the treatment. After introducing a peroxy group on the surface of the polymer material substrate by low-temperature plasma treatment, light is irradiated in the presence of a polymerizable monomer, and the peroxy group is subjected to graft polymerization as a photopolymerization starting point. Is a manufacturing method.

【0008】本発明に用いられる高分子材料は、プラズ
マ処理により、パーオキシ基を導入できるものであれ
ば、特に制限なく使用できる。このような高分子材料と
しては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフ
ィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリス
チレン及びその誘導体、ポリメタクリル酸メチル、ポリ
メタクリル酸エチル等のポリメタクリル酸エステル類、
ポリアクリル酸メチル,ポリアクリル酸エチル等のポリ
アクリル酸エステル類、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルア
ルコール、ポリアクリルニトリル、ポリブタジエン、ポ
リクロロプレン,ポリイソプレン、スチレン−アクリル
ニトリル−ブタジエン共重合体、ナイロン類、ケブラー
等のポリアミド類、カプトン、ユービレックス等のポリ
イミド、ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の
ポリエステル類、ポリフェニレンエーテル類、ポリフェ
ニレンスルフィッド、ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホン、ポリエーテルエーテルケトン、エチレンビニルア
ルコール共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリ
フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフ
ルオロプロピレン共重合体等のフッ素樹脂、シリコー
ン、ポリウレタン、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミ
ン樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、セル
ロース及びその誘導体、澱粉及びその誘導体、その他多
糖類等の天然物等が挙げられる。これらの高分子を単独
でもしくは2種以上の成分を共重合あるいは/またはア
ロイ化したものを用いることができる。また、その形態
も、フィルム、板、棒、粒子、繊維、多孔質、更には成
型加工品等の様々な形態の材料を用いることができる。
The polymer material used in the present invention can be used without any particular limitation as long as it can introduce a peroxy group by plasma treatment. Examples of such polymer materials include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene and derivatives thereof, polymethyl methacrylate, polymethacrylates such as polyethyl methacrylate,
Polyacrylates such as polymethyl acrylate and polyethyl acrylate, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile, polybutadiene, polychloroprene, polyisoprene, styrene-acrylonitrile-butadiene copolymer, nylons, Kevlar Polyamides such as Kapton, Ubilex, etc., Polyesters such as polycarbonate, polyacetal, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene ethers, polyphenylene sulfide, polysulfone, polyether sulfone, polyether ether ketone, ethylene vinyl Alcohol copolymer, polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene Fluororesin of the polymer such as silicone, polyurethane, phenol resins, urea resins, melamine resins, epoxy resins, diallyl phthalate resins, cellulose and its derivatives, starch and its derivatives, natural substances such as other polysaccharides. These polymers can be used singly or as a copolymer or / and alloy of two or more components. In addition, various forms of materials such as films, plates, rods, particles, fibers, porous materials, and molded products can be used.

【0009】本発明で用いられるプラズマ処理の装置
は、直流電源、商用周波数の電源あるいはマイクロ波を
用い、外部電極方式や内部電極方式等の装置を特に制限
なく使用することができる。また、プラズマ処理に用い
る導入ガスは、ヘリウム、アルゴン、ネオン、クリプト
ン、キセノン等の不活性ガス、空気、酸素からなる酸素
含有ガス、窒素、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、水蒸
気などの非重合性ガスを一種あるいは二種以上混合して
用いることができる。酸素を含有ガスを用いてプラズマ
処理した場合は、基材表面に直接パーオキシ基が導入さ
れるので、そのまま次の工程へ進むことができる。一方
ヘリウム、アルゴン等の酸素を含まない不活性ガスや非
重合性ガスを用いてプラズマ処理した場合は、プラズマ
処理後、酸素含有ガス中に曝露し、表面に生成したラジ
カル種と酸素を反応させパーオキシ基を生成させる必要
がある。このようにして表面に導入されたパーオキシ基
は、光の照射によって開裂して重合開始点となり、重合
が進行する。
The plasma processing apparatus used in the present invention uses a DC power supply, a commercial frequency power supply, or a microwave, and an external electrode system or an internal electrode system can be used without any particular limitation. The introduced gas used for the plasma treatment is an inert gas such as helium, argon, neon, krypton, or xenon, an oxygen-containing gas composed of air and oxygen, a non-polymerized gas such as nitrogen, hydrogen, carbon monoxide, carbon dioxide, and water vapor. One or a mixture of two or more types of reactive gases can be used. When the plasma treatment is performed using an oxygen-containing gas, the peroxy group is directly introduced to the surface of the substrate, so that the process can proceed to the next step as it is. On the other hand, when plasma treatment is performed using an inert gas or a non-polymerizable gas that does not contain oxygen, such as helium and argon, after the plasma treatment, the substrate is exposed to an oxygen-containing gas to react oxygen with radical species generated on the surface. It is necessary to generate a peroxy group. The peroxy group thus introduced into the surface is cleaved by light irradiation to become a polymerization initiation point, and the polymerization proceeds.

【0010】プラズマ処理により導入されたパーオキシ
基を熱分解させて重合性単量体とグラフト重合させる方
法が知られているが、この方法ではグラフト重合に関与
しない重合性単量体同士の重合も多数生じ、ホモポリマ
ーが多く生成するという問題がある。しかし、本発明の
光を用いる方法では、ホモポリマーが生成しない低温を
設定して重合することが可能であるため、生産効率が高
く経済的である。重合温度は、前述のホモポリマー生成
を考慮して、重合性単量体の種類、反応時間及びグラフ
ト化率との関係から適当に選ぶことができる。
[0010] A method is known in which a peroxy group introduced by plasma treatment is thermally decomposed and graft-polymerized with a polymerizable monomer. However, in this method, polymerization of polymerizable monomers not involved in graft polymerization is also performed. There is a problem that a large number of them occur and a large number of homopolymers are produced. However, according to the method using light of the present invention, polymerization can be performed at a low temperature at which a homopolymer is not generated, so that production efficiency is high and economical. The polymerization temperature can be appropriately selected in consideration of the above-mentioned homopolymer formation, in relation to the type of the polymerizable monomer, the reaction time, and the grafting ratio.

【0011】本発明で用いられる重合性単量体は、目的
とする表面特性に合わせて選ぶことができる。通常は、
一般のラジカル重合性単量体を用いることができる。こ
のような重合性単量体としては、例えば、スチレン及び
o−クロロスチレン、p−クロロスチレン、3,4ジク
ロロスチレン、p−t−ブチルスチレン、o−ビニル安
息香酸、m−ビニル安息香酸、p−ビニル安息香酸、p
−スチレンスルホン酸、ジビニルべンゼン等のスチレン
誘導体、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレ
ン等のエチレン系モノオレフィン類、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、臭化ビニル、フッ化ビニル等のハロゲン化
ビニル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ
酸ビニル等の有機酸ビニルエステル類、アクリル酸、ア
クリル酸アルミニウム、アクリル酸亜鉛、アクリル酸ナ
トリウム、アクリル酸カリウム、アクリル酸カルシウ
ム、アクリル酸マグネシウム等のアクリル酸塩類、アク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸t−ブチ
ル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキ
シル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸ジメチルア
ミノエチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸セチ
ル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、アクリル酸2−
メトキシエチル、アクリル酸3−メトキシブチル、アク
リル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸テ
トラヒドロフルフリル、アクリル酸トリプロピレングリ
コール、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸
2−ヒドロキシプロピル、3−メトキシアクリル酸メチ
ル等のアクリル酸誘導体、トリプロピレングリコールジ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸エス
テルジアクリレート等の多官能性アクリル酸誘導体、メ
タクリル酸及びその塩類、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n
−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−
ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル
酸オクチル、メタクリル酸イソデシル、メタクリル酸ラ
ウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸セチ
ル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸2−ヒドロ
キシエチル、メタクリル酸2−アミノエチル、メタクリ
ル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸t−ブチルア
ミノエチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸テ
トラヒドロフルフリル等のメタクリル酸誘導体、ジメタ
クリル酸エチレン、ジメタクリル酸ペンタコンタヘクタ
エチレングリコール、ジメタクリル酸ジエチレングリコ
ール、ジメタクリル酸トリエチレングリコール、ジメタ
クリル酸テトラエチレングリコール、ジメタクリル酸デ
カエチレングリコール、ジメタクリル酸ペンタデカエチ
レングリコール、ジメタクリル酸1,3ブチレン、メタ
クリル酸アリル、トリメタクリル酸トリエチロールプロ
パン、テトラメタクリル酸ペンタエリスリトール、ジメ
タクリル酸フタル酸ジエチレングリコール等の多官能性
メタクリル酸誘導体、ビニルメチルエーテル、ビニルエ
チルエーテル、ビニルイソブチルエーテル等のビニルエ
ーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケト
ン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類、
N−ビニルホルムアミド、N−ビニルピロール、N−ビ
ニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ビニル
ピロリドン等のN−ビニル化合物、ビニルナフタレン
類、ビニルピリジン、アクリルアミド、2−アクリルア
ミド−2−メチルプロパンスルホン酸、ダイアセトンア
クリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,
N′−メチレンビス(アクリルアミド)、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル、アクリロレイン、ビニルス
ルホン酸及びその塩、ペンタエリスリトールアリルエー
テル等の重合性単量体を挙げることができる。また、こ
れらの重合性単量体は一種または二種以上を組合わせて
使用することができる。
The polymerizable monomer used in the present invention can be selected according to the desired surface properties. Normally,
General radical polymerizable monomers can be used. Examples of such a polymerizable monomer include styrene and o-chlorostyrene, p-chlorostyrene, 3,4-dichlorostyrene, pt-butylstyrene, o-vinylbenzoic acid, m-vinylbenzoic acid, p-vinylbenzoic acid, p
-Styrene sulfonic acid, styrene derivatives such as divinylbenzene, ethylene-based monoolefins such as ethylene, propylene, butylene, and isobutylene; vinyl chlorides such as vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl bromide, and vinyl fluoride; and vinyl acetate. Vinyl esters of organic acids such as vinyl, propionate and vinyl benzoate, acrylic acid salts such as acrylic acid, aluminum acrylate, zinc acrylate, sodium acrylate, potassium acrylate, calcium acrylate, magnesium acrylate, and acrylic acid Methyl, ethyl acrylate, t-butyl acrylate, n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isobornyl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, isobutyl acrylate, cetyl acrylate, 4-phenyl acrylate Rokishibuchiru, acrylic acid 2-
Methoxyethyl, 3-methoxybutyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, tripropylene glycol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, methyl 3-methoxyacrylate Polyfunctional acrylic acid derivatives such as tripropylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, neopentyl glycol hydroxypivalate diacrylate, methacrylic acid and its salts, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, etc. Propyl methacrylate, n-methacrylic acid
-Butyl, isobutyl methacrylate, t-methacrylate
Butyl, 2-ethylhexyl methacrylate, octyl methacrylate, isodecyl methacrylate, lauryl methacrylate, tridecyl methacrylate, cetyl methacrylate, stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate Methacrylic acid derivatives such as aminoethyl, dimethylaminoethyl methacrylate, t-butylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, ethylene dimethacrylate, pentacontahector ethylene glycol dimethacrylate, dimethacrylic acid Diethylene glycol, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, decaethylene glycol dimethacrylate Pentadecaethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene dimethacrylate, allyl methacrylate, triethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, polyfunctional methacrylic acid derivatives such as diethylene glycol phthalate phthalate, vinyl Vinyl ethers such as methyl ether, vinyl ethyl ether and vinyl isobutyl ether; vinyl ketones such as vinyl methyl ketone, vinyl hexyl ketone and vinyl isopropenyl ketone;
N-vinyl compounds such as N-vinylformamide, N-vinylpyrrole, N-vinylcarbazole, N-vinylindole, N-vinylpyrrolidone, vinylnaphthalenes, vinylpyridine, acrylamide, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid , Diacetone acrylamide, N-methylol acrylamide, N,
Examples thereof include polymerizable monomers such as N'-methylenebis (acrylamide), acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylolein, vinylsulfonic acid and salts thereof, and pentaerythritol allyl ether. These polymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明を以下の実施例により説明
する。なお、実施例において用いられるグラフト化率
は、次式により算出し、強度はテンシロン引張試験機を
用いて相対的に評価した。 グラフト化率(%)=(グラフト化後の高分子材料の重
量−グラフト化前の高分子材料の重量)×100/(グ
ラフト化前の高分子材料の重量)
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described with reference to the following examples. The grafting ratio used in the examples was calculated by the following equation, and the strength was relatively evaluated using a Tensilon tensile tester. Grafting rate (%) = (weight of polymer material after grafting−weight of polymer material before grafting) × 100 / (weight of polymer material before grafting)

【0013】<実施例1>10cm×10cmのポリエ
チレンテレフタレートフィルム(富士写真フィルム社製
商品名:富士PTフィルム、厚さ50μm)を図1の
平行平板内部電極型プラズマ処理装置を用いてプラズマ
処理を施した。該図1の平行平板内部電極型プラズマ処
理装置は、ベルジャー1内に2枚の電極板2,2を平行
に対峙させて、その下部の電極2の上にサンプル3を載
せ、上部の電極2はRF電源4に接続し、下部の電極2
は接地してある。なお、ベルジャー1内にはガス導入管
5が設けられサンプルの上面にガスを放出できるように
なっており、ベルジャー1の下部には、排気管7が設け
られている。なお6は上部の電極の取付け板を支持する
支柱であり、8は電極を支える支柱である。プラズマ処
理はかかる装置を用いて、ベルジャー1内にガス導入管
5より酸素ガスを導入し、系内の圧力20Pa,周波数
13.56Hz,出力100W,処理時間1minの条
件で行なった。前記プラズマ処理フィルムをアクリル酸
(和光純薬社製)の10%水溶液500g中に浸漬し、
窒素ガス雰囲気中で高圧水銀(セン特殊光源社製、出力
120W)を用いて60分間照射し重合した。重合後フ
ィルムを熱水で十分洗浄し、グラフト化率250%のグ
ラフト化フィルムをを得た。また、グラフト化によるフ
ィルムの強度はグラフト化前のフィルムの90%を維持
していた。
Example 1 A 10 cm × 10 cm polyethylene terephthalate film (trade name: Fuji PT Film, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., thickness: 50 μm) was subjected to plasma processing using the parallel plate internal electrode type plasma processing apparatus of FIG. gave. The parallel plate internal electrode type plasma processing apparatus shown in FIG. 1 has a bell jar 1 in which two electrode plates 2 are opposed to each other in parallel, a sample 3 is placed on a lower electrode 2, and an upper electrode 2 is placed. Is connected to the RF power source 4 and the lower electrode 2
Is grounded. A gas introduction pipe 5 is provided in the bell jar 1 so that gas can be released to the upper surface of the sample, and an exhaust pipe 7 is provided below the bell jar 1. Reference numeral 6 denotes a support for supporting an upper electrode mounting plate, and reference numeral 8 denotes a support for supporting the electrodes. The plasma treatment was performed by using such an apparatus and introducing oxygen gas from the gas introduction pipe 5 into the bell jar 1 under the conditions of a pressure in the system of 20 Pa, a frequency of 13.56 Hz, an output of 100 W, and a processing time of 1 min. The plasma-treated film was immersed in 500 g of a 10% aqueous solution of acrylic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries),
Irradiation was performed for 60 minutes using high pressure mercury (manufactured by Sen Special Light Source Co., Ltd., output 120 W) in a nitrogen gas atmosphere for polymerization. After the polymerization, the film was sufficiently washed with hot water to obtain a grafted film having a grafting rate of 250%. Further, the strength of the film by grafting was maintained at 90% of the film before grafting.

【0014】<実施例2>プラズマ処理フィルムに対す
る光照射時間を10分間にする以外は、実施例1に記載
の方法と同様にしてグラフト化フィルムを得た。このフ
ィルムのグラフト化率は35%であり、グラフト化によ
るフィルムの強度はグラフト化前のフィルムの90%を
維持していた。
Example 2 A grafted film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the light irradiation time for the plasma-treated film was changed to 10 minutes. The grafting ratio of this film was 35%, and the strength of the film by grafting maintained 90% of the film before grafting.

【0015】<実施例3>ポリエチレンナフタレートフ
ィルム(帝人社製、商品名:テオネックス、厚さ25μ
m)を使用し、重合性単量体にp−ビニル安息香酸(和
光純藥社製)を使用した以外は、実施例1に記載の方法
と同様にしてグラフト化フィルムを得た。このフィルム
のグラフト化率は50%であり、グラフト化によるフィ
ルムの強度はグラフト化前のフィルムの90%を維持し
ていた。
Example 3 Polyethylene naphthalate film (manufactured by Teijin Limited, trade name: Theonex, thickness 25 μm)
m) was used, and a grafted film was obtained in the same manner as in Example 1 except that p-vinylbenzoic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used as the polymerizable monomer. The grafting ratio of this film was 50%, and the strength of the film by grafting maintained 90% of the film before grafting.

【0016】<実施例4>ポリエーテルスルホンフィル
ム(三井東圧化学社製、商品名:TALPA1000)
を使用する以外は、実施例1に記載の方法と同様にして
グラフト化フィルムを得た。このフィルムのグラフト化
率は150%であり、グラフト化によるフィルムの強度
はグラフト化前のフィルムの95%を維持していた。
Example 4 Polyethersulfone film (trade name: TALPA1000, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.)
A grafted film was obtained in the same manner as in Example 1 except that The degree of grafting of this film was 150%, and the strength of the film by grafting maintained 95% of the film before grafting.

【0017】<実施例5>ポリエーテルエーテルケトン
フィルム(三井東圧化学社製、商品名:TALPA20
00)を使用する以外は、実施例1に記載の方法と同様
にしてグラフト化フィルムを得た。このフィルムのグラ
フト化率は100%であり、グラフト化によるフィルム
の強度はグラフト化前のフィルムの95%を維持してい
た。
Example 5 Polyetheretherketone film (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, trade name: TALPA20)
A grafted film was obtained in the same manner as in Example 1 except that (00) was used. The grafting ratio of this film was 100%, and the strength of the film by grafting was maintained at 95% of the film before grafting.

【0018】<実施例6>カルボキシメチルセルロース
ナトリウム(ダイセル社製、商品名:CMCダイセル
1205)の2%水溶液を調整し、ガラス板にキャスト
製膜し厚さ約30μmのフィルムを得た。このフィルム
をプラズマ処理ガスにアルゴンガスを使用する以外は、
実施例1に記載の方法と同様にしてプラズマ処理フィル
ムを得た。このプラズマ処理後前記フィルムを大気中に
1時間曝露し表面にパーオキシ基を生成させた。前記フ
ィルムをアクリルニトリル(和光純薬社製)の10%ト
ルエン溶液500gに浸漬し、窒素ガス雰囲気下で、高
圧水銀灯(セン特殊光源社製,出力120W)を用いて
60分間照射し、重合した。重合後フィルムをトルエン
で十分洗浄し、グラフト化率は20%のフィルムを得
た。また、グラフト化によるフィルムの強度はグラフト
化前のフィルムの95%を維持していた。
<Example 6> Sodium carboxymethylcellulose (manufactured by Daicel, trade name: CMC Daicel)
1202) was prepared and cast into a glass plate to obtain a film having a thickness of about 30 μm. Except for using this film with argon gas as the plasma processing gas,
A plasma-treated film was obtained in the same manner as in Example 1. After this plasma treatment, the film was exposed to the air for one hour to generate peroxy groups on the surface. The film was immersed in 500 g of a 10% toluene solution of acrylonitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and irradiated with a high-pressure mercury lamp (manufactured by Sen Special Light Source, output 120 W) for 60 minutes in a nitrogen gas atmosphere to polymerize. . After the polymerization, the film was sufficiently washed with toluene to obtain a film having a grafting ratio of 20%. Further, the strength of the film by the grafting was maintained at 95% of the film before the grafting.

【0019】<実施例7>ポリイミドフィルム(東レデ
ュポン社製、商品名:カプトン100V,厚さ25μ
m)を使用する以外は、実施例1に記載の方法と同様に
してプラズマ処理フィルムを得た。プラズマ処理後、前
記フィルムを10%アクリル酸水溶液を窒素ガスでバブ
リングすることにより生成させたアクリル酸蒸気中に曝
露し、高圧水銀灯(セン特殊光源社製、出力120W)
を用いて60分間照射し重合した。重合後、フィルムを
熱水で十分洗浄し、グラフト化率120%のグラフト化
フィルムを得た。また、グラフト化によるフィルムの強
度はグラフト化前のフィルムの95%を維持していた。
<Example 7> Polyimide film (manufactured by Toray DuPont, trade name: Kapton 100V, thickness 25μ)
A plasma-treated film was obtained in the same manner as in Example 1, except that m) was used. After the plasma treatment, the film was exposed to acrylic acid vapor generated by bubbling a 10% aqueous solution of acrylic acid with nitrogen gas, and a high-pressure mercury lamp (120 W output, manufactured by Sen Special Light Source Co., Ltd.)
Irradiation was carried out for 60 minutes to carry out polymerization. After the polymerization, the film was sufficiently washed with hot water to obtain a grafted film having a grafting ratio of 120%. Further, the strength of the film by the grafting was maintained at 95% of the film before the grafting.

【0020】<実施例8>ポリプロピレン不織布(東燃
タピルス社製、商品名:タピルスP020SW−00
X)を使用する以外は、実施例1に記載の方法と同様に
してグラフト化不織布を得た。この不織布のグラフト化
率は350%であり、グラフト化による不織布の強度は
グラフト化前の90%を維持していた。
<Example 8> Polypropylene non-woven fabric (manufactured by Tonen Tapils, trade name: Tapils P020SW-00)
A grafted nonwoven fabric was obtained in the same manner as in Example 1, except that X) was used. The grafting ratio of this nonwoven fabric was 350%, and the strength of the nonwoven fabric by grafting was maintained at 90% before the grafting.

【0021】<実施例9>ナイロン不織布(東燃タピル
ス社製、商品名:タピルスN050SS−00X)を使
用し、重合性単量体にアクリルアミド(和光純薬社製)
を使用する以外は、実施例1に記載の方法と同様にして
グラフト化不織布を得た。この不織布のグラフト化率は
110%であり、グラフト化による不織布の強度はグラ
フト化前の90%を維持していた。
Example 9 Nylon nonwoven fabric (manufactured by Tonen Tapils, trade name: Tapils N050SS-00X) was used, and acrylamide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) was used as a polymerizable monomer.
A grafted non-woven fabric was obtained in the same manner as in Example 1, except for using. The grafting ratio of this nonwoven fabric was 110%, and the strength of the nonwoven fabric by grafting was maintained at 90% before the grafting.

【0022】<実施例10>ポリテトラフルオロエチレ
ンシート(株式会社 巴川製紙所製、商品名:トミーフ
ァインレック FSS R−250)を使用し、重合性
単量体にビニルスルフォン酸ナトリウム(東京化成社
製)を使用する以外は、実施例1に記載の方法と同様に
してグラフト化シートを得た。このシートのグラフト化
率は15%であり、グラフト化によるシートの強度はグ
ラフト化前の99%を維持していた。
<Example 10> A polytetrafluoroethylene sheet (trade name: TOMY FINEREC FSS R-250, manufactured by Hamakawa Paper Co., Ltd.) was used, and sodium vinyl sulfonate (Tokyo Kasei Co., Ltd.) was used as a polymerizable monomer. A grafted sheet was obtained in the same manner as described in Example 1 except that the above-mentioned method was used. The grafting ratio of this sheet was 15%, and the strength of the sheet by grafting was maintained at 99% before grafting.

【0023】<実施例11>アゾビスイソブチロニトリ
ル(和光純薬社製)0.05gを溶解させたスチレン
(和光純薬社製)50gを完全ケン化ポリビニルアルコ
ール(重合度1700、酢酸基1モル%)2.5g、部
分ケン化ポリビニルアルコール(重合度1700,酢酸
基10モル%)1gを水250mlに溶解させた水溶液
中に懸濁させ、60℃で6時間、次いで80℃で2時間
反応させポリスチレン粉体を得た。前記ポリスチレン粉
体50gを図2の外部電極型粉体プラズマ処理装置を用
いてプラズマ処理を施した。図2の外部電極型粉体プラ
ズマ処理装置は、一口フラスコ状の処理反応器11を傾
斜させて支柱16に取付けてあり、反応器11の内部に
は試料を入れ、首部には2枚の平行電極12,12が外
部に設けられ、上側の電極はRF電源に接続し、下側の
電極は接地されている。電極12の上方には中心にガス
導入細管15を備えている回転ガス導入機16を設けて
いるが、13は真空ポンプへの接続用開口で、14は真
空ゲージヘッドである。また、その下部側では、処理反
応器11を回転することができるように、反応回転モー
タ17が接続されている。なお、18は支柱で回転導入
機16を支持するようになっている。又、19は処理す
る粉体サンプルである。
Example 11 50 g of styrene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) in which 0.05 g of azobisisobutyronitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) was dissolved was completely saponified polyvinyl alcohol (degree of polymerization: 1700, acetic acid group (1 mol%), 2.5 g of partially saponified polyvinyl alcohol (polymerization degree: 1700, acetic acid group: 10 mol%) was suspended in an aqueous solution of 250 ml of water, and suspended at 60 ° C. for 6 hours and then at 80 ° C. for 2 hours. The mixture was reacted for a period of time to obtain a polystyrene powder. 50 g of the polystyrene powder was subjected to plasma processing using the external electrode type powder plasma processing apparatus shown in FIG. In the external electrode type powder plasma processing apparatus of FIG. 2, a single-necked flask-shaped processing reactor 11 is attached to a support 16 at an angle, a sample is placed inside the reactor 11, and two parallel The electrodes 12, 12 are provided outside, the upper electrode is connected to an RF power source, and the lower electrode is grounded. Above the electrode 12, there is provided a rotary gas introducing device 16 having a gas introducing thin tube 15 at the center, 13 is an opening for connection to a vacuum pump, and 14 is a vacuum gauge head. On the lower side, a reaction rotation motor 17 is connected so that the processing reactor 11 can be rotated. Reference numeral 18 denotes a support for supporting the rotation introducing machine 16. Reference numeral 19 denotes a powder sample to be processed.

【0024】プラズマ処理はかかる装置を用いて、処理
反応器11内に酸素ガスを導入し、反応容器を30rp
mで回転させながら系内圧力20Pa,周波数13.5
6Hz,出力100W,処理時間1minの条件でプラ
ズマ処理を施した。前記プラズマ処理粉体をアクリロニ
トリルの10%アセトン溶液500g中に浸漬し、窒素
ガス雰囲気中で、高圧水銀灯(セン特殊光源社製、出力
120W)を用いて60分間照射し重合した。重合後、
粉体をアセトンで十分洗浄し、グラフト化率50%のグ
ラフト化粉体を得た。グラフト化された粒子には、グラ
フト化による変形や、割れ、欠け等が認められなかっ
た。
In the plasma processing, oxygen gas is introduced into the processing reactor 11 by using such an apparatus, and the reaction vessel is set at 30 rpm.
m, the pressure in the system is 20 Pa and the frequency is 13.5.
Plasma processing was performed under the conditions of 6 Hz, output of 100 W, and processing time of 1 min. The plasma-treated powder was immersed in 500 g of a 10% acetone solution of acrylonitrile, and irradiated with a high-pressure mercury lamp (manufactured by Sen Special Light Source Co., output 120 W) for 60 minutes in a nitrogen gas atmosphere to carry out polymerization. After polymerization,
The powder was sufficiently washed with acetone to obtain a grafted powder having a grafting ratio of 50%. No deformation, cracking, chipping or the like due to the grafting was observed in the grafted particles.

【0025】<実施例12>ポリエチレン/ポリプロピ
レン鞘芯型複合繊維(チッソ社製、商品名:ESC)を
使用し、重合性単量体にアクリル酸(和光純薬社製)2
%とp−スチレンスルホン酸カリウム8%(和光純薬社
製)を使用する以外は、実施例11に記載の方法と同様
にしてグラフト化率120%のグラフト化繊維を得た。
グラフト化された繊維には、変形や切断などの欠陥は認
められなかった。
Example 12 Polyethylene / polypropylene sheath-core composite fiber (manufactured by Chisso Corporation, trade name: ESC) was used, and acrylic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 2 was used as a polymerizable monomer.
% And potassium p-styrenesulfonate 8% (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), except that a grafted fiber having a grafting rate of 120% was obtained in the same manner as in Example 11.
No defects such as deformation and cutting were observed in the grafted fibers.

【0026】<実施例13>芳香族ポリアミド繊維(デ
ュポン・東レ・ケブラー社製、商品名:ケブラーチョッ
プドファイバ(繊維長6mm)を使用し、重合性単量体
にアクリル酸(和光純薬社製)を使用する以外は、実施
例11に記載の方法と同様にしてグラフト化率150%
のグラフト化繊維を得た。グラフト化された繊維には、
変形や切断などの欠陥は認められなかった。
Example 13 An aromatic polyamide fiber (manufactured by Dupont Toray Kevlar Co., trade name: Kevlar chopped fiber (fiber length 6 mm)) was used, and acrylic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used as a polymerizable monomer. )), Except that the grafting ratio was 150% in the same manner as in Example 11.
Was obtained. For the grafted fibers,
No defects such as deformation and cutting were observed.

【0027】<比較例1>実施例8で用いたポリプロピ
レン不織布にγ線を100kGy照射した後、アクリル
酸の10%水溶液500g中に浸漬させ、室温で12時
間グラフト重合した。重合後、不織布を熱水で十分洗浄
し、グラフト化率30%のグラフト化不織布を得た。ま
た、グラフト化による不織布の強度は、グラフト化前の
70%であった。
Comparative Example 1 The polypropylene nonwoven fabric used in Example 8 was irradiated with 100 kGy of γ-rays, immersed in 500 g of a 10% aqueous solution of acrylic acid, and subjected to graft polymerization at room temperature for 12 hours. After the polymerization, the nonwoven fabric was sufficiently washed with hot water to obtain a grafted nonwoven fabric having a grafting ratio of 30%. Further, the strength of the nonwoven fabric by the grafting was 70% before the grafting.

【0028】<比較例2>重合温度80℃、重合時間3
時間の条件でグラフト重合する以外は、比較例1に記載
の方法と同様の処理を行なった。重合後、アクリル酸水
溶液の粘度は著しく増加していた。また、不織布にゲル
状のホモポリマーが多数付着していたので、熱水で十分
洗浄し、付着したホモポリマーを取り除いた。この不織
布のグラフト化率は300%であり、強度はグラフト化
前の60%であった。
Comparative Example 2 A polymerization temperature of 80 ° C. and a polymerization time of 3
The same treatment as in the method described in Comparative Example 1 was performed except that the graft polymerization was performed under the conditions of time. After the polymerization, the viscosity of the aqueous acrylic acid solution was significantly increased. Further, since a large number of gel-like homopolymers adhered to the nonwoven fabric, the gel was sufficiently washed with hot water to remove the adhered homopolymers. The graft ratio of this nonwoven fabric was 300%, and the strength was 60% before grafting.

【0029】<比較例3>実施例10で用いたポリテト
ラフルオロエチレンシートを用いる以外は、比較例1に
記載の方法で処理を行なった。このシートは、γ線照射
後、著しい強度低下を示し、次のグラフト化工程へ進む
ことが出来なかった。
<Comparative Example 3> The procedure of Comparative Example 1 was repeated, except that the polytetrafluoroethylene sheet used in Example 10 was used. This sheet showed a significant decrease in strength after γ-ray irradiation, and could not proceed to the next grafting step.

【0030】<比較例4>実施例8で用いたポリプロピ
レン不織布に窒素ガス雰囲気下、加速電圧2MeV、電
子線電流15mAの条件で、照射線量200kGyの電
子線照射を行なった後、アクリル酸の10%水溶液50
0g中に浸漬させ、室温で12時間グラフト重合した。
重合後、不織布を熱水で十分洗浄し、グラフト化率30
%の グラフト化不織布を得た。また、グラフト化によ
る不織布の強度は、グラフト化前の60%であった。
Comparative Example 4 The polypropylene nonwoven fabric used in Example 8 was irradiated with an electron beam at a dose of 200 kGy under a nitrogen gas atmosphere at an acceleration voltage of 2 MeV and an electron beam current of 15 mA. 50% aqueous solution
0 g, and graft-polymerized at room temperature for 12 hours.
After the polymerization, the nonwoven fabric was sufficiently washed with hot water, and the graft ratio was 30%.
% Of the grafted nonwoven fabric was obtained. The strength of the nonwoven fabric by the grafting was 60% before the grafting.

【0031】<比較例5>実施例1で用いたポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを使用する以外は、実施例6
に記載の方法と同様にしてプラズマ処理フィルムを得
た。前記フィルムをアクリル酸の10%水溶液500g
中に浸漬させ、80℃で12時間グラフト重合した。重
合後、アクリル酸水溶液の粘度は著しく増加していた。
また、フィルム表面には、ゲル状のホモポリマーが多数
付着していたので、熱水で十分洗浄し、表面に付着した
ホモポリマーを取り除いた。このフィルムのグラフト化
率は20%であり、強度はグラフト化前の90%を維持
していた。
Comparative Example 5 Example 6 was repeated except that the polyethylene terephthalate film used in Example 1 was used.
A plasma-treated film was obtained in the same manner as described in (1). 500 g of a 10% aqueous solution of acrylic acid
The polymer was immersed in the solution and graft-polymerized at 80 ° C. for 12 hours. After the polymerization, the viscosity of the aqueous acrylic acid solution was significantly increased.
Further, since a large number of gel-like homopolymers had adhered to the film surface, the film was sufficiently washed with hot water to remove the homopolymer adhered to the surface. The grafting ratio of this film was 20%, and the strength was maintained at 90% before the grafting.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明によれば、基材高分子の種類に制
約されず、また、基材高分子の強度等の物性劣化が無
く、更に汚染物質を含まないグラフト化高分子材料を容
易に提供することができる。
According to the present invention, a grafted polymer material which is not restricted by the type of the base polymer, does not deteriorate in physical properties such as the strength of the base polymer, and does not contain contaminants can be easily prepared. Can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】内部電極型プラズマ処理装置の一例を示す説明
図。
FIG. 1 is an explanatory view showing an example of an internal electrode type plasma processing apparatus.

【図2】外部電極型プラズマ処理装置の一例を示す説明
図。
FIG. 2 is an explanatory view showing an example of an external electrode type plasma processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ベルジャー 2 電極 3 サンプル 4 RF電源 5 ガス導入管 6 支柱 7 排気管 8 電極を支える支柱 11 処理反応器 12 電極 13 真空ポンプ 14 真空ゲージヘッド 15 ガス導入細管 16 回転ガス導入機 17 反応器回転モータ 18 支柱 19 処理する粉体サンプル Reference Signs List 1 bell jar 2 electrode 3 sample 4 RF power supply 5 gas introduction pipe 6 support 7 exhaust pipe 8 support supporting electrode 11 processing reactor 12 electrode 13 vacuum pump 14 vacuum gauge head 15 gas introduction thin tube 16 rotating gas introduction machine 17 reactor rotating motor 18 Prop 19 Powder sample to be processed

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【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成9年4月25日[Submission date] April 25, 1997

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0011[Correction target item name] 0011

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0011】本発明で用いられる重合性単量体は、目的
とする表面特性に合わせて選ぶことができる。通常は、
一般のラジカル重合性単量体を用いることができる。こ
のような重合性単量体としては、例えば、スチレン及び
o−クロロスチレン、p−クロロスチレン、3,4ジク
ロロスチレン、p−t−ブチルスチレン、o−ビニル安
息香酸、m−ビニル安息香酸、p−ビニル安息香酸、p
−スチレンスルホン酸、ジビニルベンゼン等のスチレン
誘導体、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレ
ン等のエチレン系モノオレフィン類、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、臭化ビニル、フッ化ビニル等のハロゲン化
ビニル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ
酸ビニル等の有機酸ビニルエステル類、アクリル酸、ア
クリル酸アルミニウム、アクリル酸亜鉛、アクリル酸ナ
トリウム、アクリル酸カリウム、アクリル酸カルシウ
ム、アクリル酸マグネシウム等のアクリル酸塩類、アク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸t−ブチ
ル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキ
シル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸ジメチルア
ミノエチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸セチ
ル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、アクリル酸2−
メトキシエチル、アクリル酸3−メトキシブチル、アク
リル酸ラウリル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸テ
トラヒドロフルフリル、アクリル酸トリプロピレングリ
コール、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸
2−ヒドロキシプロピル、3−メトキシアクリル酸メチ
ル等のアクリル酸誘導体、トリプロピレングリコールジ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸エス
テルジアクリレート等の多官能性アクリル酸誘導体、メ
タクリル酸及びその塩類、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n
−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸t−
ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル
酸オクチル、メタクリル酸イソデシル、メタクリル酸ラ
ウリル、メタクリル酸トリデシル、メタクリル酸セチ
ル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸シクロヘキ
シル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸2−ヒドロ
キシエチル、メタクリル酸2−アミノエチル、メタクリ
ル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸t−ブチルア
ミノエチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸テ
トラヒドロフルフリル等のメタクリル酸誘導体、ジメタ
クリル酸エチレン、ジメタクリル酸ペンタコンタヘクタ
エチレングリコール、ジメタクリル酸ジエチレングリコ
ール、ジメタクリル酸トリエチレングリコール、ジメタ
クリル酸テトラエチレングリコール、ジメタクリル酸デ
カエチレングリコール、ジメタクリル酸ペンタデカエチ
レングリコール、ジメタクリル酸1,3ブチレン、メタ
クリル酸アリル、トリメタクリル酸トリエチロールプロ
パン、テトラメタクリル酸ペンタエリスリトール、ジメ
タクリル酸フタル酸ジエチレングリコール等の多官能性
メタクリル酸誘導体、ビニルメチルエーテル、ビニルエ
チルエーテル、ビニルイソブチルエーテル等のビニルエ
ーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケト
ン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類、
N−ビニルホルムアミド、N−ビニルピロール、N−ビ
ニルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ビニル
ピロリドン等のN−ビニル化合物、ビニルナフタレン
類、ビニルピリジン、アクリルアミド、2−アクリルア
ミド−2−メチルプロパンスルホン酸、ダイアセトンア
クリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,
N′−メチレンビス(アクリルアミド)、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル、アクリロレイン、ビニルス
ルホン酸及びその塩、ペンタエリスリトールアリルエー
テル等の重合性単量体を挙げることができる。また、こ
れらの重合性単量体は一種または二種以上を組合わせて
使用することができる。本発明で用いられる光照射は、
低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライ
ド水銀灯等の汎用に用いられている光源を制限無く使用
することが出来るが、高分子の種類によっては、短波長
部の光で、劣化し強度等の特性が低下する場合があるの
で、光源には光の短波長成分の少ない高圧水銀灯やメタ
ルハライド水銀灯が好ましい。
The polymerizable monomer used in the present invention can be selected according to the desired surface properties. Normally,
General radical polymerizable monomers can be used. Examples of such a polymerizable monomer include styrene and o-chlorostyrene, p-chlorostyrene, 3,4-dichlorostyrene, pt-butylstyrene, o-vinylbenzoic acid, m-vinylbenzoic acid, p-vinylbenzoic acid, p
-Styrene sulfonic acid, styrene derivatives such as divinylbenzene, ethylene monoolefins such as ethylene, propylene, butylene, isobutylene, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl bromide, vinyl halides such as vinyl fluoride, vinyl acetate, Organic acid vinyl esters such as vinyl propionate and vinyl benzoate, acrylic acid such as acrylic acid, aluminum acrylate, zinc acrylate, sodium acrylate, potassium acrylate, calcium acrylate, magnesium acrylate, and methyl acrylate , Ethyl acrylate, t-butyl acrylate, n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, isobornyl acrylate, dimethylaminoethyl acrylate, isobutyl acrylate, cetyl acrylate, 4-h-acrylate Rokishibuchiru, acrylic acid 2-
Methoxyethyl, 3-methoxybutyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, tripropylene glycol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, methyl 3-methoxyacrylate Polyfunctional acrylic acid derivatives such as tripropylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, neopentyl glycol hydroxypivalate diacrylate, methacrylic acid and its salts, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, etc. Propyl methacrylate, n-methacrylic acid
-Butyl, isobutyl methacrylate, t-methacrylate
Butyl, 2-ethylhexyl methacrylate, octyl methacrylate, isodecyl methacrylate, lauryl methacrylate, tridecyl methacrylate, cetyl methacrylate, stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate Methacrylic acid derivatives such as aminoethyl, dimethylaminoethyl methacrylate, t-butylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, ethylene dimethacrylate, pentacontahector ethylene glycol dimethacrylate, dimethacrylic acid Diethylene glycol, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, decaethylene glycol dimethacrylate Pentadecaethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butylene dimethacrylate, allyl methacrylate, triethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, polyfunctional methacrylic acid derivatives such as diethylene glycol phthalate phthalate, vinyl Vinyl ethers such as methyl ether, vinyl ethyl ether and vinyl isobutyl ether; vinyl ketones such as vinyl methyl ketone, vinyl hexyl ketone and vinyl isopropenyl ketone;
N-vinyl compounds such as N-vinylformamide, N-vinylpyrrole, N-vinylcarbazole, N-vinylindole, N-vinylpyrrolidone, vinylnaphthalenes, vinylpyridine, acrylamide, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid , Diacetone acrylamide, N-methylol acrylamide, N,
Examples thereof include polymerizable monomers such as N'-methylenebis (acrylamide), acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylolein, vinylsulfonic acid and salts thereof, and pentaerythritol allyl ether. These polymerizable monomers can be used alone or in combination of two or more. Light irradiation used in the present invention,
Low-pressure mercury lamp, high-pressure mercury lamp, ultra-high-pressure mercury lamp, metal halide
Unlimited use of general-purpose light sources such as mercury lamps
However, depending on the type of polymer, short wavelength
There is a case where the light of the part deteriorates and the characteristics such as strength are reduced.
The light source is a high-pressure mercury lamp or meta
Luhalide mercury lamps are preferred.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 固体状の高分子材料の表面へ重合性単量
体を光グラフト重合させる方法において、低温プラズマ
処理により高分子材料表面にパーオキシ基を導入した
後、このパーオキシ基を光重合開始点として、重合性単
量体の存在下で、光を照射し、グラフト重合することを
特徴とするグラフト化高分子材料の製造方法。
In a method of photografting a polymerizable monomer onto the surface of a solid polymer material, a peroxy group is introduced into the surface of the polymer material by low-temperature plasma treatment, and then the peroxy group is subjected to photopolymerization. As a point, a method for producing a grafted polymer material, which comprises irradiating with light and performing graft polymerization in the presence of a polymerizable monomer.
【請求項2】 前記低温プラズマ処理の導入ガスとして
酸素含有ガスを用いることを特徴とする請求項1に記載
のグラフト化高分子材料の製造方法。
2. The method for producing a grafted polymer material according to claim 1, wherein an oxygen-containing gas is used as an introduction gas for the low-temperature plasma treatment.
【請求項3】 前記低温プラズマ処理の導入ガスとして
不活性ガスを用いて処理した後、酸素含有ガス中に曝露
し、パーオキシ基を生成させることを特徴とする請求項
1に記載のグラフト化高分子材料の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein after the treatment with the inert gas as the introduction gas for the low-temperature plasma treatment, the substrate is exposed to an oxygen-containing gas to generate a peroxy group. Manufacturing method of molecular material.
【請求項4】 前記低温プラズマ処理の導入ガスとして
非重合性ガスを用いて処理した後、酸素含有ガス中に曝
露し、パーオキシ基を生成させることを特徴とする請求
項1に記載のグラフト化高分子材料の製造方法。
4. The grafting method according to claim 1, wherein the non-polymerizable gas is used as an introduction gas for the low-temperature plasma treatment, and then exposed to an oxygen-containing gas to generate a peroxy group. A method for producing a polymer material.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007510029A (en) * 2003-10-30 2007-04-19 ライプニッツ−インスティチュート フュア ポリマーフォルシュング ドレスデン エーファウ Modified perfluoroplastic and process for producing the same
WO2010101250A1 (en) * 2009-03-06 2010-09-10 日産自動車株式会社 Fine structure, process for producing the fine structure, and automotive component comprising the fine structure
US20120029154A1 (en) * 2010-07-28 2012-02-02 Deetz Martin J Grafting method to improve chromatography media performance

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007510029A (en) * 2003-10-30 2007-04-19 ライプニッツ−インスティチュート フュア ポリマーフォルシュング ドレスデン エーファウ Modified perfluoroplastic and process for producing the same
WO2010101250A1 (en) * 2009-03-06 2010-09-10 日産自動車株式会社 Fine structure, process for producing the fine structure, and automotive component comprising the fine structure
JP2010228443A (en) * 2009-03-06 2010-10-14 Nissan Motor Co Ltd Fine structure, process for producing the same and automotive component comprising the fine structure
US20120029154A1 (en) * 2010-07-28 2012-02-02 Deetz Martin J Grafting method to improve chromatography media performance

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