JPH10208989A - Substrate treating apparatus and gas concn. control system - Google Patents

Substrate treating apparatus and gas concn. control system

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JPH10208989A
JPH10208989A JP9009411A JP941197A JPH10208989A JP H10208989 A JPH10208989 A JP H10208989A JP 9009411 A JP9009411 A JP 9009411A JP 941197 A JP941197 A JP 941197A JP H10208989 A JPH10208989 A JP H10208989A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate treating apparatus and gas concn. control system for controlling the conc. of specified substance in an atmosphere gas, without increasing the installation area. SOLUTION: The gas concn. control system 3 is provided on a substrate treating part 1 and has a first measuring port 31 located at the downstream of a first filter 21, second measuring port 32 disposed in this part 1, three-way valve 33 for selectively communicating either first or second port 31, 32 with a concn. decision unit 34 which judges whether the ammonia concn. in an atmosphere gas fed from the first or second port 31, 32 over a specified reference value of not and alarms if the ammonia concn. exceeds the specified reference value.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理装置の雰
囲気ガス中の所定の物質の濃度を管理する気中濃度管理
システムおよびそれを備えた基板処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an air concentration management system for managing the concentration of a predetermined substance in an atmospheric gas of a substrate processing apparatus, and a substrate processing apparatus having the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板等の基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が
用いられている。このような基板処理装置では、その雰
囲気中におけるアルカリ成分、酸性分等の種々の化学物
質の濃度(気中濃度)をできるだけ低く保つ必要があ
る。
2. Description of the Related Art A substrate processing apparatus is used to perform various processes on substrates such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for a photomask, and a glass substrate for an optical disk. In such a substrate processing apparatus, it is necessary to keep the concentrations (air concentrations) of various chemical substances such as alkali components and acidic components in the atmosphere as low as possible.

【0003】特に、基板上に形成される素子の集積度を
上げるために化学増幅型レジストを用いる場合がある。
ここで、化学増幅型レジストとは、露光されると特定の
酸が発生し、この酸が触媒となり、露光部分の反応(分
解または重合)を増幅させ、効率よくパターン形成が可
能なレジストをいう。
In particular, there is a case where a chemically amplified resist is used to increase the degree of integration of elements formed on a substrate.
Here, the chemically amplified resist refers to a resist capable of generating a specific acid upon exposure to light, acting as a catalyst, amplifying the reaction (decomposition or polymerization) of the exposed portion, and efficiently forming a pattern. .

【0004】このような化学増幅型レジストを用いる場
合には、雰囲気ガス中にアルカリ成分(特にアンモニ
ア)が含まれていると酸が中和されてしまうので、レジ
ストの品質が低下するという問題がある。したがって、
雰囲気ガス中のアンモニアの濃度を一定の基準値以下に
抑制する必要がある。このため、基板処理装置には雰囲
気ガス中のアンモニアを除去するためにフィルタ等から
なるアンモニア除去ユニットが用いられる。
[0004] When such a chemically amplified resist is used, if the atmosphere gas contains an alkali component (particularly ammonia), the acid will be neutralized and the quality of the resist will deteriorate. is there. Therefore,
It is necessary to suppress the concentration of ammonia in the atmosphere gas to a certain reference value or less. Therefore, an ammonia removing unit including a filter or the like is used in the substrate processing apparatus in order to remove ammonia in the atmospheric gas.

【0005】図4はアンモニア除去ユニットを備えた従
来の基板処理装置の概略図である。基板処理装置100
aは、基板にレジスト等の塗布処理、現像処理、加熱処
理、冷却処理等の所定の処理を行う基板処理部60を備
える。基板処理部60上には、フィルタおよび送風機か
らなるアンモニア除去ユニット70が設けられている。
FIG. 4 is a schematic view of a conventional substrate processing apparatus provided with an ammonia removing unit. Substrate processing apparatus 100
a includes a substrate processing unit 60 that performs predetermined processing such as coating processing of a resist or the like on a substrate, development processing, heating processing, cooling processing, and the like. On the substrate processing unit 60, an ammonia removing unit 70 including a filter and a blower is provided.

【0006】通常は、雰囲気ガスとして空気が基板処理
装置100aの上方から供給される。その空気はアンモ
ニア除去ユニット70のフィルタを通過して基板処理部
60内に供給される。それにより、基板処理部60内は
アンモニアが除去された清浄な空気の雰囲気に保たれ
る。
Normally, air is supplied from above the substrate processing apparatus 100a as atmospheric gas. The air passes through the filter of the ammonia removing unit 70 and is supplied into the substrate processing unit 60. Thereby, the inside of the substrate processing unit 60 is maintained in an atmosphere of clean air from which ammonia has been removed.

【0007】アンモニア除去ユニット70のフィルタの
能力が時間の経過とともに低下すると、基板処理部60
内のアンモニアの濃度が上昇する。基板処理部60内の
アンモニアの濃度が一定の基準値以上になると、化学増
幅型レジストの品質が低下するので、フィルタを交換す
ることが必要となる。フィルタの交換時期を把握するた
めには、基板処理部60内のアンモニア濃度を管理する
必要がある。
When the capacity of the filter of the ammonia removing unit 70 decreases over time, the substrate processing unit 60
The concentration of ammonia inside increases. If the concentration of ammonia in the substrate processing unit 60 exceeds a certain reference value, the quality of the chemically amplified resist deteriorates, and it is necessary to replace the filter. In order to ascertain the filter replacement time, it is necessary to manage the ammonia concentration in the substrate processing unit 60.

【0008】従来は、基板処理部60内のアンモニア濃
度を管理するためにアンモニア濃度測定器80を用いて
いる。このアンモニア濃度測定器80は、基板処理部6
0内の雰囲気ガスを導く配管61および通信線62によ
り基板処理装置100に接続されている。アンモニア濃
度測定器80としては、一般にイオンクロマトグラフ分
析システムが用いられている。
Conventionally, an ammonia concentration measuring device 80 is used to manage the ammonia concentration in the substrate processing section 60. The ammonia concentration measuring device 80 is provided in the substrate processing section 6.
It is connected to the substrate processing apparatus 100 by a pipe 61 for guiding the atmospheric gas in the chamber 0 and a communication line 62. As the ammonia concentration measuring device 80, an ion chromatograph analysis system is generally used.

【0009】図5はイオンクロマトグラフ分析システム
の一例を示すブロック図である。図5のイオンクロマト
グラフ分析システムは、濃度分析部81、記憶部82、
演算処理部83、入力部84および出力部85を備え
る。
FIG. 5 is a block diagram showing an example of an ion chromatograph analysis system. The ion chromatograph analysis system of FIG. 5 includes a concentration analysis unit 81, a storage unit 82,
An arithmetic processing unit 83, an input unit 84, and an output unit 85 are provided.

【0010】濃度分析部81は、基板処理部60から配
管61を通して導かれた雰囲気ガス中のアンモニア濃度
を測定する機能を有する。入力部84は例えばキーボー
ドからなり、出力部85はCRT等のモニタやプリンタ
等の出力機器からなる。記憶部82には、演算処理部8
3のための制御プログラムおよび各種データが格納され
る。
[0010] The concentration analyzer 81 has a function of measuring the ammonia concentration in the atmospheric gas introduced from the substrate processing unit 60 through the pipe 61. The input unit 84 includes, for example, a keyboard, and the output unit 85 includes a monitor such as a CRT or an output device such as a printer. The storage unit 82 includes an arithmetic processing unit 8
The control program and various data for 3 are stored.

【0011】図5のイオンクロマトグラフ分析システム
においては、基板処理部60から配管61を通して導か
れた雰囲気ガス中のアンモニア濃度が濃度分析部81に
より測定され、測定結果が出力部85のモニタに表示さ
れ、または出力機器に出力される。
In the ion chromatograph analysis system of FIG. 5, the concentration of ammonia in the atmospheric gas introduced from the substrate processing unit 60 through the pipe 61 is measured by the concentration analysis unit 81, and the measurement result is displayed on the monitor of the output unit 85. Or output to an output device.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上記のアンモニア濃度
測定器80を用いれば、基板処理部60内のアンモニア
濃度を正確に測定することができる。しかしながら、こ
のアンモニア濃度測定器80は比較的大型であるため、
アンモニア濃度測定器80の分だけ基板処理装置100
aのフットプリント(設置面積)が増加するという問題
がある。また、アンモニア濃度測定器80は高価である
ため、基板処理のためのコストが高くなる。
The use of the above-mentioned ammonia concentration measuring device 80 makes it possible to accurately measure the ammonia concentration in the substrate processing section 60. However, since the ammonia concentration measuring device 80 is relatively large,
Substrate processing apparatus 100 by ammonia concentration measuring device 80
There is a problem that the footprint (installation area) of “a” increases. Further, since the ammonia concentration measuring device 80 is expensive, the cost for processing the substrate increases.

【0013】本発明の目的は、設置面積を増加させるこ
となく雰囲気ガス中の所定の物質の濃度を安価に管理す
ることが可能な基板処理装置および気中濃度管理システ
ムを提供することである。
It is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus and an air concentration management system capable of inexpensively managing the concentration of a predetermined substance in an atmospheric gas without increasing the installation area.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を行う基
板処理部と、基板処理部に清浄な雰囲気ガスを供給する
雰囲気ガス供給手段と、雰囲気ガス供給手段内を通過す
る雰囲気ガス中または基板処理部内の雰囲気ガス中の所
定の物質の濃度が所定の基準値以上であるか否かを判定
する判定手段とを備えたものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus for performing a predetermined process on a substrate, and an atmosphere gas supply for supplying a clean atmosphere gas to the substrate processing section. Means for determining whether or not the concentration of a predetermined substance in the atmosphere gas passing through the atmosphere gas supply means or in the atmosphere gas in the substrate processing unit is equal to or higher than a predetermined reference value. is there.

【0015】本発明に係る基板処理装置においては、判
定手段により雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲気ガ
ス中または基板処理部内の雰囲気ガス中の所定の物質の
濃度が所定の基準値以上であるか否かが判定される。そ
れにより、雰囲気ガス供給手段の保守または交換時期を
把握することができる。
In the substrate processing apparatus according to the present invention, the determination means determines whether the concentration of the predetermined substance in the atmosphere gas passing through the atmosphere gas supply means or in the atmosphere gas in the substrate processing section is equal to or higher than a predetermined reference value. It is determined whether or not. Thereby, the maintenance or replacement time of the atmospheric gas supply means can be grasped.

【0016】この場合、判定手段は、雰囲気ガス中の所
定の物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定し
ているので、構成が単純となり、かつ安価に製造可能で
あり、小型化が可能である。したがって、基板処理装置
の設置面積が増加しない。
In this case, since the determination means determines only whether or not the concentration of the predetermined substance in the atmospheric gas is equal to or higher than the reference value, the configuration is simple, the manufacturing is inexpensive, and the size is small. Is possible. Therefore, the installation area of the substrate processing apparatus does not increase.

【0017】第2の発明に係る基板処理装置は、第1の
発明に係る基板処理装置の構成において、判定手段によ
り所定の物質の濃度が基準値以上であると判定された場
合に警報を発生する警報発生手段をさらに備えたもので
ある。これにより、作業者が雰囲気ガス供給手段の保守
または交換時期を容易に把握することができる。
The substrate processing apparatus according to a second aspect of the present invention, in the configuration of the substrate processing apparatus according to the first aspect, generates an alarm when the determination means determines that the concentration of the predetermined substance is equal to or higher than the reference value. Further, there is provided an alarm generating means. Thereby, the operator can easily grasp the maintenance or replacement time of the atmospheric gas supply means.

【0018】第3の発明に係る基板処理装置は、第1ま
たは第2の発明に係る基板処理装置の構成において、判
定手段により所定の物質の濃度が基準値以上であると判
定された場合に基板処理部による処理を停止させる制御
手段をさらに備えたものである。これにより、雰囲気ガ
ス中の所定の物質の濃度の上昇による基板処理の質の低
下を防止することができる。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the substrate processing apparatus according to the first or second aspect of the invention, wherein the determination means determines that the concentration of the predetermined substance is equal to or higher than the reference value. The apparatus further includes control means for stopping the processing by the substrate processing unit. As a result, it is possible to prevent a decrease in the quality of the substrate processing due to an increase in the concentration of the predetermined substance in the atmospheric gas.

【0019】第4の発明に係る基板処理装置は、第1、
第2または第3の発明に係る基板処理装置の構成におい
て、判定手段が、雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲
気ガスまたは基板処理部内の雰囲気ガスをpH指示薬に
導く雰囲気ガス導入手段と、pH指示薬の色の変化を検
出する検出手段と、検出手段により検出された色の変化
に基づいて所定の物質の濃度が基準値以上であるか否か
を判定する濃度判定手段とを含むものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus comprising:
In the configuration of the substrate processing apparatus according to the second or third invention, the determining means includes an atmosphere gas introducing means for guiding an atmosphere gas passing through the atmosphere gas supply means or an atmosphere gas in the substrate processing unit to the pH indicator; And a density determining means for determining whether or not the concentration of the predetermined substance is equal to or higher than a reference value based on the color change detected by the detecting means.

【0020】この場合、雰囲気ガス供給手段内を通過す
る雰囲気ガスまたは基板処理部内の雰囲気ガスがpH指
示薬に導かれ、pH指示薬の色の変化が検出される。p
H指示薬の色は雰囲気ガス中の物質の濃度に応じて変化
するので、pH指示薬の色の変化に基づいて雰囲気ガス
中の所定の物質の濃度を判定することができる。
In this case, the atmosphere gas passing through the atmosphere gas supply means or the atmosphere gas in the substrate processing section is guided to the pH indicator, and a change in the color of the pH indicator is detected. p
Since the color of the H indicator changes according to the concentration of the substance in the atmosphere gas, the concentration of the predetermined substance in the atmosphere gas can be determined based on the change in the color of the pH indicator.

【0021】本発明に係る基板処理装置の判定手段で
は、雰囲気ガス中の所定の物質の濃度が基準値以上であ
るか否かのみを判定しているので、構成が単純であり、
かつ安価に製造可能であり、小型化が可能である。
The determination means of the substrate processing apparatus according to the present invention determines only whether or not the concentration of a predetermined substance in the atmospheric gas is equal to or higher than a reference value.
In addition, it can be manufactured at low cost and can be downsized.

【0022】第5の発明に係る基板処理装置は、第1、
第2または第3の発明に係る基板処理装置の構成におい
て、雰囲気ガス供給手段が、雰囲気ガス中の所定の物質
を除去する除去手段と、除去手段を通過した雰囲気ガス
を基板処理部に送る送気手段とを含み、判定手段が、除
去手段の下流側の雰囲気ガスを採取する第1の測定ポー
トと、基板処理部内の雰囲気ガスを採取する第2の測定
ポートと、第1または第2の測定ポートにより採取され
た雰囲気ガス中の所定の物質の濃度が基準値以上である
か否かを判定する濃度判定手段と、第1および第2の測
定ポートのいずれかを選択的に濃度判定手段に導通させ
る切替手段とを含むものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus comprising:
In the configuration of the substrate processing apparatus according to the second or third invention, the atmosphere gas supply means removes a predetermined substance in the atmosphere gas, and sends the atmosphere gas passing through the removal means to the substrate processing section. A first measuring port for sampling an atmosphere gas downstream of the removing means, a second measuring port for sampling an atmosphere gas in the substrate processing unit, and a first or second gas sampling means. Concentration determination means for determining whether the concentration of a predetermined substance in the atmospheric gas collected by the measurement port is equal to or higher than a reference value; and concentration determination means for selectively selecting one of the first and second measurement ports. And switching means for conducting the current.

【0023】第1の測定ポートが濃度判定手段に導通す
るように切替手段を設定した場合には、雰囲気ガス供給
手段の除去手段の下流側の雰囲気ガスが採取され、その
雰囲気ガス中の濃度が基準値以上であるか否かが判定さ
れる。除去手段の下流側の雰囲気ガス中の濃度が基準値
よりも低いときには、基板処理部内の雰囲気ガス中の濃
度も基準値よりも低くなっている。
When the switching means is set so that the first measurement port is electrically connected to the concentration judging means, the atmospheric gas downstream of the removing means of the atmospheric gas supplying means is sampled, and the concentration in the atmospheric gas is measured. It is determined whether the value is equal to or greater than the reference value. When the concentration in the atmosphere gas downstream of the removing unit is lower than the reference value, the concentration in the atmosphere gas in the substrate processing unit is also lower than the reference value.

【0024】除去手段の下流側の雰囲気ガス中の濃度が
基準値以上になると、やがては基板処理部内の雰囲気ガ
ス中の濃度も基準値以上となるので、第2の測定ポート
が濃度判定手段に導通するように切替手段を設定する。
それにより、基板処理部内の雰囲気ガスが採取され、そ
の雰囲気ガス中の濃度が基準値以上であるか否かが判定
される。したがって、基板処理部内の雰囲気ガス中の濃
度が基準値以上になる前に雰囲気ガス供給手段の除去手
段を交換することができる。
When the concentration in the atmosphere gas on the downstream side of the removing means becomes higher than the reference value, the concentration in the atmosphere gas in the substrate processing section eventually becomes more than the reference value. The switching means is set to conduct.
Thereby, the atmospheric gas in the substrate processing unit is sampled, and it is determined whether or not the concentration in the atmospheric gas is equal to or higher than the reference value. Therefore, the removing means of the atmospheric gas supply means can be replaced before the concentration in the atmospheric gas in the substrate processing section becomes equal to or higher than the reference value.

【0025】第6の発明に係る気中濃度管理システム
は、基板処理装置内の雰囲気ガス中の所定の物質の濃度
を管理する気中濃度管理システムであって、基板処理装
置内の雰囲気ガスを採取する採取手段と、採取手段によ
り採取された雰囲気ガスをpH指示薬に導く雰囲気ガス
導入手段と、pH指示薬の色の変化を検出する検出手段
と、検出手段により検出された色の変化に基づいて所定
の物質の濃度が基準値以上であるか否かを判定する濃度
判定手段とを含むものである。
An air concentration management system according to a sixth aspect of the present invention is an air concentration management system for managing the concentration of a predetermined substance in an atmosphere gas in a substrate processing apparatus. Sampling means for sampling, atmosphere gas introducing means for guiding the atmospheric gas collected by the sampling means to the pH indicator, detecting means for detecting a change in the color of the pH indicator, and based on the color change detected by the detecting means. Concentration determining means for determining whether the concentration of the predetermined substance is equal to or higher than a reference value.

【0026】本発明に係る気中濃度管理システムにおい
ては、基板処理装置内の雰囲気ガスが採取されてpH指
示薬に導かれる。pH指示薬の色は雰囲気ガス中の所定
の物質の濃度に応じて変化するので、pH指示薬の色の
変化に基づいて所定の物質の濃度を判定することができ
る。
In the air concentration management system according to the present invention, the atmospheric gas in the substrate processing apparatus is collected and guided to the pH indicator. Since the color of the pH indicator changes according to the concentration of the predetermined substance in the atmospheric gas, the concentration of the predetermined substance can be determined based on the change in the color of the pH indicator.

【0027】この気中濃度管理システムでは、pH指示
薬の色の変化に基づいて所定の物質の濃度が基準値以上
であるか否かのみを判定しているので、構成が単純であ
り、かつ安価に製造可能であり、小型化が可能である。
したがって、基板処理装置にこの気中濃度管理システム
を設けても、基板処理装置の設置面積が増加しない。
In this aerial concentration management system, since it is determined only whether the concentration of a predetermined substance is equal to or higher than a reference value based on a change in the color of the pH indicator, the configuration is simple and inexpensive. And can be miniaturized.
Therefore, even if the air concentration management system is provided in the substrate processing apparatus, the installation area of the substrate processing apparatus does not increase.

【0028】第7の発明に係る気中濃度管理システム
は、第6の発明に係る気中濃度管理システムの構成にお
いて、検出手段が、pH指示薬に光を照射する光照射手
段と、pH指示薬に照射された光の反射光を受光する受
光手段とを含み、濃度判定手段が、受光手段の受光量に
基づいて所定の物質の濃度が基準値以上であるか否かを
判定するものである。
The air concentration management system according to a seventh aspect of the present invention is the air concentration management system according to the sixth aspect, wherein the detecting means comprises: light irradiating means for irradiating the pH indicator with light; Light receiving means for receiving the reflected light of the emitted light, and the concentration determining means determines whether or not the concentration of the predetermined substance is equal to or higher than a reference value based on the amount of light received by the light receiving means.

【0029】pH指示薬の色の濃度は雰囲気ガス中の所
定の物質の濃度に応じて変化するので、pH指示薬から
の反射光の光量に基づいて雰囲気ガス中の物質の濃度を
判定することができる。本発明に係る気中濃度管理シス
テムでは、受光手段の受光量に基づいて雰囲気ガス中の
物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定してい
るので、構成が単純であり、かつ安価に製造可能であ
り、小型化が可能である。
Since the concentration of the color of the pH indicator changes in accordance with the concentration of a predetermined substance in the atmosphere gas, the concentration of the substance in the atmosphere gas can be determined based on the amount of reflected light from the pH indicator. . In the air concentration management system according to the present invention, since it is determined only whether the concentration of the substance in the atmospheric gas is equal to or higher than the reference value based on the amount of light received by the light receiving means, the configuration is simple, and It can be manufactured at low cost and can be miniaturized.

【0030】第8の発明に係る気中濃度管理システム
は、第6の発明に係る気中濃度管理システムの構成にお
いて、pH指示薬が透明パイプ内に充填され、雰囲気ガ
ス導入手段が、採取手段により採取された雰囲気ガスを
透明パイプ内のpH指示薬の一端部に導き、検出手段
が、透明パイプに沿って配列されかつ透明パイプ内のp
H指示薬に光を照射してその反射光に基づいて色の変化
を検知する複数の検知手段を含み、濃度判定手段が、複
数の検知手段の検知タイミングの時間差に基づいて所定
の物質の濃度が基準値以上であるか否かを判定するもの
である。
An air concentration management system according to an eighth aspect of the present invention is the air concentration management system according to the sixth aspect, wherein the pH indicator is filled in the transparent pipe, and the atmosphere gas introducing means is provided by the sampling means. The collected atmospheric gas is led to one end of the pH indicator in the transparent pipe, and the detecting means is arranged along the transparent pipe and the p in the transparent pipe.
A plurality of detecting means for irradiating the H indicator with light and detecting a change in color based on the reflected light; It is to determine whether the value is equal to or more than the reference value.

【0031】透明パイプに充填されたpH指示薬の一端
部に所定の物質を含む雰囲気ガスを供給すると、pH指
示薬の色が一端部から他端部に向かって順に変化する。
この場合、pH指示薬の色の変化の速度は雰囲気ガス中
の濃度に対応する。したがって、透明パイプに沿って配
列された複数の検知手段の検知タイミングの時間差に基
づいて雰囲気ガス中の物質の濃度を判定することができ
る。本発明に係る気中濃度管理システムでは、複数の検
知手段の検知タイミングの時間差に基づいて雰囲気ガス
中の物質の濃度が基準値以上であるか否かのみを判定し
ているので、構成が単純であり、かつ安価に製造可能で
あり、小型化が可能である。
When an atmosphere gas containing a predetermined substance is supplied to one end of the pH indicator filled in the transparent pipe, the color of the pH indicator changes in order from one end to the other end.
In this case, the rate of change of the color of the pH indicator corresponds to the concentration in the atmospheric gas. Therefore, the concentration of the substance in the atmospheric gas can be determined based on the time difference between the detection timings of the plurality of detection means arranged along the transparent pipe. In the air concentration management system according to the present invention, since it is determined only whether or not the concentration of the substance in the atmospheric gas is equal to or higher than the reference value based on the time difference between the detection timings of the plurality of detection means, the configuration is simple. , And can be manufactured at low cost, and can be miniaturized.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】図1は本発明の一実施例における
基板処理装置の構成を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing the structure of a substrate processing apparatus according to one embodiment of the present invention.

【0033】図1の基板処理装置100は、基板処理部
1、雰囲気調整部2および気中濃度管理システム3を含
む。基板処理部1は、基板にレジスト等を塗布する回転
式塗布ユニット(スピンコータ)、基板に現像処理を行
う回転式現像ユニット(スピンデベロッパ)、基板に洗
浄処理を行う回転式洗浄ユニット(スピンスクラバ)、
基板に加熱処理を行う加熱ユニット(ホットプレー
ト)、基板に冷却処理を行う冷却ユニット(クーリング
プレート)等の1または複数の基板処理ユニットからな
る。
The substrate processing apparatus 100 shown in FIG. 1 includes a substrate processing section 1, an atmosphere adjusting section 2, and an air concentration management system 3. The substrate processing unit 1 includes a rotary coating unit (spin coater) that applies a resist or the like to the substrate, a rotary developing unit (spin developer) that performs a developing process on the substrate, and a rotary cleaning unit (spin scrubber) that performs a cleaning process on the substrate. ,
The apparatus includes one or a plurality of substrate processing units such as a heating unit (hot plate) for performing a heating process on a substrate and a cooling unit (cooling plate) for performing a cooling process on the substrate.

【0034】雰囲気調整部2は、化学吸着フィルタから
なる1次フィルタ21、送風機22、化学吸着フィルタ
からなる2次フィルタ23、およびULPA(Ultra Lo
w Penetration Air)フィルタ24を含み、基板処理部1
上に装着される。
The atmosphere adjusting unit 2 includes a primary filter 21 composed of a chemical adsorption filter, a blower 22, a secondary filter 23 composed of a chemical adsorption filter, and an ULPA (Ultra Lo
w Penetration Air) Including the filter 24, the substrate processing unit 1
Mounted on top.

【0035】送風機22は、上方から供給される雰囲気
ガスを1次フィルタ21、2次フィルタ23およびUL
PAフィルタ24を通過させて基板処理部1内に導く。
1次フィルタ21および2次フィルタ23は所定の物質
を中和する粒子を含み、上方から供給された雰囲気ガス
中の上記所定の物質を除去する。ULPAフィルタ24
は、雰囲気ガス中のパーティクル(粉塵)を除去する。
これにより、基板処理部1内には、所定の物質およびパ
ーティクルが除去された清浄な雰囲気ガスが供給され
る。
The blower 22 converts the atmospheric gas supplied from above into the primary filter 21, the secondary filter 23 and the UL filter.
The light passes through the PA filter 24 and is guided into the substrate processing unit 1.
The primary filter 21 and the secondary filter 23 include particles for neutralizing a predetermined substance, and remove the predetermined substance in the atmospheric gas supplied from above. ULPA filter 24
Removes particles (dust) in the atmospheric gas.
Thus, a clean atmosphere gas from which predetermined substances and particles have been removed is supplied into the substrate processing unit 1.

【0036】雰囲気ガスは例えば空気である。また、雰
囲気ガス中の所定の物質は、所定のアルカリ成分または
所定の酸成分であり、本実施例ではアンモニアである。
The atmosphere gas is, for example, air. The predetermined substance in the atmospheric gas is a predetermined alkali component or a predetermined acid component, and in this embodiment, is ammonia.

【0037】気中濃度管理システム3は、基板処理部1
上に設けられ、第1の測定ポート31、第2の測定ポー
ト32、三方弁33および濃度判定器34を含む。第1
の測定ポート31は1次フィルタ21と2次フィルタ2
3との間、すなわち、1次フィルタ21の下流側に配置
されている。第2の測定ポート32は基板処理部1内に
配置されている。第1の測定ポート31および第2の測
定ポート32は雰囲気ガスを吸引するためのノズルから
なり、それぞれ配管35,36により三方弁33に接続
されている。
The air concentration management system 3 includes a substrate processing unit 1
A first measurement port 31, a second measurement port 32, a three-way valve 33, and a concentration determiner 34 are provided. First
Measurement port 31 is a primary filter 21 and a secondary filter 2
3, that is, downstream of the primary filter 21. The second measurement port 32 is arranged in the substrate processing section 1. The first measurement port 31 and the second measurement port 32 are composed of nozzles for sucking atmospheric gas, and are connected to the three-way valve 33 by pipes 35 and 36, respectively.

【0038】三方弁33は、第1の測定ポート31から
供給される雰囲気ガスおよび第2の測定ポート32から
供給される雰囲気ガスの一方を選択的に濃度判定器34
に導くように手動または自動により切替可能になってい
る。
The three-way valve 33 selectively selects one of the atmosphere gas supplied from the first measurement port 31 and the atmosphere gas supplied from the second measurement port 32 in the concentration determination unit 34.
It can be switched manually or automatically so as to guide the user.

【0039】濃度判定器34は、基板処理部1上に取り
外し可能に設けられている。この濃度判定34は、第1
の測定ポート31または第2の測定ポート32から供給
される雰囲気ガス中のアンモニア濃度が所定の基準値以
上であるか否かを判定し、アンモニア濃度が基準値以上
になったときに警報を発生する機能を有する。
The concentration determiner 34 is provided on the substrate processing section 1 so as to be detachable. This density determination 34 is based on the first
It is determined whether the ammonia concentration in the atmospheric gas supplied from the measurement port 31 or the second measurement port 32 is equal to or higher than a predetermined reference value, and an alarm is generated when the ammonia concentration is equal to or higher than the reference value. It has a function to do.

【0040】気中濃度管理システム3は基板処理装置1
00から取り外した状態でも単独で機能することができ
る。
The air concentration management system 3 includes the substrate processing apparatus 1
It can function alone even when detached from 00.

【0041】通常は、第1の測定ポート31と濃度判定
器34との間を導通させるように三方弁33を設定す
る。この場合、1次フィルタ21の下流側の雰囲気ガス
中のアンモニア濃度が基準値以上であるか否かが判定さ
れ、雰囲気ガス中のアンモニア濃度が基準値以上になる
と警報が発せられる。これにより、作業者は1次フィル
タ21が寿命に達したと判断することができる。
Normally, the three-way valve 33 is set so as to conduct between the first measurement port 31 and the concentration determiner 34. In this case, it is determined whether or not the ammonia concentration in the atmosphere gas downstream of the primary filter 21 is equal to or higher than the reference value, and an alarm is issued when the ammonia concentration in the atmosphere gas becomes equal to or higher than the reference value. This allows the operator to determine that the primary filter 21 has reached the end of its life.

【0042】この場合には、第2の測定ポート31と濃
度判定器34との間を導通させるように三方弁33を切
り替える。それにより、基板処理部1内の雰囲気ガス中
のアンモニア濃度が基準値以上であるか否かを監視する
ことができる。このとき、基板処理部1に供給される雰
囲気ガス中のアンモニアは、2次フィルタ23のみによ
り除去される。その間に1次フィルタ21の交換を行
い、第1の測定ポート31と濃度判定器34との間を導
通させるように三方弁33を切り替える。なお、基板処
理部1は連続運転しているため、2次フィルタ24は定
期的に交換する。
In this case, the three-way valve 33 is switched so that the connection between the second measurement port 31 and the concentration judging device 34 is established. Thereby, it is possible to monitor whether the ammonia concentration in the atmospheric gas in the substrate processing section 1 is equal to or higher than the reference value. At this time, ammonia in the atmospheric gas supplied to the substrate processing unit 1 is removed only by the secondary filter 23. In the meantime, the primary filter 21 is replaced, and the three-way valve 33 is switched so that the first measurement port 31 and the concentration determiner 34 are electrically connected. Since the substrate processing section 1 is operating continuously, the secondary filter 24 is periodically replaced.

【0043】本実施例では、雰囲気調整部2が雰囲気ガ
ス供給手段に相当し、気中濃度管理システム3が判定手
段に相当する。また、1次フィルタ21が除去手段に相
当し、送風機22が送気手段に相当する。さらに、第1
の測定ポート31および第2の測定ポート32が採取手
段に相当し、三方弁33が切替手段に相当し、濃度判定
器34が濃度判定手段に相当し、配管35,36が雰囲
気ガス導入手段に相当する。
In this embodiment, the atmosphere adjuster 2 corresponds to an atmosphere gas supply unit, and the air concentration management system 3 corresponds to a determination unit. The primary filter 21 corresponds to a removing unit, and the blower 22 corresponds to an air sending unit. Furthermore, the first
The measurement port 31 and the second measurement port 32 correspond to sampling means, the three-way valve 33 corresponds to switching means, the concentration determiner 34 corresponds to concentration determination means, and the pipes 35 and 36 correspond to atmosphere gas introduction means. Equivalent to.

【0044】本実施例の基板処理装置100における気
中濃度管理システム3によれば、基板処理装置100内
の雰囲気ガス中のアンモニア濃度が所定の基準以上であ
るか否かを容易に判定することができる。それにより、
作業者は、雰囲気調整部2の1次フィルタ21の交換時
期を容易に把握することができる。この場合、基板処理
装置100内のアンモニア濃度のリアルタイムなモニタ
は不必要である。
According to the air concentration management system 3 in the substrate processing apparatus 100 of this embodiment, it is possible to easily determine whether or not the ammonia concentration in the atmospheric gas in the substrate processing apparatus 100 is higher than a predetermined reference. Can be. Thereby,
The operator can easily grasp the time to replace the primary filter 21 of the atmosphere adjusting unit 2. In this case, real-time monitoring of the ammonia concentration in the substrate processing apparatus 100 is unnecessary.

【0045】この気中濃度管理システム3は、モニタ等
の過剰な付加設備を有さないので、構成が単純であり、
コンパクトである。したがって、気中濃度管理システム
3を基板処理装置100に内蔵させることができ、基板
処理装置100のフットプリントが増加しない。また、
気中濃度管理システム3の構成が単純であるため、初期
コストおよび運転コストが低減される。
Since the air concentration management system 3 does not have excessive additional equipment such as a monitor, the configuration is simple.
It is compact. Therefore, the air concentration management system 3 can be built in the substrate processing apparatus 100, and the footprint of the substrate processing apparatus 100 does not increase. Also,
Since the configuration of the air concentration management system 3 is simple, the initial cost and the operating cost are reduced.

【0046】図2は濃度判定器34の構成の一例を示す
ブロック図である。図2の濃度判定器34は、透明パイ
プ41,42、pH試験紙(pH指示薬)43、光源4
4、受光素子45、比較部46および警報発生部47を
含む。制御部11は、図1の基板処理部1における基板
の処理を制御する。
FIG. 2 is a block diagram showing an example of the configuration of the density judgment unit 34. 2 includes transparent pipes 41 and 42, a pH test paper (pH indicator) 43, and a light source 4.
4, including a light receiving element 45, a comparing section 46, and an alarm generating section 47. The control unit 11 controls the processing of the substrate in the substrate processing unit 1 of FIG.

【0047】pH試験紙43は、透明パイプ41の一端
部と透明パイプ42の一端部との間に挟み込まれてい
る。図1の第1の測定ポート31または第2の測定ポー
ト32により採取された定量の雰囲気ガスは三方弁33
を介して透明パイプ41,42間のpH試験紙43に導
かれる。
The pH test paper 43 is sandwiched between one end of the transparent pipe 41 and one end of the transparent pipe 42. A fixed amount of atmospheric gas collected by the first measurement port 31 or the second measurement port 32 of FIG.
Through the pH test paper 43 between the transparent pipes 41 and 42.

【0048】光源44から透明パイプ41,42間のp
H試験紙43に光が照射され、その反射光が受光素子4
5により受光される。受光素子45は受光量に対応した
出力信号を比較器46に与える。アンモニアを含む雰囲
気ガスが透明パイプ41,42間のpH試験紙43に供
給されると、pH試験紙43の色が変化する。pH試験
紙43の色の濃度は雰囲気ガス中のアンモニアの濃度に
応じて変化するので、pH試験紙43からの反射光の光
量に基づいて雰囲気ガス中のアンモニア濃度を判定する
ことができる。
The distance p from the light source 44 to the transparent pipes 41 and 42
The H test paper 43 is irradiated with light, and the reflected light is
5 is received. The light receiving element 45 supplies an output signal corresponding to the amount of received light to the comparator 46. When the atmosphere gas containing ammonia is supplied to the pH test paper 43 between the transparent pipes 41 and 42, the color of the pH test paper 43 changes. Since the color density of the pH test paper 43 changes in accordance with the concentration of ammonia in the atmosphere gas, the ammonia concentration in the atmosphere gas can be determined based on the amount of reflected light from the pH test paper 43.

【0049】比較部46は、受光素子45から与えられ
る出力信号のレベルを所定の値と比較し、受光素子45
の出力信号のレベルが所定の値以上になったときに警報
発生部47および制御部11に警報信号を与える。警報
発生部47は、比較部46から与えられる警報信号に応
答して警報音を発生する。制御部11は、第2の測定ポ
ート32と濃度判定器34とが導通状態に設定されてい
るときに、比較部46から与えられる警報信号に応答し
て基板処理部1における基板の処理を停止させる。図2
の濃度判定器34は、構成が単純であり、安価かつ小型
に製造可能となる。
The comparing section 46 compares the level of the output signal supplied from the light receiving element 45 with a predetermined value, and
When the level of the output signal becomes equal to or higher than a predetermined value, an alarm signal is given to the alarm generator 47 and the controller 11. The alarm generation unit 47 generates an alarm sound in response to an alarm signal given from the comparison unit 46. The control unit 11 stops the processing of the substrate in the substrate processing unit 1 in response to the alarm signal given from the comparison unit 46 when the second measurement port 32 and the concentration determination unit 34 are set to the conductive state. Let it. FIG.
Has a simple configuration, and can be manufactured inexpensively and compactly.

【0050】図3は濃度判定器34の構成の他の例を示
すブロック図である。図3の濃度判定器34は、透明パ
イプ51、綿状のpH試験紙(pH指示薬)52、複数
の反射型センサ53〜57、データ処理部58および警
報発生部59を含む。
FIG. 3 is a block diagram showing another example of the configuration of the density determination unit 34. 3 includes a transparent pipe 51, a flocculent pH test paper (pH indicator) 52, a plurality of reflection sensors 53 to 57, a data processing unit 58, and an alarm generation unit 59.

【0051】綿状のpH試験紙52は透明パイプ52内
に充填されている。図1の第1の測定ポート31または
第2の測定ポート32により採取された定量の雰囲気ガ
スは三方弁33を介して透明パイプ51の一方の端部に
導かれる。
The cotton-like pH test paper 52 is filled in the transparent pipe 52. A fixed amount of atmospheric gas collected by the first measurement port 31 or the second measurement port 32 of FIG. 1 is led to one end of the transparent pipe 51 via the three-way valve 33.

【0052】複数の反射型センサ53〜57は、透明パ
イプ51の外部にpH試験紙52の一端部から他端部に
わたって配列されている。これらの反射型センサ53〜
57の各々は、透明パイプ51内のpH試験紙52に光
を照射し、その反射光を受光し、その反射光の受光量が
所定の値を越えるとオンする。反射型センサ53〜57
の出力はデータ処理部58に与えられる。
The plurality of reflection sensors 53 to 57 are arranged outside the transparent pipe 51 from one end to the other end of the pH test paper 52. These reflection sensors 53-
Each of the lights 57 irradiates the pH test paper 52 in the transparent pipe 51 with light, receives the reflected light, and turns on when the amount of the reflected light exceeds a predetermined value. Reflection type sensors 53 to 57
Is supplied to the data processing unit 58.

【0053】アンモニアを含む雰囲気ガスが透明パイプ
51に供給されると、pH試験紙52の色が一端部から
他端部に向かって順に変化する。雰囲気ガス中のアンモ
ニア濃度が低い場合には、pH試験紙52の色の変化速
度が遅く、雰囲気ガス中のアンモニア濃度が高い場合に
は、pH試験紙52の色の変化速度が速い。
When the atmosphere gas containing ammonia is supplied to the transparent pipe 51, the color of the pH test paper 52 changes sequentially from one end to the other end. When the ammonia concentration in the atmosphere gas is low, the color change speed of the pH test paper 52 is slow, and when the ammonia concentration in the atmosphere gas is high, the color change speed of the pH test paper 52 is fast.

【0054】データ処理部58は、複数の反射型センサ
53〜57がオンするタイミングの時間差を測定し、測
定した時間差に基づいて雰囲気ガス中のアンモニア濃度
が所定の基準値以上であるか否かを判定する。このデー
タ処理部58は、雰囲気ガス中のアンモニア濃度が所定
の基準値以上となったときに、警報発生部59および制
御部11に警報信号を与える。警報発生部59は、デー
タ処理部58から与えられる警報信号に応答して警報音
を発生する。制御部11は、第2の測定ポート32と濃
度判定器34とが導通状態に設定されているときに、デ
ータ処理部58から与えられる警報信号に応答して基板
処理部1における基板の処理を停止させる。図3の濃度
判定器34は、構成が単純であり、安価かつ小型に製造
可能である。
The data processing unit 58 measures the time difference between the timings at which the plurality of reflection sensors 53 to 57 are turned on, and determines whether or not the ammonia concentration in the atmospheric gas is equal to or higher than a predetermined reference value based on the measured time difference. Is determined. The data processing unit 58 provides an alarm signal to the alarm generation unit 59 and the control unit 11 when the ammonia concentration in the atmospheric gas becomes equal to or higher than a predetermined reference value. The alarm generation section 59 generates an alarm sound in response to an alarm signal given from the data processing section 58. When the second measurement port 32 and the concentration determiner 34 are set to the conducting state, the control unit 11 performs the processing of the substrate in the substrate processing unit 1 in response to the alarm signal given from the data processing unit 58. Stop. The density determiner 34 in FIG. 3 has a simple configuration, and can be manufactured at low cost and small size.

【0055】なお、図2および図3の警報発生部47,
59は警報として警報音を発生するが、警報発生部4
7,59が警報としてランプ等の表示器を点灯または点
滅させてもよい。
The alarm generator 47, shown in FIGS.
Reference numeral 59 denotes an alarm sound as an alarm.
7, 59 may turn on or blink a display such as a lamp as an alarm.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例における基板処理装置の構成
を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a configuration of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】濃度判定器の構成の一例を示すブロック図であ
る。
FIG. 2 is a block diagram illustrating an example of a configuration of a density determiner.

【図3】濃度判定器の構成の他の例を示すブロック図で
ある。
FIG. 3 is a block diagram showing another example of the configuration of the density determiner.

【図4】従来の基板処理装置の概略図である。FIG. 4 is a schematic view of a conventional substrate processing apparatus.

【図5】イオンクロマトグラフ分析システムの一例を示
すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram illustrating an example of an ion chromatograph analysis system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板処理部 2 雰囲気調整部 3 気中濃度管理システム 11 制御部 21 1次フィルタ 22 送風機 23 2次フィルタ 31 第1の測定ポート 32 第2の測定ポート 33 三方弁 34 濃度判定器 35,36 配管 41,42,51 透明パイプ 43,52 pH試験紙 44 光源 45 受光素子 46 比較部 47,59 警報発生部 53〜57 反射型センサ 58 データ処理部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate processing part 2 Atmosphere adjustment part 3 Air concentration management system 11 Control part 21 Primary filter 22 Blower 23 Secondary filter 31 First measurement port 32 Second measurement port 33 Three-way valve 34 Concentration determination device 35, 36 Piping 41, 42, 51 Transparent pipe 43, 52 pH test paper 44 Light source 45 Light receiving element 46 Comparison unit 47, 59 Alarm generation unit 53-57 Reflection type sensor 58 Data processing unit

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板に所定の処理を行う基板処理部と、 前記基板処理部に清浄な雰囲気ガスを供給する雰囲気ガ
ス供給手段と、 前記雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲気ガス中また
は前記基板処理部内の雰囲気ガス中の所定の物質の濃度
が所定の基準値以上であるか否かを判定する判定手段と
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
A substrate processing unit for performing a predetermined process on the substrate; an atmosphere gas supply unit for supplying a clean atmosphere gas to the substrate processing unit; and an atmosphere gas passing through the atmosphere gas supply unit or the substrate. A substrate processing apparatus comprising: a determination unit configured to determine whether a concentration of a predetermined substance in an atmospheric gas in the processing unit is equal to or higher than a predetermined reference value.
【請求項2】 前記判定手段により前記所定の物質の濃
度が前記基準値以上であると判定された場合に警報を発
生する警報発生手段をさらに備えたことを特徴とする請
求項1記載の基板処理装置。
2. The substrate according to claim 1, further comprising an alarm generating unit that generates an alarm when the determination unit determines that the concentration of the predetermined substance is equal to or higher than the reference value. Processing equipment.
【請求項3】 前記判定手段により前記所定の物質の濃
度が前記基準値以上であると判定された場合に前記基板
処理部による処理を停止させる制御手段をさらに備えた
ことを特徴とする請求項1または2記載の基板処理装
置。
3. The apparatus according to claim 2, further comprising control means for stopping processing by said substrate processing unit when said determination means determines that the concentration of said predetermined substance is equal to or higher than said reference value. 3. The substrate processing apparatus according to 1 or 2.
【請求項4】 前記判定手段は、 前記雰囲気ガス供給手段内を通過する雰囲気ガスまたは
前記基板処理部内の雰囲気ガスをpH指示薬に導く雰囲
気ガス導入手段と、 前記pH指示薬の色の変化を検出する検出手段と、 前記検出手段により検出された色の変化に基づいて前記
所定の物質の濃度が前記基準値以上であるか否かを判定
する濃度判定手段とを含むことを特徴とする請求項1、
2または3記載の基板処理装置。
4. An atmosphere gas introducing means for guiding an atmosphere gas passing through the atmosphere gas supply means or an atmosphere gas in the substrate processing unit to a pH indicator, and detecting a change in color of the pH indicator. 2. A method according to claim 1, further comprising: detecting means; and density determining means for determining whether or not the concentration of the predetermined substance is equal to or higher than the reference value based on a change in color detected by the detecting means. ,
4. The substrate processing apparatus according to 2 or 3.
【請求項5】 前記雰囲気ガス供給手段は、 雰囲気ガス中の所定の物質を除去する除去手段と、 前記除去手段を通過した雰囲気ガスを前記基板処理部に
送る送気手段とを含み、 前記判定手段は、 前記除去手段の下流側の雰囲気ガスを採取する第1の測
定ポートと、 前記基板処理部内の雰囲気ガスを採取する第2の測定ポ
ートと、 前記第1または第2の測定ポートにより採取された雰囲
気ガス中の前記所定の物質の濃度が前記基準値以上であ
るか否かを判定する濃度判定手段と、 前記第1および第2の測定ポートのいずれかを選択的に
前記濃度判定手段に導通させる切替手段とを含むことを
特徴とする請求項1、2または3記載の基板処理装置。
5. The atmosphere gas supply unit includes: a removal unit that removes a predetermined substance in the atmosphere gas; and an air supply unit that sends the atmosphere gas that has passed through the removal unit to the substrate processing unit. The means includes: a first measurement port for sampling an atmosphere gas on the downstream side of the removal means; a second measurement port for sampling an atmosphere gas in the substrate processing unit; and a sampling by the first or second measurement port. Concentration determining means for determining whether or not the concentration of the predetermined substance in the measured atmosphere gas is equal to or higher than the reference value; and selectively selecting one of the first and second measurement ports. 4. The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising: a switching unit that conducts the current to the substrate.
【請求項6】 基板処理装置内の雰囲気ガス中の所定の
物質の濃度を管理する気中濃度管理システムであって、 前記基板処理装置内の雰囲気ガスを採取する採取手段
と、 前記採取手段により採取された雰囲気ガスをpH指示薬
に導く雰囲気ガス導入手段と、 前記pH指示薬の色の変化を検出する検出手段と、 前記検出手段により検出された変化に基づいて前記所定
の物質の濃度が所定の基準値以上であるか否かを判定す
る濃度判定手段とを含むことを特徴とする気中濃度管理
システム。
6. An air concentration management system for managing a concentration of a predetermined substance in an atmosphere gas in a substrate processing apparatus, wherein: a sampling unit for sampling an atmosphere gas in the substrate processing apparatus; Atmosphere gas introducing means for guiding the collected atmosphere gas to a pH indicator; detecting means for detecting a change in color of the pH indicator; and a concentration of the predetermined substance based on the change detected by the detecting means. A concentration determining means for determining whether or not the concentration is equal to or more than a reference value.
【請求項7】 前記検出手段は、前記pH指示薬に光を
照射する光照射手段と、前記pH指示薬に照射された光
の反射光を受光する受光手段とを含み、 前記濃度判定手段は、前記受光手段の受光量に基づいて
前記所定の物質の濃度が前記基準値以上であるか否かを
判定することを特徴とする請求項6記載の気中濃度管理
システム。
7. The detecting means includes: a light irradiating means for irradiating the pH indicator with light; and a light receiving means for receiving a reflected light of the light applied to the pH indicator. 7. The air concentration management system according to claim 6, wherein whether or not the concentration of the predetermined substance is equal to or higher than the reference value is determined based on an amount of light received by a light receiving unit.
【請求項8】 前記pH指示薬は透明パイプ内に充填さ
れ、 前記雰囲気ガス導入手段は、前記採取手段により採取さ
れた雰囲気ガスを前記透明パイプ内のpH指示薬の一端
部に導き、 前記検出手段は、前記透明パイプに沿って配列されかつ
前記透明パイプ内のpH指示薬に光を照射してその反射
光に基づいて色の変化を検知する複数の検知手段を含
み、 前記濃度判定手段は、前記複数の検知手段の検知タイミ
ングの時間差に基づいて前記所定の物質の濃度が前記基
準値以上であるか否かを判定することを特徴とする請求
項6記載の気中濃度管理システム。
8. The transparent pipe is filled with the pH indicator, the atmosphere gas introducing means guides the atmospheric gas collected by the collecting means to one end of the pH indicator in the transparent pipe, and the detecting means A plurality of detection means arranged along the transparent pipe and irradiating a pH indicator in the transparent pipe with light to detect a change in color based on the reflected light; 7. The air concentration management system according to claim 6, wherein whether or not the concentration of the predetermined substance is equal to or higher than the reference value is determined based on a time difference between detection timings of the detection means.
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JP2014229821A (en) * 2013-05-24 2014-12-08 信越半導体株式会社 Life management method of gas filter

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