JPH10270780A - Beam splitter - Google Patents

Beam splitter

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JPH10270780A
JPH10270780A JP7568197A JP7568197A JPH10270780A JP H10270780 A JPH10270780 A JP H10270780A JP 7568197 A JP7568197 A JP 7568197A JP 7568197 A JP7568197 A JP 7568197A JP H10270780 A JPH10270780 A JP H10270780A
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JP
Japan
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wavelength
beam splitter
wave
reflectance
harmonic
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JP7568197A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoji Moriya
直司 森谷
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Shimadzu Corp
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Shimadzu Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a beam splitter that exhibits high reflectance to a certain wavelength and very high transmittance to a wavelength to be transmitted highly, and has a small light loss. SOLUTION: A coating film Fb that selectively exhibits high reflectance to a certain wavelength (2 ω wave) is formed on one surface 11b of a parallel flat plate 111, and a coating film Fa which reflects a wavelength (ω wave) to be transmitted highly is formed on the other surface 11a of the plate 111. Then, very high transmittance is realized by setting the reflectance of the surface 11a to a value which is nearly equal to that of the surface 11b and constituting the plate 111 carrying the coating films Fb and Fa to function as an etalon to the wavelength (ω wave) to be transmitted highly.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばレーザ共振
器のミラーに用いられるビームスプリッタに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a beam splitter used for, for example, a mirror of a laser resonator.

【0002】[0002]

【従来の技術】2波長の光を分離するビームスプリッタ
としては、従来、石英や光学ガラス製の平行平面板の両
面を研磨し、その一方の面に、ある波長に対して高透過
/別の波長に対して高反射するコーティング膜を形成
し、他方の面に、上記一方の面のコーティング膜におい
て高透過となる波長に対して高透過率を示すコーティン
グ膜を形成したものが一般に使用されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a beam splitter for separating light of two wavelengths, both surfaces of a parallel flat plate made of quartz or optical glass are polished, and one of the surfaces is provided with a high transmission / different to a certain wavelength. In general, a coating film having a high reflectance with respect to a wavelength is formed, and a coating film having a high transmittance with respect to a wavelength at which the coating film on one surface has a high transmittance is formed on the other surface. I have.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記したビ
ームスプリッタによれば、平行平面板の一方の面に形成
するコーティング膜が、ある波長に対して高反射/別の
波長に対して高透過するような2つの機能をもつ膜であ
るので、単機能コーティング膜と比較して、高反射と高
透過の双方の仕様について十分な性能を得ることは難し
く、しかも、平行平面板のもう一方の面に形成する高透
過膜にしても、ある程度の反射が残ることから、例えば
レーザ共振器用のミラーとして無視することができない
損失が存在する。
According to the above-described beam splitter, the coating film formed on one surface of the plane-parallel plate has a high reflection for a certain wavelength and a high transmission for another wavelength. Because it is a film with such two functions, it is difficult to obtain sufficient performance for both high reflection and high transmission specifications compared to a single-function coating film, and the other side of the parallel plane plate Even if a highly transparent film is formed, there is some loss that cannot be ignored, for example, as a mirror for a laser resonator because some reflection remains.

【0004】本発明はそのような実情に鑑みてなされた
もので、ある波長に対して高反射率を示し、高透過させ
るべき波長に対して非常に高い透過率を示す、光損失の
少ないビームスプリッタの提供を目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and has a low light loss, a beam having a high reflectivity at a certain wavelength and a very high transmittance at a wavelength to be transmitted at a high wavelength. The purpose is to provide a splitter.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】まず、従来のビームスプ
リッタが、透過波長に対して高い透過率を実現できない
理由を述べる。
First, the reason why a conventional beam splitter cannot realize a high transmittance for a transmission wavelength will be described.

【0006】従来のビームスプリッタでは、平行平面板
の一方の面(図1の11b面)のコーティングを行うに
当たり、ある波長(2ω波)に対する高い反射率を基本
として、高透過させるべき波長(ω波)に対する透過率
を、実際の成膜時に考えられる膜厚誤差内で、できる限
り高い透過率が得られるように設計し、もう一方の面
(11a面)には、ω波に対して高い透過率を実現する
ような手法を採用しているわけであるが、このような手
法によると、一般に11b面の2ωに対する高い反射率
を実現する上で自ずと限界がある。
In the conventional beam splitter, when coating one surface (the surface 11b in FIG. 1) of the parallel plane plate, the wavelength (ω) to be highly transmitted is based on a high reflectance for a certain wavelength (2ω wave). (Wave) is designed so as to obtain as high a transmittance as possible within a thickness error considered during actual film formation, and the other surface (11a surface) has a high transmittance with respect to the ω wave. Although a technique for realizing the transmittance is adopted, such a technique generally has a natural limit in realizing a high reflectance for 2ω on the 11b surface.

【0007】すなわち、2ω波に対する反射膜として考
えた場合、できる限り少ない総合膜厚で反射膜を形成し
たほうが、吸収・散乱の点で良質なコーティングが可能
になるが、ω波に対する高い透過率用件が制約になり、
総数を増加させるなど総合膜厚を増加させ、理論設計上
も反射率を制約する要素となり得る。
[0007] In other words, when the reflection film is considered as a reflection film for 2ω waves, it is possible to form a reflection film with as small an overall film thickness as possible to obtain a high quality coating in terms of absorption and scattering. The requirements are constraints,
Increasing the total film thickness, for example, by increasing the total number, can also be a factor that limits the reflectance in theoretical design.

【0008】また、ω波に対する高い透過率を実現する
に当たって、2ω波に対する高い反射率要件が制約とな
り、設計上からもある程度の妥協が必要になる(例えば
設計上において、99%以下の透過率とせざるを得なく
なる)。
In order to realize a high transmittance for the ω wave, a high reflectance requirement for the 2ω wave is a constraint, and a certain degree of compromise is required from the design point of view (for example, a transmittance of 99% or less in design). I have to do it).

【0009】そこで、本発明では、透明平行平面板の両
面にコーティングを施すとその素子がエタロンとして機
能する点に着目し、そのエタロン効果を利用することで
非常に高い透過率が得られるようにしている。
Therefore, the present invention focuses on the fact that the element functions as an etalon when coating is applied to both sides of a transparent parallel plane plate, and makes it possible to obtain a very high transmittance by utilizing the etalon effect. ing.

【0010】すなわち、本発明のビームスプリッタで
は、図1に例示するように、透明材料製の平行平面板1
11の一方の面(光入射側の面)11bに、ある波長帯
域(2ω波)に対して選択的に高い反射率を示すコーテ
ィング膜Fbを形成し、その平行平面板111の他方の
面11aに、当該ビームスプリッタを高透過させるべき
波長(ω波)を反射するコーティング膜Faを形成する
とともに、この他方の面11aの反射率が、高透過させ
るべき波長の光(ω波)が平行平面板111側から、一
方の面11bに入射したときの反射率と略等しい値に設
定して、これら2つのコーティング膜Fb,Faを形成
した平行平面板111が、高透過させるべき波長(ω
波)に対してエタロンとして機能するように構成するこ
とで、ある波長(2ω波)に対して高い反射率で、か
つ、素子全体として、高透過させるべき波長(ω波)に
対して非常に高い透過率を実現している。
That is, in the beam splitter of the present invention, as illustrated in FIG.
A coating film Fb that selectively shows a high reflectance with respect to a certain wavelength band (2ω wave) is formed on one surface (a surface on the light incident side) 11b of the substrate 11, and the other surface 11a of the parallel flat plate 111 is formed. Then, a coating film Fa is formed to reflect a wavelength (ω wave) to be highly transmitted through the beam splitter, and the reflectivity of the other surface 11a is such that light (ω wave) having a wavelength to be highly transmitted is parallel flat. The reflectance is set to a value substantially equal to the reflectance when the light enters the one surface 11b from the face plate 111 side, and the wavelength (ω) at which the parallel flat plate 111 on which the two coating films Fb and Fa are formed should be highly transmitted.
), It has a high reflectivity for a certain wavelength (2ω wave), and is very versatile for the wavelength (ω wave) to be highly transmitted as a whole element. High transmittance is realized.

【0011】そのコーティングの具体的な手法を以下に
説明する。エタロンに対する一般的なコーティング設計
法は、平行平面板の2面に同じコーティングを施すもの
である。しかし、本発明のビームスプリッタの場合、エ
タロンとしての効果が、2ω波まで及ぶことは避けなけ
ればならない。
The specific method of the coating will be described below. A common coating design for etalons is to apply the same coating to two faces of a plane-parallel plate. However, in the case of the beam splitter of the present invention, it is necessary to avoid that the effect as the etalon extends to 2ω waves.

【0012】そこで、本発明では、一般的なエタロンの
設計法を拡張し、平行平面板111の一方の面11bに
ついては、2ω波に対して高い反射率を得ると同時に、
ω波の領域で製造誤差に関わらず、指定の反射率を安定
に実現するようなコーティング膜を設計し、もう一方の
11a面には、11b面のω波に対する反射率と同じ反
射率をω波の領域で達成し、2ω波に対しては、さほど
高くない反射率となるようなコーティング膜を設計する
という手法を用いる。
Therefore, in the present invention, a general etalon design method is extended to obtain a high reflectivity for the 2ω wave on one surface 11 b of the parallel flat plate 111,
The coating film is designed to stably achieve the specified reflectance regardless of the manufacturing error in the region of the ω wave, and the other 11a surface has the same reflectance as the ω wave reflectance of the 11b surface. A technique is used in which a coating film is designed so as to achieve a reflectance in the region of waves and not so high for 2ω waves.

【0013】このようは手法によると、従来のビームス
プリッタの設計法に対して、 (1) 平行平面板111の11b面のコーティングを設計
する場合の制約条件が緩和され、良質なコーティングを
設計できる。
According to such a method, (1) the constraint conditions when designing the coating on the 11b surface of the parallel plane plate 111 are relaxed compared to the conventional beam splitter design method, and a good quality coating can be designed. .

【0014】(2) 2面間の反射率の差が、2%程度まで
なら、それによる透過ロスは、0.5%程度ですみ、高
いピーク透過率が得られる可能性が高い。という利点が
ある。
(2) If the difference in reflectance between the two surfaces is up to about 2%, the resulting transmission loss is only about 0.5%, and there is a high possibility that a high peak transmittance can be obtained. There is an advantage.

【0015】ここで、以上のようなコーティング法を採
用しても、11b面のコーティング設計に依然として制
約が残り、ひいては第2の共振器の効率を低下させる、
という問題が残る。
Here, even if the above-described coating method is adopted, the design of the coating on the 11b surface still has restrictions, which lowers the efficiency of the second resonator.
The problem remains.

【0016】そのような問題を解消するには、11b面
に純粋に2ω波に対して高い反射率を実現するだけのコ
ーティング膜を形成すればよいが、この場合、一般には
ω波に対する反射率は、製造誤差内で大きく変わる可能
性がある。
In order to solve such a problem, it is sufficient to form a coating film on the surface 11b purely to realize a high reflectivity purely for the 2ω wave. Can vary significantly within manufacturing tolerances.

【0017】この対策として、本発明においては、実際
にコーティングした後に11b面のω波に対する反射率
を実測して、その反射率を安定に達成できるコーティン
グ膜を設計し、その膜を11a面に形成するというコー
ティング法を採用する。
As a countermeasure against this, in the present invention, after actually coating, the reflectivity of the surface 11b with respect to the ω wave is actually measured, and a coating film capable of stably achieving the reflectivity is designed, and the film is formed on the surface 11a. The coating method of forming is adopted.

【0018】なお、この手法において、実際に測定・設
計する時間は、現在の技術力からすれば2時間もかから
ずに可能であり、十分に実用化できる。また、このよう
なコーティング法では、先の手法に比して、11a面の
コーティング膜のω波に対する反射率の設定が簡単にな
り、ピーク透過率も高くなるという利点がある。
In this method, the time for actual measurement and design is possible in less than two hours in view of the current technical ability, and it can be sufficiently put into practical use. In addition, such a coating method has an advantage that the setting of the reflectance of the coating film on the surface 11a with respect to the ω wave is simplified and the peak transmittance is increased as compared with the above method.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】図1は本発明のビームスプリッタ
の実施の形態の構成図である。平行平面板(石英製)1
11の両面は研磨されており、その一方の面(光入射側
の面)11bには、後述するリング共振器型第4高調波
発生装置の第2高調波(2ω波)に対して選択的に高い
反射率を示すコーティング膜Fbが形成されている。ま
た、平行平面板111の他方の面11aには、当該ビー
ムスプリッタを高透過させるべき波長つまり第4高調波
発生装置の基本波(ω波)を反射するコーティング膜F
aが形成されている。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a beam splitter according to the present invention. Parallel plane plate (made of quartz) 1
Both surfaces of 11 are polished, and one surface (the surface on the light incident side) 11b is selectively provided with respect to a second harmonic (2ω wave) of a ring resonator type fourth harmonic generator described later. The coating film Fb showing a high reflectance is formed. On the other surface 11a of the plane-parallel plate 111, a coating film F that reflects a wavelength to be transmitted through the beam splitter at a high level, that is, a fundamental wave (ω-wave) of the fourth harmonic generator.
a is formed.

【0020】そして、この実施の形態においては、高透
過させるべき基本波(ω波)が、平行平面板111側か
ら一方の面11bに入射したときの反射率を測定し、こ
の測定反射率に基づいて、他方の面11aのコーティン
グ膜Faの基本波(ω波)に対する反射率が、面11b
側の反射率(実測値)と同じ値となるようにして、これ
ら2つのコーティング膜Fb,Faを形成した平行平面
板111が、高透過させるべき基本波(ω波)に対して
エタロンとして機能するように構成したところに特徴が
ある。
In this embodiment, the reflectance when the fundamental wave (ω-wave) to be highly transmitted is incident on the one surface 11b from the parallel plane plate 111 side is measured, and the measured reflectance is measured. Based on this, the reflectance of the other surface 11a for the fundamental wave (ω wave) of the coating film Fa is changed to the surface 11b.
The parallel flat plate 111 on which the two coating films Fb and Fa are formed so as to have the same value as the reflectance (actual measurement value) on the side thereof functions as an etalon for a fundamental wave (ω wave) to be highly transmitted. The feature is that it is configured to do so.

【0021】次に、以上の構造のビームスプリッタを、
リング共振器型第4高調波発生装置に適用した例を図2
に示す。この図2において、半導体レーザ1からの出力
光は、コリメータレンズ2a及びフォーカスレンズ2b
を介してレーザ媒質4に照射される。レーザ媒質4とフ
ォーカスレンズ2bとの間には、半導体レーザ1の出力
波長を透過し、かつ、レーザ媒質4から誘導放出される
基本波及びその第2高調波に対しては高い反射率をもつ
ミラー3が配置されている。またレーザ媒質4に対向し
て第2高調波出力ミラー6が配置されており、この出力
ミラー6を先のミラー3との間で光共振器(第1の共振
器)21が構成されている。
Next, the beam splitter having the above structure is
FIG. 2 shows an example in which the present invention is applied to a ring resonator type fourth harmonic generator.
Shown in In FIG. 2, the output light from the semiconductor laser 1 includes a collimator lens 2a and a focus lens 2b.
Irradiates the laser medium 4 via. Between the laser medium 4 and the focus lens 2b, it transmits the output wavelength of the semiconductor laser 1 and has a high reflectance with respect to a fundamental wave stimulated and emitted from the laser medium 4 and its second harmonic. A mirror 3 is arranged. Further, a second harmonic output mirror 6 is arranged to face the laser medium 4, and an optical resonator (first resonator) 21 is configured between the output mirror 6 and the mirror 3. .

【0022】光共振器21の内部には、波長変換素子5
が収容されており、半導体レーザ1からの出力光でレー
ザ媒質4を励起することによって誘導放出された基本波
が、波長変換素子5に照射されることにより第2高調波
が生成される。
The wavelength conversion element 5 is provided inside the optical resonator 21.
The wavelength conversion element 5 is irradiated with a fundamental wave stimulated and emitted by exciting the laser medium 4 with output light from the semiconductor laser 1 to generate a second harmonic.

【0023】そして、この例においては、第2高調波を
発生する光共振器21のレーザ媒質4と波長変換素子5
との間に、上記した構造のビームスプリッタ11を、そ
の一方の11bを波長変換素子5側に向け、かつ、基本
波(ω)に対してエタロンとして機能するような角度で
配置して、このビームスプリッタ11と、3枚の共振器
ミラー9,10,12、オプティカルダイオード7及び
第4高調波を発生する波長変換素子8によって第2高調
波のリング共振器(第2の共振器)22を構成し、第4
高調波(4ω)を発生させるように構成している。
In this example, the laser medium 4 of the optical resonator 21 for generating the second harmonic and the wavelength conversion element 5
The beam splitter 11 having the above-described structure is arranged such that one of the beams 11b faces the wavelength conversion element 5 and is arranged at an angle such that it functions as an etalon with respect to the fundamental wave (ω). The second harmonic ring resonator (second resonator) 22 is formed by the beam splitter 11, the three resonator mirrors 9, 10, 12, the optical diode 7, and the wavelength conversion element 8 for generating the fourth harmonic. Make up, fourth
It is configured to generate a harmonic (4ω).

【0024】なお、図2に示すオプティカルダイオード
7は、リング共振器22内の光を、一方向(図中矢印の
方向)に規制するための光学素子である。また、リング
共振器22を構成する共振器ミラー9,10,12のう
ち、ミラー9及び10は、第2高調波と第4高調波の双
方を高効率で反射する。ミラー12は第2高調波を高効
率で反射し、第4高調波を高効率で透過する第4高調波
出力ミラーである。
The optical diode 7 shown in FIG. 2 is an optical element for regulating light in the ring resonator 22 in one direction (the direction of the arrow in the figure). The mirrors 9 and 10 of the resonator mirrors 9, 10, and 12 constituting the ring resonator 22 reflect both the second harmonic and the fourth harmonic with high efficiency. The mirror 12 is a fourth harmonic output mirror that reflects the second harmonic with high efficiency and transmits the fourth harmonic with high efficiency.

【0025】図3は、図1に示した構造のビームスプリ
ッタを定在波型共振器型第4高調波発生装置に適用した
例を示す図である。この例においては、先の図2に示し
た例と同様に、半導体レーザ1、レンズ2a,2b、ミ
ラー3、レーザ媒質4、並びに第2高調波出力ミラー6
を備え、その出力ミラー6と先のミラー3との間で光共
振器(第1の共振器)が構成されている。また、光共振
器の内部には、波長変換素子5が収容されており、半導
体レーザ1からの出力光でレーザ媒質4を励起すること
によって誘導放出された基本波が、波長変換素子5に照
射されることにより第2高調波が生成される。
FIG. 3 is a diagram showing an example in which the beam splitter having the structure shown in FIG. 1 is applied to a standing wave type resonator type fourth harmonic generator. In this example, as in the example shown in FIG. 2, the semiconductor laser 1, the lenses 2a and 2b, the mirror 3, the laser medium 4, and the second harmonic output mirror 6
, And an optical resonator (first resonator) is configured between the output mirror 6 and the previous mirror 3. A wavelength conversion element 5 is housed inside the optical resonator, and a fundamental wave stimulated and emitted by exciting the laser medium 4 with output light from the semiconductor laser 1 irradiates the wavelength conversion element 5. As a result, a second harmonic is generated.

【0026】そして、この例では、第2高調波を発生す
る光共振器21のレーザ媒質4と波長変換素子5との間
に、上記した構造のビームスプリッタ11を、その一方
の11bを波長変換素子5側に向け、かつ、基本波
(ω)に対してエタロンとして機能するような角度で配
置して、このビームスプリッタ11と、共振器ミラー2
0及び第4高調波を発生する波長変換素子8によって、
第2高調波の定在波型共振器(第2の共振器)を構成
し、第4高調波(4ω)を発生させるように構成してい
る。
In this example, the beam splitter 11 having the above-described structure is provided between the laser medium 4 of the optical resonator 21 for generating the second harmonic and the wavelength conversion element 5, and one of the beams 11b is used for wavelength conversion. The beam splitter 11 and the resonator mirror 2 are arranged toward the element 5 and at an angle that functions as an etalon with respect to the fundamental wave (ω).
By the wavelength conversion element 8 that generates 0 and the fourth harmonic,
A second harmonic standing wave resonator (second resonator) is configured to generate a fourth harmonic (4ω).

【0027】なお、以上の2つの例に用いるレーザ媒質
4としては、例えばNd:YAGまたはNd:YVO4 など
が挙げられ、Nd:YAGを用いる場合、その固体レーザ
媒質から誘導放出される基本波を第2高調波に変換する
波長変換素子としては、温度に対して安定な非線形光学
結晶、例えばLBO(LiB3 5 )またはBBO(β
−BaB2 4 )などが挙げられる。また固体レーザ媒
質としてNd:YVO4を用いる場合、基本波を第2高調
波に変換する波長変換素子にはKPT(KTiOP
4 )などを用いる。
The laser medium 4 used in the above two examples is, for example, Nd: YAG or Nd: YVO 4. When Nd: YAG is used, the fundamental wave induced and emitted from the solid-state laser medium is used. Is converted into a second harmonic by using a nonlinear optical crystal that is stable with respect to temperature, for example, LBO (LiB 3 O 5 ) or BBO (β
—BaB 2 O 4 ). When Nd: YVO 4 is used as a solid-state laser medium, KPT (KTiOP) is used as a wavelength conversion element for converting a fundamental wave into a second harmonic.
O 4 ) or the like.

【0028】ここで、以上の図2及び図3に示した2つ
例によれば、ビームスプリッタ11の配置により、第2
高調波発生用の共振器(第1の共振器)内にエタロンが
追加されることになるので、波長選択性及び発振レーザ
のコヒーレンスがともに向上し、また出力が安定しやす
くなるといる利点がある上、第1の共振器及び第2の共
振器のいずれに対しても最小限のロスしか発生せず、高
い出力が期待できる。
Here, according to the two examples shown in FIGS. 2 and 3 described above, the arrangement of the beam splitter 11
Since an etalon is added in the resonator for generating harmonics (first resonator), there are advantages that both the wavelength selectivity and the coherence of the oscillation laser are improved, and that the output is more easily stabilized. In addition, only a minimum loss occurs in both the first resonator and the second resonator, and high output can be expected.

【0029】なお、本発明のビームスプリッタは、上記
したようなを第4高調波発生装置以外のレーザ装置にも
使用可能である。
The beam splitter of the present invention can be used for laser devices other than the fourth harmonic generator as described above.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のビームス
プリッタによれば、平行平面板の一方の面に、ある波長
に対して高い反射率を示すコーティング膜を形成し、そ
の平行平面板の他方の面に、高透過させるべき波長を反
射するコーティング膜を形成するとともに、この他方の
面の反射率が、一方の面の反射率と略等しい値に設定し
てエタロンを構成し、そのエタロン効果により、高透過
させるべき波長に対して非常に高い透過率を実現してい
るので、光損失が少なくて済み、波長選択性も高くな
る。
As described above, according to the beam splitter of the present invention, a coating film having a high reflectivity for a certain wavelength is formed on one surface of a parallel plane plate, and On the other surface, a coating film that reflects a wavelength to be highly transmitted is formed, and the etalon is formed by setting the reflectance of the other surface to a value substantially equal to the reflectance of one surface. Due to the effect, a very high transmittance is realized for a wavelength to be highly transmitted, so that light loss can be reduced and wavelength selectivity can be increased.

【0031】従って、本発明のビームスプリッタは、例
えば第4高調波発生装置等のレーザ共振器用のミラーに
有効に利用することができる。
Therefore, the beam splitter of the present invention can be effectively used for a mirror for a laser resonator such as a fourth harmonic generator.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態の構造を模式的に示す図FIG. 1 is a diagram schematically showing a structure according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明のビームスプリッタをリング共振器型第
4高調波発生装置に適用した例を示す図
FIG. 2 is a diagram showing an example in which the beam splitter of the present invention is applied to a ring resonator type fourth harmonic generator.

【図3】本発明のビームスプリッタを定在波型共振器型
第4高調波発生装置に適用した例を示す図
FIG. 3 is a diagram showing an example in which the beam splitter of the present invention is applied to a standing wave type resonator type fourth harmonic generator.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体レーザ 3 ミラー 4 レーザ媒質 5 波長変換素子(第2高調波発生用) 6 第2高調波出力ミラー 7 オプティカルダイオード 8 波長変換素子(第4高調波発生用) 9,10 共振器ミラー 11 ビームスプリッタ 12 共振器ミラー(第4高調波出力用) 21 光共振器 22 リング共振器 111 平行平面板 Fa,Fb コーティング膜 REFERENCE SIGNS LIST 1 semiconductor laser 3 mirror 4 laser medium 5 wavelength conversion element (for second harmonic generation) 6 second harmonic output mirror 7 optical diode 8 wavelength conversion element (for fourth harmonic generation) 9, 10 resonator mirror 11 beam Splitter 12 Resonator mirror (for fourth harmonic output) 21 Optical resonator 22 Ring resonator 111 Parallel plane plate Fa, Fb Coating film

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 2波長の光の分離に用いるビームスプリ
ッタであって、透明材料製の平行平面板の一方の面に、
ある波長帯域に対して選択的に高い反射率を示すコーテ
ィング膜が形成され、その平行平面板の他方の面に、当
該ビームスプリッタを高透過させるべき波長を反射する
コーティング膜が形成されているとともに、この他方の
面の反射率が、高透過させるべき波長の光が平行平面板
側から一方の面に入射したときの反射率と略等しい値に
設定され、これら2つのコーティング膜を形成した平行
平面板が、高透過させるべき波長に対してエタロンとし
て機能するように構成されていることを特徴とするビー
ムスプリッタ。
1. A beam splitter used for separating light of two wavelengths, comprising:
A coating film that selectively shows a high reflectance for a certain wavelength band is formed, and on the other surface of the parallel plane plate, a coating film that reflects a wavelength to be highly transmitted by the beam splitter is formed. The reflectance of the other surface is set to a value substantially equal to the reflectance when the light having the wavelength to be highly transmitted is incident on one surface from the parallel flat plate side, and the parallel light having the two coating films is formed. A beam splitter, wherein the plane plate is configured to function as an etalon for a wavelength to be highly transmitted.
JP7568197A 1997-03-27 1997-03-27 Beam splitter Pending JPH10270780A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19958359A1 (en) * 1999-12-03 2001-06-13 Schott Auer Gmbh Object for transmitting light
JP2016161802A (en) * 2015-03-03 2016-09-05 富士通株式会社 Variable optical attenuator and optical module

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