JPH10233097A - Semiconductor storage device and semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor storage device and semiconductor integrated circuit device

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JPH10233097A
JPH10233097A JP3650397A JP3650397A JPH10233097A JP H10233097 A JPH10233097 A JP H10233097A JP 3650397 A JP3650397 A JP 3650397A JP 3650397 A JP3650397 A JP 3650397A JP H10233097 A JPH10233097 A JP H10233097A
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JP
Japan
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bit line
signal
initialization
reference voltage
wait
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JP3650397A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsuo Omiya
厚生 近江谷
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Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
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Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To greatly increase the speed of a reading operation in a stable manner by eliminating the necessity of forcible bit line initialization for each reading cycle. SOLUTION: When the potential Vb of a bit line is higher than that of a reference voltage Vbref by precharging, the output of the comparator C1 of a comparison circuit 12 is inverted from a low signal to a high signal, outputted to the bit line potential initialization control unit 13 of a rear stage and synchronized with a clock signal ϕ by this bit line potential initialization control unit 13 to produce a wait signal WAIT, and ROM makes a wait request to CPU. Then, during a reading operation, an initialization signal ϕ Dis is outputted from the bit line potential initialization control unit 3 to make a switching element 11 conductive and then the potential Vb of a bit line is initialized to a ground potential.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置お
よび半導体集積回路装置に関し、特に、不揮発性メモリ
の読み出しの高速化に適用して有効な技術に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to a technique effective when applied to a high-speed read operation of a nonvolatile memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、E
PROM(Erasable andProgramm
able Read Only Memory)やフラ
ッシュROMなどの半導体集積回路装置においては、読
み出し回路に、たとえば、MOSトランジスタを設け、
読み出しサイクル毎に強制的にビット線の電位を初期
化、すなわち、グランド電位とすることにより、ビット
線の過剰なプリチャージを放電し、メモリの読み出し不
良を防止している。
2. Description of the Related Art According to studies made by the present inventor, E
PROM (Erasable and Programmable)
In a semiconductor integrated circuit device such as an abbreviated read only memory or a flash ROM, for example, a MOS transistor is provided in a read circuit,
By forcibly initializing the potential of the bit line in each read cycle, that is, setting the potential of the bit line to the ground potential, excessive precharge of the bit line is discharged to prevent defective reading of the memory.

【0003】なお、この種の半導体集積回路装置につい
て詳しく述べてある例としては、1990年8月30
日、日刊工業新聞社発行、鈴木八十二(著)、「半導体
MOSメモリとその使い方」P82〜P84があり、こ
の文献には、EPROMにおけるセンスアンプと読み出
し出力回路の動作が記載されている。
An example of this type of semiconductor integrated circuit device is described in detail in August 30, 1990.
Published by Nikkan Kogyo Shimbun (published by Nikkan Kogyo Shimbun) and written by Yasuji Suzuki (Author), "Semiconductor MOS Memory and How to Use It", P82 to P84. .

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
なビット線のプリチャージの放電技術では、次のような
問題点があることが本発明者により見い出された。
However, it has been found by the present inventors that the above-described bit line precharge discharging technique has the following problems.

【0005】近年、電子装置などの製品の高速化に伴
い、該電子装置に搭載されるメモリのアクセススピード
の高速化が強く要求されている。そして、メモリのアク
セススピードの高速化を行うためにクロック周波数を高
くし、クロックのサイクル時間を短縮することにより対
応している。
In recent years, with the increase in the speed of products such as electronic devices, there has been a strong demand for faster access speeds of memories mounted on the electronic devices. In order to increase the access speed of the memory, the clock frequency is increased and the clock cycle time is shortened.

【0006】しかし、クロックの周波数を高くし、読み
出し回路の高速化を図る場合、ビット線の電位を初期化
するMOSトランジスタの駆動時間が単位読み出し時間
に占める割合が相対的に多くなってしまい、プリチャー
ジやメモリのデータ判定時間の確保が困難となり、読み
出し速度を高速化することが困難である。
However, when increasing the clock frequency to increase the speed of the readout circuit, the ratio of the drive time of the MOS transistor for initializing the potential of the bit line to the unit readout time becomes relatively large. It is difficult to secure the precharge and the data determination time of the memory, and it is difficult to increase the reading speed.

【0007】また、前述したMOSトランジスタの駆動
時間を短く設計すると、該MOSトランジスタの駆動を
行うパルスであるディスチャージ制御信号がプロセスや
温度などのばらつきによってつぶれてしまい、ビット線
の初期化を行うことができない恐れがある。
If the driving time of the MOS transistor is designed to be short, the discharge control signal, which is a pulse for driving the MOS transistor, is destroyed due to variations in process, temperature, and the like, so that the bit line is initialized. May not be possible.

【0008】本発明の目的は、読み出しサイクル毎の強
制的なビット線の初期化を不要とし、読み出し動作を安
定して大幅に高速化することのできる半導体記憶装置お
よび半導体集積回路装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device and a semiconductor integrated circuit device which do not require forced bit line initialization every read cycle and can stably and greatly speed up a read operation. It is in.

【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0011】すなわち、本発明の半導体記憶装置は、プ
リチャージ動作中にメモリセルのデータが転送されるビ
ット線の電位が所定の基準電圧よりも高くなると、マイ
クロプロセッサにウェイト要求を行うウェイト信号の出
力および該ビット線の強制的な初期化を行うビット線初
期化制御手段を設けたものである。
That is, in the semiconductor memory device of the present invention, when a potential of a bit line to which data of a memory cell is transferred becomes higher than a predetermined reference voltage during a precharge operation, a wait signal for issuing a wait request to a microprocessor is provided. Bit line initialization control means for forcibly initializing the output and the bit line is provided.

【0012】また、本発明の半導体記憶装置は、前記ビ
ット線初期化制御手段が、ビット線初期化信号に基づい
てビット線を放電するスイッチング素子と、ビット線初
期化の基準電圧を生成する基準電圧生成部と、当該基準
電圧生成部により生成される基準電圧とプリチャージ動
作中にビット線の電圧との比較を行い、ビット線の初期
化を行うか否かを判断する電圧検出部と、電圧検出部の
判断結果に基づいてマイクロプロセッサにウェイト要求
を行うウェイト信号およびスイッチング素子の動作を制
御するビット線初期化信号を生成する初期化制御部とよ
りなるものである。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, the bit line initialization control means includes a switching element for discharging a bit line based on a bit line initialization signal, and a reference for generating a reference voltage for bit line initialization. A voltage generator, a voltage detector that compares the reference voltage generated by the reference voltage generator with the voltage of the bit line during the precharge operation, and determines whether to initialize the bit line; An initialization control unit generates a wait signal for issuing a wait request to the microprocessor based on the determination result of the voltage detection unit and a bit line initialization signal for controlling the operation of the switching element.

【0013】さらに、本発明の半導体記憶装置は、前記
メモリセルが、不揮発性のメモリセルよりなるものであ
る。
Further, in the semiconductor memory device according to the present invention, the memory cells are composed of nonvolatile memory cells.

【0014】また、本発明の半導体集積回路装置は、プ
リチャージ動作中にメモリセルのデータが転送されるビ
ット線の電位が所定の基準電圧よりも高くなると、マイ
クロプロセッサにウェイト要求を行うウェイト信号の出
力および該ビット線の強制的な初期化を行うビット線初
期化制御手段を設けた半導体記憶装置と、当該半導体記
憶装置と外部バスにより電気的に接続され、ビット線初
期化制御手段から出力されたウェイト信号に基づいてウ
ェイト状態となるマイクロプロセッサが設けられたマイ
クロコンピュータとよりなるものである。
Further, according to the semiconductor integrated circuit device of the present invention, when a potential of a bit line to which data of a memory cell is transferred becomes higher than a predetermined reference voltage during a precharge operation, a wait signal for issuing a wait request to a microprocessor is provided. And a semiconductor memory device provided with bit line initialization control means for forcibly initializing the bit line, and electrically connected to the semiconductor memory device by an external bus, and output from the bit line initialization control means. And a microcomputer provided with a microprocessor which enters a wait state on the basis of the given wait signal.

【0015】さらに、本発明の半導体集積回路装置は、
前記ビット線初期化制御手段が、ビット線初期化信号に
基づいてビット線を放電するスイッチング素子と、ビッ
ト線初期化の基準電圧を生成する基準電圧生成部と、当
該基準電圧生成部により生成される基準電圧とプリチャ
ージ動作中にビット線の電圧との比較を行い、ビット線
の初期化を行うか否かを判断する電圧検出部と、当該電
圧検出部の判断結果に基づいてマイクロプロセッサにウ
ェイト要求を行うウェイト信号およびスイッチング素子
の動作を制御するビット線初期化信号を生成する初期化
制御部とよりなるものである。
Further, the semiconductor integrated circuit device according to the present invention
The bit line initialization control means includes a switching element that discharges a bit line based on a bit line initialization signal, a reference voltage generator that generates a reference voltage for bit line initialization, and a reference voltage generator that is generated by the reference voltage generator. A voltage detector that compares the reference voltage with the bit line voltage during the precharge operation, and determines whether or not to initialize the bit line; and a microprocessor based on the determination result of the voltage detector. An initialization control unit generates a wait signal for issuing a wait request and a bit line initialization signal for controlling the operation of the switching element.

【0016】また、本発明の半導体集積回路装置は、前
記メモリセルが、不揮発性のメモリセルよりなるもので
ある。
Further, in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the memory cells are composed of nonvolatile memory cells.

【0017】以上のことにより、ビット線の電位が所定
の基準電圧よりも高くなった場合にだけビット線の初期
化を行うので、読み出しサイクル毎のビット線の初期化
が不要となり、半導体記憶装置および半導体集積回路装
置の読み出し速度を大幅に高速化することができる。
As described above, the bit line is initialized only when the potential of the bit line becomes higher than the predetermined reference voltage. Therefore, the initialization of the bit line in each read cycle becomes unnecessary, and In addition, the reading speed of the semiconductor integrated circuit device can be significantly increased.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0019】図1は、本発明の一実施の形態によるRO
Mが設けられた半導体集積回路装置の要部ブロック図、
図2は、本発明の一実施の形態による半導体集積回路装
置に設けられた読み出し回路およびビット線初期化制御
回路の回路図、図3は、本発明の一実施の形態による半
導体集積回路装置のタイミングチャート、図4は、本発
明の一実施の形態による読み出し回路における基準電圧
の説明図である。
FIG. 1 shows an RO according to an embodiment of the present invention.
Block diagram of a main part of a semiconductor integrated circuit device provided with M;
FIG. 2 is a circuit diagram of a read circuit and a bit line initialization control circuit provided in the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a circuit diagram of the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention. FIG. 4 is a timing chart illustrating a reference voltage in the read circuit according to the embodiment of the present invention.

【0020】本実施の形態において、マイクロコンピュ
ータである半導体集積回路装置1は、後述する周辺回路
の動作を管理、制御し、データに適用されるすべての算
術または論理演算などを行うCPU(マイクロプロセッ
サ)2が設けられている。
In the present embodiment, a semiconductor integrated circuit device 1 which is a microcomputer manages and controls the operation of a peripheral circuit, which will be described later, and performs a CPU (microprocessor) which performs all arithmetic or logical operations applied to data. 2) are provided.

【0021】また、半導体集積回路装置1には、ROM
(半導体記憶装置)3、RAM、I/O(Input/
Output)やSCI(Scalable Cohe
rent Interface)などの周辺回路が設け
られている。さらに、CPU2とROM3などの周辺回
路は、内部バスにより電気的に接続されている。
The semiconductor integrated circuit device 1 has a ROM
(Semiconductor storage device) 3, RAM, I / O (Input /
Output) or SCI (Scalable Cohe)
Peripheral circuits such as Rent Interface) are provided. Further, the CPU 2 and peripheral circuits such as the ROM 3 are electrically connected by an internal bus.

【0022】次に、ROM3は、記憶の最小単位である
不揮発性のメモリセル4が設けられており、このメモリ
セル4が規則正しくアレイ状に並べられてメモリマット
5が構成されている。
Next, the ROM 3 is provided with nonvolatile memory cells 4, which are the minimum unit of storage, and the memory cells 4 are regularly arranged in an array to form a memory mat 5.

【0023】また、ROM3には、メモリマット5の
内、ロー(行)方向のメモリセル4を選択するワード線
WLを選択するローデコーダ6ならびにカラム(列)方
向のメモリセル4を選択するビット線BLの選択を行う
カラムデコーダ7が設けられている。
The ROM 3 has a row decoder 6 for selecting a word line WL for selecting a memory cell 4 in a row (row) direction and a bit for selecting a memory cell 4 in a column (column) direction. A column decoder 7 for selecting the line BL is provided.

【0024】そして、CPU2から出力されたアドレス
信号Adressがローデコーダ6、カラムデコーダ7
に入力されるように接続されている。そして、アドレス
信号Adressは、ローデコーダ6からモジュールア
ドレス信号MAdressとしてメモリマット5に出力
される。
The address signal Address output from the CPU 2 is applied to the row decoder 6 and the column decoder 7.
Connected to be input to Then, the address signal Address is output from the row decoder 6 to the memory mat 5 as a module address signal MAddress.

【0025】さらに、ROM3は、ビット線BLの読み
出し動作を行う読み出し回路8が設けられてる。また、
この読み出し回路8は、ビット線BLのプリチャージを
行うプリチャージ回路8aおよびプリチャージされたデ
ータの増幅を行うセンスアンプ8bが設けられている。
Further, the ROM 3 is provided with a read circuit 8 for performing a read operation of the bit line BL. Also,
The read circuit 8 includes a precharge circuit 8a for precharging the bit line BL and a sense amplifier 8b for amplifying precharged data.

【0026】次に、ROM3には、選択されたメモリセ
ル4に対し、CPU2から出力されるリード信号RDN
に基づいて読み出しの制御を行う読み出し制御部9およ
び基準電圧Vbrefを生成する基準電圧生成回路(基
準電圧生成部)10が設けられ、この基準電圧Vbre
fを後述する比較回路に出力している。
Next, the read signal RDN output from the CPU 2 is stored in the ROM 3 for the selected memory cell 4.
And a reference voltage generating circuit (reference voltage generating unit) 10 for generating a reference voltage Vbref.
f is output to a comparison circuit described later.

【0027】また、ROM3には、ビット線BLの電位
をグランド電位、すなわち、初期化する、たとえば、M
OSトランジスタからなるビット線電位初期化用のスイ
ッチであるスイッチング素子11が設けられている。
In the ROM 3, the potential of the bit line BL is reset to the ground potential, that is, for example, by resetting the potential of the bit line BL to the ground potential.
A switching element 11 which is a switch for initializing a bit line potential, which is composed of an OS transistor, is provided.

【0028】さらに、ROM3は、ビット線BLの電位
が基準電圧生成回路10により生成された基準電圧Vb
refよりも高いか否かを判定する比較回路(電圧検出
部)12ならびにビット線BLの初期化動作の制御を行
うビット線電位初期化制御部(初期化制御部)13が設
けられている。
Further, the ROM 3 stores the potential of the bit line BL at the reference voltage Vb generated by the reference voltage generation circuit 10.
A comparison circuit (voltage detection unit) 12 that determines whether the voltage is higher than ref and a bit line potential initialization control unit (initialization control unit) 13 that controls the initialization operation of the bit line BL are provided.

【0029】そして、これら基準電圧生成回路10、ス
イッチング素子11、比較回路12およびビット線電位
初期化制御部13により、ビット線初期化制御回路(ビ
ット線初期化制御手段)14が構成されている。
The reference voltage generation circuit 10, switching element 11, comparison circuit 12, and bit line potential initialization control section 13 constitute a bit line initialization control circuit (bit line initialization control means) 14. .

【0030】また、カラムデコーダ7を介したビット線
BLの出力は、プリチャージ回路8a、センスアンプ8
b、スイッチング素子11および比較回路12に電気的
に接続されている。
The output of the bit line BL via the column decoder 7 is supplied to a precharge circuit 8a, a sense amplifier 8
b, are electrically connected to the switching element 11 and the comparison circuit 12.

【0031】さらに、選択されたメモリセル4のデータ
は、センスアンプ8bから内部バスの1つであるデータ
バスDBを介してCPU2に出力されるように電気的に
接続されており、読み出し制御部9から出力されるプリ
チャージ制御信号φEQUは、読み出し回路8に入力さ
れ、モジュール制御信号MRDNは、読み出し回路8な
らびに基準電圧生成回路10に入力されるように接続さ
れている。
Further, the data of the selected memory cell 4 is electrically connected so as to be output from the sense amplifier 8b to the CPU 2 via the data bus DB, which is one of the internal buses. The precharge control signal φEQU output from 9 is input to the read circuit 8, and the module control signal MRDN is connected to the read circuit 8 and the reference voltage generation circuit 10.

【0032】また、比較回路12は、ビット線電位初期
化制御部13と電気的に接続されており、ビット線電位
初期化制御部13から出力される初期化信号φDis
は、スイッチング素子11のゲートに接続されている。
The comparison circuit 12 is electrically connected to the bit line potential initialization control unit 13, and the initialization signal φDis output from the bit line potential initialization control unit 13.
Is connected to the gate of the switching element 11.

【0033】さらに、同じくビット線電位初期化制御部
13から出力されるウェイト信号WAITは、CPU2
に入力されるように電気的に接続されている。さらに、
ビット線電位初期化制御部13には、クロック信号φが
入力されている。
Further, the wait signal WAIT output from the bit line potential initialization control unit 13 is
Is electrically connected so as to be input to the further,
The clock signal φ is input to the bit line potential initialization control unit 13.

【0034】次に、読み出し回路8、基準電圧生成回路
10、スイッチング素子11、比較回路12ならびにビ
ット線電位初期化制御部13の回路構成について図2を
用いて説明する。
Next, the circuit configuration of the read circuit 8, reference voltage generation circuit 10, switching element 11, comparison circuit 12, and bit line potential initialization control unit 13 will be described with reference to FIG.

【0035】まず、読み出し回路8のプリチャージ回路
8aは、PチャネルMOSであるトランジスタQ1およ
びNチャネルMOSであるトランジスタQ2〜Q4によ
り構成され、センスアンプ8bは、PチャネルMOSで
あるトランジスタQ5〜Q7、NチャネルMOSである
トランジスタQ8〜Q11、インバータIv1、否定論
理積回路であるNAND回路N1により構成されてい
る。
First, the precharge circuit 8a of the read circuit 8 includes a transistor Q1 which is a P channel MOS and transistors Q2 to Q4 which are N channel MOSs, and a sense amplifier 8b includes transistors Q5 to Q7 which are P channel MOSs. , N-channel MOS transistors Q8 to Q11, an inverter Iv1, and a NAND circuit N1 as a NAND circuit.

【0036】また、基準電圧生成回路10は、Pチャネ
ルMOSのトランジスタQ13、NチャネルMOSのト
ランジスタQ14〜Q17、スイッチング素子11は、
NチャネルMOSのトランジスタQ18によって構成さ
れている。
The reference voltage generation circuit 10 includes a P-channel MOS transistor Q13, an N-channel MOS transistor Q14 to Q17, and a switching element 11.
It is configured by an N-channel MOS transistor Q18.

【0037】さらに、比較回路12は、コンパレータC
1により構成され、ビット線電位初期化制御部13は、
インバータIv2〜Iv4、否定論理積回路であるNO
R回路NO1〜NO5により構成されている。
Further, the comparison circuit 12 includes a comparator C
1 and the bit line potential initialization control unit 13
Inverters Iv2 to Iv4, NO which is a NAND circuit
It is composed of R circuits NO1 to NO5.

【0038】そして、トランジスタQ1,Q2,Q5〜
Q7,Q13,Q14のドレインが電源電圧Vccと電
気的に接続されおり、トランジスタQ3,Q4,Q8,
Q9,Q11,Q15〜Q18のソースおよびトランジ
スタQ6のゲートがグランド電位と電気的に接続されて
いる。
The transistors Q1, Q2, Q5
The drains of Q7, Q13, Q14 are electrically connected to power supply voltage Vcc, and transistors Q3, Q4, Q8,
The sources of Q9, Q11, Q15 to Q18 and the gate of transistor Q6 are electrically connected to the ground potential.

【0039】また、トランジスタQ1のソースは、トラ
ンジスタQ2のゲート、トランジスタQ3,Q4のドレ
インと接続され、トランジスタQ1,Q4,Q7のゲー
トは、NAND回路N1の出力部と電気的に接続されて
いる。
The source of the transistor Q1 is connected to the gate of the transistor Q2 and the drains of the transistors Q3 and Q4, and the gates of the transistors Q1, Q4 and Q7 are electrically connected to the output of the NAND circuit N1. .

【0040】さらに、トランジスタQ5,Q9,Q1
1,Q13,Q15,Q17のゲートには、読み出し制
御部9(図1)から出力されたモジュール制御信号MR
DNが入力されるように電気的に接続されている。
Further, the transistors Q5, Q9, Q1
1, Q13, Q15, and Q17 are provided with the module control signal MR output from the read control unit 9 (FIG. 1).
They are electrically connected so that DN is input.

【0041】また、カラムデコーダ7を介したビット線
BLは、トランジスタQ2,Q10のソース、トランジ
スタQ3,Q8のゲート、トランジスタQ11,Q18
のドレイン、コンパレータC1の一方の入力部と電気的
接続されている。
The bit line BL via the column decoder 7 is connected to the sources of the transistors Q2 and Q10, the gates of the transistors Q3 and Q8, the transistors Q11 and Q18.
Is electrically connected to one input of the comparator C1.

【0042】さらに、トランジスタQ5のソースは、ト
ランジスタQ8,Q9のドレインおよびトランジスタQ
10のゲートと電気的に接続され、トランジスタQ10
のドレインは、トランジスタQ6,Q7のソース、イン
バータIv1の入力部に電気的に接続されている。
Further, the source of the transistor Q5 is connected to the drains of the transistors Q8 and Q9 and the transistor Q5.
10 is electrically connected to the gate of transistor Q10.
Are electrically connected to the sources of the transistors Q6 and Q7 and the input of the inverter Iv1.

【0043】そして、このインバータIv1の出力部
は、センスアンプ8bの出力信号VoutとしてCPU
2(図1)に出力されるように電気的に接続されてい
る。
The output of the inverter Iv1 is used as an output signal Vout of the sense amplifier 8b by the CPU.
2 (FIG. 1).

【0044】また、トランジスタQ14のゲートは、ト
ランジスタQ13のソース、トランジスタQ15,Q1
6のドレインと電気的に接続され、トランジスタQ14
のソースは、トランジスタQ16のゲート、トランジス
タQ17のドレイン、コンパレータC1の他方の入力部
と電気的に接続され、このトランジスタQ14のソース
から出力される電圧が基準電圧Vbrefとなってい
る。
The gate of the transistor Q14 is connected to the source of the transistor Q13, the transistors Q15 and Q1.
6 is electrically connected to the drain of transistor Q14.
Is electrically connected to the gate of the transistor Q16, the drain of the transistor Q17, and the other input of the comparator C1, and the voltage output from the source of the transistor Q14 is the reference voltage Vbref.

【0045】次に、コンパレータC1の出力は、NOR
回路NO1の一方の入力部に入力され、インバータIv
2,NOR回路NO2,NO3の他方の入力部にはクロ
ック信号φが入力されている。ここで、このクロック信
号φは、ウェイト信号WAIT、初期化信号φDisな
らびに後述する反転初期化信号を生成するのに用いてい
る。
Next, the output of the comparator C1 is NOR
The signal is input to one input unit of the circuit NO1 and the inverter Iv
2, a clock signal φ is input to the other input portions of the NOR circuits NO2 and NO3. Here, the clock signal φ is used to generate a wait signal WAIT, an initialization signal φDis, and an inverted initialization signal described later.

【0046】また、NOR回路NO1の他方の入力部に
は、NOR回路NO2の出力部が電気的に接続され、N
OR回路NO1の出力部は、NOR回路NO2,NO3
の一方の入力部と電気的に接続されている。
The output of the NOR circuit NO2 is electrically connected to the other input of the NOR circuit NO1.
The output of the OR circuit NO1 is connected to the NOR circuits NO2 and NO3.
Is electrically connected to one of the input sections.

【0047】さらに、NOR回路NO3の出力部は、N
OR回路NO5の他方の入力部と電気的に接続され、一
方の入力部にはNOR回路NO4の出力部およびインバ
ータIv3の入力部と電気的に接続されている。そし
て、NOR回路NO3の出力がウェイト信号WAITと
してCPU2に出力されることになる。
Further, the output of the NOR circuit NO3 is N
The other input of the OR circuit NO5 is electrically connected, and the one input is electrically connected to the output of the NOR circuit NO4 and the input of the inverter Iv3. Then, the output of the NOR circuit NO3 is output to the CPU 2 as the wait signal WAIT.

【0048】また、NOR回路NO5の出力部は、NO
R回路NO4の他方の入力部と電気的に接続され、一方
の入力部にはインバータIv2の出力部と電気的に接続
されている。
The output of the NOR circuit NO5 is
The other input of the R circuit NO4 is electrically connected, and one input is electrically connected to the output of the inverter Iv2.

【0049】さらに、インバータIv3の出力部は、イ
ンバータIv4の入力部、NAND回路N1の他方の入
力部と電気的に接続され、インバータIv4の出力部が
トランジスタQ18のゲートと電気的に接続されてい
る。
Further, the output of the inverter Iv3 is electrically connected to the input of the inverter Iv4 and the other input of the NAND circuit N1, and the output of the inverter Iv4 is electrically connected to the gate of the transistor Q18. I have.

【0050】そして、インバータIv4から出力される
信号が初期化信号φDisとなり、インバータIv3か
ら出力される信号が反転初期化信号φDisnとなる。
The signal output from the inverter Iv4 becomes the initialization signal φDis, and the signal output from the inverter Iv3 becomes the inverted initialization signal φDisn.

【0051】また、NAND回路N1の一方の入力部に
は、読み出し制御部9から出力されるプリチャージ制御
信号φEQUが入力されるように電気的に接続され、そ
のNAND回路N1から出力される信号が、反転プリチ
ャージ制御信号φEQUNとなっている。
One input of NAND circuit N1 is electrically connected so as to receive a precharge control signal φEQU output from read control unit 9, and a signal output from NAND circuit N1. Are the inverted precharge control signal φEQUIN.

【0052】なお、プリチャージ回路8aは、プリチャ
ージ制御信号φEQUの電位が高くなるとプリチャージ
を行い、プリチャージ制御信号φEQUの電位が低い場
合には動作を停止し、センスアンプ8bは、モジュール
制御信号MRDNの電位が低くなると読み出しを行い、
モジュール制御信号MRDNの電位が高くなると動作を
停止する。
The precharge circuit 8a performs precharge when the potential of the precharge control signal φEQU becomes high, and stops operation when the potential of the precharge control signal φEU is low. The sense amplifier 8b controls the module When the potential of the signal MRDN becomes low, reading is performed,
The operation stops when the potential of the module control signal MRDN becomes high.

【0053】また、プリチャージが行われている間、プ
リチャージ回路8aのトランジスタQ2およびセンスア
ンプ8bのトランジスタQ7は、ビット線BLに電流を
流すのでビット線BL電位を初期化している間にトラン
ジスタQ2,トランジスタQ7とトランジスタQ10間
に貫通電流が流れるのを防止するために、反転初期化信
号φDisnとプリチャージ制御信号φEQUとの否定
論理積をとった信号である反転プリチャージ制御信号φ
EQUNにより、トランジスタQ2,Q7を駆動してい
る。
While the precharge is being performed, the transistor Q2 of the precharge circuit 8a and the transistor Q7 of the sense amplifier 8b allow a current to flow through the bit line BL. In order to prevent a through current from flowing between the transistor Q2 and the transistor Q7 and the transistor Q10, an inverted precharge control signal φ which is a signal obtained by performing a NAND operation of the inverted initialization signal φDisn and the precharge control signal φEQU.
The transistors Q2 and Q7 are driven by the EQUN.

【0054】次に、本実施の形態の作用について、図1
〜図4を用いて説明する。
Next, the operation of the present embodiment will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG.

【0055】まず、図3のタイミングチャートにおい
て、上段から下段にかけてSR1〜SR6はROM3の
読み出しシーケンスを示し、その下のSC1〜SC7は
CPU2のシーケンスを示している。
First, in the timing chart of FIG. 3, from the upper stage to the lower stage, SR1 to SR6 indicate a read sequence of the ROM 3, and SC1 to SC7 therebelow indicate the sequence of the CPU 2.

【0056】次に、タイミングチャートにおいて、クロ
ック信号φの状態、CPU2から出力されるリード信号
RDNの変化、アドレス信号Adressの状態、モジ
ュールアドレス信号MAdressの状態、プリチャー
ジ制御信号φEQUの変化、反転プリチャージ制御信号
φEQUNの変化、初期化信号φDisの変化、反転初
期化信号φDisnの変化を示している。
Next, in the timing chart, the state of the clock signal φ, the change of the read signal RDN output from the CPU 2, the state of the address signal Address, the state of the module address signal MADRES, the change of the precharge control signal φEQU, A change in the charge control signal φEQUUN, a change in the initialization signal φDis, and a change in the inverted initialization signal φDisn are shown.

【0057】また、図3のタイミイングチャートにおい
て、NOR回路NO4の出力電圧V4の変化、NOR回
路NO5の出力電圧V5の変化、ウェイト信号WAIT
の変化、NOR回路NO1の出力電圧V2の変化、NO
R回路NO2の出力電圧V3の変化、コンパレータC1
の出力電圧V6の変化、ビット線BLの電位Vbの変
化、基準電圧Vbrefの状態をそれぞれ示している。
Further, in the timing chart of FIG. 3, the change of the output voltage V4 of the NOR circuit NO4, the change of the output voltage V5 of the NOR circuit NO5, and the wait signal WAIT
, Change in output voltage V2 of NOR circuit NO1, NO
Change in output voltage V3 of R circuit NO2, comparator C1
, The change in the potential Vb of the bit line BL, and the state of the reference voltage Vbref.

【0058】ここで、半導体集積回路装置1における動
作は、たとえば、CPU2がROM3に対して5回連続
してデータの読み出しを行い、選択されたメモリがすべ
てしきい値電圧が高いメモリ’0’であり、4回目の読
み出し期間SR4において、ビット線BLの電位Vbが
基準電圧Vbrefの電位よりも高くなった場合とす
る。
Here, the operation of the semiconductor integrated circuit device 1 is as follows. For example, the CPU 2 reads data from the ROM 3 five times in succession, and all the selected memories have the memory '0' having a high threshold voltage. It is assumed that the potential Vb of the bit line BL becomes higher than the potential of the reference voltage Vbref in the fourth read period SR4.

【0059】また、トランジスタQ13,Q16の電流
能力比率で決定される基準電圧Vbrefは、図4に示
すように、ビット線BLの電位Vbよりも高く設定す
る。なお、ビット線BLの電位Vbと基準電圧Vbre
fとの電位差は、ノイズなどの影響により誤動作しない
程度にマージンを設ける必要がある。
The reference voltage Vbref determined by the current capability ratio of the transistors Q13 and Q16 is set higher than the potential Vb of the bit line BL as shown in FIG. Note that the potential Vb of the bit line BL and the reference voltage Vbre
It is necessary to provide a margin for the potential difference from f so as not to malfunction due to the influence of noise or the like.

【0060】さらに、電源電圧、プロセスや温度などに
よる基準電圧Vbrefの電位変動がビット線BLの電
位Vbの変動と同一になるようにプリチャージ回路8a
とセンスアンプ8bが同じ回路構成になることが望まし
い。
Further, the precharge circuit 8a controls the potential fluctuation of the reference voltage Vbref due to the power supply voltage, process, temperature, etc., to be the same as the fluctuation of the potential Vb of the bit line BL.
And the sense amplifier 8b preferably have the same circuit configuration.

【0061】そして、図3に示すように、プリチャージ
によりビット線BLの電位Vbが基準電圧Vbrefの
電位よりも高くなると(図3(e))、比較回路12の
コンパレータC1の出力がLo信号からHi信号に反転
し、ビット線BLの電位Vbが基準電圧Vbrefの電
位よりも高くなったことを検出する。
Then, as shown in FIG. 3, when the potential Vb of the bit line BL becomes higher than the potential of the reference voltage Vbref due to the precharge (FIG. 3E), the output of the comparator C1 of the comparison circuit 12 changes to the Lo signal. To a Hi signal to detect that the potential Vb of the bit line BL has become higher than the potential of the reference voltage Vbref.

【0062】そして、コンパレータC1から出力された
Hi信号(V6)が、後段のビット線電位初期化制御部
13に出力され、該ビット線電位初期化制御部13によ
ってクロック信号φに同期し、ROM3の読み出し期間
SR4においてウェイト信号WAITが生成されること
になる。よって、このウェイト信号WAITにより、R
OM3はCPU2にウェイト要求をすることができる。
Then, the Hi signal (V6) output from the comparator C1 is output to the bit line potential initialization control unit 13 at the subsequent stage, and the bit line potential initialization control unit 13 synchronizes with the clock signal φ, In the read period SR4, the wait signal WAIT is generated. Therefore, by the wait signal WAIT, R
OM3 can issue a wait request to CPU2.

【0063】その後、ROM3の読み出し期間SR5に
おいて初期化信号φDisがビット線電位初期化制御部
13から出力され、トランジスタQ18を導通状態、す
なわち、On状態とさせることによってビット線BLの
電位Vbをグランド電位に初期化する。
Thereafter, in the read period SR5 of the ROM 3, the initialization signal φDis is output from the bit line potential initialization control unit 13, and the transistor Q18 is turned on, that is, the transistor V18 is turned on, thereby setting the potential Vb of the bit line BL to ground. Initialize to potential.

【0064】また、ROM3の読み出し期間SR4にお
いて、ROM3はCPU2に対してウェイト要求を行う
のと同時に’Adress=4’のデータ出力を行う。
一方、CPU2は、CPU期間SC5においてROM3
の’Adress=4’の出力データをラッチし、RO
M3に対して’Adress=5’の出力を行うことに
なる。
In the read period SR4 of the ROM 3, the ROM 3 simultaneously outputs a wait request to the CPU 2 and outputs data of 'Address = 4'.
On the other hand, in the CPU period SC5, the CPU 2
Latches the output data of 'Address = 4' of the
'Address = 5' is output to M3.

【0065】しかし、ROM3から出力されたウェイト
信号WAITのウェイト要求によって、CPU2は、C
PU期間SC6ではビット線BL初期化中の誤ったデー
タをラッチすることなく、ROM3の読み出しシーケン
スSR6において本来読み出しシーケンスSR5で処理
する’Adress=5’の処理を行わせるために’A
dress=5’を出力する。
However, due to the wait request of the wait signal WAIT output from the ROM 3, the CPU 2
In the PU period SC6, without latching erroneous data during the initialization of the bit line BL, 'A = 5' is performed in the read sequence SR6 of the ROM 3 so that the process of 'Address = 5', which is originally performed in the read sequence SR5, is performed.
Outputs dress = 5 ′.

【0066】よって、ROM3は読み出しシーケンスS
R5で初期化を行った後、読み出し期間SR6におい
て’Adress=6’のデータ出力を行うことにな
る。
Accordingly, the read sequence S
After the initialization in R5, the data output of 'Address = 6' is performed in the read period SR6.

【0067】なお、ビット線BLを初期化する確率は低
いので、ビット線BLの初期化動作の状態が繰り返さ
れ、トータル的に見出し時間が増加することはない。
Since the probability of initializing the bit line BL is low, the state of the initializing operation of the bit line BL is repeated, and the heading time does not totally increase.

【0068】それにより、本実施の形態では、ビット線
初期化制御回路14により、ビット線BLの電位Vbが
基準電圧Vbrefよりも高くなった場合だけビット線
BLの初期化を行うので、読み出しサイクル毎のビット
線の初期化動作が不要となり、読み出し速度を大幅に高
速化することができる。
In this embodiment, the bit line initialization control circuit 14 initializes the bit line BL only when the potential Vb of the bit line BL becomes higher than the reference voltage Vbref. The initialization operation for each bit line is not required, and the reading speed can be significantly increased.

【0069】また、ビット線BLの初期化時には、ビッ
ト線初期化制御回路14からCPU2にウェイト信号W
AITが出力されるので、ビット線BLの初期化動作に
起因するデータの読み出し不良を確実に防止することが
できる。
When the bit line BL is initialized, the bit line initialization control circuit 14 sends a wait signal W to the CPU 2.
Since the AIT is output, it is possible to reliably prevent a data read defect due to the initialization operation of the bit line BL.

【0070】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, it can be changed.

【0071】たとえば、前記実施の形態においては、マ
イクロコンピュータにROMが内蔵された半導体集積回
路装置について記載したが、フラッシュメモリやマスク
ROMなどのすべての不揮発性の半導体記憶装置やDR
AM(Dynamic Random Access
Memory)などの揮発性半導体メモリにビット線初
期化制御回路14を設けても読み出しサイクル毎のビッ
ト線の初期化動作が不要となり、読み出し速度を大幅に
高速化することができる。
For example, in the above embodiment, a semiconductor integrated circuit device in which a microcomputer has a built-in ROM has been described. However, all nonvolatile semiconductor storage devices such as a flash memory and a mask ROM, and a DR
AM (Dynamic Random Access)
Even if the bit line initialization control circuit 14 is provided in a volatile semiconductor memory such as a memory, the bit line initialization operation for each read cycle becomes unnecessary, and the reading speed can be greatly increased.

【0072】[0072]

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0073】(1)本発明によれば、ビット線の電位が
所定の基準電圧よりも高くなった場合にだけビット線の
初期化を行うので、読み出しサイクル毎のビット線の初
期化が不要となる。
(1) According to the present invention, the bit line is initialized only when the potential of the bit line becomes higher than a predetermined reference voltage. Therefore, it is not necessary to initialize the bit line for each read cycle. Become.

【0074】(2)また、本発明では、上記(1)によ
り、半導体記憶装置および半導体集積回路装置の読み出
し速度を大幅に高速化することができる。
(2) In the present invention, the reading speed of the semiconductor memory device and the semiconductor integrated circuit device can be greatly increased by the above (1).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態によるROMが設けられ
た半導体集積回路装置の要部ブロック図である。
FIG. 1 is a main block diagram of a semiconductor integrated circuit device provided with a ROM according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施の形態による半導体集積回路装
置に設けられた読み出し回路およびビット線初期化制御
回路の回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of a read circuit and a bit line initialization control circuit provided in the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention;

【図3】本発明の一実施の形態による半導体集積回路装
置のタイミングチャートである。
FIG. 3 is a timing chart of the semiconductor integrated circuit device according to one embodiment of the present invention;

【図4】本発明の一実施の形態による読み出し回路にお
ける基準電圧の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a reference voltage in the read circuit according to the embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体集積回路装置 2 CPU(マイクロプロセッサ) 3 ROM(半導体記憶装置) 4 メモリセル 5 メモリマット 6 ローデコーダ 7 カラムデコーダ 8 読み出し回路 8a プリチャージ回路 8b センスアンプ 9 読み出し制御部 10 基準電圧生成回路(基準電圧生成部) 11 スイッチング素子 12 比較回路(電圧検出部) 13 ビット線電位初期化制御部(初期化制御部) 14 ビット線初期化制御回路(ビット線初期化制御手
段) DB データバス WL ワード線 BL ビット線 Adress アドレス信号 MAdress モジュールアドレス信号 RDN リード信号 Vout 出力信号 φEQU プリチャージ制御信号 φEQUN 反転プリチャージ制御信号 φDisn 反転初期化信号 φDis 初期化信号 φ クロック信号 MRDN モジュール制御信号 WAIT ウェイト信号 Q1〜Q11 トランジスタ Q13〜Q18 トランジスタ Iv1〜Iv4 インバータ N1 NAND回路 C1 コンパレータ NO1〜NO5 NOR回路 Vbref 基準電圧 Vb 電位 V2 出力電圧 V3 出力電圧 V4 出力電圧 V5 出力電圧 V6 出力電圧
Reference Signs List 1 semiconductor integrated circuit device 2 CPU (microprocessor) 3 ROM (semiconductor storage device) 4 memory cell 5 memory mat 6 row decoder 7 column decoder 8 readout circuit 8a precharge circuit 8b sense amplifier 9 readout control unit 10 reference voltage generation circuit ( Reference voltage generation unit) 11 Switching element 12 Comparison circuit (Voltage detection unit) 13 Bit line potential initialization control unit (Initialization control unit) 14 Bit line initialization control circuit (Bit line initialization control unit) DB Data bus WL Word Line BL Bit line Address Address signal MADDRESS Module address signal RDN Read signal Vout Output signal φEQU Precharge control signal φEEQU Inversion precharge control signal φDisn Inversion initialization signal φDis initialization signal φ Clock signal MRD Module control signal WAIT Wait signal Q1~Q11 transistor Q13~Q18 transistor Iv1~Iv4 inverter N1 NAND circuit C1 comparator NO1~NO5 NOR circuit Vbref reference voltage Vb potential V2 output voltage V3 output voltage V4 output voltage V5 output voltage V6 output voltage

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プリチャージ動作中にメモリセルのデー
タが転送されるビット線の電位が所定の基準電圧よりも
高くなると、マイクロプロセッサにウェイト要求を行う
ウェイト信号の出力および前記ビット線の強制的な初期
化を行うビット線初期化制御手段を設けたことを特徴と
する半導体記憶装置。
When a potential of a bit line to which data of a memory cell is transferred becomes higher than a predetermined reference voltage during a precharge operation, a wait signal for issuing a wait request to a microprocessor is output and a force of the bit line is forced. A semiconductor memory device provided with bit line initialization control means for performing initialization.
【請求項2】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
て、 前記ビット線初期化制御手段が、 ビット線初期化信号に基づいてビット線を放電するスイ
ッチング素子と、 ビット線初期化の基準電圧を生成する基準電圧生成部
と、 前記基準電圧生成部により生成される基準電圧とプリチ
ャージ動作中に前記ビット線の電圧との比較を行い、前
記ビット線の初期化を行うか否かを判断する電圧検出部
と、 前記電圧検出部の判断結果に基づいて前記マイクロプロ
セッサにウェイト要求を行うウェイト信号および前記ス
イッチング素子の動作を制御するビット線初期化信号を
生成する初期化制御部とよりなることを特徴とする半導
体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said bit line initialization control means generates a switching element for discharging a bit line based on a bit line initialization signal, and a reference voltage for bit line initialization. A reference voltage generator that performs a comparison between a reference voltage generated by the reference voltage generator and a voltage of the bit line during a precharge operation, and determines whether to initialize the bit line. A detection unit, and an initialization control unit that generates a wait signal for issuing a wait request to the microprocessor based on the determination result of the voltage detection unit and a bit line initialization signal for controlling the operation of the switching element. A semiconductor memory device characterized by the following.
【請求項3】 請求項1または2記載の半導体記憶装置
において、前記メモリセルが、不揮発性のメモリセルで
あることを特徴とする半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said memory cell is a nonvolatile memory cell.
【請求項4】 プリチャージ動作中にメモリセルのデー
タが転送されるビット線の電位が設定電圧値よりも高く
なると、マイクロプロセッサにウェイト要求を行うウェ
イト信号の出力および前記ビット線の強制的な初期化を
行うビット線初期化制御手段を設けた半導体記憶装置
と、 前記半導体記憶装置と外部バスにより電気的に接続さ
れ、前記ビット線初期化制御手段から出力されたウェイ
ト信号に基づいてウェイト状態となる前記マイクロプロ
セッサが設けられたマイクロコンピュータとよりなるこ
とを特徴とする半導体集積回路装置。
4. When a potential of a bit line to which data of a memory cell is transferred becomes higher than a set voltage value during a precharge operation, a wait signal for issuing a wait request to a microprocessor is output and the bit line is forcibly turned off. A semiconductor memory device provided with bit line initialization control means for performing initialization, a wait state electrically connected to the semiconductor memory device via an external bus, and a wait state based on a wait signal output from the bit line initialization control means; And a microcomputer provided with the microprocessor.
【請求項5】 請求項4記載の半導体集積回路装置にお
いて、 前記ビット線初期化制御手段が、 ビット線初期化信号に基づいてビット線を放電するスイ
ッチング素子と、 ビット線初期化の基準電圧を生成する基準電圧生成部
と、 前記基準電圧生成部により生成される基準電圧とプリチ
ャージ動作中に前記ビット線の電圧との比較を行い、前
記ビット線の初期化を行うか否かを判断する電圧検出部
と、 前記電圧検出部の判断結果に基づいて前記マイクロプロ
セッサにウェイト要求を行うウェイト信号および前記ス
イッチング素子の動作を制御するビット線初期化信号を
生成する初期化制御部とよりなることを特徴とする半導
体集積回路装置。
5. The semiconductor integrated circuit device according to claim 4, wherein said bit line initialization control means includes a switching element for discharging a bit line based on a bit line initialization signal, and a reference voltage for bit line initialization. A reference voltage generator to be generated, and comparing the reference voltage generated by the reference voltage generator with the voltage of the bit line during a precharge operation to determine whether or not to initialize the bit line. A voltage detection unit; and an initialization control unit that generates a wait signal for issuing a wait request to the microprocessor and a bit line initialization signal for controlling the operation of the switching element based on a determination result of the voltage detection unit. A semiconductor integrated circuit device characterized by the above-mentioned.
【請求項6】 請求項4または5に記載の半導体集積回
路装置において、前記メモリセルが、不揮発性のメモリ
セルであることを特徴とする半導体集積回路装置。
6. The semiconductor integrated circuit device according to claim 4, wherein said memory cell is a non-volatile memory cell.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100370168B1 (en) * 2000-12-29 2003-02-05 주식회사 하이닉스반도체 Circuit for Precharging Bit Line

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