JPH10233089A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH10233089A
JPH10233089A JP9036529A JP3652997A JPH10233089A JP H10233089 A JPH10233089 A JP H10233089A JP 9036529 A JP9036529 A JP 9036529A JP 3652997 A JP3652997 A JP 3652997A JP H10233089 A JPH10233089 A JP H10233089A
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JP
Japan
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power supply
supply line
voltage
memory device
semiconductor memory
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9036529A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeo Miki
武夫 三木
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH10233089A publication Critical patent/JPH10233089A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor storage device having a plurality of power source lines and capable of controlling connection/disconnection for these lines. SOLUTION: This device includes power source lines 3, 5 and a power source switching circuit 7 and, according to a signal ϕ supplied to the power source switching circuit 7, the power source lines 3, 5 are connected/disconnected from each other. Here, the signal ϕis made active when a sense amplifier is inactive or in a test mode and, in this case, a power source is strengthened by connection between the power source lines 3, 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関し、さらに詳しくは、2系統以上の異なる電源ライン
を備えた半導体記憶装置に関するものである。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a semiconductor memory device having two or more different power supply lines.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体記憶装置においては、デー
タ出力時に動作するトランジスタが比較的大きく(ゲー
ト幅W=100μm程度)電源ラインにノイズを発生さ
せるため、出力回路と周辺回路に同じ電源ラインを使用
すると、周辺回路の誤動作を生じたりすることといった
問題が生じていた。このため、図20に示されるよう
に、出力回路1に接続される電源ラインと周辺回路2に
接続される電源ラインが分離されることが多かった。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor memory device, a transistor which operates at the time of data output is relatively large (gate width W = approximately 100 μm) and generates noise on a power supply line. If used, there has been a problem that a malfunction of peripheral circuits may occur. For this reason, as shown in FIG. 20, the power supply line connected to the output circuit 1 and the power supply line connected to the peripheral circuit 2 are often separated.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近で
は、特にデータアクセス時間の高速化の要求が強まって
おり、出力回路動作時における電源ラインの電圧降下に
よるアクセス時間の遅延や、相対的な電源ノイズの増加
といった問題を解決するため、電源ラインの強化の必要
性が強まってきた。
However, recently, there has been an increasing demand for speeding up the data access time, in particular, the delay of the access time due to the voltage drop of the power supply line during the operation of the output circuit, and the relative power supply noise. In order to solve the problem of increase in power supply, the necessity of strengthening the power supply line has increased.

【0004】一方では、電源ピンの本数は製品の仕様に
より定められており、また、ノイズの影響だけを考慮し
た電源ラインの分離は、出力不足などを招くことから、
半導体記憶装置への電圧の供給に関しては、設計上の問
題があった。
[0004] On the other hand, the number of power supply pins is determined by the specifications of the product, and the separation of power supply lines taking only the influence of noise into consideration leads to insufficient output.
The supply of voltage to the semiconductor memory device has a design problem.

【0005】本発明は、このような問題を解決するため
になされたもので、複数の電源ラインを備えそれらの接
続と切り離し(開放)を制御できる半導体記憶装置を提
供することを目的とする。
The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having a plurality of power supply lines and capable of controlling connection and disconnection (opening) of the power supply lines.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る半導体記
憶装置は、ビット線対と、ビット線対の電位差を増幅す
るセンスアンプと、複数の電源線と、センスアンプが不
活性状態のときは電源線の少なくとも2つを接続し、セ
ンスアンプが活性状態のときは電源線をすべて切り離す
切換手段とを備えるものである。
According to a first aspect of the present invention, a semiconductor memory device includes: a bit line pair; a sense amplifier for amplifying a potential difference between the bit line pair; a plurality of power supply lines; Is provided with switching means for connecting at least two of the power supply lines and disconnecting all the power supply lines when the sense amplifier is in an active state.

【0007】請求項2に係る半導体記憶装置は、第1の
電源線と、第2の電源線と、第1の電源線の電圧の大き
さを検出する第1の検出手段と、第2の電源線の電圧の
大きさを検出する第2の検出手段と、第1の検出手段で
第1の所定値より大きな第1の電源線の電圧の大きさが
検出され、かつ、第2の検出手段で第2の所定値より大
きな第2の電源線の電圧の大きさが検出されたときは、
第1の電源線と第2の電源線を切り離す切換手段とを備
えるものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device, comprising: a first power supply line, a second power supply line, a first detection means for detecting a magnitude of a voltage of the first power supply line, and a second power supply line. A second detector for detecting the magnitude of the voltage of the power supply line; and a first detector for detecting a magnitude of the voltage of the first power supply line that is larger than a first predetermined value, and a second detection. When the means detects the magnitude of the voltage of the second power supply line larger than the second predetermined value,
A switching unit for disconnecting the first power supply line from the second power supply line;

【0008】請求項3に係る半導体記憶装置は、第1の
内部回路に接続される第1の電源線と、第2の内部回路
に接続される第2の電源線と、第1の電源線に流れる消
費電流の大きさを検出する消費電流量検出手段と、消費
電流量検出手段で所定値を超える消費電流の大きさが検
出されたときは、第1の電源線と第2の電源線を接続す
るとともに、消費電流量検出手段で検出される消費電流
の大きさが所定値以下のときは、第1の電源線と第2の
電源線とを切り離す切換手段とを備えるものである。
According to a third aspect of the present invention, a first power supply line connected to the first internal circuit, a second power supply line connected to the second internal circuit, and a first power supply line are provided. Current consumption detecting means for detecting the magnitude of current consumption flowing through the first power supply line and the second power supply line when the current consumption exceeding a predetermined value is detected by the current consumption detection means. And switching means for disconnecting the first power supply line from the second power supply line when the magnitude of the current consumption detected by the current consumption detection means is equal to or smaller than a predetermined value.

【0009】請求項4に係る半導体記憶装置は、複数の
電源線と、電源線のうち少なくとも2つの電源線を接続
するヒューズとを備えるものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a plurality of power supply lines and a fuse for connecting at least two of the power supply lines.

【0010】請求項5に係る半導体記憶装置は、複数の
電源線と、電源線のうち少なくとも2つの電源線を配線
により接続するための複数の電源パッドとを備えるもの
である。
A semiconductor memory device according to a fifth aspect includes a plurality of power supply lines and a plurality of power supply pads for connecting at least two of the power supply lines by wiring.

【0011】請求項6に係る半導体記憶装置は、通常動
作モードとテストモードとを有する半導体記憶装置であ
って、第1の電源線と、第2の電源線と、外部制御信号
の入力されるタイミングによりテストモードの発生を検
知するテストモード検知手段と、テストモード検知手段
で検知されたテストモードでは、第1の電源線と第2の
電源線とを接続する切換手段とを備えるものである。
A semiconductor memory device according to a sixth aspect is a semiconductor memory device having a normal operation mode and a test mode, wherein a first power supply line, a second power supply line, and an external control signal are input. Test mode detection means for detecting the occurrence of a test mode based on timing, and switching means for connecting the first power supply line and the second power supply line in the test mode detected by the test mode detection means. .

【0012】請求項7に係る半導体記憶装置は、通常動
作モードとテストモードとを有する半導体記憶装置であ
って、第1の電源線と、第2の電源線と、外部制御信号
の入力されるタイミングによりテストモードの発生を検
知するテストモード検知手段と、外部入力端子と、テス
トモード検知手段でテストモードの発生が検知され、か
つ、外部入力端子に所定値を超える電圧が供給された場
合、第1の電源線と第2の電源線とを接続する切換手段
とを備えるものである。
A semiconductor memory device according to a seventh aspect is a semiconductor memory device having a normal operation mode and a test mode, wherein a first power supply line, a second power supply line, and an external control signal are inputted. A test mode detecting means for detecting the occurrence of a test mode by timing, an external input terminal, and the test mode detecting means detecting the occurrence of the test mode, and when a voltage exceeding a predetermined value is supplied to the external input terminal, Switching means for connecting the first power supply line and the second power supply line.

【0013】請求項8に係る半導体記憶装置は、第1の
電源線と、第2の電源線と、外部入力端子と、外部入力
端子に所定値を超える電圧が供給された場合、第1の電
源線と第2の電源線とを接続する切換手段とを備えるも
のである。
The semiconductor memory device according to claim 8, wherein the first power supply line, the second power supply line, the external input terminal, and the first input terminal, when a voltage exceeding a predetermined value is supplied to the external input terminal. Switching means for connecting the power supply line to the second power supply line.

【0014】請求項9に係る半導体記憶装置は、外部電
源電圧により生成される内部電源電圧によって動作する
内部回路を有する半導体記憶装置であって、外部電源電
圧を降圧する降圧手段と、降圧手段から出力される電圧
を内部電源電圧として内部回路へ供給するとともに、所
定の場合には、外部電源電圧をそのまま内部電源電圧と
して内部回路へ供給する切換手段とを備えるものであ
る。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device having an internal circuit operated by an internal power supply voltage generated by an external power supply voltage, wherein the step-down means lowers the external power supply voltage and the step-down means. Switching means for supplying the output voltage to the internal circuit as an internal power supply voltage and, in a predetermined case, supplying the external power supply voltage as it is to the internal circuit as the internal power supply voltage.

【0015】請求項10に係る半導体記憶装置は、請求
項9に記載の半導体記憶装置であって、複数の外部制御
信号入力端子をさらに備え、切換手段は、外部制御信号
入力端子に外部制御信号が所定のタイミングで入力され
たとき、外部電源電圧をそのまま内部電源電圧として内
部回路へ供給するものである。
A semiconductor memory device according to a tenth aspect is the semiconductor memory device according to the ninth aspect, further comprising: a plurality of external control signal input terminals; Is supplied at a predetermined timing, the external power supply voltage is supplied as it is to the internal circuit as the internal power supply voltage.

【0016】請求項11に係る半導体記憶装置は、請求
項9に記載の半導体記憶装置であって、外部端子をさら
に備え、切換手段は、外部端子に供給される電圧に応じ
て、外部電源電圧をそのまま内部電源電圧として内部回
路へ供給するものである。
A semiconductor memory device according to an eleventh aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the ninth aspect, further comprising an external terminal, wherein the switching means operates according to a voltage supplied to the external terminal. Is supplied as it is to the internal circuit as the internal power supply voltage.

【0017】請求項12に係る半導体記憶装置は、外部
電源電圧より生成される内部電源電圧によって動作する
内部回路を有する半導体記憶装置であって、外部電源電
圧を降圧して第1の内部電源電圧を生成する第1の降圧
手段と、外部電源電圧を降圧して第2の内部電源電圧を
生成する第2の降圧手段と、第1の内部電源電圧、第2
の内部電源電圧、外部電源電圧のいずれかを選択的に内
部電源電圧として内部回路へ供給する切換手段とを備え
るものである。
A semiconductor memory device according to a twelfth aspect is a semiconductor memory device having an internal circuit operated by an internal power supply voltage generated from an external power supply voltage, wherein the first internal power supply voltage is reduced by reducing the external power supply voltage. A first step-down means for generating a second internal power supply voltage by stepping down an external power supply voltage; a first internal power supply voltage;
Switching means for selectively supplying either the internal power supply voltage or the external power supply voltage to the internal circuit as the internal power supply voltage.

【0018】請求項13に係る半導体記憶装置は、請求
項12に記載の半導体記憶装置であって、複数の外部端
子をさらに備え、切換手段は、外部端子に供給される電
圧に応じて、内部電源電圧として内部回路へ供給する電
圧を切換えるものである。
A semiconductor memory device according to a thirteenth aspect is the semiconductor memory device according to the twelfth aspect, further comprising a plurality of external terminals, and the switching means is configured to switch an internal terminal according to a voltage supplied to the external terminal. The voltage supplied to the internal circuit is switched as the power supply voltage.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図を
参照して詳しく説明する。なお、図中同一符号は同一ま
たは相当部分を示す。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

【0020】[実施の形態1]図1は、本発明の実施の
形態1に係る半導体記憶装置の電源ラインと電源切換回
路の構成を示す図である。
[First Embodiment] FIG. 1 shows a configuration of a power supply line and a power supply switching circuit of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【0021】図1に示されるように、本実施の形態1に
係る半導体記憶装置は、電源電圧VCC1を第1の内部
回路(図示していない)へ供給する電源ライン3と、電
源電圧VCC2を第2の内部回路(図示していない)へ
供給する電源ライン5と、電源切換回路7とを備える。
ここで、電源切換回路7は、電源ライン3と電源ライン
5の間に接続され、ゲートには信号φが供給されるNチ
ャネルMOSトランジスタNT1と、信号φを反転させ
るインバータ9と、電源ライン3と電源ライン5との間
に接続され、ゲートには信号φの反転信号が供給される
PチャネルMOSトランジスタPT1とを含む。
As shown in FIG. 1, the semiconductor memory device according to the first embodiment includes a power supply line 3 for supplying a power supply voltage VCC1 to a first internal circuit (not shown) and a power supply voltage VCC2. A power supply line 5 for supplying power to a second internal circuit (not shown) and a power supply switching circuit 7 are provided.
The power supply switching circuit 7 is connected between the power supply line 3 and the power supply line 5 and has an N-channel MOS transistor NT1 supplied with a signal φ at its gate, an inverter 9 for inverting the signal φ, and a power supply line 3 And a power supply line 5, a P-channel MOS transistor PT1 having a gate supplied with an inverted signal of signal φ.

【0022】ここで、信号φがハイレベルのときNチャ
ネルMOSトランジスタNT1とPチャネルMOSトラ
ンジスタPT1が共にオンするため、電源ライン3と電
源ライン5が接続される。また、信号φがローレベルの
ときは、NチャネルMOSトランジスタNT1とPチャ
ネルMOSトランジスタPT1は共にオフとなるため、
電源ライン3と電源ライン5が切り離される。
Here, when signal φ is at a high level, both N-channel MOS transistor NT1 and P-channel MOS transistor PT1 are turned on, so that power supply line 3 and power supply line 5 are connected. When signal φ is at a low level, both N-channel MOS transistor NT1 and P-channel MOS transistor PT1 are turned off.
The power supply line 3 and the power supply line 5 are cut off.

【0023】なお、電源ライン3と電源ライン5はそれ
ぞれ、内部回路に電源電圧VCC1,VCC2を供給す
るものであるが、それぞれ、内部回路に接地電圧VSS
1,VSS2を供給するものであっても同様に考えられ
る。このことは、以下のすべての実施の形態においても
同じことが言える。
The power supply line 3 and the power supply line 5 supply the power supply voltages VCC1 and VCC2 to the internal circuits, respectively.
1 and VSS2 are also considered. The same can be said for all the following embodiments.

【0024】図2は、本実施の形態1に係る半導体記憶
装置のメモリ部とその周辺回路の構成を示す図である。
図2に示されるように、この半導体記憶装置は、メモリ
部13と、ビット線対BL,/BLと、コラム選択線1
8と、ビット線対BL,/BLの電位差を増幅するセン
スアンプ15と、センスアンプ15を駆動するセンスア
ンプ駆動回路21と、ビット線対BL,/BLの電位を
等しくするビット線イコライズ部11と、データを入出
力するI/Oゲート17と、ワード線WL0〜WLn
と、ワード線WL0〜WLnを選択する行デコーダ19
と1/2VCC,VCCなどの基準電圧VBLを供給す
る基準電圧供給線10と、信号/RAS活性後に非活性
となる信号BLEQを供給する信号線12とを備える。
FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the memory section and its peripheral circuits of the semiconductor memory device according to the first embodiment.
As shown in FIG. 2, the semiconductor memory device includes a memory section 13, a bit line pair BL and / BL, and a column selection line 1
8, a sense amplifier 15 for amplifying the potential difference between the pair of bit lines BL and / BL, a sense amplifier driving circuit 21 for driving the sense amplifier 15, and a bit line equalizing unit 11 for equalizing the potentials of the pair of bit lines BL and / BL. , I / O gate 17 for inputting / outputting data, and word lines WL0-WLn
And a row decoder 19 for selecting word lines WL0 to WLn.
And a reference voltage supply line 10 for supplying a reference voltage VBL such as 1/2 VCC and VCC, and a signal line 12 for supplying a signal BLEQ which becomes inactive after activation of the signal / RAS.

【0025】図3は、上記信号φを発生する回路の構成
を示す図である。図3に示されるように、この回路は、
ワード線WL0〜WLnに接続されたOR回路23と、
偶数個のインバータチェーンからなる遅延回路25と、
インバータ27,31と、NAND回路29とを備え
る。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a circuit for generating the signal φ. As shown in FIG.
An OR circuit 23 connected to the word lines WL0 to WLn,
A delay circuit 25 comprising an even number of inverter chains;
Inverters 27 and 31 and a NAND circuit 29 are provided.

【0026】次に、本実施の形態1に係る半導体記憶装
置の動作を図4のタイミング図を参照して説明する。
Next, the operation of the semiconductor memory device according to the first embodiment will be described with reference to the timing chart of FIG.

【0027】図4(a)に示されるように、入力される
信号ext./RASが活性化されると、図4(b)に
示される信号BLEQが非活性となる。ここで、たとえ
ば、信号ext./RASが活性化されたときに取込ん
だロウアドレスがワード線WL0を選択するものである
としたとき、図4(c)に示されるように、ワード線W
L0の電位がハイ(H)レベルとなる。ワード線WL0
が活性化されると、それに伴い図4(f),(g)に示
されるように、ビット線対BL,/BLの電位差をセン
スするための活性化された信号/SAN,SAPがセン
スアンプ駆動回路21からセンスアンプ15へ供給され
る。
As shown in FIG. 4A, the input signal ext. When / RAS is activated, signal BLEQ shown in FIG. 4B becomes inactive. Here, for example, the signal ext. Assuming that the row address taken when / RAS is activated selects the word line WL0, as shown in FIG.
The potential of L0 becomes high (H) level. Word line WL0
Are activated, as shown in FIGS. 4F and 4G, activated signals / SAN and SAP for sensing the potential difference between the pair of bit lines BL and / BL are applied to the sense amplifier. It is supplied from the drive circuit 21 to the sense amplifier 15.

【0028】また、ワード線WL0が活性化されると、
図3に示されるように、遅延回路25で遅延されたセン
ス完了信号SCが発生され、信号REFとにより信号φ
が生成される。
When the word line WL0 is activated,
As shown in FIG. 3, a sense completion signal SC delayed by delay circuit 25 is generated, and a signal φ is generated by signal REF.
Is generated.

【0029】ここで、信号REFは、CBRリフレッシ
ュ、セルフリフレッシュなどのデータ出力をしないとき
に発生する信号である。
Here, the signal REF is a signal generated when data output such as CBR refresh and self refresh is not performed.

【0030】以上より、本実施の形態1に係る半導体記
憶装置によれば、メモリセルから出力されたデータをセ
ンスアンプ15がセンスするときには、電源ライン3と
電源ライン5とが切り離され、正常なセンス動作が担保
される一方、センス動作完了後は電源ライン3と電源ラ
イン5が接続されるため、データ出力能力が向上され
る。
As described above, according to the semiconductor memory device of the first embodiment, when data output from a memory cell is sensed by sense amplifier 15, power supply line 3 and power supply line 5 are disconnected from each other, and While the sensing operation is ensured, the power supply line 3 and the power supply line 5 are connected after the completion of the sensing operation, so that the data output capability is improved.

【0031】[実施の形態2]図5は、本発明の実施の
形態2に係る半導体記憶装置の電源ラインとその切換部
の構成を示す図である。
[Second Embodiment] FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a power supply line and a switching unit thereof in a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【0032】図5に示されるように、本実施の形態2に
係る半導体記憶装置は、上記実施の形態1に係る半導体
記憶装置と同様に、電源ライン3,5と、電源切換回路
7とを備え、さらに、電圧検出部33,39と、NOR
回路45と、インバータ47とを備える。ここで、電圧
検出部33は、基準電圧Vref1と電源電圧VCC1
とを比較する比較器35とインバータ37を含み、電圧
検出部39は、基準電圧Vref2と電源電圧VCC2
とを比較する比較器41とインバータ43を含む。
As shown in FIG. 5, the semiconductor memory device according to the second embodiment includes power supply lines 3 and 5 and power supply switching circuit 7 in the same manner as the semiconductor memory device according to the first embodiment. And voltage detecting units 33 and 39, and NOR
The circuit includes a circuit 45 and an inverter 47. Here, the voltage detection unit 33 includes a reference voltage Vref1 and a power supply voltage VCC1.
, And a voltage detection unit 39 includes a reference voltage Vref2 and a power supply voltage VCC2.
, And a comparator 41 for comparing.

【0033】次に、上記半導体記憶装置の動作を説明す
る。電源電圧VCC1または電源電圧VCC2が、それ
ぞれ、基準電圧Vref1または基準電圧Vref2よ
り低い場合は、NOR回路45に入力する信号LVCC
1または信号LVCC2はハイレベルとなるため、電源
切換回路7に入力される信号φはハイレベルとなる。よ
って、NチャネルMOSトランジスタNT1とPチャネ
ルMOSトランジスタPT1は共にオンして電源ライン
3と電源ライン5が接続される。これより、この場合
は、電源が強化される。
Next, the operation of the semiconductor memory device will be described. When the power supply voltage VCC1 or the power supply voltage VCC2 is lower than the reference voltage Vref1 or the reference voltage Vref2, respectively, the signal LVCC input to the NOR circuit 45 is output.
1 or the signal LVCC2 goes high, so that the signal φ input to the power supply switching circuit 7 goes high. Therefore, N-channel MOS transistor NT1 and P-channel MOS transistor PT1 are both turned on, and power supply line 3 and power supply line 5 are connected. Thus, in this case, the power supply is strengthened.

【0034】一方、電源電圧VCC1が基準電圧Vre
f1より高く、かつ、電源電圧VCC2が基準電圧Vr
ef2より高い場合は、NOR回路45に入力される2
つの信号LVCC1,LVCC2は共にロー(L)レベ
ルとなるので、電源切換回路7に入力される信号φはロ
ーレベルとなる。よって、NチャネルMOSトランジス
タNT1とPチャネルMOSトランジスタPT1は共に
オフして電源ライン3と電源ライン5が切り離される。
これより、この場合は、出力回路や周辺回路におけるノ
イズの発生が軽減される。
On the other hand, when the power supply voltage VCC1 is changed to the reference voltage Vre
f1 and the power supply voltage VCC2 is equal to the reference voltage Vr.
If it is higher than ef2, 2
Since the two signals LVCC1 and LVCC2 are both at a low (L) level, the signal φ input to the power supply switching circuit 7 is at a low level. Therefore, both N-channel MOS transistor NT1 and P-channel MOS transistor PT1 are turned off, and power supply line 3 and power supply line 5 are disconnected.
Thus, in this case, generation of noise in the output circuit and the peripheral circuit is reduced.

【0035】[実施の形態3]図6は、本発明の実施の
形態3に係る半導体記憶装置の電源ラインとその切換部
の構成を示す図である。
[Third Embodiment] FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a power supply line and a switching unit thereof in a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【0036】図6に示されるように、本実施の形態3に
係る半導体記憶装置は、上記実施の形態に係る半導体記
憶装置と同様に、電源ライン3,5と、電源切換回路7
とを備える。但し、電源ライン3は内部回路(図示して
いない)に接続されるとともに抵抗Rを有し、電源ライ
ン5は出力回路(図示していない)に接続されるととも
に抵抗RQ を有し、電流iが流れるものである。
As shown in FIG. 6, the semiconductor memory device according to the third embodiment has power supply lines 3 and 5 and a power supply switching circuit 7 similar to the semiconductor memory device according to the above embodiment.
And However, the power supply line 3 has the resistance R is connected to the internal circuit (illustrated not), power supply line 5 has a resistance R Q is connected to an output circuit (not shown), the current i flows.

【0037】また、本実施の形態3に係る半導体記憶装
置は、抵抗RQ 内の点Aの電位V1と点Bの電位V2を
それぞれ電位V1′,V2′に増幅するクロスカップル
型,差動型などの増幅回路49と、電位V1′と電位V
2′の差が所定値より大きいか否かを判定するレベル判
定部51を備える。
Further, the semiconductor memory device according to the third embodiment, the resistor R respectively potentials potential V2 of the potential V1 and the point B of the point A in Q V1 ', V2' cross-coupled to amplify the differential Amplifying circuit 49 such as a mold, potential V1 'and potential V
A level determining unit 51 is provided for determining whether the difference 2 'is greater than a predetermined value.

【0038】次に、本実施の形態3に係る半導体記憶装
置の動作を説明する。たとえば、同期型半導体記憶装置
におけるバーストリード時など電流iが大きい場合は、
抵抗RQ における電圧降下により、電位V1と電位V2
の差が大きくなる。したがって、電位V1′と電位V
2′の差も大きくなる。このとき、電位V1′と電位V
2′の差が所定値を超えると、レベル判定部51は、ハ
イレベルを有する信号φを出力する。このため、Nチャ
ネルMOSトランジスタNT1とPチャネルMOSトラ
ンジスタPT1は共にオンして電源ライン3と電源ライ
ン5が接続される。
Next, the operation of the semiconductor memory device according to the third embodiment will be described. For example, when the current i is large, such as during a burst read in a synchronous semiconductor memory device,
The voltage drop across the resistor R Q, potentials V1 and V2
The difference becomes large. Therefore, the potential V1 'and the potential V
2 'also increases. At this time, the potential V1 'and the potential V
When the difference of 2 ′ exceeds a predetermined value, level determining section 51 outputs signal φ having a high level. Therefore, both N-channel MOS transistor NT1 and P-channel MOS transistor PT1 are turned on, and power supply line 3 and power supply line 5 are connected.

【0039】以上により、消費される電流iが大きい場
合には、電源電流が分散され、エレクトロマイグレーシ
ョンによる断線が防止できる。
As described above, when the consumed current i is large, the power supply current is dispersed, and disconnection due to electromigration can be prevented.

【0040】一方、電流iが小さい場合は、抵抗RQ
おける電圧降下により、電位V1と電位V2の差が小さ
くなる。したがって、電位V1′と電位V2′の差も小
さくなる。このとき、電位V1′と電位V2′の差が所
定値に満たないと、レベル判定部51は、ローレベルを
有する信号φを出力する。このためNチャネルMOSト
ランジスタNT1とPチャネルMOSトランジスタPT
1は共にオフして電源ライン3と電源ライン5が切り離
される。
On the other hand, when the current i is small, the voltage drop across the resistor R Q, the difference between the potentials V1 and V2 is reduced. Therefore, the difference between the potential V1 'and the potential V2' also becomes small. At this time, if the difference between potential V1 'and potential V2' is less than a predetermined value, level determining section 51 outputs signal φ having a low level. Therefore, N-channel MOS transistor NT1 and P-channel MOS transistor PT
1 are both turned off, and the power supply line 3 and the power supply line 5 are disconnected.

【0041】以上により、消費される電流iが小さい場
合には、出力回路および内部回路のノイズが軽減され
る。
As described above, when the consumed current i is small, the noise of the output circuit and the internal circuit is reduced.

【0042】[実施の形態4]図7は、本発明の実施の
形態4に係る半導体記憶装置の電源ラインとその切換部
の構成を示す図である。
[Fourth Embodiment] FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a power supply line and a switching portion thereof of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

【0043】図7に示されるように、本実施の形態4に
係る半導体記憶装置は、電源ライン3,5と、両電源ラ
イン3,5を接続するヒューズ53を備える。
As shown in FIG. 7, the semiconductor memory device according to the fourth embodiment includes power supply lines 3 and 5, and a fuse 53 connecting both power supply lines 3 and 5.

【0044】一般に、半導体記憶装置は、ウェハプロセ
ス工程と、それに続くアセンブリ工程によって製造され
るが、ウェハプロセス工程後には不要部分を冗長回路に
置換えるためヒューズを切るレーザトリミングが行なわ
れる。
Generally, a semiconductor memory device is manufactured by a wafer process step and a subsequent assembly step. After the wafer process step, laser trimming for cutting a fuse is performed to replace an unnecessary portion with a redundant circuit.

【0045】ここで、使用する電源電圧VCC1,VC
C2の大きさにより、このレーザトリミング工程で、ヒ
ューズ53を切ることによって、製品完成前に、予め接
続された電源ライン3,5を切り離すことができる。
Here, the power supply voltages VCC1, VC used
By cutting the fuse 53 in the laser trimming process according to the size of C2, the power lines 3 and 5 connected in advance can be cut off before the product is completed.

【0046】[実施の形態5]図8は、本発明の実施の
形態5に係る半導体記憶装置の電源ラインとその切換部
の構成を示す図である。
[Fifth Embodiment] FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a power supply line and a switching section thereof in a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention.

【0047】図8に示されるように、本実施の形態5に
係る半導体記憶装置は、電源ライン3,5と、電源ライ
ン3に接続された電源パッド55と、電源ライン5に接
続された電源パッド56とを備える。
As shown in FIG. 8, the semiconductor memory device according to the fifth embodiment has power supply lines 3 and 5, a power supply pad 55 connected to power supply line 3, and a power supply line connected to power supply line 5. And a pad 56.

【0048】本実施の形態に係る半導体記憶装置では、
アセンブリ工程において電源パッド55と電源パッド5
6をワイヤ57で接続することによって、製品完成前に
電源を強化することができる。
In the semiconductor memory device according to the present embodiment,
In the assembly process, the power supply pad 55 and the power supply pad 5
By connecting 6 with wires 57, the power supply can be strengthened before the product is completed.

【0049】[実施の形態6]本発明の実施の形態6に
係る半導体記憶装置は、図1に示される電源ライン3,
5と電源切換回路7とを備えるが、通常動作モードとテ
ストモードとを有し、さらに、図9に示されるように、
外部信号入力端子60,62,64と、テストモード検
知回路59と、NAND回路91と、インバータ93
と、遅延回路95とを備える。
[Sixth Embodiment] A semiconductor memory device according to a sixth embodiment of the present invention includes a power supply line 3 shown in FIG.
5 and a power supply switching circuit 7, which have a normal operation mode and a test mode, and further, as shown in FIG.
External signal input terminals 60, 62, 64, test mode detection circuit 59, NAND circuit 91, inverter 93
And a delay circuit 95.

【0050】ここで、テストモード検知回路59は、遅
延回路71,73,81と、NOR回路63,79と、
NAND回路69,77,83,85,87と、インバ
ータ61,65,67,75,89と、NチャネルMO
SトランジスタNT30とを含む。また、遅延回路7
1,73,81,95は、いずれも直列接続された偶数
個のインバータを含む。
Here, the test mode detection circuit 59 includes delay circuits 71, 73, 81, NOR circuits 63, 79,
NAND circuits 69, 77, 83, 85, 87, inverters 61, 65, 67, 75, 89, N-channel MO
And an S transistor NT30. Also, the delay circuit 7
Each of 1, 73, 81 and 95 includes an even number of inverters connected in series.

【0051】次に、本実施の形態6に係る半導体記憶装
置の動作を図10を参照して説明する。
Next, the operation of the semiconductor memory device according to the sixth embodiment will be described with reference to FIG.

【0052】通常はハイレベルを有し、電源オンの後所
定時間のみローレベルとなる信号IPORが、図10
(d)に示されるようにハイレベルとしてインバータ6
1に入力し、セルフリフレッシュ時以外にはハイレベル
となる信号IBBUが、図10(e)に示されるよう
に、ハイレベルとしてNAND回路77,91に入力す
る場合において、遅延回路71に入力するライトイネー
ブル信号ext./WE、遅延回路73に入力するコラ
ムアドレスストローブ信号ext./CASが図10
(c),(b)に示されるようにそれぞれ活性化され、
図10(a)に示されるように、NOR回路63に入力
するローアドレスストローブ信号ext./RASがそ
の後に活性化されると(このようなタイミングを「WC
BRタイミング」という)、図10(f)に示されるよ
うに、テストモード検知回路59はハイレベルの信号W
CBRを出力する。
A signal IPOR which normally has a high level and becomes a low level only for a predetermined time after the power is turned on is shown in FIG.
As shown in FIG.
1, the signal IBBU which goes to a high level other than during the self-refresh is input to the delay circuit 71 when the signal IBBU is input to the NAND circuits 77 and 91 as the high level as shown in FIG. Write enable signal ext. / WE, a column address strobe signal ext. / CAS is Figure 10
Activated as shown in (c) and (b), respectively.
As shown in FIG. 10A, the row address strobe signal ext. / RAS is subsequently activated (such timing is referred to as “WC
As shown in FIG. 10F, the test mode detection circuit 59 outputs the high-level signal W
Outputs CBR.

【0053】そして、信号WCBRとハイレベルの信号
IBBUがNAND回路91に入力するため、図10
(f),(g)に示されるように、信号φは信号WCB
Rがハイレベルの期間ハイレベルとされる。
The signal WCBR and the high-level signal IBBU are input to the NAND circuit 91.
As shown in (f) and (g), the signal φ is the signal WCB
R is at the high level during the high level.

【0054】以上より、通常の動作では用いないWCB
Rタイミングで外部制御信号を入力することによりテス
トモードに入った場合、電源ライン3と電源ライン5が
接続され、電源が強化される。
As described above, WCB not used in normal operation
When the test mode is entered by inputting an external control signal at R timing, the power supply line 3 and the power supply line 5 are connected, and the power supply is strengthened.

【0055】[実施の形態7]本発明の実施の形態7に
係る半導体記憶装置は、図1に示される電源ライン3,
5と電源切換回路7とを備えるが、さらに、通常動作モ
ードとテストモードとを有し、図9に示されるテストモ
ード検知回路59を備える。
[Seventh Embodiment] A semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention includes a power supply line 3 shown in FIG.
5 and a power supply switching circuit 7, and further has a normal operation mode and a test mode, and further includes a test mode detection circuit 59 shown in FIG.

【0056】また、本実施の形態7に係る半導体記憶装
置は、図11に示されるように、アドレス端子96と、
ディテクタ97と、NAND回路105,109と、イ
ンバータ107,111と、PチャネルMOSトランジ
スタPT2,PT3と、NチャネルMOSトランジスタ
NT9,NT10と、遅延回路113とを備える。
As shown in FIG. 11, the semiconductor memory device according to the seventh embodiment has an address terminal 96,
It includes a detector 97, NAND circuits 105 and 109, inverters 107 and 111, P-channel MOS transistors PT2 and PT3, N-channel MOS transistors NT9 and NT10, and a delay circuit 113.

【0057】ここで、ディテクタ97は、直列接続され
たNチャネルMOSトランジスタNT2〜NT8と、切
換部99,101,103とを含む。この切換部99,
101,103は、1層アルミ配線工程または2層アル
ミ配線工程などにおけるマスクパターンにより接続/開
放が決められる。また、NAND回路109は、Pチャ
ネルMOSトランジスタPT4,PT5と、Nチャネル
MOSトランジスタNT11,NT12とを含む。ま
た、遅延回路113は、直列接続された偶数個のインバ
ータを含む。
Here, detector 97 includes N-channel MOS transistors NT2 to NT8 connected in series, and switching units 99, 101 and 103. This switching unit 99,
Connection and disconnection of 101 and 103 are determined by a mask pattern in a one-layer aluminum wiring process or a two-layer aluminum wiring process. NAND circuit 109 includes P-channel MOS transistors PT4 and PT5 and N-channel MOS transistors NT11 and NT12. Delay circuit 113 includes an even number of inverters connected in series.

【0058】なお、ディテクタ97は、通常での使用電
圧範囲(−1.0V〜7.0V)ではNチャネルMOS
トランジスタNT11がオンしないように調整されたも
のである。
The detector 97 is an N-channel MOS transistor in a normal operating voltage range (-1.0 V to 7.0 V).
This is adjusted so that the transistor NT11 does not turn on.

【0059】次に、図12を参照して、本実施の形態7
に係る半導体記憶装置の動作を説明する。
Next, a seventh embodiment will be described with reference to FIG.
The operation of the semiconductor memory device according to the first embodiment will be described.

【0060】図12(b)に示されるハイレベルを有す
る信号IBBUがNAND回路105に入力する場合
に、図12(a)に示されるように、テストモード検知
回路からハイレベルを有する信号WCBRがNAND回
路105に入力すると、NチャネルMOSトランジスタ
NT12がオンされる。
When signal IBBU having a high level shown in FIG. 12B is input to NAND circuit 105, signal WCBR having a high level is output from test mode detection circuit as shown in FIG. When input to NAND circuit 105, N-channel MOS transistor NT12 is turned on.

【0061】また、アドレス端子96に、アドレス信号
A1として通常での使用電圧範囲を超える9.0Vの電
圧が与えられると、ディテクタ97内のNチャネルMO
SトランジスタNT2〜NT8が順次オンしてNチャネ
ルMOSトランジスタNT11がオンする。これより、
NAND回路109からは、ローレベルの信号が出力さ
れ、図12(d)に示されるように、信号ISVDFは
ハイレベルとなる。信号ISVDFは、遅延回路113
で遅延されて図12(e)に示されるように、ハイレベ
ルを有する信号φが発生される。このハイレベルを有す
る信号φにより、電源ライン3と電源ライン5が接続さ
れ電源が強化される。
When a voltage of 9.0 V exceeding the normal operating voltage range is applied to the address terminal 96 as the address signal A1, an N-channel MO in the detector 97 is provided.
S transistors NT2 to NT8 are sequentially turned on, and N channel MOS transistor NT11 is turned on. Than this,
A low level signal is output from the NAND circuit 109, and the signal ISVDF goes high as shown in FIG. The signal ISVDF is supplied to the delay circuit 113
And a signal φ having a high level is generated as shown in FIG. The power supply line 3 and the power supply line 5 are connected by the signal φ having the high level, and the power supply is strengthened.

【0062】以上より、本実施の形態7に係る半導体記
憶装置によれば、通常の動作では用いないWCBRタイ
ミングで外部制御信号を入力し、かつ、外部からアドレ
ス信号A1を供給することにより電源ライン3,5を接
続でき、テストモードで過誤なく電源の強化を図ること
ができる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the seventh embodiment, an external control signal is input at a WCBR timing that is not used in a normal operation, and an address signal A1 is supplied from the outside, so that the power supply line 3, 5 can be connected, and the power supply can be strengthened without error in the test mode.

【0063】なお、本実施の形態7においては、アドレ
ス端子96の代わりにスペックで使用しない空き端子で
置き換えても同様に考えることができる。
In the seventh embodiment, it can be similarly considered that the address terminal 96 is replaced with an unused terminal not used in the specification.

【0064】[実施の形態8]本実施の形態8に係る半
導体記憶装置は、図1に示される電源ライン3,5と、
電源切換回路7とを備え、さらに、図13に示されるよ
うに、スペックで使用されない空き端子115と、空き
端子に接続されたディテクタ97と、NAND回路11
7とインバータ119とを備える。
[Eighth Embodiment] A semiconductor memory device according to an eighth embodiment includes power supply lines 3 and 5 shown in FIG.
As shown in FIG. 13, the power supply switching circuit 7 is further provided with an empty terminal 115 not used in the specification, a detector 97 connected to the empty terminal, and a NAND circuit 11.
7 and an inverter 119.

【0065】次に、本実施の形態8に係る半導体記憶装
置の動作を図14を参照して説明する。
Next, the operation of the semiconductor memory device according to the eighth embodiment will be described with reference to FIG.

【0066】図14(b)に示されるハイレベルの信号
IBBUがNAND回路117に入力される場合に、空
き端子115へ図14(a)に示されるような、通常使
用電圧範囲(−1.0V〜7.0V)を超える9.0V
の電圧NCが供給されると、NAND回路117からは
ローレベルの信号が出力されてインバータ119で反転
されるため、図14(c)に示されるように、ハイレベ
ルを有する信号φが発生される。これにより、電源ライ
ン3と電源ライン5が接続される。
When the high-level signal IBBU shown in FIG. 14B is input to the NAND circuit 117, the normally used voltage range (-1. 9.0 V exceeding 0 V to 7.0 V)
When the voltage NC is supplied, a low-level signal is output from the NAND circuit 117 and inverted by the inverter 119, so that a signal φ having a high level is generated as shown in FIG. You. Thereby, the power supply line 3 and the power supply line 5 are connected.

【0067】以上より、本実施の形態8に係る半導体記
憶装置によれば、空き端子に所定の電圧を供給すること
により電源ラインを接続でき、空き端子の有効な利用が
図られる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the eighth embodiment, the power supply line can be connected by supplying a predetermined voltage to the vacant terminal, and the vacant terminal can be effectively used.

【0068】[実施の形態9]図15は、本発明の実施
の形態9に係る半導体記憶装置の電源電圧供給部の構成
を示す回路図である。
[Ninth Embodiment] FIG. 15 is a circuit diagram showing a configuration of a power supply voltage supply section of a semiconductor memory device according to a ninth embodiment of the present invention.

【0069】図15に示されるように、本実施の形態9
に係る半導体記憶装置は、外部電源電圧Ext.VCC
を供給する外部電源電圧線121と、内部回路(図示し
ていない)へ内部電源電圧int.VCCを供給する内
部電源電圧線123と、降圧回路125と、降圧電圧決
定部127と、供給電圧切換回路129とを備える。
As shown in FIG. 15, the ninth embodiment
The semiconductor memory device according to the external power supply voltage Ext. VCC
And an internal power supply voltage int. To an internal circuit (not shown). It includes an internal power supply voltage line 123 for supplying VCC, a step-down circuit 125, a step-down voltage determining unit 127, and a supply voltage switching circuit 129.

【0070】ここで、降圧回路125は、ダイオード接
続され、かつ、外部電源電圧線121と接地ノードとの
間に直列接続されたNチャネルMOSトランジスタNT
13〜NT16を含み、供給電圧切換回路129は、信
号φを反転させるインバータ131と、外部電源電圧線
121と内部電源電圧線123との間に接続されゲート
に信号φを受けるNチャネルMOSトランジスタNT1
7と、外部電源電圧線121と内部電源電圧線123と
の間に接続されゲートに信号φの反転信号を受けるPチ
ャネルMOSトランジスタPT6と、降圧電圧決定部1
27と内部電源電圧線123との間に接続されゲートに
信号φを受けるPチャネルMOSトランジスタPT7
と、降圧電圧決定部127と内部電源電圧線123との
間に接続されゲートには信号φの反転信号を受けるNチ
ャネルMOSトランジスタNT18とを含む。
Here, step-down circuit 125 is an N-channel MOS transistor NT which is diode-connected and connected in series between external power supply voltage line 121 and a ground node.
13 to NT16, supply voltage switching circuit 129 includes an inverter 131 for inverting signal φ, and an N-channel MOS transistor NT1 connected between external power supply voltage line 121 and internal power supply voltage line 123 to receive signal φ at its gate.
7, a P-channel MOS transistor PT6 connected between external power supply voltage line 121 and internal power supply voltage line 123 and receiving at its gate an inverted signal of signal φ, and step-down voltage determining unit 1
P-channel MOS transistor PT7 connected between transistor 27 and internal power supply voltage line 123 to receive signal φ at its gate.
And an N-channel MOS transistor NT18 connected between down-converted voltage determining section 127 and internal power supply voltage line 123 and receiving an inverted signal of signal φ at its gate.

【0071】また、降圧電圧決定部127は、1層アル
ミ配線工程および2層アルミ配線工程で使用されるマス
クパターンによりその接続が決定されるものである。
The connection of the step-down voltage determining unit 127 is determined by a mask pattern used in the single-layer aluminum wiring process and the double-layer aluminum wiring process.

【0072】なお、信号φは、上記実施の形態6から8
で記されたいずれかの回路と同様な回路で発生されるも
のである。
It should be noted that signal φ is equal to that in the sixth to eighth embodiments.
This is generated by a circuit similar to any of the circuits described by.

【0073】次に、本実施の形態9に係る半導体記憶装
置の動作を図16を参照して説明する。以下において
は、例として、図16に示されるように、降圧電圧決定
部127は、NチャネルMOSトランジスタNT13の
ソースとNチャネルMOSトランジスタNT18のドレ
インおよびPチャネルMOSトランジスタPT7のソー
スとを接続し、降圧回路125から供給電圧切換回路1
29へは、NチャネルMOSトランジスタNT13のし
きい値電圧Vth分電源電圧VCCより低い電圧VCC
−Vthが供給されるものとする。
Next, the operation of the semiconductor memory device according to the ninth embodiment will be described with reference to FIG. In the following, as an example, as shown in FIG. 16, the step-down voltage determining unit 127 connects the source of the N-channel MOS transistor NT13, the drain of the N-channel MOS transistor NT18, and the source of the P-channel MOS transistor PT7, Step-down circuit 125 to supply voltage switching circuit 1
29, the voltage VCC lower than the power supply voltage VCC by the threshold voltage Vth of the N-channel MOS transistor NT13.
−Vth is supplied.

【0074】まず最初に、供給電圧切換回路129に供
給される信号φがハイレベルのときは、NチャネルMO
SトランジスタNT17とPチャネルMOSトランジス
タPT6がオンして外部電源電圧線121と内部電源電
圧線123が接続される。これにより、図16(b)に
示されるように、外部電源電圧Ext.VCCが内部電
源電圧int.VCCとして内部回路(図示していな
い)に供給される。
First, when the signal φ supplied to the supply voltage switching circuit 129 is at the high level, the N-channel MO
S transistor NT17 and P channel MOS transistor PT6 are turned on, and external power supply voltage line 121 and internal power supply voltage line 123 are connected. Thus, as shown in FIG. 16B, the external power supply voltage Ext. VCC is the internal power supply voltage int. It is supplied to an internal circuit (not shown) as VCC.

【0075】次に、供給電圧切換回路129に供給され
る信号φが、図16(a)に示されるようにローレベル
となった場合は、PチャネルMOSトランジスタPT7
とNチャネルMOSトランジスタNT18がオンするた
め、降圧回路125と内部電源電圧線123が接続され
る。これより、図16(b)に示されるように、内部電
源電圧int.VCCとして電圧VCC−Vthが内部
回路(図示していない)に供給される。
Next, when signal φ supplied to supply voltage switching circuit 129 attains a low level as shown in FIG. 16A, P-channel MOS transistor PT7
And N channel MOS transistor NT18 are turned on, so that voltage down converter 125 and internal power supply voltage line 123 are connected. Thus, as shown in FIG. 16B, the internal power supply voltage int. A voltage VCC-Vth is supplied to an internal circuit (not shown) as VCC.

【0076】以上より、本実施の形態9に係る半導体記
憶装置によれば、テストモード時あるいは空き端子に外
部から所定値より大きな電圧が供給されたときは、外部
電源電圧をそのまま内部電源電圧として内部回路に供給
するとともに、通常の動作においては外部電源電圧を降
圧した電圧を内部回路に供給することができるため、選
択的に異なる大きさの電圧を内部電源電圧として内部回
路に供給することができる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the ninth embodiment, in the test mode or when a voltage higher than the predetermined value is supplied from outside to the empty terminal, the external power supply voltage is directly used as the internal power supply voltage. In addition to supplying to the internal circuit, in normal operation, a voltage obtained by stepping down the external power supply voltage can be supplied to the internal circuit, so that a voltage of a different magnitude can be selectively supplied to the internal circuit as the internal power supply voltage. it can.

【0077】また、半導体記憶装置に発生したスパイク
ノイズを、信号φのレベルをコントロールすることによ
り再現して、そのスパイクノイズを評価することができ
る。
Further, spike noise generated in the semiconductor memory device can be reproduced by controlling the level of signal φ, and the spike noise can be evaluated.

【0078】[実施の形態10]図17は、本発明の実
施の形態10に係る半導体記憶装置の電源電圧供給部の
構成を示す図である。
[Embodiment 10] FIG. 17 shows a structure of a power supply voltage supply section of a semiconductor memory device according to an embodiment 10 of the present invention.

【0079】図17に示されるように、本実施の形態1
0に係る半導体記憶装置は、上記実施の形態9に係る半
導体記憶装置と同様に、外部電源電圧線121と、内部
電源電圧線123と、降圧回路125と、降圧電圧決定
部133と、供給電圧切換回路135とを備える。
As shown in FIG. 17, the first embodiment
0, the external power supply voltage line 121, the internal power supply voltage line 123, the step-down circuit 125, the step-down voltage determining unit 133, and the supply voltage. A switching circuit 135.

【0080】ここで、降圧回路125は、ダイオード接
続され、かつ、直列接続されたNチャネルMOSトラン
ジスタNT13〜NT16を含み、降圧電圧決定部13
3は、1層アルミ配線工程または2層アルミ配線工程な
どにおいて使用されるマスクのパターンによりその接続
が決定される。
Here, step-down circuit 125 includes N-channel MOS transistors NT13 to NT16 which are diode-connected and connected in series.
The connection 3 is determined by a mask pattern used in a one-layer aluminum wiring process or a two-layer aluminum wiring process.

【0081】また、供給電圧切換回路135は、外部電
源電圧線121と内部電源電圧線123との間に接続さ
れ、ゲートには信号φが供給されるNチャネルMOSト
ランジスタNT19と、信号φを反転させるインバータ
137と、NチャネルMOSトランジスタNT13のソ
ースと内部電源電圧線123との間に接続されゲートに
は信号φ1が供給されるPチャネルMOSトランジスタ
PT9と、信号φ1を反転させるインバータ139と、
NチャネルMOSトランジスタNT13のソースと内部
電源電圧線123との間に接続されゲートには信号φ1
の反転信号が供給されるNチャネルMOSトランジスタ
NT20と、降圧電圧決定部133と内部電源電圧線1
23との間に接続されゲートには信号φ2が供給される
PチャネルMOSトランジスタPT10と、信号φ2を
反転させるインバータ141と、降圧電圧決定部133
と内部電源電圧線123との間に接続されゲートに信号
φ2の反転信号が供給されるNチャネルMOSトランジ
スタNT21とを含む。
The supply voltage switching circuit 135 is connected between the external power supply voltage line 121 and the internal power supply voltage line 123 and has an N-channel MOS transistor NT19 having a gate supplied with a signal φ, and an inverted signal φ. An inverter 137 to be connected, a P-channel MOS transistor PT9 connected between the source of the N-channel MOS transistor NT13 and the internal power supply voltage line 123 and having a gate supplied with the signal φ1, and an inverter 139 to invert the signal φ1;
The signal φ1 is connected between the source of the N-channel MOS transistor NT13 and the internal power supply voltage line 123 and has a gate connected thereto.
N-channel MOS transistor NT20 to which the inverted signal of the above is supplied, step-down voltage determining section 133 and internal power supply voltage line 1
23, a gate of which is supplied with a signal φ2, a P-channel MOS transistor PT10, an inverter 141 for inverting the signal φ2, and a step-down voltage determining unit 133.
And an internal power supply voltage line 123, and an N-channel MOS transistor NT21 whose gate is supplied with an inverted signal of signal φ2.

【0082】図18は、信号φ,φ1,φ2を発生させ
る回路の構成を示す回路図である。図18に示されるよ
うに、この回路は、空き端子143,145と、排他的
OR回路147と、NOR回路159と、NAND回路
153,155と、インバータ149,151,157
とを含む。
FIG. 18 is a circuit diagram showing a structure of a circuit for generating signals φ, φ1, φ2. As shown in FIG. 18, this circuit includes empty terminals 143 and 145, an exclusive OR circuit 147, a NOR circuit 159, NAND circuits 153 and 155, and inverters 149, 151 and 157.
And

【0083】次に、実施の形態10に係る半導体記憶装
置の動作を図19を参照して説明する。
Next, the operation of the semiconductor memory device according to the tenth embodiment will be described with reference to FIG.

【0084】ただし、以下においては、図17に示され
るように降圧電圧決定部133は、NチャネルMOSト
ランジスタNT13のソースとNチャネルMOSトラン
ジスタNT21のドレインおよびPチャネルMOSトラ
ンジスタPT10のソースとを接続するものとし、ま
た、図18に示されるインバータ157に入力される信
号IPORは、図19(c)に示されるようにハイレベ
ルであるとする。
In the following, however, as shown in FIG. 17, step-down voltage determining section 133 connects the source of N-channel MOS transistor NT13 to the drain of N-channel MOS transistor NT21 and the source of P-channel MOS transistor PT10. It is assumed that the signal IPOR input to the inverter 157 shown in FIG. 18 is at a high level as shown in FIG.

【0085】図19に示されるように、空き端子14
3,145に供給される電圧NC1,NC2がともにロ
ーレベルまたはハイレベルである時刻T0〜T1,T2
〜T3,T4〜T5においては、信号φ,φ1,φ2は
ともにハイレベルとなる。このときは、NチャネルMO
SトランジスタNT19とPチャネルMOSトランジス
タPT8がオンし、外部電源電圧線121と内部電源電
圧線123が接続される。よって、この期間は、図19
(g)に示されるように、外部電源電圧Ext.VCC
が内部電源電圧int.VCCとして内部回路(図示し
ていない)に供給される。
As shown in FIG.
3 to 145, when the voltages NC1 and NC2 are both at the low level or the high level.
From T3 to T4 to T5, the signals φ, φ1 and φ2 are all at the high level. In this case, the N-channel MO
S transistor NT19 and P channel MOS transistor PT8 are turned on, and external power supply voltage line 121 and internal power supply voltage line 123 are connected. Therefore, this period is shown in FIG.
(G), the external power supply voltage Ext. VCC
Is the internal power supply voltage int. It is supplied to an internal circuit (not shown) as VCC.

【0086】また、空き端子143に供給される電圧N
C1がハイレベルで、かつ、空き端子145に供給され
る電圧NC2がローレベルである時刻T1〜T2におい
ては、信号φ,φ1がローレベル、信号φ2がハイレベ
ルとなる。このときは、NチャネルMOSトランジスタ
NT20とPチャネルMOSトランジスタPT9がオン
するため、図19(g)に示されるように、外部電源電
圧Ext.VCCよりNチャネルMOSトランジスタN
T13のしきい値電圧Vthだけ低い電圧Ext.VC
C−Vthが内部電源電圧int.VCCとして内部回
路に供給される。
The voltage N supplied to the empty terminal 143
At times T1 to T2 when C1 is at a high level and the voltage NC2 supplied to the empty terminal 145 is at a low level, the signals φ and φ1 are at a low level, and the signal φ2 is at a high level. At this time, since N-channel MOS transistor NT20 and P-channel MOS transistor PT9 are turned on, as shown in FIG. 19 (g), external power supply voltage Ext. N-channel MOS transistor N from VCC
Text voltage Ext. VC
C-Vth is equal to the internal power supply voltage int. It is supplied to the internal circuit as VCC.

【0087】また、空き端子143に供給される電圧N
C1がローレベルで、かつ、空き端子145に供給され
る電圧NC2がハイレベルである時刻T3〜T4におい
ては、信号φ,φ2がローレベルで信号φ1がハイレベ
ルとなる。このときは、NチャネルMOSトランジスタ
NT21とPチャネルMOSトランジスタPT10がオ
ンするため、図19(g)に示されるように、外部電源
電圧Ext.VCCより2つのNチャネルMOSトラン
ジスタNT13,NT14のしきい値電圧2Vthだけ
低い電圧Ext.VCC−2Vthが内部電源電圧in
t.VCCとして内部回路に供給される。
The voltage N supplied to the empty terminal 143
During times T3 to T4 when C1 is at low level and voltage NC2 supplied to empty terminal 145 is at high level, signals φ and φ2 are at low level and signal φ1 is at high level. At this time, since the N-channel MOS transistor NT21 and the P-channel MOS transistor PT10 are turned on, the external power supply voltage Ext. VCC lower than the voltage Ext. 2 by the threshold voltage 2Vth of the two N-channel MOS transistors NT13 and NT14. VCC-2Vth is the internal power supply voltage in
t. It is supplied to the internal circuit as VCC.

【0088】以上より、本実施の形態10に係る半導体
記憶装置によれば、空き端子に供給する電圧をコントロ
ールすることにより、大きさの異なる3種類の電圧を選
択的に内部電源電圧として内部回路に供給することがで
きる。
As described above, according to the semiconductor memory device of the tenth embodiment, by controlling the voltage supplied to the vacant terminal, three types of voltages having different magnitudes can be selectively used as the internal power supply voltage. Can be supplied to

【0089】また、半導体記憶装置に発生するスパイク
ノイズを空き端子に供給する電圧の大きさをコントロー
ルすることにより、さらに精度よく再現でき、発生した
スパイクノイズをより正確に評価することができる。
Further, by controlling the magnitude of the voltage supplied to the vacant terminals, the spike noise generated in the semiconductor memory device can be reproduced more accurately, and the generated spike noise can be evaluated more accurately.

【0090】[0090]

【発明の効果】請求項1に係る半導体記憶装置によれ
ば、センスアンプが活性状態のときは電源線が切り離さ
れ、センスアンプが不活性状態のときは電源線が接続さ
れるため、センスアンプの適正な動作が実現でき、か
つ、データ出力能力を向上させることができる。
According to the semiconductor memory device of the first aspect, the power supply line is disconnected when the sense amplifier is in the active state, and the power supply line is connected when the sense amplifier is in the inactive state. Can be realized, and the data output capability can be improved.

【0091】請求項2に係る半導体記憶装置によれば、
電源電圧のレベルが低いときは電源線を接続し、電源電
圧のレベルが高いときは電源線を切り離すため、電源ノ
イズを回避するとともに、電源を強化することができ
る。
According to the semiconductor memory device of the second aspect,
When the power supply voltage level is low, the power supply line is connected, and when the power supply voltage level is high, the power supply line is disconnected, so that power supply noise can be avoided and the power supply can be strengthened.

【0092】請求項3に係る半導体記憶装置によれば、
消費電流の大きいときは電源線を接続し、消費電流が小
さいときは電源線を切り離すため、電源電流の分散によ
って断線を防止でき、かつ、ノイズを軽減して電源の信
頼性を向上させることができる。
According to the semiconductor memory device of the third aspect,
When the current consumption is high, connect the power supply line.When the current consumption is low, disconnect the power supply line.This can prevent disconnection by dispersing the power supply current, and can reduce noise to improve power supply reliability. it can.

【0093】請求項4に係る半導体記憶装置によれば、
製品完成前に電源線の切り離しを行なうことができる。
According to the semiconductor memory device of the fourth aspect,
The power supply line can be disconnected before the product is completed.

【0094】請求項5に係る半導体記憶装置によれば、
製品完成前に電源線の接続を行なうことができる。
According to the semiconductor memory device of the fifth aspect,
The power line can be connected before the product is completed.

【0095】請求項6に係る半導体記憶装置によれば、
テストモードで電源を強化することができる。
According to the semiconductor memory device of the sixth aspect,
Power can be enhanced in test mode.

【0096】請求項7に係る半導体記憶装置によれば、
テストモードで、誤動作によらず電源の強化を図ること
ができる。
According to the semiconductor memory device of the seventh aspect,
In the test mode, the power supply can be strengthened without malfunction.

【0097】請求項8に係る半導体記憶装置によれば、
外部入力端子に、所定値を超える電圧を供給することに
より電源を強化でき、外部入力端子を有効に利用するこ
とができる。
According to the semiconductor memory device of the eighth aspect,
By supplying a voltage exceeding a predetermined value to the external input terminal, the power supply can be strengthened, and the external input terminal can be used effectively.

【0098】請求項9に係る半導体記憶装置によれば、
レベルの異なる電圧を選択的に内部電源電圧として内部
回路へ供給することができるとともに、ノイズの評価を
することができる。
According to the semiconductor memory device of the ninth aspect,
Voltages having different levels can be selectively supplied to an internal circuit as an internal power supply voltage, and noise can be evaluated.

【0099】請求項10に係る半導体記憶装置によれ
ば、入力される外部制御信号のタイミングにより、レベ
ルの異なる電圧を選択的に内部電源電圧として内部回路
へ供給することができるとともに、ノイズの評価をする
ことができる。
According to the semiconductor memory device of the tenth aspect, voltages having different levels can be selectively supplied to the internal circuit as the internal power supply voltage according to the timing of the input external control signal, and the noise can be evaluated. Can be.

【0100】請求項11に係る半導体記憶装置によれ
ば、外部端子に供給される電圧に応じて、レベルの異な
る電圧を選択的に内部電源電圧として内部回路へ供給す
ることができるとともに、ノイズの評価をすることがで
きる。
According to the semiconductor memory device of the eleventh aspect, voltages having different levels can be selectively supplied to the internal circuit as the internal power supply voltage according to the voltage supplied to the external terminal, and noise can be reduced. Can be evaluated.

【0101】請求項12に係る半導体記憶装置によれ
ば、レベルの異なる3種類の電圧を選択的に内部電源電
圧として内部回路へ供給することができるとともに、ノ
イズの評価をより精度よく行なうことができる。
According to the semiconductor memory device of the twelfth aspect, three types of voltages having different levels can be selectively supplied to the internal circuit as the internal power supply voltage, and the noise can be more accurately evaluated. it can.

【0102】請求項13に係る半導体記憶装置によれ
ば、外部端子に供給される電圧に応じて、レベルの異な
る3種類の電圧を選択的に内部電源電圧として内部回路
へ供給することができる。
According to the semiconductor memory device of the thirteenth aspect, three types of voltages having different levels can be selectively supplied to the internal circuit as the internal power supply voltage according to the voltage supplied to the external terminal.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態1に係る半導体記憶装置
の電源ラインと電源切換回路の構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a power supply line and a power supply switching circuit of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施の形態1に係る半導体記憶装置
のメモリ部とその周辺回路の構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a memory unit and peripheral circuits of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention;

【図3】 図1に示される信号φを生成する回路の構成
を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of a circuit for generating signal φ shown in FIG. 1;

【図4】 本発明の実施の形態1に係る半導体記憶装置
の動作を説明するためのタイミング図である。
FIG. 4 is a timing chart for explaining an operation of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention;

【図5】 本発明の実施の形態2に係る半導体記憶装置
の電源ラインとその切換部の構成を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a power supply line and a switching unit thereof in a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】 本発明の実施の形態3に係る半導体記憶装置
の電源ラインとその切換部の構成を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a power supply line and a switching unit thereof in a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図7】 本発明の実施の形態4に係る半導体記憶装置
の電源ラインとその切換部の構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a power supply line and a switching unit thereof in a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】 本発明の実施の形態5に係る半導体記憶装置
の電源ラインとその切換部の構成を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a power supply line and a switching unit thereof in a semiconductor memory device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図9】 本発明の実施の形態6に係る半導体記憶装置
において信号φを発生させる回路の構成を示す図であ
る。
FIG. 9 is a diagram showing a configuration of a circuit for generating a signal φ in a semiconductor memory device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図10】 図9に示される回路の動作を説明するため
のタイミング図である。
FIG. 10 is a timing chart for explaining the operation of the circuit shown in FIG. 9;

【図11】 本発明の実施の形態7に係る半導体記憶装
置において信号φを発生させる回路の構成を示す図であ
る。
FIG. 11 is a diagram showing a configuration of a circuit for generating a signal φ in a semiconductor memory device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図12】 図10に示される回路の動作を説明するた
めのタイミング図である。
12 is a timing chart for explaining the operation of the circuit shown in FIG.

【図13】 本発明の実施の形態8に係る半導体記憶装
置において信号φを発生させる回路の構成を示す図であ
る。
FIG. 13 is a diagram showing a configuration of a circuit for generating a signal φ in a semiconductor memory device according to an eighth embodiment of the present invention.

【図14】 図13に示される回路の動作を説明するた
めのタイミング図である。
14 is a timing chart for explaining the operation of the circuit shown in FIG.

【図15】 本発明の実施の形態9に係る半導体記憶装
置の電源電圧供給部の構成を示す回路図である。
FIG. 15 is a circuit diagram showing a configuration of a power supply voltage supply unit of a semiconductor memory device according to a ninth embodiment of the present invention.

【図16】 図15に示される回路の動作を説明するた
めのタイミング図である。
16 is a timing chart for explaining the operation of the circuit shown in FIG.

【図17】 本発明の実施の形態10に係る半導体記憶
装置の電源電圧供給部の構成を示す回路図である。
FIG. 17 is a circuit diagram showing a configuration of a power supply voltage supply unit of a semiconductor memory device according to a tenth embodiment of the present invention.

【図18】 図17における信号φ,φ1,φ2を発生
させる回路の構成を示す回路図である。
18 is a circuit diagram showing a configuration of a circuit for generating signals φ, φ1, and φ2 in FIG.

【図19】 図17および図18に示される回路の動作
を説明するためのタイミング図である。
FIG. 19 is a timing chart for explaining the operation of the circuits shown in FIGS. 17 and 18;

【図20】 従来の半導体記憶装置の構成を示す図であ
る。
FIG. 20 is a diagram showing a configuration of a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3,5 電源ライン、7 電源切換回路、15 センス
アンプ、33,39電圧検出部、49 増幅回路、51
レベル判定部、53 ヒューズ、55,56 電源パ
ッド、59 テストモード検知回路、60,62,64
外部信号入力端子、96 アドレス端子、115,1
43,145 空き端子、125 降圧回路、129,
135 供給電圧切換回路、NT1〜NT21 Nチャ
ネルMOSトランジスタ、BL,/BL ビット線対。
3, 5 power supply line, 7 power supply switching circuit, 15 sense amplifier, 33, 39 voltage detector, 49 amplifying circuit, 51
Level determination unit, 53 fuse, 55, 56 power pad, 59 test mode detection circuit, 60, 62, 64
External signal input terminal, 96 address terminals, 115, 1
43, 145 unused terminal, 125 step-down circuit, 129,
135 supply voltage switching circuit, NT1 to NT21 N-channel MOS transistor, BL, / BL Bit line pair.

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビット線対と、 前記ビット線対の電位差を増幅するセンスアンプと、 複数の電源線と、 前記センスアンプが不活性状態のときは前記電源線の少
なくとも2つを接続し、前記センスアンプが活性状態の
ときは前記電源線をすべて切り離す切換手段とを備える
半導体記憶装置。
1. A bit line pair, a sense amplifier for amplifying a potential difference between the bit line pair, a plurality of power lines, and at least two of the power lines when the sense amplifier is inactive. Switching means for disconnecting all the power supply lines when the sense amplifier is in an active state.
【請求項2】 第1の電源線と、 第2の電源線と、 前記第1の電源線の電圧の大きさを検出する第1の検出
手段と、 前記第2の電源線の電圧の大きさを検出する第2の検出
手段と、 前記第1の検出手段で第1の所定値より大きな前記第1
の電源線の電圧の大きさが検出され、かつ、前記第2の
検出手段で第2の所定値より大きな前記第2の電源線の
電圧の大きさが検出されたときは、前記第1の電源線と
前記第2の電源線を切り離す切換手段とを備える半導体
記憶装置。
2. A first power supply line, a second power supply line, first detection means for detecting a magnitude of a voltage of the first power supply line, and a magnitude of a voltage of the second power supply line. Second detecting means for detecting the first and second values, and the first detecting means, which is larger than a first predetermined value by the first detecting means.
When the magnitude of the voltage of the power supply line is detected and the magnitude of the voltage of the second power supply line larger than a second predetermined value is detected by the second detection means, A semiconductor memory device comprising: a power supply line; and switching means for disconnecting the second power supply line.
【請求項3】 第1の内部回路に接続される第1の電源
線と、 第2の内部回路に接続される第2の電源線と、 前記第1の電源線に流れる消費電流の大きさを検出する
消費電流量検出手段と、 前記消費電流量検出手段で所定値を超える前記消費電流
の大きさが検出されたときは、前記第1の電源線と前記
第2の電源線を接続するとともに、前記消費電流量検出
手段で検出される前記消費電流の大きさが前記所定値以
下のときは、前記第1の電源線と前記第2の電源線とを
切り離す切換手段とを備える半導体記憶装置。
3. A first power supply line connected to a first internal circuit, a second power supply line connected to a second internal circuit, and a magnitude of a current consumption flowing through the first power supply line. Current consumption detecting means for detecting the power consumption, and when the current consumption exceeding a predetermined value is detected by the current consumption detecting means, the first power supply line and the second power supply line are connected. And a switching unit for disconnecting the first power supply line and the second power supply line when the magnitude of the current consumption detected by the current consumption detection unit is equal to or smaller than the predetermined value. apparatus.
【請求項4】 複数の電源線と、 前記電源線のうち少なくとも2つの前記電源線を接続す
るヒューズとを備える半導体記憶装置。
4. A semiconductor memory device comprising: a plurality of power supply lines; and a fuse connecting at least two of the power supply lines.
【請求項5】 複数の電源線と、 前記電源線のうち少なくとも2つの前記電源線を配線に
より接続するための複数の電源パッドとを備える半導体
記憶装置。
5. A semiconductor memory device comprising: a plurality of power lines; and a plurality of power pads for connecting at least two of the power lines by wiring.
【請求項6】 通常動作モードとテストモードとを有す
る半導体記憶装置であって、 第1の電源線と、 第2の電源線と、 外部制御信号の入力されるタイミングにより前記テスト
モードの発生を検知するテストモード検知手段と、 前記テストモード検知手段で検知された前記テストモー
ドでは、前記第1の電源線と前記第2の電源線とを接続
する切換手段とを備える半導体記憶装置。
6. A semiconductor memory device having a normal operation mode and a test mode, wherein the test mode is generated by a first power supply line, a second power supply line, and an input timing of an external control signal. A semiconductor memory device comprising: a test mode detecting unit for detecting; and a switching unit for connecting the first power line and the second power line in the test mode detected by the test mode detecting unit.
【請求項7】 通常動作モードとテストモードとを有す
る半導体記憶装置であって、 第1の電源線と、 第2の電源線と、 外部制御信号の入力されるタイミングにより前記テスト
モードの発生を検知するテストモード検知手段と、 外部入力端子と、 前記テストモード検知手段で前記テストモードの発生が
検知され、かつ、前記外部入力端子に所定値を超える電
圧が供給された場合、前記第1の電源線と前記第2の電
源線とを接続する切換手段とを備える半導体記憶装置。
7. A semiconductor memory device having a normal operation mode and a test mode, wherein the test mode is generated by a first power supply line, a second power supply line, and an input timing of an external control signal. A test mode detecting means for detecting, an external input terminal, and the first test mode detecting means detects the occurrence of the test mode and supplies a voltage exceeding a predetermined value to the external input terminal. A semiconductor memory device comprising: switching means for connecting a power supply line to the second power supply line.
【請求項8】 第1の電源線と、 第2の電源線と、 外部入力端子と、 前記外部入力端子に所定値を超える電圧が供給された場
合、前記第1の電源線と前記第2の電源線とを接続する
切換手段とを備える半導体記憶装置。
8. When a voltage exceeding a predetermined value is supplied to a first power supply line, a second power supply line, an external input terminal, and the external input terminal, the first power supply line and the second power supply line Switching means for connecting the power supply line to the power supply line.
【請求項9】 外部電源電圧により生成される内部電源
電圧によって動作する内部回路を有する半導体記憶装置
であって、 前記外部電源電圧を降圧する降圧手段と、 前記降圧手段から出力される電圧を前記内部電源電圧と
して前記内部回路へ供給するとともに、所定の場合に
は、前記外部電源電圧を前記内部電源電圧として前記内
部回路へ供給する切換手段とを備える半導体記憶装置。
9. A semiconductor memory device having an internal circuit operated by an internal power supply voltage generated by an external power supply voltage, wherein said step-down means lowers said external power supply voltage; Switching means for supplying the internal power supply voltage to the internal circuit as the internal power supply voltage and, in a predetermined case, supplying the external power supply voltage to the internal circuit as the internal power supply voltage.
【請求項10】 複数の外部制御信号入力端子をさらに
備え、 前記切換手段は、前記外部制御信号入力端子に外部制御
信号が所定のタイミングで入力されたとき、前記外部電
源電圧をそのまま前記内部電源電圧として前記内部回路
へ供給する、請求項9に記載の半導体記憶装置。
10. An external control signal input terminal further comprising: a plurality of external control signal input terminals, wherein when an external control signal is input to the external control signal input terminal at a predetermined timing, the switching means outputs the external power supply voltage to the internal power supply as it is. The semiconductor memory device according to claim 9, wherein the semiconductor memory device supplies a voltage to the internal circuit.
【請求項11】 外部端子をさらに備え、前記切換手段
は、前記外部端子に供給される電圧に応じて、前記外部
電源電圧をそのまま内部電源電圧として前記内部回路へ
供給する、請求項9に記載の半導体記憶装置。
11. The switching device according to claim 9, further comprising an external terminal, wherein the switching unit supplies the external power supply voltage as it is to the internal circuit as an internal power supply voltage according to a voltage supplied to the external terminal. Semiconductor storage device.
【請求項12】 外部電源電圧より生成される内部電源
電圧によって動作する内部回路を有する半導体記憶装置
であって、 前記外部電源電圧を降圧して第1の内部電源電圧を生成
する第1の降圧手段と、 前記外部電源電圧を降圧して第2の内部電源電圧を生成
する第2の降圧手段と、 前記第1の内部電源電圧、前記第2の内部電源電圧、前
記外部電源電圧のいずれかを選択的に前記内部電源電圧
として前記内部回路へ供給する切換手段とを備える半導
体記憶装置。
12. A semiconductor memory device having an internal circuit that operates with an internal power supply voltage generated from an external power supply voltage, wherein the first voltage step-down step generates a first internal power supply voltage by lowering the external power supply voltage. Means, step-down means for stepping down the external power supply voltage to generate a second internal power supply voltage, and any one of the first internal power supply voltage, the second internal power supply voltage, and the external power supply voltage Switching means for selectively supplying the internal power supply voltage to the internal circuit as the internal power supply voltage.
【請求項13】 複数の外部端子をさらに備え、 前記切換手段は、前記外部端子に供給される電圧に応じ
て、前記内部電源電圧として前記内部回路へ供給する電
圧を切換える、請求項12に記載の半導体記憶装置。
13. The system according to claim 12, further comprising a plurality of external terminals, wherein said switching means switches a voltage supplied to said internal circuit as said internal power supply voltage according to a voltage supplied to said external terminals. Semiconductor storage device.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101212723B1 (en) 2010-05-31 2012-12-14 에스케이하이닉스 주식회사 Semiconductor Apparatus

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