JPH10213877A - 写真要素 - Google Patents
写真要素Info
- Publication number
- JPH10213877A JPH10213877A JP10012309A JP1230998A JPH10213877A JP H10213877 A JPH10213877 A JP H10213877A JP 10012309 A JP10012309 A JP 10012309A JP 1230998 A JP1230998 A JP 1230998A JP H10213877 A JPH10213877 A JP H10213877A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- antistatic
- poly
- photographic element
- methacrylate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/7614—Cover layers; Backing layers; Base or auxiliary layers characterised by means for lubricating, for rendering anti-abrasive or for preventing adhesion
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/775—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of paper
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/775—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of paper
- G03C1/79—Macromolecular coatings or impregnations therefor, e.g. varnishes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/795—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of macromolecular substances
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/795—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers the base being of macromolecular substances
- G03C1/7954—Polyesters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
- G03C1/853—Inorganic compounds, e.g. metals
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/162—Protective or antiabrasion layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 湿度の影響を受けず、処理により損なわれる
ことのない帯電防止保護特性、滑性が得られ、しかも処
理の際のスカム形成が減少する、写真要素のための三層
系バッキングを提供すること。 【解決手段】 支持体の表側に少なくとも一層の感光層
を有し且つ前記支持体の裏側にバッキング系を有する写
真要素であって、前記バッキング系が、（ａ）前記支持
体に最も近い、帯電防止剤を含む帯電防止層、（ｂ）前
記帯電防止層に写真処理液が到達しないように十分な量
の水不溶性高分子材料を含み積層されているバリヤ層、
及び（ｃ）前記支持体から最も離れており、酢酸セルロ
ースと硝酸セルロースとを３：１〜１：１の比率で含み
且つ粒径０．４μｍ未満の過フッ素化ポリマー粒子を５
〜４０重量％含むオーバーコート層を含んでなる写真要
素。
ことのない帯電防止保護特性、滑性が得られ、しかも処
理の際のスカム形成が減少する、写真要素のための三層
系バッキングを提供すること。 【解決手段】 支持体の表側に少なくとも一層の感光層
を有し且つ前記支持体の裏側にバッキング系を有する写
真要素であって、前記バッキング系が、（ａ）前記支持
体に最も近い、帯電防止剤を含む帯電防止層、（ｂ）前
記帯電防止層に写真処理液が到達しないように十分な量
の水不溶性高分子材料を含み積層されているバリヤ層、
及び（ｃ）前記支持体から最も離れており、酢酸セルロ
ースと硝酸セルロースとを３：１〜１：１の比率で含み
且つ粒径０．４μｍ未満の過フッ素化ポリマー粒子を５
〜４０重量％含むオーバーコート層を含んでなる写真要
素。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は写真要素のためのバ
ッキング系に関する。より詳細には、本発明は、湿度の
影響を受けず、処理により損なわれることのない帯電防
止保護特性、滑性が得られ、しかも処理の際のスカム形
成が減少する、写真要素のための三層系バッキングを提
供するものである。
ッキング系に関する。より詳細には、本発明は、湿度の
影響を受けず、処理により損なわれることのない帯電防
止保護特性、滑性が得られ、しかも処理の際のスカム形
成が減少する、写真要素のための三層系バッキングを提
供するものである。
【０００２】
【従来の技術】消費用フィルムに用いられるセルロース
系フィルム支持体は、製造する際の塗工機内での搬送時
や使用する際のカメラ内での搬送時に、静電荷を蓄積す
る場合がある。この静電荷は放電され、感光性乳剤層を
カブらせる恐れがあるため、静電保護が必要である。写
真用フィルムは様々な湿度条件下で使用されるため、湿
度の影響を受けない帯電防止剤を使用することにより静
電保護性を最大限引き出すことが有利であろう。帯電防
止剤の一部に写真処理液から保護されないものがある
と、その防止剤は導電性を失う恐れがあり、するとその
フィルムはプリント上に白色の斑点をもたらすダストを
拾い上げやすくなる。保護された帯電防止剤は、処理後
にも導電性を維持するので、プリント上の白色斑点は減
少又は排除されるであろう。
系フィルム支持体は、製造する際の塗工機内での搬送時
や使用する際のカメラ内での搬送時に、静電荷を蓄積す
る場合がある。この静電荷は放電され、感光性乳剤層を
カブらせる恐れがあるため、静電保護が必要である。写
真用フィルムは様々な湿度条件下で使用されるため、湿
度の影響を受けない帯電防止剤を使用することにより静
電保護性を最大限引き出すことが有利であろう。帯電防
止剤の一部に写真処理液から保護されないものがある
と、その防止剤は導電性を失う恐れがあり、するとその
フィルムはプリント上に白色の斑点をもたらすダストを
拾い上げやすくなる。保護された帯電防止剤は、処理後
にも導電性を維持するので、プリント上の白色斑点は減
少又は排除されるであろう。
【０００３】写真フィルムの処理にまつわる別の問題と
してスカムの形成がある。このスカムの原因には、処理
液の残留や硬水由来の塩析出物が含まれる。スカムの形
成を最小限に抑えるバッキング層がネガを清浄化する必
要性を低減しなければ、プリンティングは非常に望まし
いものにはならない。バッキング層に滑剤を内蔵させる
ことは、製造装置やカメラの内部での支持体又はフィル
ムの搬送性を改善するので、非常に望ましいことであ
る。
してスカムの形成がある。このスカムの原因には、処理
液の残留や硬水由来の塩析出物が含まれる。スカムの形
成を最小限に抑えるバッキング層がネガを清浄化する必
要性を低減しなければ、プリンティングは非常に望まし
いものにはならない。バッキング層に滑剤を内蔵させる
ことは、製造装置やカメラの内部での支持体又はフィル
ムの搬送性を改善するので、非常に望ましいことであ
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このように、上記すべ
ての特徴を具備する改良された写真要素用バッキングが
必要とされている。本発明は、帯電防止剤を含有する帯
電防止層と、処理液に対する遮断層として該帯電防止層
の上を被覆する水不溶性ポリマーのバリヤ層と、酢酸セ
ルロース／硝酸セルロース／滑剤の混合物を含む最上部
のスカム防止／滑剤層とを含んでなる、写真要素用の三
層系バッキングに関するものである。この三層系バッキ
ングは、支持体の感光性乳剤が塗布される側の反対側に
被覆される。該バッキングにより、湿度の影響を受けな
い静電保護特性が得られ、処理により損なわれることの
ない導電性が付与され、スカム形成が最小限に抑えら
れ、しかも滑性が付与される。
ての特徴を具備する改良された写真要素用バッキングが
必要とされている。本発明は、帯電防止剤を含有する帯
電防止層と、処理液に対する遮断層として該帯電防止層
の上を被覆する水不溶性ポリマーのバリヤ層と、酢酸セ
ルロース／硝酸セルロース／滑剤の混合物を含む最上部
のスカム防止／滑剤層とを含んでなる、写真要素用の三
層系バッキングに関するものである。この三層系バッキ
ングは、支持体の感光性乳剤が塗布される側の反対側に
被覆される。該バッキングにより、湿度の影響を受けな
い静電保護特性が得られ、処理により損なわれることの
ない導電性が付与され、スカム形成が最小限に抑えら
れ、しかも滑性が付与される。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、支持体の表側
に少なくとも一層の感光層を有し且つ該支持体の裏側に
バッキング系を有する写真要素である。該バッキング系
は、該支持体に最も近い、帯電防止剤を含む帯電防止層
と、該帯電防止層に写真処理液が到達しないように十分
な量の水不溶性高分子材料を含み積層されているバリヤ
層と、該支持体から最も離れており、酢酸セルロースと
硝酸セルロースとを３：１〜１：１の比率で含み且つ粒
径０．４μｍ未満の過フッ素化ポリマー粒子を５〜４０
重量％含むオーバーコート層を含む。
に少なくとも一層の感光層を有し且つ該支持体の裏側に
バッキング系を有する写真要素である。該バッキング系
は、該支持体に最も近い、帯電防止剤を含む帯電防止層
と、該帯電防止層に写真処理液が到達しないように十分
な量の水不溶性高分子材料を含み積層されているバリヤ
層と、該支持体から最も離れており、酢酸セルロースと
硝酸セルロースとを３：１〜１：１の比率で含み且つ粒
径０．４μｍ未満の過フッ素化ポリマー粒子を５〜４０
重量％含むオーバーコート層を含む。
【０００６】本発明によるバッキング系を具備し得る写
真要素は、その構造、組成において広範囲にわたること
ができる。例えば、支持体の種類、画像形成層の数や組
成、さらには写真要素に含められる補助的な層の種類に
関し様々な態様をとることができる。具体的には、写真
要素はスチルフィルム、映画フィルム、Ｘ線フィルム、
グラフィックアーツフィルム、ペーパープリント又はマ
イクロフィッシュであることができる。写真要素は黒白
要素、ネガ−ポジプロセス用のカラー要素又はリバーサ
ルプロセス用のカラー要素であることができる。
真要素は、その構造、組成において広範囲にわたること
ができる。例えば、支持体の種類、画像形成層の数や組
成、さらには写真要素に含められる補助的な層の種類に
関し様々な態様をとることができる。具体的には、写真
要素はスチルフィルム、映画フィルム、Ｘ線フィルム、
グラフィックアーツフィルム、ペーパープリント又はマ
イクロフィッシュであることができる。写真要素は黒白
要素、ネガ−ポジプロセス用のカラー要素又はリバーサ
ルプロセス用のカラー要素であることができる。
【０００７】写真要素は多種多様な支持体のいずれを含
んでもよい。典型的な支持体として硝酸セルロースフィ
ルム、酢酸セルロースフィルム、ポリ（ビニルアセター
ル）フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ（エチレン
テレフタレート）フィルム、ポリ（エチレンナフタレー
ト）フィルム、ポリカーボネートフィルム、ガラス、
紙、ポリマー塗被紙、等が挙げられる。写真要素の画像
形成層は、典型的には、輻射線感剤（例、ハロゲン化
銀）を親水性透水性コロイド中に分散させたものを含
む。好適な親水性ベヒクルとして、ゼラチン、ゼラチン
誘導体のようなタンパク質、セルロース誘導体、デキス
トラン、アラビアガムのような多糖類、等のような天然
物、及びポリ（ビニルピロリドン）、アクリルアミドポ
リマー、等のような水溶性ビニルポリマーのような合成
高分子物質が挙げられる。最も一般的な画像形成層の例
は、ゼラチン−ハロゲン化銀系乳剤層である。
んでもよい。典型的な支持体として硝酸セルロースフィ
ルム、酢酸セルロースフィルム、ポリ（ビニルアセター
ル）フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ（エチレン
テレフタレート）フィルム、ポリ（エチレンナフタレー
ト）フィルム、ポリカーボネートフィルム、ガラス、
紙、ポリマー塗被紙、等が挙げられる。写真要素の画像
形成層は、典型的には、輻射線感剤（例、ハロゲン化
銀）を親水性透水性コロイド中に分散させたものを含
む。好適な親水性ベヒクルとして、ゼラチン、ゼラチン
誘導体のようなタンパク質、セルロース誘導体、デキス
トラン、アラビアガムのような多糖類、等のような天然
物、及びポリ（ビニルピロリドン）、アクリルアミドポ
リマー、等のような水溶性ビニルポリマーのような合成
高分子物質が挙げられる。最も一般的な画像形成層の例
は、ゼラチン−ハロゲン化銀系乳剤層である。
【０００８】有用な支持体の典型的なものは、一部がア
セチル化されたもの、又はバライタ及び／若しくはポリ
オレフィンで被覆されたものである。ポリオレフィン
は、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチ
レンとプロピレンのコポリマー、等のような、繰り返し
単位に２〜１０個の炭素原子を含有するα−オレフィン
のポリマーである。
セチル化されたもの、又はバライタ及び／若しくはポリ
オレフィンで被覆されたものである。ポリオレフィン
は、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチ
レンとプロピレンのコポリマー、等のような、繰り返し
単位に２〜１０個の炭素原子を含有するα−オレフィン
のポリマーである。
【０００９】本発明の帯電防止層に好適な帯電防止剤と
して、五酸化バナジウム；ビニルベンゼン第四アンモニ
ウムポリマー；Ｃ24セルロース単位当たり８個以上のア
シル基を有し、該アシル基の過半数が炭素原子数３〜６
個の脂肪族ポリカルボン酸由来のものであるセルロース
のエステル、若しくは該エステルの塩；又はメトキシア
ルキルメラミンで架橋された第一ヒドロキシル基を１個
以上含有するエチレン系不飽和モノマーとビニルベンゼ
ンスルホン酸とのコポリマーが挙げられる。これらの帯
電防止剤については米国特許第４，０７０，１８９号、
同第４，２０３，７６９号、同第４，４５９，３５２号
及び同第５，３１８，８７８号明細書に記載されてい
る。帯電防止層は、典型的には、帯電防止剤のコロイド
溶液を塗布することにより調製される。ポリ（エチレン
テレフタレート）ＰＥＴやポリ（エチレンナフタレー
ト）ＰＥＮに対する結合性を向上させるため、帯電防止
剤のコロイド溶液に、アクリロニトリル、塩化ビニリデ
ン及びアクリル酸のターポリマーのラテックスのような
高分子量バインダーを添加することができる。これらバ
インダーや帯電防止剤の他、帯電防止層の形成に用いら
れるコーティング組成物は、塗工性を高めるために湿潤
剤を含有することができる。
して、五酸化バナジウム；ビニルベンゼン第四アンモニ
ウムポリマー；Ｃ24セルロース単位当たり８個以上のア
シル基を有し、該アシル基の過半数が炭素原子数３〜６
個の脂肪族ポリカルボン酸由来のものであるセルロース
のエステル、若しくは該エステルの塩；又はメトキシア
ルキルメラミンで架橋された第一ヒドロキシル基を１個
以上含有するエチレン系不飽和モノマーとビニルベンゼ
ンスルホン酸とのコポリマーが挙げられる。これらの帯
電防止剤については米国特許第４，０７０，１８９号、
同第４，２０３，７６９号、同第４，４５９，３５２号
及び同第５，３１８，８７８号明細書に記載されてい
る。帯電防止層は、典型的には、帯電防止剤のコロイド
溶液を塗布することにより調製される。ポリ（エチレン
テレフタレート）ＰＥＴやポリ（エチレンナフタレー
ト）ＰＥＮに対する結合性を向上させるため、帯電防止
剤のコロイド溶液に、アクリロニトリル、塩化ビニリデ
ン及びアクリル酸のターポリマーのラテックスのような
高分子量バインダーを添加することができる。これらバ
インダーや帯電防止剤の他、帯電防止層の形成に用いら
れるコーティング組成物は、塗工性を高めるために湿潤
剤を含有することができる。
【００１０】本発明の支持体材料において用いられるバ
リヤ層の必須成分は、水や写真処理液が帯電防止層にま
で浸透しないよう十分な疎水性官能価を有するポリマ
ー、コポリマー又はポリマーブレンドである。該バリヤ
層に追加できる任意成分として、融合助剤(coalescing
agent)、湿潤剤及び架橋剤が挙げられる。融合助剤は、
バリヤとして有効な質の高い連続フィルムの形成を助成
するために用いられる。湿潤剤を含める目的は、塗工性
の促進にある。
リヤ層の必須成分は、水や写真処理液が帯電防止層にま
で浸透しないよう十分な疎水性官能価を有するポリマ
ー、コポリマー又はポリマーブレンドである。該バリヤ
層に追加できる任意成分として、融合助剤(coalescing
agent)、湿潤剤及び架橋剤が挙げられる。融合助剤は、
バリヤとして有効な質の高い連続フィルムの形成を助成
するために用いられる。湿潤剤を含める目的は、塗工性
の促進にある。
【００１１】本発明のオーバーコート層は、写真フィル
ム要素に滑性を提供し且つスカム形成を防止する。この
層は、融合助剤又はマット粒子及び架橋剤のような追加
成分を含むことができる。
ム要素に滑性を提供し且つスカム形成を防止する。この
層は、融合助剤又はマット粒子及び架橋剤のような追加
成分を含むことができる。
【００１２】図１は、処理後のスカムを排除するためア
セテート系支持体上で用いられる三層バッキング系を示
す。該三層系は図１中Ｃを標識した帯電防止層を含む。
この帯電防止層は、写真フィルム要素に用いられるもの
であればいずれの帯電防止層であってもよく、より具体
的には、米国特許第４，２０３，７６９号、同第５，０
０６，４５１号、同第５，３５６，４６８号及び同第
５，３６６，５４４号明細書に記載されている五酸化バ
ナジウム／硝酸セルロース系の帯電防止層であることが
できる。該帯電防止層の好適なコーティング組成物は、
０．０５重量％の五酸化バナジウムと０．１重量％の硝
酸セルロースを含有し、残部がコーティングベヒクルで
ある。フィルム支持体が酢酸セルロースである場合に
は、該コーティング組成物のためのコーティングベヒク
ルは主として溶剤である。好適な溶剤として、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジブチルケ
トン、等のようなケトン類；メタノール、エタノール、
ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール
のようなアルコール類；水、等が挙げられる。特に好適
な溶剤として、アセトン、アルコール及び水からなる混
合物が挙げられる。五酸化バナジウム／硝酸セルロース
層は、少なくとも約３．２３ｍｇ／ｍ2 （０．３ｍｇ／
ｆｔ2 ）、好ましくは約８．６１〜約４３．１ｍｇ／ｍ
2 （０．８〜４ｍｇ／ｆｔ2 ）の乾燥被覆量で塗布され
るべきである。
セテート系支持体上で用いられる三層バッキング系を示
す。該三層系は図１中Ｃを標識した帯電防止層を含む。
この帯電防止層は、写真フィルム要素に用いられるもの
であればいずれの帯電防止層であってもよく、より具体
的には、米国特許第４，２０３，７６９号、同第５，０
０６，４５１号、同第５，３５６，４６８号及び同第
５，３６６，５４４号明細書に記載されている五酸化バ
ナジウム／硝酸セルロース系の帯電防止層であることが
できる。該帯電防止層の好適なコーティング組成物は、
０．０５重量％の五酸化バナジウムと０．１重量％の硝
酸セルロースを含有し、残部がコーティングベヒクルで
ある。フィルム支持体が酢酸セルロースである場合に
は、該コーティング組成物のためのコーティングベヒク
ルは主として溶剤である。好適な溶剤として、アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジブチルケ
トン、等のようなケトン類；メタノール、エタノール、
ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｔ−ブタノール
のようなアルコール類；水、等が挙げられる。特に好適
な溶剤として、アセトン、アルコール及び水からなる混
合物が挙げられる。五酸化バナジウム／硝酸セルロース
層は、少なくとも約３．２３ｍｇ／ｍ2 （０．３ｍｇ／
ｆｔ2 ）、好ましくは約８．６１〜約４３．１ｍｇ／ｍ
2 （０．８〜４ｍｇ／ｆｔ2 ）の乾燥被覆量で塗布され
るべきである。
【００１３】層Ｂは、写真処理に際して帯電防止剤の導
電性が失われないように設計されたバリヤ層である。帯
電防止剤と反応するか、或いはそうでなくとも帯電防止
剤の導電性を損なう水及び／又はイオン性種の通過を防
ぐものは、ポリマー材料又はポリマーのブレンドであ
る。合理的な被膜厚で十分な遮断特性を有することが知
られている材料として、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、酢酸プロピオン酸セルロース、酢酪酸セルロー
ス、硝酸セルロース、これらの材料のコポリマー及びこ
れらセルロース系ポリマーの相溶性ブレンド；ポリ（メ
チルメタクリレート）、ポリ（エチルメタクリレー
ト）、ポリ（プロピルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ブ
チルメタクリレート）、ポリ（イソブチルメタクリレー
ト）、ポリ（ｔ−ブチルメタクリレート）、ポリ（ラウ
リルメタクリレート）、等のようなポリ（アルキルメタ
クリレート）、このようなメタクリレートのコポリマ
ー、及びこのようなポリ（アルキルメタクリレート）の
相溶性ブレンド、が挙げられる。カルボン酸のような官
能基を比較的少量含有するメタクリレートのコポリマー
やターポリマーを使用することもできる。多くの市販の
ポリマーが有効であることが知られており、例えば、IC
I Acrylics社製のElvacite（商標）系アクリル樹脂が挙
げられる。その他の有用なビニル系ポリマーとして、ポ
リ（酢酸ビニル）、ポリビニルブチラール、ポリ（フル
オロエチレン−コ−エチルビニルエーテル）（例、Lumi
flon（商標））、スチレン−アクリロニトリル系コポリ
マー（例、 Lustran（商標）SAN 33、 Lustran（商標）
SAN LK 302）及びアクリロニトリル−ブタジエン−スチ
レン系コポリマー（例、 Lustran Mediclear（商標）26
6 ）が挙げられる。
電性が失われないように設計されたバリヤ層である。帯
電防止剤と反応するか、或いはそうでなくとも帯電防止
剤の導電性を損なう水及び／又はイオン性種の通過を防
ぐものは、ポリマー材料又はポリマーのブレンドであ
る。合理的な被膜厚で十分な遮断特性を有することが知
られている材料として、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、酢酸プロピオン酸セルロース、酢酪酸セルロー
ス、硝酸セルロース、これらの材料のコポリマー及びこ
れらセルロース系ポリマーの相溶性ブレンド；ポリ（メ
チルメタクリレート）、ポリ（エチルメタクリレー
ト）、ポリ（プロピルメタクリレート）、ポリ（ｎ−ブ
チルメタクリレート）、ポリ（イソブチルメタクリレー
ト）、ポリ（ｔ−ブチルメタクリレート）、ポリ（ラウ
リルメタクリレート）、等のようなポリ（アルキルメタ
クリレート）、このようなメタクリレートのコポリマ
ー、及びこのようなポリ（アルキルメタクリレート）の
相溶性ブレンド、が挙げられる。カルボン酸のような官
能基を比較的少量含有するメタクリレートのコポリマー
やターポリマーを使用することもできる。多くの市販の
ポリマーが有効であることが知られており、例えば、IC
I Acrylics社製のElvacite（商標）系アクリル樹脂が挙
げられる。その他の有用なビニル系ポリマーとして、ポ
リ（酢酸ビニル）、ポリビニルブチラール、ポリ（フル
オロエチレン−コ−エチルビニルエーテル）（例、Lumi
flon（商標））、スチレン−アクリロニトリル系コポリ
マー（例、 Lustran（商標）SAN 33、 Lustran（商標）
SAN LK 302）及びアクリロニトリル−ブタジエン−スチ
レン系コポリマー（例、 Lustran Mediclear（商標）26
6 ）が挙げられる。
【００１４】本発明のバリヤ層に好適なラテックスポリ
マーは、（１）スチレン、アルキルアクリレート及びア
ルキルメタクリレートからなる群より選ばれた一種以上
の重合性モノマーと、（２）アミノアルキル塩基又はヒ
ドロキシアルキル基のような親水性官能基で置換されて
いる、スチレン、アルキルアクリレート及びアルキルメ
タクリレートからなる群より選ばれた一種以上の置換さ
れた重合性モノマーとのコポリマーである。
マーは、（１）スチレン、アルキルアクリレート及びア
ルキルメタクリレートからなる群より選ばれた一種以上
の重合性モノマーと、（２）アミノアルキル塩基又はヒ
ドロキシアルキル基のような親水性官能基で置換されて
いる、スチレン、アルキルアクリレート及びアルキルメ
タクリレートからなる群より選ばれた一種以上の置換さ
れた重合性モノマーとのコポリマーである。
【００１５】（１）群の具体例として、スチレン、アル
キルアクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、メタクリル酸ブチル、等が挙げられる。
（２）群の具体例として、２−アミノエチルメタクリレ
ート塩酸塩、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−（３−アミノプ
ロピル）メタクリレート塩酸塩、ｐ−アミノスチレン塩
酸塩、等が挙げられる。
キルアクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、メタクリル酸ブチル、等が挙げられる。
（２）群の具体例として、２−アミノエチルメタクリレ
ート塩酸塩、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−
ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−（３−アミノプ
ロピル）メタクリレート塩酸塩、ｐ−アミノスチレン塩
酸塩、等が挙げられる。
【００１６】本発明のバリヤ層に好適なラテックスポリ
マーの具体例として、ポリ（エチルアクリレート−コ−
２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩−コ−２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート）、ポリ（エチルアクリレ
ート−コ−スチレン−コ−２−アミノエチルメタクリレ
ート塩酸塩）、ポリ（エチルアクリレート−コ−スチレ
ン−コ−２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩−コ−
２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ブチル
アクリレート−コ−スチレン−コ−２−アミノエチルメ
タクリレート塩酸塩）、ポリ（エチルアクリレート−コ
−メチルメタクリレート−コ−２−アミノエチルメタク
リレート塩酸塩−コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート）、ポリ（エチルアクリレート−コ−ブチルメタク
リレート−コ−２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩
−コ−２−アミノエチル−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート）、等が挙げられる。
マーの具体例として、ポリ（エチルアクリレート−コ−
２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩−コ−２−ヒド
ロキシエチルメタクリレート）、ポリ（エチルアクリレ
ート−コ−スチレン−コ−２−アミノエチルメタクリレ
ート塩酸塩）、ポリ（エチルアクリレート−コ−スチレ
ン−コ−２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩−コ−
２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ブチル
アクリレート−コ−スチレン−コ−２−アミノエチルメ
タクリレート塩酸塩）、ポリ（エチルアクリレート−コ
−メチルメタクリレート−コ−２−アミノエチルメタク
リレート塩酸塩−コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート）、ポリ（エチルアクリレート−コ−ブチルメタク
リレート−コ−２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩
−コ−２−アミノエチル−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート）、等が挙げられる。
【００１７】好適なバリヤ層はポリ（イソブチルメタク
リレート）（例、Elvacite（商標）2045）である。該バ
リヤ層のためのコーティング組成物は、１〜３重量％
（好ましくは２．５重量％）のElvacite（商標）2045を
含有し、その残部がコーティングベヒクルである。この
層のためのコーティングベヒクルは溶剤である。好適な
溶剤として、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチル
ケトン、ジブチルケトン、等のようなケトン類；及びメ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノ
ールのようなアルコール類が挙げられる。アセトンとメ
タノールの混合物を使用することが最も好ましい。この
バリヤ層は、約１０７．６〜約２１５２．９ｍｇ／ｍ2
（１０〜２００ｍｇ／ｆｔ2 ）、好ましくは約４３０．
６ｍｇ／ｍ2 （４０ｍｇ／ｆｔ2 ）の乾燥被覆量で塗布
される。
リレート）（例、Elvacite（商標）2045）である。該バ
リヤ層のためのコーティング組成物は、１〜３重量％
（好ましくは２．５重量％）のElvacite（商標）2045を
含有し、その残部がコーティングベヒクルである。この
層のためのコーティングベヒクルは溶剤である。好適な
溶剤として、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチル
ケトン、ジブチルケトン、等のようなケトン類；及びメ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノ
ールのようなアルコール類が挙げられる。アセトンとメ
タノールの混合物を使用することが最も好ましい。この
バリヤ層は、約１０７．６〜約２１５２．９ｍｇ／ｍ2
（１０〜２００ｍｇ／ｆｔ2 ）、好ましくは約４３０．
６ｍｇ／ｍ2 （４０ｍｇ／ｆｔ2 ）の乾燥被覆量で塗布
される。
【００１８】最後に、図１に示した層Ａは、硬水スカム
の形成を防止し且つ写真フィルム要素に滑性を付与する
トップコートである。この層は、酢酸セルロースと、硝
酸セルロースと、粒径０．４μｍ未満の過フッ素化ポリ
マー粒子との混合物を含んでなる。該過フッ素化ポリマ
ー粒子の調製には適当ないずれのエチレン系不飽和過フ
ッ素化モノマーでも使用することができ、例えばテトラ
フルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ペルフ
ルオロ（メチルビニルエーテル）やペルフルオロ（プロ
ピルビニルエーテル）をはじめとするペルフルオロビニ
ルエーテル、等を使用することができる。この過フッ素
化ポリマー粒子は、過フッ素化モノマーと、他のエチレ
ン系不飽和モノマー、例えばフッ化ビニリデン、フッ化
ビニル、クロロトリフルオロエチレン、エチレン、プロ
ピレン、等とのコポリマーから調製することもできる。
の形成を防止し且つ写真フィルム要素に滑性を付与する
トップコートである。この層は、酢酸セルロースと、硝
酸セルロースと、粒径０．４μｍ未満の過フッ素化ポリ
マー粒子との混合物を含んでなる。該過フッ素化ポリマ
ー粒子の調製には適当ないずれのエチレン系不飽和過フ
ッ素化モノマーでも使用することができ、例えばテトラ
フルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、ペルフ
ルオロ（メチルビニルエーテル）やペルフルオロ（プロ
ピルビニルエーテル）をはじめとするペルフルオロビニ
ルエーテル、等を使用することができる。この過フッ素
化ポリマー粒子は、過フッ素化モノマーと、他のエチレ
ン系不飽和モノマー、例えばフッ化ビニリデン、フッ化
ビニル、クロロトリフルオロエチレン、エチレン、プロ
ピレン、等とのコポリマーから調製することもできる。
【００１９】本発明の粒子に有用な過フッ素化ポリマー
粒子の例として、E. I. du Pont deNemours & Co.製の
FEP 120及びTeflon PFA 335J が挙げられる。FEP 120
はテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン
系コポリマーの水性分散体であって、０．１〜０．２６
μｍの粒径を有する。Teflon PFA 335J はテトラフルオ
ロエチレン−ペルフルオロビニルエーテル系コポリマー
の水性分散体であって、０．１〜０．２５μｍの粒径を
有する。
粒子の例として、E. I. du Pont deNemours & Co.製の
FEP 120及びTeflon PFA 335J が挙げられる。FEP 120
はテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン
系コポリマーの水性分散体であって、０．１〜０．２６
μｍの粒径を有する。Teflon PFA 335J はテトラフルオ
ロエチレン−ペルフルオロビニルエーテル系コポリマー
の水性分散体であって、０．１〜０．２５μｍの粒径を
有する。
【００２０】この層に用いられる酢酸セルロースのアセ
チル含分は３２％以下であることが好ましい。アセチル
含分が高くなるほど、スカム形成の抑制効果が薄れてい
く。層Ａに含まれる硝酸セルロースは、酢酸セルロース
対硝酸セルロースの比率が１．５：１〜１：１の間にあ
る場合には、バリヤ層に対する優れた付着性を層Ａに付
与する。この層において滑剤として用いられる過フッ素
化ポリマー粒子又はポリテトラフルオロエチレンポリマ
ー粒子は、該セルロースエステルの５〜４０重量％の範
囲で変動し得る。この層のためのコーティングベヒクル
は主として溶剤である。好適な溶剤として、アセトン、
メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジブチルケト
ン、等のようなケトン類；メタノール、エタノール、ｎ
−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、
イソブタノール、ｔ−ブタノールのようなアルコール
類；及び水、等が挙げられる。特に好適な溶剤として、
アセトンと、アルコールと、水とからなる混合物が挙げ
られる。アセトン、メタノール及び水の混合物を使用す
ることが最も好ましい。この層は、約１０７．６〜約２
１５２．９ｍｇ／ｍ2 （１０〜２００ｍｇ／ｆｔ2 ）、
好ましくは約２６９．１ｍｇ／ｍ2 （２５ｍｇ／ｆ
ｔ2 ）の乾燥被覆量で塗布されるべきである。
チル含分は３２％以下であることが好ましい。アセチル
含分が高くなるほど、スカム形成の抑制効果が薄れてい
く。層Ａに含まれる硝酸セルロースは、酢酸セルロース
対硝酸セルロースの比率が１．５：１〜１：１の間にあ
る場合には、バリヤ層に対する優れた付着性を層Ａに付
与する。この層において滑剤として用いられる過フッ素
化ポリマー粒子又はポリテトラフルオロエチレンポリマ
ー粒子は、該セルロースエステルの５〜４０重量％の範
囲で変動し得る。この層のためのコーティングベヒクル
は主として溶剤である。好適な溶剤として、アセトン、
メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジブチルケト
ン、等のようなケトン類；メタノール、エタノール、ｎ
−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、
イソブタノール、ｔ−ブタノールのようなアルコール
類；及び水、等が挙げられる。特に好適な溶剤として、
アセトンと、アルコールと、水とからなる混合物が挙げ
られる。アセトン、メタノール及び水の混合物を使用す
ることが最も好ましい。この層は、約１０７．６〜約２
１５２．９ｍｇ／ｍ2 （１０〜２００ｍｇ／ｆｔ2 ）、
好ましくは約２６９．１ｍｇ／ｍ2 （２５ｍｇ／ｆ
ｔ2 ）の乾燥被覆量で塗布されるべきである。
【００２１】ＳＳと標識したフィルム支持体の増感側に
は感光層が示されていない。この層は、当該技術分野で
周知であるように、輻射線の特定のスペクトルに対し
て、例えば増感色素によって増感されることができる。
さらに別の感光層をスペクトルの別の部分に対して増感
させることができる。感光層は、色素を生成する化合物
又はカプラーを含有すること、又は組み合わせて有する
ことができる。例えば、一般に赤感性乳剤にはシアンカ
プラーを組み合わせ、緑感性乳剤にはマゼンタカプラー
を組み合わせ、そして青感性乳剤にはイエローカプラー
を組み合わせる。本発明の写真要素には、当該技術分野
で周知であるように、その他の層及び添加物、例えば、
帯電防止用組成物、下塗層、界面活性剤、フィルター色
素、保護層、バリヤ層、現像抑制剤放出型化合物、等を
存在させることができる。写真要素並びにその各種層及
び添加物の詳細な説明については、リサーチ・ディスク
ロージャー(Research Disclosure) ３６３２０や、Jame
s の「The Theory of the Photographic Process」（第
４版）１９７７年を参照することができる。所望であれ
ば、本発明の写真要素を、リサーチ・ディスクロージャ
ー(Research Disclosure) 、１９９２年１１月、第３４
３９０項に記載されている透明磁気層と組み合わせて使
用することもできる。
は感光層が示されていない。この層は、当該技術分野で
周知であるように、輻射線の特定のスペクトルに対し
て、例えば増感色素によって増感されることができる。
さらに別の感光層をスペクトルの別の部分に対して増感
させることができる。感光層は、色素を生成する化合物
又はカプラーを含有すること、又は組み合わせて有する
ことができる。例えば、一般に赤感性乳剤にはシアンカ
プラーを組み合わせ、緑感性乳剤にはマゼンタカプラー
を組み合わせ、そして青感性乳剤にはイエローカプラー
を組み合わせる。本発明の写真要素には、当該技術分野
で周知であるように、その他の層及び添加物、例えば、
帯電防止用組成物、下塗層、界面活性剤、フィルター色
素、保護層、バリヤ層、現像抑制剤放出型化合物、等を
存在させることができる。写真要素並びにその各種層及
び添加物の詳細な説明については、リサーチ・ディスク
ロージャー(Research Disclosure) ３６３２０や、Jame
s の「The Theory of the Photographic Process」（第
４版）１９７７年を参照することができる。所望であれ
ば、本発明の写真要素を、リサーチ・ディスクロージャ
ー(Research Disclosure) 、１９９２年１１月、第３４
３９０項に記載されている透明磁気層と組み合わせて使
用することもできる。
【００２２】
【実施例】以下の実施例は、本発明をさらに説明するも
のである。表１に、五酸化バナジウム／硝酸セルロース
系帯電防止剤の上方で且つスカム／滑剤層の下方に、該
五酸化バナジウムの導電性の損失を防止するためにバリ
ヤ層として各種ポリマーを機械塗布した場合の、Ｃ−４
１処理の前後での三層バッキングの水電極抵抗率（ＷＥ
Ｒ）を記載する。
のである。表１に、五酸化バナジウム／硝酸セルロース
系帯電防止剤の上方で且つスカム／滑剤層の下方に、該
五酸化バナジウムの導電性の損失を防止するためにバリ
ヤ層として各種ポリマーを機械塗布した場合の、Ｃ−４
１処理の前後での三層バッキングの水電極抵抗率（ＷＥ
Ｒ）を記載する。
【００２３】表１ ＷＥＲ（log Ω） C-41前／C-41後 硝酸セルロース ６．８／７．０ 3/1 二酢酸セルロース／硝酸セルロース ７．５／７．６ 酢酪酸セルロース ６．８／７．１ 酢酸プロピオン酸セルロース ６．９／７．３ 二酢酸セルロース ８．９／８．４ 三酢酸セルロース ８．２／８．１ ポリ（メチルメタクリレート）(Elvacite 2008) ６．９／７．１ ポリ（メチルメタクリレート）(Elvacite 2009) ６．９／７．１ ポリ（メチルメタクリレート）(Elvacite 2041) ７．３／７．１ ポリ（メチルメタクリレート）(Elvacite 2021) ７．４／７．８ ポリ（メチルメタクリレート）(Elvacite 2010) ７．３／７．７ ポリ（イソブチルメタクリレート）(Elvacite 2045) ７．５／７．５ メチルメタクリレートコポリマー(Elvacite 2028) ７．２／７．０ メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／ ７．５／７．１ メタクリル酸ターポリマー（20／75／５） メチルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート／ ７．２／７．２ メタクリル酸ターポリマー（45／50／５） 3/1 2041/2045 ７．３／７．１ 1/1 2041/2045 ７．２／７．２ 1/3 2041/2045 ７．２／７．２ 1/1 2041/2009 ６．９／６．９ 1/1 2041/2010 ７．７／７．５ 1/1 2021/2009 ７．９／７．８ 1/1 2021/2010 ８．０／８．２ ポリビニルブチラール(Butvar B-78) ７．２／７．４ ポリビニルブチラール(Butvar B-98) ７．１／７．４ ポリビニルアセテート(Vinac B-25) ７．５／７．２ スチレン−アクリロニトリルコポリマー(SAN 33) ７．５／７．５ スチレン−アクリロニトリルコポリマー(SAN 302) ７．４／７．７
【００２４】ＷＥＲのデータは、Ｃ−４１処理の前後で
ほとんど変化がないことを示しており、これらの材料
が、五酸化バナジウムを保護するためのバリヤとして独
立に、場合によってはブレンドとして、非常に良好に機
能を発揮していることを示唆するものである。本発明に
おけるバリヤとして用いるのに好適な材料は、例えば、
ポリ（イソブチルメタクリレート）（例、Elvacite（商
標）2045）である。
ほとんど変化がないことを示しており、これらの材料
が、五酸化バナジウムを保護するためのバリヤとして独
立に、場合によってはブレンドとして、非常に良好に機
能を発揮していることを示唆するものである。本発明に
おけるバリヤとして用いるのに好適な材料は、例えば、
ポリ（イソブチルメタクリレート）（例、Elvacite（商
標）2045）である。
【００２５】表２に、処理して３００〜５００ｐｐｍの
カルシウムを混入させたＣ−４１安定化浴に浸漬した後
の三層バッキングのスカム発生傾向について記載する。
Ｃ−４１安定化浴への混入は、硬水条件を模倣するため
のものである。該バリヤ層に対するスカム防止／滑剤層
の付着性データを表２に、またＩＭＡＳＳ摩擦データを
表３に、それぞれ表示する。
カルシウムを混入させたＣ−４１安定化浴に浸漬した後
の三層バッキングのスカム発生傾向について記載する。
Ｃ−４１安定化浴への混入は、硬水条件を模倣するため
のものである。該バリヤ層に対するスカム防止／滑剤層
の付着性データを表２に、またＩＭＡＳＳ摩擦データを
表３に、それぞれ表示する。
【００２６】付着性試験は、バッキングに鋭利な器具で
刻み目をつけ、その刻み目をつけた領域にテープを貼付
し、そのテープを急激に剥がし、そしてその刻み目をつ
けた領域を精査して材料損失量を求める方法で実施し
た。三層コーティングは、帯電防止層を約３２．３ｍｇ
／ｍ2 （３ｍｇ／ｆｔ2 ）の乾燥被覆量で、バリヤ層を
約４３０．６ｍｇ／ｍ2 （４０ｍｇ／ｆｔ2 ）の乾燥被
覆量で、そしてスカム防止／滑剤層を約２６９．１ｍｇ
／ｍ2 （２５ｍｇ／ｆｔ2 ）の乾燥被覆量で機械塗布さ
れた。該スカム防止／滑剤溶液における設計変更とし
て、ＣＡ３２０Ｓ（酢酸セルロース）と硝酸セルロース
とを５０％／５０％から７５％／２５％まで５％又は１
０％の間隔で増加させた比率のものに、該セルロースエ
ステルの重量に対して２０重量％のTeflon FEP 120を添
加したものが挙げたが、但し、５０％／５０％の比率の
ものには該セルロースエステルの重量に対して３０重量
％のTeflon FEP 120を添加した。
刻み目をつけ、その刻み目をつけた領域にテープを貼付
し、そのテープを急激に剥がし、そしてその刻み目をつ
けた領域を精査して材料損失量を求める方法で実施し
た。三層コーティングは、帯電防止層を約３２．３ｍｇ
／ｍ2 （３ｍｇ／ｆｔ2 ）の乾燥被覆量で、バリヤ層を
約４３０．６ｍｇ／ｍ2 （４０ｍｇ／ｆｔ2 ）の乾燥被
覆量で、そしてスカム防止／滑剤層を約２６９．１ｍｇ
／ｍ2 （２５ｍｇ／ｆｔ2 ）の乾燥被覆量で機械塗布さ
れた。該スカム防止／滑剤溶液における設計変更とし
て、ＣＡ３２０Ｓ（酢酸セルロース）と硝酸セルロース
とを５０％／５０％から７５％／２５％まで５％又は１
０％の間隔で増加させた比率のものに、該セルロースエ
ステルの重量に対して２０重量％のTeflon FEP 120を添
加したものが挙げたが、但し、５０％／５０％の比率の
ものには該セルロースエステルの重量に対して３０重量
％のTeflon FEP 120を添加した。
【００２７】表２ CA320S／ C-41処理後 C-41＋安定化＋Ca(ppm) テープ試験硝酸セルロース比 スカム 300 ppm 500 ppm 付着性 ５０／５０ 無 無 無 良 ５５／４５ 無 無 無 良 ６０／４０ 無 無 無 良 ６５／３５ 無 無 無 剥離 ７５／２５ 無 無 無 剥離 Kodacolor(対照) 無 無 無 良
【００２８】表２のデータは、Ｃ−４１処理後に、又は
Ｃ−４１処理して３００ｐｐｍ若しくは５００ｐｐｍの
カルシウムを混入させた安定化浴に浸漬した後に、これ
らのスカム防止層が、Kodacolor(商標) と同様、スカム
をまったく有しないことを示している。ＣＡ３２０Ｓ／
硝酸セルロースの比率が６０／４０以下である場合に、
バリヤ層に対するスカム防止／滑剤層の付着性が良好と
なる。
Ｃ−４１処理して３００ｐｐｍ若しくは５００ｐｐｍの
カルシウムを混入させた安定化浴に浸漬した後に、これ
らのスカム防止層が、Kodacolor(商標) と同様、スカム
をまったく有しないことを示している。ＣＡ３２０Ｓ／
硝酸セルロースの比率が６０／４０以下である場合に、
バリヤ層に対するスカム防止／滑剤層の付着性が良好と
なる。
【００２９】表３に、ＣＡ３２０Ｓ／硝酸セルロース
（５０／５０）を含み、該セルロースエステルの重量に
対して０、１０、１５、２０、２５及び３０重量％のTe
flon FEP 120を添加したスカム防止／滑剤層を有する三
層バッキングのＩＭＡＳＳ摩擦特性を記載する。
（５０／５０）を含み、該セルロースエステルの重量に
対して０、１０、１５、２０、２５及び３０重量％のTe
flon FEP 120を添加したスカム防止／滑剤層を有する三
層バッキングのＩＭＡＳＳ摩擦特性を記載する。
【００３０】表３ CA320S／硝酸セルロース中 Teflon FEP 120(重量％) C-41後の IMASS摩擦値 ０ ０．５５ １０ ０．３４ １５ ０．３５ ２０ ０．２４ ２５ ０．２２ ３０ ０．２２ Kodacolor(対照) ０．１２
【００３１】表３のＩＭＡＳＳ摩擦データは、本発明の
摩擦値が０．２２〜０．３４の範囲にあるのに対し、Ko
dacolor は０．１２であることを示している。以下、本
発明の好ましい実施態様を項分け記載する。
摩擦値が０．２２〜０．３４の範囲にあるのに対し、Ko
dacolor は０．１２であることを示している。以下、本
発明の好ましい実施態様を項分け記載する。
【００３２】〔１〕支持体の表側に少なくとも一層の感
光層を有し且つ前記支持体の裏側にバッキング系を有す
る写真要素であって、前記バッキング系が、（ａ）前記
支持体に最も近い、帯電防止剤を含む帯電防止層、
（ｂ）前記帯電防止層に写真処理液が到達しないように
十分な量の水不溶性高分子材料を含み積層されているバ
リヤ層、及び（ｃ）前記支持体から最も離れており、酢
酸セルロースと硝酸セルロースとを３：１〜１：１の比
率で含み且つ粒径０．４μｍ未満の過フッ素化ポリマー
粒子を５〜４０重量％含むオーバーコート層を含んでな
る写真要素。
光層を有し且つ前記支持体の裏側にバッキング系を有す
る写真要素であって、前記バッキング系が、（ａ）前記
支持体に最も近い、帯電防止剤を含む帯電防止層、
（ｂ）前記帯電防止層に写真処理液が到達しないように
十分な量の水不溶性高分子材料を含み積層されているバ
リヤ層、及び（ｃ）前記支持体から最も離れており、酢
酸セルロースと硝酸セルロースとを３：１〜１：１の比
率で含み且つ粒径０．４μｍ未満の過フッ素化ポリマー
粒子を５〜４０重量％含むオーバーコート層を含んでな
る写真要素。
【００３３】〔２〕前記支持体が、セルロースエステル
フィルム、硝酸セルロースフィルム、酢酸セルロースフ
ィルム、ポリ（ビニルアセタール）フィルム、ポリスチ
レンフィルム、ポリ（エチレンテレフタレート）フィル
ム、ポリ（エチレンナフタレート）フィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ガラス、紙及びポリマー塗被紙から
なる群より選択された、〔１〕項に記載の写真要素。 〔３〕前記帯電防止剤が、五酸化バナジウム；ビニルベ
ンゼン第四アンモニウムポリマー；Ｃ24セルロース単位
当たり８個以上のアシル基を有し、該アシル基の過半数
が炭素原子数３〜６個の脂肪族ポリカルボン酸由来のも
のであるセルロースのエステル、若しくは該エステルの
塩；又はメトキシアルキルメラミンで架橋された第一ヒ
ドロキシル基を１個以上含有するエチレン系不飽和モノ
マーとビニルベンゼンスルホン酸とのコポリマーを含
む、〔１〕項に記載の写真要素。
フィルム、硝酸セルロースフィルム、酢酸セルロースフ
ィルム、ポリ（ビニルアセタール）フィルム、ポリスチ
レンフィルム、ポリ（エチレンテレフタレート）フィル
ム、ポリ（エチレンナフタレート）フィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ガラス、紙及びポリマー塗被紙から
なる群より選択された、〔１〕項に記載の写真要素。 〔３〕前記帯電防止剤が、五酸化バナジウム；ビニルベ
ンゼン第四アンモニウムポリマー；Ｃ24セルロース単位
当たり８個以上のアシル基を有し、該アシル基の過半数
が炭素原子数３〜６個の脂肪族ポリカルボン酸由来のも
のであるセルロースのエステル、若しくは該エステルの
塩；又はメトキシアルキルメラミンで架橋された第一ヒ
ドロキシル基を１個以上含有するエチレン系不飽和モノ
マーとビニルベンゼンスルホン酸とのコポリマーを含
む、〔１〕項に記載の写真要素。
【００３４】〔４〕前記帯電防止層が、さらに高分子量
バインダーを含む、〔１〕項に記載の写真要素。 〔５〕前記高分子量バインダーが硝酸セルロースを含
む、〔４〕項に記載の写真要素。 〔６〕前記帯電防止層の乾燥被覆量が約８．６１〜約４
３．１ｍｇ／ｍ2 （０．８〜４ｍｇ／ｆｔ2 ）である、
〔５〕項に記載の写真要素。
バインダーを含む、〔１〕項に記載の写真要素。 〔５〕前記高分子量バインダーが硝酸セルロースを含
む、〔４〕項に記載の写真要素。 〔６〕前記帯電防止層の乾燥被覆量が約８．６１〜約４
３．１ｍｇ／ｍ2 （０．８〜４ｍｇ／ｆｔ2 ）である、
〔５〕項に記載の写真要素。
【００３５】〔７〕前記バリヤ層のポリマーが、二酢酸
セルロース、三酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セル
ロース、酢酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリ（エ
チルメタクリレート）、ポリ（プロピルメタクリレー
ト）、ポリ（ｎ−ブチルメタクリレート）、ポリ（イソ
ブチルメタクリレート）、ポリ（ｔ−ブチルメタクリレ
ート）、ポリ（ラウリルメタクリレート）、ポリ（エチ
ルアクリレート−コ−２−アミノエチルメタクリレート
塩酸塩−コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、
ポリ（エチルアクリレート−コ−スチレン−コ−２−ア
ミノエチルメタクリレート塩酸塩）、ポリ（エチルアク
リレート−コ−スチレン−コ−２−アミノエチルメタク
リレート塩酸塩−コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート）、ポリ（ブチルアクリレート−コ−スチレン−コ
−２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩）、ポリ（エ
チルアクリレート−コ−メチルメタクリレート−コ−２
−アミノエチルメタクリレート塩酸塩−コ−２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート）、ポリ（エチルアクリレー
ト−コ−ブチルメタクリレート−コ−２−アミノエチル
メタクリレート塩酸塩−コ−２−アミノエチル−ヒドロ
キシエチルメタクリレート）、ポリ（酢酸ビニル）、ポ
リビニルブチラール、ポリ（フルオロエチレン−コ−エ
チルビニルエーテル）、スチレン−アクリロニトリル系
コポリマー及びアクリロニトリル−ブタジエン−スチレ
ン系コポリマーからなる群より選択された、〔１〕項に
記載の写真要素。
セルロース、三酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セル
ロース、酢酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリ（エ
チルメタクリレート）、ポリ（プロピルメタクリレー
ト）、ポリ（ｎ−ブチルメタクリレート）、ポリ（イソ
ブチルメタクリレート）、ポリ（ｔ−ブチルメタクリレ
ート）、ポリ（ラウリルメタクリレート）、ポリ（エチ
ルアクリレート−コ−２−アミノエチルメタクリレート
塩酸塩−コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、
ポリ（エチルアクリレート−コ−スチレン−コ−２−ア
ミノエチルメタクリレート塩酸塩）、ポリ（エチルアク
リレート−コ−スチレン−コ−２−アミノエチルメタク
リレート塩酸塩−コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート）、ポリ（ブチルアクリレート−コ−スチレン−コ
−２−アミノエチルメタクリレート塩酸塩）、ポリ（エ
チルアクリレート−コ−メチルメタクリレート−コ−２
−アミノエチルメタクリレート塩酸塩−コ−２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート）、ポリ（エチルアクリレー
ト−コ−ブチルメタクリレート−コ−２−アミノエチル
メタクリレート塩酸塩−コ−２−アミノエチル−ヒドロ
キシエチルメタクリレート）、ポリ（酢酸ビニル）、ポ
リビニルブチラール、ポリ（フルオロエチレン−コ−エ
チルビニルエーテル）、スチレン−アクリロニトリル系
コポリマー及びアクリロニトリル−ブタジエン−スチレ
ン系コポリマーからなる群より選択された、〔１〕項に
記載の写真要素。
【００３６】〔８〕前記バリヤ層が、さらに融合助剤を
含む、〔１〕項に記載の写真要素。
含む、〔１〕項に記載の写真要素。
〔９〕前記バリヤ層が、さらに湿潤剤を含む、〔１〕項
に記載の写真要素。 〔１０〕前記バリヤ層が、さらに架橋剤を含む、〔１〕
項に記載の写真要素。 〔１１〕前記バリヤ層の乾燥被覆量が約１０７．６〜約
２１５２．９ｍｇ／ｍ 2 （１０〜２００ｍｇ／ｆｔ2 ）
である、〔１〕項に記載の写真要素。
に記載の写真要素。 〔１０〕前記バリヤ層が、さらに架橋剤を含む、〔１〕
項に記載の写真要素。 〔１１〕前記バリヤ層の乾燥被覆量が約１０７．６〜約
２１５２．９ｍｇ／ｍ 2 （１０〜２００ｍｇ／ｆｔ2 ）
である、〔１〕項に記載の写真要素。
【００３７】〔１２〕前記オーバーコート層の乾燥被覆
量が約１０７．６〜約２１５２．９ｍｇ／ｍ2 （１０〜
２００ｍｇ／ｆｔ2 ）である、〔１〕項に記載の写真要
素。 〔１３〕前記オーバーコート層の酢酸セルロースのアセ
チル含分が３２％である、〔１〕項に記載の写真要素。 〔１４〕前記ポリテトラフルオロエチレンが、粒径０．
４μｍ未満の粒子を含む、〔１〕項に記載の写真要素。
量が約１０７．６〜約２１５２．９ｍｇ／ｍ2 （１０〜
２００ｍｇ／ｆｔ2 ）である、〔１〕項に記載の写真要
素。 〔１３〕前記オーバーコート層の酢酸セルロースのアセ
チル含分が３２％である、〔１〕項に記載の写真要素。 〔１４〕前記ポリテトラフルオロエチレンが、粒径０．
４μｍ未満の粒子を含む、〔１〕項に記載の写真要素。
【図１】本発明の写真要素の三層バッキング構造を示す
ものである。
ものである。
Ａ…オーバーコート層 Ｂ…バリヤ層 Ｃ…帯電防止層 Ｓ…支持体 ＳＳ…支持体の増感側
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョン マサミ フクシマ アメリカ合衆国，ニューヨーク 14612, ロチェスター，ポンドビュー ハイツ 73 (72)発明者 ロナルド ミラー スティムソン アメリカ合衆国，ニューヨーク 14626, ロチェスター，ナンチュケット ロード 123
Claims (1)
- 【請求項１】 支持体の表側に少なくとも一層の感光層
を有し且つ前記支持体の裏側にバッキング系を有する写
真要素であって、前記バッキング系が、 （ａ）前記支持体に最も近い、帯電防止剤を含む帯電防
止層、 （ｂ）前記帯電防止層に写真処理液が到達しないように
十分な量の水不溶性高分子材料を含み積層されているバ
リヤ層、及び （ｃ）前記支持体から最も離れており、酢酸セルロース
と硝酸セルロースとを３：１〜１：１の比率で含み且つ
粒径０．４μｍ未満の過フッ素化ポリマー粒子を５〜４
０重量％含むオーバーコート層を含んでなる写真要素。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/789981 | 1997-01-28 | ||
| US08/789,981 US5766836A (en) | 1997-01-28 | 1997-01-28 | Three-layer backing for photographic element |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10213877A true JPH10213877A (ja) | 1998-08-11 |
Family
ID=25149290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10012309A Pending JPH10213877A (ja) | 1997-01-28 | 1998-01-26 | 写真要素 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5766836A (ja) |
| EP (1) | EP0855618A1 (ja) |
| JP (1) | JPH10213877A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102015114470B4 (de) * | 2015-08-31 | 2019-01-24 | Harting Electric Gmbh & Co. Kg | Kontaktträger |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2056175A1 (de) * | 1970-11-14 | 1972-05-25 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Gelatineschicht mit verringerter Quellung. % |
| FR2318442A1 (fr) * | 1975-07-15 | 1977-02-11 | Kodak Pathe | Nouveau produit, notamment, photographique, a couche antistatique et procede pour sa preparation |
| US4070189A (en) * | 1976-10-04 | 1978-01-24 | Eastman Kodak Company | Silver halide element with an antistatic layer |
| US4431727A (en) * | 1982-06-14 | 1984-02-14 | Eastman Kodak Company | Protective overcoats for photographic elements |
| US4459352A (en) * | 1982-12-27 | 1984-07-10 | Eastman Kodak Company | Conductive coating composition and composite bases and elements containing same |
| US5006451A (en) * | 1989-08-10 | 1991-04-09 | Eastman Kodak Company | Photographic support material comprising an antistatic layer and a barrier layer |
| US5096975A (en) * | 1990-05-23 | 1992-03-17 | Eastman Kodak Company | Cross-linked polymers from vinyl benzene sulfonate salts and ethylenic hydroxy monomers |
| US5366544A (en) * | 1993-05-27 | 1994-11-22 | Eastman Kodak Company | Antistatic layers for photographic elements and coating compositions for preparing the same |
| US5356468A (en) * | 1993-05-27 | 1994-10-18 | Eastman Kodak Company | Antistat coating compositions and antistat layers formed therefrom |
| EP0668534B1 (en) * | 1993-12-24 | 1999-11-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material comprising emulsion layer and backing layer provided on support |
-
1997
- 1997-01-28 US US08/789,981 patent/US5766836A/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-01-15 EP EP98200097A patent/EP0855618A1/en not_active Ceased
- 1998-01-26 JP JP10012309A patent/JPH10213877A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5766836A (en) | 1998-06-16 |
| EP0855618A1 (en) | 1998-07-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5856051A (en) | Water-resistant protective overcoat for AgX photographic system | |
| US5288598A (en) | Photographic light-sensitive elements | |
| JPS61112144A (ja) | 写真用帯電防止組成物 | |
| US5866312A (en) | Photographic element having surface protective layer | |
| US4582784A (en) | Photographic light-sensitive element with backing layer | |
| EP0626616B1 (en) | Antistat coating compositions and antistat layers formed therefrom | |
| US6165702A (en) | Imaging element containing polymer particles and lubricant | |
| US5965304A (en) | Protecting layer for gelatin based AGX photographic products | |
| JPH10213877A (ja) | 写真要素 | |
| US6048678A (en) | Protective overcoat coating compositions | |
| DE60001013T2 (de) | Kratzfeste wasserfeste Überzugsschicht für photographische systeme | |
| US5958658A (en) | Lubricant for Ag halide photographic elements | |
| US5895724A (en) | Recoverable backings for cellulose acetate film support | |
| US5866285A (en) | Auxiliary layer for imaging elements containing solvent-soluble fluoropolymer | |
| EP0829760A2 (en) | Imaging element comprising protective overcoat for antistatic layer | |
| EP0762193A1 (en) | Nonaqueous solid particle dye dispersions | |
| US6407160B2 (en) | Non-aqueous composite wax particle dispersion | |
| US5998118A (en) | Backside protective overcoat compositions for silver halide photographic elements | |
| US6475712B1 (en) | Photographic element having improved surface protective layer containing composite wax particles | |
| US6187518B1 (en) | Backing layers with reduced scum formation for photographic films | |
| US5856078A (en) | Antihalation undercoat layer with improved adhesion and reduced finishing dirt | |
| EP0884636A1 (en) | Auxiliary layers for imaging elements applied from aqueous coating compositions containing fluoropolymer latex | |
| DE69922739T2 (de) | Verbesserte Deckschicht für Laufbildfilme | |
| US5846700A (en) | Hydrophilic surface protective layer containing a fluoropolymer latex | |
| EP0829755A2 (en) | Coating composition for imaging elements comprising vinyl polymer |