JPH10278212A - Production of composite laminate - Google Patents

Production of composite laminate

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Publication number
JPH10278212A
JPH10278212A JP9240008A JP24000897A JPH10278212A JP H10278212 A JPH10278212 A JP H10278212A JP 9240008 A JP9240008 A JP 9240008A JP 24000897 A JP24000897 A JP 24000897A JP H10278212 A JPH10278212 A JP H10278212A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laminate
adhesive
pressure environment
film
laminated
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9240008A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Kodera
聰 小寺
Masataka Jo
雅隆 城
Itsuo Kuraki
逸生 椋木
Tsuneo Nagata
恒雄 永田
Yasuo Hashimoto
康夫 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NITTO DENZAI KK
Yamamoto Vinita Co Ltd
Original Assignee
NITTO DENZAI KK
Yamamoto Vinita Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Publication of JPH10278212A publication Critical patent/JPH10278212A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate the remaining of air bubbles in the adhesive layer of a composite laminate. SOLUTION: At least two laminating materials A are bonded through a film-shaped adhesive B to produce a composite laminate D. In this case, a laminating process P1 alternately laminating the laminating materials A and the film like adhesive B to obtain a laminate raw material C, a degassing and bonding process P2 applying electromagnetic wave heating to the laminate raw material C obtained in the laminating process P1 in reduced pressure environment to mutually bond the laminated laminating materials A and an air supply process P3 supplying air to the reduced pressure environment after the completion of the degassing and bonding process P2 to return the reduced pressure environment to atmospheric pressure environment are provided.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、主に透明な板ガラ
スや透明な合成樹脂板を接着剤層を挟んで複数層に形成
した複合積層体を製造するための方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a composite laminate in which a transparent plate glass or a transparent synthetic resin plate is formed in a plurality of layers with an adhesive layer interposed therebetween.

【0002】[0002]

【従来の技術】複合積層体は、異なった性質を有する複
数の材料を組み合わせることによって得られる材料であ
り、複合することによって、単一の材料よりも優れた特
性のものが得られることから、現在、各種の分野で盛ん
に研究されており、すでに一部実用化されるに到ってい
る。
2. Description of the Related Art A composite laminate is a material obtained by combining a plurality of materials having different properties, and a composite having a characteristic superior to that of a single material is obtained. Currently, it is being actively studied in various fields, and some of them have already been put to practical use.

【0003】従来、上記のような板状の複合積層体は、
所定の材料(基材)の表面に接着剤を塗布し、この接着
剤の塗布された基材の上に他の基材を重ね合わせてから
自然硬化させたり、あるいは外部加熱による強制硬化処
理を施すことによって製造されていたが、このような方
法では製品が得られるまでに長時間を要し、生産性が低
いばかりか、特に外部加熱を行うと、熱が積層体内の接
着剤に到達するまでに基材の層を通過しなければならな
いため、接着剤に対する加熱効率が悪くなるとともに、
基材に熱的な悪影響を及ぼすことがあるという問題点を
有していた。
[0003] Conventionally, a plate-like composite laminate as described above has
An adhesive is applied to the surface of a predetermined material (substrate), and another substrate is superimposed on the substrate to which the adhesive is applied and then naturally cured, or a forced curing treatment by external heating is performed. Although it was manufactured by applying, such a method takes a long time to obtain a product, not only low productivity, but also when the external heating is performed, heat reaches the adhesive in the laminate Before passing through the layer of the base material, the heating efficiency of the adhesive becomes worse,
There has been a problem that the substrate may be adversely affected by heat.

【0004】そこで、近年、熱可塑性を有する合成樹脂
製のフィルムを接着剤として用い、このフィルム状の接
着剤を基材の間に介在させて積層体を形成し、高周波等
の電気的振動を利用して上記積層体中の接着剤を加熱溶
融し、これによってフィルム状の接着剤に接着機能を発
揮させるようにした板状複合積層体の製造方法が注目さ
れている。
Therefore, in recent years, a film made of a synthetic resin having thermoplasticity is used as an adhesive, and a laminate is formed by interposing the film-like adhesive between the base materials to form an electric vibration such as a high frequency. Attention has been focused on a method of manufacturing a plate-like composite laminate in which the adhesive in the laminate is heated and melted by using the adhesive, thereby exerting an adhesive function on the film-like adhesive.

【0005】かかる電気的な振動を利用した板状複合積
層体の製造方法としては、特開平3−34850号公
報、特公平3−36663号公報、特開昭62−873
25号公報、特開平6−293076号公報、特開平6
−293077号公報、特開平6−298549号公
報、特開平6−336909号公報等に記載されたもの
が知られている。
As a method for producing a plate-like composite laminate utilizing such electric vibration, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 3-34850, 3-36663, and 62-873 have been disclosed.
No. 25, JP-A-6-293076, JP-A-6-293076
Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 293077, 6-298549 and 6-336909 are known.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
方法で透明ガラスや透明合成樹脂板を積層して透明な複
合積層体を製造するに際しては、接着剤層中に気泡が生
じることが多く、気泡が混じると複合積層体としての見
栄えを低下させるばかりか、その部分の光の屈折率が他
の部分と異なったものになり、複合積層体の光学的な用
途における品質を低下させるという問題点を有してい
た。
However, when producing a transparent composite laminate by laminating a transparent glass or a transparent synthetic resin plate by the above-mentioned conventional method, air bubbles often occur in the adhesive layer, When air bubbles are mixed, not only does the appearance of the composite laminate deteriorate, but also the refractive index of light in that portion becomes different from that of other portions, and the quality of the composite laminate in optical applications deteriorates. Had.

【0007】そこで、特開平3−34850号公報に記
載の発明においては、減圧状態で積層体に電磁波を印加
することによって気泡を取り除きながら加熱処理を施す
ようにしているが、単純に減圧処理を施しても、気泡を
完全に取り去ることは困難であり、特に、積層体の縁部
に気泡が残留するという問題点を有していた。この気泡
の残留は、積層体が大型化するにつれて顕著になる傾向
にある。
Therefore, in the invention described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-34850, a heat treatment is performed while removing bubbles by applying an electromagnetic wave to the laminate in a reduced pressure state. Even if applied, it is difficult to completely remove the air bubbles, and in particular, there is a problem that the air bubbles remain at the edge of the laminate. The residual air bubbles tend to become more pronounced as the size of the laminate increases.

【0008】なお、上記気泡は、透明ガラス等と接着剤
層との積層操作時に、外気が閉じ込められて形成される
のが一般的であるが、これ以外に高周波加熱時の、いわ
ゆるエッジ効果で積層体の縁部が過加熱されることによ
り、縁部にある接着剤層の一部(例えば水分等)がガス
化し、これによって積層体の縁部に特に気泡が生成し易
くなると考えられる。
[0008] The bubbles are generally formed by trapping the outside air during the laminating operation of the transparent glass or the like and the adhesive layer. It is considered that by overheating the edge of the laminate, a part (for example, moisture) of the adhesive layer at the edge is gasified, whereby air bubbles are particularly likely to be generated at the edge of the laminate.

【0009】本発明は、上記のような状況に鑑みなされ
たものであり、気泡の残留を確実になくすことができる
複合積層体の製造方法を提供することを目的としてい
る。
The present invention has been made in view of the above situation, and has as its object to provide a method of manufacturing a composite laminate in which bubbles can be reliably prevented from remaining.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
複数枚の積層材の各積層材間にフィルム状接着剤を介在
させて得られた積層体原料に減圧環境で電磁波加熱を施
して上記積層材を相互に接着する脱気・接着工程と、こ
の脱気・接着工程の終了後に上記減圧環境に空気を供給
することによって減圧環境を常圧環境に戻す給気工程と
からなることを特徴とするものである。
According to the first aspect of the present invention,
A degassing / adhering step of applying electromagnetic wave heating in a reduced pressure environment to a laminated material obtained by interposing a film adhesive between the laminated materials of a plurality of laminated materials to adhere the laminated materials to each other, After the deaeration / adhesion step, an air supply step of returning the reduced pressure environment to the normal pressure environment by supplying air to the reduced pressure environment is provided.

【0011】請求項2記載の発明は、複数枚の積層材の
各積層材間にフィルム状接着剤を介在させて積層体原料
を得る積層工程と、この積層工程で得られた積層体原料
に減圧環境で電磁波加熱を施して上記積層材を相互に接
着する脱気・接着工程と、この脱気・接着工程の終了後
に上記減圧環境に空気を供給することによって減圧環境
を常圧環境に戻す給気工程とからなることを特徴とする
ものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a laminating step in which a film-like adhesive is interposed between each of a plurality of laminated materials to obtain a laminated material, and a laminating material obtained in the laminating step. A degassing / adhering step of applying electromagnetic wave heating in a depressurized environment to bond the laminated materials to each other, and supplying air to the depressurized environment after completion of the degassing / adhering step, thereby returning the depressurized environment to a normal pressure environment. And an air supply step.

【0012】請求項1および2記載の発明によれば、フ
ィルム状接着剤を介して交互に積層されて形成した積層
体原料は、脱気・接着工程において減圧環境下で誘電加
熱あるいはマイクロ波加熱による電磁波加熱が施され、
これによるフィルム状接着剤の溶融によって積層材が相
互に接着される。そして、フィルム状接着剤が溶融され
た状態で、積層体原料が存在する空間は減圧環境になっ
ているため、接着剤中に存在する気泡は外部に吸い出さ
れ、これによって接着剤中の気泡は除去され易くなる。
According to the first and second aspects of the present invention, the laminate raw material formed by alternately laminating via a film-like adhesive is subjected to dielectric heating or microwave heating in a degassing / bonding process under a reduced pressure environment. Is subjected to electromagnetic wave heating,
The laminated materials are bonded to each other by the melting of the film adhesive. Then, in a state where the film-like adhesive is melted, the space in which the laminate material is present is in a decompressed environment, so that the air bubbles existing in the adhesive are sucked out, and thus the air bubbles in the adhesive are removed. Is easily removed.

【0013】ついで、脱気・接着工程の終了後の給気工
程において、減圧環境には空気が供給されるため、空気
の存在によって積層体原料が存在する密閉空間は常圧環
境になり、今まで略真空状態のため低温であった密閉空
間は、空気の存在で伝熱および熱対流によって周りの熱
を得て昇温され、この熱が逆に積層体原料の端縁部分に
供給されることによって端縁部分が昇温され、これによ
って積層体原料の端縁部分の溶融接着剤の流動性が向上
するとともに、端縁部分に存在する気泡の圧力が増大す
る。
Next, in the air supply step after the deaeration / adhesion step, air is supplied to the decompressed environment, and the presence of the air causes the enclosed space in which the laminate material is present to become a normal pressure environment. The enclosed space, which had been low temperature due to the substantially vacuum state, was heated by the heat of the surroundings due to heat transfer and thermal convection due to the presence of air, and this heat was conversely supplied to the edge portion of the laminate material As a result, the temperature of the edge portion is raised, whereby the flowability of the molten adhesive at the edge portion of the laminate raw material is improved, and the pressure of the bubbles existing at the edge portion is increased.

【0014】この流動性の向上および気泡の圧力の増大
によって、積層体原料の端縁部分に存在する気泡の四囲
の力学的バランスが崩れ、しかも、積層体原料の中央部
分よりも縁部の方が接着剤の流動性の向上により気泡が
運動し易い状態になっているため、気泡は端縁の方向に
移動して外部に抜け、これによって脱気・接着工程にお
いて除去し得なかった端縁部分に残留している気泡が取
り除かれる。
Due to the improvement of the fluidity and the increase of the pressure of the bubbles, the mechanical balance of the surroundings of the bubbles existing at the edge portions of the raw material for the laminate is lost, and moreover, the edges of the raw material for the laminate are closer to the edges than the central portion. However, the bubbles move easily in the direction of the edges due to the improvement in the flowability of the adhesive, so that the bubbles move to the outside of the edge, and thereby the edges that could not be removed in the deaeration / adhesion process. Air bubbles remaining in the part are removed.

【0015】請求項3記載の発明は、請求項1または2
記載の発明において、上記給気工程の後に養生工程が付
加されていることを特徴とするものである。
The third aspect of the present invention provides the first or second aspect.
In the described invention, a curing step is added after the air supply step.

【0016】この発明によれば、積層体原料は、養生工
程での静置による放冷によって積層材相互の接着状態が
安定するとともに、放冷による温度低下で軟化していた
フィルム状接着剤が硬化し、各積層材がフィルム状接着
剤を介して相互に確実に接着した複合積層体が得られ
る。
According to the present invention, the laminated material is stabilized by leaving it to stand in the curing step to stabilize the bonding state between the laminated materials, and the film-like adhesive which has been softened by the temperature drop due to the cooling. After curing, a composite laminate in which the respective laminates are securely bonded to each other via the film adhesive is obtained.

【0017】請求項4記載の発明は、請求項1乃至3の
いずれかに記載の複合積層体の製造方法において、上記
給気工程の後に上記供給された空気を吸引除去して再度
減圧環境にする再脱気工程と、この再脱気工程の終了後
に減圧環境を再度常圧環境に戻して養生する養生工程と
が付加されていることを特徴とするものである。
According to a fourth aspect of the present invention, in the method for manufacturing a composite laminate according to any one of the first to third aspects, the supplied air is suctioned and removed after the air supply step, and the compressed air is returned to the reduced pressure environment. And a curing step of returning the reduced-pressure environment to the normal-pressure environment and curing after the completion of the re-aeration step.

【0018】この発明によれば、吸気工程においてフィ
ルム状接着剤の縁部の温度が予定の温度、すなわちフィ
ルム状接着剤の融点よりも大幅に高くなった場合、フィ
ルム状接着剤が熱分解して分解ガスが発生し、この分解
ガスによって複合積層体の縁部に気泡が形成されたとし
ても、付加された再脱気工程において複合積層体の周り
が減圧環境にされるため、上記分解ガスは減圧環境の方
に移動して溶融状態の接着剤から外部に抜け、分解ガス
に起因した気泡が除去される。
According to the present invention, when the temperature of the edge of the film adhesive becomes significantly higher than a predetermined temperature, that is, the melting point of the film adhesive in the suction process, the film adhesive is thermally decomposed. Even if air bubbles are formed at the edge of the composite laminate by the decomposition gas, the decomposed gas is generated around the composite laminate in the added degassing step. Moves toward the reduced pressure environment and escapes from the adhesive in the molten state to the outside, and bubbles caused by the decomposition gas are removed.

【0019】請求項5記載の発明は、請求項4記載の発
明において、上記再給気工程の後に養生工程が付加され
ていることを特徴とするものである。
According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect, a curing step is added after the re-supplying step.

【0020】この発明によれば、積層体原料は、養生工
程での静置による放冷によって積層材相互の接着状態が
安定するとともに、放冷による温度低下で軟化していた
フィルム状接着剤が硬化し、各積層材がフィルム状接着
剤を介して相互に確実に接着した複合積層体が得られ
る。
According to the present invention, the laminated material is stabilized by allowing it to stand still in the curing step, whereby the bonding state between the laminated materials is stabilized, and the film-like adhesive which has been softened by the temperature drop due to the cooling is used. After curing, a composite laminate in which the respective laminates are securely bonded to each other via the film adhesive is obtained.

【0021】請求項6記載の発明は、請求項1乃至5の
いずれかに記載の発明において、上記脱気・接着工程に
おいて上記積層体を、誘電加熱を行うための一対の電極
板によって非加圧状態で緩衝材を介して当接挟持するこ
とを特徴とするものである。
According to a sixth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, in the degassing / adhering step, the laminate is not heated by a pair of electrode plates for performing dielectric heating. It is characterized in that it is abutted and clamped via a cushioning material in a pressure state.

【0022】この発明によれば、積層体原料は、誘電加
熱用の一対の電極板によって押圧挟持されておらず、非
加圧状態にしているため、電磁波加熱による溶融状態の
接着剤の流動性は加圧されている場合よりも大きく、従
って溶融接着剤中の気泡は運動し易くなっており、気泡
の吸引除去が容易になる。
According to the present invention, since the laminate raw material is not pressed and sandwiched by the pair of electrode plates for dielectric heating and is in a non-pressurized state, the fluidity of the adhesive in a molten state by electromagnetic wave heating is obtained. Is larger than in the case of pressurization, so that the bubbles in the molten adhesive are easily moved, and the bubbles are easily removed by suction.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】図1は、本発明が適用される複合
積層体の製造工程の第1実施形態を示す工程図である。
この図に示すように、本発明の製造装置が適用される複
合積層体の製造工程は、積層工程P1、脱気・接着工程
P2、給気工程P3、および養生工程P4とからなって
いる。
FIG. 1 is a process chart showing a first embodiment of a manufacturing process of a composite laminate to which the present invention is applied.
As shown in this figure, the manufacturing process of the composite laminate to which the manufacturing apparatus of the present invention is applied includes a lamination process P1, a deaeration / adhesion process P2, an air supply process P3, and a curing process P4.

【0024】上記積層工程P1は、積層材A(A1、A
2)の間にフィルム状接着剤Bを挟持させて積層する工
程であり、後述する台車5に載置された最下層の積層材
A2の上にフィルム状接着剤Bが積層され、さらにその
上に積層材A1が積層され、この操作が積層数分だけ順
次繰り返されて最上層に積層材Aが積層されることによ
って積層体原料Cが得られる。かかる積層操作は、通常
作業者の手作業で行われるが、積層材Aおよびフィルム
状接着剤Bを所定の搬送手段を用いて適宜の載置台上に
交互に供給するようにし、積層操作を自動的に行わせる
ようにしてもよい。
In the laminating step P1, the laminating material A (A1, A
This is a step of sandwiching and laminating the film-like adhesive B between 2), and the film-like adhesive B is laminated on the lowermost layered material A2 placed on the carriage 5, which will be described later, and further thereon. This operation is sequentially repeated by the number of layers to be laminated, and the laminated material A is laminated on the uppermost layer, whereby a laminated body material C is obtained. Such a laminating operation is usually performed manually by an operator, but the laminating material A and the film-like adhesive B are alternately supplied onto an appropriate mounting table by using a predetermined conveying means, and the laminating operation is automatically performed. It may be made to perform it.

【0025】そして、上記積層工程P1において形成さ
れた積層体原料Cは、台車5の走行で脱気・接着工程P
2に送り込むようにしている。なお、台車5は、手押し
で走行させてもよいし、搭載された駆動モータの駆動や
チェーン等の周回駆動で自走させるように構成してもよ
い。
The laminate raw material C formed in the above-mentioned laminating step P1 is degassed and bonded in
I send it to 2. The carriage 5 may be manually driven, or may be configured to be self-propelled by driving a mounted drive motor or driving around a chain or the like.

【0026】上記脱気・接着工程P2は、積層体原料C
が位置している環境を真空状態にすることによって積層
体原料C中の積層材Aとフィルム状接着剤Bとの境界部
分に残留している空気を抜き取りつつ積層体原料Cに高
周波を印加し、その誘電加熱によってフィルム状接着剤
Bを加熱溶融し、この溶融によってフィルム状接着剤B
に接着剤としての機能を発揮させ、フィルム状接着剤B
を介して積層材A同士を相互に接着する工程である。こ
の工程を経ることによって上下の積層材Aはフィルム状
接着剤Bを介して隙間なく密着した状態になる。この工
程では、後述する高周波溶着機31(図2)が用いられ
る。
The deaeration / adhesion step P2 is performed by using the laminate material C
Is placed in a vacuum state to remove air remaining at the boundary between the laminate material A and the film adhesive B in the laminate raw material C while applying a high frequency to the laminate raw material C. The film adhesive B is heated and melted by the dielectric heating, and the film adhesive B is melted by the melting.
To exhibit the function as an adhesive, film-like adhesive B
This is a step of bonding the laminated materials A to each other through the intermediary. Through this step, the upper and lower laminated materials A are in close contact with each other via the film adhesive B without any gap. In this step, a high-frequency welding machine 31 (FIG. 2) described later is used.

【0027】上記給気工程P3は、上記脱気・接着工程
P2において脱気処理および高周波印加処理が所定時間
継続された後、積層体原料Cが位置している真空環境を
元の常圧に戻す工程である。積層体原料Cは、この給気
工程P3を経て最終製品である複合積層体Dになる。こ
の給気工程P3での処理は、高周波溶着機31において
施される。そして、この給気工程P3を経ることによ
り、上記脱気・接着工程P2では取り除くことができな
かった積層体原料Cの周縁部、特に四隅部に残留したフ
ィルム状接着剤B中の気泡が消滅し、これによって最終
製品である複合積層体Dは、気泡が全く存在しない良品
となる。
In the air supply step P3, after the deaeration process and the high-frequency application process are continued for a predetermined time in the deaeration / adhesion process P2, the vacuum environment in which the laminate material C is located is returned to the original normal pressure. This is the step of returning. The laminate raw material C becomes a composite laminate D as a final product through the air supply step P3. The processing in the air supply step P3 is performed in the high-frequency welding machine 31. By passing through the air supply step P3, the bubbles in the film adhesive B remaining at the periphery, particularly at the four corners of the laminate material C, which could not be removed in the deaeration / adhesion step P2, disappear. Thus, the composite laminate D, which is the final product, is a non-defective product having no air bubbles.

【0028】上記養生工程P4は、給気工程P3で得ら
れた複合積層体Dを、高周波溶着機31において高周波
を印加しない状態で所定時間放置する工程である。この
工程において積層体原料Cは、積層材Aとフィルム状接
着剤Bとの接着状態が確実なものにされて複合積層体D
になる。ついで複合積層体Dの搭載された台車5を高周
波溶着機31外に走行させることによって複合積層体D
の高周波溶着機31からの搬出が行われる。
The curing step P4 is a step in which the composite laminate D obtained in the air supply step P3 is left for a predetermined time in the high frequency welding machine 31 without applying high frequency. In this step, the laminate raw material C is used to secure the bonding state between the laminate material A and the film-like adhesive B, and the composite laminate D
become. Then, the carriage 5 on which the composite laminate D is mounted is moved out of the high-frequency welding machine 31 so that the composite laminate D
From the high frequency welding machine 31 is carried out.

【0029】このようにして得られた複合積層体Dは、
そのまま製品として出荷されることもあるが、所定の寸
法に切断されて商品化されることもある。この場合には
複合積層体Dは養生工程P4の下流側に設定された図略
の切断工程に導入される。そして、この切断工程におい
て所定の寸法に切断される。切断工程においてウォータ
ジェット切断機を適用することにより、複合積層体Dは
硬柔の材料が積層されて形成されているにも拘らず正確
かつ確実に切断される。
The composite laminate D thus obtained is
The product may be shipped as it is, or may be cut into a predetermined size and commercialized. In this case, the composite laminate D is introduced into a cutting step (not shown) set downstream of the curing step P4. Then, in this cutting step, it is cut into a predetermined size. By applying the water jet cutting machine in the cutting step, the composite laminate D is cut accurately and reliably despite being formed by laminating hard and soft materials.

【0030】上記積層材Aとしては、ガラスや合成樹脂
板が使用される。合成樹脂板用の合成樹脂としては、ポ
リエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリビ
ニルクロライド(PVC)、ポリスチレン(PS)、ア
クリロニトリルブタジエンスチレン共重合体(AB
S)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリアミド(PET)、ポリア
セタール(POM)、ポリカーボネート(PC)、ポリ
フェニレンテレフタレート(PPE)、ポリブチレンテ
レフタレート(PBT)、ポリサルフォン(PSF)、
ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリフェニレンサ
ルファイド(PPS)、ポリアミドイミド(PAI)、
ポリエーテルアミド(PEI)、ポリエーテルエーテル
ケトン(PEEK)、ポリイミド(PI)、ポリテトラ
フルオロエチレン等を挙げることができる。
As the laminated material A, glass or a synthetic resin plate is used. As a synthetic resin for a synthetic resin plate, polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), polystyrene (PS), acrylonitrile butadiene styrene copolymer (AB)
S), polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene terephthalate, polyamide (PET), polyacetal (POM), polycarbonate (PC), polyphenylene terephthalate (PPE), polybutylene terephthalate (PBT), polysulfone (PSF),
Polyether sulfone (PES), polyphenylene sulfide (PPS), polyamide imide (PAI),
Examples thereof include polyether amide (PEI), polyether ether ketone (PEEK), polyimide (PI), and polytetrafluoroethylene.

【0031】上記フィルム状接着剤Bとしては、エチレ
ン酢酸ビニル共重合体(EVA)、変性EVA、合成ゴ
ム系のもの、ポリウレタン系のもの、PE、PP、PV
C、ポリビニルブチラール(PVB)、アイオノマー樹
脂等の熱可塑性樹脂を原料として製造されるものが採用
される。これらの熱可塑性樹脂のいずれかを、常法に従
ってフィルム状(厚み数μm〜1mm)に成形すること
によってフィルム状接着剤Bが得られる。また、反応性
ホットメルト型接着剤を反応硬化させたフィルムを使用
することも可能である。
Examples of the film adhesive B include ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), modified EVA, synthetic rubber, polyurethane, PE, PP, PV
C, those manufactured using thermoplastic resins such as polyvinyl butyral (PVB) and ionomer resins as raw materials are employed. A film adhesive (B) is obtained by molding any of these thermoplastic resins into a film (thickness of several μm to 1 mm) according to a conventional method. It is also possible to use a film obtained by reacting and curing a reactive hot melt adhesive.

【0032】上記のうち、変性EVAがフィルム状接着
剤Bとして特に有効である。この変性EVAは、EVA
あるいはそのケン化物と、アクリル酸エステルまたはビ
ニルエステルと不飽和カルボン酸との共重合体等とから
なる組成物であって、合わせガラス用の接着剤として優
れており、東ソー株式会社から「メルセンG」という商
標名で市販されている。
Of the above, modified EVA is particularly effective as film adhesive B. This modified EVA is EVA
Alternatively, it is a composition comprising a saponified product thereof and a copolymer of an acrylic acid ester or a vinyl ester and an unsaturated carboxylic acid, and is excellent as an adhesive for laminated glass. It is commercially available under the trademark name.

【0033】また、上記反応性ホットメルト型接着剤
は、官能基をもったホットメルト型接着剤が、当該官能
基を介して反応硬化したもので、例えばポリオールに過
剰のポリイソシアネートを反応させて得られる湿気硬化
型の接着剤を挙げることができる。このプレポリマー
が、水(湿気)と反応することによって三次元の架橋構
造が形成され、これによって強靱なフィルムを形成す
る。
The reactive hot-melt adhesive is obtained by reacting and curing a hot-melt adhesive having a functional group via the functional group, for example, by reacting an excess polyisocyanate with a polyol. The resulting moisture-curable adhesive can be mentioned. The prepolymer reacts with water (moisture) to form a three-dimensional crosslinked structure, thereby forming a tough film.

【0034】以下、上記各工程において使用される装置
について、図2〜図6を基に説明する。図2は、製造装
置1の一実施形態の全体構成を示す一部切欠き斜視図で
ある。なお、図2および後に参照する図3および図4に
おいて、図中X−X方向を前後方向、Y−Y方向を幅方
向といい、特に−X側を上流側といい、+X側を下流側
というとともに、−Y側を左側、+Y側を右側という。
Hereinafter, an apparatus used in each of the above steps will be described with reference to FIGS. FIG. 2 is a partially cutaway perspective view showing the entire configuration of the embodiment of the manufacturing apparatus 1. 2 and FIGS. 3 and 4, which will be referred to later, the XX direction is referred to as the front-rear direction, the YY direction is referred to as the width direction, the -X side is referred to as the upstream side, and the + X side is referred to as the downstream side. In addition, the −Y side is referred to as a left side, and the + Y side is referred to as a right side.

【0035】図2に示すように、複合積層体の製造装置
1は、積層材Aおよびフィルム状接着剤Bを交互に積層
して積層体原料Cにする積層部2と、この積層部2の下
流側に隣接して設けられ、かつ、積層部2からの積層体
原料Cを複合積層体Dにする電磁波加熱部3と、この電
磁波加熱部3の下流側に設けられ、かつ、電磁波加熱部
3からの複合積層体Dを、系外に搬出するまでの間一時
貯め置く貯留部4と、上記積層部2および電磁波加熱部
3間並びに電磁波加熱部3および貯留部4間で積層体原
料C(複合積層体D)を搭載して走行可能に設けられ台
車5とを備えた基本構成を有している。そして、積層部
2において上記積層工程P1が実行されるとともに、電
磁波加熱部3において上記脱気・接着工程P2および給
気工程P3が実行される。
As shown in FIG. 2, an apparatus 1 for manufacturing a composite laminate comprises a laminate 2 which alternately laminates a laminate material A and a film adhesive B into a laminate material C, An electromagnetic wave heating unit 3 that is provided adjacent to the downstream side and converts the laminate raw material C from the stacking unit 2 into a composite laminate D; and an electromagnetic wave heating unit that is provided downstream of the electromagnetic wave heating unit 3 and The storage material 4 for temporarily storing the composite laminate D from Step 3 until it is carried out of the system, and the laminate raw material C between the laminate 2 and the electromagnetic wave heating unit 3 and between the electromagnetic wave heating unit 3 and the storage unit 4 (Composite laminated body D) is mounted and provided so as to be able to travel, and has a basic configuration including a carriage 5. Then, the laminating process P1 is performed in the laminating unit 2, and the degassing / adhering process P2 and the air supplying process P3 are performed in the electromagnetic wave heating unit 3.

【0036】上記積層部2は、フロアF上に立設された
4本の支柱21およびこれらの支柱21に支持されたテ
ーブル板22からなる平面視で矩形状の架台20と、こ
の架台20上に敷設された一対のレール23とからなっ
ている。このレール23は、電磁波加熱部3および貯留
部4に敷設された後述する各レール23,35,43に
通じるように敷設され、上記台車5は、これらのレール
23,35,43に案内されて積層部2と電磁波加熱部
3との間および電磁波加熱部3と貯留部4との間で往復
動可能になっており、この往復動によって台車5に搭載
された積層体原料Cが電磁波加熱部3および貯留部4に
順次運ばれて所定の処理が施されるようになっている。
The laminated portion 2 has a rectangular base 20 in plan view including four columns 21 erected on the floor F and a table plate 22 supported by the columns 21, And a pair of rails 23 laid. The rail 23 is laid so as to communicate with rails 23, 35, and 43, which will be described later, laid on the electromagnetic wave heating unit 3 and the storage unit 4. The carriage 5 is guided by these rails 23, 35, and 43. It is possible to reciprocate between the laminating section 2 and the electromagnetic wave heating section 3 and between the electromagnetic wave heating section 3 and the storage section 4, and the laminating material C mounted on the carriage 5 is moved by the reciprocating movement. 3 and sequentially stored in the storage unit 4 to perform predetermined processing.

【0037】上記台車5は、平面視で矩形状の角型フレ
ーム51と、この角型フレーム51を幅方向に横断した
前後方向一対の車輪軸52と、これら車輪軸52の両端
部に設けられ、かつ、上記レール23に案内される車輪
53と、上記角型フレーム51の上面部に固定された積
層体載置板54と、この積層体載置板54の外周縁部に
沿うように略等ピッチで設けられた複数の係止手段55
とを備えて構成されている。上記積層体載置板54の表
面にはシリコンゴム板54bが積層され、これによって
積層体載置板54上に載置される積層体原料Cの僅かな
撓みや凹凸を吸収して積層体原料Cを保護するようにし
ている。本実施形態においては、上記台車5は、駆動モ
ータ等の自走手段を有しておらず、従って、台車5は作
業者の手押しによって走行するようになっている。
The carriage 5 is provided on a rectangular frame 51 having a rectangular shape in plan view, a pair of wheel shafts 52 in the front-rear direction crossing the rectangular frame 51 in the width direction, and both end portions of the wheel shafts 52. The wheels 53 guided by the rails 23, the stacked body mounting plate 54 fixed to the upper surface of the rectangular frame 51, and substantially along the outer peripheral edge of the stacked body mounting plate 54. A plurality of locking means 55 provided at equal pitch
It is comprised including. A silicon rubber plate 54b is laminated on the surface of the laminate mounting plate 54, thereby absorbing a slight bending or unevenness of the laminate raw material C placed on the laminate mounting plate 54 and C is protected. In the present embodiment, the carriage 5 does not have self-propelled means such as a drive motor, and therefore, the carriage 5 is configured to travel by pushing by an operator.

【0038】上記角型フレーム51は、四囲のフレーム
に囲まれ、かつ、上下方向に貫通した貫通空間51aを
有しており、上記積層体載置板54はこの貫通空間51
aを上方から塞ぐように角型フレーム51に取り付けら
れている。上記貫通空間51aは、縦横寸法が積層材A
の縦横寸法よりを大きく設定されている。
The rectangular frame 51 has a through space 51a which is surrounded by four surrounding frames and penetrates in the vertical direction.
a is attached to the rectangular frame 51 so as to cover the upper side from above. The penetration space 51a has a vertical and horizontal dimension of the laminated material A.
Is set to be larger than the vertical and horizontal dimensions.

【0039】上記積層体載置板54は、金属板で形成さ
れ、この表面上にシリコンゴム板54bを介して積層材
Aおよびフィルム状接着剤Bが所定層数で積層されるも
のである。この積層体載置板54の周縁部54aは、角
型フレーム51の周縁部より若干外方にはみ出されてお
り、このはみ出した周縁部54aに沿うように略等ピッ
チで複数の係止手段55が設けられている。
The laminate mounting plate 54 is formed of a metal plate, and a laminate A and a film adhesive B are laminated on the surface of the laminate mount plate 54 in a predetermined number of layers via a silicon rubber plate 54b. The peripheral portion 54a of the stacked body mounting plate 54 is slightly protruded from the peripheral portion of the rectangular frame 51, and a plurality of locking means 55 are provided at substantially equal pitches along the protruded peripheral portion 54a. Is provided.

【0040】かかる係止手段55は、図3に示すよう
に、積層体載置板54の周縁部54aの裏面側に外方に
向かって突出するように溶接その他で固定されたブラケ
ット55aと、このブラケット55aの裏面側に取り付
けられたアクチュエータ55bと、このアクチュエータ
55bから上記ブラケット55aを貫通して上方に向け
て突出された操作ロッド55cと、この操作ロッド55
cの上端部に操作ロッド55cの径方向に延びるように
付設された係止爪55dとを備えて構成されている。
As shown in FIG. 3, the locking means 55 includes a bracket 55a which is fixed by welding or the like so as to protrude outward on the back surface side of the peripheral portion 54a of the stacked body mounting plate 54, An actuator 55b attached to the back side of the bracket 55a, an operation rod 55c protruding upward from the actuator 55b through the bracket 55a, and an operation rod 55
and a locking claw 55d attached to the upper end of the operating rod 55c so as to extend in the radial direction of the operating rod 55c.

【0041】上記アクチュエータ55bは、操作ロッド
55cを上下動させるとともに、軸心回りに回動させる
ように構成されている。そして、操作ロッド55cが上
方に突出された状態では、係止爪55dが積層体載置板
54の周縁部54aに平行な係止解除姿勢に設定される
とともに、操作ロッド55cが下降した状態では、係止
爪55dの先端が積層体載置板54の方向に向けて略9
0°回動した係止姿勢に設定されるようになっている。
The actuator 55b is configured to move the operation rod 55c up and down and to rotate around the axis. When the operation rod 55c is protruded upward, the locking claw 55d is set to the lock release posture parallel to the peripheral edge 54a of the stacked body mounting plate 54, and when the operation rod 55c is lowered, When the tip of the locking claw 55d is substantially 9
It is set to the locking posture rotated by 0 °.

【0042】上記電磁波加熱部3は、積層部2に隣接し
てその下流側に設けられた高周波溶着機31と、この高
周波溶着機31に高周波を供給する高周波発振機37
と、接着空間内の圧力を調節する圧力調節手段38とを
備えて構成されている。
The electromagnetic wave heating section 3 includes a high frequency welding machine 31 provided adjacent to and downstream of the laminating section 2, and a high frequency oscillator 37 for supplying high frequency to the high frequency welding machine 31.
And pressure adjusting means 38 for adjusting the pressure in the bonding space.

【0043】上記高周波溶着機31は、フロアF上に立
設された幅方向一対の逆U字形状の門形構造体31a
と、これら門形構造体31aの上部の梁材31b間に差
し渡された天井板31dと、この天井板31dに支持さ
れた第1シリンダ装置321の駆動で昇降する水平配置
された上部電極板32と、上記天井板31dに支持され
た第2シリンダ装置331の駆動で昇降する水平配置さ
れた積層体囲繞部材33と、上記門形構造体31aの各
支柱31cに案内され、かつ、第3シリンダ装置341
の駆動で昇降する水平配置の昇降架台34と、上記上部
電極板32に対向してフロアF上に設けられた下部電極
板36とを備えて構成されている。
The high frequency welding machine 31 includes a pair of inverted U-shaped portal structures 31a erected on the floor F in the width direction.
A ceiling plate 31d extended between the beam members 31b above the gate-shaped structure 31a, and a horizontally arranged upper electrode plate which is moved up and down by driving the first cylinder device 321 supported by the ceiling plate 31d. 32, a horizontally arranged laminated body surrounding member 33 which is moved up and down by driving the second cylinder device 331 supported by the ceiling plate 31d, and is guided by each of the columns 31c of the gate-shaped structure 31a. Cylinder device 341
And a lower electrode plate 36 provided on the floor F so as to face the upper electrode plate 32.

【0044】図3および図4は、高周波溶着機31の要
部の一実施形態を示す一部切欠き斜視図であり、図3
は、積層体原料Cの搭載された台車5が高周波溶着機3
1に導入された直後の状態、図4は、台車5の積層体載
置板54上に積層体原料Cを囲繞した密閉空間が形成さ
れた状態をそれぞれ示している。また、図5は、図3の
W−W線断面図であり、図6は、図4のZ−Z線断面図
である。
FIGS. 3 and 4 are partially cutaway perspective views showing one embodiment of a main part of the high frequency welding machine 31. FIG.
The cart 5 on which the laminate material C is mounted is a high-frequency welding machine 3
FIG. 4 shows a state immediately after being introduced into the rack 1 and a state in which a closed space surrounding the laminate raw material C is formed on the laminate mounting plate 54 of the cart 5. 5 is a sectional view taken along line WW of FIG. 3, and FIG. 6 is a sectional view taken along line ZZ of FIG.

【0045】図2〜図4に示すように、上記上部電極板
32は、縦横寸法が積層体原料Cの最大縦横寸法より若
干大きめに設定された平面視で矩形状の金属板から構成
され、その上部に所定本数の接続ロッド32aを介して
上部電極板32と同一平面形状の中間板32bを有して
いる。一方、上記第1シリンダ装置321は、貫通状態
で天井板31d(図1)に固定された前後方向一対のシ
リンダ322と、図略の油圧ユニットからの油圧により
各シリンダ322に対して出没するピストンロッド32
3とからなり、各ピストンロッド323の下端部が中間
板32bに結合されている。従って、第1シリンダ装置
321の駆動で中間板32bを出没させることにより、
上部電極板32は中間板32bおよび接続ロッド32a
を介して昇降する。
As shown in FIGS. 2 to 4, the upper electrode plate 32 is formed of a metal plate having a rectangular shape in plan view in which the vertical and horizontal dimensions are set slightly larger than the maximum vertical and horizontal dimensions of the laminate material C. An intermediate plate 32b having the same planar shape as the upper electrode plate 32 is provided on the upper portion thereof through a predetermined number of connection rods 32a. On the other hand, the first cylinder device 321 includes a pair of cylinders 322 in the front-rear direction fixed to the ceiling plate 31d (FIG. 1) in a penetrating state, and a piston that protrudes and retracts from each cylinder 322 by hydraulic pressure from a hydraulic unit (not shown). Rod 32
The lower end of each piston rod 323 is connected to the intermediate plate 32b. Therefore, by making the intermediate plate 32b protrude and retract by the driving of the first cylinder device 321,
The upper electrode plate 32 includes an intermediate plate 32b and a connecting rod 32a.
Up and down through.

【0046】また、上記中間板32bの表面には、その
四隅部に4本のスライドロッド324が立設されてい
る。これらのスライドロッド324は、それぞれ図2に
示すように天井板31dに摺接状態で貫通され、これに
よって上部電極板32の幅方向および前後方向の振れが
防止され、上部電極板32の昇降状態が安定するように
なっている。
On the surface of the intermediate plate 32b, four slide rods 324 are provided upright at four corners. Each of these slide rods 324 is slid through the ceiling plate 31d as shown in FIG. 2, thereby preventing the upper electrode plate 32 from oscillating in the width direction and the front-rear direction. Has become stable.

【0047】上記積層体囲繞部材33は、平面視で矩形
状の角形環状枠体33aと、この角形環状枠体33aの
下面縁部から外方に向かって突設されたフランジ部33
bと、上記角形環状枠体33aの裏面側にその貫通空間
を塞ぐように張設された平板状のシリコンゴム板33c
とを備えて形成されている。かかるシリコンゴム板33
cは、角形環状枠体33aに張設された状態で上記フラ
ンジ部33bの底面と面一状態になるようにフランジ部
33bの厚み寸法が設定されている。
The laminate surrounding member 33 includes a rectangular annular frame 33a having a rectangular shape in plan view, and a flange 33 projecting outward from the lower edge of the rectangular annular frame 33a.
b, a flat silicon rubber plate 33c stretched on the back side of the rectangular annular frame 33a so as to cover the through space.
Are formed. Such a silicon rubber plate 33
The thickness dimension of the flange portion 33b is set such that c is flush with the bottom surface of the flange portion 33b in a state of being stretched over the rectangular annular frame 33a.

【0048】また、かかるフランジ部33bの縦横寸法
は、上記積層体載置板54の周縁部54aの縦横寸法と
同一に寸法設定され、これによって積層体載置板54上
に積層体囲繞部材33が重ねられた状態で、フランジ部
33bおよび周縁部54aの端面同士が面一状態になる
ようにしてある。
The vertical and horizontal dimensions of the flange portion 33b are set to be the same as the vertical and horizontal dimensions of the peripheral portion 54a of the stacked body mounting plate 54, whereby the stacked body surrounding member 33 is placed on the stacked body mounting plate 54. Are overlapped, the end faces of the flange portion 33b and the peripheral edge portion 54a are flush with each other.

【0049】上記第2シリンダ装置331は、角形環状
枠体33aの四隅部の上部にそれぞれ設けられている。
各第2シリンダ装置331は、所定の中間接続部材31
eを介して上下方向に延びるように天井板31dに固定
されたシリンダ332と、このシリンダ332から下方
に向けて突出され、かつ、シリンダ332に対して上下
方向に出没するピストンロッド333とを備えて形成さ
れている。
The second cylinder device 331 is provided above each of the four corners of the rectangular annular frame 33a.
Each second cylinder device 331 is provided with a predetermined intermediate connection member 31.
e, a cylinder 332 fixed to the ceiling plate 31d so as to extend in the vertical direction via the e, and a piston rod 333 protruding downward from the cylinder 332 and protruding and retracting in the vertical direction with respect to the cylinder 332. It is formed.

【0050】そして、各ピストンロッド333の下端部
が角形環状枠体33aの四隅部に結合され、これによっ
て積層体囲繞部材33は、各ピストンロッド333のシ
リンダ332からの同期出没により、水平状態を維持し
ながら昇降するようになされている。
The lower ends of the piston rods 333 are connected to the four corners of the rectangular annular frame 33a, so that the laminated body surrounding member 33 is brought into a horizontal state by the synchronously protruding and retracting of the piston rods 333 from the cylinder 332. It is made to go up and down while maintaining.

【0051】このような積層体囲繞部材33は、角形環
状枠体33aの四隅部および長辺側の略中央部にそれぞ
れ設けられた吸気管33dを有している。各吸気管33
dは、先端側が角形環状枠体33aから外方に向かって
突出されているとともに、基端側がシリコンゴム板33
cを貫通してその開口が下方の積層体載置板54の表面
に臨んである。これらの吸気管33dは、図2に示すよ
うに、吸引本管38cに接続され、積層体囲繞部材33
の下降によって形成される後述の密閉空間S(図6)と
上記圧力調節手段38との間が吸気管33dおよびこの
吸引本管38cを介して接続されるようにしている。
The laminated body surrounding member 33 has intake pipes 33d provided at the four corners of the rectangular annular frame 33a and substantially at the center on the long side. Each intake pipe 33
As for d, the tip end side is projected outward from the rectangular annular frame 33a, and the base end side is the silicone rubber plate 33a.
c, the opening of which faces the surface of the stacked body mounting plate 54 below. These suction pipes 33d are connected to the suction main pipe 38c as shown in FIG.
The space between the closed space S (FIG. 6), which will be described later, and the pressure adjusting means 38 are connected via the suction pipe 33d and the suction main pipe 38c.

【0052】上記昇降架台34は、その四隅部に各支柱
31cに向けて突設されたガイド突片34aを有してい
る一方、各支柱31cは、このガイド突片34aに対応
した上下方向に延びるガイド溝310cを有しており、
各ガイド突片34aがそれぞれ対応したガイド溝310
cに摺接状態で嵌め込まれることにより、昇降架台34
はガイド溝310cに案内されつつ昇降し得るようにな
っている。
The elevating frame 34 has guide projections 34a projecting toward the respective columns 31c at the four corners thereof, while the respective columns 31c extend in the vertical direction corresponding to the respective guide projections 34a. Has a guide groove 310c extending,
Guide grooves 310 corresponding to the respective guide projections 34a
c in a sliding contact state with the lifting platform 34
Can move up and down while being guided by the guide groove 310c.

【0053】また、昇降架台34は、図5および図6に
示すように、中央部に上下に貫通した貫通窓34bを有
しており、この貫通窓34b内に上記下部電極板36が
嵌まり込んだ状態になっている。
As shown in FIGS. 5 and 6, the elevating pedestal 34 has a through-hole 34b vertically penetrating at the center thereof, and the lower electrode plate 36 is fitted in the through-hole 34b. It is in the state of being crowded.

【0054】上記第3シリンダ装置341は、上下方向
に延びるように各支柱31cに固定されたシリンダ34
2と、このシリンダ342から上方に向かって突出し、
かつ、上下方向に出没自在に設けられたピストンロッド
343とを備えて形成されている。上記昇降架台34は
各ピストンロッド343の上端部によって支持され、ピ
ストンロッド343の出没によって昇降するようになっ
ている。
The third cylinder device 341 includes a cylinder 34 fixed to each column 31c so as to extend in the vertical direction.
2 and project upward from this cylinder 342,
And it is formed with a piston rod 343 provided to be able to protrude and retract in the vertical direction. The elevating gantry 34 is supported by the upper end of each piston rod 343, and moves up and down by the piston rod 343 appearing and retracting.

【0055】かかる昇降架台34は、上面部に上記積層
部2に敷設された一対のレール23に対応して敷設され
た一対のレール35を有しており、昇降架台34が上限
高さ位置に上昇された状態で、レール23,35同士が
相互に同一高さレベルで対向するようにしてある。従っ
て、上部電極板32および積層体囲繞部材33を上昇さ
せた状態で、昇降架台34を上限高さ位置まで上昇させ
ることにより、積層部2上の台車5を積層部2および電
磁波加熱部3間で往来させることができるようになって
いる。
The elevating gantry 34 has a pair of rails 35 laid on the upper surface corresponding to the pair of rails 23 laid on the laminating section 2, and the elevating gantry 34 is located at the upper limit height position. In the raised state, the rails 23 and 35 face each other at the same height level. Therefore, by raising the lifting platform 34 to the upper limit height position with the upper electrode plate 32 and the laminate surrounding member 33 raised, the carriage 5 on the laminate 2 is moved between the laminate 2 and the electromagnetic wave heater 3. It can be made to come and go.

【0056】上記下部電極板36は、電磁波加熱部3の
4本の支柱31cに囲まれた枠内におけるフロアF上に
上記上部電極板32に対向して設けられている。この下
部電極板36は、上部電極板32と同一の平面寸法を有
し、かつ、縦横寸法が台車5の貫通空間51aの縦横寸
法よりも小さく設定されている。そして、台車5が電磁
波加熱部3のレール35上の所定の電磁波加熱位置に移
された状態で、下部電極板36は上記貫通空間51aの
直下に位置し、第3シリンダ装置341の駆動で昇降架
台34が下降することにより貫通空間51a内に嵌まり
込むように配置位置が設定されている。
The lower electrode plate 36 is provided on the floor F in a frame surrounded by the four columns 31c of the electromagnetic wave heating unit 3 so as to face the upper electrode plate 32. The lower electrode plate 36 has the same plane dimensions as the upper electrode plate 32, and the vertical and horizontal dimensions are set smaller than the vertical and horizontal dimensions of the through space 51a of the truck 5. Then, in a state where the carriage 5 is moved to a predetermined electromagnetic wave heating position on the rail 35 of the electromagnetic wave heating unit 3, the lower electrode plate 36 is located immediately below the through space 51a and moves up and down by driving the third cylinder device 341. The disposition position is set so that the gantry 34 is fitted into the through space 51a by descending.

【0057】そして、台車5が電磁波加熱部3の電磁波
加熱位置に送り込まれた状態で、第3シリンダ装置34
1の駆動でピストンロッド343を下降させることによ
る昇降架台34の下降によって、レール35上の台車5
も下降し、その貫通空間51aが下部電極板36に外嵌
され、さらにピストンロッド343の下降を継続するこ
とによって積層体載置板54の裏面が下部電極板36の
表面に当接した状態になるようにしている。この当接に
よって、高周波発振機37からの高周波が下部電極板3
6に印加されることにより、積層体載置板54が積層体
載置板54上の積層体原料Cに対して電極板の役割を果
たすようになっている。
Then, with the carriage 5 being sent to the electromagnetic wave heating position of the electromagnetic wave heating section 3, the third cylinder device 34
The lowering of the elevating gantry 34 by lowering the piston rod 343 by the driving of the
The through space 51 a is fitted to the lower electrode plate 36, and the lower surface of the stacked body mounting plate 54 contacts the surface of the lower electrode plate 36 by continuing the lowering of the piston rod 343. I am trying to become. By this contact, the high frequency from the high frequency oscillator 37 is transferred to the lower electrode plate 3.
6, the stack mounting plate 54 serves as an electrode plate for the stack raw material C on the stack mounting plate 54.

【0058】そして、積層体載置板54上に積層体原料
Cが載置された台車5が昇降架台34の電磁波加熱位置
に送り込まれ、かつ、この昇降架台34が下降位置に位
置した状態で、第2シリンダ装置331の駆動によって
積層体囲繞部材33を下降させ、ついで係止手段55の
作動で互いに当接したフランジ部33bと積層体載置板
54の周縁部54aとを相互に係止することによって、
図5に示すように、シリコンゴム板33cは積層体原料
Cによって弾性変形して上方に膨出し、これによってシ
リコンゴム板33cの周縁部分の裏面側と、積層体載置
板54のシリコンゴム板54bの周縁部分の上面側との
間に環状の密閉空間Sが形成されるようにしている。
Then, the trolley 5 on which the laminate raw material C is placed on the laminate mounting plate 54 is sent to the electromagnetic wave heating position of the elevating gantry 34 and the elevating gantry 34 is in the lowered position. Then, the laminate surrounding member 33 is lowered by the driving of the second cylinder device 331, and the flange 33 b abutted on each other by the operation of the locking means 55 and the peripheral edge 54 a of the laminate mounting plate 54 are mutually locked. By,
As shown in FIG. 5, the silicon rubber plate 33c is elastically deformed by the laminate raw material C and swells upward, whereby the back side of the peripheral portion of the silicon rubber plate 33c and the silicon rubber plate of the laminate mounting plate 54 An annular closed space S is formed between the peripheral portion of 54b and the upper surface side.

【0059】上記圧力調節手段38は、真空ポンプ38
a、この真空ポンプ38aと上記吸気管33dとの間に
配管された吸引本管38c、この吸引本管38cから分
岐された外気導入管38d、およびこの外気導入管38
dに設けられた制御弁38bを備えて形成されている。
そして、上記密閉空間Sが形成され、かつ、制御弁38
bが閉止された状態で真空ポンプ38aを駆動すること
により、密閉空間S内の空気が吸引除去され、密閉空間
Sが真空環境になるようにしている。
The pressure adjusting means 38 includes a vacuum pump 38
a, a suction main pipe 38c provided between the vacuum pump 38a and the suction pipe 33d, an outside air introduction pipe 38d branched from the suction main pipe 38c, and the outside air introduction pipe 38
d is provided with a control valve 38b.
Then, the closed space S is formed, and the control valve 38
By driving the vacuum pump 38a with b closed, the air in the closed space S is removed by suction, so that the closed space S has a vacuum environment.

【0060】本発明においては、密閉空間S内が真空環
境になり、かつ、上部電極板32の下降でその下面がシ
リコンゴム板33cの上面に当接した状態で高周波発振
機37からの高周波が各電極板32,36に印加され、
これによるフィルム状接着剤Bの加熱溶融で上下の積層
材Aを相互に接着処理するとともに、溶融したフィルム
状接着剤B内に含まれた気泡が真空状態の密閉空間に向
けて吸引されるようになっている。
In the present invention, the high frequency from the high frequency oscillator 37 is generated in a state where the inside of the closed space S is in a vacuum environment, and the lower surface of the upper electrode plate 32 is in contact with the upper surface of the silicon rubber plate 33c when the lower surface of the upper electrode plate 32 is lowered. Applied to each of the electrode plates 32 and 36,
The upper and lower laminates A are bonded to each other by the heating and melting of the film adhesive B, so that the bubbles contained in the melted film adhesive B are sucked toward the closed space in a vacuum state. It has become.

【0061】そして、本発明においては、上部電極板3
2がシリコンゴム板33cの上面に当接した時点にその
ことを図略のセンサーが検出し、この検出信号に基づい
て第1シリンダ装置321の駆動を停止するか、あるい
は油圧をフリーにしてシリコンゴム板33cには上部電
極板32の自重が加わるのみとし、積極的に積層体原料
Cに対してプレス処理を施さないようにしている。
In the present invention, the upper electrode plate 3
A sensor (not shown) detects that the second cylinder 2 has come into contact with the upper surface of the silicon rubber plate 33c, and stops driving the first cylinder device 321 based on the detection signal, or releases the hydraulic pressure to release the silicon. Only the own weight of the upper electrode plate 32 is applied to the rubber plate 33c, and the pressing process is not actively performed on the laminate material C.

【0062】このようにした理由は、加熱中の積層体原
料Cを大きな力でプレスすると、溶融したフィルム状接
着剤B中に残留している空気の回りの溶融物が、高圧で
強く押え付けられた状態になっているため、この強く押
さえ付けられた溶融物を押し退けて空気が移動すること
は困難であり、従って、たとえ密閉空間Sを真空環境に
しても、フィルム状接着剤B中の気泡が有効に除去され
ないからである。
The reason for this is that when the raw material C being heated is pressed with a large force, the melt around the air remaining in the molten film adhesive B is strongly pressed under high pressure. In this state, it is difficult for the air to move by pushing away the strongly pressed melt, and therefore, even if the sealed space S is in a vacuum environment, This is because bubbles are not effectively removed.

【0063】上記貯留部4は、図1に示すように、4本
の支柱41と、これらの支柱41に支持されたテーブル
板42とからなる架台40、および上記テーブル板42
上に付設された幅方向一対のレール43とから構成され
ている。上記テーブル板42は、積層部2のテーブル板
22と同一の高さレベルに設定されているとともに、各
レール43は、上昇位置にある昇降架台34の各レール
35に対応するように敷設設定され、これによって昇降
架台34が上昇位置に位置設定された状態で昇降架台3
4のレール35上の台車5を、貯留部4のレール43上
に移すことができるようになっている。
As shown in FIG. 1, the storage section 4 includes a gantry 40 including four columns 41 and a table plate 42 supported by the columns 41, and the table plate 42
It is composed of a pair of rails 43 provided in the width direction. The table plate 42 is set at the same height level as the table plate 22 of the stacking unit 2, and each rail 43 is laid and set so as to correspond to each rail 35 of the lifting gantry 34 at the ascending position. In this state, the lifting gantry 3 is set in the ascending position.
The carriage 5 on the rail 35 of the storage unit 4 can be moved onto the rail 43 of the storage unit 4.

【0064】図7は、本発明の製造装置1に適用される
高周波発振機37の一実施形態を示すブロック図であ
る。この図に示すように、高周波発振機37は、製造装
置1を統括的に制御する制御回路371と、この制御回
路371に種々の操業データを入力するための操作部3
72と、高周波電力を発生する高周波発生部373とか
ら構成されている。上記制御回路371は、操作部37
2を介して入力された操業データを基に、各部の駆動お
よび高周波発生部373への電力の供給を制御するよう
になっている。
FIG. 7 is a block diagram showing an embodiment of the high-frequency oscillator 37 applied to the manufacturing apparatus 1 of the present invention. As shown in the figure, the high-frequency oscillator 37 includes a control circuit 371 for controlling the manufacturing apparatus 1 in an integrated manner, and an operation unit 3 for inputting various operation data to the control circuit 371.
72 and a high frequency generator 373 for generating high frequency power. The control circuit 371 includes the operation unit 37
Based on the operation data input via the control unit 2, the driving of each unit and the supply of power to the high-frequency generation unit 373 are controlled.

【0065】本実施形態においては、高周波発振機37
は、13.56MHzの高周波を発生するように設計さ
れているが、本発明は、周波数が13.56MHzであ
ることに限定されるものではなく、電磁波加熱用として
使用し得る数MHz〜数GHzの範囲の高周波またはマ
イクロ波が適用可能である。
In this embodiment, the high-frequency oscillator 37
Is designed to generate a high frequency of 13.56 MHz, but the present invention is not limited to a frequency of 13.56 MHz, and can be used for heating electromagnetic waves from several MHz to several GHz. High frequencies or microwaves in the range are applicable.

【0066】上記操作部372には、電源スイッチ37
2a、第1シリンダ装置321の駆動・停止を切り換え
る第1シリンダ用スイッチ372b、第2シリンダ装置
331の駆動・停止を切り換える第2シリンダ用スイッ
チ372c、第3シリンダ装置341の駆動・停止を切
り換える第3シリンダ用スイッチ372d、係止手段5
5の係止・係止解除動作を切り換える係止手段用スイッ
チ372e、真空ポンプ38aの駆動・停止を切り換え
る真空ポンプ用スイッチ372f、および制御弁38b
の開閉を切り換える制御弁用スイッチ372gとが設け
られている。
The operation unit 372 includes a power switch 37
2a, a first cylinder switch 372b for switching between driving and stopping the first cylinder device 321, a second cylinder switch 372c for switching between driving and stopping the second cylinder device 331, and a second switch for switching between driving and stopping the third cylinder device 341. 3 cylinder switch 372d, locking means 5
5, a switch 372e for locking means for switching between locking and unlocking operations, a switch 372f for vacuum pump for switching between driving and stopping the vacuum pump 38a, and a control valve 38b.
And a control valve switch 372g for switching between open and closed states.

【0067】上記電源スイッチ372aからの操作信号
は制御信号として制御回路371に出力される。電源ス
イッチ372aがオン操作されたときには高周波発生部
373の動作が開始され、オフ操作されたときには高周
波発生部373の動作が停止される。
The operation signal from the power switch 372a is output to the control circuit 371 as a control signal. When the power switch 372a is turned on, the operation of the high frequency generator 373 is started, and when it is turned off, the operation of the high frequency generator 373 is stopped.

【0068】また、第1シリンダ用スイッチ372bか
らの操作信号も制御回路371に出力され、第1シリン
ダ用スイッチ372bが一方向(突出側)に操作された
ときにはピストンロッド323が突出して上部電極板3
2を下降させ、他方向(没入側)に操作されたときには
ピストンロッド323が没入して上部電極板32が上昇
するようになっている。第2および第3シリンダ用スイ
ッチ372c,372dについても同様であり、これら
の一方向または他方向への操作によって積層体囲繞部材
33および昇降架台34がそれぞれ昇降するようになっ
ている。
An operation signal from the first cylinder switch 372b is also output to the control circuit 371. When the first cylinder switch 372b is operated in one direction (projection side), the piston rod 323 projects and the upper electrode plate 3
2 is lowered, and when operated in the other direction (immersion side), the piston rod 323 is immersed and the upper electrode plate 32 is raised. The same applies to the second and third cylinder switches 372c and 372d, and the operation in one direction or the other direction causes the stacked body surrounding member 33 and the lift base 34 to move up and down, respectively.

【0069】また、係止手段用スイッチ372eを一方
向(係止側)に操作するとアクチュエータ55bの駆動
によって係止爪55dが係止側に作動し、他方向(係止
解除側)に操作すると係止爪55dが係止解除側に作動
するようになっている。また、真空ポンプ用スイッチ3
72fをオンすると真空ポンプ38aが駆動し、オフす
ると停止するようになっている。また、制御弁用スイッ
チ372gをオンすると制御弁38bが開弁し、オフす
ると閉弁するようになっている。
When the locking means switch 372e is operated in one direction (locking side), the locking claw 55d is operated by the driving of the actuator 55b to the locking side, and when the locking means switch 372e is operated in the other direction (locking releasing side). The locking claw 55d operates to the unlocking side. Also, a vacuum pump switch 3
When 72f is turned on, the vacuum pump 38a is driven, and when it is turned off, it stops. When the control valve switch 372g is turned on, the control valve 38b opens, and when the control valve switch 372g is turned off, the control valve 38b closes.

【0070】上記高周波発生部373は、電源回路37
4と、この電源回路374から電力を得て高周波を発生
する高周波発生回路375と、この高周波発生回路37
5の出力側に設けられた整合回路376とから構成され
ている。上記電源回路374は、例えば220Vの商用
電源を所定レベルの直流電源に変換するものである。ま
た、上記高周波発生回路375は、電源回路374から
の所定レベルの直流電圧を得て所要レベルの高周波エネ
ルギーを発生する自励発振式の高周波発生回路である。
The high frequency generator 373 includes a power supply circuit 37
4, a high-frequency generation circuit 375 that obtains electric power from the power supply circuit 374 to generate a high frequency,
5 and a matching circuit 376 provided on the output side of the control circuit 5. The power supply circuit 374 converts, for example, a commercial power supply of 220 V into a DC power supply of a predetermined level. The high-frequency generation circuit 375 is a self-excited oscillation type high-frequency generation circuit that obtains a predetermined level of DC voltage from the power supply circuit 374 and generates a required level of high-frequency energy.

【0071】さらに、上記整合回路376は、高周波発
生回路375と一対の電極板32,36間にセットされ
る積層体原料Cとの整合をとる回路であり、変成器37
6aの他、図略の整合用コンデンサを有している。上記
変成器376aには入力側コイルL1と出力側コイルL
2とからなるトランスを有し、上記出力側コイルL2は
一端が上部電極板32に、他端が下部電極板36とアー
スとに接続されている。
Further, the matching circuit 376 is a circuit for matching the high-frequency generation circuit 375 with the laminate material C set between the pair of electrode plates 32 and 36, and
6a, a matching capacitor (not shown) is provided. The transformer 376a has an input side coil L1 and an output side coil L
The output side coil L2 has one end connected to the upper electrode plate 32 and the other end connected to the lower electrode plate 36 and the ground.

【0072】供給電力を設定する場合、同調条件を順次
ずらしておくようにしてもよい。あるいは電力供給レベ
ルが固定的であれば、電源回路374や高周波発生回路
375の定格としてそれぞれ決まった所要のものを採用
してもよい。なお、間欠的に高周波を供給する場合、駆
動時間に与えられた熱が休止時間中にフィルム状接着剤
B内に拡散することになるので、その分温度分布の均一
化、すなわち均一加熱が行われることになる。
When setting the supply power, the tuning conditions may be sequentially shifted. Alternatively, if the power supply level is fixed, the power supply circuit 374 and the high-frequency generation circuit 375 may have respective predetermined ratings. When the high frequency is intermittently supplied, the heat given during the driving time is diffused into the film adhesive B during the pause time, so that the temperature distribution is made uniform, that is, the uniform heating is performed. Will be

【0073】高周波発振機37の上記構成によれば、ま
ず、積層体原料Cが電磁波加熱部3に供給された時点で
第3シリンダ用スイッチ372dをピストンロッド没入
側に操作する。これによってレール35上に台車5を載
置した昇降架台34は下降し、積層体載置板54の下面
が下部電極板36の上面に当接した状態になる。この状
態で第2シリンダ用スイッチ372cをピストンロッド
突出側に操作する。これによって積層体囲繞部材33が
下降し、図5に示すように、積層体囲繞部材33の角形
環状枠体33aが積層体載置板54の周縁部54aに当
接するとともに、積層体載置板54上の積層体原料Cに
よってシリコンゴム板33cが上方に膨出するように弾
性変形し、これによってシリコンゴム板33cと積層体
載置板54との間に環状の密閉空間Sが形成される。
According to the above configuration of the high-frequency oscillator 37, first, when the laminate material C is supplied to the electromagnetic wave heating unit 3, the third cylinder switch 372d is operated to the piston rod immersion side. As a result, the lifting platform 34 on which the carriage 5 is mounted on the rail 35 is lowered, and the lower surface of the stacked body mounting plate 54 comes into contact with the upper surface of the lower electrode plate 36. In this state, the second cylinder switch 372c is operated to the piston rod protruding side. As a result, the laminate surrounding member 33 descends, and as shown in FIG. 5, the rectangular annular frame 33a of the laminate surrounding member 33 comes into contact with the peripheral edge 54a of the laminate placing plate 54, and the laminate placing plate The silicon rubber plate 33c is elastically deformed so as to bulge upward by the laminate raw material C on 54, whereby an annular closed space S is formed between the silicon rubber plate 33c and the laminate mounting plate 54. .

【0074】そして、積層体載置板54上に密閉空間S
が形成された状態で係止手段用スイッチ372eの係止
側への操作によって係止手段55が駆動され、積層され
たフランジ部33bと積層体載置板54の周縁部54a
との当接状態が係止されることによって密閉空間Sの密
閉状態が確保される。
Then, the sealed space S is
The locking means 55 is driven by the operation of the locking means switch 372e to the locking side in the state in which is formed, and the stacked flange portion 33b and the peripheral edge portion 54a of the stacked body mounting plate 54
The closed state of the closed space S is ensured by locking the contact state with the closed space S.

【0075】ついで、真空ポンプ用スイッチ372fが
オンされ、これによる真空ポンプ38aの駆動によって
密閉空間S内の空気が吸引されて密閉空間S内は真空環
境になる。この状態で第1シリンダ用スイッチ372b
がピストンロッド下降側に操作され、これによって上部
電極板32が下降してシリコンゴム板33cに上面に当
接する。この当接状態は、図略のセンサによって検出さ
れ、この検出信号に基づく制御回路371からの制御信
号によって第1シリンダ用スイッチ372bは自動的に
中立位置に切り換えられ、上部電極板32によるシリコ
ンゴム板33cを介した積層体原料Cへの加圧が行われ
ない状態に設定される。
Then, the vacuum pump switch 372f is turned on, and the air in the sealed space S is sucked by the driving of the vacuum pump 38a, thereby creating a vacuum environment in the sealed space S. In this state, the first cylinder switch 372b
Is operated on the piston rod descending side, whereby the upper electrode plate 32 descends and comes into contact with the upper surface of the silicon rubber plate 33c. This contact state is detected by a sensor (not shown), and the first cylinder switch 372b is automatically switched to the neutral position by a control signal from the control circuit 371 based on the detection signal. The state is set in a state where pressure is not applied to the laminate raw material C via the plate 33c.

【0076】そして、上部電極板32のシリコンゴム板
33cへの当接が確認されると、真空ポンプ用スイッチ
372fがオンされ、上部電極板32および下部電極板
36に高周波電圧が印加される。この高周波電圧の印加
状態は所定時間継続され、この間に積層体原料Cのフィ
ルム状接着剤Bが加熱溶融して上下の積層材Aを相互に
接着する。
When the contact of the upper electrode plate 32 with the silicon rubber plate 33c is confirmed, the vacuum pump switch 372f is turned on, and a high-frequency voltage is applied to the upper electrode plate 32 and the lower electrode plate 36. The application state of the high-frequency voltage is continued for a predetermined time, during which the film-like adhesive B of the laminate material C is heated and melted to bond the upper and lower laminate materials A to each other.

【0077】ついで、所定時間の高周波電圧の印加が終
わると、制御弁38bが開弁され、外気導入管38d、
吸引本管38cおよび吸気管33dを通して空気が密閉
空間S内に供給される。これによって密閉空間S内は常
圧環境になり、この常圧環境が所定時間の養生期間とし
て継続される。こうすることによって、積層体原料Cは
高周波加熱で昇温されているが、真空状態であるため低
温であった密閉空間Sの環境温度が、積層体原料Cから
の空気への伝熱で昇温し、この昇温された空気の温度が
逆に積層体原料Cの周縁部に伝熱されるため、積層体原
料Cの周縁部が加熱され、これによって積層体原料Cの
周縁部の溶融した接着剤中の気泡が膨張し、この膨張が
ドライビングフォースになって抵抗の小さい方向、すな
わち積層体原料Cの縁部から外部に向かう方向に移動
し、積層体原料Cの縁部に残留していたフィルム状接着
剤B中の気泡が取り除かれる。
Then, when the application of the high-frequency voltage for a predetermined time is completed, the control valve 38b is opened, and the outside air introduction pipe 38d,
Air is supplied into the closed space S through the main suction pipe 38c and the suction pipe 33d. Thereby, the inside of the sealed space S becomes a normal pressure environment, and the normal pressure environment is continued as a curing period of a predetermined time. By doing so, the temperature of the laminate material C is raised by high-frequency heating, but the environmental temperature of the closed space S, which was low due to the vacuum state, rises due to the heat transfer from the laminate material C to the air. Since the temperature of the heated air is conversely transferred to the peripheral portion of the laminate material C, the peripheral portion of the laminate material C is heated, thereby melting the peripheral portion of the laminate material C. Bubbles in the adhesive expand, and the expansion becomes a driving force and moves in a direction of low resistance, that is, in a direction from the edge of the laminate material C to the outside, and remains at the edge of the laminate material C. Bubbles in the film adhesive B are removed.

【0078】そして、上記養生期間の経過後、所定のス
イッチのスイッチ操作によって上部電極板32および積
層体囲繞部材33が上昇されると同時に昇降架台34も
上昇され、開放状態になった積層体載置板54上の複合
積層体Dは、台車5の移動で貯留部4に移され、ついで
次工程に搬出される。
After the elapse of the curing period, the upper electrode plate 32 and the laminate surrounding member 33 are raised by operating a predetermined switch, and at the same time, the lifting platform 34 is also raised, so that the stacked stack is opened. The composite laminate D on the placing plate 54 is moved to the storage section 4 by the movement of the carriage 5, and then carried out to the next step.

【0079】以後、積層材Aおよびフィルム状接着剤B
の台車5上への供給、電磁波加熱部3への移送、上記の
スイッチ操作および得られた複合積層体Dの貯留部4へ
の移送が繰り返されることにより、複合積層体Dが順次
製造される。
Thereafter, the laminated material A and the film adhesive B
Of the composite laminate D is sequentially manufactured by repeating the supply of the composite laminate D onto the carriage 5, the transfer to the electromagnetic wave heating unit 3, the switch operation described above, and the transfer of the obtained composite laminate D to the storage unit 4. .

【0080】本実施形態においては、脱気・接着工程P
2における高周波電圧の積層体原料Cへの印加や印加停
止タイミングは、予め設定されたタイムスケジュールに
従って行うようにしているが、密閉空間Sの温度を検出
する図略の温度計を設け、この温度計が検出した温度に
応じて上記積層体原料Cへの上記タイミングを都度決め
るようにしてもよい。
In this embodiment, the deaeration / adhesion step P
The application of the high-frequency voltage to the laminate raw material C and the timing of stopping the application in 2 are performed according to a preset time schedule, but a thermometer (not shown) for detecting the temperature of the closed space S is provided. The timing for the laminate raw material C may be determined each time according to the temperature detected by the meter.

【0081】ところで、電磁波加熱による発熱量(W/
cm2)は、 P=((5/9)/1012)・f・E2・ε・tan δ によって示される。ここに、fは高周波の周波数、Eは
電界の強さ(V/cm)、εは誘電率、tanδは誘電体損
失角であり、特に(ε×tanδ)は誘電体損失係数と呼
ばれている。上記の式より、発熱量Pは、電界の強さの
自乗(E2)と損失係数(ε×tanδ)とに比例してお
り、特に損失係数0.01〜1のものが接着剤として好
ましい。
The amount of heat generated by electromagnetic wave heating (W /
cm 2 ) is represented by P = ((5/9) / 10 12 ) · f · E 2 · ε · tan δ. Here, f is the frequency of the high frequency, E is the strength of the electric field (V / cm), ε is the dielectric constant, tanδ is the dielectric loss angle, and (ε × tanδ) is particularly called the dielectric loss coefficient. I have. From the above equation, the calorific value P is proportional to the square of the strength of the electric field (E 2 ) and the loss coefficient (ε × tan δ), and those having a loss coefficient of 0.01 to 1 are particularly preferable as the adhesive. .

【0082】そして、本実施形態においては、積層材A
としてガラスが用いられ、ガラスはフィルム状接着剤B
よりは損失係数が格段に小さいため、積層体原料Cに印
加された高周波のエネルギーは、積層材Aにはほとんど
影響を与えず、フィルム状接着剤Bの自己発熱に消費さ
れ、これによってフィルム状接着剤Bのみが加熱溶融さ
れ、外部加熱の場合のようにガラスに熱的影響を与える
ことがない。
In this embodiment, the laminated material A
Is used as the glass, and the glass is a film adhesive B
Since the loss coefficient is much smaller than that, the high-frequency energy applied to the laminate material C has little effect on the laminate material A and is consumed by the self-heating of the film adhesive B. Only the adhesive B is heated and melted, and does not thermally affect the glass as in the case of external heating.

【0083】図8は、本発明において使用されるフィル
ム状接着剤の一例を示す断面図である。この図に示すよ
うに、フィルム状接着剤Bは、薄層の芯フィルムaの表
裏に接着剤層bの積層された3層構造のものが用いられ
ている。因に、本実施形態においては、芯フィルムaと
して厚さ36μmのPETフィルムが用いられ、このP
ETフィルムの表裏に変性EVAからなる接着剤層bを
積層したものが採用されている。
FIG. 8 is a sectional view showing an example of the film adhesive used in the present invention. As shown in this figure, a film adhesive B having a three-layer structure in which an adhesive layer b is laminated on the front and back of a thin core film a is used. In this embodiment, a PET film having a thickness of 36 μm is used as the core film a.
An ET film in which an adhesive layer b made of modified EVA is laminated on the front and back sides is employed.

【0084】このような芯フィルムaを有する3層構造
のフィルム状接着剤Bを用いることにより、フィルム状
接着剤Bが非常に丈夫でかつ取り扱いが容易なものにな
り、その結果積層材Aへの接着剤付与処理において、塗
布などの面倒な作業を行うことなく、フィルム状接着剤
Bをただ単に積層材Aに被せるようにするだけで接着剤
の付与作業を行うことができ、確実、迅速かつ容易にに
積層材Aに接着剤を付与する上で極めて有効である。図
9は、このようなフィルム状接着剤Bが採用された複合
積層体Dの一実施形態を示す断面図である。この図に示
すように、複合積層体Dは、上下の積層材Aが、3層構
造のフィルム状接着剤Bによって相互に強固に接着され
た状態になっている。
By using the film adhesive B having a three-layer structure having such a core film a, the film adhesive B becomes very durable and easy to handle. In the adhesive application process, the application operation of the adhesive can be performed simply by putting the film-like adhesive B on the laminated material A without performing a troublesome operation such as coating, and the adhesive application can be performed reliably and quickly. This is extremely effective in easily applying the adhesive to the laminate A. FIG. 9 is a cross-sectional view showing one embodiment of a composite laminate D in which such a film adhesive B is employed. As shown in this figure, the composite laminate D is in a state in which the upper and lower laminates A are firmly bonded to each other by a three-layer film adhesive B.

【0085】以上詳述したように、本発明の複合積層体
の製造方法(図1)は、少なくとも2枚の積層材Aをフ
ィルム状接着剤Bを介して接着して複合積層体Dを製造
するものであり、積層材Aとフィルム状接着剤Bとを交
互に積層して積層体原料Cにする積層工程P1と、この
積層工程P1で得られた積層体原料Cに減圧環境で電磁
波加熱を施して上記積層された積層材Aを相互に接着す
る脱気・接着工程P2と、この脱気・接着工程P2の終
了後に上記減圧環境に空気を供給することによって減圧
環境を常圧環境に戻す給気工程P3とを経て複合積層体
Dを製造するようにしているため、積層工程P1でフィ
ルム状接着剤Bを介して交互に積層されて形成した積層
体原料Cは、脱気・接着工程P2において減圧環境下で
電磁波加熱が施され、これによるフィルム状接着剤Bの
溶融によって積層材Aが相互に接着される。そして、フ
ィルム状接着剤Bが溶融されて溶融接着剤になった状態
で、積層体原料Cが存在する密閉空間Sは減圧環境にな
っているため、フィルム状接着剤B中に存在する気泡は
外部に吸い出され、これによってフィルム状接着剤B中
の気泡は除去され易くなる。
As described in detail above, in the method for producing a composite laminate of the present invention (FIG. 1), a composite laminate D is produced by bonding at least two laminates A via a film adhesive B. A laminating process P1 in which a laminate material A and a film adhesive B are alternately laminated to form a laminate material C, and the laminate material C obtained in the laminate process P1 is heated by electromagnetic waves in a reduced pressure environment. And a degassing / adhering step P2 for adhering the laminated materials A to each other and supplying air to the depressurized environment after the degassing / adhering step P2 is completed, thereby changing the depressurized environment to a normal pressure environment Since the composite laminate D is manufactured through the returning air supply step P3, the laminate raw material C formed by alternately laminating via the film-like adhesive B in the lamination step P1 is deaerated and bonded. In step P2, electromagnetic wave heating is performed under a reduced pressure environment. This by laminate A by melt film adhesive B are bonded to each other. Then, in a state in which the film adhesive B is melted and becomes a molten adhesive, the closed space S in which the laminate raw material C is present is in a reduced pressure environment. Air bubbles are sucked out, so that bubbles in the film adhesive B are easily removed.

【0086】ついで、脱気・接着工程P2の終了後の給
気工程P3において、密閉空間S内に空気が供給される
ことによって減圧環境が空気の存在する常圧環境に変わ
るため、今まで略真空状態のため低温であった密閉空間
は、空気の存在で伝熱および熱対流によって周りの熱を
得て昇温され、この熱が逆に積層体原料Cの端縁部分に
供給されることによって端縁部分が昇温され、これによ
って積層体原料Cの端縁部分の溶融接着剤の流動性が向
上するとともに、端縁部分に存在する気泡の圧力が増大
する。
Next, in the air supply process P3 after the completion of the deaeration / adhesion process P2, the air is supplied into the closed space S, so that the reduced pressure environment is changed to the normal pressure environment where air is present. The enclosed space, which was low in temperature due to the vacuum state, was heated by the surrounding heat obtained by heat transfer and thermal convection in the presence of air, and this heat was conversely supplied to the edge of the laminate material C. As a result, the temperature of the edge portion is increased, whereby the flowability of the molten adhesive at the edge portion of the laminate raw material C is improved, and the pressure of the bubbles existing at the edge portion is increased.

【0087】この溶融接着剤の流動性の向上および溶融
接着剤中の気泡の圧力の増大によって、積層体原料Cの
端縁部分に存在する気泡の四囲の力学的バランスが崩
れ、しかも、積層体原料Cの中央部分よりも縁部の方が
フィルム状接着剤Bの流動性の向上により気泡が運動し
易い状態になっているため、気泡は端縁の方向に移動
し、これによって脱気・接着工程P2において除去し得
なかった端縁部分に残留している気泡が取り除かれる。
Due to the improvement of the flowability of the molten adhesive and the increase of the pressure of the bubbles in the molten adhesive, the mechanical balance of the surroundings of the bubbles existing at the edge portion of the laminate raw material C is lost. Since the edges of the raw material C are easier to move due to the improved fluidity of the film adhesive B at the edges than at the center, the bubbles move in the direction of the edges, thereby degassing and degassing. Bubbles remaining at the edge portions that could not be removed in the bonding step P2 are removed.

【0088】そして、本発明においては、上記脱気・接
着工程P2において積層体原料Cは、非加圧状態でシリ
コンゴム板33c,54bを介して一対の高周波電極板
32,36によって当接挟持されるようにしたため、積
層体原料Cは、一対の電極板によって押圧挟持されてい
ない非加圧状態になっており、電磁波加熱による溶融状
態のフィルム状接着剤Bの流動性は加圧されている場合
よりも大きく、従って溶融接着剤中の気泡は運動し易く
なっており、気泡の吸引除去が容易になる。
In the present invention, in the degassing / adhering step P2, the laminate material C is held in a non-pressed state by the pair of high-frequency electrode plates 32 and 36 via the silicon rubber plates 33c and 54b. Therefore, the laminate raw material C is in a non-pressurized state where it is not pressed and sandwiched by the pair of electrode plates, and the fluidity of the film adhesive B in a molten state by electromagnetic wave heating is pressurized. Therefore, the bubbles in the molten adhesive are easy to move, and the bubbles are easily removed by suction.

【0089】本発明は、以上のように、隣接した積層材
Aに挟持されるフィルム状接着剤B中に気泡が存在しな
い状態で複合積層体Dが形成されるため、積層材Aがガ
ラスである場合、複合積層体Dである合わせガラスに気
泡が存在しなくなり、気泡の存在による外観視の見苦し
さが解消されるとともに、合わせガラスを光学的用途に
用いることが可能になる。
As described above, according to the present invention, since the composite laminate D is formed without bubbles in the film adhesive B sandwiched between the adjacent laminates A, the laminate A is made of glass. In some cases, no bubbles are present in the laminated glass as the composite laminate D, and the appearance of the bubbles due to the presence of the bubbles is eliminated, and the laminated glass can be used for optical applications.

【0090】また、積層材Aとして不透明な材料が用い
られている場合、気泡が存在することによる接着力の不
均一がなくなり、これによってフィルム状接着剤Bを挟
んで接着された少なくとも2枚の積層材Aからなる複合
積層体Dの剪断強度を向上させることが可能になる。
When an opaque material is used as the laminated material A, the non-uniformity of the adhesive force due to the presence of air bubbles is eliminated, so that at least two sheets adhered with the film adhesive B interposed therebetween. It becomes possible to improve the shear strength of the composite laminate D made of the laminate A.

【0091】図10は、本発明が適用される複合積層体
の製造工程の第2実施形態を示す工程図である。この図
に示すように、第2実施形態においては、給気工程P3
と養生工程P4との間に供給された空気を吸引除去して
再度減圧環境にする再脱気工程P3′と、減圧環境を元
の常圧環境に再度戻す再給気工程P3″が介設されてい
る。そして上記再脱気工程P3′において、一旦常圧環
境に設定された密閉空間S(図6)を減圧環境に戻す操
作が行われる。この操作は、圧力調節手段38(図1)
の一旦開放された制御弁38bを閉止するとともに、真
空ポンプ38aを駆動させることによって行われる。こ
うすることによって真空ポンプ38aの駆動で密閉空間
S内の空気が吸引本管38cを介して吸引され、密閉空
間S内は再度減圧環境になり、積層体原料Cの周縁部の
フィルム状接着剤B中に生成した気泡除去の完璧を期す
ことができる。
FIG. 10 is a process chart showing a second embodiment of the manufacturing process of the composite laminate to which the present invention is applied. As shown in this figure, in the second embodiment, in the air supply process P3
A re-aeration step P3 ', in which the air supplied between the heating step P4 and the curing step P4 is removed by suction, and the reduced-pressure environment is restored, and a re-supply step P3 "for returning the reduced-pressure environment to the original normal pressure environment are provided. In the re-deaeration step P3 ', an operation of returning the closed space S (FIG. 6) once set to the normal pressure environment to the reduced pressure environment is performed by the pressure adjusting means 38 (FIG. 1). )
Is performed by closing the once opened control valve 38b and driving the vacuum pump 38a. In this way, the air in the sealed space S is sucked through the suction main pipe 38c by the driving of the vacuum pump 38a, and the inside of the sealed space S again becomes a reduced pressure environment, and the film-like adhesive on the peripheral edge of the laminate raw material C is formed. Perfection of removal of bubbles generated in B can be expected.

【0092】そして、第2実施形態において給気工程P
3と養生工程P4との間に再脱気工程P3′を介在させ
たのは、給気工程P3において積層体原料Cの縁部の温
度が予定された温度よりも高くなり過ぎると、フィルム
状接着剤Bの周縁部の加熱溶融状態が進み過ぎ、一部が
分解して分解ガスが生成することがあり、この分解ガス
に起因した気泡が積層体原料Cの縁部に形成されること
があるが、この気泡を除去するためである。
Then, in the second embodiment, the air supply process P
The re-deaeration step P3 ′ was interposed between the curing step P3 and the curing step P4 because the temperature of the edge portion of the laminate raw material C in the supply step P3 was too high than a predetermined temperature, and the film-like state The heat-melting state of the peripheral portion of the adhesive B is excessively advanced, and a part of the adhesive B may be decomposed to generate a decomposed gas, and bubbles resulting from the decomposed gas may be formed at the edge of the laminate material C. However, this is to remove the bubbles.

【0093】上記給気工程P3においてフィルム状接着
剤Bに周縁部の温度が高くなり過ぎる傾向は、フィルム
状接着剤Bの融点が標準的なものの融点よりも高い場合
に起こり易い。これは、給気工程P3での昇温処理は、
上述したように、密閉空間S内に導入された空気を媒体
とする伝熱に負うところが多く、この伝熱は厳密な制御
が行われ難い状態で行われるため、融点の高いフィルム
状接着剤Bを対象としてこの伝熱処理を施そうとすれ
ば、初期の温度が高めに設定される傾向になるからであ
ると考えられる。
The tendency of the peripheral temperature of the film adhesive B to be too high in the air supply step P3 tends to occur when the melting point of the film adhesive B is higher than that of a standard adhesive. This is because the temperature raising process in the air supply process P3
As described above, the heat transfer using the air introduced into the closed space S as a medium is often performed, and this heat transfer is performed in a state in which strict control is difficult to be performed. This is considered to be because if this heat transfer heat treatment is to be performed on the target, the initial temperature tends to be set higher.

【0094】具体的には、複合積層体Dが屋内で用いる
合わせガラスである場合、フィルム状接着剤Bは、融点
が略70℃のものを採用することが多いが、屋外で用い
る合わせガラスを製造する場合、屋外用の合わせガラス
は、真夏の炎天下に曝されると80℃近くにまで昇温す
ることがあり、これによるフィルム状接着剤Bの溶融を
防止するため、屋外用の合わせガラスには通常融点が略
100℃のフィルム状接着剤Bが用いられる。
Specifically, when the composite laminate D is a laminated glass used indoors, the film adhesive B often has a melting point of about 70 ° C. In the case of manufacturing, the laminated glass for outdoor use may rise to near 80 ° C. when exposed to the hot summer sunshine, and to prevent the melting of the film adhesive B by this, the laminated glass for outdoor use Is usually a film adhesive B having a melting point of about 100 ° C.

【0095】このような融点の高いフィルム状接着剤B
を採用した場合には、脱気・接着工程P2にいて密閉空
間Sの温度を100℃前後にまで昇温する必要がある
が、この温度が図らずも高くなり過ぎると、給気工程P
3においてフィルム状接着剤Bの縁部が熱分解する温度
である120℃を越えてしまう場合があり、こうなると
フィルム状接着剤Bから分解ガスが発生し、複合積層体
Dの縁部に気泡が形成することがある。第2実施形態の
再脱気工程P3′は、このような分解ガス気泡を除去す
るために採用されるものであり、この再脱気工程P3′
によって密閉空間Sが再度減圧環境に設定され、これに
よってフィルム状接着剤B内の気泡は密閉空間Sの方向
に吸引されて除去されるのである。
The film adhesive B having such a high melting point
Is adopted, it is necessary to raise the temperature of the sealed space S to about 100 ° C. in the deaeration / adhesion step P2.
3, the temperature may exceed 120 ° C., which is the temperature at which the edge of the film adhesive B is thermally decomposed. In this case, decomposition gas is generated from the film adhesive B, and air bubbles are generated at the edge of the composite laminate D. May be formed. The re-deaeration step P3 'of the second embodiment is employed to remove such decomposed gas bubbles.
Thus, the closed space S is set to the reduced pressure environment again, whereby the air bubbles in the film adhesive B are sucked and removed in the direction of the closed space S.

【0096】なお、上記分解ガス気泡は、融点が高いフ
ィルム状接着剤B(例えば上記屋外用の合わせガラスに
用いられる融点100℃のフィルム状接着剤B)の場合
にのみ生じるものではなく、融点の低いフィルム状接着
剤B(例えば上記屋内用の合わせガラスに用いられる融
点70℃のフィルム状接着剤B)であっても、給気工程
P3での温度上昇が著しくて90℃を大幅に越えるよう
な場合には分解ガス気泡が発生する。従って、分解ガス
気泡を除去するための再脱気工程P3′の採用は、溶解
温度の高いフィルム状接着剤Bを用いる場合に限られる
ものではなく、溶解温度の低いフィルム状接着剤Bを用
いる場合にも採用され得るものである。
Note that the above-mentioned decomposed gas bubbles are not generated only in the case of the film adhesive B having a high melting point (for example, the film adhesive B having a melting point of 100 ° C. used for the laminated glass for outdoor use). Of the film adhesive B having a low melting point (for example, the film adhesive B having a melting point of 70 ° C. used for the above laminated glass for indoor use), the temperature rise in the air supply step P3 is remarkable and greatly exceeds 90 ° C. In such a case, decomposition gas bubbles are generated. Therefore, the employment of the re-deaeration step P3 'for removing the decomposed gas bubbles is not limited to the case where the film adhesive B having a high dissolution temperature is used, and the use of the film adhesive B having a low dissolution temperature is used. It can be adopted also in the case.

【0097】そして、再脱気工程P3′での所定時間の
気泡除去処理が終了すると、真空ポンプ38a(図2)
の稼働が停止されるとともに制御弁38bが開通され、
これによって外気が外気導入管38dおよび吸引本管3
8cを通って密閉空間S内に導入される再給気工程P
3″が実行されて密閉空間S内は常圧環境に設定され
る。ついでこの常圧環境を所定時間継続する第1実施形
態と同様の養生工程P4が実行された後、複合積層体D
は電磁波加熱部3から引き出される。
When the bubble removal process for a predetermined time in the re-deaeration step P3 'is completed, the vacuum pump 38a (FIG. 2)
Is stopped and the control valve 38b is opened,
As a result, the outside air is supplied to the outside air introduction pipe 38 d and the suction main pipe 3.
8c into the closed space S through the re-supply process P
3 "is performed to set the normal pressure environment in the closed space S. Then, after the curing process P4 similar to the first embodiment in which the normal pressure environment is continued for a predetermined time is performed, the composite laminate D is formed.
Is drawn out of the electromagnetic wave heating unit 3.

【0098】このように、第2実施形態の複合積層体D
の製造工程においては、給気工程P3と養生工程P4と
の間に再脱気工程P3′を介設し、温度管理の困難な給
気工程P3でフィルム状接着剤Bの温度が高くなり過ぎ
ることに起因した分解ガス気泡を除去するようにしたた
め、複合積層体Dの周縁部に生成し易い微細な気泡をよ
り悪実に除去することが可能になり、不良率が小さく、
かつ、商品価値の高い複合積層体Dを製造する上で極め
て有効である。
As described above, the composite laminate D of the second embodiment
In the manufacturing process, the re-aeration step P3 'is interposed between the air supply step P3 and the curing step P4, and the temperature of the film adhesive B becomes too high in the air supply step P3 in which temperature control is difficult. In order to remove the decomposed gas bubbles caused by the above, it is possible to more finely remove fine bubbles that are easily generated at the peripheral portion of the composite laminate D, and the defect rate is small,
And it is extremely effective in producing a composite laminate D having a high commercial value.

【0099】[0099]

【実施例】【Example】

1.本発明方法の効果確認試験 (イ)複合積層体を屋内用合わせガラスとした場合の試
験(実施例1) 積層材とフィルム状接着剤とを交互に積層することによ
って得られた積層体原料に減圧環境で所定時間の高周波
加熱を施した後、常圧環境に戻して所定の養生期間を経
ると、溶融したフィルム状接着剤の中に気泡が残留しな
くなること(本発明方法の効果)を確認するために、上
記製造装置1を用いて第1実施形態に係る方法の効果確
認試験を実施した。この試験は、複合積層体Dとして融
点の低いフィルム状接着剤Bを用いる屋内用の合わせガ
ラスを得る場合で行っている。試験の内容は以下の通り
である。
1. Test for confirming the effect of the method of the present invention (a) Test in the case of using a composite laminate as an indoor laminated glass (Example 1) A laminate material obtained by alternately laminating a laminated material and a film-like adhesive was used. After applying a high-frequency heating for a predetermined time in a reduced pressure environment, returning to a normal pressure environment and passing a predetermined curing period, no bubbles remain in the molten film adhesive (the effect of the method of the present invention). In order to confirm, an effect confirmation test of the method according to the first embodiment was performed using the manufacturing apparatus 1 described above. This test is performed when a laminated glass for indoor use using a film adhesive B having a low melting point as the composite laminate D is obtained. The content of the test is as follows.

【0100】 積層材およびフィルム状接着剤の種類
と積層体原料の積層構造 積層材として厚み寸法が3mmのガラス板を2枚採用す
るとともに、フィルム状接着剤としてPETフィルムの
表裏に上記変性EVAを積層した厚み寸法が250μm
の、いわゆる補強EVAフィルムを1枚採用した。この
補強EVAフィルムB1の表裏に積層された変性EVA
の融点は略70℃である。これらの材料を、縦横が91
5mm×1830mmになるようにカッティングしてそ
れぞれ同一寸法に揃え、ついで、最下層に1枚のガラス
板A′を敷き、その上に補強EVAフィルムB′および
他のガラス板A′を順次積層して3層構造の合せガラス
原料D1(図11)にした。
Types of Laminate and Film Adhesive and Laminate Structure of Laminate Raw Material Two glass plates each having a thickness of 3 mm were employed as a laminate, and the above-mentioned modified EVA was applied to the front and back of a PET film as a film adhesive. The thickness of the laminated layer is 250μm
One so-called reinforced EVA film was employed. Modified EVA laminated on the front and back of this reinforced EVA film B1
Has a melting point of about 70 ° C. These materials are 91
Cutting to 5 mm x 1830 mm to make them the same size, then laying one glass plate A 'on the lowermost layer, and stacking a reinforcing EVA film B' and another glass plate A 'on top of it. To obtain a laminated glass raw material D1 (FIG. 11) having a three-layer structure.

【0101】 試験の手順 上記合せガラス原料D1を図1に示す台車5の積層体載
置板54上に載置し、手押しで台車5を電磁波加熱部3
の昇降架台34上に送り込んでから第3シリンダ装置3
41の駆動で昇降架台34を下降させて積層体載置板5
4の下面を下部電極板36に当接させた。
Test Procedure The laminated glass raw material D1 was placed on the laminated body placing plate 54 of the truck 5 shown in FIG.
Of the third cylinder device 3
The lifting platform 34 is moved down by the drive of the
4 was brought into contact with the lower electrode plate 36.

【0102】ついで、第2シリンダ装置331の駆動で
積層体囲繞部材33を下降させて合せガラス原料D1を
シリコンゴム板33cで覆い、これによって合せガラス
原料D1の外周部分にシリコンゴム板33cと積層体載
置板54とで囲まれた環状の密閉空間Sを形成するとと
もに、第1シリンダ装置321の駆動で上部電極板32
を下降させ、その下面をシリコンゴム板33cの上面に
当接させた(図4、図6および図11に示す状態)。こ
の当接を確認した後、第1シリンダ装置321への油圧
供給を遮断して合せガラス原料D1に大きな圧縮力が加
わらないようにした。
Then, the laminated body surrounding member 33 is moved down by driving the second cylinder device 331 to cover the laminated glass raw material D1 with the silicon rubber plate 33c, whereby the outer peripheral portion of the laminated glass raw material D1 is laminated with the silicon rubber plate 33c. An annular closed space S surrounded by the body mounting plate 54 is formed, and the upper electrode plate 32 is driven by the first cylinder device 321.
Was lowered, and the lower surface thereof was brought into contact with the upper surface of the silicon rubber plate 33c (the state shown in FIGS. 4, 6, and 11). After confirming this contact, the supply of the hydraulic pressure to the first cylinder device 321 was cut off so that a large compressive force was not applied to the laminated glass raw material D1.

【0103】また、図12は、合せガラス原料D1が上
下の電極板32,36間に装着された状態を示す平面視
の説明図であるが、この図に示すように、密閉空間S内
の空気を略等間隔で設けた6個所の吸気管33dから吸
引した。なお本実施例では、シリコンゴム板33,54
b間に合せガラス原料D1を装着するに先立って、密閉
空間Sとなる部分の適所に円筒状の複数のスペーサーS
1を装着し(図11、図12)、シリコンゴム板33c
をこのスペーサーS1に支持させることによって密閉空
間S内が減圧環境になった状態で、シリコンゴム板33
cが密閉空間Sの方向に凹んで空気の吸引通路を塞ぐこ
とを防止した。
FIG. 12 is an explanatory plan view showing a state in which the laminated glass raw material D1 is mounted between the upper and lower electrode plates 32 and 36. As shown in FIG. Air was sucked from six intake pipes 33d provided at substantially equal intervals. In this embodiment, the silicon rubber plates 33, 54
Prior to mounting the laminated glass raw material D1 in the space b, a plurality of cylindrical spacers S
1 (FIGS. 11 and 12), and the silicon rubber plate 33c
Is supported by the spacer S1, and the silicon rubber plate 33
This prevents c from clogging in the direction of the closed space S and blocking the air suction passage.

【0104】ついで、真空ポンプ38a(図1)を駆動
して密閉空間S内の空気を吸引除去し、密閉空間Sを減
圧環境にした。この状態で高周波発振機37を駆動して
上下の電極板32,36から合せガラス原料D1に高周
波電圧を所定時間印加し、これによる補強EVAフィル
ムB′の発熱でそれを溶融させ、上下に積層されたガラ
ス板A′を補強EVAフィルムB′を介して相互に接着
させるようにした。
Then, the vacuum pump 38a (FIG. 1) was driven to suck and remove the air in the closed space S, and the closed space S was set to a reduced pressure environment. In this state, the high-frequency oscillator 37 is driven to apply a high-frequency voltage from the upper and lower electrode plates 32 and 36 to the laminated glass raw material D1 for a predetermined period of time. The glass sheets A 'thus adhered to each other via a reinforcing EVA film B'.

【0105】そして、所定時間の合せガラス原料D1へ
の高周波電圧の印加が終了した後、真空ポンプ38a
(図1)の駆動を停止するとともに、制御弁38bを開
弁して密閉空間S内に空気を導入し、密閉空間S内を減
圧環境から元の常圧環境に戻した。この常圧環境の所定
時間の継続(養生期間)の後、第1シリンダ装置321
の駆動で上部電極板32を上昇させ、ついで第2シリン
ダ装置331の駆動で積層体囲繞部材33を上昇させ、
引き続き第3シリンダ装置341の駆動で昇降架台34
を上昇させて元の高さレベルに戻し、その後、台車5を
手押しで貯留部4に移して積層体載置板54上に複合積
層体Dである最終製品としての合せガラスE1を得た。
そして、この合せガラスE1を目視観察して内部に気泡
が残留しているか否かを調べた。
After the application of the high-frequency voltage to the laminated glass raw material D1 for a predetermined time is completed, the vacuum pump 38a
While the drive of FIG. 1 was stopped, the control valve 38b was opened to introduce air into the closed space S, and the closed space S was returned from the reduced pressure environment to the original normal pressure environment. After the continuation of the normal pressure environment for a predetermined time (curing period), the first cylinder device 321
To raise the upper electrode plate 32, and then drive the second cylinder device 331 to raise the stacked body surrounding member 33,
Subsequently, the lifting frame 34 is driven by the driving of the third cylinder device 341.
Was raised to return to the original height level, and thereafter, the cart 5 was manually moved to the storage section 4 to obtain a laminated glass E1 as a composite laminate D as a final product on the laminate mounting plate 54.
Then, the laminated glass E1 was visually observed to check whether air bubbles remained inside.

【0106】また、合せガラス原料D1への高周波の印
加開始から、養生期間終了までの間の密閉空間Sの温度
変化を経時的に測定した。
The temperature change in the closed space S from the start of applying the high frequency to the laminated glass raw material D1 to the end of the curing period was measured over time.

【0107】なお、比較例として、合せガラス原料D1
に対する電磁波加熱の終了後、密閉空間S内を常圧に戻
さないで合せガラスE2をつくる試験を実施した。この
場合の手順は、養生期間の終了後に真空ポンプ38aを
停止して制御弁38bを開弁するようにした以外は、上
記と同様である。
As a comparative example, as a laminated glass raw material D1
After the completion of the electromagnetic wave heating, a test was performed to produce a laminated glass E2 without returning the inside of the closed space S to normal pressure. The procedure in this case is the same as the above except that the vacuum pump 38a is stopped and the control valve 38b is opened after the end of the curing period.

【0108】 試験条件 本発明方法に係る試験条件(実施例1)、および実施例
1とは異なる試験条件(比較例1〜3)をそれぞれ以下
のように設定し、上記の手順で合せガラスE1,E2
を製造した。
Test Conditions The test conditions (Example 1) according to the method of the present invention and the test conditions (Comparative Examples 1 to 3) different from Example 1 were set as follows, respectively, and the laminated glass E1 was obtained by the above procedure. , E2
Was manufactured.

【0109】まず、実施例1においては、まず、密閉空
間S内の真空度を730mmHgに設定した後、上部電
極板32への供給電流を当初5.0Aに制御し、この状
態を120秒間継続した後、上記電流を4.0Aに落し
て60秒間の電磁波加熱を継続した。そして、4.0A
での60秒の電磁波加熱の後、真空ポンプ38aの駆動
を停止するとともに、制御弁38bを開弁し、これによ
って密閉空間S内を常圧に戻した。その後、密閉空間S
内の温度が略50℃になるまで放置する養生期間を経て
から合せガラスE1を取り出した。
First, in the first embodiment, after setting the degree of vacuum in the closed space S to 730 mmHg, the supply current to the upper electrode plate 32 is initially controlled to 5.0 A, and this state is continued for 120 seconds. After that, the current was reduced to 4.0 A, and the electromagnetic wave heating was continued for 60 seconds. And 4.0A
After the electromagnetic wave heating for 60 seconds, the operation of the vacuum pump 38a was stopped, and the control valve 38b was opened, thereby returning the pressure in the closed space S to normal pressure. Then, the closed space S
The laminated glass E1 was taken out after a curing period in which the inside temperature was reduced to approximately 50 ° C.

【0110】そして、合せガラス原料D1が上下の電極
板32,36に挟持された状態では、上部電極板32に
よって合せガラス原料D1を押圧しなかった。従って合
せガラス原料D1の受ける面圧は略1kgf/cm2
なっている。
When the laminated glass raw material D1 was sandwiched between the upper and lower electrode plates 32 and 36, the upper glass plate 32 did not press the laminated glass raw material D1. Therefore, the surface pressure received by the laminated glass raw material D1 is approximately 1 kgf / cm 2 .

【0111】つぎに、第1の比較例においては、上記面
圧を4kgf/cm2に設定し、その他は上記の実施例
1と同様の操作を行った。
Next, in the first comparative example, the same surface pressure was set to 4 kgf / cm 2 , and the other operations were the same as those in the first embodiment.

【0112】また、比較例1においては、密閉空間S内
の真空度を730mmHgに設定した後、上部電極板3
2への供給電流を、終始、実施例1よりも若干大きめの
6.0Aに設定し、この状態を180秒間継続した後、
上部電極板32への電流供給を停止し、真空度は当初の
ままで密閉空間S内の温度が略50℃になるまで放置し
た。また、合せガラス原料D1が上下の電極板32,3
6に挟持された状態での合せガラス原料D1の面圧は、
減圧時は3kgf/cm2、電極板による加圧時は4k
gf/cm2になるように設定した。その他の操作は実
施例1と同様に行った。
In Comparative Example 1, after the degree of vacuum in the closed space S was set to 730 mmHg, the upper electrode plate 3
The supply current to 2 was set to 6.0 A, which was slightly larger than that of Example 1 throughout, and this state was continued for 180 seconds.
The current supply to the upper electrode plate 32 was stopped, and the temperature was kept at the initial level of vacuum until the temperature in the closed space S became approximately 50 ° C. Further, the laminated glass raw material D1 is composed of the upper and lower electrode plates 32, 3
6, the surface pressure of the laminated glass raw material D1 in the state of being sandwiched between
3 kgf / cm 2 when depressurized, 4 k when pressurized by electrode plate
gf / cm 2 . Other operations were performed in the same manner as in Example 1.

【0113】また、比較例2においては、高周波加熱の
条件(陽極電流への電流供給条件)は実施例1と同一に
し、高周波加熱を開始してから180秒経過後も引き続
き密閉空間Sを減圧環境にした。また、比較例3におい
ては、高周波加熱の条件および密閉空間Sの条件の双方
を実施例と同一にしたが、電極板による加圧は180秒
経過後も継続した。
In Comparative Example 2, the conditions for high-frequency heating (current supply conditions to the anode current) were the same as in Example 1, and the sealed space S was continuously depressurized 180 seconds after the start of high-frequency heating. Environment. In Comparative Example 3, both the conditions of the high-frequency heating and the conditions of the closed space S were the same as those of the example, but the pressurization by the electrode plate was continued after elapse of 180 seconds.

【0114】 試験結果 上記実施例1および比較例を対象にした試験結果を表1
に、実施例1および比較例1の同密閉空間Sの温度変化
を表1にそれぞれ示す。
Test Results Table 1 shows the test results for the above Example 1 and Comparative Example.
Table 1 shows the temperature changes in the closed space S of Example 1 and Comparative Example 1 respectively.

【0115】[0115]

【表1】 [Table 1]

【0116】表1から判るとおり、実施例1において
は、得られた合せガラスE1の縁部に全く気泡が存在し
なかったのに対し、比較例1〜3のいずれにも合せガラ
スE1の縁部に小さな気泡の存在が認められた。
As can be seen from Table 1, in Example 1, no bubble was present at the edge of the obtained laminated glass E1, whereas in any of Comparative Examples 1 to 3, the edge of the laminated glass E1 was obtained. The presence of small bubbles was observed in the part.

【0117】この理由は詳らかではないが、実施例1に
おいては、図13に示すように、180秒経過後に密閉
空間Sを真空環境から急激に常圧環境に戻したため、密
閉空間S内に外気が流れ込み、これによって今まで対流
熱や伝動熱が伝わらなかった密閉空間Sが空気の存在に
よって対流熱や伝動熱によって加熱され、この加熱によ
る密閉空間Sの温度が、逆に合せガラスE1の縁部に外
部から伝達されて端部の補強EVAフィルムB′の溶融
した接着剤層(変性EVA)がより流動し易くなるとと
もに、この加熱によって合せガラスE1の縁部に形成し
た気泡が大きくなるためであると考えらる。
Although the reason for this is not clear, in the first embodiment, as shown in FIG. 13, after 180 seconds, the sealed space S was rapidly returned from the vacuum environment to the normal pressure environment. Flows into the closed space S, to which the convection heat and the transfer heat have not been transmitted, is heated by the convection heat and the transfer heat due to the presence of the air. The melted adhesive layer (modified EVA) of the reinforced EVA film B 'at the end portion transmitted from the outside to the outside becomes easier to flow, and the bubbles formed on the edge of the laminated glass E1 by this heating increase. It is considered to be.

【0118】すなわち、合せガラスE1の端部の接着剤
層がより軟らかくなって流動し易くなると、膨張による
気泡の移動は接着剤がより軟らかい端縁方向に向かうこ
とになり、これによって端縁に到達した気泡が密閉空間
Sに向けて抜ける、と考えられる。
That is, when the adhesive layer at the end of the laminated glass E1 becomes softer and flows more easily, the movement of bubbles due to expansion causes the adhesive to move in the direction of the softer edge. It is considered that the arriving air bubbles escape toward the closed space S.

【0119】従って、比較例1および2のように、密閉
空間S内を常圧環境に戻す操作を行わないと、合せガラ
スE1の端縁部分の急激な温度上昇が生じないため、気
泡が除去されない。
Therefore, unless the operation of returning the inside of the closed space S to the normal pressure environment is performed as in Comparative Examples 1 and 2, a sharp rise in the temperature of the edge portion of the laminated glass E1 does not occur, so that bubbles are removed. Not done.

【0120】また、比較例3のように、180秒経過後
にたとえ密閉空間Sを常圧環境に戻しても、上部電極板
32および下部電極板36から受ける合せガラスE1の
面圧が大きいため、この面圧によって溶融した接着剤の
流動状態が阻害され、これによって気泡の移動が困難に
なり、気泡が密閉空間Sに向けて抜け出ないようになる
と考えられる。
Further, as in Comparative Example 3, even if the sealed space S is returned to the normal pressure environment after the elapse of 180 seconds, the surface pressure of the laminated glass E1 received from the upper electrode plate 32 and the lower electrode plate 36 is large. It is considered that the flow state of the melted adhesive is hindered by the surface pressure, whereby the movement of the bubbles becomes difficult and the bubbles do not escape toward the closed space S.

【0121】(ロ)複合積層体を屋外用合わせガラスと
した場合の試験(実施例2) 本発明の第2実施形態に係る方法で複合積層体Dを製造
することによって複合積層体Dの周縁部にフィルム状接
着剤に起因した気泡が残留しなくなることを確認するた
めに、図14に示すような屋外用の合せガラスE2を第
2実施形態の方法によって製造した。合せガラス原料D
2として、実施例1のものと同様のガラス板A′3枚
と、これらガラス板A′間に挟持される高融点EVAフ
ィルムB″2枚とを用いた。上記高融点EVAフィルム
B″は、上記実施例1で使用された補強EVAフィルム
B′より高架橋度のものであり、融点は略100℃であ
る。このような高融点EVAフィルムB″を用いること
により、合せガラスE2を屋外の炎天下で適用してもフ
ィルムの軟化で積層されたガラス板A′が分離すること
のないようにしている。
(B) Test when the composite laminate is an outdoor laminated glass (Example 2) The periphery of the composite laminate D is manufactured by manufacturing the composite laminate D by the method according to the second embodiment of the present invention. An outdoor laminated glass E2 as shown in FIG. 14 was manufactured by the method of the second embodiment in order to confirm that air bubbles caused by the film-like adhesive did not remain in the portion. Laminated glass raw material D
As Example 2, three glass plates A 'similar to those in Example 1 and two high melting point EVA films B "sandwiched between these glass plates A' were used. It has a higher degree of crosslinking than the reinforced EVA film B 'used in Example 1 and has a melting point of about 100 ° C. By using such a high melting point EVA film B ″, even if the laminated glass E2 is applied under the sunshine outdoors, the laminated glass plate A ′ is not separated by the softening of the film.

【0122】かかるガラス板A′および高融点EVAフ
ィルムB″を交互に積層した合せガラス原料D2を、図
14に示すように積層体載置板54上で上下のシリコン
ゴム板33c,54bを介して上部電極板32および下
部電極板36間に挾持し、高周波印加による加熱処理で
高融点EVAフィルムB″を溶融して上下のガラス板
A′を接着した。
The laminated glass raw material D2 obtained by alternately laminating the glass plate A 'and the high melting point EVA film B "is placed on the laminate mounting plate 54 via the upper and lower silicon rubber plates 33c and 54b as shown in FIG. The high-melting-point EVA film B ″ was melted by heat treatment by applying high frequency, and the upper and lower glass plates A ′ were bonded.

【0123】脱気・接着工程P2、給気工程P3、再脱
気工程P3′および養生工程P4における加熱等の条件
は、図15に示すように、以下の通りに設定した。すな
わち、脱気・接着工程P2においては、密閉空間S内を
減圧環境(真空度710mmHg)にして上部電極板3
2に供給する陽極電流値を5.0Aに設定し、この電流
供給を530秒間継続した後、減圧環境のまま電流値を
4.0Aに落してこの状態を60秒間継続するようにし
た。
As shown in FIG. 15, conditions such as heating in the deaeration / adhesion step P2, the air supply step P3, the re-deaeration step P3 'and the curing step P4 were set as follows. That is, in the deaeration / adhesion process P2, the inside of the closed space S is set to a reduced pressure environment (vacuum degree: 710 mmHg), and the upper electrode plate 3
The anode current value to be supplied to No. 2 was set to 5.0 A, and after this current supply was continued for 530 seconds, the current value was reduced to 4.0 A in a reduced pressure environment, and this state was continued for 60 seconds.

【0124】ついで、給気工程P3においては、密閉空
間S内を常圧環境に戻し、この状態を60秒間継続する
とともに、つぎの再脱気工程P3′において密閉空間S
内を再度減圧環境に設定した。この減圧環境を、高融点
EVAフィルムB″の温度が融点より十分低くなるまで
継続した後、密閉空間Sを常圧に戻し、略300秒間の
養生工程P4を経て合せガラスE2を得た。
Next, in the air supply step P3, the inside of the closed space S is returned to the normal pressure environment, this state is continued for 60 seconds, and in the next re-deaeration step P3 ', the closed space S is released.
The inside was set to a reduced pressure environment again. After this reduced pressure environment was continued until the temperature of the high melting point EVA film B ″ became sufficiently lower than the melting point, the sealed space S was returned to normal pressure, and a laminated glass E2 was obtained through a curing step P4 of about 300 seconds.

【0125】このような条件で合せガラス原料D2を処
理することにより、図15に示すように、脱気・接着工
程P2においては、合せガラス原料D2は5.0Aの高
周波加熱によって高融点EVAフィルムB″の融点であ
る略100℃まで昇温し、4.0Aの高周波加熱によっ
てこの温度が60秒間継続され、この間に高融点EVA
フィルムB″を挟んだ上下のガラス板A′が互いに接着
された状態になる。
By treating the laminated glass raw material D2 under such conditions, as shown in FIG. 15, in the degassing / adhering step P2, the laminated glass raw material D2 is heated to a high melting point by a high-frequency heating of 5.0 A. The temperature was raised to about 100 ° C., which is the melting point of B ″, and this temperature was maintained for 60 seconds by high-frequency heating at 4.0 A, during which high melting point EVA was used.
The upper and lower glass plates A 'sandwiching the film B "are bonded to each other.

【0126】このとき、高融点EVAフィルムB″およ
びガラス板A′間に空気が入り込むことによって合せガ
ラス原料D2の周縁部に気泡が形成されるが、つぎの給
気工程P3において空気が密閉空間S内に供給され、上
記メカニズムによる昇温(120℃まで昇温した)によ
って高融点EVAフィルムB″の流動化が進み、空気の
気泡が密閉空間S内に導出され、これによって気泡は一
旦消滅するが、高融点EVAフィルムB″は温度が高く
なり過ぎると熱分解するため分解ガスが発生し、この分
解ガスに起因した気泡が合せガラス原料D2の周縁部に
形成された状態になる。
At this time, when air enters between the high melting point EVA film B ″ and the glass plate A ′, bubbles are formed at the peripheral portion of the laminated glass raw material D2. However, in the next air supply step P3, the air is closed. The high-melting point EVA film B ″ is fluidized by the above mechanism (heated to 120 ° C.), and air bubbles are led out into the closed space S, and the air bubbles disappear once. However, when the temperature of the high melting point EVA film B "becomes too high, it is thermally decomposed to generate a decomposed gas, and bubbles resulting from the decomposed gas are formed in the peripheral portion of the laminated glass raw material D2.

【0127】この状態で再脱気工程P3′が実行される
ことによって分解ガス気泡が溶融した高融点EVAフィ
ルムB″の縁部から減圧環境の密閉空間Sに吸引される
ため、合せガラス原料D2の周縁部に形成した気泡は除
去された。ついで、再給気工程P3″において元の常圧
環境に戻された後、養生工程P4において略常温まで冷
却されて5層構造の合せガラスE2が得られた。このよ
うにして得られた合せガラスE2を目視観察した結果、
その周縁部に気泡が全く存在しないことが確認された。
In this state, the degassing step P3 'is executed, whereby the decomposed gas bubbles are sucked from the edge of the melted high melting point EVA film B "into the closed space S under the reduced pressure environment. The bubbles formed at the periphery of are then removed. After returning to the normal atmospheric pressure environment in the re-air supply step P3 ″, the laminated glass E2 having a five-layer structure is cooled to substantially normal temperature in the curing step P4. Obtained. As a result of visually observing the laminated glass E2 thus obtained,
It was confirmed that there were no bubbles at the periphery.

【0128】2.本発明方法で製造された複合積層体の
その他の例 種々の複合積層体を本発明方法によって試験的に製造し
た。製造したものの例を表2および表3に示す。フィル
ム状接着剤としては、厚さ36μmのポリエチレンテレ
フタレートのフィルムの表裏に、変性EVAを、厚さ5
0μmになるように積層したフィルム状のもの、その他
表2および表3に示すものを用いた。また、積層材とし
ては、板ガラス、人工大理石の板、PC製の板等の板状
物、織布、和紙、皮革等のシート状物を用いた。そし
て、これらの積層材でフィルム状接着剤を挟持し、加圧
した状態で高周波を印加して加熱し、その後、徐冷して
複合積層体を得た。
[0128] 2. Other Examples of Composite Laminates Produced by the Method of the Present Invention Various composite laminates were experimentally produced by the method of the present invention. Tables 2 and 3 show examples of the manufactured products. As the film adhesive, a modified EVA having a thickness of 5 μm was formed on the front and back of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 36 μm.
Film-shaped ones laminated so as to have a thickness of 0 μm and others shown in Tables 2 and 3 were used. Further, as the laminated material, a plate-shaped material such as a plate glass, an artificial marble plate, a PC-made plate, and a sheet-shaped material such as woven fabric, Japanese paper, and leather were used. Then, a film-like adhesive was sandwiched between these laminated materials, heated by applying a high frequency in a pressurized state, and then gradually cooled to obtain a composite laminated body.

【0129】なお、これらの表において、積層構造は、
「積層材+接着剤+積層材」のように表示し、これらの
積層物がさらにn枚積層されて複合積層体が形成されて
いる場合は「×n」として表示した。また、GLはガラ
ス板を、PCはポリカーボネート製の板またはフィルム
を示し、それらの前に付された単位のない数字はmm単
位の厚み寸法を示しているとともに、μの付されている
数字はμm単位の厚み寸法を示している。また、フィル
ム状接着剤については、芯フィルムの材質はPETであ
り、その厚み寸法は36μmである。また、Aは芯フィ
ルムの採用されていない熱可塑性合成樹脂からなる通常
の接着剤であり、B、CおよびDはそれぞれ他の種類の
通常の接着剤である。
[0129] In these tables, the laminated structure is as follows.
It is indicated as "laminate + adhesive + laminate", and when these laminates are further laminated to form a composite laminate, it is represented as "xn". In addition, GL indicates a glass plate, PC indicates a plate or film made of polycarbonate, numerals without units in front of them indicate thickness dimensions in mm, and numerals with μ indicate The thickness dimension in μm is shown. As for the film-like adhesive, the material of the core film is PET, and its thickness is 36 μm. A is an ordinary adhesive made of a thermoplastic synthetic resin in which a core film is not used, and B, C and D are other types of ordinary adhesives, respectively.

【0130】[0130]

【表2】 [Table 2]

【0131】[0131]

【表3】 [Table 3]

【0132】表1に示す全ての複合積層体について、各
層の積層材が相互に確実に接着されているとともに、ガ
ラス板単独のものに比べて格段に強度が向上しているこ
とが確認された。また、ガラス板を用いていないものに
ついても、接着状態は良好であった。
In all the composite laminates shown in Table 1, it was confirmed that the laminated materials of the respective layers were securely bonded to each other and that the strength was remarkably improved as compared with that of the single glass plate. . Also, those without using a glass plate showed good adhesion.

【0133】[0133]

【発明の効果】請求項1および2記載の発明によれば、
積層材とフィルム状接着剤とを交互に積層して得られた
積層体原料に減圧環境で電磁波加熱を施して上記積層さ
れた積層材を相互に接着する脱気・接着工程と、この脱
気・接着工程の終了後に上記減圧環境に空気を供給する
ことによって減圧環境を常圧環境に戻す給気工程とを経
て複合積層体を製造するようにしているため、積層工程
でフィルム状接着剤を介して交互に積層されて形成した
積層体原料は、脱気・接着工程において減圧環境下で電
磁波加熱が施され、これによるフィルム状接着剤の溶融
によって積層材が相互に接着されるが、その際、フィル
ム状接着剤が溶融された状態で、積層体原料が存在する
空間は減圧環境になっているため、これによって接着剤
中に存在する気泡は外部に吸い出され易くなり、接着剤
中の気泡を除去し易くすることができる。
According to the first and second aspects of the present invention,
A degassing / adhering step of applying electromagnetic wave heating in a reduced pressure environment to a laminated material obtained by alternately laminating the laminated material and the film adhesive to adhere the laminated materials to each other; Since the composite laminate is manufactured through an air supply step of returning the reduced-pressure environment to the normal-pressure environment by supplying air to the reduced-pressure environment after the bonding step, the film-like adhesive is used in the laminating step. The laminate raw material formed by alternately laminating the layers is subjected to electromagnetic wave heating under reduced pressure in the degassing / bonding step, and the laminated materials are bonded to each other by the melting of the film adhesive thereby. When the film adhesive is in a molten state, the space in which the laminate material is present is in a decompressed environment, whereby air bubbles present in the adhesive are easily sucked out, and Remove air bubbles Can Kusuru.

【0134】ついで、脱気・接着工程の終了後の給気工
程において、減圧環境は、空気が供給されることによっ
て常圧環境に変わるため、空気の存在によって積層体原
料が存在する密閉空間は常圧環境になり、今まで真空状
態のため低温であった密閉空間は、空気の存在で伝熱お
よび熱対流によって周りの熱を得て昇温され、この熱が
逆に積層体原料の端縁部分に供給されることによって端
縁部分が昇温され、これによって積層体原料の端縁部分
の溶融接着剤の流動性が向上するとともに、端縁部分に
存在する気泡の圧力を増大させることができる。
Next, in the air supply step after the completion of the deaeration / adhesion step, the reduced pressure environment is changed to a normal pressure environment by the supply of air. The enclosed space, which had been in a normal pressure environment and was low in temperature due to a vacuum state, was heated by the heat of the surroundings due to heat transfer and thermal convection in the presence of air, and this heat was conversely reduced to the end of the laminate material. The edge portion is heated by being supplied to the edge portion, whereby the flowability of the molten adhesive at the edge portion of the laminate raw material is improved, and the pressure of bubbles existing at the edge portion is increased. Can be.

【0135】この流動性の向上および気泡の圧力の増大
によって、積層体原料の端縁部分に存在する気泡の四囲
の力学的バランスが崩れ、しかも、積層体原料の中央部
分よりも縁部の方が接着剤の流動性の向上により気泡が
運動し易い状態になっているため、気泡は端縁の方向に
移動し、これによって脱気・接着工程において除去し得
なかった端縁部分に残留している気泡を確実に取り除く
ことができる。
Due to the improvement in fluidity and the increase in the pressure of the bubbles, the mechanical balance of the surroundings of the bubbles existing at the edges of the raw material for the laminate is lost, and moreover, the edges of the raw material for the laminate are closer to the edges than to the central portion. However, the bubbles move in the direction of the edge because the flowability of the adhesive is improved due to the improvement in the flowability of the adhesive, and thus the air bubbles remain at the edge portions that could not be removed in the deaeration / adhesion process. It is possible to reliably remove air bubbles.

【0136】請求項3記載の発明によれば、給気工程の
後に養生工程を付加したため、積層体原料は、養生工程
での静置による放冷によって積層材相互の接着状態が安
定するとともに、放冷による温度低下で軟化していたフ
ィルム状接着剤が硬化し、各積層材がフィルム状接着剤
を介して相互に確実に接着した複合積層体を得ることが
できる。
According to the third aspect of the present invention, since the curing step is added after the air supply step, the laminated material is stably cooled in the curing step to stabilize the bonding state between the laminated materials, and The film adhesive which has been softened by the temperature drop due to cooling is hardened, and a composite laminate in which the respective laminates are securely bonded to each other via the film adhesive can be obtained.

【0137】請求項4記載の発明によれば、吸気工程に
おいてフィルム状接着剤の縁部の温度がフィルム状接着
剤の溶融温度よりも大幅に高くなった場合、フィルム状
接着剤が熱分解して分解ガスが発生し、この分解ガスに
よって複合積層体の縁部に新たに気泡が形成されたとし
ても、付加された再脱気工程において複合積層体の周り
が減圧環境にされるため、上記分解ガスは減圧環境の方
に移動して溶融状態の接着剤から外部に抜け、これによ
って分解ガスに起因した新たな気泡を除去することがで
きる。
According to the fourth aspect of the present invention, when the temperature of the edge of the film adhesive becomes significantly higher than the melting temperature of the film adhesive in the suction process, the film adhesive is thermally decomposed. Decomposition gas is generated, and even if new bubbles are formed at the edge of the composite laminate by this decomposition gas, the surroundings of the composite laminate are set to a reduced pressure environment in the added re-degassing step, The decomposed gas moves toward the reduced-pressure environment and escapes from the adhesive in the molten state, whereby new air bubbles caused by the decomposed gas can be removed.

【0138】請求項5記載の発明によれば、再給気工程
の後に養生工程を付加したため、積層体原料は、養生工
程での静置による放冷によって積層材相互の接着状態が
安定するとともに、放冷による温度低下で軟化していた
フィルム状接着剤が硬化し、各積層材がフィルム状接着
剤を介して相互に確実に接着した複合積層体を得ること
できる。
According to the fifth aspect of the present invention, since the curing step is added after the re-supplying step, the laminated material is stably cooled in the curing step to allow the laminated materials to stably adhere to each other. In addition, the film adhesive which has been softened by the temperature drop due to cooling is hardened, and a composite laminate in which the respective laminates are securely bonded to each other via the film adhesive can be obtained.

【0139】請求項6記載の発明によれば、脱気・接着
工程において積層体を、誘電加熱を行うための一対の電
極板板によって非加圧状態で緩衝材を介して当接挟持す
るようにしたため、電磁波加熱による溶融状態の接着剤
の流動性は加圧されている場合よりも大きく、従って溶
融接着剤中の気泡は運動し易くなっており、気泡をより
容易に、かつ確実に吸引除去することができる。
According to the sixth aspect of the present invention, in the degassing / adhering step, the laminate is held between the pair of electrode plates for performing dielectric heating in a non-pressurized state via the cushioning material. As a result, the fluidity of the adhesive in the molten state due to electromagnetic wave heating is greater than in the case of pressurization, so that the bubbles in the molten adhesive are more likely to move, and the bubbles are more easily and reliably sucked. Can be removed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る複合積層体の製造工程の一実施形
態を示す工程図である。
FIG. 1 is a process chart showing one embodiment of a production process of a composite laminate according to the present invention.

【図2】本発明に使用される製造装置の一実施形態の全
体構成を示す一部切欠き斜視図である。
FIG. 2 is a partially cutaway perspective view showing an entire configuration of an embodiment of a manufacturing apparatus used in the present invention.

【図3】高周波溶着機の要部の一実施形態を示す一部切
欠き斜視図であり、積層体原料の搭載された台車が高周
波溶着機に導入された直後の状態を示している。
FIG. 3 is a partially cutaway perspective view showing one embodiment of a main part of the high frequency welding machine, and shows a state immediately after a carriage on which a laminate material is mounted is introduced into the high frequency welding machine.

【図4】高周波溶着機の要部の一実施形態を示す一部切
欠き斜視図であり、台車の積層体載置板上に積層体原料
を囲繞した密閉空間が形成された状態を示している。
FIG. 4 is a partially cutaway perspective view showing an embodiment of a main part of the high-frequency welding machine, showing a state in which a closed space surrounding a laminate raw material is formed on a laminate mounting plate of a cart. I have.

【図5】図3のW−W線断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line WW of FIG. 3;

【図6】図4のZ−Z線断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line ZZ of FIG. 4;

【図7】本発明の製造装置に適用される高周波発振機の
一実施形態を示すブロック図である。
FIG. 7 is a block diagram showing one embodiment of a high-frequency oscillator applied to the manufacturing apparatus of the present invention.

【図8】本発明において使用されるフィルム状接着剤の
一例を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing one example of a film adhesive used in the present invention.

【図9】図8に示すフィルム状接着剤が採用された複合
積層体の一実施形態を示す断面図である。
9 is a cross-sectional view showing one embodiment of a composite laminate in which the film adhesive shown in FIG. 8 is employed.

【図10】本発明が適用される複合積層体の製造工程の
第2実施形態を示す工程図である。
FIG. 10 is a process chart showing a second embodiment of the manufacturing process of the composite laminate to which the present invention is applied.

【図11】実施例1における密閉空間の状態を例示する
拡大断面図である。
FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view illustrating a state of the closed space in the first embodiment.

【図12】合せガラス原料が上下の電極板間に装着され
た状態を示す平面視の説明図である。
FIG. 12 is an explanatory plan view showing a state in which a laminated glass raw material is mounted between upper and lower electrode plates.

【図13】実施例1および比較例1における高周波加熱
時の密閉空間の経時的な温度変化を示すグラフである。
FIG. 13 is a graph showing a time-dependent temperature change in a closed space during high-frequency heating in Example 1 and Comparative Example 1.

【図14】実施例2における密閉空間の状態を例示する
拡大断面図である。
FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view illustrating a state of a closed space in the second embodiment.

【図15】実施例2における高周波加熱時の密閉空間の
経時的な温度変化を示すグラフである。
FIG. 15 is a graph showing a temporal change in temperature of a closed space during high-frequency heating in Example 2.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 積層材 B フィルム状接着剤 C 積層体原料 D 複合積層体 P1 積層工程 P2 脱気・接着工程 P3 給気工程 P3′再脱気工程 P3″再給気工程 P4 養生工程 1 製造装置 2 積層部 20 架台 21 支柱 22 テーブル板 23 レール 3 電磁波加熱部 31 高周波溶着機 31a 門形構造体 31b 梁材 31c 支柱 310c ガイド溝 31d 天井板 31e 中間接続部材 32 上部電極板 32a 接続ロッド 32b 中間板 321 第1シリンダ装置 322 シリンダ 323 ピストンロッド 33 積層体囲繞部材 33a 角形環状枠体 33b フランジ部 33c シリコンゴム板 33d 吸気管 331 第2シリンダ装置 332 シリンダ 333 ピストンロッド 34 昇降架台 34a ガイド突片 35 レール 36 下部電極板 37 高周波発振機 371 制御回路 372 操作部 373 高周波発生部 374 電源回路 375 高周波発生回路 376 整合回路 38 圧力調節手段 38a 真空ポンプ 38b 制御弁 38c 吸引本管 38d 外気導入管 4 貯留部 40 架台 41 支柱 42 テーブル板 43 レール 5 台車 51 角型フレーム 51a 貫通空間 52 車輪軸 53 車輪 54 積層体載置板 55 係止手段 55a ブラケット 55b アクチュエータ 55c 操作ロッド 55d 係止爪 S 密閉空間 Reference Signs List A laminate material B film adhesive C laminate raw material D composite laminate P1 lamination process P2 deaeration / adhesion process P3 air supply process P3 'regasification process P3 "regasification process P4 curing process 1 manufacturing device 2 laminating section Reference Signs List 20 base 21 support 22 table plate 23 rail 3 electromagnetic wave heating unit 31 high-frequency welding machine 31a portal structure 31b beam 31c support 310c guide groove 31d ceiling plate 31e intermediate connection member 32 upper electrode plate 32a connection rod 32b intermediate plate 321 first Cylinder device 322 Cylinder 323 Piston rod 33 Laminated body surrounding member 33a Square annular frame 33b Flange portion 33c Silicon rubber plate 33d Intake pipe 331 Second cylinder device 332 Cylinder 333 Piston rod 34 Elevating stand 34a Guide protrusion 35 Rail 36 Lower electrode plate 37 High frequency oscillation 371 Control circuit 372 Operation section 373 High frequency generation section 374 Power supply circuit 375 High frequency generation circuit 376 Matching circuit 38 Pressure adjusting means 38a Vacuum pump 38b Control valve 38c Suction main pipe 38d Outside air introduction pipe 4 Storage section 40 Mount 41 Support column 42 Table plate 43 Rail 5 Dolly 51 Square frame 51a Penetrating space 52 Wheel axle 53 Wheel 54 Laminated body mounting plate 55 Locking means 55a Bracket 55b Actuator 55c Operation rod 55d Locking claw S Sealed space

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 城 雅隆 札幌市白石区本郷通5丁目北4番14号 日 東電材株式会社内 (72)発明者 椋木 逸生 大阪市天王寺区上汐6丁目3番12号 山本 ビニター株式会社内 (72)発明者 永田 恒雄 大阪市天王寺区上汐6丁目3番12号 山本 ビニター株式会社内 (72)発明者 橋本 康夫 大阪市天王寺区上汐6丁目3番12号 山本 ビニター株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Masataka Shiro 4-14 North, Hongo-dori, Shiroishi-ku, Sapporo City Within Nippon Denden Co., Ltd. No. Yamamoto Vinita Co., Ltd. (72) Inventor Tsuneo Nagata 6-3-12 Kamishio, Tennoji-ku, Osaka City Inside Yamamoto Vinita Co., Ltd. (72) Yasuo Hashimoto 6-3-12, Kamio, Tennoji-ku, Osaka Yamamoto Vinita Shares In company

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数枚の積層材の各積層材間にフィルム
状接着剤を介在させて得られた積層体原料に減圧環境で
電磁波加熱を施して上記積層材を相互に接着する脱気・
接着工程と、この脱気・接着工程の終了後に上記減圧環
境に空気を供給することによって減圧環境を常圧環境に
戻す給気工程とからなることを特徴とする複合積層体の
製造方法。
1. A degassing method of applying electromagnetic wave heating in a reduced pressure environment to a laminate material obtained by interposing a film adhesive between each of a plurality of laminate materials to bond the laminate materials to each other.
A method for producing a composite laminate, comprising: a bonding step; and an air supply step of returning the reduced pressure environment to a normal pressure environment by supplying air to the reduced pressure environment after the completion of the deaeration / bonding step.
【請求項2】 複数枚の積層材の各積層材間にフィルム
状接着剤を介在させて積層体原料を得る積層工程と、こ
の積層工程で得られた積層体原料に減圧環境で電磁波加
熱を施して上記積層材を相互に接着する脱気・接着工程
と、この脱気・接着工程の終了後に上記減圧環境に空気
を供給することによって減圧環境を常圧環境に戻す給気
工程とからなることを特徴とする複合積層体の製造方
法。
2. A laminating step of obtaining a laminated material by interposing a film adhesive between the laminated materials of a plurality of laminated materials, and applying electromagnetic wave heating to the laminated material obtained in the laminating process in a reduced pressure environment. A deaeration / adhesion step of applying the laminated materials to each other and supplying air to the decompression environment after the deaeration / adhesion step is completed, and an air supply step of returning the decompression environment to the normal pressure environment. A method for producing a composite laminate.
【請求項3】 上記給気工程の後に養生工程が付加され
ていることを特徴とする請求項1または2記載の複合積
層体の製造方法。
3. The method for producing a composite laminate according to claim 1, wherein a curing step is added after the air supply step.
【請求項4】 上記給気工程の後に上記供給された空気
を吸引除去して再度減圧環境にする再脱気工程と、この
再脱気工程の終了後に減圧環境を常圧環境に再度戻す再
給気工程とが付加されていることを特徴とする請求項1
乃至3のいずれかに記載の複合積層体の製造方法。
4. A re-aeration step in which the supplied air is removed by suction after the air supply step to return to a reduced pressure environment, and after the completion of the re-deaeration step, the reduced pressure environment is returned to a normal pressure environment again. 2. An air supply step is added.
4. The method for producing a composite laminate according to any one of items 1 to 3.
【請求項5】 上記再給気工程の後に養生工程が付加さ
れていることを特徴とする請求項4記載の複合積層体の
製造方法。
5. The method for producing a composite laminate according to claim 4, wherein a curing step is added after the re-supplying step.
【請求項6】 上記脱気・接着工程において上記積層体
を、誘電加熱を行うための一対の電極板によって非加圧
状態で緩衝材を介して当接挟持することを特徴とする請
求項1乃至5のいずれかに記載の複合積層体の製造方
法。
6. The method according to claim 1, wherein in the degassing / adhering step, the laminate is abutted and held by a pair of electrode plates for performing dielectric heating in a non-pressurized state via a buffer material. 6. The method for producing a composite laminate according to any one of claims 1 to 5.
JP9240008A 1997-02-05 1997-09-04 Production of composite laminate Withdrawn JPH10278212A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014213524A (en) * 2013-04-25 2014-11-17 日本電気硝子株式会社 Method for producing laminate

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