JPH10269790A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPH10269790A
JPH10269790A JP8726997A JP8726997A JPH10269790A JP H10269790 A JPH10269790 A JP H10269790A JP 8726997 A JP8726997 A JP 8726997A JP 8726997 A JP8726997 A JP 8726997A JP H10269790 A JPH10269790 A JP H10269790A
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JP
Japan
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voltage
circuit
data
power supply
reference voltage
Prior art date
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Application number
JP8726997A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Ota
均 太田
Eishin Minagawa
英信 皆川
Yuichi Tatsumi
雄一 辰巳
Noriaki Suzuki
範明 鈴木
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Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a voltage margin of a sense amplifier from decreasing due to cell data in the neighborhood of a memory cell reading data or a position on a chip. SOLUTION: A plurality of main body cell arrays 21, a dummy cell array 22, a bias circuit 16, a row decoder 18, sense amplifiers 23 constituting a data detection circuit and a reference voltage circuit 24 are provided in one block of a memory circuit. A d.c. bias voltage PR generated at the bias circuit 16 is supplied to the main body cell arrays 21 and dummy cell array 22. The sense amplifiers 23 constituting the data detection circuit supply a predetermined bias voltages SAIN to column lines in the main body cell arrays 21 when data are read out, thereby detecting data. The reference voltage circuit 24 supplies a predetermined bias voltage REFIN to the dummy cell array 22, there by generating a comparison reference voltage VREF which it to be used when the sense amplifiers 23 detect data.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は半導体記憶装置、
特に、仮想接地方式の読み出し専用半導体記憶装置にお
けるデータの検出方法に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, the present invention relates to a method for detecting data in a read-only semiconductor memory device of a virtual ground system.

【0002】[0002]

【従来技術】図6は、この種の半導体記憶装置の主要部
を示している。図6において、メモリセル1〜5を順次
選択する場合、各信号は次のように設定される。
2. Description of the Related Art FIG. 6 shows a main part of a semiconductor memory device of this kind. In FIG. 6, when memory cells 1 to 5 are sequentially selected, each signal is set as follows.

【0003】例えばメモリセル1を選択する場合、デコ
ード信号X1は論理“1”、その反転信号/X1は論理
“0”に設定され、他のデコード信号X2〜X4はそれ
ぞれ論理“0”に設定される。また、デコード信号X2
〜X4の各反転信号/X2〜/X4はそれぞれ論理
“1”に設定される。さらに、デコード信号Y1が論理
“0”に設定され、その反転信号/Y1は論理“1”に
設定される。デコード信号b1は論理“1”に設定さ
れ、その反転信号/b1は論理“0”に設定される。他
のデコード信号b2〜b5はそれぞれ論理“0”に設定
され、これらデコード信号b2〜b5の各反転信号/b
2〜/b5はそれぞれ論理“1”に設定される。この状
態において、行線WL1が論理“1”、例えば5Vとさ
れ、残りの行線が論理“0”に設定されると、メモリセ
ル1からデータが読出される。
For example, when memory cell 1 is selected, decode signal X1 is set to logic "1", its inverted signal / X1 is set to logic "0", and other decode signals X2 to X4 are set to logic "0". Is done. Also, the decode signal X2
To X4 are set to logic "1". Further, decode signal Y1 is set to logic "0", and inverted signal / Y1 is set to logic "1". Decode signal b1 is set to logic "1", and inverted signal / b1 is set to logic "0". Each of the other decode signals b2 to b5 is set to logic "0", and each inverted signal / b of these decode signals b2 to b5 is set.
2 to / b5 are set to logic "1". In this state, when row line WL1 is set to logic "1", for example, 5V, and the remaining row lines are set to logic "0", data is read from memory cell 1.

【0004】この状態で、信号Y1が論理“1”、信号
/Y1が論理“0”に変化すると、メモリセル2が選択
される。このメモリセル2が選択された状態で、信号b
1が論理“0”、その反転信号/b1が論理“1”に変
化し、信号b2が論理“1”、その反転信号/b2が論
理“0”に変化するとメモリセル3が選択される。この
メモリセル3が選択された状態で、信号Y1が論理
“0”、その反転信号/Y1が論理“1”に変化する
と、メモリセル4が選択される。このメモリセル4が選
択された状態で、デコード信号X1が論理“0”、その
反転信号/X1が論理“1”に変化し、デコード信号X
2が論理“1”、その反転信号/X2が論理“0”に変
化するとメモリセル5が選択される。
In this state, when signal Y1 changes to logic "1" and signal / Y1 changes to logic "0", memory cell 2 is selected. With this memory cell 2 selected, the signal b
When 1 changes to logic "0" and its inverted signal / b1 changes to logic "1", signal b2 changes to logic "1" and its inverted signal / b2 changes to logic "0", the memory cell 3 is selected. When the signal Y1 changes to logic "0" and the inverted signal / Y1 changes to logic "1" while the memory cell 3 is selected, the memory cell 4 is selected. In a state where the memory cell 4 is selected, the decode signal X1 changes to logic "0" and the inverted signal / X1 changes to logic "1", and the decode signal X1 changes to "1".
When 2 changes to logic "1" and its inverted signal / X2 changes to logic "0", the memory cell 5 is selected.

【0005】次に、上記メモリセル1を選択する場合の
詳細な動作を説明する。上記のように、メモリセル1を
選択する場合、デコード信号X1が論理“1”、その反
転信号/X1が論理“0”に設定され、他のデコード信
号X2〜X4がそれぞれ論理“0”、デコード信号X2
〜X4の各反転信号/X2〜/X4はそれぞれ論理
“1”に設定される。さらに、デコード信号Y1が論理
“0”に設定され、その反転信号/Y1が論理“1”に
設定される。デコード信号b1が論理“1”に設定さ
れ、その反転信号/b1が論理“0”に設定され、他の
デコード信号b2〜b5がそれぞれ論理“0”に設定さ
れる。これらデコード信号b2〜b5の各反転信号/b
2〜/b5はそれぞれ論理“1”に設定される。
Next, a detailed operation when selecting the memory cell 1 will be described. As described above, when memory cell 1 is selected, decode signal X1 is set to logic "1", its inverted signal / X1 is set to logic "0", and the other decode signals X2 to X4 are set to logic "0", respectively. Decode signal X2
To X4 are set to logic "1". Further, decode signal Y1 is set to logic "0", and inverted signal / Y1 is set to logic "1". Decode signal b1 is set to logic "1", inverted signal / b1 is set to logic "0", and other decode signals b2 to b5 are set to logic "0". Each inverted signal / b of these decode signals b2 to b5
2 to / b5 are set to logic "1".

【0006】この状態において、行デコーダ71によ
り、行線WL1が論理“1”、例えば5Vとされ、残り
の行線が論理“0”に設定されると、トランジスタt1
がオンとなり、トランジスタt2はオフする。また、ト
ランジスタt3がオンしているため、トランジスタt3
とトランジスタt1とを介して、列線C2には接地電位
が供給される。すなわち、メモリセル1の列線C2に接
続された一端は、トランジスタt3とトランジスタt1
とを介して接地電位に接続される。また、トランジスタ
t6はオフし、トランジスタt7がオンするため、列線
C1、すなわちメモリセル1の他端はトランジスタt7
を介してデータ検出回路72に接続される。メモリセル
はそのしきい値電圧の高低により論理“0”と論理
“1”とが記憶される。しきい値電圧が高い場合、行線
が論理“1”となってメモリセルが選択されても、その
メモリセルはオンせず、しきい値電圧が低い場合、選択
されたメモリセルはオンする。
In this state, when the row decoder 71 sets the row line WL1 to logic "1", for example, 5V, and sets the remaining row lines to logic "0", the transistor t1
Is turned on, and the transistor t2 is turned off. Further, since the transistor t3 is on, the transistor t3
The column line C2 is supplied with the ground potential via the transistor t1. That is, one end of the memory cell 1 connected to the column line C2 is connected to the transistor t3 and the transistor t1.
And to the ground potential. Further, since the transistor t6 is turned off and the transistor t7 is turned on, the column line C1, that is, the other end of the memory cell 1 is connected to the transistor t7.
Is connected to the data detection circuit 72 via the. The logic "0" and the logic "1" are stored in the memory cell depending on the level of the threshold voltage. When the threshold voltage is high, even if a row line becomes logic "1" and a memory cell is selected, the memory cell is not turned on. If the threshold voltage is low, the selected memory cell is turned on. .

【0007】今、列線C1とC2との間に位置するメモ
リセルは、行線WL2〜行線WLnが論理“0”で非選
択状態であるため、行線WL2〜行線WLnに接続され
ているメモリセルはオフしている。メモリセルのしきい
値電圧が高い時には、行線WL1が論理“1”であって
もメモリセル1はオフしている。トランジスタt4もオ
フであるため、列線C1は、データ検出回路72内に設
けられている図示しない負荷トランジスタによって充電
され、この充電された状態がデータ検出回路72で検出
され、例えばメモリセル1の記憶データが論理“1”で
あると判定される。
Now, the memory cells located between the column lines C1 and C2 are connected to the row lines WL2 to WLn because the row lines WL2 to WLn are in a non-selected state with the logic "0". The memory cell that is turned off. When the threshold voltage of the memory cell is high, the memory cell 1 is off even if the row line WL1 is at logic "1". Since the transistor t4 is also off, the column line C1 is charged by a load transistor (not shown) provided in the data detection circuit 72, and the charged state is detected by the data detection circuit 72. It is determined that the stored data is logic “1”.

【0008】一方、メモリセルのしきい値電圧が低いと
き、メモリセル1はオンしているため、列線C1は、メ
モリセル1、トランジスタt3、トランジスタt1を通
して、接地電位に向かって放電され、この放電状態がデ
ータ検出回路72で検出され、例えばメモリセル1の記
憶データが論理“0”であると判定される。
On the other hand, when the threshold voltage of the memory cell is low, since the memory cell 1 is on, the column line C1 is discharged toward the ground potential through the memory cell 1, the transistor t3, and the transistor t1, This discharge state is detected by the data detection circuit 72, and for example, it is determined that the data stored in the memory cell 1 is logic "0".

【0009】メモリセル2を選択するとき、上記のよう
にメモリセル1の選択時と異なるのは、信号Y1と/Y
1の論理レベルだけである。このため、トランジスタt
4はオンし、トランジスタt3はオフする。よって、列
線C1は、メモリセル2のしきい値電圧が高い時、列線
C3から電気的に分離され、これに充電された状態がデ
ータ検出回路72で検出される。
The difference between the selection of memory cell 2 and the selection of memory cell 1 as described above is that signals Y1 and / Y
There is only one logic level. Therefore, the transistor t
4 turns on and the transistor t3 turns off. Therefore, when the threshold voltage of the memory cell 2 is high, the column line C1 is electrically separated from the column line C3, and the charged state is detected by the data detection circuit 72.

【0010】一方、メモリセルのしきい値電圧が低い
時、列線C1はトランジスタt4、メモリセル2、トラ
ンジスタt1を通して、接地電位に向かって放電され、
この放電状態がデータ検出回路72で検出される。メモ
リセル3あるいは4は、信号b2が論理“1”に設定さ
れ、列線C4あるいは列線C5がデータ検出回路72に
接続される時、そのデータが読み出されることになる。
On the other hand, when the threshold voltage of the memory cell is low, the column line C1 is discharged toward the ground potential through the transistor t4, the memory cell 2, and the transistor t1,
This discharge state is detected by the data detection circuit 72. When the signal b2 is set to logic "1" and the column line C4 or the column line C5 is connected to the data detection circuit 72, the data of the memory cell 3 or 4 is read.

【0011】ところで、上記構成の半導体記憶装置にお
いて、しきい値電圧が低いメモリセルは、行線が論理
“1”となるとデータが読み出されない場合でもオン状
態になる。例えばメモリセル4が選択され、このメモリ
セル4のしきい値電圧が高い場合、このメモリセル4は
オフする。しかし、メモリセル4の隣のメモリセル5の
しきい値電圧が低ければ、このメモリセル5はオンす
る。例えば図6において、メモリセル5及びこのメモリ
セル5の右側に配置される行線WL1に接続されている
全てのメモリセルのしきい値電圧が低いとき、これらの
メモリセルは全てオンする。このため、列線C5及び列
線C5の右側に位置する全ての列線は、これらオン状態
のメモリセルを通して接続されることとなる。
By the way, in the semiconductor memory device having the above configuration, a memory cell having a low threshold voltage is turned on even when data is not read when the row line becomes logic "1". For example, when the memory cell 4 is selected and the threshold voltage of the memory cell 4 is high, the memory cell 4 is turned off. However, if the threshold voltage of the memory cell 5 adjacent to the memory cell 4 is low, the memory cell 5 turns on. For example, in FIG. 6, when the threshold voltages of the memory cell 5 and all the memory cells connected to the row line WL1 arranged on the right side of the memory cell 5 are low, all of these memory cells are turned on. Therefore, the column line C5 and all the column lines located on the right side of the column line C5 are connected through the memory cells in the ON state.

【0012】今、これらの列線が接地電位であるとする
と、データ検出回路72内の負荷トランジスタがトラン
ジスタt8を通して列線C5を充電する時、メモリセル
5を通して列線C5の右側に位置するの全ての列線が充
電される。このため、これら列線の充電が完了するま
で、メモリセル4のデータを読み出せないことになり、
データの読み出し速度が遅くなる。このため、非選択状
態の列線は、バイアス回路73によって所定の電位に充
電されている。
Now, assuming that these column lines are at the ground potential, when the load transistor in the data detection circuit 72 charges the column line C5 through the transistor t8, it is located to the right of the column line C5 through the memory cell 5. All column lines are charged. Therefore, the data of the memory cell 4 cannot be read until the charging of these column lines is completed,
Data reading speed becomes slow. Therefore, the column lines in the non-selected state are charged to a predetermined potential by the bias circuit 73.

【0013】メモリセル1が選択されるときには、信号
b2〜b5が論理“0”、その反転信号/b2〜/b5
が論理“1”であるため、これらの信号がゲートに入力
されるトランジスタt17〜t20がオンし、これらに
接続される列線がバイアス回路73によって所定の電位
に充電される。また、信号/X2〜/X4も論理“1”
であるため、これらの信号がゲートに入力されるトラン
ジスタt11〜t13がオンし、これらに接続される列
線がバイアス回路73によって所定の電位に充電され
る。また、信号Y1あるいは/Y1のいずれか一方が論
理“1”となるため、例えば列線C6も、列線C7に接
続され、それぞれ信号Y1及び/Y1が供給される2個
のトランジスタのうちのオンしている方の一方を通して
バイアス回路73に接続され、非選択状態の列線は所定
の電位に充電された状態で選択される時を待つようにな
っている。このようにして、データ検出回路による選択
された列線の充電が遅くならないようにしている。
When memory cell 1 is selected, signals b2 to b5 are logic "0" and their inverted signals / b2 to / b5.
Is a logic "1", the transistors t17 to t20 to which these signals are input to the gates are turned on, and the column line connected thereto is charged to a predetermined potential by the bias circuit 73. The signals / X2 to / X4 are also logic "1".
Therefore, the transistors t11 to t13 to which these signals are input to the gates are turned on, and the column lines connected thereto are charged to a predetermined potential by the bias circuit 73. Further, since one of the signals Y1 and / Y1 becomes logic "1", for example, the column line C6 is also connected to the column line C7, and of the two transistors to which the signals Y1 and / Y1 are supplied, respectively. It is connected to the bias circuit 73 through one of the ON-states, and the column line in the non-selected state is charged with a predetermined potential and waits for selection. In this way, the charging of the column line selected by the data detection circuit is not delayed.

【0014】ところで、上記データ検出回路72でメモ
リセルの記憶データを検出する場合には、リファレンス
用のダミーセルを用いて比較用の基準電圧を発生するよ
うにしている。
When data stored in the memory cell is detected by the data detection circuit 72, a reference voltage for comparison is generated using a dummy cell for reference.

【0015】図7は従来の半導体記憶装置におけるメモ
リ回路の1ブロック分の構成を示している。本体セルア
レイ74とは別にリファレンス用の複数個のダミーセル
が設けられたダミーセルアレイ75が設けられている。
本体セルアレイ74には前記バイアス回路73で発生さ
れる列線充電用の直流バイアス電圧PRが供給される。
ダミーセルアレイ75には基準電圧回路REFで発生さ
れるバイアス電圧REFINが供給される。上記基準電
圧回路REFは、上記バイアス電圧REFINからダミ
ーセルアレイ75を介して流れる電流量に応じた値の電
圧を基準電圧VREFとして発生する。この基準電圧V
REFは、前記データ検出回路72を構成する複数のセ
ンスアンプS/Aにそれぞれ供給される。これら複数の
センスアンプS/Aは、上記本体セルアレイ74からの
読み出しデータに応じてレベルが変化するセンスアンプ
入力電圧SAINに基づく電圧を上記基準電圧VREF
それぞれと比較することによってデータを検出する。そ
して、チップ上には、図7に示すようなブロックが複数
個形成されてメモリ回路が構成されている。
FIG. 7 shows a configuration of one block of a memory circuit in a conventional semiconductor memory device. In addition to the main body cell array 74, a dummy cell array 75 provided with a plurality of reference dummy cells is provided.
The main body cell array 74 is supplied with a column line charging DC bias voltage PR generated by the bias circuit 73.
The bias voltage REFIN generated by the reference voltage circuit REF is supplied to the dummy cell array 75. The reference voltage circuit REF generates a voltage having a value corresponding to the amount of current flowing from the bias voltage REFIN through the dummy cell array 75 as the reference voltage VREF. This reference voltage V
REF is supplied to a plurality of sense amplifiers S / A constituting the data detection circuit 72, respectively. The plurality of sense amplifiers S / A apply a voltage based on the sense amplifier input voltage SAIN whose level changes according to the read data from the main body cell array 74 to the reference voltage VREF.
Data is detected by comparing with each. Then, a plurality of blocks as shown in FIG. 7 are formed on the chip to form a memory circuit.

【0016】従来の半導体記憶装置では、リファレンス
用のダミーセルアレイは本体セルアレイとは遠く離れた
位置に配置されており、かつ基準電圧VREFの値はバ
イアス回路73で発生される直流バイアス電圧PRの影
響を全く受けず、その値は固定されたものとなってい
る。
In the conventional semiconductor memory device, the reference dummy cell array is arranged at a position far away from the main body cell array, and the value of the reference voltage VREF is influenced by the DC bias voltage PR generated by the bias circuit 73. , And its value is fixed.

【0017】図8は、図7におけるダミーセルアレイ7
5及びその周辺回路の構成を示している。図8におい
て、トランジスタt41、t42は前記図6中のトラン
ジスタt1等に対応するトランジスタ、トランジスタt
43、t44は同じくトランジスタt3、t5等に対応
するトランジスタ、トランジスタt45、t46は同じ
くトランジスタt4、t14等に対応するトランジス
タ、トランジスタt47は同じくトランジスタt8等に
対応するトランジスタであり、その他のトランジスタが
ダミーセルを構成している。なお、図中、トランジスタ
に付されている数字の「0」は記憶データが“0”であ
ることを表わしており、そのトランジスタはしきい値電
圧が低く、ゲートにVcc(5V)が供給されるとオン状
態になる。同様に、トランジスタに付されている数字の
「1」は記憶データが“1”であることを表わしてお
り、そのトランジスタはしきい値電圧が高く、ゲートに
Vcc(5V)が供給されてもオンせずにオフ状態にな
る。さらに、図中、丸印を付けたダミーセルはリファレ
ンス用のダミーセルであり、このダミーセルを介して前
記バイアス電圧REFINから接地電位Vssに電流が流
れる。図7中の前記基準電圧回路REFは、バイアス電
圧REFINからダミーセルを介して流れる電流量に応
じた値の電圧を基準電圧VREFとして発生するので、
この電圧VREFは直流バイアス電圧PRの影響を受け
ず、その値は固定されたものとなる。
FIG. 8 shows the dummy cell array 7 in FIG.
5 and its peripheral circuits. 8, transistors t41 and t42 correspond to transistors t1 and the like in FIG.
43 and t44 are the transistors corresponding to the transistors t3 and t5, etc., the transistors t45 and t46 are the transistors corresponding to the transistors t4 and t14, the transistor t47 is the transistor corresponding to the transistor t8 and the like, and the other transistors are dummy cells. Is composed. In the figure, the number "0" given to the transistor indicates that the stored data is "0", the transistor has a low threshold voltage, and Vcc (5 V) is supplied to the gate. Then, it is turned on. Similarly, the number "1" attached to the transistor indicates that the stored data is "1". The transistor has a high threshold voltage, and even if Vcc (5 V) is supplied to the gate. It turns off without turning on. Further, in the figure, the dummy cells with circles are reference dummy cells, and a current flows from the bias voltage REFIN to the ground potential Vss via the dummy cells. The reference voltage circuit REF in FIG. 7 generates a voltage having a value corresponding to the amount of current flowing from the bias voltage REFIN through the dummy cell as the reference voltage VREF.
This voltage VREF is not affected by the DC bias voltage PR, and its value is fixed.

【0018】[0018]

【発明が解決しようとする課題】ところで、同じチップ
内でも、電源パッドから遠く離れた位置にあるブロック
では、電源パッドから近い位置にあるブロックに比べ
て、配線抵抗の影響により供給される電源電圧が下が
り、バイアス回路で発生される直流バイアス電圧PRの
値も低くなる。すると以下のような不都合が生じる。
By the way, even in the same chip, the power supply voltage supplied due to the influence of the wiring resistance is larger in the block far from the power supply pad than in the block close to the power supply pad. And the value of the DC bias voltage PR generated by the bias circuit also decreases. Then, the following inconvenience occurs.

【0019】図9は本体セルアレイ内の選択セルが
“1”セルの場合のデータ読み出し動作を説明するため
のもので、この選択セル周辺の他のセルが図示のような
データ記憶状態にされているとする。このとき、前記セ
ンスアンプS/Aのセンスアンプ入力電圧SAINによ
り選択セルの右側に位置する列線C21まで充電され
る。このとき、このブロックが電源パッドから遠く離れ
た位置にあり、電圧PRが電圧SAINよりも低いと、
図中の破線矢印aで示すように、論理“0”データの複
数個のメモリセルを介して、電圧SAINから電圧PR
に向かって電流が流れ、電圧SAINのレベルが低下す
る。すなわち、電源パッドから遠く離れた位置にあるブ
ロックでは、“1”読み時にセンスアンプS/Aに入力
される論理“1”に対応した電位が低くなるので、
“1”読み時のセンスアンプS/Aの動作電圧マージン
が低くなる。なお、この読み出しの時は、図示しない手
段により、図中の破線矢印bで示すようにフローティン
グノードが電圧PRと等しい電圧によって充電される。
FIG. 9 is a diagram for explaining a data read operation when the selected cell in the main body cell array is the "1" cell. Other cells around the selected cell are set to the data storage state as shown. Suppose you have At this time, the column line C21 located on the right side of the selected cell is charged by the sense amplifier input voltage SAIN of the sense amplifier S / A. At this time, if this block is located far away from the power supply pad and the voltage PR is lower than the voltage SAIN,
As shown by the dashed arrow a in the figure, the voltage PR from the voltage SAIN to the voltage PR through a plurality of memory cells of logic "0" data.
, And the level of the voltage SAIN decreases. That is, in a block far away from the power supply pad, the potential corresponding to the logic "1" input to the sense amplifier S / A at the time of reading "1" becomes low.
The operating voltage margin of the sense amplifier S / A at the time of reading "1" is reduced. At the time of this reading, the floating node is charged with a voltage equal to the voltage PR as indicated by a broken line arrow b in the figure by means not shown.

【0020】一方、図10は本体セルアレイ内の選択セ
ルが“0”セルの場合のデータ読み出し動作を説明する
ためのもので、この選択セル周辺の他のセルが図示のよ
うなデータ記憶状態にされているとする。このとき、選
択セルを介して、センスアンプS/Aのセンスアンプ入
力電圧SAINは接地電位Vssに放電される。このと
き、このブロックが電源パッドから近い位置にあり、電
圧PRが電圧SAINよりも高いと、図中の破線矢印a
で示すように、論理“0”データの複数個のメモリセル
を介して、電圧PRから電圧SAINへ電流が流れ、電
圧SAINのレベルが上昇する。すなわち、電源パッド
から近い位置にあるブロックでは、“0”読み時にセン
スアンプS/Aに入力される論理“0”に対応した電位
が上昇するので、“0”読み時のセンスアンプS/Aの
動作電圧マージンが低くなる。なお、この場合にも、図
示しない手段により、図中の破線矢印bで示すようにフ
ローティングノードが電圧PRと等しい電圧によって充
電される。
On the other hand, FIG. 10 illustrates a data read operation when the selected cell in the main body cell array is a "0" cell, and other cells around the selected cell are set to the data storage state as shown. It is assumed that it is. At this time, the sense amplifier input voltage SAIN of the sense amplifier S / A is discharged to the ground potential Vss via the selected cell. At this time, if this block is located close to the power supply pad and the voltage PR is higher than the voltage SAIN, a dashed arrow a in FIG.
As shown by, a current flows from the voltage PR to the voltage SAIN through a plurality of memory cells of logic “0” data, and the level of the voltage SAIN rises. In other words, in a block near the power supply pad, the potential corresponding to the logic "0" input to the sense amplifier S / A at the time of reading "0" rises, and thus the sense amplifier S / A at the time of "0" reading. Operating voltage margin becomes low. In this case as well, the floating node is charged with a voltage equal to the voltage PR as indicated by a broken arrow b in the figure by means not shown.

【0021】このように従来の半導体記憶装置では、リ
ファレンス用のダミーセルを用いて発生される基準電圧
VREFの値は固定されたものとなっているが、バイア
ス回路で発生される直流バイアス電圧PRの値は電源電
圧の影響を受け、かつメモリセルからの読み出し電位
(SAIN)はこの直流バイアス電圧PRの影響を受け
るので、チップ上の位置によってはセンスアンプの動作
電圧マージンが低くなるという問題が発生する。
As described above, in the conventional semiconductor memory device, the value of the reference voltage VREF generated using the dummy cell for reference is fixed, but the value of the DC bias voltage PR generated by the bias circuit is fixed. Since the value is affected by the power supply voltage and the read potential (SAIN) from the memory cell is affected by the DC bias voltage PR, there is a problem that the operating voltage margin of the sense amplifier is reduced depending on the position on the chip. I do.

【0022】この発明は上記のような事情を考慮してな
されたものであり、その目的は、データの読み出しを行
うメモリセル周辺のセルデータやチップ上の位置によっ
てセンスアンプの動作電圧マージンが低下することを防
止することができる半導体記憶装置を提供することにあ
る。
The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and has as its object to reduce the operating voltage margin of a sense amplifier depending on the cell data around a memory cell from which data is read and the position on a chip. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device which can prevent the occurrence of the problem.

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】請求項1の半導体記憶装
置は、それぞれ複数の行線及び列線と、上記複数の列線
のうち隣接する2つの列線間にそれぞれ接続され、ゲー
トが上記複数の行線のうち対応するものに接続され、そ
れぞれしきい値電圧に対応してデータを記憶するトラン
ジスタからなる複数のメモリセルと、データの読み出し
時に、データの読み出しを行うメモリセルの一端が接続
された列線を選択して接地電位に接続する第1の選択手
段と、データの読み出し時に、データの読み出しを行う
メモリセルの他端が接続された列線を選択する第2の選
択手段と、データの読み出し時に、上記第2の選択手段
によって選択された列線に所定の直流バイアス電圧を供
給してデータを検出するデータ検出回路と、所定の直流
バイアス電圧を発生し、データの読み出し時に非選択の
列線に供給するバイアス回路と、上記バイアス回路で発
生される直流バイアス電圧に応じた値の直流電圧を発生
し、上記データ検出回路に比較用基準電圧として供給す
る比較用基準電圧発生回路とを具備している。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device, wherein a plurality of row lines and a plurality of column lines are respectively connected between two adjacent ones of the plurality of column lines, and a gate is provided. A plurality of memory cells each including a transistor connected to a corresponding one of the plurality of row lines and storing data corresponding to a threshold voltage, and one end of a memory cell from which data is read at the time of reading data are connected. First selecting means for selecting a connected column line and connecting it to the ground potential, and second selecting means for selecting a column line to which the other end of the memory cell from which data is to be read is connected when reading data A data detection circuit for supplying a predetermined DC bias voltage to the column line selected by the second selecting means to detect data when reading data, and generating a predetermined DC bias voltage. A bias circuit that supplies a non-selected column line when data is read, and a DC voltage having a value corresponding to the DC bias voltage generated by the bias circuit, and supplies the data detection circuit as a reference voltage for comparison. And a reference voltage generating circuit for comparison.

【0024】請求項2の半導体記憶装置は、請求項1に
おいて、前記比較用電圧発生回路が、直列接続され、途
中の任意の直列接続点が接地電位に接続された複数個の
ダミーセルと、上記直列接続された複数個のダミーセル
の一端に前記バイアス回路で発生される直流バイアス電
圧を供給する手段と、上記直列接続された複数個のダミ
ーセルの他端に接続され、前記比較用基準電圧を発生す
る基準電圧回路とを有している。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first aspect, the comparison voltage generating circuit is connected in series, and a plurality of dummy cells in which an arbitrary series connection point in the middle is connected to a ground potential; A means for supplying a DC bias voltage generated by the bias circuit to one end of a plurality of serially connected dummy cells; and a means for connecting the other end of the plurality of serially connected dummy cells to generate the comparison reference voltage. And a reference voltage circuit.

【0025】請求項3の半導体記憶装置は、請求項2に
おいて、前記基準電圧回路が、前記比較用基準電圧のノ
ードと電源電圧のノードとの間に接続された負荷手段
と、上記比較用基準電圧のノードに一端が接続され、前
記直列接続された複数個のダミーセルの他端に他端が接
続された第1のMOSトランジスタと、入力端子が上記
第1のMOSトランジスタの他端に接続され、出力端子
が上記第1のMOSトランジスタのゲートに接続された
第1のインバータ回路と、上記電源電圧のノードに一端
が接続され、前記直列接続された複数個のダミーセルの
他端に他端が接続された第2のMOSトランジスタと、
入力端子が上記第2のMOSトランジスタの他端に接続
され、出力端子が上記第2のMOSトランジスタのゲー
トに接続された第2のインバータ回路とを有している。
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the second aspect, the reference voltage circuit includes a load unit connected between a node of the reference voltage for comparison and a node of a power supply voltage. A first MOS transistor having one end connected to the voltage node and the other end connected to the other end of the plurality of serially connected dummy cells; and an input terminal connected to the other end of the first MOS transistor. A first inverter circuit having an output terminal connected to the gate of the first MOS transistor, one end connected to the node of the power supply voltage, and the other end connected to the other end of the plurality of dummy cells connected in series. A second MOS transistor connected;
A second inverter circuit having an input terminal connected to the other end of the second MOS transistor and an output terminal connected to the gate of the second MOS transistor.

【0026】請求項4の半導体記憶装置は、請求項2に
おいて、前記直列接続された複数個のダミーセルの組が
前記行線の数だけ設けられ、これら直列接続された複数
個のダミーセルのゲートがそれぞれ対応する行線に接続
されている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the second aspect, a plurality of sets of the series-connected dummy cells are provided by the number of the row lines, and the gates of the plurality of series-connected dummy cells are provided. Each is connected to a corresponding row line.

【0027】請求項5の半導体記憶装置は、請求項2又
は4において、前記複数個の各ダミーセルが、それぞれ
低いしきい値電圧に対応したデータを記憶している。
According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the second or fourth aspect, each of the plurality of dummy cells stores data corresponding to a low threshold voltage.

【0028】請求項6の半導体記憶装置は、電源電圧が
供給される電源パッドと、上記電源パッドに供給される
電源電圧が電源配線を介して供給され、複数のブロック
を有するメモリ回路とを具備し、上記メモリ回路の各ブ
ロック内には、それぞれ複数の行線及び列線と、上記複
数の列線のうち隣接する2つの列線間にそれぞれ接続さ
れ、ゲートが上記複数の行線のうち対応するものに接続
され、それぞれしきい値電圧に対応してデータを記憶す
るトランジスタからなる複数のメモリセルと、データの
読み出し時に、データの読み出しを行うメモリセルの一
端が接続された列線を選択して接地電位に接続する第1
の選択手段と、データの読み出し時に、データの読み出
しを行うメモリセルの他端が接続された列線を選択する
第2の選択手段と、データの読み出し時に、上記第2の
選択手段によって選択された列線に所定の直流バイアス
電圧を供給してデータを検出するデータ検出回路と、上
記電源配線を介して供給される電源電圧から所定の直流
バイアス電圧を発生し、データの読み出し時に非選択の
列線に供給するバイアス回路と、上記バイアス回路で発
生される直流バイアス電圧に応じた値の直流電圧を発生
し、上記データ検出回路に比較用基準電圧として供給す
る比較用基準電圧発生回路とが設けられている。
According to a sixth aspect of the present invention, a semiconductor memory device includes a power supply pad to which a power supply voltage is supplied, and a memory circuit having a plurality of blocks to which the power supply voltage supplied to the power supply pad is supplied via a power supply wiring. In each of the blocks of the memory circuit, a plurality of row lines and column lines are respectively connected between two adjacent column lines of the plurality of column lines, and a gate is formed of the plurality of row lines. A plurality of memory cells, each of which is connected to a corresponding one of the transistors and stores data corresponding to a threshold voltage, and a column line to which one end of the memory cell from which data is read at the time of reading data is connected. Select and connect to ground potential first
Selection means, a second selection means for selecting a column line to which the other end of the memory cell from which data is read at the time of reading data is connected, and a second selection means at the time of reading data. A data detection circuit that supplies a predetermined DC bias voltage to the column line and detects data, and generates a predetermined DC bias voltage from a power supply voltage supplied through the power supply wiring, and selects a non-selected bias voltage when reading data. A bias circuit that supplies a column line, and a comparison reference voltage generation circuit that generates a DC voltage having a value corresponding to the DC bias voltage generated by the bias circuit and supplies the DC voltage to the data detection circuit as a comparison reference voltage Is provided.

【0029】請求項7の半導体記憶装置は、請求項6に
おいて、前記比較用電圧発生回路が、直列接続され、途
中の任意の直列接続点が接地電位に接続された複数個の
ダミーセルと、上記直列接続された複数個のダミーセル
の一端に前記バイアス回路で発生される直流バイアス電
圧を供給する手段と、上記直列接続された複数個のダミ
ーセルの他端に接続され、前記比較用基準電圧を発生す
る基準電圧回路とを有している。
A semiconductor memory device according to claim 7 is the semiconductor memory device according to claim 6, wherein the comparison voltage generating circuit is connected in series, and a plurality of dummy cells in which an arbitrary series connection point in the middle is connected to ground potential. A means for supplying a DC bias voltage generated by the bias circuit to one end of a plurality of serially connected dummy cells; and a means for connecting the other end of the plurality of serially connected dummy cells to generate the comparison reference voltage. And a reference voltage circuit.

【0030】請求項8の半導体記憶装置は、請求項7に
おいて、前記基準電圧回路が、前記比較用基準電圧のノ
ードと電源電圧のノードとの間に接続された負荷手段
と、上記比較用基準電圧のノードに一端が接続され、前
記直列接続された複数個のダミーセルの他端に他端が接
続された第1のMOSトランジスタと、入力端子が上記
第1のMOSトランジスタの他端に接続され、出力端子
が上記第1のMOSトランジスタのゲートに接続された
第1のインバータ回路と、上記電源電圧のノードに一端
が接続され、前記直列接続された複数個のダミーセルの
他端に他端が接続された第2のMOSトランジスタと、
入力端子が上記第2のMOSトランジスタの他端に接続
され、出力端子が上記第2のMOSトランジスタのゲー
トに接続された第2のインバータ回路とを有している。
In the semiconductor memory device according to the present invention, the reference voltage circuit may be a load means connected between a node of the reference voltage for comparison and a node of a power supply voltage. A first MOS transistor having one end connected to the voltage node and the other end connected to the other end of the plurality of serially connected dummy cells; and an input terminal connected to the other end of the first MOS transistor. A first inverter circuit having an output terminal connected to the gate of the first MOS transistor, one end connected to the node of the power supply voltage, and the other end connected to the other end of the plurality of dummy cells connected in series. A second MOS transistor connected;
A second inverter circuit having an input terminal connected to the other end of the second MOS transistor and an output terminal connected to the gate of the second MOS transistor.

【0031】請求項9の半導体記憶装置は、請求項7に
おいて、前記直列接続された複数個のダミーセルの組が
前記行線の数だけ設けられ、これら直列接続された複数
個のダミーセルのゲートがそれぞれ対応する行線に接続
されている。
According to a ninth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the seventh aspect, a plurality of sets of the series-connected dummy cells are provided by the number of the row lines, and the gates of the plurality of series-connected dummy cells are provided. Each is connected to a corresponding row line.

【0032】請求項10の半導体記憶装置は、請求項7
又は9において、前記複数個の各ダミーセルが、それぞ
れ低いしきい値電圧に対応したデータを記憶している。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device according to the seventh aspect.
Or 9) each of the plurality of dummy cells stores data corresponding to a low threshold voltage.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施の形態を説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0034】図1はこの発明に係る半導体記憶装置にお
けるチップ内部の構成を示すブロック図である。図にお
いて、11、11はそれぞれ外部から電源電圧Vcc(例
えば5V)が供給される電源パッドであり、12、12
はそれぞれ外部から接地電圧Vss(例えば0V)が供給
される電源パッドである。そして、上記電源パッド1
1、11に供給される電源電圧Vccは電源配線13、1
3、…を介してメモリ回路の各部に供給されている。同
様に、上記電源パッド12、12に供給される接地電圧
Vssは電源配線14、14、…を介してメモリ回路の各
部に供給されている。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration inside a chip in a semiconductor memory device according to the present invention. In the figure, reference numerals 11 and 11 denote power supply pads to which a power supply voltage Vcc (for example, 5 V) is supplied from the outside.
Are power supply pads to which a ground voltage Vss (for example, 0 V) is supplied from the outside. Then, the power pad 1
The power supply voltage Vcc supplied to the power supply lines 1 and 11 is
Are supplied to the respective sections of the memory circuit through. Similarly, the ground voltage Vss supplied to the power supply pads 12, 12 is supplied to each part of the memory circuit via power supply wirings 14, 14,.

【0035】上記メモリ回路は複数のブロックを有して
おり(本例では8ブロック)、各ブロック内にはそれぞ
れ、4I/O分(データ入出力ビット数が4)のメモリ
セルを有するセルアレイ15、バイアス回路16及びデ
ータ検出回路(S/A)17が設けられている。上記各
セルアレイ15には複数のメモリセルの他に複数の行線
WL1〜WLn及び列線C1、C2、C3、…等が設け
られており、これら複数のメモリセルは例えば前記図6
に示すように配置されている。すなわち、上記複数の列
線のうち隣接する2つの列線間には各メモリセルがそれ
ぞれ接続され、各メモリセルのゲートは複数の行線WL
1〜WLnのうち対応するものに接続されている。これ
ら各メモリセルはしきい値電圧の高低状態に対応してデ
ータを記憶するトランジスタで構成されている。さらに
上記各セルアレイ15内には図示しないリファレンス用
のダミーセルもそれぞれ複数個設けられている。
The memory circuit has a plurality of blocks (8 blocks in this example), and each block has a cell array 15 having memory cells of 4 I / O (the number of data input / output bits is 4). , A bias circuit 16 and a data detection circuit (S / A) 17 are provided. Each of the cell arrays 15 is provided with a plurality of row lines WL1 to WLn and column lines C1, C2, C3,... In addition to a plurality of memory cells.
Are arranged as shown in FIG. That is, each memory cell is connected between two adjacent ones of the plurality of column lines, and the gate of each memory cell is connected to the plurality of row lines WL.
1 to WLn are connected to corresponding ones. Each of these memory cells is constituted by a transistor for storing data in accordance with the state of the threshold voltage. Further, a plurality of reference dummy cells (not shown) are provided in each of the cell arrays 15.

【0036】また、隣接するブロック相互間(図中、斜
線を示す領域)には行デコーダ18が設けられている。
A row decoder 18 is provided between adjacent blocks (indicated by hatching in the figure).

【0037】そして、上記電源配線13、13、…上の
電源電圧Vcc及び電源配線14、14、…上の接地電圧
Vssは、各ブロックのバイアス回路16及びデータ検出
回路7にそれぞれ供給される。
The power supply voltage Vcc on the power supply lines 13, 13, ... and the ground voltage Vss on the power supply lines 14, 14, ... are supplied to the bias circuit 16 and the data detection circuit 7 of each block, respectively.

【0038】図2は上記図1中のメモリ回路における1
つのブロックの概略的な構成を示している。前記セルア
レイ15は、それぞれ複数のメモリセルからなる4I/
O分(4個)の本体セルアレイ21、21、…と、リフ
ァレンス用の複数のダミーセルが設けられたダミーセル
アレイ22とから構成されている。そして、これら4個
の本体セルアレイ21、21、…及びダミーセルアレイ
22には、前記バイアス回路16で発生される直流バイ
アス電圧PRが供給される。
FIG. 2 is a circuit diagram of the memory circuit shown in FIG.
2 shows a schematic configuration of one block. The cell array 15 includes 4I /
, And a dummy cell array 22 provided with a plurality of reference dummy cells. The DC bias voltage PR generated by the bias circuit 16 is supplied to the four body cell arrays 21, 21,... And the dummy cell array 22.

【0039】前記データ検出回路17には4個のセンス
アンプ(S/A)23、23、…が設けられている。そ
して、これら4個のセンスアンプ23、23、…は、デ
ータの読み出し時に本体セルアレイ21、21、…内の
列線に対して所定のバイアス電圧SAINを供給してデ
ータを検出する。
The data detection circuit 17 is provided with four sense amplifiers (S / A) 23, 23,... When the data is read, these four sense amplifiers 23, 23,... Supply a predetermined bias voltage SAIN to the column lines in the main body cell arrays 21, 21,.

【0040】また、上記ダミーセルアレイ22には基準
電圧回路(REF)24が接続されている。この基準電
圧回路24は、上記ダミーセルアレイ22に所定のバイ
アス電圧REFINを供給することによって、上記各セ
ンスアンプ23、23、…でデータを検出する際に使用
される比較用基準電圧VREFを発生する。
A reference voltage circuit (REF) 24 is connected to the dummy cell array 22. The reference voltage circuit 24 supplies a predetermined bias voltage REFIN to the dummy cell array 22 to generate a comparison reference voltage VREF used when each of the sense amplifiers 23, 23,... Detects data. .

【0041】図3は、図2中のダミーセルアレイ22及
びその周辺回路の詳細な構成を示している。なお、この
例では前記行線はWL1〜WL32の32本が設けられ
ている。ダミーセルアレイ22内にはダミーセルが各行
線毎に6個づつ設けられている。また、各行線毎に設け
られたそれぞれ6個のダミーセルのうち、互いに隣接し
た4個のダミーセルDC1〜DC4にはそれぞれ論理
“0”データが記憶され、本体セルアレイ側に設けら
れ、互いに隣接した2個のダミーセルDC5、DC6に
はそれぞれ論理“1”データが記憶されている。
FIG. 3 shows a detailed configuration of the dummy cell array 22 and its peripheral circuits in FIG. In this example, 32 row lines WL1 to WL32 are provided. In the dummy cell array 22, six dummy cells are provided for each row line. Of the six dummy cells provided for each row line, logic "0" data is stored in four adjacent dummy cells DC1 to DC4, and two dummy cells DC1 to DC4 are provided on the main body cell array side. Each of the dummy cells DC5 and DC6 stores logic "1" data.

【0042】なお、図3中のトランジスタt30は前記
図6中のトランジスタt6等に対応するものであり、ト
ランジスタt31は同じくトランジスタt8等に対応す
るものであり、また、トランジスタt32、t33、t
34は同じくトランジスタt4、t14等に対応するも
のであり、トランジスタt35、t36、t37は同じ
くトランジスタt3、t5等に対応するものであり、さ
らにトランジスタt38、t39は同じくトランジスタ
t1、t2等に対応している。そして、上記トランジス
タt30、t31、t38、t39の各ゲートには電圧
Vccにされた信号が供給されており、これらのトランジ
スタはそれぞれオン状態にされている。
The transistor t30 in FIG. 3 corresponds to the transistor t6 and the like in FIG. 6, the transistor t31 also corresponds to the transistor t8 and the like, and the transistors t32, t33, and t
Reference numeral 34 also corresponds to the transistors t4, t14, etc., transistors t35, t36, t37 also correspond to the transistors t3, t5, etc., and the transistors t38, t39 also correspond to the transistors t1, t2, etc. ing. The gates of the transistors t30, t31, t38, and t39 are supplied with a signal of the voltage Vcc, and these transistors are turned on.

【0043】ここで、各行線毎に設けられ、直列接続さ
れたそれぞれ4個のダミーセルDC1〜DC4のうち、
ダミーセルDC2とDC3との直列接続点NSが、前記
オン状態にされているトランジスタt38を介して接地
電位Vssに接続されている。また、ダミーセルDC1の
ダミーセルDC2側とは反対側には、前記オン状態にさ
れているトランジスタt30を介して、前記バイアス回
路16(図2に図示)で発生される直流バイアス電圧P
Rが供給されている。さらにダミーセルDC4のダミー
セルDC5側には、前記オン状態にされているトランジ
スタt31を介して、前記センスアンプ23(図2に図
示)で発生されるバイアス電圧REFINが供給されて
いる。
Here, of the four dummy cells DC1 to DC4 provided for each row line and connected in series,
A series connection point NS of the dummy cells DC2 and DC3 is connected to the ground potential Vss via the transistor t38 which is turned on. On the other side of the dummy cell DC1 from the side of the dummy cell DC2, the DC bias voltage P generated by the bias circuit 16 (shown in FIG. 2) is supplied via the transistor t30 which is turned on.
R is supplied. Further, the bias voltage REFIN generated by the sense amplifier 23 (shown in FIG. 2) is supplied to the dummy cell DC5 side of the dummy cell DC4 via the transistor t31 which is turned on.

【0044】ここで、前記図1に示すように、チップ上
で電源パッド11から遠く離れた位置にあるブロック内
のバイアス回路16で発生される直流バイアス電圧PR
の値は低くなり、電源パッド11から近い位置にあるブ
ロック内のバイアス回路16で発生される直流バイアス
電圧PRの値は高くなる。
Here, as shown in FIG. 1, the DC bias voltage PR generated by the bias circuit 16 in the block located far from the power supply pad 11 on the chip.
Is low, and the value of the DC bias voltage PR generated by the bias circuit 16 in the block close to the power supply pad 11 is high.

【0045】いま、図3に示す回路において、バイアス
電圧PRとバイアス電圧REFINの値が等しければ、
バイアス電圧PRと上記ダミーセルDC2とDC3との
直列接続点NSとの間の電流経路に存在するトランジス
タの数と、バイアス電圧REFINと直列接続点NSと
の間の電流経路に存在するトランジスタの数とが等しい
ために、前記図2中の基準電圧回路24で発生される基
準電圧VREFの値は実質的にバイアス電圧REFIN
の値のみによって設定される。
Now, in the circuit shown in FIG. 3, if the values of the bias voltage PR and the bias voltage REFIN are equal,
The number of transistors existing on the current path between the bias voltage PR and the series connection point NS of the dummy cells DC2 and DC3, and the number of transistors existing on the current path between the bias voltage REFIN and the series connection point NS Are equal, the value of the reference voltage VREF generated by the reference voltage circuit 24 in FIG. 2 is substantially equal to the bias voltage REFIN.
Is set only by the value of

【0046】一方、バイアス回路16で発生される直流
バイアス電圧PRの値が低いブロックでは、メモリセル
からのデータ読み出しに先だって列線を充電する際の充
電電圧PRも低いので、メモリセルが選択された時、セ
ンスアンプ23から出力されるバイアス電圧REFIN
はこの列線の充電電圧の影響を受けて低下することにな
る。
On the other hand, in a block in which the value of the DC bias voltage PR generated by the bias circuit 16 is low, the memory cell is selected because the charging voltage PR for charging the column line prior to reading data from the memory cell is also low. The bias voltage REFIN output from the sense amplifier 23
Will decrease under the influence of the charging voltage of this column line.

【0047】しかし、図3に示すように、上記電圧PR
はダミーセルアレイにも供給されており、この電圧PR
はトランジスタt30、ダミーセルDC1、DC2の経
路、あるいはトランジスタt30、トランジスタt3
2、ダミーセルDC2の経路を介して直列接続点NSに
供給され、他方、電圧REFINはトランジスタt3
1、ダミーセルDC4、DC3の経路、あるいはトラン
ジスタt31、トランジスタt33、ダミーセルDC3
の経路を介して直列接続点NSに供給されており、両電
圧は同数のトランジスタを直列に介して直列接続点NS
で突き合わさせている。このため、電圧REFINは電
圧PRの影響をうけ、電圧PRが低くなればそれに応じ
て電圧REFINも低くなり、逆に電圧PRが高くなれ
ばそれに応じて電圧REFINも高くなる。
However, as shown in FIG.
Is also supplied to the dummy cell array, and this voltage PR
Is the path of the transistor t30 and the dummy cells DC1 and DC2, or the transistor t30 and the transistor t3
2. The voltage REFIN is supplied to the series connection point NS via the path of the dummy cell DC2, and the voltage of the transistor t3
1, the path of the dummy cells DC4 and DC3, or the transistor t31, the transistor t33, and the dummy cell DC3
And the two voltages are supplied to the series connection point NS via the same number of transistors in series.
Are matched. Therefore, the voltage REFIN is affected by the voltage PR, and the lower the voltage PR, the lower the voltage REFIN. Conversely, the higher the voltage PR, the higher the voltage REFIN.

【0048】図4は、図2中の基準電圧回路24と1個
のセンスアンプ23の構成を示している。センスアンプ
23において、Pチャネルトランジスタ41、42、N
チャネルトランジスタ43、44はカレントミラー型の
差動増幅器を構成している。上記トランジスタ41、4
2の各ソースは電源電圧Vccのノードに接続されてい
る。上記トランジスタ43、44の各ドレインは上記ト
ランジスタ41、42の各ドレインにそれぞれ接続され
ている。上記トランジスタ43、44の各ソースは接地
電圧Vssのノードに接続されている。また、上記トラン
ジスタ43、44の両ゲートは互いに接続され、この共
通ゲートはトランジスタ44のドレインに接続されてい
る。
FIG. 4 shows the configuration of the reference voltage circuit 24 and one sense amplifier 23 in FIG. In the sense amplifier 23, P channel transistors 41, 42, N
The channel transistors 43 and 44 constitute a current mirror type differential amplifier. The above transistors 41, 4
2 are connected to the node of the power supply voltage Vcc. The drains of the transistors 43 and 44 are connected to the drains of the transistors 41 and 42, respectively. The sources of the transistors 43 and 44 are connected to the node of the ground voltage Vss. The gates of the transistors 43 and 44 are connected to each other, and the common gate is connected to the drain of the transistor 44.

【0049】上記トランジスタ41のゲートは差動増幅
器の一方の入力ノードとなり、このノード45と電源電
圧Vccのノードとの間には負荷トランジスタとなるPチ
ャネルトランジスタ46のソース、ドレイン間が挿入さ
れている。このトランジスタ46のゲートはそのドレイ
ンに接続されている。また、上記ノード45と前記電圧
SAINのノード(本体セルアレイ)との間には、Nチ
ャネルトランジスタ47のソース、ドレイン間が挿入さ
れている。そして、このトランジスタ47のドレイン
(電圧SAIN側)にはインバータ48の入力端子が接
続されており、さらにこのインバータ48の出力端子は
上記トランジスタ47のゲートに接続されている。電源
電圧Vccのノードと上記電圧SAINのノードとの間に
は、Nチャネルトランジスタ49のソース、ドレイン間
が挿入されている。このトランジスタ49のドレイン
(電圧SAIN側)にはインバータ50の入力端子が接
続されており、さらにこのインバータ50の出力端子は
上記トランジスタ49のゲートに接続されている。
The gate of the transistor 41 serves as one input node of the differential amplifier, and a source and a drain of a P-channel transistor 46 serving as a load transistor are inserted between the node 45 and the node of the power supply voltage Vcc. I have. The gate of this transistor 46 is connected to its drain. A source and a drain of the N-channel transistor 47 are inserted between the node 45 and the node of the voltage SAIN (body cell array). The input terminal of the inverter 48 is connected to the drain (the voltage SAIN side) of the transistor 47, and the output terminal of the inverter 48 is connected to the gate of the transistor 47. Between the node of the power supply voltage Vcc and the node of the voltage SAIN, a portion between the source and the drain of the N-channel transistor 49 is inserted. The input terminal of the inverter 50 is connected to the drain (voltage SAIN side) of the transistor 49, and the output terminal of the inverter 50 is connected to the gate of the transistor 49.

【0050】さらに上記差動増幅器の出力が、直列接続
された3個のインバータからなる増幅器によって増幅さ
れることにより、読み出しデータSAOUTが得られ
る。
Further, the output of the differential amplifier is amplified by an amplifier composed of three inverters connected in series, so that read data SAOUT is obtained.

【0051】前記基準電圧回路24は、上記差動増幅器
の他方の入力ノードとなるノード51と電源電圧Vccの
ノードとの間にソース、ドレイン間が挿入され、負荷ト
ランジスタとなるPチャネルトランジスタ52と、上記
ノード51と前記電圧REFINのノード(ダミーセル
アレイ)との間にソース、ドレイン間が挿入されたNチ
ャネルトランジスタ53と、入力端子が上記トランジス
タ53のドレイン(電圧REFIN側)に接続され、出
力端子が上記トランジスタ53のゲートに接続されたイ
ンバータ54と、電源電圧Vccのノードと上記電圧RE
FINのノードとの間にソース、ドレイン間が挿入され
たNチャネルトランジスタ55と、入力端子が上記トラ
ンジスタ55のドレイン(電圧REFIN側)に接続さ
れ、出力端子が上記トランジスタ55のゲートに接続さ
れたインバータ56とから構成されている。
The reference voltage circuit 24 includes a P-channel transistor 52 having a source and a drain inserted between a node 51 serving as the other input node of the differential amplifier and a node of the power supply voltage Vcc, and having a load transistor. An N-channel transistor 53 having a source and a drain inserted between the node 51 and the node of the voltage REFIN (dummy cell array), and an input terminal connected to the drain (voltage REFIN side) of the transistor 53 and an output An inverter 54 having a terminal connected to the gate of the transistor 53; a node of the power supply voltage Vcc;
An N-channel transistor 55 having a source and a drain inserted between it and the FIN node, an input terminal connected to the drain (voltage REFIN side) of the transistor 55, and an output terminal connected to the gate of the transistor 55 And an inverter 56.

【0052】このように構成された回路において、前記
電圧SAINの値はトランジスタ49とインバータ50
とからなるフィードバック回路によって設定される。す
なわち、電源電圧Vccが投入された直後では電圧SAI
Nは0になっているので、インバータ50の出力信号は
“1”レベルとなり、トランジスタ49がオンする。従
って、電源電圧Vccが投入された後は電圧SAINが上
昇し、その後、電圧SAINはトランジスタ49の電流
能力、すなわち素子寸法に応じた値に設定される。
In the circuit thus constructed, the value of the voltage SAIN is determined by the transistor 49 and the inverter 50.
This is set by a feedback circuit consisting of That is, immediately after the power supply voltage Vcc is applied, the voltage SAI
Since N is 0, the output signal of the inverter 50 becomes "1" level, and the transistor 49 is turned on. Therefore, after the power supply voltage Vcc is applied, the voltage SAIN rises, and thereafter, the voltage SAIN is set to a value according to the current capability of the transistor 49, that is, the element size.

【0053】また、データの読み出し時に、選択セルを
介して電圧SAINが放電されるか又は放電されずにそ
の値がそのまま維持される。選択セルを介して電圧SA
INが放電される場合にはノード45の電圧VDATも
低下する。電圧SAINが放電されない場合、ノード4
5の電圧VDATもそのまま維持される。
When data is read, the voltage SAIN is discharged via the selected cell or the value is maintained without being discharged. Voltage SA via selected cell
When IN is discharged, the voltage VDAT at node 45 also drops. If voltage SAIN is not discharged, node 4
The voltage VDAT of 5 is maintained as it is.

【0054】一方、基準電圧回路24では、データ読み
出し時に電圧VREFINはダミーセルを介して放電さ
れるので、電圧VREFINは低下し、従ってノード5
1における電圧VREFも低下する。
On the other hand, in the reference voltage circuit 24, the voltage VREFIN is discharged through the dummy cell at the time of data reading, so that the voltage VREFIN decreases, and
The voltage VREF at 1 also drops.

【0055】ここで基準電圧回路24内のノード51の
負荷トランジスタとなるトランジスタ52の電流能力
は、センスアンプ23内のノード45の負荷トランジス
タとなるトランジスタ46の電流能力よりも大きくなる
ように設定されているので、電圧VREFは、“0”読
み時の電圧VDATと“1”読み時の電圧VDATとの
中間の値となり、両電圧VREF、VDATが差動増幅
器で比較されることにより読み出しデータSAOUTが
得られる。
Here, the current capability of the transistor 52 serving as the load transistor of the node 51 in the reference voltage circuit 24 is set to be larger than the current capability of the transistor 46 serving as the load transistor of the node 45 in the sense amplifier 23. Therefore, the voltage VREF becomes an intermediate value between the voltage VDAT at the time of reading “0” and the voltage VDAT at the time of reading “1”, and the read data SAOUT is obtained by comparing the two voltages VREF and VDAT with the differential amplifier. Is obtained.

【0056】ここで前記のように、電圧REFINは図
3に示すダミーセルアレイにおいて電圧PRの影響をう
け、電圧PRが低くなればそれに応じて電圧REFIN
も低くなり、逆に電圧PRが高くなればそれに応じて電
圧REFINも高くなるので、ノード51に得られる電
圧VREFの値も電圧PRに応じて変化する。従って、
本体セルアレイの列線の充電電圧(電圧PR)がチップ
内でばらつくことによって電圧SAINが変動し、ひい
てはノード45における電圧VDATが変動することに
よって生じるセンスアンプの電圧マージンの低下は、電
圧VREFの値が電圧PRに応じて変化することにより
防止することができる。
Here, as described above, the voltage REFIN is affected by the voltage PR in the dummy cell array shown in FIG. 3, and when the voltage PR becomes lower, the voltage REFIN is correspondingly reduced.
Becomes lower, and conversely, as the voltage PR becomes higher, the voltage REFIN also becomes higher. Therefore, the value of the voltage VREF obtained at the node 51 also changes according to the voltage PR. Therefore,
The voltage SAIN fluctuates due to the variation of the charging voltage (voltage PR) of the column lines of the main body cell array in the chip, and the reduction of the voltage margin of the sense amplifier caused by the fluctuation of the voltage VDAT at the node 45 is caused by the value of the voltage VREF. Is changed according to the voltage PR.

【0057】図5は図1中のバイアス回路16の具体的
な回路の一例を示している。この回路は、ドレインか電
源電圧Vccのノードに接続されたNチャネルトランジス
タ61と、入力端子が上記トランジスタ61のソース
(直流バイアス電圧PRを得る側)に接続され、出力端
子が上記トランジスタ61のゲートに接続されたインバ
ータ62とから構成されている。
FIG. 5 shows an example of a specific circuit of the bias circuit 16 in FIG. This circuit has an N-channel transistor 61 connected to the drain or the node of the power supply voltage Vcc, an input terminal connected to the source of the transistor 61 (a side for obtaining the DC bias voltage PR), and an output terminal connected to the gate of the transistor 61. And an inverter 62 connected to the inverter 62.

【0058】このバイアス回路16の場合にも、直流バ
イアス電圧PRの値は、基本的にはトランジスタ61の
電流能力、すなわち素子寸法によって決定されるが、供
給される電源電圧Vccの値にも影響を受ける。
In the case of the bias circuit 16 as well, the value of the DC bias voltage PR is basically determined by the current capability of the transistor 61, that is, the element size, but also affects the value of the supplied power supply voltage Vcc. Receive.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
データの読み出しを行うメモリセル周辺のセルデータや
チップ上の位置によってセンスアンプの電圧マージンが
低下することを防止することができる。
As described above, according to the present invention,
It is possible to prevent the voltage margin of the sense amplifier from being lowered due to the cell data around the memory cell from which data is read or the position on the chip.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に係る半導体記憶装置におけるチップ
内部の構成を示すブロック図。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration inside a chip in a semiconductor memory device according to the present invention.

【図2】図1中のメモリ回路における1つのブロックの
概略的な構成を示すブロック図。
FIG. 2 is a block diagram showing a schematic configuration of one block in the memory circuit in FIG. 1;

【図3】図2中のダミーセルアレイ及びその周辺回路の
詳細な構成を示す回路図。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a detailed configuration of a dummy cell array and peripheral circuits in FIG. 2;

【図4】図2中の基準電圧回路と1個のセンスアンプの
構成を示す回路図。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a reference voltage circuit and one sense amplifier in FIG. 2;

【図5】図1中のバイアス回路の具体的な回路の一例を
示す回路図。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a specific circuit of the bias circuit in FIG. 1;

【図6】従来及び本発明の半導体記憶装置の主要部の構
成を示す回路図。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a main part of a conventional semiconductor memory device according to the present invention;

【図7】従来の半導体記憶装置におけるメモリ回路の1
ブロック分の構成を示すブロック図。
FIG. 7 shows one of memory circuits in a conventional semiconductor memory device.
FIG. 2 is a block diagram showing a configuration for blocks.

【図8】図7におけるダミーセルアレイ及びその周辺回
路の構成を示す回路図。
FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of a dummy cell array and peripheral circuits in FIG. 7;

【図9】本体セルアレイ内の選択セルが“1”セルの場
合のデータ読み出し動作を説明するための回路図。
FIG. 9 is a circuit diagram for describing a data read operation when a selected cell in a main body cell array is a “1” cell.

【図10】本体セルアレイ内の選択セルが“0”セルの
場合のデータ読み出し動作を説明するための回路図。
FIG. 10 is a circuit diagram illustrating a data read operation when a selected cell in a main body cell array is a “0” cell.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…電源パッド(Vcc用)、 12…電源パッド(Vss用)、 13…電源配線(Vcc用)、 14…電源配線(Vss用)、 15…セルアレイ、 16…バイアス回路、 17…データ検出回路、 18…行デコーダ、 21…本体セルアレイ、 22…ダミーセルアレイ、 23…センスアンプ(S/A)、 24…基準電圧回路(REF)。 11 power supply pad (for Vcc), 12 power supply pad (for Vss), 13 power supply wiring (for Vcc), 14 power supply wiring (for Vss), 15 cell array, 16 bias circuit, 17 data detection circuit 18 row decoder 21 body cell array 22 dummy cell array 23 sense amplifier (S / A) 24 reference voltage circuit (REF)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 辰巳 雄一 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地1 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内 (72)発明者 鈴木 範明 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地1 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Yuichi Tatsumi 25-1, Ekimae Honcho, Kawasaki-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside (72) Inventor Noriaki Suzuki 25-1, Ekimae Honcho, Kawasaki-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Toshiba Microelectronics Co., Ltd.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれ複数の行線及び列線と、 上記複数の列線のうち隣接する2つの列線間にそれぞれ
接続され、ゲートが上記複数の行線のうち対応するもの
に接続され、それぞれしきい値電圧に対応してデータを
記憶するトランジスタからなる複数のメモリセルと、 データの読み出し時に、データの読み出しを行うメモリ
セルの一端が接続された列線を選択して接地電位に接続
する第1の選択手段と、 データの読み出し時に、データの読み出しを行うメモリ
セルの他端が接続された列線を選択する第2の選択手段
と、 データの読み出し時に、上記第2の選択手段によって選
択された列線に所定の直流バイアス電圧を供給してデー
タを検出するデータ検出回路と、 所定の直流バイアス電圧を発生し、データの読み出し時
に非選択の列線に供給するバイアス回路と、 上記バイアス回路で発生される直流バイアス電圧に応じ
た値の直流電圧を発生し、上記データ検出回路に比較用
基準電圧として供給する比較用基準電圧発生回路とを具
備したことを特徴とする半導体記憶装置。
1. A plurality of row lines and column lines, respectively, connected between two adjacent column lines of the plurality of column lines, and a gate connected to a corresponding one of the plurality of row lines; Select a plurality of memory cells, each of which stores data corresponding to the threshold voltage, and a column line to which one end of the memory cell from which data is read when reading data is connected, and connect to the ground potential First selecting means for selecting, when reading data, second selecting means for selecting a column line to which the other end of the memory cell from which data is read is connected, and when reading data, the second selecting means A data detection circuit that supplies a predetermined DC bias voltage to a column line selected by the data detection circuit and detects data, and generates a predetermined DC bias voltage and supplies the data to a non-selected column line when reading data. And a comparison reference voltage generation circuit that generates a DC voltage having a value corresponding to the DC bias voltage generated by the bias circuit and supplies the DC voltage to the data detection circuit as a comparison reference voltage. A semiconductor memory device characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 前記比較用電圧発生回路は、 直列接続され、途中の任意の直列接続点が接地電位に接
続された複数個のダミーセルと、 上記直列接続された複数個のダミーセルの一端に前記バ
イアス回路で発生される直流バイアス電圧を供給する手
段と、 上記直列接続された複数個のダミーセルの他端に接続さ
れ、前記比較用基準電圧を発生する基準電圧回路とを有
することを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装
置。
2. The comparison voltage generating circuit according to claim 1, wherein the plurality of dummy cells are connected in series, and an arbitrary series connection point in the middle is connected to a ground potential. Means for supplying a DC bias voltage generated by a bias circuit; and a reference voltage circuit connected to the other end of the plurality of dummy cells connected in series and generating the comparison reference voltage. The semiconductor memory device according to claim 1.
【請求項3】 前記基準電圧回路は、 前記比較用基準電圧のノードと電源電圧のノードとの間
に接続された負荷手段と、 上記比較用基準電圧のノードに一端が接続され、前記直
列接続された複数個のダミーセルの他端に他端が接続さ
れた第1のMOSトランジスタと、 入力端子が上記第1のMOSトランジスタの他端に接続
され、出力端子が上記第1のMOSトランジスタのゲー
トに接続された第1のインバータ回路と、 上記電源電圧のノードに一端が接続され、前記直列接続
された複数個のダミーセルの他端に他端が接続された第
2のMOSトランジスタと、 入力端子が上記第2のMOSトランジスタの他端に接続
され、出力端子が上記第2のMOSトランジスタのゲー
トに接続された第2のインバータ回路とを有することを
特徴とする請求項2に記載の半導体記憶装置。
3. The reference voltage circuit includes: a load unit connected between a node of the reference voltage for comparison and a node of a power supply voltage; one end connected to the node of the reference voltage for comparison; A first MOS transistor having the other end connected to the other end of the plurality of dummy cells, an input terminal connected to the other end of the first MOS transistor, and an output terminal connected to the gate of the first MOS transistor. A second MOS transistor having one end connected to a node of the power supply voltage and the other end connected to the other end of the plurality of dummy cells connected in series; and an input terminal. Is connected to the other end of the second MOS transistor, and a second inverter circuit having an output terminal connected to the gate of the second MOS transistor. The semiconductor memory device according to Motomeko 2.
【請求項4】 前記直列接続された複数個のダミーセル
の組が前記行線の数だけ設けられ、これら直列接続され
た複数個のダミーセルのゲートがそれぞれ対応する行線
に接続されていることを特徴とする請求項2に記載の半
導体記憶装置。
4. The method according to claim 1, wherein a plurality of sets of the series-connected dummy cells are provided by the number of the row lines, and the gates of the plurality of series-connected dummy cells are connected to the corresponding row lines, respectively. 3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein:
【請求項5】 前記複数個の各ダミーセルは、それぞれ
低いしきい値電圧に対応したデータを記憶していること
を特徴とする請求項2又は4に記載の半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein each of the plurality of dummy cells stores data corresponding to a low threshold voltage.
【請求項6】 電源電圧が供給される電源パッドと、 上記電源パッドに供給される電源電圧が電源配線を介し
て供給され、複数のブロックを有するメモリ回路とを具
備し、 上記メモリ回路の各ブロック内には、 それぞれ複数の行線及び列線と、 上記複数の列線のうち隣接する2つの列線間にそれぞれ
接続され、ゲートが上記複数の行線のうち対応するもの
に接続され、それぞれしきい値電圧に対応してデータを
記憶するトランジスタからなる複数のメモリセルと、 データの読み出し時に、データの読み出しを行うメモリ
セルの一端が接続された列線を選択して接地電位に接続
する第1の選択手段と、 データの読み出し時に、データの読み出しを行うメモリ
セルの他端が接続された列線を選択する第2の選択手段
と、 データの読み出し時に、上記第2の選択手段によって選
択された列線に所定の直流バイアス電圧を供給してデー
タを検出するデータ検出回路と、 上記電源配線を介して供給される電源電圧から所定の直
流バイアス電圧を発生し、データの読み出し時に非選択
の列線に供給するバイアス回路と、 上記バイアス回路で発生される直流バイアス電圧に応じ
た値の直流電圧を発生し、上記データ検出回路に比較用
基準電圧として供給する比較用基準電圧発生回路とが設
けられていることを特徴とする半導体記憶装置。
6. A power supply pad to which a power supply voltage is supplied, and a memory circuit having a plurality of blocks supplied with a power supply voltage supplied to the power supply pad via a power supply wiring. In the block, a plurality of row lines and column lines are respectively connected between two adjacent column lines of the plurality of column lines, and a gate is connected to a corresponding one of the plurality of row lines. Select a plurality of memory cells, each of which stores data corresponding to the threshold voltage, and a column line to which one end of the memory cell from which data is read when reading data is connected, and connect to the ground potential First selecting means for selecting the column line to which the other end of the memory cell from which data is to be read is connected at the time of reading data; and A data detection circuit for supplying a predetermined DC bias voltage to the column line selected by the second selection means to detect data, and generating a predetermined DC bias voltage from a power supply voltage supplied via the power supply wiring A bias circuit that supplies a non-selected column line when reading data; and a DC voltage having a value corresponding to the DC bias voltage generated by the bias circuit, which is supplied to the data detection circuit as a reference voltage for comparison. And a reference voltage generating circuit for comparison.
【請求項7】 前記比較用電圧発生回路は、 直列接続され、途中の任意の直列接続点が接地電位に接
続された複数個のダミーセルと、 上記直列接続された複数個のダミーセルの一端に前記バ
イアス回路で発生される直流バイアス電圧を供給する手
段と、 上記直列接続された複数個のダミーセルの他端に接続さ
れ、前記比較用基準電圧を発生する基準電圧回路とを有
することを特徴とする請求項6に記載の半導体記憶装
置。
7. The comparison voltage generation circuit, wherein: a plurality of dummy cells which are connected in series, and an arbitrary series connection point in the middle is connected to a ground potential; Means for supplying a DC bias voltage generated by a bias circuit; and a reference voltage circuit connected to the other end of the plurality of dummy cells connected in series and generating the comparison reference voltage. The semiconductor memory device according to claim 6.
【請求項8】 前記基準電圧回路は、 前記比較用基準電圧のノードと電源電圧のノードとの間
に接続された負荷手段と、 上記比較用基準電圧のノードに一端が接続され、前記直
列接続された複数個のダミーセルの他端に他端が接続さ
れた第1のMOSトランジスタと、 入力端子が上記第1のMOSトランジスタの他端に接続
され、出力端子が上記第1のMOSトランジスタのゲー
トに接続された第1のインバータ回路と、 上記電源電圧のノードに一端が接続され、前記直列接続
された複数個のダミーセルの他端に他端が接続された第
2のMOSトランジスタと、 入力端子が上記第2のMOSトランジスタの他端に接続
され、出力端子が上記第2のMOSトランジスタのゲー
トに接続された第2のインバータ回路とを有することを
特徴とする請求項7に記載の半導体記憶装置。
8. The reference voltage circuit, a load means connected between a node of the reference voltage for comparison and a node of a power supply voltage, one end connected to the node of the reference voltage for comparison, and the series connection A first MOS transistor having the other end connected to the other end of the plurality of dummy cells, an input terminal connected to the other end of the first MOS transistor, and an output terminal connected to the gate of the first MOS transistor. A second MOS transistor having one end connected to a node of the power supply voltage and the other end connected to the other end of the plurality of dummy cells connected in series; and an input terminal. Is connected to the other end of the second MOS transistor, and a second inverter circuit having an output terminal connected to the gate of the second MOS transistor. The semiconductor memory device according to Motomeko 7.
【請求項9】 前記直列接続された複数個のダミーセル
の組が前記行線の数だけ設けられ、これら直列接続され
た複数個のダミーセルのゲートがそれぞれ対応する行線
に接続されていることを特徴とする請求項7に記載の半
導体記憶装置。
9. The method according to claim 1, wherein a plurality of sets of the series-connected dummy cells are provided by the number of the row lines, and a gate of each of the series-connected dummy cells is connected to a corresponding row line. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein:
【請求項10】 前記複数個の各ダミーセルは、それぞ
れ低いしきい値電圧に対応したデータを記憶しているこ
とを特徴とする請求項7又は9に記載の半導体記憶装
置。
10. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein each of the plurality of dummy cells stores data corresponding to a low threshold voltage.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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