JPH10287792A - Epoxy resin composition for sealing material - Google Patents

Epoxy resin composition for sealing material

Info

Publication number
JPH10287792A
JPH10287792A JP10827797A JP10827797A JPH10287792A JP H10287792 A JPH10287792 A JP H10287792A JP 10827797 A JP10827797 A JP 10827797A JP 10827797 A JP10827797 A JP 10827797A JP H10287792 A JPH10287792 A JP H10287792A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy
epoxy resin
rubber component
meth
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10827797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomikazu Ueno
富和 植野
Satoshi Futami
聡 二見
Kenji Yasuda
健二 安田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JSR Corp filed Critical JSR Corp
Priority to JP10827797A priority Critical patent/JPH10287792A/en
Publication of JPH10287792A publication Critical patent/JPH10287792A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a composition which can give a seal having excellent soldering resistance, high reliability, low modulus and high strengths by mixing an epoxy resin with a particulate rubbery polymer having an epoxy equivalent in a specified range in a specified ratio. SOLUTION: This composition contains 0.1-30 wt.% particulate rubbery polymer having an epoxy equivalent of 1,000-40,000. Usually, the rubbery polymer is one having a glass transition temperature of 0 deg.C or below. This polymer is obtained by copolymerizing an epoxy unsaturated polymerizable monomer with a crosslinking monomer having at least two unsaturated polymerizable groups and other monomers selected so as to give a polymer being rubbery at ordinary temperature or by copolymerizing an unsaturated polymerizable monomer having a functional group other than an epoxy group with a crosslinking monomer having at least two unsaturated polymerizable groups and other monomers and introducing epoxy groups into the copolymer by the modification of the functional groups.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は低弾性率かつ高強度
で半田耐熱性に優れるとともに、熱衝撃性にも優れる電
子部品等の封止材用エポキシ樹脂組成物に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition for a sealing material for electronic parts and the like, which has a low modulus of elasticity, a high strength, an excellent solder heat resistance and an excellent thermal shock resistance.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂は、耐熱性、機械的強度、
電気絶縁性、接着性等に優れており、半導体等の電子部
品用封止材として使用されている。半導体の製造におい
てエポキシ樹脂による樹脂封止法は、セラミック等を用
いる封止法と比較し経済的に有利なことから広く用いら
れている。しかしながら、封止材の硬化時に発生する内
部応力によって、チップと封止樹脂の界面に剥離が生じ
る等の問題が生じている。内部応力緩和のため、封止樹
脂の低弾性化が試みられており、シリコーン等を低応力
化材として用いることにより一定の効果をあげている。
さらに近年、半導体装置の高集積化に伴い、プリント基
板への実装方式が、挿入実装方式から表面実装方式に移
行しつつあり、半田付け工程もリード部のみの加熱方式
からパッケージ全体の加熱方式が用いられるようになっ
てきた。パッケージ全体を加熱する半田リフロー法、半
田浴浸漬等により、パッケージ全体が加熱されることか
ら、従来の樹脂系封止材料ではクラックが発生したり、
チップと封止樹脂との界面で剥離する等の半田耐熱性が
問題となっている。半田付け工程におけるクラックや剥
離の発生は、チップと封止樹脂の線膨張率の差や、封止
樹脂中の水分の水蒸気爆発などによるもので、従来の低
応力化剤であるシリコーンゴムでは効果が無いことが明
らかになってきた。一方、封止樹脂中への無機充填材の
高充填や、低吸湿性樹脂の配合等によっても改良が試み
られている。例えば、ビフェニル骨格のエポキシ樹脂を
用い、粒径の異なる無機充填材を組み合わせる方法(特
開平2−99514号)等が提案されているが、効果は
あるものの必ずしも十分なものではなく、更なる改良が
望まれている。また、PGA(Pin Grid Ar
ray)、BGA(Ball Grid Arra
y)、CSP(Chip Scale Packag
e)等の新しい半導体実装方法も検討されており、これ
らの実装方法に対応するためにも、さらなる高信頼性の
封止材が求められている。
2. Description of the Related Art Epoxy resin has heat resistance, mechanical strength,
It has excellent electrical insulation and adhesive properties, and is used as a sealing material for electronic components such as semiconductors. In the manufacture of semiconductors, a resin encapsulation method using an epoxy resin is widely used because it is more economically advantageous than an encapsulation method using ceramics or the like. However, there are problems such as peeling off at the interface between the chip and the sealing resin due to the internal stress generated when the sealing material is cured. In order to alleviate internal stress, attempts have been made to lower the elasticity of the sealing resin, and a certain effect has been achieved by using silicone or the like as a stress reducing material.
In recent years, with the increasing integration of semiconductor devices, the mounting method for printed circuit boards has been shifting from the insertion mounting method to the surface mounting method. It is being used. Since the entire package is heated by the solder reflow method or solder bath immersion that heats the entire package, cracks occur in the conventional resin-based sealing material,
There is a problem of solder heat resistance such as peeling off at the interface between the chip and the sealing resin. Cracking and peeling during the soldering process are caused by the difference in linear expansion coefficient between the chip and the sealing resin, and by the explosion of water vapor in the sealing resin. It became clear that there was no. On the other hand, improvement is also attempted by high filling of an inorganic filler into a sealing resin, blending of a low hygroscopic resin, and the like. For example, a method of using an epoxy resin having a biphenyl skeleton and combining inorganic fillers having different particle sizes (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-99514) has been proposed. Is desired. Also, PGA (Pin Grid Ar)
ray), BGA (Ball Grid Arra)
y), CSP (Chip Scale Package)
New semiconductor mounting methods such as e) are also being studied, and in order to cope with these mounting methods, a sealing material with higher reliability is required.

【0003】[0003]

【本発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に
鑑み、半田付け工程におけるクラックおよび剥離の発生
防止、すなわち半田耐熱性に優れ、高信頼性を有する、
低弾性率かつ高強度の封止材用エポキシ樹脂組成物を提
供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above circumstances, the present invention prevents cracks and peeling during the soldering process, that is, has excellent solder heat resistance and high reliability.
An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition for a sealing material having a low elastic modulus and a high strength.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、特定のエ
ポキシ基含有粒子状ゴム状重合体を配合することによ
り、上記の課題を解決し、半導体等の電子部品封止用に
好適なエポキシ樹脂組成物が得られることを見出し本発
明に至った。すなわち本発明は、(A)エポキシ樹脂、
(B)エポキシ当量が1000〜40000の粒子状ゴ
ム状重合体を含む樹脂組成物であって、前記(B)の含
有量が0.1〜30重量%である封止材用エポキシ樹脂
組成物。
Means for Solving the Problems The present inventors have solved the above-mentioned problems by blending a specific epoxy-containing particulate rubber-like polymer, and have found it suitable for sealing electronic parts such as semiconductors. The present inventors have found that an epoxy resin composition can be obtained, and have reached the present invention. That is, the present invention provides (A) an epoxy resin,
(B) A resin composition containing a particulate rubbery polymer having an epoxy equivalent of 1,000 to 40,000, wherein the content of (B) is 0.1 to 30% by weight. .

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明のエポキシ樹脂(A)とし
ては、通常封止材として用いられるいずれのエポキシ樹
脂を用いてもよく、例えば、ジグリシジルエーテル型エ
ポキシ樹脂や、エピクロルヒドリンとフェノールノボラ
ック、クレゾールノボラックとの反応によって得られる
ノボラック型エポキシ樹脂、さらには、グリシジルエス
テル型、グリシジルアミン型、脂環式エポキシ樹脂およ
びハロゲン化エポキシ樹脂などが使用できる。好ましく
は、電気特性、耐熱性などの面からノボラック型エポキ
シ樹脂が用いられる。また、上記エポキシ樹脂は、単独
で用いてもよく、複数のエポキシ樹脂を併用することも
できる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION As the epoxy resin (A) of the present invention, any epoxy resin that is usually used as a sealing material may be used, for example, diglycidyl ether type epoxy resin, epichlorohydrin and phenol novolak, Novolak type epoxy resins obtained by reaction with cresol novolak, furthermore, glycidyl ester type, glycidylamine type, alicyclic epoxy resin, halogenated epoxy resin and the like can be used. Preferably, a novolak type epoxy resin is used in terms of electrical characteristics, heat resistance and the like. The epoxy resin may be used alone, or a plurality of epoxy resins may be used in combination.

【0006】本発明における(B)エポキシ当量が10
00〜40000の粒子状ゴム状重合体(以下ゴム成分
(B)と称す)としては、エポキシ当量が1000より
小さいと、ゴム成分の弾性が低下し、改質効果が不十分
となり、エポキシ当量が40000より大きいと、マト
リクスとなるエポキシ樹脂との分散性が不十分となると
ともに、エポキシ樹脂との界面での接着性が小さいため
改質効果が低下することから、通常エポキシ当量が10
00〜40000のものが用いられるが、好ましくは、
エポキシ当量が1200〜20000、さらに好ましく
はエポキシ当量が1400〜15000のものが用いら
れる。本発明におけるゴム成分(B)は、常温でゴム状
のものであれば特に限定されるものではないが、通常、
ガラス転移温度(Tg)が0℃以下のものが用いられ
る。好ましくは、Tgが−10℃以下、さらに好ましく
は、Tgが−20℃以下のものが用いられる。本発明に
おけるエポキシ樹脂組成物は、ゴム成分(B)の含有量
が、通常0.1〜30重量%の範囲で用いられ、ゴム成
分(B)の含有量が0.1重量%未満では、改質効果が
不十分となり、30重量%を越えると組成物の粘度が高
くなりすぎるため、封止材として使用する場合に、成型
加工性が悪化し、好ましくない。
In the present invention, (B) the epoxy equivalent is 10
When the epoxy equivalent is less than 1000, the elasticity of the rubber component is reduced, the modifying effect becomes insufficient, and the epoxy equivalent becomes less than 100 to 40,000 as the particulate rubbery polymer (hereinafter referred to as rubber component (B)). If it is larger than 40,000, the dispersibility with the epoxy resin serving as the matrix becomes insufficient, and the adhesiveness at the interface with the epoxy resin is small, so that the modifying effect is reduced.
Although those having a size of from 00 to 40000 are used, preferably,
Those having an epoxy equivalent of 1200 to 20,000, more preferably 1400 to 15000 are used. The rubber component (B) in the present invention is not particularly limited as long as it is rubbery at normal temperature.
Those having a glass transition temperature (Tg) of 0 ° C. or less are used. Preferably, those having a Tg of -10 ° C or lower, more preferably those having a Tg of -20 ° C or lower are used. In the epoxy resin composition of the present invention, the content of the rubber component (B) is usually used in the range of 0.1 to 30% by weight, and when the content of the rubber component (B) is less than 0.1% by weight, If the modifying effect becomes insufficient, and if it exceeds 30% by weight, the viscosity of the composition becomes too high, and when used as a sealing material, the moldability deteriorates, which is not preferable.

【0007】ゴム成分(B)の製造方法としては、エポ
キシ基を有する不飽和重合性モノマー(以下エポキシモ
ノマーと称す)、不飽和重合性基を2個以上有する架橋
性モノマー(以下架橋性モノマーと称す)および、ゴム
成分(B)が常温でゴム状となる様に選択される1種以
上のその他モノマー(以下その他モノマーと称す)を共
重合する方法(以下製造方法Iと称す)を挙げることが
でき、さらにはエポキシ基以外の官能性基を有する不飽
和重合性モノマー(以下官能性モノマーと称す)、不飽
和重合性基を2個以上有する架橋性モノマーおよび、そ
の他モノマーを共重合した後、かかる官能基を変性する
ことでエポキシ基を導入する方法(以下製造方法IIと称
す)を挙げることができる。
The method for producing the rubber component (B) includes an unsaturated polymerizable monomer having an epoxy group (hereinafter referred to as an epoxy monomer) and a crosslinkable monomer having two or more unsaturated polymerizable groups (hereinafter referred to as a crosslinkable monomer). And a method of copolymerizing one or more other monomers (hereinafter, referred to as other monomers) selected so that the rubber component (B) becomes rubbery at room temperature (hereinafter referred to as Production Method I). After copolymerizing an unsaturated polymerizable monomer having a functional group other than an epoxy group (hereinafter referred to as a functional monomer), a crosslinkable monomer having two or more unsaturated polymerizable groups, and other monomers. And a method of introducing an epoxy group by modifying such a functional group (hereinafter referred to as Production Method II).

【0008】ゴム成分(B)の製造方法として、製造方
法Iを採用する場合の各モノマーの構成は以下を例示す
ることができる。エポキシモノマーとしては、グリシジ
ル(メタ)アクリレート、(メタ)アリルグリシジルエ
ーテルなどを挙げることができる。 架橋性モノマー
の例としては、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレー
ト、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレートなど挙げることができ
る。本発明におけるゴム成分(B)を構成する架橋モノ
マーの比率としては、実質的にエポキシ樹脂及びエポキ
シ樹脂硬化剤と相溶せず粒子状に分散されるものであれ
ば、特に限定されるものではないが、通常、共重合に用
いる全モノマーに占める架橋性モノマーの比率が1〜2
0重量%、好ましくは1.5〜15重量%、さらに好ま
しくは、2〜10重量%の範囲となるように用いられ
る。その他モノマーの例としては、ブタジエン、イソプ
レン、ジメチルブタジエン、クロロプレン、1、3ーペ
ンタジエン、(メタ)アクリロニトリル、α−クロロア
クリロニトリル、α−クロロメチルアクリロニトリル、
α−メトキシアクリロニトリル、α−エトキシアクリロ
ニトリル、クロトン酸ニトリル、ケイ皮酸ニトリル、イ
タコン酸ジニトリル、マレイン酸ジニトリル、フマル酸
ジニトリルなどの不飽和ニトリル化合物類;(メタ)ア
クリルアミド、N,N’ーメチレンビス(メタ)アクリ
ルアミド、N,N’ーエチレンビス(メタ)アクリルア
ミド、N,N’ーヘキサメチレンビス(メタ)アクリル
アミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミ
ド、N−(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルア
ミド、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)(メタ)
アクリルアミド、クロトン酸アミド、ケイヒ酸アミド等
の不飽和アミド類、(メタ)アクリル酸メチル、(メ
タ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、
(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ヘキシ
ル、(メタ)アクリル酸ラウリル、ポリエチレングリコ
ール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール
(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸エステ
ル類、スチレン、αーメチルスチレン、0ーメトキシス
チレンなどの芳香族ビニル化合物、ビスフェノールAの
ジグリシジルエーテル、グリコールのジグリシジルエー
テルなどと(メタ)アクリル酸、ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートなどとの反応によって得られるエ
ポキシ(メタ)アクリレートおよび、ヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレートとポリイソシアナートとの反応
によって得られるウレタン(メタ)アクリレートなどを
例示することができる。
When the production method I is adopted as the production method of the rubber component (B), the constitution of each monomer can be exemplified as follows. Examples of the epoxy monomer include glycidyl (meth) acrylate and (meth) allyl glycidyl ether. Examples of the crosslinkable monomer include divinylbenzene, diallyl phthalate, ethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and pentaerythritol triacrylate. The ratio of the crosslinking monomer constituting the rubber component (B) in the present invention is not particularly limited as long as it is not substantially compatible with the epoxy resin and the epoxy resin curing agent and is dispersed in particles. However, the ratio of the crosslinkable monomer to all the monomers used for copolymerization is usually 1 to 2
0% by weight, preferably 1.5 to 15% by weight, more preferably 2 to 10% by weight. Examples of other monomers include butadiene, isoprene, dimethylbutadiene, chloroprene, 1,3-pentadiene, (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, α-chloromethylacrylonitrile,
Unsaturated nitrile compounds such as α-methoxyacrylonitrile, α-ethoxyacrylonitrile, nitrile crotonic acid, nitrile cinnamate, dinitrile itaconate, dinitrile maleate, dinitrile fumarate; (meth) acrylamide, N, N′-methylenebis (meta) ) Acrylamide, N, N′-ethylenebis (meth) acrylamide, N, N′-hexamethylenebis (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) (meth) acrylamide, N-bis (2-hydroxyethyl) (meth)
Unsaturated amides such as acrylamide, crotonic amide, cinnamic amide, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate,
(Meth) acrylates such as butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene, 0 An epoxy (meth) acrylate obtained by reacting an aromatic vinyl compound such as -methoxystyrene, a diglycidyl ether of bisphenol A, a diglycidyl ether of glycol, and the like with (meth) acrylic acid, hydroxyalkyl (meth) acrylate, and the like; Examples thereof include urethane (meth) acrylate obtained by reacting hydroxyalkyl (meth) acrylate with polyisocyanate.

【0009】さらに、製造方法Iについて詳述する。製
造方法Iにおける重合方法としては、特に限定されるも
のではないが、乳化重合法を例示することができる。す
なわち、界面活性剤を用いて水中にモノマーを乳化し、
重合開始剤として過酸化物触媒、レドックス系触媒など
のラジカル重合開始剤を用い、メルカプタン、ハロゲン
化炭化水素などの分子量調節剤の存在下において、0〜
50℃で乳化重合を行い、所定の重合添加率に達した
後、N,N−ジエチルヒドロキシルアミンなどの反応停
止剤を添加して重合反応を停止させ、次いで重合系の未
反応モノマーを水蒸気蒸留などで除去することによって
ゴム成分を製造することができる。さらに、重合で得ら
れたゴム成分を含むラテックスを、塩析等の方法により
凝固させ、水洗、乾燥することで固体のゴム成分(B)
を得ることができる。ゴム成分の凝固方法として、塩析
による方法以外に、界面活性剤として、少なくともノニ
オン系界面活性剤を含む界面活性剤を用いた場合には、
ノニオン系の界面活性剤の曇点以上に加熱し、ゴム成分
を凝固することもできる。さらに、ノニオン系界面活性
剤以外の界面活性剤を用いて重合した場合にも、重合後
にノニオン系界面活性剤を添加し、曇点以上に加熱する
ことにより、ゴム成分を凝固することもできる。また、
得られたゴム成分(B)を粉砕することにより、粉末状
として使用することもできる。あるいは、重合で得られ
たゴム成分を含むラテックスを、スプレードライ等の方
法で直接粉末状とし使用することもできる。粉末状とし
て使用する場合、エポキシ樹脂(A)中にゴム成分
(B)を分散する工程で、計量、取り扱い等が容易であ
るばかりでなく、分散効率も高いことから好適に使用さ
れる。使用されるゴム成分(B)の粉末の粒度として
は、通常粉体として取り扱えるものであれば良いが、好
ましくは0.5mm以下が60重量%以上、さらに好ま
しくは0.25mm以下が60重量%以上の粒度分布の
ものが用いられる。また、ゴム成分(B)を粉末状とし
て使用する場合、ブロッキング防止のため、無機粉体を
打粉剤として粉末化時に添加することが好ましい。
Further, the manufacturing method I will be described in detail. The polymerization method in the production method I is not particularly limited, but may be an emulsion polymerization method. That is, emulsifying the monomer in water using a surfactant,
Using a radical polymerization initiator such as a peroxide catalyst or a redox catalyst as a polymerization initiator, in the presence of a molecular weight regulator such as mercaptan or a halogenated hydrocarbon, 0 to
Emulsion polymerization is performed at 50 ° C., and after reaching a predetermined polymerization addition rate, a reaction terminator such as N, N-diethylhydroxylamine is added to stop the polymerization reaction, and then the unreacted monomer of the polymerization system is subjected to steam distillation. The rubber component can be produced by removing the rubber component with the above method. Further, a latex containing a rubber component obtained by polymerization is coagulated by a method such as salting out, washed with water and dried to obtain a solid rubber component (B).
Can be obtained. As a method of coagulating the rubber component, in addition to the method by salting out, when a surfactant containing at least a nonionic surfactant is used as the surfactant,
The rubber component can be coagulated by heating to a temperature higher than the cloud point of the nonionic surfactant. Further, when the polymerization is carried out using a surfactant other than the nonionic surfactant, the rubber component can be coagulated by adding the nonionic surfactant after the polymerization and heating the mixture to a temperature higher than the cloud point. Also,
By pulverizing the obtained rubber component (B), it can be used as a powder. Alternatively, a latex containing a rubber component obtained by polymerization can be directly used as a powder by a method such as spray drying. When used as a powder, the rubber component (B) is preferably used in the step of dispersing the rubber component (B) in the epoxy resin (A) because it is not only easy to measure and handle, but also has a high dispersion efficiency. The particle size of the rubber component (B) powder to be used is not particularly limited as long as it can be usually handled as a powder, but preferably 0.5 mm or less is 60% by weight or more, more preferably 0.25 mm or less is 60% by weight. Those having the above particle size distribution are used. When the rubber component (B) is used as a powder, it is preferable to add an inorganic powder as a powdering agent at the time of powderization in order to prevent blocking.

【0010】ゴム成分(B)を乳化重合で製造する場合
に用いる界面活性剤としては、特に限定されるものでは
ないが、例えば、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ア
ルキルベンゼンスルホン酸塩等のアニオン系界面活性
剤、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルジ
メチルアンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン
アルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エ
ステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステ
ル、脂肪酸モノグリセリド等のノニオン系界面活性剤お
よび両性の界面活性剤、さらには反応性乳化剤のいずれ
か、または複数の界面活性剤を混合して用いることがで
きる。
The surfactant used when the rubber component (B) is produced by emulsion polymerization is not particularly limited, and examples thereof include anionic surfactants such as alkylnaphthalenesulfonate and alkylbenzenesulfonate. Agents, cationic surfactants such as alkyltrimethylammonium salts and dialkyldimethylammonium salts, nonionics such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl allyl ethers, polyoxyethylene fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, and fatty acid monoglycerides Either a system surfactant, an amphoteric surfactant, or a reactive emulsifier, or a mixture of a plurality of surfactants can be used.

【0011】ゴム成分(B)の製造方法として、製造方
法IIを採用する場合の各モノマーの構成は以下を例示す
ることができる。官能性モノマーとしては、アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸、テトラコン酸やコハク酸、フマル酸等のジカルボン
酸と付加重合性基を有する不飽和アルコールとのハーフ
エステルなどのカルボキシ基含有モノマー、ヒドロキシ
エチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシプ
ロピルメタクリレートなどの水酸基含有モノマー、アリ
ルアクリレート、アリルメタクリレート、ジシクロペン
タジエニルエチルアクリレート、エチリデンノルボルネ
ン、アクリロイルオキシエチルマレインモノエステルな
どの不等価ジ不飽和モノマー、モノクロロ酢酸ビニル、
クロロエチルアクリレート、クロロエチルメタクリレー
トなどのハロゲン含有モノマーなどを例示することがで
きる。これら官能性モノマーの使用量は、得られるゴム
成分(B)のエポキシ当量が1000〜40000とな
るように使用されれば特に限定されるものではなく、通
常は、官能性モノマーとエポキシ基導入に使用する変性
用化合物の種類に応じ、化学当量計算によって適宜使用
量を決定する。上記ゴム成分(B)前駆体を構成する架
橋モノマーの比率としては、製造方法Iによりゴム成分
(B)を得る製造方法と同様で良く比率に関し特に制限
はないものの、通常、共重合に用いる全モノマーに占め
る架橋性モノマーの比率が0.5〜20重量%、好まし
くは1〜15重量%、さらに好ましくは、2〜10重量
%の範囲となるように用いられる。
When the production method II is adopted as the production method of the rubber component (B), the constitution of each monomer can be exemplified as follows. Examples of the functional monomer include carboxylic acids such as half esters of dicarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, tetraconic acid, succinic acid, and fumaric acid with unsaturated alcohols having an addition-polymerizable group. Hydroxyl-containing monomers such as group-containing monomers, hydroxyethyl acrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, dicyclopentadienyl ethyl acrylate, ethylidene norbornene, acryloyloxyethyl maleate monoester, etc. Unequal diunsaturated monomer, vinyl monochloroacetate,
Examples thereof include halogen-containing monomers such as chloroethyl acrylate and chloroethyl methacrylate. The amount of the functional monomer used is not particularly limited as long as it is used so that the epoxy equivalent of the obtained rubber component (B) is from 1,000 to 40,000. The amount to be used is appropriately determined by calculating the chemical equivalent according to the type of the modifying compound to be used. The ratio of the crosslinking monomer constituting the rubber component (B) precursor may be the same as in the production method for obtaining the rubber component (B) by the production method I, and the ratio is not particularly limited. It is used so that the ratio of the crosslinking monomer to the monomer is in the range of 0.5 to 20% by weight, preferably 1 to 15% by weight, more preferably 2 to 10% by weight.

【0012】エポキシ基の導入方法は、共重合されてい
る官能基の種類により適宜選択すれば良く、例示すれば
官能基がビニル基の場合はアリルグリシジルエーテル、
グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートな
どの不飽和グリシジル化合物をラジカル開始剤の存在化
グラフト反応によりエポキシ基を導入する方法、カルボ
キシル基の場合ジグリシジルエーテル化合物、ジグリシ
ジルエステル化合物などの2個以上のエポキシ基を有す
る多官能エポキシ化合物との反応によりエポキシ基を導
入する方法を挙げることができる。また、このゴム成分
(B)の前駆体の製造において、用いられるその他モノ
マーとしては、特に限定されるものはないが、製造方法
Iと同様にブタジエン、イソプレン、ジメチルブタジエ
ン、クロロプレン、1、3ーペンタジエン、(メタ)ア
クリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、α−ク
ロロメチルアクリロニトリル、α−メトキシアクリロニ
トリル、α−エトキシアクリロニトリル、クロトン酸ニ
トリル、ケイ皮酸ニトリル、イタコン酸ジニトリル、マ
レイン酸ジニトリル、フマル酸ジニトリルなどの不飽和
ニトリル化合物類;(メタ)アクリルアミド、N,N’
ーメチレンビス(メタ)アクリルアミド、N,N’ーエ
チレンビス(メタ)アクリルアミド、N,N’ーヘキサ
メチレンビス(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシ
メチル(メタ)アクリルアミド、N−(2−ヒドロキシ
エチル)(メタ)アクリルアミド、N,N−ビス(2−
ヒドロキシエチル)(メタ)アクリルアミド、クロトン
酸アミド、ケイヒ酸アミド等の不飽和アミド類、(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、
(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチ
ル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸
ラウリル、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレートな
どの(メタ)アクリル酸エステル類、スチレン、αーメチ
ルスチレン、0ーメトキシスチレンなどの芳香族ビニル
化合物、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル、グ
リコールのジグリシジルエーテルなどと(メタ)アクリ
ル酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートなどと
の反応によって得られるエポキシ(メタ)アクリレート
および、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとポ
リイソシアナートとの反応によって得られるウレタン
(メタ)アクリレートなどを例示することができる。ま
た、ゴム成分(B)に必須であるエポキシ基を導入する
方法としては、上記で得られたゴム成分(B)前駆体を
過酸化水素/相関移動触媒、過酸化水素/有機酸、有機
過酸化物、Mn(IV)ポルフィリン錯体などでエポキ
シ基を導入する方法も例示することができる。
The method for introducing the epoxy group may be appropriately selected depending on the type of the functional group being copolymerized. For example, when the functional group is a vinyl group, allyl glycidyl ether,
A method in which an unsaturated glycidyl compound such as glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate is introduced into an epoxy group by a graft reaction in the presence of a radical initiator. In the case of a carboxyl group, two or more epoxy groups such as a diglycidyl ether compound and a diglycidyl ester compound are used. A method of introducing an epoxy group by reaction with a polyfunctional epoxy compound having the same. In the production of the precursor of the rubber component (B), other monomers used are not particularly limited, but as in Production Method I, butadiene, isoprene, dimethylbutadiene, chloroprene, 1,3-pentadiene , (Meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, α-chloromethylacrylonitrile, α-methoxyacrylonitrile, α-ethoxyacrylonitrile, nitrile crotonic acid, nitrile cinnamate, dinitrile itaconic acid, dinitrile maleate, dinitrile fumarate and the like. Saturated nitrile compounds; (meth) acrylamide, N, N '
-Methylenebis (meth) acrylamide, N, N'-ethylenebis (meth) acrylamide, N, N'-hexamethylenebis (meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N- (2-hydroxyethyl) (meth) acrylamide , N, N-bis (2-
Unsaturated amides such as (hydroxyethyl) (meth) acrylamide, crotonic amide, cinnamic acid amide, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate,
(Meth) acrylates such as propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, and polypropylene glycol (meth) acrylate , Styrene, α-methylstyrene, aromatic vinyl compounds such as 0-methoxystyrene, diglycidyl ether of bisphenol A, diglycidyl ether of glycol, etc., and (meth) acrylic acid, hydroxyalkyl (meth) acrylate, etc. Examples include epoxy (meth) acrylate and urethane (meth) acrylate obtained by reacting hydroxyalkyl (meth) acrylate with polyisocyanate. As a method for introducing an epoxy group which is essential to the rubber component (B), the rubber component (B) precursor obtained above may be prepared by adding hydrogen peroxide / phase transfer catalyst, hydrogen peroxide / organic acid, or organic peroxide. A method of introducing an epoxy group with an oxide, a Mn (IV) porphyrin complex or the like can also be exemplified.

【0013】ゴム成分(B)の製造において製造方法II
を採用した場合の、ゴム成分(B)前駆体の重合方法と
しては、製造方法Iにおけるゴム成分(B)の重合方法
と同様に乳化重合法が好適に使用される。また、得られ
たゴム成分(B)前駆体へのエポキシ基導入は、例え
ば、ゴム成分(B)前駆体がラテックスの状態で、前述
のいずれかの方法でエポキシ基を導入を行ってもよく、
あるいは、ゴム成分(B)前駆体を、固体状として取り
出し、有機溶剤に分散した後、前述のいずれかの方法で
エポキシ基を導入しても良い。
In the production of the rubber component (B), the production method II
When the rubber component (B) precursor is polymerized, an emulsion polymerization method is preferably used in the same manner as the polymerization method of the rubber component (B) in the production method I. The introduction of the epoxy group into the obtained rubber component (B) precursor may be performed, for example, by introducing the epoxy group by any of the above-described methods in a state where the rubber component (B) precursor is in a latex state. ,
Alternatively, the rubber component (B) precursor may be taken out as a solid, dispersed in an organic solvent, and then an epoxy group may be introduced by any of the methods described above.

【0014】本発明においてゴム成分(B)の粒子の大
きさは通常20〜500nm、好ましくは30〜200
nmのものが使用される。本発明において、エポキシ樹
脂(A)にゴム成分(B)を分散させる方法としては、
ゴム成分(B)がエポキシ樹脂(A)に粒子状に分散す
る方法であれば特に限定されるものではないが、例え
ば、エポキシ樹脂(A)として常温固体のものを用い、
ゴム成分(B)として粉末状のものを用いる場合には、
方法:ロール、ニーダー、押し出し機等の混練機を用
いる方法、エポキシ樹脂(A)として常温液状のものを
用い、ゴム成分(B)として粉末状のものを用いる場合
には、方法の他に、方法:ホモミキサー、ホモミキ
サー等の乳化分散機を用いる方法等が、さらに、エポキ
シ樹脂(A)として常温液状のものを用い、ゴム成分
(B)をラテックス状態で用いる場合には、方法:乳
化分散機を用いてゴム成分(B)をエポキシ樹脂(A)
に分散した後、脱水する方法を例示することができる。
さらには、方法:としてノニオン界面活性剤を含有す
るラテックス状態のゴム成分(B)を用い、液状のエポ
キシ樹脂(A)と混合後、ノニオン界面活性剤の曇点を
利用して加熱することにより、エポキシ樹脂(A)とゴ
ム成分(B)を共凝固した後脱水することにより製造す
ることもできる。
In the present invention, the particle size of the rubber component (B) is usually from 20 to 500 nm, preferably from 30 to 200 nm.
nm. In the present invention, as a method of dispersing the rubber component (B) in the epoxy resin (A),
The rubber component (B) is not particularly limited as long as it is a method in which the rubber component (B) is dispersed in the epoxy resin (A) in the form of particles.
When a powdery rubber component (B) is used,
Method: A method using a kneader such as a roll, a kneader, an extruder, or a method using a liquid at room temperature as the epoxy resin (A) and a powdery material as the rubber component (B), in addition to the method, Method: A method using an emulsifying and dispersing machine such as a homomixer, a homomixer, and the like. Further, when an epoxy resin (A) is a liquid at room temperature and the rubber component (B) is used in a latex state, the method is emulsification. The rubber component (B) is converted to an epoxy resin (A) using a disperser.
And then dehydrated.
Further, as a method, a rubber component (B) in a latex state containing a nonionic surfactant is used as a method, mixed with a liquid epoxy resin (A), and then heated using the cloud point of the nonionic surfactant. It can also be produced by co-coagulating the epoxy resin (A) and the rubber component (B) and then dehydrating.

【0015】本発明におけるエポキシ樹脂組成物は、エ
ポキシ樹脂硬化剤と混合し硬化することにより封止材と
して用いられる。エポキシ樹脂硬化剤としては、エポキ
シ樹脂と反応し硬化するものであれば特に限定されず、
エポキシ樹脂(A)の種類や封止材としての使用法や用
途によって選択されるが、好ましくは硬化後の電気特性
に優れるフェノール樹脂、酸無水物等が用いられる。本
発明において、硬化剤の配合比は、エポキシ基/エポキ
シ基と反応する官能基の化学当量比から決定するもの
で、通常、化学当量比が0.8から1.2となるよう配
合することが好ましい。また、本発明においてエポキシ
樹脂と硬化剤の硬化反応を促進するために、硬化促進剤
を用いても良い。硬化促進剤としては、例えば、トリフ
ェニルホスフィン、トリ(ノニルフェニル)ホスフィン
等の有機ホスフィン系化合物、2−メチルイミダゾー
ル、2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール化合
物、ベンジルジメチルアミン、1、8−ジアザビシクロ
(5,4,0)ウンデセン等の3級アミン化合物などが
あげられる。さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物に
は、必要に応じ、シリカ等の無機フィラーおよび、離型
剤、難燃剤、着色剤、カップリング剤等の添加剤を配合
することができる。
The epoxy resin composition of the present invention is used as a sealing material by mixing with an epoxy resin curing agent and curing. The epoxy resin curing agent is not particularly limited as long as it reacts with the epoxy resin and cures.
It is selected depending on the type of the epoxy resin (A), the method of use and application as a sealing material, and preferably a phenol resin, an acid anhydride, or the like having excellent electrical properties after curing is used. In the present invention, the compounding ratio of the curing agent is determined from the chemical equivalent ratio of the epoxy group / functional group that reacts with the epoxy group, and is usually compounded so that the chemical equivalent ratio is 0.8 to 1.2. Is preferred. In the present invention, a curing accelerator may be used to accelerate the curing reaction between the epoxy resin and the curing agent. Examples of the curing accelerator include organic phosphine compounds such as triphenylphosphine and tri (nonylphenyl) phosphine, imidazole compounds such as 2-methylimidazole and 2-phenylimidazole, benzyldimethylamine, and 1,8-diazabicyclo (5 And tertiary amine compounds such as (4,0) undecene. Further, the epoxy resin composition of the present invention may optionally contain an inorganic filler such as silica, and additives such as a release agent, a flame retardant, a coloring agent, and a coupling agent.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明の実施例について述べるが、本
発明がこれらに限定されるものではない。なお、例中の
記載において「部」は重量部を表す。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. In the description in the examples, "parts" represents parts by weight.

【0017】(1) ゴム成分(B)の製造 表1に示すモノマー組成で下記の重合処方により、10℃
にて乳化重合を行い、重合添加率90%で、モノマー10
0部に対し、0.2部のヒドロキシルアミン硫酸塩を添
加し重合を停止させた。得られたラテックスから水蒸気
蒸留により、残留モノマーを除去した後、ゴム固形分1
00部当たり、老化防止剤としてアルキル化フェノール
1.5部を添加し、塩化カルシウム水溶液で凝固し、水
洗後、熱風乾燥機で90℃で2時間乾燥し固形のクラム
状のゴム成分(B)を得た。 重合処方 モノマー 100部 水 220部 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 3部 塩化カリウム 0.04部 エチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩 0.09部 ハイドロサルファイト 0.05部 第三級ドデシルメルカプタン 0.2部 硫酸第一鉄 0.016部 ナトリウムホルムアルテ゛ヒト゛スルホキシレート 0.05部 パラメンタンハイドロパーオキサイド 0.05部 得られたクラム状のゴム成分を、ターボミル(ターボ工
業(株)製粉砕機)にて粉砕し、0.5mm(20メッ
シュ)以下99重量%の粒度分布を有する粉末状のゴム
成分(B)を得た。なお、粉砕時に、ブロッキング防止
のため、タルクを15部添加した。
(1) Production of Rubber Component (B)
Emulsion polymerization at a polymerization addition rate of 90%,
The polymerization was terminated by adding 0.2 parts of hydroxylamine sulfate to 0 parts. After removing residual monomers from the obtained latex by steam distillation, a rubber solid content of 1
Per 100 parts, 1.5 parts of an alkylated phenol is added as an antioxidant, coagulated with an aqueous solution of calcium chloride, washed with water, and dried at 90 ° C. for 2 hours with a hot air drier to obtain a solid crumb rubber component (B). I got Polymerization prescription Monomer 100 parts Water 220 parts Sodium dodecylbenzenesulfonate 3 parts Potassium chloride 0.04 parts Sodium ethylenediaminetetraacetate 0.09 parts Hydrosulfite 0.05 parts Tertiary dodecyl mercaptan 0.2 parts Ferrous sulfate 0.016 parts Sodium form art human sulfoxylate 0.05 parts Paramenthane hydroperoxide 0.05 parts The obtained crumb-like rubber component is pulverized by a turbo mill (a pulverizer manufactured by Turbo Kogyo Co., Ltd.) to a thickness of 0.5 mm. (20 mesh) A powdery rubber component (B) having a particle size distribution of 99% by weight or less was obtained. At the time of pulverization, 15 parts of talc were added to prevent blocking.

【0018】[0018]

【表1】 *1:臭化テトラエチルアンモニウム−過塩素酸法による
測定(単位:g/モル) *2:DSCによる測定
[Table 1] * 1: Measurement by tetraethylammonium bromide-perchloric acid method (unit: g / mol) * 2: Measurement by DSC

【0019】(2)エポキシ樹脂組成物の製造および評
価 実施例1、2 表2に示す配合で、ゴム成分(B)、エポキシ樹脂およ
びその他成分を熱ロールにより、100℃で混練後、冷
却したものを粉砕し、エポキシ樹脂組成物を製造し、所
定の型を用い、180℃5分加熱硬化後、180℃6時
間後加熱し、評価用エポキシ樹脂成型物を得た。
(2) Production and Evaluation of Epoxy Resin Composition Examples 1 and 2 The rubber component (B), epoxy resin and other components were kneaded at 100 ° C. by a hot roll in the composition shown in Table 2 and then cooled. The obtained product was pulverized to produce an epoxy resin composition, which was heated and cured at 180 ° C. for 5 minutes using a predetermined mold, and then heated at 180 ° C. for 6 hours to obtain an epoxy resin molded product for evaluation.

【0020】[0020]

【表2】 [Table 2]

【0021】表2において、ゴム成分(B)の配合量
は、用いた粉末状のゴム成分(B)中のタルクを含む。
評価方法としては、以下の方法を用いた。 曲げ強度および弾性率:JISK6911により、3点
曲げ試験を表中に示す雰囲気下で行い測定した。 耐クラック性:JISB1251に規定する2号12S
座金を埋め込んだ成型物を用い、−55℃/5分と15
0℃/5分を1サイクルとする冷熱サイクル試験を行
い、クラックの発生率が50%となるサイクル数を示し
た。 接着性:42アロイを被着体とし、2mm厚の樹脂層を
被覆した成型物を用い、PCT(121℃、96時間)
後に、被着体と樹脂層との剥離発生有無を確認し、5サ
ンプル中の剥離発生数で表示(○/5)した。 吸水率:JISK6911により測定した。 体積固有抵抗:JISK6911により測定した。
In Table 2, the compounding amount of the rubber component (B) includes talc in the powdery rubber component (B) used.
The following method was used as the evaluation method. Flexural strength and elastic modulus: Measured according to JIS K6911 by conducting a three-point bending test under the atmosphere shown in the table. Crack resistance: No. 12S specified in JIS B1251
Using a molded product with embedded washers,
A cooling / heating cycle test was performed with 0 ° C./5 minutes as one cycle, and the number of cycles at which the crack generation rate became 50% was shown. Adhesion: PCT (121 ° C., 96 hours) using a molded product coated with a 42 mm alloy resin layer and a 2 mm thick resin layer
Thereafter, the presence or absence of peeling between the adherend and the resin layer was confirmed, and the number of peelings in five samples was indicated (発 生 / 5). Water absorption: Measured according to JIS K6911. Volume resistivity: Measured according to JIS K6911.

【0022】実施例3〜6 表2に示す配合で、ゴム成分(B)を、エポキシ樹脂中
に乳化分散機を用い分散した後、その他成分を混合する
ことによりエポキシ樹脂組成物を製造し、実施例1と同
様に評価した。結果を表2に示す。
Examples 3 to 6 With the composition shown in Table 2, the rubber component (B) was dispersed in an epoxy resin using an emulsifying and dispersing machine, and then the other components were mixed to produce an epoxy resin composition. Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.

【0023】比較例1、2 表2に示す配合で、比較例1としては、ゴム成分を配合
しないで、比較例2としては、ゴム成分として線状のカ
ルボキシル末端の液状NBRを用いた以外は、実施例と
同様に評価した。結果を表2に示す。表2に示す配合成
分のうち、エポキシ樹脂I〜III および硬化剤は以下
の物を用いた。 エポキシ樹脂I:エポキシ当量213、軟化点67℃の
クレゾールノボラックエポキシ樹脂 エポキシ樹脂II:エポキシ当量175の液状フェノール
ノボラックエポキシ樹脂エポキシ樹脂III :エポキシ
当量180の液状ビスフェノールFジグリシジルエーテ
ルエポキシ樹脂 フェノール樹脂:水酸基当量108のフェノールノボラ
ック樹脂 酸無水物 :メチルテトラヒドロ無水フタル酸
COMPARATIVE EXAMPLES 1 AND 2 [0023] The rubber composition is shown in Table 2 except that no rubber component was used in Comparative Example 1 and that a linear carboxyl-terminated liquid NBR was used as rubber component in Comparative Example 2. Evaluation was made in the same manner as in Examples. Table 2 shows the results. Among the components shown in Table 2, the following epoxy resins I to III and a curing agent were used. Epoxy resin I: Cresol novolak epoxy resin having an epoxy equivalent of 213 and a softening point of 67 ° C. Epoxy resin II: Liquid phenol novolak epoxy resin having an epoxy equivalent of 175 Epoxy resin III: Liquid bisphenol F diglycidyl ether epoxy resin having an epoxy equivalent of 180 Phenol resin: hydroxyl group Phenol novolak resin with an equivalent weight of 108 Acid anhydride: methyltetrahydrophthalic anhydride

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は、
耐クラック性および接着性に優れることから、半田付け
工程におけるクラックおよび剥離の発生防止、すなわち
半田耐熱性に優れ、高信頼性を有する、低弾性率かつ高
強度の封止材用エポキシ樹脂組成物であり、電子部品
の、封止用樹脂組成物として有効に使用される。
The sealing epoxy resin composition of the present invention comprises:
Since it is excellent in crack resistance and adhesiveness, it prevents cracking and peeling in the soldering process, that is, it has excellent solder heat resistance, high reliability, low elastic modulus and high strength epoxy resin composition for sealing material And is effectively used as a resin composition for sealing electronic components.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(A)エポキシ樹脂、(B)エポキシ当量
が1000〜40000の粒子状ゴム状重合体を含む樹
脂組成物であって、前記(B)粒子状ゴム状重合体の含
有量が0.1〜30重量%である封止材用エポキシ樹脂
組成物。
1. A resin composition comprising (A) an epoxy resin and (B) a particulate rubbery polymer having an epoxy equivalent of 1,000 to 40,000, wherein the content of the (B) particulate rubbery polymer is An epoxy resin composition for a sealing material which is 0.1 to 30% by weight.
JP10827797A 1997-04-10 1997-04-10 Epoxy resin composition for sealing material Pending JPH10287792A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10827797A JPH10287792A (en) 1997-04-10 1997-04-10 Epoxy resin composition for sealing material

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10827797A JPH10287792A (en) 1997-04-10 1997-04-10 Epoxy resin composition for sealing material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10287792A true JPH10287792A (en) 1998-10-27

Family

ID=14480573

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10827797A Pending JPH10287792A (en) 1997-04-10 1997-04-10 Epoxy resin composition for sealing material

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10287792A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007029504A1 (en) * 2005-09-02 2007-03-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Epoxy resin composition and die bonding material comprising the composition
JP2010278972A (en) * 2009-06-01 2010-12-09 Murata Mfg Co Ltd Elastic wave device
JP2010278971A (en) * 2009-06-01 2010-12-09 Murata Mfg Co Ltd Elastic wave device
US8217098B2 (en) 2007-02-28 2012-07-10 Kaneka Corporation Thermosetting resin composition having rubbery polymer particle dispersed therein, and process for production thereof

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007029504A1 (en) * 2005-09-02 2007-03-15 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Epoxy resin composition and die bonding material comprising the composition
KR100900863B1 (en) 2005-09-02 2009-06-04 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 Epoxy resin composition and die bonding material comprising the composition
JP4809355B2 (en) * 2005-09-02 2011-11-09 信越化学工業株式会社 Epoxy resin composition and die-bonding agent containing the composition
US8217098B2 (en) 2007-02-28 2012-07-10 Kaneka Corporation Thermosetting resin composition having rubbery polymer particle dispersed therein, and process for production thereof
JP2010278972A (en) * 2009-06-01 2010-12-09 Murata Mfg Co Ltd Elastic wave device
JP2010278971A (en) * 2009-06-01 2010-12-09 Murata Mfg Co Ltd Elastic wave device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20020089071A1 (en) Liquid epoxy resin composition and semiconductor device
JP2006104328A (en) Thermosetting resin composition and its use
JP4186737B2 (en) Low elastic modulus thermosetting resin composition, thermosetting film using the composition, and cured products thereof
Ho et al. Toughening of epoxy resins by modification with dispersed acrylate rubber for electronic packaging
JPH10287792A (en) Epoxy resin composition for sealing material
JPH02117948A (en) Modified epoxy composition
JP2002003699A (en) Epoxy resin composition, method of manufacturing the same and hardened matter of epoxy resin
JP3116577B2 (en) Epoxy composition for semiconductor encapsulation
JP2000234043A (en) Resin paste composition and semiconductor device prepared by using the same
JP4469481B2 (en) Photosensitive resin composition
JP2751071B2 (en) Method for producing modified epoxy composition
JP4265062B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JPH04202318A (en) Epoxy resin composition
JP4824876B2 (en) Circuit connection paste material
JP4420266B2 (en) Paste resin composition for circuit connection and method of using the same
JP3147402B2 (en) Epoxy composition for semiconductor encapsulation
JP2001319523A (en) Conductive paste composition
JPH0791364B2 (en) Solder heat resistant epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP2002111178A (en) Method of forming conductive portion and semiconductor device
JP2002060467A (en) Thermosetting resin composition and its cured item
JP3973117B2 (en) Epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JPH05339471A (en) Composition for casting material
JP2692208B2 (en) Modified epoxy composition
JPH0299551A (en) Epoxy-based resin composition
JPH02132118A (en) Resin composition for semiconductor sealing use