JPH10260646A - Liquid crystal display device - Google Patents
Liquid crystal display deviceInfo
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- JPH10260646A JPH10260646A JP6470597A JP6470597A JPH10260646A JP H10260646 A JPH10260646 A JP H10260646A JP 6470597 A JP6470597 A JP 6470597A JP 6470597 A JP6470597 A JP 6470597A JP H10260646 A JPH10260646 A JP H10260646A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、アクティブマトリ
クス型の液晶表示装置に関するものである。The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】図4はアレー基板を用いた従来の液晶表
示装置の構成図であり、この図を用いて従来のアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置について説明する。図4
(a),(b)において、1はガラス基板、2はガラス基板1
上に配置された偏光板、3は、例えばアクリル系樹脂か
らなる有機絶縁膜、4は例えばTi/Al等の複数の金属
からなるソース電極、5はブラックマトリクス、6はカ
ラーフィルタ層、7は液晶層、8はITO(透明導電
膜)、9はアレー基板、10は正規方向にチルトした液晶
分子、11は正規方向とは逆方向にチルトした液晶分子、
12は逆チルトドメインである。ここで、下方のガラス基
板1には、ソース電極4が形成された後、有機高分子よ
りなる有機絶縁膜3が形成され、この有機絶縁膜3上に
ITO8が形成されており、このITO8は有機絶縁膜
3に形成されたコンタクトホールを通じて後述するドレ
イン電極に接続されており、このガラス基板1はアレー
基板9として構成されている。また、図4に示すように
ITO8により形成された画素電極の電気的分離領域は
データ電極の上方となっている。従来のこのような技術
は、例えば、特開昭62−112588号公報に開示されてい
る。2. Description of the Related Art FIG. 4 is a block diagram of a conventional liquid crystal display device using an array substrate. The conventional active matrix liquid crystal display device will be described with reference to FIG. FIG.
(a) and (b), 1 is a glass substrate, 2 is a glass substrate 1
The polarizing plate 3 disposed above is an organic insulating film made of, for example, an acrylic resin, 4 is a source electrode made of a plurality of metals such as Ti / Al, 5 is a black matrix, 6 is a color filter layer, 7 is A liquid crystal layer, 8 is ITO (transparent conductive film), 9 is an array substrate, 10 is a liquid crystal molecule tilted in a normal direction, 11 is a liquid crystal molecule tilted in a direction opposite to the normal direction,
12 is a reverse tilt domain. Here, after the source electrode 4 is formed on the lower glass substrate 1, an organic insulating film 3 made of an organic polymer is formed, and ITO 8 is formed on the organic insulating film 3; The glass substrate 1 is configured as an array substrate 9 through a contact hole formed in the organic insulating film 3 and connected to a drain electrode described later. Further, as shown in FIG. 4, the electrical isolation region of the pixel electrode formed of ITO 8 is above the data electrode. Such a conventional technique is disclosed, for example, in JP-A-62-112588.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
アクティブマトリクス型液晶表示装置は、アレー基板9
においては、画素電極が配線上に来ているが、図5
(a),(b)に示すように有機絶縁膜3をコートしても、実
際には3〜4μm程度のコートでは完全に有機絶縁膜3
の表面における突起の傾斜を解消することができない。
図5(a)はアレー基板上に有機絶縁膜を塗布した場合の
ゲート電極に沿った断面図、図5(b)はアレー基板上に
有機絶縁膜を塗布した場合のソース電極に沿った断面図
であり、図5(a)において、13はゲート電極、14はドレ
イン電極、15はゲート絶縁膜、16はa−Si層である。
有機絶縁膜3上のITO8は、図5(a)に示すようにコ
ンタクトホール17を通じてドレイン電極14に接続してい
る。この図から明らかなようにTFT及びゲート電極13
又はソース電極4による配線上では断面部分の傾斜θi
が残ることから、ゲート電極13と画素電極の間の電気力
線18が図4(b)に示すように歪むためプレチルト角が異
なる逆チルトドメイン12が発生してしまう。このような
逆チルトドメイン12の発生のために大幅なコントラスト
低下を招く結果となる。このため、従来はこの領域を隠
すため配線を太くするか、あるいはアレー基板9に対す
る対向基板19に形成されたブラックマトリクス5の幅を
配線幅より太くする必要があった。この結果、開口率が
低下してしまうという課題を有していた。However, the conventional active matrix type liquid crystal display device has a problem that the array substrate 9
In FIG. 5, the pixel electrode is on the wiring,
Even if the organic insulating film 3 is coated as shown in (a) and (b), the organic insulating film 3 is actually completely coated with a coat of about 3 to 4 μm.
The inclination of the projection on the surface cannot be eliminated.
FIG. 5A is a cross-sectional view along the gate electrode when an organic insulating film is applied on the array substrate, and FIG. 5B is a cross-sectional view along the source electrode when the organic insulating film is applied on the array substrate. In FIG. 5A, reference numeral 13 denotes a gate electrode, 14 denotes a drain electrode, 15 denotes a gate insulating film, and 16 denotes an a-Si layer.
The ITO 8 on the organic insulating film 3 is connected to the drain electrode 14 through the contact hole 17 as shown in FIG. As is apparent from FIG.
Alternatively, the inclination θi of the cross section on the wiring formed by the source electrode 4
4B, the lines of electric force 18 between the gate electrode 13 and the pixel electrode are distorted as shown in FIG. 4B, so that the reverse tilt domains 12 having different pretilt angles are generated. Such a generation of the reverse tilt domain 12 results in a significant decrease in contrast. For this reason, conventionally, it was necessary to make the wiring thicker to hide this area, or to make the width of the black matrix 5 formed on the counter substrate 19 with respect to the array substrate 9 larger than the wiring width. As a result, there is a problem that the aperture ratio is reduced.
【0004】本発明の目的は、上記の問題を解決するた
め、ブラックマトリクスの幅を配線幅より細くしても、
コントラスト低下を招くことなく高開口率を達成するこ
とができる液晶表示装置を提供することにある。[0004] An object of the present invention is to solve the above-described problem even if the width of the black matrix is made smaller than the wiring width.
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device that can achieve a high aperture ratio without causing a decrease in contrast.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明の液晶表示装置は、第1の基板上に光遮蔽性
物質からなる走査線,信号線及びその交点部に非線形素
子を形成し、これらの走査線,信号線及び非線形素子が
形成された前記第1の基板上に有機高分子よりなる絶縁
膜を形成し、この絶縁膜上にドレインと電気的に接続さ
れた透明導電膜を形成してなるアレー基板を用いて作成
された液晶表示装置において、液晶分子の配向膜界面で
のプレチルト角をθp、配線上にコートされた有機高分
子よりなる絶縁膜表面の平面部に対する最大傾斜角をθ
iとした場合に、(θp−θi)/2≧0゜の関係を満た
し、かつ前記信号線の幅をWs、前記第1の基板に対す
る対向基板上に設けられたブラックマトリクスの幅をW
bとした場合に、Wb<Wsの関係を満たすものであ
る。In order to solve the above-mentioned problems, a liquid crystal display device of the present invention comprises a scanning line and a signal line made of a light-shielding substance on a first substrate and a non-linear element at an intersection thereof. An insulating film made of an organic polymer is formed on the first substrate on which the scanning lines, signal lines, and non-linear elements are formed, and a transparent conductive material electrically connected to a drain is formed on the insulating film. In a liquid crystal display device formed using an array substrate formed with a film, the pretilt angle of the liquid crystal molecules at the interface of the alignment film is θp, and the plane of the insulating film surface made of an organic polymer coated on the wiring is The maximum inclination angle is θ
When i, the relationship of (θp−θi) / 2 ≧ 0 ≧ is satisfied, the width of the signal line is Ws, and the width of the black matrix provided on the counter substrate with respect to the first substrate is W.
When b is satisfied, the relationship of Wb <Ws is satisfied.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態ついて
図1〜図5を用いて説明する。図1は本発明の実施の形
態による液晶表示装置の構成図であり、図4及び図5に
基づいて説明した部材に対応する部材については同一符
号を付して説明を省略する。図4(a),(b)は、有機絶縁
膜3として有機高分子(アクリル系)の一例として日本合
成ゴム社製のPC302(商品名)を塗布したアレー基板9の
ソース電極4に沿った断面を模式的に示している。この
図から明らかなように有機絶縁膜3を塗布しても配線上
の突起は十分平滑にすることは難しく、特に配線上が盛
り上がった形になってしまい傾斜θiが残ってしまう。
また、図2は有機絶縁膜の塗布膜厚と塗布後表面段差及
び表面最大傾斜θiとの関係を示す測定図である。この
図2から明らかなように、アレー基板9の有機絶縁膜3
の塗布前の最大段差は1.5μmであり、3μm程度までは
膜厚の増加と共に段差は低減される傾向を示すが、それ
以上の膜厚になると飽和傾向となって膜厚を厚く塗って
もあまり効果がないことが判る。図3は有機絶縁膜の塗
布膜厚と透過率の変化との関係を示す測定図である。有
機絶縁膜3は画素電極の下に成膜されているため、図3
から明らかなように、有機絶縁膜3の膜厚が厚くなるに
従って透過率が減少し、液晶表示装置の特性としては好
ましくないことが判る。一般的に、液晶表示装置の特性
としては90%以上の透過率が好ましいことから、有機絶
縁膜3の膜厚は3.5μm以下とする必要がある。以上の結
果より液晶表示装置として良好な透過率を得るために有
機絶縁膜3の膜厚を3μm程度とした場合には、有機絶
縁膜3の塗布後の表面段差は0.4μm程度、平坦表面に対
する傾斜は8゜程度残ってしまうことが判明した。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a configuration diagram of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention. Members corresponding to those described with reference to FIGS. 4 and 5 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. FIGS. 4A and 4B show the organic insulating film 3 along the source electrode 4 of the array substrate 9 coated with PC302 (trade name) manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. as an example of an organic polymer (acrylic). The cross section is schematically shown. As is clear from this figure, even if the organic insulating film 3 is applied, it is difficult to make the protrusions on the wiring sufficiently smooth. In particular, the wiring has a raised shape and the inclination θi remains.
FIG. 2 is a measurement diagram showing the relationship between the applied film thickness of the organic insulating film, the surface step after application, and the maximum surface inclination θi. As is apparent from FIG. 2, the organic insulating film 3 of the array substrate 9 is formed.
The maximum step before coating is 1.5 μm, and up to about 3 μm, the step tends to decrease with an increase in film thickness. It turns out that it is not so effective. FIG. 3 is a measurement diagram showing a relationship between a coating film thickness of an organic insulating film and a change in transmittance. Since the organic insulating film 3 is formed below the pixel electrode, FIG.
As is clear from FIG. 5, the transmittance decreases as the thickness of the organic insulating film 3 increases, which is not preferable as a characteristic of the liquid crystal display device. Generally, since the transmittance of the liquid crystal display device is preferably 90% or more, the thickness of the organic insulating film 3 needs to be 3.5 μm or less. From the above results, when the thickness of the organic insulating film 3 is set to about 3 μm in order to obtain good transmittance as a liquid crystal display device, the surface step after application of the organic insulating film 3 is about 0.4 μm, It was found that the inclination remained about 8 °.
【0007】(表1)には本実施形態のアレー基板9の構
成において前述した日本合成ゴム社製のPC302を有機
絶縁膜3として3μm塗布し、90℃でプリベークした
後、ドレイン電極14上に孔のあるマスク(図示省略)を用
いて露光現像してコンタクトホール17を作成し、220℃
でポストベークした後、その上にITO8を成膜したア
レー基板9上に塗布する配向膜の種類を変えてプレチル
ト角を変化させた場合のプレチルト角θp及び(θp−
θi)/2と逆チルトドメインの発生の有無を示した。[0007] Table 1 shows that, in the structure of the array substrate 9 of the present embodiment, the above-mentioned PC302 manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. was applied as the organic insulating film 3 by 3 µm and prebaked at 90 ° C. Exposure and development were performed using a mask with holes (not shown) to create contact holes 17 at 220 ° C.
After the post-baking, the pretilt angles θp and (θp−) when the pretilt angle is changed by changing the type of the alignment film applied on the array substrate 9 on which the ITO 8 is formed.
θi) / 2 and the presence or absence of the reverse tilt domain.
【0008】[0008]
【表1】 [Table 1]
【0009】配向膜としてはプレチルト角θp=1゜の
配向材である日本合成ゴム社製のAL1051(商品名)と、プ
レチルト角θp=7゜の配向材として日本合成ゴム社製
のJALS-246-R1とを混合し、各種プレチルト角の液晶表
示装置を作成した。この実験結果より(θp−θi)/2
≧0゜の場合に逆チルトドメイン12の発生が抑えられて
いることが判った。この結果を液晶分子の配向を考慮し
ながら考察してみる。As an alignment film, AL1051 (trade name) manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd., which is an alignment material having a pretilt angle θp = 1 °, and JALS-246 manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd., as an alignment material having a pretilt angle θp = 7 °. -R1 was mixed to produce liquid crystal display devices with various pretilt angles. From this experimental result, (θp−θi) / 2
It was found that the generation of the reverse tilt domain 12 was suppressed when ≧ 0 °. This result will be considered considering the orientation of liquid crystal molecules.
【0010】図1(a)は断面の傾斜角をθi、プレチル
ト角をθpとした場合に、(θp−θi)/2≧0゜の関
係を満たす本実施形態の液晶表示装置において、駆動電
圧の非印加時の液晶分子10の配向状態を模式的に示して
おり、図中20はミッドブレーン分子である。これに対し
て、図4(a)は傾斜角θi、プレチルト角θpがθp−
θi<0゜の関係となった従来の液晶表示装置におい
て、駆動電圧の非印加時の液晶分子の配向状態を模式的
に示したものである。ここで、(θp−θi)/2は液晶
層7の厚さ方向中心位置の液晶分子の傾斜角を示してい
る。これをミッドブレーン分子20のプレチルト角θpm
と定義する。FIG. 1 (a) shows the driving voltage in the liquid crystal display device of the present embodiment which satisfies the relationship (θp−θi) / 2 ≧ 0 ° when the inclination angle of the cross section is θi and the pretilt angle is θp. 3 schematically shows the alignment state of the liquid crystal molecules 10 when no voltage is applied. In FIG. On the other hand, FIG. 4A shows that the inclination angle θi and the pretilt angle θp are θp−
9 schematically shows the orientation state of liquid crystal molecules when a driving voltage is not applied in a conventional liquid crystal display device having a relationship of θi <0 °. Here, (θp−θi) / 2 indicates the tilt angle of the liquid crystal molecules at the center position in the thickness direction of the liquid crystal layer 7. This is defined as the pretilt angle θpm of the midbrain molecule 20.
Is defined.
【0011】図1(a)に示す駆動電圧の非印加時の本実
施形態の液晶表示装置ではθpm≧0となる。このた
め、駆動電圧の印加時に電気力線18により横電界がかか
っても液晶分子に作用するトルクが小さくなるため、図
1(b)に示すように有機絶縁膜3の表面傾斜部上の液晶
分子の立上り方向は正規方向になる。これに対して、図
4(a)に示す駆動電圧の非印加時においてθp−θi>
0となる従来の液晶表示装置ではθpm<0となり、液
晶分子11が初期状態から正規のチルト方向と逆方向に若
干立っているため、駆動電圧の印加時に電気力線18によ
り横電界がかかると液晶分子に作用するトルクが増大す
る。このため、図4(b)に示すように有機絶縁膜3の表
面傾斜部上の液晶分子11が正規方向とは逆方向に立ち上
がるので、逆チルトドメイン12が発生する。従って、従
来の液晶表示装置では、表示面での逆チルトドメイン12
の影響を隠すためには、対向基板19のブラックマトリク
ス5の幅を図4に示すようにソース電極4による信号線
の幅より広くする必要がある。In the liquid crystal display device of the present embodiment when no drive voltage is applied as shown in FIG. 1A, θpm ≧ 0. For this reason, even if a lateral electric field is applied by the electric lines of force 18 when the driving voltage is applied, the torque acting on the liquid crystal molecules is reduced, so that the liquid crystal on the inclined surface of the organic insulating film 3 is reduced as shown in FIG. The rising direction of the molecule is the normal direction. On the other hand, when the driving voltage is not applied as shown in FIG.
In the conventional liquid crystal display device which becomes 0, θpm <0, and the liquid crystal molecules 11 slightly stand in the direction opposite to the normal tilt direction from the initial state. The torque acting on the liquid crystal molecules increases. Therefore, as shown in FIG. 4B, the liquid crystal molecules 11 on the inclined surface of the organic insulating film 3 rise in the direction opposite to the normal direction, and the reverse tilt domain 12 is generated. Therefore, in the conventional liquid crystal display device, the reverse tilt domain 12
In order to hide the influence of the above, it is necessary to make the width of the black matrix 5 of the counter substrate 19 wider than the width of the signal line formed by the source electrode 4 as shown in FIG.
【0012】従来の液晶表示装置に対して、本実施形態
の液晶表示装置によれば、(表1)に示すような条件に
て、配向膜のプレチルト角θpを4゜以上とすることに
より逆チルトドメイン12の発生を防止することができる
ため、対向基板19のブラックマトリクス5で逆チルトド
メイン12の影響を隠す必要がない。そこで、本実施形態
の液晶表示装置では、ゲート電極13による信号線の幅を
9μmとし、ブラックマトリクス5の幅を6μmとした。
ブラックマトリクス5の配線メタルが表示面に対して剥
き出しになると、そこでの反射率が大きくなるためこれ
を抑えるために重要となる。このようなブラックマトリ
クス5の素材としては、特に、低反射の酸化クロム或い
は樹脂等の配線メタルより低反射率の材料が好ましい。In contrast to the conventional liquid crystal display device, according to the liquid crystal display device of this embodiment, the pretilt angle θp of the alignment film is set to 4 ° or more under the conditions shown in (Table 1). Since the occurrence of the tilt domain 12 can be prevented, it is not necessary to hide the influence of the reverse tilt domain 12 in the black matrix 5 of the counter substrate 19. Therefore, in the liquid crystal display device of the present embodiment, the width of the signal line formed by the gate electrode 13 is 9 μm, and the width of the black matrix 5 is 6 μm.
If the wiring metal of the black matrix 5 is exposed on the display surface, the reflectance there will be large, so it is important to suppress this. As a material of such a black matrix 5, a material having a lower reflectance than a wiring metal such as low-reflection chromium oxide or resin is particularly preferable.
【0013】画面サイズ及び画素数をそれぞれ12.1イン
チ及びの1280トリオ*768ドットとした本実施形態の液
晶表示装置にて、その表示特性を測定してみると、開口
率は78%、透過率は8.5%、コントラストは≧300という
測定値が得られ、液晶表示装置として優れた表示特性を
示した。一方、図4に基づいて説明した従来構成の液晶
表示装置での測定値は、それぞれ開口率が70%、透過率
が7.6%、コントラストが300であった。When the display characteristics of the liquid crystal display device of this embodiment in which the screen size and the number of pixels are 12.1 inches and 1280 trios * 768 dots are measured, the aperture ratio is 78%, and the transmittance is 78%. A measured value of 8.5% and a contrast of ≧ 300 were obtained, showing excellent display characteristics as a liquid crystal display device. On the other hand, the measured values of the conventional liquid crystal display device described with reference to FIG. 4 were 70% in aperture ratio, 7.6% in transmittance, and 300 in contrast, respectively.
【0014】[0014]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
装置によれば、液晶分子の配向膜界面でのプレチルト角
をθp、配線上にコートされた有機高分子よりなる絶縁
膜表面の平面部に対する最大傾斜角をθiとした場合
に、(θp−θi)/2≧0゜の関係を満たし、かつ信号
線の幅をWs、第1の基板に対する対向基板上に設けら
れたブラックマトリクスの幅をWbとした場合に、Wb
<Wsの関係を満たすことにより、有機絶縁膜の表面傾
斜部上の液晶分子が正規方向とは逆方向に立ち上がるこ
とを防止し、逆チルトドメインの発生を防止することが
できるため、対向基板のブラックマトリクスの幅をアレ
ー基板の配線の幅より細くすることができる。この結
果、開口率及び透過率が高い液晶表示装置を容易に実現
することができる。As described above, according to the liquid crystal display device of the present invention, the pretilt angle of the liquid crystal molecules at the interface of the alignment film is θp, and the plane of the surface of the insulating film made of the organic polymer coated on the wiring is When the maximum inclination angle with respect to the portion is θi, the relationship of (θp−θi) / 2 ≧ 0 ° is satisfied, the width of the signal line is Ws, and the black matrix provided on the counter substrate with respect to the first substrate. When the width is Wb, Wb
By satisfying the relationship of <Ws, the liquid crystal molecules on the inclined surface of the organic insulating film can be prevented from rising in the direction opposite to the normal direction, and the generation of the reverse tilt domain can be prevented. The width of the black matrix can be made smaller than the width of the wiring of the array substrate. As a result, a liquid crystal display device having a high aperture ratio and high transmittance can be easily realized.
【図1】本発明の実施の形態による液晶表示装置の構成
図である。FIG. 1 is a configuration diagram of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
【図2】本実施形態の液晶表示装置における有機絶縁膜
の塗布膜厚と塗布後表面段差と及び表面最大傾斜との関
係を示す測定図である。FIG. 2 is a measurement diagram showing a relationship between a coating film thickness of an organic insulating film, a surface step after coating, and a maximum surface inclination in the liquid crystal display device of the present embodiment.
【図3】本実施形態の液晶表示装置における有機絶縁膜
の塗布膜厚と透過率の変化との関係を示す測定図であ
る。FIG. 3 is a measurement diagram showing a relationship between a coating film thickness of an organic insulating film and a change in transmittance in the liquid crystal display device of the present embodiment.
【図4】アレー基板を用いた従来の液晶表示装置の構成
図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a conventional liquid crystal display device using an array substrate.
【図5】従来の液晶表示装置におけるアレー基板の断面
図である。FIG. 5 is a sectional view of an array substrate in a conventional liquid crystal display device.
1…ガラス基板、 2…偏光板、 3…有機絶縁膜、
4…ソース電極、 5…ブラックマトリクス、 6…カ
ラーフィルタ、 7…液晶層、 8…ITO(透明導電
膜)、 10,11…液晶分子、 12…逆チルトドメイン、
13…ゲート電極、14…ドレイン電極、 15…ゲート絶
縁膜、 16…a−Si層、 17…コンタクトホール、 1
8…電気力線、 19…対向基板、 20…ミッドプレーン
分子。1: glass substrate, 2: polarizing plate, 3: organic insulating film,
4: Source electrode, 5: Black matrix, 6: Color filter, 7: Liquid crystal layer, 8: ITO (transparent conductive film), 10, 11: Liquid crystal molecule, 12: Reverse tilt domain,
13 ... gate electrode, 14 ... drain electrode, 15 ... gate insulating film, 16 ... a-Si layer, 17 ... contact hole, 1
8 ... electric lines of force, 19 ... counter substrate, 20 ... midplane molecule.
Claims (1)
査線,信号線及びその交点部に非線形素子を形成し、 これらの走査線,信号線及び非線形素子が形成された前
記第1の基板上に有機高分子よりなる絶縁膜を形成し、 この絶縁膜上にドレインと電気的に接続された透明導電
膜を形成してなるアレー基板を用いて作成された液晶表
示装置において、 液晶分子の配向膜界面でのプレチルト角をθp、配線上
にコートされた有機高分子よりなる絶縁膜表面の平面部
に対する最大傾斜角をθiとした場合に、 (θp−θi)/2≧0゜ の関係を満たし、 かつ前記信号線の幅をWs、前記第1の基板に対する対
向基板上に設けられたブラックマトリクスの幅をWbと
した場合に、 Wb<Ws の関係を満たしていることを特徴とする液晶表示装置。A non-linear element is formed on a first substrate at a scanning line and a signal line made of a light-shielding substance and at an intersection thereof, and the first line formed with the scanning line, the signal line and the non-linear element is formed. A liquid crystal display device formed using an array substrate formed by forming an insulating film made of an organic polymer on the substrate of above, and forming a transparent conductive film electrically connected to the drain on the insulating film, When the pretilt angle of the molecule at the interface of the alignment film is θp and the maximum inclination angle of the surface of the insulating film made of the organic polymer coated on the wiring with respect to the plane portion is θi, (θp−θi) / 2 ≧ 0 ° Where Wb is the width of the signal line and Wb is the width of the black matrix provided on the counter substrate with respect to the first substrate, the relationship Wb <Ws is satisfied. Liquid crystal display device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6470597A JPH10260646A (en) | 1997-03-18 | 1997-03-18 | Liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6470597A JPH10260646A (en) | 1997-03-18 | 1997-03-18 | Liquid crystal display device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10260646A true JPH10260646A (en) | 1998-09-29 |
Family
ID=13265841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6470597A Pending JPH10260646A (en) | 1997-03-18 | 1997-03-18 | Liquid crystal display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10260646A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100449368C (en) * | 2002-01-25 | 2009-01-07 | 三星电子株式会社 | LCD equipment |
-
1997
- 1997-03-18 JP JP6470597A patent/JPH10260646A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100449368C (en) * | 2002-01-25 | 2009-01-07 | 三星电子株式会社 | LCD equipment |
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