JPH10222870A - Optical recording medium - Google Patents
Optical recording mediumInfo
- Publication number
- JPH10222870A JPH10222870A JP9022794A JP2279497A JPH10222870A JP H10222870 A JPH10222870 A JP H10222870A JP 9022794 A JP9022794 A JP 9022794A JP 2279497 A JP2279497 A JP 2279497A JP H10222870 A JPH10222870 A JP H10222870A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- light
- information recording
- information
- transmitting layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板の一主面上に
情報記録層を有する光透過層が少なくとも１層形成さ
れ、光透過層側から再生光を照射して情報の再生を行う
光記録媒体に関する。詳しくは、光透過層の情報記録層
における反射率の関係を規定することにより、大容量化
が可能となされた光記録媒体に係わるものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light source for reproducing information by irradiating a reproduction light from the light transmission layer side with at least one light transmission layer having an information recording layer formed on one principal surface of a substrate. It relates to a recording medium. More specifically, the present invention relates to an optical recording medium whose capacity can be increased by defining the relationship between the reflectance of the light transmitting layer and the information recording layer.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、情報記録の分野においては光学情
報記録方式に関する研究が各所で進められている。この
光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えるこ
と、磁気記録方式に比べて一桁以上も高い記録密度が達
成できること、再生専用型，追記型，書換可能型のそれ
ぞれのメモリー形態に対応できる等の数々の利点を有
し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式とし
て産業用から民生用まで幅広い用途の考えられているも
のである。2. Description of the Related Art In recent years, in the field of information recording, researches on optical information recording systems have been advanced in various places. This optical information recording system is capable of non-contact recording and reproduction, achieving a recording density that is at least an order of magnitude higher than the magnetic recording system, and can be used in read-only, write-once, and rewritable memory formats. It has a number of advantages such as compatibility, and is considered as a system that can realize an inexpensive large-capacity file for a wide range of uses from industrial use to consumer use.
【０００３】その中でも特に、再生専用型のメモリー形
態に対応した光ディスクであるデジタルオーディオディ
スクや光学式ビデオディスク等は広く普及している。In particular, digital audio discs and optical video discs, which are optical discs compatible with a read-only type memory, are widely used.
【０００４】上記デジタルオーディオディスク等の光デ
ィスクは、情報信号を示すピットやグルーブ等の凹凸パ
ターンが形成された透明基板である光ディスク基板上に
アルミニウム膜等の金属薄膜よりなる反射膜が形成さ
れ、さらにこの反射膜を大気中の水分，Ｏ2 から保護す
るための保護膜が上記反射膜上に形成された構成とされ
る。なお、このような光ディスクの情報を再生する際に
は光ディスク基板側より上記凹凸パターンにレーザ光等
の再生光を照射し、その入射光と戻り光の反射率の差に
よって情報を検出する。In an optical disk such as the above digital audio disk, a reflective film made of a metal thin film such as an aluminum film is formed on an optical disk substrate which is a transparent substrate on which a concavo-convex pattern such as pits or grooves indicating information signals is formed. A protective film for protecting the reflective film from moisture and O 2 in the atmosphere is formed on the reflective film. When reproducing the information of such an optical disk, a reproduction light such as a laser beam is applied to the concave / convex pattern from the optical disk substrate side, and the information is detected based on a difference between the reflectance of the incident light and the return light.
【０００５】そして、このような光ディスクを製造する
際には、先ず射出成形等の手法により上記凹凸パターン
を有する光ディスク基板を形成し、この上に上記金属薄
膜よりなる反射膜を蒸着等の手法により形成し、さらに
その上に紫外線硬化型樹脂等を塗布して上記保護膜を形
成する。When manufacturing such an optical disk, first, an optical disk substrate having the above-mentioned concavo-convex pattern is formed by a technique such as injection molding, and a reflective film made of the metal thin film is formed thereon by a technique such as vapor deposition. Then, an ultraviolet-curing resin or the like is applied thereon to form the protective film.
【０００６】ところで、このような光ディスクにおいて
は高記録容量化が要求されており、これに対応するべ
く、凹凸パターンを光ディスク基板の一主面上に形成
し、この上に半透明膜を形成し、この半透明膜上にも凹
凸パターンを形成し、この上に反射膜を形成するように
して合計２層の情報記録層を有する光ディスクが提案さ
れている。この光ディスクは、一主面に凹凸パターンが
形成された光ディスク基板上に、スタンパーを用い、例
えば感光性樹脂法（ガラス２Ｐ法：Ｐｈｏｔｏ Ｐｏｌ
ｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）により光ディスク基板との対
向面とは反対側となる一主面上に凹凸パターンが形成さ
れている光透過層を形成し、その上にスパッタリング等
の手法により反射膜を形成して製造される。[0006] By the way, high recording capacity is required for such an optical disk, and in order to cope with this, an uneven pattern is formed on one main surface of the optical disk substrate, and a translucent film is formed thereon. There has been proposed an optical disc having a total of two information recording layers by forming a concavo-convex pattern also on the semi-transparent film and forming a reflective film thereon. This optical disk uses a stamper on an optical disk substrate having an uneven pattern formed on one principal surface, for example, by a photosensitive resin method (glass 2P method: Photo Pol).
a light transmitting layer on which a concavo-convex pattern is formed on one main surface opposite to the surface facing the optical disk substrate by immersion, and a reflective film is formed thereon by a technique such as sputtering. You.
【０００７】上記のような高記録容量化を達成する光デ
ィスクとしては、一主面に凹凸パターンが形成されてい
る２枚の光ディスク基板を凹凸パターンが形成されてい
る主面が対向するように例えば紫外線硬化型樹脂といっ
た接着剤により貼り合わせた形状の光ディスクも提案さ
れている。As an optical disk which achieves a high recording capacity as described above, for example, two optical disk substrates having an uneven pattern formed on one main surface are arranged such that the main surfaces having the uneven pattern are opposed to each other. An optical disk having a shape bonded by an adhesive such as an ultraviolet curing resin has also been proposed.
【０００８】ところが、これらの光ディスクにおいて、
記録層をさらに多層化し、さらなる高記録容量化を達成
するのは非常に困難である。これは以下に示すような理
由による。すなわち、複数層の記録層の情報の再生を１
つの対物レンズにより行おうとすると、記録層の厚さの
合計が光学ピックアップの再生光を照射するための対物
レンズの許容厚み誤差内に入るようにする必要があり、
対物レンズの性能を考慮すると、記録層の厚さの合計が
３０〜７０μｍ程度に限定されてしまい、この範囲内に
記録層を形成する場合、３層が限界とされているためで
ある。However, in these optical discs,
It is very difficult to further increase the number of recording layers to achieve a higher recording capacity. This is for the following reasons. That is, the reproduction of the information of the plurality of recording layers is performed by 1
If one objective lens is used, it is necessary to make the total thickness of the recording layer fall within an allowable thickness error of the objective lens for irradiating the reproduction light of the optical pickup,
In consideration of the performance of the objective lens, the total thickness of the recording layers is limited to about 30 to 70 μm, and when the recording layers are formed within this range, the limit is three layers.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】上記のような光ディス
ク等の光記録媒体を高記録容量化する方法として、光学
ピックアップの対物レンズの開口数（以下、ＮＡと称す
る。）を大きくして再生光のスポット径を小さくし、こ
れに合わせて記録を行うことで、高記録密度化する方法
が提案されている。As a method of increasing the recording capacity of an optical recording medium such as an optical disk as described above, the reproduction light is increased by increasing the numerical aperture (hereinafter, referred to as NA) of an objective lens of an optical pickup. There has been proposed a method of increasing the recording density by reducing the spot diameter and performing recording in accordance with this.
【００１０】このように対物レンズの開口数を大きくす
ると、再生光が照射されてこれが透過する光ディスクの
基板や光透過層の厚さを薄くする必要がある。これは、
光学ピックアップの光軸に対してディスク面が垂直から
ズレる角度（チルト角）の許容量が小さくなるためであ
り、このチルト角が基板の厚さによる収差の影響を受け
易いためである。従って基板の厚さを薄くしてチルト角
による収差の影響をなるべく小さくするようにしてい
る。As described above, when the numerical aperture of the objective lens is increased, it is necessary to reduce the thickness of the optical disk substrate and the light transmitting layer through which the reproduction light is irradiated and transmitted. this is,
This is because the allowable amount of the angle (tilt angle) at which the disk surface deviates from the perpendicular to the optical axis of the optical pickup is reduced, and the tilt angle is easily affected by aberration due to the thickness of the substrate. Therefore, the thickness of the substrate is reduced to minimize the influence of the aberration due to the tilt angle.
【００１１】しかしながら、今後、さらなる高記録密度
化が要求されるものと思われ、基板のさらなる薄型化が
必要となってくるものと思われる。そこで、例えば基板
の一主面に凹凸を形成して情報記録層とし、この上に反
射膜を設け、さらにこの上に光を透過する薄膜である光
透過層を設けるようにし、光透過層側から再生光を照射
して情報記録層の情報を再生するような光記録媒体が提
案されている。このようにすれば、光透過層を薄型化し
ていくことで対物レンズの大開口数化に対応可能であ
る。[0011] However, it is expected that a higher recording density will be required in the future, and it will be necessary to further reduce the thickness of the substrate. Therefore, for example, irregularities are formed on one main surface of the substrate to form an information recording layer, a reflective film is provided thereon, and a light transmitting layer, which is a thin film that transmits light, is provided thereon. There has been proposed an optical recording medium which reproduces information in an information recording layer by irradiating a reproducing light from the optical recording medium. This makes it possible to cope with a large numerical aperture of the objective lens by reducing the thickness of the light transmission layer.
【００１２】一方、今後のさらなる高記録密度化に対応
するべく、対物レンズのさらなる大開口数化が検討され
ており、これを達成する手段として、対物レンズと光記
録媒体との間に例えばＳＩＬ（Ｓｏｌｉｄ Ｉｍｍｅｒ
ｓｉｏｎ Ｌｅｎｓ）が配設されてなる、いわゆる２群
レンズ系を使用することが提案されている。この２群レ
ンズ系を使用すれば、レンズ間の間隔を変化させること
により、被照射体の厚みの変化に対応して収差補正を行
うことが可能である。従って、記録層を有する光透過層
を多層有する場合に、各光透過層に上記２群レンズ系の
許容厚み誤差を割り振るようにすれば、各光透過層を著
しく薄型化する必要がなく、このような２群レンズ系は
上記のような光透過層を多層有する光記録媒体の再生手
段として今後多用されるものと思われる。On the other hand, in order to cope with a further increase in recording density in the future, an increase in the numerical aperture of an objective lens is being studied. As a means for achieving this, for example, an SIL between an objective lens and an optical recording medium is used. (Solid Immer
It has been proposed to use a so-called two-unit lens system in which a S.Lens is provided. If this two-group lens system is used, it is possible to perform aberration correction in response to a change in the thickness of the irradiation object by changing the distance between the lenses. Therefore, in the case where the light transmitting layer having the recording layer is multilayered, if the allowable thickness error of the two-unit lens system is allocated to each light transmitting layer, it is not necessary to remarkably reduce the thickness of each light transmitting layer. Such a two-group lens system is expected to be frequently used in the future as a means for reproducing an optical recording medium having a plurality of light transmitting layers as described above.
【００１３】そこで本発明は、２群レンズ系に対応可能
で、多層の記録層を有しており、高記録容量化にも対応
可能な光記録媒体を提供することを目的とする。It is therefore an object of the present invention to provide an optical recording medium which is compatible with a two-group lens system, has a multilayer recording layer, and is capable of coping with a high recording capacity.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明は、基板の少なくとも一主面側に情報を示す
凹凸部が形成されて情報記録層となされており、その上
に反射膜が形成されており、さらにその上に基板に対向
する面とは反対側の主面に情報を示す凹凸部が形成され
て情報記録層となされる光透過層が少なくとも１層形成
されてなり、光透過層側から再生光を照射して情報の再
生を行う光記録媒体において、反射膜上に積層形成され
る各光透過層の情報記録層における反射率が反射膜の反
射率よりも小さくなされており、且つ各光透過層の情報
記録層における反射率が反射膜側の光透過層から最上層
となる光透過層に向かうに従って小さくなされているこ
とを特徴とするものである。In order to achieve the above object, the present invention provides an information recording layer in which at least one principal surface of a substrate is provided with an uneven portion for indicating information, and an information recording layer is formed thereon. A film is formed thereon, and at least one light-transmitting layer is formed on the main surface opposite to the surface facing the substrate. In an optical recording medium that reproduces information by irradiating reproduction light from the light transmission layer side, the reflectance of the information recording layer of each light transmission layer laminated on the reflection film is smaller than the reflectance of the reflection film. And the reflectance of each light transmission layer in the information recording layer is reduced from the light transmission layer on the reflection film side to the uppermost light transmission layer.
【００１５】上記本発明の光記録媒体において、各光透
過層の情報記録層における反射率を反射膜側の光透過層
から最上層となる光透過層に向かうに従って小さくする
方法としては、各光透過層の情報記録層上に半透明膜を
それぞれ積層形成するようにし、これら半透明膜を同一
の材質により形成し、各半透明膜の厚さを反射膜側から
最上層に向かうに従って薄くする方法、各情報記録層上
の半透明膜をそれぞれ異なる材質により形成する方法が
好ましく例示される。In the optical recording medium of the present invention, as a method of reducing the reflectance of the information recording layer of each light transmitting layer from the light transmitting layer on the reflective film side to the light transmitting layer which is the uppermost layer, each light transmitting layer is Translucent films are laminated on the information recording layer of the transmissive layer. These translucent films are formed of the same material, and the thickness of each translucent film is reduced from the reflective film side to the uppermost layer. A preferred example is a method, and a method of forming a translucent film on each information recording layer with a different material.
【００１６】なお、前者の方法を適用した本発明の光記
録媒体においては、積層形成される光透過層の各情報記
録層の凹凸部の膜厚方向の大きさが各情報記録層上の半
透明膜の厚さに合わせて変更されていることが好まし
い。In the optical recording medium of the present invention to which the former method is applied, the size in the thickness direction of the uneven portion of each information recording layer of the light transmitting layer formed by lamination is half the thickness of each information recording layer. It is preferable that the thickness be changed according to the thickness of the transparent film.
【００１７】また、本発明の光記録媒体においては、積
層形成される光透過層の全体の厚さが３００μｍ以下と
なされていることが好ましい。積層形成される光透過層
の全体の厚さが３００μｍよりも厚いと、基板の厚さと
大差がなくなることから、光透過層側から再生光を照射
する必要がなくなってしまう。Further, in the optical recording medium of the present invention, it is preferable that the total thickness of the light transmitting layer formed by lamination is 300 μm or less. If the total thickness of the light transmitting layer formed by lamination is greater than 300 μm, there is no great difference from the thickness of the substrate, so that it is not necessary to irradiate reproduction light from the light transmitting layer side.
【００１８】本発明の光記録媒体においては、基板の少
なくとも一主面側に情報を示す凹凸部が形成されて情報
記録層となされており、その上に反射膜が形成されてお
り、さらにその上に基板に対向する面とは反対側の主面
に情報を示す凹凸部が形成されて情報記録層となされる
光透過層が少なくとも１層形成されており、反射膜上に
積層形成される各光透過層の情報記録層における反射率
が反射膜の反射率よりも小さくなされており、且つ各光
透過層の情報記録層における反射率が反射膜側の光透過
層から最上層となる光透過層に向かうに従って小さくな
されているため、光透過層側から再生光を照射して情報
の再生を行う場合に、上層となる情報記録層が下層とな
る情報記録層の情報の再生を妨げることがなく、各情報
記録層からの戻り光量が均等に得られ、各情報記録層の
情報が正確に再生される。また、これら多層の光透過層
に２群レンズ系の許容厚み誤差を割り振るようにすれ
ば、各光透過層を著しく薄型化する必要はなく、２群レ
ンズ系に対応可能である。In the optical recording medium of the present invention, at least one principal surface of the substrate is formed with an information recording layer by forming an uneven portion for indicating information, and a reflective film is formed thereon. On the main surface opposite to the surface facing the substrate, there is formed at least one light-transmitting layer which is formed as an information recording layer by forming a concave and convex portion indicating information and is formed on the reflective film. The light whose reflectance in the information recording layer of each light transmission layer is smaller than the reflectance of the reflection film, and whose reflectance in the information recording layer of each light transmission layer is the uppermost layer from the light transmission layer on the reflection film side. When the information is reproduced by irradiating reproduction light from the light transmission layer side, the information recording layer which is the upper layer prevents the reproduction of the information of the lower information recording layer because the size is reduced toward the transmission layer. No return from each information recording layer The amount is obtained evenly, information of each information recording layer is reproduced accurately. If the allowable thickness error of the two-lens lens system is allocated to these multiple light-transmitting layers, it is not necessary to make each light-transmitting layer extremely thin, and it is possible to cope with the two-group lens system.
【００１９】さらに、本発明の光記録媒体において、各
光透過層の情報記録層上に半透明膜をそれぞれ形成する
ようにし、これら半透明膜を同一の材質により形成し、
各半透明膜の厚さを反射膜側から最上層に向かうに従っ
て薄くする方法、或いは各情報記録層上の半透明膜をそ
れぞれ異なる材質により形成する方法により、各光透過
層の情報記録層における反射率が容易に変更され、各光
透過層の情報記録層における反射率を反射膜側の光透過
層から最上層となる光透過層に向かうに従って小さくす
ることが容易に達成される。Further, in the optical recording medium of the present invention, a semi-transparent film is formed on the information recording layer of each light-transmitting layer, and these semi-transparent films are formed of the same material.
The method of reducing the thickness of each translucent film from the reflective film side to the uppermost layer, or the method of forming the translucent film on each information recording layer with a different material, in the information recording layer of each light transmitting layer The reflectance is easily changed, and the reflectance of the information recording layer of each light transmission layer is easily reduced from the light transmission layer on the reflection film side to the uppermost light transmission layer.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的な実施の形
態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、
ここでは本発明を光ディスクに適用した例について述べ
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition,
Here, an example in which the present invention is applied to an optical disk will be described.
【００２１】本例の光ディスクは、図１に模式的に示す
ように、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂やガラスよ
りなる透明な基板１の一主面１ａに情報に応じて形成さ
れる図示しない凹凸部が形成されており、この上にアル
ミニウムや金等の金属よりなる反射膜２が形成され、さ
らにこの上に基板１との対向面とは反対側の主面３ａに
情報に応じた図示しない凹凸部が形成された第１の光透
過層３が形成され、またこの上に基板１との対向面とは
反対側の主面４ａに情報に応じた図示しない凹凸部が形
成された第２の光透過層４が形成され、さらにこの上に
基板１との対向面とは反対側の主面５ａに情報に応じた
図示しない凹凸部が形成された第３の光透過層５が形成
され、またこの上に基板１との対向面とは反対側の主面
６ａに情報に応じた図示しない凹凸部が形成された第４
の光透過層６が形成されてなるものであり、これらの上
に光透過性の保護層７が形成されてなるものである。す
なわち、本例の光ディスクにおいては、５層の情報記録
層が形成されることとなる。As shown schematically in FIG. 1, the optical disk of the present embodiment has an uneven portion (not shown) formed in accordance with information on one main surface 1a of a transparent substrate 1 made of thermoplastic resin such as polycarbonate or glass. Is formed thereon, and a reflective film 2 made of a metal such as aluminum or gold is formed thereon. Further, on this main surface 3a opposite to the surface facing the substrate 1, irregularities (not shown) corresponding to information are formed. A first light transmitting layer 3 having a portion formed thereon is formed thereon, and a second uneven portion (not shown) corresponding to information is formed on a main surface 4a opposite to the surface facing the substrate 1 thereon. A light-transmitting layer 4 is formed, and a third light-transmitting layer 5 on which a not-shown uneven portion corresponding to information is formed on a main surface 5a opposite to the surface facing the substrate 1 is formed thereon. In addition, a main surface 6a opposite to the surface facing the substrate 1 is provided thereon in accordance with information. Fourth the uneven portion (not shown) is formed
And a light-transmitting protective layer 7 is formed thereon. That is, in the optical disc of this example, five information recording layers are formed.
【００２２】そして、本例の光ディスクにおいては特
に、反射膜２上に積層形成される第１〜第４の光透過層
３，４，５，６の情報記録層における反射率が反射膜２
の反射率よりも小さくなされており、且つこれら第１〜
第４の光透過層３，４，５，６の情報記録層における反
射率が反射膜２側となる第１の光透過層３から最上層と
なる第４の光透過層６に向かうに従って小さくなされて
いる。すなわち、例えば反射膜２の反射率を８０％と
し、第１の光透過層３の情報記録層における反射率を３
３％とし、第２の光透過層４の情報記録層における反射
率を１９％とし、第３の光透過層５の情報記録層におけ
る反射率を１３％とし、第４の光透過層６の情報記録層
における反射率を１０％としている。In the optical disk of this embodiment, the reflectance of the information recording layers of the first to fourth light transmitting layers 3, 4, 5, and 6 formed on the reflective film 2 is particularly high.
Is smaller than the reflectance of
The reflectance of the information recording layers of the fourth light transmission layers 3, 4, 5, 6 decreases from the first light transmission layer 3 on the reflection film 2 side to the fourth light transmission layer 6 on the uppermost layer. It has been done. That is, for example, the reflectance of the reflective film 2 is set to 80%, and the reflectance of the first light transmitting layer 3 in the information recording layer is set to 3%.
3%, the reflectance of the second light transmission layer 4 in the information recording layer is 19%, the reflectance of the third light transmission layer 5 in the information recording layer is 13%, and the reflectance of the fourth light transmission layer 6 is 13%. The reflectance in the information recording layer is set to 10%.
【００２３】このように第１〜第４の光透過層３，４，
５，６の情報記録層における反射率を規制する方法とし
ては、第１〜第４の光透過層３，４，５，６の凹凸部が
形成されて情報記録層とされる主面３ａ，４ａ，５ａ，
６ａ上に図示しない半透明膜を形成し、これら半透明膜
を同一の材質により形成し、第１〜第４の光透過層３，
４，５，６上の半透明膜の厚さを反射膜２側の第１の光
透過層３から最上層となる第４の光透過層６に向かうに
従って薄くする方法、或いは積層形成される第１〜第４
の光透過層３，４，５，６上の半透明膜をそれぞれ異な
る材質により形成する方法が好ましく例示される。ここ
では、前者の方法を採ることとする。この場合、第１〜
第４の光透過層３，４，５，６の厚さの関係については
特に規定しないが、同じ厚さとする方が好ましい。そこ
で、本例の光ディスクにおいては、第１〜第４の光透過
層３，４，５，６の厚さをそれぞれ２５μｍとし、保護
膜７の厚さを５０μｍとすることとする。As described above, the first to fourth light transmitting layers 3, 4,
As a method of regulating the reflectance in the information recording layers 5 and 6, there are three main surfaces 3a, on which the first to fourth light transmitting layers 3, 4, 5 and 6 are formed with concave and convex portions to be the information recording layer. 4a, 5a,
6a, a semi-transparent film (not shown) is formed, and these semi-transparent films are formed of the same material.
A method in which the thickness of the translucent film on 4, 5, 6 is reduced from the first light transmission layer 3 on the reflection film 2 side to the fourth light transmission layer 6 which is the uppermost layer, or is formed by lamination. First to fourth
A preferred example is a method of forming the translucent films on the light transmitting layers 3, 4, 5, and 6 from different materials. Here, the former method is adopted. In this case, the first to first
The relationship between the thicknesses of the fourth light transmitting layers 3, 4, 5, 6 is not particularly defined, but it is preferable that the thicknesses be the same. Therefore, in the optical disc of this example, the thickness of each of the first to fourth light transmitting layers 3, 4, 5, and 6 is set to 25 μm, and the thickness of the protective film 7 is set to 50 μm.
【００２４】本例の光ディスクの情報を再生するには、
図１中に示すように第１〜第４の光透過層３，４，５，
６側、ここでは保護膜７側から、光学系の対物レンズ８
により図中矢印Ｌで示すような再生光を照射する。In order to reproduce the information on the optical disk of this embodiment,
As shown in FIG. 1, the first to fourth light transmitting layers 3, 4, 5,
From the side 6, here the protective film 7 side, the objective lens 8 of the optical system
Thus, a reproduction light as shown by an arrow L in the figure is irradiated.
【００２５】本例の光ディスクにおいては、反射膜２、
第１〜第４の光透過層３，４，５，６の情報記録層にお
ける反射率の関係を上述のようにしていることから、保
護膜７側から再生光を照射した場合に、上層となる例え
ば第４の光透過層６の一主面６ａの情報記録層が下層と
なる例えば第３の光透過層５の一主面５ａの情報記録層
の情報の再生を妨げることはなく、各情報記録層からの
戻り光が均等に得られるので、各情報記録層の情報が正
確に再生され、高記録容量化に十分対応可能である。In the optical disk of this embodiment, the reflection film 2
Since the relationship between the reflectances of the first to fourth light transmitting layers 3, 4, 5, and 6 in the information recording layer is set as described above, when the protective film 7 irradiates the reproduction light, the upper layer and the upper layer are separated. For example, the information recording layer on the one main surface 6a of the fourth light transmitting layer 6 does not hinder the reproduction of information on the information recording layer on the one main surface 5a of the third light transmitting layer 5 as a lower layer. Since the return light from the information recording layer can be obtained evenly, the information of each information recording layer can be accurately reproduced, and it is possible to sufficiently cope with an increase in the recording capacity.
【００２６】また、これら第１〜第４の光透過層３，
４，５，６に２群レンズ系の許容厚み誤差を割り振るよ
うにすれば、各光透過層を著しく薄型化する必要はな
く、２群レンズ系に対応可能である。The first to fourth light transmitting layers 3 and 4
If the allowable thickness error of the second group lens system is allocated to 4, 5, and 6, it is not necessary to remarkably reduce the thickness of each light transmission layer, and it is possible to support the second group lens system.
【００２７】さらに、本例の光記録媒体においては、積
層形成される第１〜第４の光透過層３，４，５，６上の
半透明膜を同一の材質により形成して、その膜厚のみを
変える（徐々に薄くしていく）ことにより、各光透過層
の情報記録層の反射率を反射膜側の第１の光透過層３か
ら最上層となる第４の光透過層６に向かうに従って小さ
くするようにしているため、各光透過層の情報記録層の
反射率が容易に変更され、生産性も良好である。Further, in the optical recording medium of this embodiment, the translucent films on the first to fourth light transmitting layers 3, 4, 5, 6 which are formed by lamination are formed of the same material, and the film is formed. By changing only the thickness (gradually decreasing the thickness), the reflectance of the information recording layer of each light transmission layer is changed from the first light transmission layer 3 on the reflection film side to the fourth light transmission layer 6 which is the uppermost layer. As the size decreases, the reflectance of the information recording layer of each light transmitting layer is easily changed, and the productivity is good.
【００２８】次に、本例の光記録媒体の製造方法につい
て述べる。先ず、射出成形により基板を形成する。すな
わち、図２に示すように一主面１２ａに情報を示す凹凸
部に対応する凹凸部１３が形成されたスタンパー１２が
一主面１１ａに設けられた基台１１と、一主面１５ａ側
が凹部となされている蓋部１５よりなり、これら基台１
１と蓋部１５を重ね合わせることにより、図３に示すよ
うに基台１１上のスタンパー１２の一主面１２ａと蓋部
１５の凹部となされている一主面１５ａ間に例えば厚さ
１．２ｍｍの円盤状といった基板に対応する形状の空洞
部１４が形成される金型を用意する。なお、基台１１と
スタンパー１２の略中心部には連通する貫通孔１６，１
７がそれぞれ形成されている。Next, a method for manufacturing the optical recording medium of this embodiment will be described. First, a substrate is formed by injection molding. That is, as shown in FIG. 2, a base 11 provided on one main surface 11 a is provided with a stamper 12 having an uneven portion 13 corresponding to an uneven portion indicating information on one main surface 12 a, and a concave portion provided on one main surface 15 a side. The base 1
By overlapping the cover 1 and the cover 15, the thickness of the stamper 12 between the main surface 12a of the stamper 12 on the base 11 and the main surface 15a of the recess of the cover 15, as shown in FIG. A mold in which a cavity 14 having a shape corresponding to a substrate such as a 2 mm disk is formed is prepared. It should be noted that through holes 16, 1 communicating with the base 11 and the substantially central portion of the stamper 12 are provided.
7 are formed respectively.
【００２９】そして、この貫通孔１６，１７を通じて空
洞部１４に溶融樹脂を射出し、固化させて図４に示すよ
うに金型を蓋部１５と基台１１に分解して空洞部の形状
に成形された基板２１を取り出す。この基板２１におい
ては、一主面２１ａにスタンパー１２から転写された情
報に応じて形成される凹凸部３１が形成されて情報記録
層となされていることは言うまでもない。Then, the molten resin is injected into the cavity 14 through the through holes 16 and 17 and solidified, and the mold is disassembled into the lid 15 and the base 11 as shown in FIG. The formed substrate 21 is taken out. Needless to say, the substrate 21 has an information recording layer formed by forming an uneven portion 31 formed on one main surface 21a in accordance with information transferred from the stamper 12.
【００３０】続いて図５に示すように、基板２１の一主
面２１ａにアルミニウムや金といった高反射率の反射膜
２２をスパッタリング等の真空薄膜形成手段により形成
する。この反射膜２２の厚さは１０ｎｍ〜６０ｎｍ程度
とすれば良い。なお、上記反射膜２２により基板２１の
凹凸部３１（ピットやグルーブ）が埋まってしまうこと
のないように、スタンパー１２の凹凸部１３は若干大き
めに形成しておくことが好ましい。Subsequently, as shown in FIG. 5, a reflective film 22 of high reflectivity such as aluminum or gold is formed on one main surface 21a of the substrate 21 by vacuum thin film forming means such as sputtering. The thickness of the reflection film 22 may be about 10 nm to 60 nm. It is preferable that the irregularities 13 of the stamper 12 be formed slightly larger so that the irregularities 31 (pits or grooves) of the substrate 21 are not buried by the reflection film 22.
【００３１】次に、第１の光透過層を形成すべく、図６
に示すように、第１の光透過層の情報記録層の凹凸部に
応じた凹凸部３３が一主面３２ａに形成されるスタンパ
ー３２の上記一主面３２ａに感光性樹脂３４を供給す
る。そして、図７に示すようにスタンパー３２上の感光
性樹脂３４上に反射膜２２が対向面となるように基板２
１を重ね合わせ、図中矢印Ｍで示すように面内方向に回
転させ、感光性樹脂３４を面内方向に広げて基板２１の
反射膜２２とスタンパー３２間に行き渡らせる。このと
き、面内方向の回転により余分な感光性樹脂３４は振り
切られる。また、感光性樹脂３４の厚さは回転により制
御され、ここでは１０μｍ〜５０μｍ程度となるように
し、本例においては２５μｍとする。Next, in order to form a first light transmitting layer, FIG.
As shown in (1), the photosensitive resin 34 is supplied to the one main surface 32a of the stamper 32 in which the uneven portion 33 corresponding to the uneven portion of the information recording layer of the first light transmitting layer is formed on the one main surface 32a. Then, as shown in FIG. 7, the substrate 2 is placed on the photosensitive resin 34 on the stamper 32 such that the reflection film 22 is opposed to the surface.
The photosensitive resin 34 is spread in the in-plane direction and spread between the reflection film 22 of the substrate 21 and the stamper 32 as shown in FIG. At this time, the excess photosensitive resin 34 is shaken off by the rotation in the in-plane direction. Further, the thickness of the photosensitive resin 34 is controlled by rotation, and is set to be about 10 μm to 50 μm here, and is set to 25 μm in this example.
【００３２】さらに、図８に示すように、基板２１側か
ら図中矢印Ｖで示すように紫外線を照射し、感光性樹脂
３４を硬化させる。次に、図９に示すようにスタンパー
３２を外すと、感光性樹脂が硬化して一主面２３ａ側に
情報を示す凹凸部３５が形成され情報記録層となされた
第１の光透過層２３が反射膜２２上に形成されている。Further, as shown in FIG. 8, the photosensitive resin 34 is cured by irradiating ultraviolet rays from the substrate 21 side as shown by an arrow V in the figure. Next, as shown in FIG. 9, when the stamper 32 is removed, the photosensitive resin is hardened to form an uneven portion 35 indicating information on the one main surface 23a side, and the first light transmitting layer 23 serving as an information recording layer is formed. Are formed on the reflective film 22.
【００３３】続いて、図１０に示すように、第１の光透
過層２３の一主面２３ａ上にＳｉＮ等よりなる半透明膜
３６を形成して情報記録層における反射率が３３％程度
となるようにする。このとき、凹凸部３５が半透明膜３
６を形成するＳｉＮにより埋まってしまうことがないよ
うに、凹凸部３５の厚さ方向の大きさを半透明膜３６の
厚さに対応させたものとすることが好ましい。このこと
は後述の他の光透過層においても同様である。Subsequently, as shown in FIG. 10, a translucent film 36 made of SiN or the like is formed on one main surface 23a of the first light transmitting layer 23, and the reflectivity of the information recording layer is reduced to about 33%. To be. At this time, the uneven portion 35 is
It is preferable that the size of the uneven portion 35 in the thickness direction correspond to the thickness of the translucent film 36 so as not to be buried by SiN forming the layer 6. This is the same in other light transmission layers described later.
【００３４】この後、第１の光透過層２３と同様にして
第２〜第４の光透過層を厚さが２５μｍとなるように形
成する。そしてこのとき、第２及び第３の光透過層の情
報記録層上の半透明膜の厚さを変更する（徐々に薄くす
る。）ことにより第２の光透過層から第４の光透過層に
向かうに従って情報記録層における反射率が小さくなる
ようにする。Thereafter, similarly to the first light transmitting layer 23, the second to fourth light transmitting layers are formed so as to have a thickness of 25 μm. At this time, the thickness of the semi-transparent film on the information recording layer of the second and third light transmitting layers is changed (gradually reduced) so that the second light transmitting layer changes to the fourth light transmitting layer. The reflectivity in the information recording layer is made smaller as going toward.
【００３５】すなわち、上記のような方法により、第１
の光透過層２３の情報記録層における反射率を３３％と
し、第２の光透過層の情報記録層における反射率を１９
％とし、第３の光透過層の情報記録層における反射率を
１３％とし、第４の光透過層の情報記録層における反射
率を１０％とする。That is, the first method is performed by the method described above.
The reflectance of the light transmitting layer 23 of the information recording layer is 33%, and the reflectance of the second light transmitting layer of the information recording layer is 19%.
%, The reflectance of the third light transmitting layer in the information recording layer is 13%, and the reflectance of the fourth light transmitting layer in the information recording layer is 10%.
【００３６】このとき、各光透過層の情報記録層におけ
る反射率の関係が以下に示すような関係となることが好
ましい。ただし、ここでは便宜上、最上層となる情報記
録層を第１層とし、基板側に進むにつれ、第２層，第３
層・・・とする。そして、第１層の反射率をＲ1 、第２
層の反射率をＲ2 ・・・第ｎ層の反射率をＲn とする。At this time, it is preferable that the relationship between the reflectances of the respective light transmitting layers in the information recording layer is as follows. However, here, for convenience, the information recording layer which is the uppermost layer is the first layer, and the second layer and the third layer are moved toward the substrate side.
Layers ... Then, the reflectance of the first layer is R 1 ,
Let the reflectivity of the layer be R 2 ... The reflectivity of the n-th layer be R n .
【００３７】 Ｒ1 ＝Ｒ2 （１−Ｒ1 ）2 ＝・・・＝Ｒn （１−Ｒn-1 ）2 （１−Ｒn-2）2 （１−Ｒ1 ）2 各光透過層の情報記録層における反射率を上記のような
関係を満たすように設定すれば、各光透過層の情報記録
層からの反射光量が等しくなるため好ましい。R 1 = R 2 (1-R 1 ) 2 =... = R n (1-R n-1 ) 2 (1-R n-2 ) 2 (1-R 1 ) 2 Each light transmission It is preferable to set the reflectivity of the information recording layers of the layers so as to satisfy the above relationship, since the amount of light reflected from the information recording layer of each light transmitting layer becomes equal.
【００３８】そして、最後に第４の光透過層の上に保護
膜を形成する。この保護膜はこれまでのスタンパーのよ
うに凹凸部が形成されていない平滑面のいわゆるミラー
スタンパーを用いて、光透過層と同様にして形成する、
或いは第４の光透過層上に直接紫外線硬化型樹脂を滴下
して回転させて振り切り、紫外線を照射する等して形成
すれば良い。なお、この保護層は厚さが５０μｍとなる
ように形成する。Finally, a protective film is formed on the fourth light transmitting layer. This protective film is formed in the same manner as the light transmitting layer by using a so-called mirror stamper having a smooth surface on which no irregularities are formed as in the conventional stamper,
Alternatively, it may be formed by dropping an ultraviolet curable resin directly on the fourth light transmitting layer, rotating and shaking off the resin, and irradiating with ultraviolet rays. This protective layer is formed to have a thickness of 50 μm.
【００３９】このようにして本例の光ディスクを製造し
た場合、第１層の光透過層２３を形成する際の紫外線が
反射膜２２に照射されてしまう。このため、光透過層の
積層数が増える程、紫外線透過光量が減少し、感光性樹
脂が硬化し難くなる。すなわち、基板への影響が大きく
なってしまう。このような課題を解消するべく、３００
ｎｍ〜４００ｎｍの波長の透過率がアルミニウムよりも
大きく、可視光の反射率が高い金等により反射膜を形成
するようにしても良い。また、紫外線の照射をピークパ
ワーの高いパルス紫外線照射により行うことも考えられ
る。When the optical disk of this embodiment is manufactured in this way, the reflection film 22 is irradiated with ultraviolet rays when the first light transmission layer 23 is formed. For this reason, as the number of light-transmitting layers increases, the amount of transmitted ultraviolet light decreases, and the photosensitive resin hardly hardens. That is, the influence on the substrate is increased. In order to solve such a problem, 300
The reflection film may be formed of gold or the like, which has a transmittance of wavelengths from nm to 400 nm larger than that of aluminum and has a high reflectance of visible light. It is also conceivable that the irradiation of ultraviolet rays is performed by pulsed ultraviolet irradiation with a high peak power.
【００４０】上述の例においては、液状の紫外線硬化型
樹脂を塗布した後に硬化して光透過層を形成する例につ
いて述べたが、両面転写性のシート、或いは各光透過層
の厚さに略対応する厚さのシートと２Ｐレジンを使用し
ても各光透過層の形成は可能である。In the above-described example, the example in which the liquid ultraviolet-curable resin is applied and then cured to form the light transmitting layer has been described. Even if a sheet and a 2P resin having a corresponding thickness are used, each light transmitting layer can be formed.
【００４１】すなわち、図１１に示すように一主面２１
ａに情報を示す凹凸部３１が形成され、反射膜２２も形
成されてなる基板２１と一主面３２ａに情報を示す凹凸
部３３が形成されてなるスタンパー３２を間に両面転写
性フィルム４４を介して凹凸部３１，３３同士が相対向
するように配する。この両面転写性フィルム４４として
は、デュポン社製のＳＵＲＰＨＥＸ（商品名）等が例示
される。That is, as shown in FIG.
a two-sided transferable film 44 is interposed between the substrate 21 on which the uneven portion 31 indicating information is formed and the reflective film 22 is formed and the stamper 32 on which the uneven portion 33 indicating information is formed on one main surface 32a. The concave and convex portions 31 and 33 are arranged so as to face each other with the interposition therebetween. Examples of the double-sided transferable film 44 include SURPHEX (trade name) manufactured by DuPont.
【００４２】次に、図１２に示すようにローラー４５を
図中矢印ｍ1 で示すように回転させながら図中矢印ｍ2
で示すように移動させ、基板２１を両面転写性フィルム
４４を間に介在させながらスタンパー３２に対して押し
付けて圧着させる。この際、両面転写性フィルム４４は
基板２１の凹凸部３１及びスタンパー３２の凹凸部３３
にも押し込まれる。Next, as shown in FIG. 12, while rotating the roller 45 as shown by an arrow m 1 in the figure, an arrow m 2 in the figure is used.
And the substrate 21 is pressed against the stamper 32 with the double-sided transferable film 44 interposed therebetween to be pressed. At this time, the double-sided transferable film 44 is provided with the uneven portions 31 of the substrate 21 and the uneven portions 33 of the stamper 32.
Is also pushed.
【００４３】続いて、図１３に示すように、基板２１側
から図中矢印Ｖで示すように紫外線を照射し、両面転写
性フィルム４４を硬化させる。次に、図１４に示すよう
にスタンパー３２を外すと、両面転写性フィルムが硬化
して一主面２３ａ側に情報を示す凹凸部３５が形成され
情報記録層となされた第１の光透過層２３が反射膜２２
上に形成されている。Subsequently, as shown in FIG. 13, ultraviolet rays are irradiated from the substrate 21 side as shown by an arrow V in the figure to cure the double-sided transferable film 44. Next, as shown in FIG. 14, when the stamper 32 is removed, the double-sided transferable film is cured to form an uneven portion 35 indicating information on the one main surface 23a side, and the first light transmitting layer serving as an information recording layer 23 is a reflection film 22
Is formed on.
【００４４】続いて、先に述べた製造方法と同様に、第
１の光透過層２３の一主面２３ａ上にＳｉＮ等よりなる
半透明膜を形成する。さらに、先に述べた製造方法と同
様にして、この他の光透過層も形成し、第２〜第４の光
透過層を形成する。Subsequently, a semi-transparent film made of SiN or the like is formed on one main surface 23a of the first light transmitting layer 23 in the same manner as in the above-described manufacturing method. Further, other light transmitting layers are formed in the same manner as in the above-described manufacturing method, and second to fourth light transmitting layers are formed.
【００４５】そして、最後にこれまで使用していた両面
転写性フィルムよりもやや厚めの両面転写性フィルムを
接着して保護膜とし、光ディスクを完成する。Finally, a double-sided transferable film, which is slightly thicker than the double-sided transferable film used so far, is bonded to form a protective film, thereby completing an optical disc.
【００４６】また、本例の光ディスクは、以下に示すよ
うにして製造しても良い。すなわち、図１５に示すよう
に、一主面２１ａに情報を示す凹凸部３１が形成され、
反射膜２２も形成されてなる基板２１と一主面３２ａに
情報を示す凹凸部３３が形成されてなるスタンパー３２
を間に転写性を有しないシート４５を介して凹凸部３
１，３３同士が相対向するように配する。そして、この
シート４５の基板２１と対向する主面４５ａとスタンパ
ー３２の凹凸部３３が形成される主面３２ａ上に２Ｐレ
ジン４６を配置する。Further, the optical disk of this embodiment may be manufactured as follows. That is, as shown in FIG. 15, the uneven portion 31 indicating information is formed on one main surface 21a,
The substrate 21 on which the reflection film 22 is also formed, and the stamper 32 on which the uneven portion 33 indicating information is formed on one main surface 32a.
Between the uneven portions 3 via the sheet 45 having no transferability.
1, 33 are arranged so as to face each other. Then, the 2P resin 46 is disposed on the main surface 45a of the sheet 45 facing the substrate 21 and the main surface 32a of the stamper 32 on which the uneven portions 33 are formed.
【００４７】次に、図１６に示すようにローラー４７を
図中矢印ｍ3 で示すように回転させながら図中矢印ｍ4
で示すように移動させ、基板２１を２Ｐレジン４６とシ
ート４５を間に介在させながらスタンパー３２に対して
押し付けて圧着させる。この際、２Ｐレジン４６は基板
２１の凹凸部３１及びスタンパー３２の凹凸部３３にも
押し込まれる。Next, as shown in FIG. 16, while rotating the roller 47 as shown by the arrow m 3 in the figure, the arrow m 4 in the figure is used.
And the substrate 21 is pressed against the stamper 32 with the 2P resin 46 and the sheet 45 interposed therebetween to be pressed. At this time, the 2P resin 46 is also pushed into the uneven portion 31 of the substrate 21 and the uneven portion 33 of the stamper 32.
【００４８】続いて、図１７に示すように、基板２１側
から図中矢印Ｖで示すように紫外線を照射し、２Ｐレジ
ン４６を硬化させる。次に、図１８に示すようにスタン
パー３２を外すと、２Ｐレジン４６が硬化して一主面２
３ａ側に情報を示す凹凸部３５が形成され情報記録層と
なされ、シート４５を２層の２Ｐレジン４６により厚さ
方向から挟み込んだ構造の第１の光透過層２３が反射膜
２２上に形成されている。Subsequently, as shown in FIG. 17, ultraviolet rays are irradiated from the side of the substrate 21 as shown by an arrow V in the figure to cure the 2P resin 46. Next, when the stamper 32 is removed as shown in FIG.
A first light transmission layer 23 having a structure in which a sheet 45 is sandwiched between two layers of 2P resin 46 from the thickness direction is formed on the reflection film 22 by forming an uneven portion 35 indicating information on the 3a side and forming an information recording layer. Have been.
【００４９】続いて、先に述べた製造方法と同様に、第
１の光透過層２３の一主面２３ａ上にＳｉＮ等よりなる
半透明膜を形成する。さらに、先に述べた製造方法と同
様にして、この他の光透過層も形成し、第２〜第４の光
透過層を形成する。Subsequently, a semi-transparent film made of SiN or the like is formed on one main surface 23a of the first light transmitting layer 23 in the same manner as in the above-described manufacturing method. Further, other light transmitting layers are formed in the same manner as in the above-described manufacturing method, and second to fourth light transmitting layers are formed.
【００５０】これまで述べた本例の光記録媒体において
は、積層形成される情報記録層上の半透明膜を同一の材
質により形成し、各半透明膜の厚さを反射膜側から最上
層に向かうに従って薄くする方法、或いは積層形成され
る情報記録層上の半透明膜をそれぞれ異なる材質により
形成する方法により、各光透過層の反射率が容易に変更
され、各光透過層の情報記録層における反射率を反射膜
側の光透過層から最上層となる光透過層に向かうに従っ
て小さくするようにでき、生産性も良好である。In the optical recording medium of the present embodiment described above, the translucent films on the information recording layers to be laminated are formed of the same material, and the thickness of each translucent film is changed from the reflective film side to the uppermost layer. The reflectance of each light transmitting layer is easily changed by a method of reducing the thickness toward the surface or a method of forming a semi-transparent film on the information recording layer to be laminated by using different materials, and the information recording of each light transmitting layer. The reflectivity of the layer can be made smaller from the light transmitting layer on the reflective film side toward the uppermost light transmitting layer, and the productivity is good.
【００５１】ここでは、５層の光透過層を有する光ディ
スクの例について述べたが、これら各光透過層の厚さ
は、再生光学系に使用される２群レンズの可動距離によ
って決まる範囲を層数で割ることにより求められる。す
なわち、２群レンズの可動距離が±５０μｍである場合
には、そのダイナミックレンジは１００μｍとなり、光
透過層が２層であれば１層当たりの厚さは５０μｍとな
り、５層であれば１層当たりの厚さは２０μｍとなる。Here, an example of an optical disk having five light transmitting layers has been described. However, the thickness of each light transmitting layer is determined by the range determined by the movable distance of the second lens group used in the reproducing optical system. It is determined by dividing by a number. That is, when the movable distance of the second lens unit is ± 50 μm, the dynamic range is 100 μm. When two light transmitting layers are provided, the thickness per layer is 50 μm. The thickness per contact is 20 μm.
【００５２】また、上述の例においては、基板の一方の
主面上に複数の光透過層が形成され、複数の情報記録層
が形成される例について述べたが、本発明は、基板の相
対向する主面に複数の光透過層が形成され、複数の情報
記録層が形成される光ディスク等の光記録媒体にも適用
可能である。このような光ディスクとしては、一方の主
面の光透過層の全体の厚さの合計が１００μｍ以下であ
り、基板の厚さが１．０ｍｍ以下であり、他方の主面の
光透過層の全体の厚さの合計が１００μｍ以下であるも
のが挙げられる。Further, in the above-described example, an example in which a plurality of light transmitting layers are formed on one main surface of the substrate and a plurality of information recording layers are formed has been described. The present invention is also applicable to an optical recording medium such as an optical disk in which a plurality of light transmitting layers are formed on a main surface facing the same and a plurality of information recording layers are formed. In such an optical disk, the total thickness of the light transmitting layer on one main surface is 100 μm or less, the thickness of the substrate is 1.0 mm or less, and the entire light transmitting layer on the other main surface is Having a total thickness of 100 μm or less.
【００５３】さらに、上述の例においては、基板の厚さ
を１．２ｍｍとした例について述べたが、基板の厚さは
０．３ｍｍ〜１．２ｍｍの範囲の厚さとされていれば良
く、例えば厚さ１．０ｍｍの基板の一方の主面に全体の
厚さの合計が１００μｍの光透過層を設けるようにして
も良い。さらには、基板の厚さを０．３ｍｍ程度と非常
に薄くした場合には０．５ｍｍ以上の厚さの補強板を設
けるようにすれば良く、例えば基板の厚さが０．３ｍｍ
〜０．８ｍｍとされ、補強板の厚さが０．２ｍｍ〜０．
８ｍｍとされ、光透過層の全体の厚さが０．０５ｍｍ〜
０．５ｍｍ程度とされるものが挙げられる。Further, in the above-described example, the example in which the thickness of the substrate is 1.2 mm has been described. However, the thickness of the substrate may be in the range of 0.3 mm to 1.2 mm. For example, a light transmission layer having a total thickness of 100 μm may be provided on one main surface of a substrate having a thickness of 1.0 mm. Further, when the thickness of the substrate is very thin, about 0.3 mm, a reinforcing plate having a thickness of 0.5 mm or more may be provided.
0.8 mm, and the thickness of the reinforcing plate is 0.2 mm to 0.1 mm.
8 mm, and the entire thickness of the light transmitting layer is 0.05 mm to
One having a thickness of about 0.5 mm is exemplified.
【００５４】[0054]
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の光記録媒体においては、基板の少なくとも一主面側
に情報を示す凹凸部が形成されて情報記録層となされて
おり、その上に反射膜が形成されており、さらにその上
に基板に対向する面とは反対側の主面に情報を示す凹凸
部が形成されて情報記録層となされる光透過層が少なく
とも１層形成されており、反射膜上に積層形成される各
光透過層の情報記録層における反射率が反射膜の反射率
よりも小さくなされており、且つ各光透過層の情報記録
層における反射率が反射膜側の光透過層から最上層とな
る光透過層に向かうに従って小さくなされているため、
光透過層側から再生光を照射して情報の再生を行う場合
に、上層となる情報記録層が下層となる情報記録層の情
報の再生を妨げることがなく、各情報記録層からの戻り
光量が均等に得られるので、各情報記録層の情報が正確
に再生され、高記録容量化に十分対応可能である。As is clear from the above description, in the optical recording medium of the present invention, an information recording layer is formed by forming an uneven portion indicating information on at least one principal surface side of the substrate. A reflective film is formed thereon, and furthermore, an uneven portion indicating information is formed on a main surface opposite to the surface facing the substrate, and at least one light transmitting layer serving as an information recording layer is formed thereon. The reflectance of the information recording layer of each light transmission layer laminated on the reflection film is set to be smaller than the reflectance of the reflection film, and the reflectance of each information transmission layer of the information recording layer is reflected. Because it is made smaller from the light transmitting layer on the film side to the light transmitting layer that is the uppermost layer,
When information is reproduced by irradiating reproduction light from the light transmission layer side, the information recording layer as the upper layer does not disturb the reproduction of information from the information recording layer as the lower layer, and the amount of light returned from each information recording layer. Can be obtained evenly, so that the information in each information recording layer can be accurately reproduced, and it is possible to sufficiently cope with an increase in the recording capacity.
【００５５】また、これら多層の光透過層に２群レンズ
系の許容厚み誤差を割り振るようにすれば、各光透過層
を著しく薄型化する必要はなく、２群レンズ系に対応可
能である。If the allowable thickness error of the two-lens lens system is allocated to these multiple light-transmitting layers, it is not necessary to remarkably reduce the thickness of each light-transmitting layer, and it is possible to cope with the two-group lens system.
【００５６】さらに、本発明の光記録媒体において、各
光透過層の情報記録層上に半透明膜をそれぞれ形成する
ようにし、これら半透明膜を同一の材質により形成し、
各半透明膜の厚さを反射膜側から最上層に向かうに従っ
て薄くする方法、或いは各情報記録層上の半透明膜をそ
れぞれ異なる材質により形成する方法により、各光透過
層の反射率が容易に変更され、各光透過層の情報記録層
における反射率を反射膜側の光透過層から最上層となる
光透過層に向かうに従って小さくすることができ、生産
性も良好である。Further, in the optical recording medium of the present invention, a semitransparent film is formed on the information recording layer of each light transmitting layer, and these translucent films are formed of the same material.
The reflectivity of each light-transmitting layer can be easily adjusted by reducing the thickness of each translucent film from the reflective film side toward the uppermost layer, or by forming the translucent film on each information recording layer with a different material. The reflectance of each light transmission layer in the information recording layer can be reduced from the light transmission layer on the reflection film side toward the uppermost light transmission layer, and the productivity is good.
【図１】本発明を適用した光ディスクを模式的に示す要
部拡大断面図である。FIG. 1 is an enlarged sectional view of a main part schematically showing an optical disk to which the present invention is applied.
【図２】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、金型を分解して示
す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a manufacturing method of manufacturing an optical disk to which the present invention is applied in the order of steps, in which a mold is exploded.
【図３】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、金型を組み合わせ
て示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing one example of a manufacturing method for manufacturing an optical disk to which the present invention is applied in the order of steps, and showing a combination of dies.
【図４】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、基板を製造する工
程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a manufacturing method of manufacturing an optical disk to which the present invention is applied in the order of steps, and showing a step of manufacturing a substrate.
【図５】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、反射膜を形成する
工程を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view illustrating an example of a method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, and illustrating a step of forming a reflective film.
【図６】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、スタンパー上に感
光性樹脂を供給する工程を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating an example of a manufacturing method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, and illustrating a step of supplying a photosensitive resin onto a stamper.
【図７】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、感光性樹脂を面内
方向に広げる工程を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating an example of a manufacturing method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, and illustrating a step of spreading a photosensitive resin in an in-plane direction.
【図８】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、感光性樹脂を硬化
させる工程を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view illustrating an example of a method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, and illustrating a step of curing a photosensitive resin.
【図９】本発明を適用した光ディスクを製造する製造方
法の一例を工程順に示すものであり、第１の光透過層が
形成された状態を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of a manufacturing method of manufacturing an optical disk to which the present invention is applied in the order of steps, and showing a state where a first light transmitting layer is formed.
【図１０】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法の一例を工程順に示すものであり、半透明膜を形成
する工程を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating an example of a manufacturing method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, and illustrating a step of forming a translucent film.
【図１１】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法の他の例を工程順に示すものであり、基板とスタン
パーを両面性転写フィルムを介して配する工程を示す断
面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating another example of a method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, and illustrating a step of disposing a substrate and a stamper via a double-sided transfer film.
【図１２】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法の他の例を工程順に示すものであり、基板をスタン
パーに対して圧着する工程を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating another example of a method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, and illustrating a step of pressing a substrate against a stamper.
【図１３】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法の他の例を工程順に示すものであり、両面転写性フ
ィルムを硬化させる工程を示す断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating another example of a method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, and illustrating a step of curing a double-sided transferable film.
【図１４】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法の他の例を工程順に示すものであり、第１の光透過
層が形成された状態を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing another example of a method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, showing a state in which a first light transmitting layer is formed.
【図１５】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法のさらに他の例を工程順に示すものであり、基板と
スタンパーをシートと２Ｐレジンを介して配する工程を
示す断面図である。FIG. 15 is a cross-sectional view showing still another example of a method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, showing a step of disposing a substrate and a stamper via a sheet and a 2P resin.
【図１６】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法のさらに他の例を工程順に示すものであり、基板を
スタンパーに対して圧着する工程を示す断面図である。FIG. 16 is a cross-sectional view showing still another example of the method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, and showing the step of pressing a substrate to a stamper.
【図１７】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法のさらに他の例を工程順に示すものであり、２Ｐレ
ジンを硬化させる工程を示す断面図である。FIG. 17 is a sectional view illustrating still another example of a method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, and illustrating a step of curing a 2P resin.
【図１８】本発明を適用した光ディスクを製造する製造
方法のさらに他の例を工程順に示すものであり、第１の
光透過層が形成された状態を示す断面図である。FIG. 18 is a cross-sectional view showing still another example of the method of manufacturing an optical disc to which the present invention is applied in the order of steps, showing a state in which a first light transmitting layer is formed.
１ 基板、１ａ，３ａ，４ａ，５ａ，６ａ 一主面、２
反射膜、３ 第１の光透過層、４ 第２の光透過層、
５ 第３の光透過層、６ 第４の光透過層1 substrate, 1a, 3a, 4a, 5a, 6a one main surface, 2
Reflective film, 3 first light transmitting layer, 4 second light transmitting layer,
5 third light transmitting layer, 6 fourth light transmitting layer
Claims (5)
凹凸部が形成されて情報記録層となされており、その上
に反射膜が形成されており、さらにその上に基板に対向
する面とは反対側の主面に情報を示す凹凸部が形成され
て情報記録層となされる光透過層が少なくとも１層形成
されてなり、光透過層側から再生光を照射して情報の再
生を行う光記録媒体において、 反射膜上に積層形成される各光透過層の情報記録層にお
ける反射率が反射膜の反射率よりも小さくなされてお
り、且つ各光透過層の情報記録層における反射率が反射
膜側の光透過層から最上層となる光透過層に向かうに従
って小さくなされていることを特徴とする光記録媒体。An information recording layer is formed on at least one principal surface of a substrate by forming an uneven portion indicating information, a reflective film is formed thereon, and a surface facing the substrate is further formed thereon. At least one light-transmitting layer serving as an information recording layer is formed on the main surface on the opposite side from the above, and information is reproduced by irradiating reproduction light from the light-transmitting layer side. In the optical recording medium to be performed, the reflectance of the information recording layer of each light transmission layer laminated on the reflection film is made smaller than the reflectance of the reflection film, and the reflectance of each information transmission layer in the information recording layer. Is decreased from the light transmitting layer on the reflection film side to the light transmitting layer as the uppermost layer.
それぞれ積層形成されており、これら半透明膜が同一の
材質により形成され、各半透明膜の厚さが反射膜側から
最上層に向かうに従って薄くなされて、各光透過層の情
報記録層における反射率が反射膜側の光透過層から最上
層となる光透過層に向かうに従って小さくなされている
ことを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。2. A semi-transparent film is laminated on the information recording layer of each light-transmitting layer, and these semi-transparent films are formed of the same material. The light-transmitting layer is made thinner toward the uppermost layer, and the reflectance of the information recording layer of each light-transmitting layer is reduced from the light-transmitting layer on the reflective film side toward the uppermost light-transmitting layer. 2. The optical recording medium according to 1.
の凹凸部の膜厚方向の大きさが各情報記録層上の半透明
膜の厚さに合わせて変更されていることを特徴とする請
求項２記載の光記録媒体。3. The method according to claim 1, wherein the size of the concave / convex portion of each information recording layer of the light transmitting layer formed in the lamination direction is changed according to the thickness of the translucent film on each information recording layer. The optical recording medium according to claim 2, wherein
それぞれ積層形成されており、これら各半透明膜がそれ
ぞれ異なる材質により形成されて、各光透過層の情報記
録層における反射率が反射膜側の光透過層から最上層と
なる光透過層に向かうに従って小さくなされていること
を特徴とする請求項１記載の光記録媒体。4. A semi-transparent film is formed on the information recording layer of each light-transmitting layer, and each of these translucent films is formed of a different material. 2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the ratio decreases from the light transmission layer on the reflection film side to the light transmission layer serving as the uppermost layer.
３００μｍ以下となされていることを特徴とする請求項
１記載の光記録媒体。5. The optical recording medium according to claim 1, wherein the total thickness of the light transmitting layer formed by lamination is 300 μm or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9022794A JPH10222870A (en) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | Optical recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9022794A JPH10222870A (en) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | Optical recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10222870A true JPH10222870A (en) | 1998-08-21 |
Family
ID=12092596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9022794A Abandoned JPH10222870A (en) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | Optical recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10222870A (en) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003079341A1 (en) * | 2002-03-20 | 2003-09-25 | Sony Corporation | Optical recording medium and its manufacturing method |
| WO2003081584A1 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Multi-layered optical information recording medium manufacturing method |
| WO2003096333A1 (en) * | 2002-05-09 | 2003-11-20 | Tdk Corporation | Multi-layer recording medium forming method and device, and multi-layer recording medium |
| WO2004015704A1 (en) * | 2002-08-08 | 2004-02-19 | Lintec Corporation | Optical disk manufacturing sheet |
| US6800224B2 (en) | 2001-08-24 | 2004-10-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Production process of optical disc and optical disc produced thereby |
| WO2005088629A1 (en) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Multilayer information recording medium and process for producing the same |
| US6987598B2 (en) | 2000-07-24 | 2006-01-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical element, optical head, optical recording reproducing apparatus and optical recording/reproducing method |
| JP2008112570A (en) * | 2007-12-19 | 2008-05-15 | Sharp Corp | Optical recording and reproducing device |
| US7859983B2 (en) | 2003-07-15 | 2010-12-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical disk and optical disk recording and reproducing device |
-
1997
- 1997-02-05 JP JP9022794A patent/JPH10222870A/en not_active Abandoned
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6987598B2 (en) | 2000-07-24 | 2006-01-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical element, optical head, optical recording reproducing apparatus and optical recording/reproducing method |
| US7580327B2 (en) | 2000-07-24 | 2009-08-25 | Panasonic Corporation | Optical element, optical head, optical recording reproducing apparatus and optical recording/reproducing method |
| US7352664B2 (en) | 2000-07-24 | 2008-04-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical element, optical head, optical recording reproducing apparatus and optical recording/reproducing method |
| US7170664B2 (en) | 2000-07-24 | 2007-01-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical element, optical head, optical recording reproducing apparatus and optical recording/reproducing method |
| US7158450B2 (en) | 2000-07-24 | 2007-01-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical element, optical head, optical recording reproducing apparatus and optical recording/reproducing method |
| US7034980B2 (en) | 2000-07-24 | 2006-04-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical element, optical head, optical recording reproducing apparatus and optical recording/ reproducing method |
| US6800224B2 (en) | 2001-08-24 | 2004-10-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Production process of optical disc and optical disc produced thereby |
| EP1486963A1 (en) * | 2002-03-20 | 2004-12-15 | Sony Corporation | Optical recording medium and its manufacturing method |
| EP1486963A4 (en) * | 2002-03-20 | 2006-11-15 | Sony Corp | Optical recording medium and its manufacturing method |
| WO2003079341A1 (en) * | 2002-03-20 | 2003-09-25 | Sony Corporation | Optical recording medium and its manufacturing method |
| KR101096348B1 (en) * | 2002-03-20 | 2011-12-20 | 소니 주식회사 | Optical recording medium and its manufacturing method |
| US7307941B2 (en) | 2002-03-20 | 2007-12-11 | Sony Corporation | Optical recording medium having substantially uniform interlayer structure |
| US7497916B2 (en) | 2002-03-27 | 2009-03-03 | Panasonic Corporation | Method of manufacturing multilayer optical information recording medium |
| WO2003081584A1 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Multi-layered optical information recording medium manufacturing method |
| WO2003096333A1 (en) * | 2002-05-09 | 2003-11-20 | Tdk Corporation | Multi-layer recording medium forming method and device, and multi-layer recording medium |
| CN1332389C (en) * | 2002-05-09 | 2007-08-15 | Tdk株式会社 | Multi-layer recording medium forming method and device, and multi-layer recording medium |
| US7758940B2 (en) | 2002-08-08 | 2010-07-20 | Lintec Corporation | Optical disk manufacturing sheet |
| WO2004015704A1 (en) * | 2002-08-08 | 2004-02-19 | Lintec Corporation | Optical disk manufacturing sheet |
| US7859983B2 (en) | 2003-07-15 | 2010-12-28 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical disk and optical disk recording and reproducing device |
| WO2005088629A1 (en) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Multilayer information recording medium and process for producing the same |
| JP2008112570A (en) * | 2007-12-19 | 2008-05-15 | Sharp Corp | Optical recording and reproducing device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0729142B1 (en) | Optical recording medium and method of manufacturing same | |
| USRE44018E1 (en) | Information recording medium and method of manufacturing resinous substrate for use in the recording medium | |
| JPH10326435A (en) | Optical recording medium and optical disk device | |
| WO1999000794A1 (en) | Optical recording medium and optical disk device | |
| JPH08329523A (en) | Optical disk | |
| JPH08255374A (en) | Multilayer optical disk and its signal reproducing method | |
| JP3581246B2 (en) | Manufacturing method of bonded optical disk | |
| JPH10283683A (en) | Optical recording medium and its manufacture | |
| KR100697136B1 (en) | Disk-like multilayer information recording medium and production method thereof | |
| KR20010071304A (en) | Dvd disc with four information layers, and method for making same | |
| JPH10222870A (en) | Optical recording medium | |
| JP2003091868A (en) | Optical disk and manufacturing method therefor | |
| JP2003196891A (en) | Method of manufacturing multilayered optical recording medium and multilayered optical recording medium | |
| JP2000298879A (en) | Optical recording medium | |
| JP2000036135A (en) | Production of multilayered information recording medium | |
| JPH1074342A (en) | Production of optical recording medium | |
| JP2003196885A (en) | Multilayer optical recording medium and its manufacturing method | |
| JP4266044B2 (en) | Information recording medium | |
| JPH09204686A (en) | Optical disk and production thereof | |
| JP4360269B2 (en) | Multilayer optical disc manufacturing method | |
| JPH06274940A (en) | Optical disk and its production | |
| JP3671484B2 (en) | Optical recording medium | |
| JP2742524B2 (en) | Optical information medium, optical information medium manufacturing method, and optical information medium manufacturing apparatus | |
| JPH09134547A (en) | Optical recording medium and its manufacture | |
| JPH0954985A (en) | Optical disk and production of optical disk |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041208 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041214 |
|
| A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20050214 |