JPH10239814A - Processing liquid heating device for developing device - Google Patents

Processing liquid heating device for developing device

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Publication number
JPH10239814A
JPH10239814A JP9043396A JP4339697A JPH10239814A JP H10239814 A JPH10239814 A JP H10239814A JP 9043396 A JP9043396 A JP 9043396A JP 4339697 A JP4339697 A JP 4339697A JP H10239814 A JPH10239814 A JP H10239814A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing liquid
heat source
source member
liquid heating
processing
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9043396A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshifumi Nakamura
善文 中村
Shoji Negoro
尚司 根来
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Noritsu Koki Co Ltd
Original Assignee
Noritsu Koki Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Noritsu Koki Co Ltd filed Critical Noritsu Koki Co Ltd
Priority to JP9043396A priority Critical patent/JPH10239814A/en
Publication of JPH10239814A publication Critical patent/JPH10239814A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a processing liquid heating device to be attached to a circulation passage exchangeable only for a heat source member by assembling the heat source member detachably in a heat conducting body which surrounds the conduit of the processing liquid to conduct heat. SOLUTION: This processing liquid heating device 80 is provided with a processing liquid conduit 81 having an inlet 81a and an outlet 81b to be connected to a piping hose which constitutes the circulation passage 51, an aluminum heat conducting body 82 formed into substantially rectangular parallelepiped and cast integrally with the processing liquid conduit 81 to be fitted around the conduit 81, and a rod heater 83 as the heat source member attached in the heat conducting body 82. The heater 82 is attached to the attachment hole 82b as a recess formed in the heat conducting body 82 along the longitudinal axis 80a of the processing liquid heating device 80. Thereby, the heater 83 can be detached from the recess 82b, so that when the heater 83 is out of work, only the heater 83 has to be exchanged.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、写真感光材料を現
像するための処理液を収容する処理タンクと、前記処理
タンクの上部と連通しているサブタンクと、前記サブタ
ンクと前記処理タンクの下部とを連結する循環流路とを
備えた現像処理装置のための処理液加熱装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a processing tank for storing a processing solution for developing a photographic light-sensitive material, a sub-tank communicating with an upper part of the processing tank, a sub-tank and a lower part of the processing tank. And a circulating flow path for connecting the processing liquid to a processing liquid heating apparatus for a developing processing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】フィルム、印画紙などの感光材料を現像
処理するための現像処理装置では、現像、定着、水洗な
どの処理槽に現像液、定着液、水洗水などの各処理液が
充填されており、これらの処理液の温度を管理するた
め、処理液加熱装置が用いられている。従来、処理液加
熱装置は、処理タンクの上部と連通しているサブタンク
に沈められるカートリッジ式ヒータによって構成されて
おり、このヒータによって加熱されたサブタンクの処理
液を循環流路を介して処理タンクに流すことによって処
理タンク内の処理液の温度を管理するようになってい
る。
2. Description of the Related Art In a developing apparatus for developing a photosensitive material such as a film or a photographic paper, a processing tank for developing, fixing and washing is filled with each processing solution such as a developing solution, a fixing solution and a washing water. In order to control the temperature of these processing liquids, a processing liquid heating device is used. Conventionally, the processing liquid heating device is configured by a cartridge type heater submerged in a sub tank communicating with the upper part of the processing tank, and the processing liquid in the sub tank heated by the heater is supplied to the processing tank through a circulation flow path. The temperature of the processing liquid in the processing tank is controlled by flowing.

【0003】さらに、特開平5−080479号公報に
よる処理液加熱装置は、熱源である円柱状のヒータを中
心として処理液流通管が互いに等間隔でかつヒータから
等しい距離をもって配置した状態で成形型内に設置し、
その後成形型内へ熱伝導ブロックとなる溶融金属を充填
することによって製作される。このように製作された処
理液加熱装置の処理液流通管を対応する循環路に装着す
ることにより、循環路を流れる処理液は処理液流通管の
領域で加熱され、その熱エネルギーを処理タンクへ運び
込むことによって処理タンク内の処理液の温度が管理さ
れる。
Further, a processing liquid heating apparatus according to Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-080479 discloses a molding die in which processing liquid circulation pipes are arranged at equal intervals from each other and at equal distances from a heater centering on a cylindrical heater as a heat source. Installed in the
Thereafter, the mold is manufactured by filling a molten metal serving as a heat conduction block into a mold. By mounting the processing liquid flow pipe of the processing liquid heating device manufactured in this way on the corresponding circulation path, the processing liquid flowing through the circulation path is heated in the region of the processing liquid flow pipe, and the heat energy is transferred to the processing tank. By carrying in, the temperature of the processing liquid in the processing tank is controlled.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】前者の処理液加熱装置
に比べ後者の装置では、サブタンクからカートリッジ式
ヒータを収容するスペースを省略でき、サブタンクから
の処理液の蒸発量を減少できるとともに処理液に対する
熱伝導が穏やかに行われるという利点が得られるが、熱
源としてのヒータと処理液流通管を熱伝導ブロックの成
形型の中に配置して共鋳込みにより一体化を図っている
ので、断線等でヒータが故障した場合でもヒータだけを
交換するわけにはいかず、処理液加熱装置全体を交換し
なければならないという欠点がある。本発明の目的は、
熱源部材のみの交換が可能な、循環流路に装着されるタ
イプの処理液加熱装置を提供することである。
In the latter apparatus, the space for accommodating the cartridge type heater from the sub-tank can be omitted, the amount of evaporation of the processing liquid from the sub-tank can be reduced, and the processing liquid can be reduced. The advantage of gentle heat conduction is obtained, but the heater as a heat source and the processing liquid flow pipe are arranged in the mold of the heat conduction block and integrated by co-casting. Even if the heater breaks down, it is not possible to replace only the heater, and there is a disadvantage that the entire processing liquid heating device must be replaced. The purpose of the present invention is
It is an object of the present invention to provide a processing liquid heating apparatus of a type that can be replaced with a circulation flow path and that can replace only a heat source member.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による現像処理装置のための処理液加熱装置
は、循環流路に接続される流入口と流出口とを有する処
理液流通管と、この処理液流通管を熱伝導可能に包み込
んでいる熱伝導体と、この熱伝導体に設けられた凹部に
着脱自在に装着された熱源部材を備えている。
In order to achieve the above object, a processing liquid heating apparatus for a development processing apparatus according to the present invention comprises a processing liquid circulation device having an inlet and an outlet connected to a circulation flow path. The apparatus includes a tube, a heat conductor enclosing the processing liquid flow tube in a heat conductive manner, and a heat source member detachably mounted in a recess provided in the heat conductor.

【0006】この構成では、熱源部材は自由に凹部から
外すことができるので、熱源部材が故障した場合熱源部
材のみ交換すればよい。熱源部材を熱伝導体に設けられ
た凹部に固定する簡単な形態として、セットビスを用い
ることが、製作コストを考慮すれば、まず提案される。
In this configuration, since the heat source member can be freely removed from the recess, only the heat source member needs to be replaced when the heat source member fails. As a simple form of fixing the heat source member to the concave portion provided in the heat conductor, use of a set screw is firstly proposed in view of manufacturing cost.

【0007】本発明の好適な実施形態の1つとして、前
記熱伝導体を分割構造で形成し、この分割体を組み付け
ることにより、熱源部材を凹部内に固定することも提案
される。この場合、分割体によって熱源部材を挟み込む
ように構成することにより、凹部の内面と熱源部材を強
固に接触させることができ、熱源部材から熱伝導体への
良好な熱伝導が得られる。
As a preferred embodiment of the present invention, it is proposed that the heat conductor is formed in a divided structure and the heat source member is fixed in the recess by assembling the divided body. In this case, by configuring the heat source member to be sandwiched by the divided bodies, the inner surface of the concave portion and the heat source member can be firmly contacted, and good heat conduction from the heat source member to the heat conductor can be obtained.

【0008】さらに、好適な実施形態の1つとして、前
記凹部を弾性的にその断面積を変更するように形成し、
熱源部材を熱伝導体の弾性力により凹部内に固定するも
のもある。例えば、凹部を長手方向に延びたスリットに
よって開口された孔として形成すると、そのスリットの
間隔を縮めるようにネジ締めすることにより、孔の断面
積が小さくなるので、熱源部材は孔にしっかりと密接し
て固定される。この形態においても、熱源部材は熱伝導
体に着脱自在に装着されるとともに、熱源部材から熱伝
導体への良好な熱伝導が得られる。
Further, as one of preferred embodiments, the concave portion is formed so as to elastically change its cross-sectional area,
Some heat source members are fixed in the recesses by the elastic force of the heat conductor. For example, if the concave portion is formed as a hole opened by a slit extending in the longitudinal direction, the cross-sectional area of the hole is reduced by tightening the screw so as to reduce the interval between the slits. And fixed. Also in this embodiment, the heat source member is detachably attached to the heat conductor, and good heat conduction from the heat source member to the heat conductor is obtained.

【0009】さらに、好適な実施形態の1つとして、前
記凹部の断面は熱源部材の断面より大きく形成されてお
り、この熱源部材は熱伝導体と熱源部材の両者に対して
付勢力を与えるバネ部材をを介して凹部内に固定される
ものもある。例えば、このようなバネ部材としては二重
に巻き回された巻き板バネが提案されるが、この巻き板
バネの外径は熱伝導体の凹部の内径より大きくするとと
もにこの巻き板バネの内径は熱源部材の外径より小さく
設計される。これにより、巻き板バネの内周面側に熱源
部材が密着支持され、巻き板バネの外周面側が熱伝導体
の凹部内に密着する。やはりこの場合でも、熱源部材は
熱伝導体に着脱自在に装着されるとともに、熱源部材か
ら熱伝導体への良好な熱伝導が得られる。本発明のその
他の特徴及び利点は、以下図面を用いた発明の実施の形
態の説明で明らかになるだろう。
Further, as one preferred embodiment, the cross section of the concave portion is formed to be larger than the cross section of the heat source member, and the heat source member applies a spring to both the heat conductor and the heat source member. Some are fixed in the recess through members. For example, a double-wound wound leaf spring is proposed as such a spring member. The outer diameter of this wound leaf spring is set to be larger than the inner diameter of the concave portion of the heat conductor and the inner diameter of the wound leaf spring is increased. Is designed to be smaller than the outer diameter of the heat source member. Thus, the heat source member is closely supported on the inner peripheral surface side of the wound leaf spring, and the outer peripheral surface side of the wound leaf spring is closely adhered to the concave portion of the heat conductor. Also in this case, the heat source member is detachably attached to the heat conductor, and good heat conduction from the heat source member to the heat conductor is obtained. Other features and advantages of the present invention will become apparent from the following description of the embodiments with reference to the drawings.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図1には、本発明による処理液加
熱装置を搭載した現像処理装置1の全体構成図が示され
ている。この現像処理装置1には、先端にリーダを接続
した写真感光材料としてのフィルム2を装填するフィル
ム挿入部3と、フィルム挿入部3から繰り出されるフィ
ルム2を現像処理するフィルム現像部4と、現像処理後
のフィルム2を乾燥するフィルム乾燥部5と、乾燥後の
フィルム2を一時的に保存するフィルム受け部6とが備
えられている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an overall configuration diagram of a developing apparatus 1 equipped with a processing liquid heating apparatus according to the present invention. The development processing apparatus 1 includes a film insertion unit 3 for loading a film 2 as a photographic photosensitive material having a leader connected to a tip, a film development unit 4 for developing the film 2 fed from the film insertion unit 3, and a development unit. A film drying unit 5 for drying the processed film 2 and a film receiving unit 6 for temporarily storing the dried film 2 are provided.

【0011】フィルム挿入部3には、搬送ローラ3a
と、パトローネ7から引き出し終えたフィルム2の後端
を切断するフィルムカッタ3bと、フィルムカッタ3b
の一方の刃をスライド移動させるフィルム切断用ソレノ
イド3cと、フィルム2を搬送ローラ3aに圧着するた
めの遊転ローラ3eと、遊転ローラ3eを上下に移動さ
せて、フィルム2を搬送ローラ3aに圧着する状態と圧
着を開放する状態とに切換える圧着ソレノイド3dとが
備えられている。
A transport roller 3a is provided in the film insertion section 3.
A film cutter 3b for cutting the rear end of the film 2 which has been pulled out from the patrone 7, and a film cutter 3b
The film cutting solenoid 3c that slides one of the blades, the idle roller 3e for pressing the film 2 against the transport roller 3a, and the idle roller 3e are moved up and down to transfer the film 2 to the transport roller 3a. A crimp solenoid 3d for switching between a crimping state and a crimping release state is provided.

【0012】パトローネ7から引き出されたフィルム2
は、搬送ローラ3aと遊転ローラ3eとに挟持された状
態で搬送され、フィルム現像部4に送り込まれる。フィ
ルム現像部4には、現像,漂白,定着等の現像処理を順
次行うため現像液、漂白液、定着液、安定液などの処理
液が各別に充填された7つの隔室を形成する現像処理タ
ンク40と、フィルム現像部4内でフィルム2を搬送す
る搬送ローラユニット4bとが備えられている。
Film 2 drawn from patrone 7
Is transported while being sandwiched between the transport roller 3a and the idler roller 3e, and sent to the film developing section 4. In order to sequentially perform development processing such as development, bleaching and fixing, the film development section 4 forms seven compartments filled with processing liquids such as a developer, a bleaching liquid, a fixing liquid, and a stabilizing liquid. A tank 40 and a transport roller unit 4b for transporting the film 2 in the film developing section 4 are provided.

【0013】フィルム現像部4のフィルム搬送径路下流
側に位置するフィルム乾燥部5には、図1に示すよう
に、フィルム2を乾燥するための乾燥ヒータ5aと、温
風をフィルム搬送径路に向けて送る乾燥ファン5bと、
フィルム乾燥部5内の気温を測定する温度センサ5cと
が備えられており、フィルム2はフィルム乾燥部5内に
おいて、搬送されながら徐々に乾燥されて行き、フィル
ム受け部6に送り出される。
As shown in FIG. 1, a film drying section 5 located downstream of the film transport section of the film developing section 4 has a drying heater 5a for drying the film 2 and directs warm air toward the film transport path. Drying fan 5b to send
A temperature sensor 5c for measuring the air temperature in the film drying unit 5 is provided. The film 2 is gradually dried while being conveyed in the film drying unit 5 and sent out to the film receiving unit 6.

【0014】図2は、フィルム現像部4だけを抜き出し
て図示している。フィルム現像部4の入口部には光セン
サー10が設けられており、これによりフィルム挿入部
3から送り込まれてきたフィルム2が検知される。光セ
ンサー10は、制御装置100と接続している。現像処
理タンク40は、7つの隔室41〜47を形成している
が、フィルム2の搬入方向の順で、1番目の深い漕とな
っているのが現像液用隔室41で、次が漂白液用隔室4
2で、続く2つが定着液用隔室43、44であり、3つ
の浅い漕となっているのが安定液用隔室45〜47であ
る。各隔室は深さが異なるものがあるが、実質的には同
様な構造をもっており、図3には現像液用隔室41の縦
断面図が示されており、図4には、図面の大きさの問題
から、現像液用隔室41及びこれに隣り合う漂白液用隔
室42だけの平面図が示されている。
FIG. 2 shows only the film developing section 4 extracted. An optical sensor 10 is provided at the entrance of the film developing unit 4, and detects the film 2 sent from the film insertion unit 3. The optical sensor 10 is connected to the control device 100. The development processing tank 40 has seven compartments 41 to 47, and the first deep tank in the order of the loading direction of the film 2 is the developer compartment 41. Bleaching solution compartment 4
2, the next two are fixer compartments 43 and 44, and the three shallow tanks are stabilizer compartments 45 to 47. Each compartment has a different depth, but has substantially the same structure. FIG. 3 is a longitudinal sectional view of the developer compartment 41, and FIG. Due to size considerations, a plan view of only the developer compartment 41 and the bleach compartment 42 adjacent thereto is shown.

【0015】現像液用隔室41の上側領域の側方にサブ
タンク41aが設けられている。このサブタンク41a
の内部には、現像液の温度を検出する温度センサ12、
オーバーフロー管14、現像液の液面レベルを検出する
液面センサー15、そしてフィルタ16が備えられてい
る。図2と3で模式的に示しているが、サブタンク41
aには補充管70が接続されており、現像液の性能を一
定に保つために適時補充ポンプ71を動作させ、補充タ
ンク72から補充液をサブタンク41aに供給する。
A sub-tank 41a is provided beside the upper region of the developer compartment 41. This sub tank 41a
A temperature sensor 12 for detecting the temperature of the developer,
An overflow pipe 14, a liquid level sensor 15 for detecting the liquid level of the developer, and a filter 16 are provided. Although schematically shown in FIG. 2 and FIG.
A replenishing pipe 70 is connected to a, and a replenishing pump 71 is operated at an appropriate time in order to keep the performance of the developing solution constant, and a replenishing solution is supplied from the replenishing tank 72 to the sub-tank 41a.

【0016】隔室41の上側領域とサブタンク41aの
上側領域はカスケード接続により流通可能となってい
る。さらに、フィルタ16は円筒状であり、その中心孔
には多数のスリット17aを設けたパイプ17が差し込
まれており、濾過した液がこのスリット17aを通り抜
け、パイプ17内を流れるが、このパイプ17の下端部
と隔室41の底部とが循環流路51によって接続されて
おり、この循環流路51中には循環ポンプ61と処理液
加熱装置80が備えられている。つまり、現像液用隔室
41の上部から、サブタンク41a、フィルタ16、循
環ポンプ61と処理液加熱装置80を備えた循環流路5
1を経て、現像液用隔室41の底部に至る循環ラインが
形成され、これにより現像液用隔室41内で処理液(こ
こでは現像液)の循環と加熱が行われる。このようなサ
ブタンク及び循環ラインの構成は、その他の隔室にとっ
ても同様であり、ここでは隔室毎のその説明は省略す
る。
The upper region of the compartment 41 and the upper region of the sub tank 41a can be circulated by cascade connection. Further, the filter 16 is cylindrical, and a pipe 17 provided with a large number of slits 17a is inserted into the center hole thereof. Filtered liquid flows through the slit 17a and flows through the pipe 17, but the pipe 17 Is connected to the bottom of the compartment 41 by a circulation channel 51, and a circulation pump 61 and a processing liquid heating device 80 are provided in the circulation channel 51. That is, from the upper part of the developer compartment 41, the circulation flow path 5 including the sub-tank 41a, the filter 16, the circulation pump 61 and the processing liquid heating device 80.
A circulation line is formed through 1 to the bottom of the developer compartment 41, whereby the processing liquid (here, the developer) is circulated and heated in the developer compartment 41. The configuration of the sub-tank and the circulation line is the same for the other compartments, and the description of each compartment is omitted here.

【0017】この実施の形態では、処理液加熱装置80
はサブタンク41aと循環ポンプ61との間に装着され
ているが、循環ポンプ61と現像液用隔室41との間に
装着されてもよく、重要なことは、処理液加熱装置80
が循環流路51に装着されていることである。このこと
によって、循環流路51を循環ポンプ61によって強制
的に流される処理液が加熱されるので、サブタンク41
a内に装着されたカートリッジヒータによって処理液を
加熱する場合に生じる処理液の局部的な加熱を避けるこ
とができる。
In this embodiment, the processing liquid heating device 80
Is mounted between the sub tank 41a and the circulation pump 61, but may be mounted between the circulation pump 61 and the developer compartment 41. What is important is that the processing liquid heating device 80
Is mounted on the circulation channel 51. As a result, the processing liquid forced to flow through the circulation flow path 51 by the circulation pump 61 is heated.
Local heating of the processing liquid, which occurs when the processing liquid is heated by the cartridge heater mounted in a, can be avoided.

【0018】処理液加熱装置80は、図5と6に示すよ
うに、循環流路51を構成する配管ホースに接続される
流入口81aと流出口81bとを有する処理液流通管8
1と、この処理液流通管81を外嵌するようにこの処理
液流通管81と一体的に鋳造された実質的に直方体のア
ルミ製熱伝導体82と、この熱伝導体82に装着された
熱源部材としての棒状のヒータ83とを備えている。処
理液加熱装置80を写真処理装置1に適当な位置に取り
付けるために、熱伝導体82には取付ブラケット82a
も形成されている。ヒータ83は、熱伝導体82に処理
液加熱装置80の長手軸芯80aに沿って設けられた凹
部としての装着孔82bに装着されているので、処理液
流通管81のほぼ全長にわたって熱を与えることができ
る。装着孔82b内でのヒータ83の固定は、この実施
の形態では、セットビス85で行われており、このた
め、熱伝導体82には、表面から装着孔82bに至るネ
ジ孔82cが設けられている。
As shown in FIGS. 5 and 6, the processing liquid heating device 80 includes a processing liquid flowing pipe 8 having an inflow port 81a and an outflow port 81b connected to a pipe hose constituting the circulation flow path 51.
1, a substantially rectangular parallelepiped aluminum heat conductor 82 integrally cast with the processing liquid flow pipe 81 so as to fit the processing liquid flow pipe 81, and mounted on the heat conductor 82 And a rod-shaped heater 83 as a heat source member. In order to attach the processing liquid heating device 80 to the photoprocessing device 1 at an appropriate position, the heat conductor 82 has a mounting bracket 82a.
Is also formed. Since the heater 83 is mounted on the heat conductor 82 in the mounting hole 82 b as a concave portion provided along the longitudinal axis 80 a of the processing liquid heating device 80, the heater 83 applies heat over substantially the entire length of the processing liquid flow pipe 81. be able to. In this embodiment, the fixing of the heater 83 in the mounting hole 82b is performed by a set screw 85. Therefore, the heat conductor 82 is provided with a screw hole 82c extending from the surface to the mounting hole 82b. ing.

【0019】84は過熱防止のための安全サーモセンサ
ー84であり、安全サーモセンサー84や温度センサ1
2の検出信号は制御装置100に送られており、この制
御装置100は、図示されていないドライバを介して、
処理液の温度調整つまり、ヒータ83の適正な動作のた
めにヒータの端子部83aに供給される駆動電力を制御
する。
Reference numeral 84 denotes a safety thermosensor 84 for preventing overheating.
2 is sent to the control device 100, and the control device 100 transmits the detection signal via a driver (not shown).
The driving power supplied to the terminal 83a of the heater is controlled for adjusting the temperature of the processing liquid, that is, for operating the heater 83 properly.

【0020】図7には、処理液加熱装置80の別な実施
形態が示されている。ここでは、熱伝導体82は二分割
構成となっており、左側半割れ体82Aと右側半割れ体
82Bに分割されている。それぞれの半割れ体82Aと
82Bにヒータ83のための装着孔82bの一部と処理
液流通管81のための装着孔82dが形成されており、
両者の半割れ体82Aと82Bが組み付けられた際に、
それぞれの装着孔にヒータ83と処理液流通管81を受
け入れるような形状を有している。半割れ体82Aと8
2Bがぴったりと組み付けられた際に生じる各装着孔8
2bと82dの断面は対応するヒータ83や処理液流通
管81の断面より小さくなっており、連結ねじ86と各
半割れ体82Aと82Bに設けられたネジ孔82eによ
って半割れ体82Aと82Bを締め付けることにより、
ヒータ83と処理液流通管81が強固に熱伝導体82に
固定される。
FIG. 7 shows another embodiment of the processing liquid heating device 80. Here, the heat conductor 82 has a two-part structure, and is divided into a left half-half body 82A and a right half-half body 82B. A part of a mounting hole 82b for the heater 83 and a mounting hole 82d for the processing liquid flow pipe 81 are formed in each of the half-broken bodies 82A and 82B,
When both half-split bodies 82A and 82B are assembled,
Each mounting hole has such a shape as to receive the heater 83 and the processing liquid flow pipe 81. Half-split bodies 82A and 8
Each mounting hole 8 generated when 2B is assembled exactly
The cross sections of 2b and 82d are smaller than the cross sections of the corresponding heater 83 and the processing liquid flow pipe 81, and the half screws 82A and 82B are separated by the connection screw 86 and the screw holes 82e provided in the respective half chips 82A and 82B. By tightening
The heater 83 and the processing liquid flow pipe 81 are firmly fixed to the heat conductor 82.

【0021】図8には、処理液加熱装置80のさらに別
な実施形態が示されている。この形態では、熱伝導体8
2に形成されたヒータ83のための装着孔82bと処理
液流通管81のための装着孔82dにはそれぞれの装着
孔を外部に開口させるように長手方向に形成されたスリ
ット82fと82gが接続されている。このスリット8
2fと82gの存在により、両装着孔82bと82dの
内径を力を加えることによりわずかながら拡げることが
可能となる。従って、装着孔82bがヒータ83の外径
よりやや小さな内径寸法をもつことにより、装着孔82
bに押し込められたヒータ83は熱伝導体82の弾性力
により装着孔82bにしっかりと密着して固定される。
同様に、装着孔82dが処理液流通管81の外径よりや
や小さな内径寸法をもつことにより、装着孔82dに押
し込められた処理液流通管81は熱伝導体82の弾性力
により装着孔82dにしっかりと密着して固定される。
FIG. 8 shows still another embodiment of the processing liquid heating device 80. In this embodiment, the heat conductor 8
The slits 82f and 82g formed in the longitudinal direction so as to open the respective mounting holes to the outside are connected to the mounting holes 82b for the heater 83 and the mounting holes 82d for the processing liquid flow pipe 81 formed in FIG. Have been. This slit 8
The presence of 2f and 82g makes it possible to slightly expand the inner diameter of both mounting holes 82b and 82d by applying a force. Therefore, since the mounting hole 82b has an inner diameter slightly smaller than the outer diameter of the heater 83, the mounting hole 82b
The heater 83 pushed into b is firmly fixed to the mounting hole 82b by the elastic force of the heat conductor 82.
Similarly, since the mounting hole 82d has an inner diameter slightly smaller than the outer diameter of the processing liquid flowing pipe 81, the processing liquid flowing pipe 81 pushed into the mounting hole 82d is moved to the mounting hole 82d by the elastic force of the heat conductor 82. It is firmly adhered and fixed.

【0022】図9には、処理液加熱装置80のさらに別
な実施形態が示されている。この形態は、図5で示され
た形態の変形例であって、ヒータ83を装着孔82bに
固定する際セットビス85の代わりに巻き板バネ87を
用いている。この巻き板バネ87の外径寸法は装着孔8
2bの内径より大きく、巻き板バネ87の内径寸法はヒ
ータ83の外径より小さく設計されている。従って、そ
の内周面にヒータ83を押し込んで装着させた巻き板バ
ネ87を熱伝導体82の装着孔82bに押し込むことに
より、ヒータ83は熱伝導体82にしっかりと固定され
る。また、巻き板バネ87は特殊鋼などの熱伝導性の良
好な材料で製作されているので、ヒータ83から熱伝導
体82への熱伝導も良好である。必要に応じて、処理液
流通管81の熱伝導体82への装着にも巻き板バネ方式
を採用しても良い。
FIG. 9 shows still another embodiment of the processing liquid heating device 80. This embodiment is a modification of the embodiment shown in FIG. 5, and uses a wound leaf spring 87 instead of the set screw 85 when fixing the heater 83 to the mounting hole 82b. The outer diameter of this wound leaf spring 87 is
The inner diameter of the wound leaf spring 87 is designed to be larger than the outer diameter of the heater 83. Accordingly, the heater 83 is firmly fixed to the heat conductor 82 by pushing the wound plate spring 87 into which the heater 83 is mounted by being pushed into the inner peripheral surface thereof into the mounting hole 82 b of the heat conductor 82. Further, since the wound leaf spring 87 is made of a material having good heat conductivity such as special steel, heat conduction from the heater 83 to the heat conductor 82 is also good. If necessary, the processing liquid flowing pipe 81 may be mounted on the heat conductor 82 by a wound-plate spring method.

【0023】種々の処理液加熱装置80の実施形態を上
述したが、各形態を任意に選択して組み合わせた構成を
採用することも可能である。さらに、これまで、処理液
流通管81が1本のもので説明したが、1つの熱伝導体
82に複数の処理液流通管81を配設することも可能で
あり、この場合、複数の処理液流通管81を一括して加
熱することができる。
Although various embodiments of the processing liquid heating device 80 have been described above, it is also possible to adopt a configuration in which the respective modes are arbitrarily selected and combined. Further, although the description has been made so far with a single processing liquid flow pipe 81, a plurality of processing liquid flow pipes 81 may be provided on one heat conductor 82. In this case, a plurality of processing liquid flow pipes 81 may be provided. The liquid flow pipe 81 can be heated collectively.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による処理液加熱装置を搭載した現像処
理装置の全体構成図
FIG. 1 is an overall configuration diagram of a development processing apparatus equipped with a processing liquid heating device according to the present invention.

【図2】図1の現像処理装置のフィルム現像部の概略断
面図
FIG. 2 is a schematic sectional view of a film developing section of the developing apparatus of FIG.

【図3】現像処理タンクの断面図FIG. 3 is a sectional view of a developing tank.

【図4】図3のIV−IV線に沿った断面図FIG. 4 is a sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3;

【図5】本発明による処理液加熱装置の1つの実施形態
を示す斜視図
FIG. 5 is a perspective view showing one embodiment of a processing liquid heating apparatus according to the present invention.

【図6】図5の処理液加熱装置の一部を示す縦断面図FIG. 6 is a longitudinal sectional view showing a part of the processing liquid heating device of FIG. 5;

【図7】本発明による処理液加熱装置の他の実施形態を
示す斜視図
FIG. 7 is a perspective view showing another embodiment of the processing liquid heating apparatus according to the present invention.

【図8】本発明による処理液加熱装置のさらに別な実施
形態を示す斜視図
FIG. 8 is a perspective view showing still another embodiment of the processing liquid heating apparatus according to the present invention.

【図9】本発明による処理液加熱装置のさらに別な実施
形態を示す斜視図
FIG. 9 is a perspective view showing still another embodiment of the processing liquid heating apparatus according to the present invention.

【図10】図9の処理液加熱装置の一部を示す縦断面図FIG. 10 is a longitudinal sectional view showing a part of the processing liquid heating apparatus of FIG. 9;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

51 循環流路 80 処理液加熱装置 81 処理液流通管 82 熱伝導体 82b 凹部(装着孔) 83 熱源部材(ヒータ) 84 安全サーモ 85 セットビス Reference Signs List 51 circulation flow path 80 processing liquid heating device 81 processing liquid flow pipe 82 heat conductor 82b recess (mounting hole) 83 heat source member (heater) 84 safety thermo 85 set screw

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】写真感光材料を現像するための処理液を収
容する処理タンクと、前記処理タンクの上部と連通して
いるサブタンクと、前記サブタンクと前記処理タンクの
下部とを連結する循環流路とを備えた現像処理装置のた
めの処理液加熱装置において、 前記循環流路に接続される流入口と流出口とを有する処
理液流通管と、前記処理液流通管を熱伝導可能に包み込
んでいる熱伝導体と、前記熱伝導体に設けられた凹部に
着脱自在に装着された熱源部材を備えていることを特徴
とする現像処理装置のための処理液加熱装置。
1. A processing tank for storing a processing solution for developing a photographic light-sensitive material, a sub-tank communicating with an upper part of the processing tank, and a circulation passage connecting the sub-tank and a lower part of the processing tank. In a processing liquid heating device for a development processing device comprising: a processing liquid flow pipe having an inlet and an outlet connected to the circulation flow path, and the processing liquid flow pipe is wrapped in a heat conductive manner. And a heat source member removably mounted in a recess provided in the heat conductor.
【請求項2】前記熱源部材はセットビスにより前記凹部
内に固定されることを特徴とする請求項1に記載の現像
処理装置のための処理液加熱装置。
2. A processing liquid heating apparatus for a developing apparatus according to claim 1, wherein said heat source member is fixed in said recess by a set screw.
【請求項3】前記熱伝導体は分割構造で形成されてお
り、分割体を組み付けることにより、前記熱源部材は前
記凹部内に固定されることを特徴とする請求項1に記載
の現像処理装置のための処理液加熱装置。
3. The developing apparatus according to claim 1, wherein the heat conductor is formed in a divided structure, and the heat source member is fixed in the recess by assembling the divided body. Liquid heating equipment for
【請求項4】前記凹部は弾性的にその断面積を変更する
ように形成されており、前記熱源部材は前記熱伝導体の
弾性力により前記凹部内に固定されることを特徴とする
請求項1に記載の現像処理装置のための処理液加熱装
置。
4. The concave portion is formed so as to elastically change its cross-sectional area, and the heat source member is fixed in the concave portion by the elastic force of the heat conductor. 2. A processing liquid heating device for the development processing device according to 1.
【請求項5】前記凹部の断面は前記熱源部材の断面より
大きく形成されており、前記熱源部材は前記熱伝導体と
前記熱源部材に対して付勢力を与えるバネ部材をを介し
て前記凹部内に固定されることを特徴とする請求項1に
記載の現像処理装置のための処理液加熱装置。
5. A cross section of the concave portion is formed larger than a cross section of the heat source member, and the heat source member is formed in the concave portion via a heat conductor and a spring member for applying an urging force to the heat source member. 2. The processing liquid heating apparatus for a development processing apparatus according to claim 1, wherein the processing liquid heating apparatus is fixed to the processing liquid.
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