JPH10208442A - Magnetic disc device, head disc assembly and its manufacture - Google Patents

Magnetic disc device, head disc assembly and its manufacture

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JPH10208442A
JPH10208442A JP1228797A JP1228797A JPH10208442A JP H10208442 A JPH10208442 A JP H10208442A JP 1228797 A JP1228797 A JP 1228797A JP 1228797 A JP1228797 A JP 1228797A JP H10208442 A JPH10208442 A JP H10208442A
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JP
Japan
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terms
disk assembly
less
head disk
gas
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Application number
JP1228797A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Hamada
隆史 濱田
Masayuki Katsumoto
正之 勝本
Hiroyuki Sugimoto
博幸 杉本
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH10208442A publication Critical patent/JPH10208442A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a head disc assembly(HDA) by which a magnetic disc device with the improved reliability can be obtained. SOLUTION: When an HDA is assembled by incorporating components in a housing, an atmosphere in a vacuum glove box 1 is made to satisfy at least one condition which is selected among a condition that the content of organic silicone existing in the form of gas is not higher than 0.2μmol/m<3> in terms of silicon atoms, a condition that the content of organic tin existing in the form of gas is not higher than 50 pico-mol/m<3> in terms of tin atoms and a condition that the total content of all the organic gases is not higher than 20μmol/m<3> in terms of carbom atoms by gas which is made to flow through a silica gel adsorbing layer 2, a molecular sieves adsorbing layer 3, an active carbon adsorbing layer 4 and a cooled molecular sieves adsorbing pipe 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータの記
憶装置等に用いる磁気ディスク装置、それに用いるヘッ
ドディスクアッセンブリ(以下、HDAと記す)及びそ
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic disk device used for a storage device of a computer, a head disk assembly (hereinafter referred to as HDA) used for the magnetic disk device, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に磁気ディスク装置では、高記録密
度化のため磁気ヘッドと磁気ディスクの浮上間隙が極小
化しており、浮上間隙が0.1μm以下の磁気ディスク
装置も開発されつつある。このように磁気ヘッドと磁気
ディスクの浮上間隙が極小化すると、HDA内から発生
する微量の有機ガスが原因となる障害が発生する。例え
ば、装置の停止時に磁気ディスクと磁気ヘッド間に有機
ガスが侵入して液化し、磁気ヘッドが磁気ディスクに吸
着することによってスピンドルの回転が不可能となる障
害や、回転時に磁気ディスクと磁気ヘッド間に飛来して
きた微小異物が侵入することにより磁気ヘッドの姿勢が
崩れ、磁気ヘッドと磁気ディスクが接触することによっ
て起こる温度上昇で有機ガスが変成し、固化して磁気デ
ィスクの破壊やヘッドクラッシュとなる障害や、ガスが
粒子に変換して浮遊塵埃となり、磁気ヘッドと磁気ディ
スクの衝突や磁気ディスクの損傷を誘発する障害等が発
生する。
2. Description of the Related Art Generally, in a magnetic disk drive, a floating gap between a magnetic head and a magnetic disk is minimized in order to increase recording density, and a magnetic disk drive having a floating gap of 0.1 μm or less is being developed. When the flying gap between the magnetic head and the magnetic disk is minimized in this way, a failure occurs due to a small amount of organic gas generated from inside the HDA. For example, when the apparatus is stopped, an organic gas enters between the magnetic disk and the magnetic head and liquefies, and the magnetic head is attracted to the magnetic disk so that the spindle cannot be rotated. The attitude of the magnetic head collapses due to the invasion of minute foreign matter that has come in between, and the organic gas is denatured due to the temperature rise caused by the contact between the magnetic head and the magnetic disk. In some cases, the gas is converted into particles and floating dust is generated, causing a collision between the magnetic head and the magnetic disk and damage to the magnetic disk.

【0003】従来、この対策としてHDA内部の清浄度
を高めるため、HDA内部に活性炭等のガス吸着材を設
置することが行なわれていた。また、HDA内部に塵埃
除去フィルターを設置することも行なわれていた。さら
にまた、特開平5−234352号公報に記載のよう
に、HDA内部に粘着性物質の薄膜を設け、上記の塵埃
除去フィルターでも除去できないような浮遊微小異物を
付着せしめることも行なわれていた。
Conventionally, as a countermeasure, a gas adsorbent such as activated carbon is provided inside the HDA in order to increase the cleanliness inside the HDA. Also, a dust removal filter has been installed inside the HDA. Furthermore, as described in JP-A-5-234352, a thin film of an adhesive substance is provided inside the HDA to attach floating minute foreign matters that cannot be removed by the above-mentioned dust removal filter.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記の活性炭を設置し
た従来技術は、活性炭の吸着量には限度があり、また、
活性炭は、一般にジオクチルフタレート、キシレン、ベ
ンズアルデヒド等の高分子量の有機ガスを吸着し易い
が、エタノール(沸点:78℃)、アセトン(沸点:5
6℃)、イソプロピルアルコール(沸点:82℃)、塩
化メチレン(沸点:40℃)等の沸点100℃以下の成
分(以下、低沸点成分と記す)を吸着し難いという問題
があった。フロン代替洗剤としてエタノールや塩化メチ
レン等を使用すると、活性炭を装着したHDA内でもエ
タノール濃度が数十ppmに達する場合がある。これら
の低沸点有機ガスは浮上間隙が極小化したHDAでは粘
着の原因となる。その上、ダウンサイジングにより多量
の活性炭を装備するスペースを見つけることが困難にな
りつつある。
The prior art in which the above-mentioned activated carbon is installed has a limit in the amount of activated carbon adsorbed.
Activated carbon is generally easy to adsorb high molecular weight organic gas such as dioctyl phthalate, xylene, benzaldehyde, etc., but ethanol (boiling point: 78 ° C.), acetone (boiling point: 5
6 ° C.), isopropyl alcohol (boiling point: 82 ° C.), methylene chloride (boiling point: 40 ° C.), and other components having a boiling point of 100 ° C. or less (hereinafter referred to as low boiling point components). When ethanol, methylene chloride, or the like is used as a CFC substitute detergent, the ethanol concentration may reach tens of ppm even in HDA to which activated carbon is attached. These low-boiling organic gases cause sticking in HDA in which the floating gap is minimized. In addition, it is becoming difficult to find a space for a large amount of activated carbon due to downsizing.

【0005】また、上記の塵埃除去フィルターを設置し
た従来技術は、すべての異物を補足するわけではないと
いう問題があった。例えば、極めて小さい異物はフィル
ターを通過し、また、ガス状物質も補足されない。
[0005] Further, the prior art in which the above-mentioned dust removing filter is installed has a problem that not all foreign substances are supplemented. For example, very small foreign matter passes through the filter, and gaseous substances are not captured.

【0006】さらにまた、上記の粘着性物質の薄膜を設
けた従来技術は、浮遊微小異物を付着して除去すること
はできるが、ガス状物質は補足できないという問題があ
った。
Further, the above-mentioned prior art in which a thin film of an adhesive substance is provided has a problem that floating fine foreign matter can be attached and removed, but gaseous substances cannot be captured.

【0007】HDA内には、装置部品自体から発生する
有機ガスや、組み立て環境から侵入した微量の有機ガ
ス、或いはHDAに組み込む部品に環境から吸着した有
機ガス等が存在する。これらの有機ガスが前記のように
HDAの停止時に磁気ディスクと磁気ヘッド間に侵入し
て液化し、磁気ヘッドを磁気ディスクに吸着せしめ、ス
ピンドル回転を不可能としたり、HDAの稼働中に磁気
ディスクと磁気ヘッド間で変成して固化して磁気ディス
クの破壊やヘッドクラッシュ等を誘発したりする。
[0007] In the HDA, there are an organic gas generated from the device component itself, a trace amount of organic gas invading from the assembling environment, an organic gas adsorbed from the environment to the component incorporated in the HDA, and the like. As described above, when the HDA is stopped, these organic gases enter between the magnetic disk and the magnetic head and liquefy, causing the magnetic head to be attracted to the magnetic disk, making it impossible to rotate the spindle or preventing the magnetic disk from operating during the operation of the HDA. The magnetic head denatures and solidifies between the magnetic heads and causes destruction of the magnetic disk or head crash.

【0008】本発明の第1の目的は、信頼性の向上した
磁気ディスク装置を得るためのHDAの製造方法を提供
することにある。本発明の第2の目的は、そのような磁
気ディスク装置に用いるHDAを提供することにある。
本発明の第3の目的は、信頼性の向上した磁気ディスク
装置を提供することにある。
A first object of the present invention is to provide a method of manufacturing an HDA for obtaining a magnetic disk drive with improved reliability. A second object of the present invention is to provide an HDA used for such a magnetic disk device.
A third object of the present invention is to provide a magnetic disk drive with improved reliability.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記第1の目的を達成す
るために、本発明のHDAの製造方法は、ハウジング内
に、磁気ディスクやボイスコイルモーター等の部品を組
み込んでHDAを組み立てるときに、ガス状で存在する
有機シリコーン量がシリコン原子換算で0.2マイクロ
モル/m3以下の条件、ガス状で存在する有機スズ量が
スズ原子換算で50ピコモル/m3以下の条件及び総有
機ガス量が炭素原子換算で20マイクロモル/m3以下
の条件からなる群から選ばれた少なくとも一つの条件を
満足する雰囲気で行なうようにしたものである。
Means for Solving the Problems In order to achieve the first object, the method of manufacturing an HDA according to the present invention is a method for assembling an HDA by incorporating components such as a magnetic disk and a voice coil motor into a housing. organosilicone amount of 0.2 micromoles / m 3 the following conditions with a silicon atom in terms present in gaseous form, 50 pmol / m 3 the following conditions and total organic by organotin weight tin atoms in terms present in the gaseous The process is performed in an atmosphere that satisfies at least one condition selected from the group consisting of a gas amount of 20 micromol / m 3 or less in terms of carbon atoms.

【0010】この雰囲気は、上記の3つの条件の内、有
機シリコーン量がその条件を満たしていることが好まし
い。有機シリコーン量は、有機スズ量や総有機ガス量よ
りも磁気ヘッドの粘着等に与える影響が大きい。次ぎに
重要なのは、有機スズ量である。それ故、有機シリコー
ン量と有機スズ量が共に上記の条件を満たしていること
が好ましい。もちろん、3つの条件がすべて満たされて
いることが最も好ましい。
In this atmosphere, it is preferable that the amount of the organic silicone satisfies the above three conditions. The amount of the organic silicone has a greater effect on the adhesion of the magnetic head and the like than the amount of the organic tin and the amount of the total organic gas. Next important is the amount of organotin. Therefore, it is preferable that the amount of the organic silicone and the amount of the organic tin both satisfy the above conditions. Of course, it is most preferable that all three conditions are satisfied.

【0011】また、この雰囲気は、活性炭やケミカルフ
ィルター等のガス吸着材により構成されるガス吸着手
段、紫外線やオゾン等を用いた有機ガス分解手段、低温
冷却手段等の内の少なくとも一つの手段を通過したガス
により上記条件を満足するように構成されることが好ま
しい。
The atmosphere may include at least one of a gas adsorbing means composed of a gas adsorbing material such as activated carbon or a chemical filter, an organic gas decomposing means using ultraviolet rays or ozone, and a low-temperature cooling means. It is preferable that the above conditions be satisfied by the gas that has passed.

【0012】また、上記第1の目的を達成するために、
本発明のHDAの製造方法は、ハウジング内に、磁気デ
ィスクやボイスコイルモーター等の部品を組み込んでH
DAを組み立てるときに、その組立ての前に、ガス状で
存在する有機シリコーン量がシリコン原子換算で0.2
マイクロモル/m3以下の条件、ガス状で存在する有機
スズ量がスズ原子換算で50ピコモル/m3以下の条件
及び総有機ガス量が炭素原子換算で20マイクロモル/
3以下の条件からなる群から選ばれた少なくとも一つ
の条件を満足する環境下に上記部品を保存した後、ハウ
ジング内に組み込むようにしたものである。保存は、2
時間以上であることが好ましく、1日以上であることが
より好ましい。また、あまり長期の保存は作業効率が悪
いので、7日以下の保存が好ましく、3日以下の保存が
より好ましい。
In order to achieve the first object,
The method for manufacturing an HDA according to the present invention includes the steps of incorporating a component such as a magnetic disk and a voice coil motor into a housing.
Before assembling DA, before the assembly, the amount of organosilicone present in gaseous state is 0.2% in terms of silicon atoms.
Micromol / m 3 or less, the condition that the amount of organotin existing in a gaseous state is 50 picomoles / m 3 or less in terms of tin atoms, and the total amount of organic gas is 20 micromol / m 2 in terms of carbon atoms.
After saving the component in an environment that satisfies at least one condition m 3 selected from the group consisting of the following conditions, in which as incorporated into the housing. Save is 2
It is preferably at least one hour, more preferably at least one day. Further, since the storage efficiency is too low for long-term storage, storage for 7 days or less is preferable, and storage for 3 days or less is more preferable.

【0013】この雰囲気も、上記と同様に、3つの条件
の内、有機シリコーン量がその条件を満たしていること
が好ましく、有機シリコーン量と有機スズ量が共に上記
の条件を満たしていることがより好ましく、3つの条件
がすべて満たされていることが最も好ましい。
[0013] In this atmosphere, it is preferable that the amount of the organic silicone satisfies the condition among the three conditions as described above, and that the amount of the organic silicone and the amount of the organic tin both satisfy the above condition. More preferably, all three conditions are satisfied.

【0014】また、上記部品が上記環境下に保存される
前に、10-4Pa以下の真空で、常温を越え、100℃
以下の温度で加熱されることが好ましい。
Before the above parts are stored in the above environment, the parts are heated to a temperature of more than 100 ° C. in a vacuum of 10 −4 Pa or less.
It is preferable to heat at the following temperature.

【0015】また、上記第2の目的を達成するために、
本発明のHDAは、ハウジング内の雰囲気を、常温下の
稼働状態で、ガス状で存在する有機シリコーン量がシリ
コン原子換算で0.2マイクロモル/m3以下の条件、
ガス状で存在する有機スズ量がスズ原子換算で100ピ
コモル/m3以下の条件及び総有機ガス量が炭素原子換
算で40マイクロモル/m3以下の条件からなる群から
選ばれた少なくとも一つの条件を満足するようにしたも
のである。
Further, in order to achieve the second object,
The HDA according to the present invention is characterized in that the atmosphere in the housing is in an operating state at room temperature, and the amount of the organic silicone present in a gaseous state is 0.2 μmol / m 3 or less in terms of silicon atoms.
At least one selected from the group consisting of a condition in which the amount of organotin present in a gaseous state is 100 picomoles / m 3 or less in terms of tin atoms and a condition in which the total amount of organic gases is 40 micromoles / m 3 or less in terms of carbon atoms. It is designed to satisfy the conditions.

【0016】この雰囲気も、上記と同様に、3つの条件
の内、有機シリコーン量がその条件を満たしていること
が好ましく、有機シリコーン量と有機スズ量が共に上記
の条件を満たしていることがより好ましく、3つの条件
がすべて満たされていることが最も好ましい。
In this atmosphere, it is preferable that the amount of the organic silicone satisfies the condition among the three conditions as described above, and that the amount of the organic silicone and the amount of the organic tin both satisfy the above condition. More preferably, all three conditions are satisfied.

【0017】さらにまた、上記第3の目的を達成するた
めに、本発明の磁気ディスク装置は、上記のHDAを少
なくとも1個有するように構成したものである。
Further, in order to achieve the third object, a magnetic disk drive of the present invention is configured to have at least one HDA.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図
面を用いて説明する。 〈実施例1〉組立環境の有機ガスを制御してHDAを試
作した。図1に組立に用いたグローブボックスの模式図
を示す。ステンレス製の真空グローブボックス1内に、
窒素ガスをシリカゲル吸着層2、モレキュラーシーブズ
吸着層3、活性炭吸着層4に通した後、液体窒素で冷却
したモレキュラーシーブズ吸着管5を通して供給した。
使用に先立って真空グローブボックス1の内壁を十分に
拭き、また、グローブ6は洗浄、乾燥した。グローブ6
を真空グローブボックス1に取り付け後、内部にヒータ
ー7を入れて加熱しながら上記のように処理した窒素ガ
スを数日間流通させた。さらに数回脱気と上記の処理を
した窒素ガスの流入を繰り返し、作業部分までサンプリ
ングパイプを挿入してガスを適宜サンプリングした。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Example 1 An HDA was prototyped by controlling the organic gas in the assembly environment. FIG. 1 shows a schematic diagram of a glove box used for assembly. In the stainless steel vacuum glove box 1,
Nitrogen gas was passed through a silica gel adsorption layer 2, a molecular sieves adsorption layer 3, and an activated carbon adsorption layer 4, and then supplied through a molecular sieves adsorption tube 5 cooled with liquid nitrogen.
Prior to use, the inner wall of the vacuum glove box 1 was sufficiently wiped, and the glove 6 was washed and dried. Glove 6
Was attached to the vacuum glove box 1, and the nitrogen gas treated as described above was allowed to flow for several days while heating with the heater 7 inside. Further, degassing and inflow of the nitrogen gas treated as described above were repeated several times, and a sampling pipe was inserted to the working portion to sample the gas appropriately.

【0019】サンプリングしたガス中の有機シリコーン
濃度は、活性炭吸着濃縮法によりサンプリングしてGC
−MASS(ガスクロマトグラフィ・マススペクトルス
コピー)により測定したところ、オクタメチルシクロテ
トラシロキサン換算で1ppb(シリコン原子換算で
0.2マイクロモル/m3)以下であった。有機スズ濃
度は、溶剤吸収方法によりICP−MASSで測定した
ところ、スズ原子換算で50ピコモル/m3)以下であ
った。総有機ガス量(上記有機シリコーン及び有機スズ
を含む合計量)は、エアサンプリング−クライオフォー
カス方法によりガスクロマトグラフで測定したところ、
アクリル酸エチル換算で70ppb(炭素原子換算で2
0マイクロモル/m3)以下であった。なお、以下の記
載の各ガス濃度の測定法は、特に記載しない限り上記と
同じである。
The concentration of the organic silicone in the sampled gas is determined by GC using the activated carbon adsorption concentration method.
-MASS was measured by (gas chromatography-mass spectrum scan copy) (0.2 micromoles / m 3 of silicon atoms terms) 1 ppb octamethylcyclotetrasiloxane converted was less. The organotin concentration was 50 picomoles / m 3 ) or less in terms of tin atom as measured by ICP-MASS by a solvent absorption method. The total amount of organic gas (total amount including the organic silicone and organotin) was measured by a gas chromatograph using an air sampling-cryofocus method.
70 ppb in terms of ethyl acrylate (2 in terms of carbon atoms)
0 micromol / m 3 ). The method for measuring each gas concentration described below is the same as above unless otherwise specified.

【0020】HDA組立に用いる部品は全て80℃、1
-4Paの条件で真空ベークした後、同様の処理をした
容器内に入れて真空グローブボックスに移し、その中で
数日間、上記の処理を行った窒素ガス気流中に放置、保
存した。
All parts used for HDA assembly are 80 ° C, 1
After vacuum baking under the condition of 0 -4 Pa, it was placed in a container treated in the same way and transferred to a vacuum glove box, where it was left and stored in a nitrogen gas stream treated as described above for several days.

【0021】HDA組立は、初めにヘッドスタックアッ
シイ(以下、HSAと記す)を作成した。キャリッジに
ヘッドジンバルアッシイをかしめた後、フレキシブル
プリンテッド サーキットを取り付け、ヘッドリード線
とボイスコイルモーター(以下、VCMと記す)コイル
線の半田付けした。次ぎにピポットを取り付け、HSA
とした。ハウジング内のベースにスピンドルシャフトを
取り付け、スピンドルシャフトに磁気ディスクを組み込
んだ。これにHSAをローディングし、VCMを組み込
んだ。次ぎにハウジングのベースに活性炭、シリカゲル
を取り付け、ハウジングカバーをし、シールしてHDA
を作成した。このHDAに制御用基板を取り付け、複数
個筐体に入れ、電源とつなぎ、アレイ型磁気ディスク装
置とした。
In the HDA assembly, a head stack assembly (hereinafter, referred to as HSA) was first prepared. After caulking the head gimbal assembly to the carriage,
A printed circuit was attached, and a head lead wire and a voice coil motor (hereinafter, referred to as VCM) coil wire were soldered. Next, attach the pivot and HSA
And The spindle shaft was attached to the base in the housing, and the magnetic disk was assembled on the spindle shaft. HSA was loaded into this, and VCM was incorporated. Next, attach activated carbon and silica gel to the base of the housing, cover the housing, seal it,
It was created. A control board was attached to the HDA, a plurality of the boards were placed in a housing, and connected to a power supply to obtain an array-type magnetic disk drive.

【0022】なお、磁気ディスクは、3.5インチのア
ルミニウム合金円板上に厚さ10μmのNi−P下地膜
層、厚さ28nmのCr膜中間層、厚さ28nmのCo
CrTaの合金磁性層、厚さ26nmのカーボン保護膜
層及び厚さ2nmのパーフルオロアルキルエーテル系潤
滑層を形成したものを使用した。またヘッドはAl23
とTiCの焼結体となるスライダーに薄膜プロセスによ
りコイル部を作成したものを使用した。また、本磁気デ
ィスク装置の回転数は6300rpm、定格回転数にお
けるヘッドの浮上量は30nmである。
The magnetic disk is composed of a 10-μm thick Ni—P underlayer, a 28-nm thick Cr film intermediate layer, and a 28-nm thick Co on a 3.5-inch aluminum alloy disk.
A CrTa alloy magnetic layer, a carbon protective film layer having a thickness of 26 nm, and a perfluoroalkyl ether-based lubricating layer having a thickness of 2 nm were used. The head is Al 2 O 3
A slider in which a coil portion is formed by a thin film process on a slider that is a sintered body of TiC and TiC was used. The rotation speed of the magnetic disk drive is 6,300 rpm, and the flying height of the head at the rated rotation speed is 30 nm.

【0023】組立後、HDAを常温下で稼働させ、内部
のガス分析をした結果、有機シリコーン濃度は、オクタ
メチルシクロテトラシロキサン換算で1ppb(シリコ
ン原子換算で0.2マイクロモル/m3)以下、総有機
ガス量は、アクリル酸エチル換算で100ppb(炭素
原子換算で30マイクロモル/m3)以下であった。ま
た、この測定後、HDAを65℃に3時間加熱し、呼吸
口に布状活性炭を置いた吸着管を設置し、10cc/m
inで1m3のガスを吸引し、有機スズ量を測定した。
有機スズ濃度は、スズ原子換算で95ピコモル/m3
あった。なお、HDAの容量は約500ccである。ま
た、HDAを常温下で稼働させたとき、内部温度は40
℃から45℃程度で65℃に達しないから、常温下の稼
働状態での有機スズ濃度はこの値以下である。
After assembling, the HDA was operated at room temperature and the internal gas was analyzed. As a result, the organic silicone concentration was 1 ppb or less (0.2 micromol / m 3 in terms of silicon atoms) in terms of octamethylcyclotetrasiloxane. The total amount of organic gas was not more than 100 ppb in terms of ethyl acrylate (30 μmol / m 3 in terms of carbon atoms). After this measurement, the HDA was heated to 65 ° C. for 3 hours, and an adsorption tube having cloth activated carbon placed at the breathing port was installed.
1 m 3 of gas was sucked in, and the amount of organotin was measured.
The organic tin concentration was 95 picomoles / m 3 in terms of tin atoms. The capacity of HDA is about 500 cc. When the HDA is operated at room temperature, the internal temperature is 40
Since the temperature does not reach 65 ° C. from about 45 ° C. to about 45 ° C., the organotin concentration in the operating state at normal temperature is equal to or lower than this value.

【0024】HDAの信頼性を高温環境下でランダムモ
ードシークでの稼働試験により評価した結果を図2に示
す。図2は、本磁気ディスク装置での稼働時間に対する
粘着力を示す図である。図中aで示す本実施例の500
0時間稼働後の粘着力は約1.7gであり、初期の値と
ほとんど変化しない。
FIG. 2 shows the result of evaluating the reliability of HDA by an operation test in a random mode seek under a high temperature environment. FIG. 2 is a diagram illustrating the adhesive force with respect to the operating time in the magnetic disk device. 500 of this embodiment shown by a in FIG.
The adhesive strength after running for 0 hours is about 1.7 g, which hardly changes from the initial value.

【0025】〈比較例1〉比較例として、上記と同じH
DAを組み立て環境雰囲気の有機ガスが制御されていな
い通常のクリーンルーム下で試作した。組み立て環境の
有機シリコーン濃度は、オクタメチルシクロテトラシロ
キサン換算で5ppb(シリコン原子換算で1マイクロ
モル/m3)、有機スズ濃度は、スズ原子換算で200
ピコモル/m3)、総有機ガス量は、アクリル酸エチル
換算で300ppb(炭素原子換算で90マイクロモル
/m3)であった。
<Comparative Example 1> As a comparative example, the same H
The DA was assembled and prototyped in a normal clean room where the organic gas in the environment was not controlled. The organic silicone concentration in the assembly environment is 5 ppb in terms of octamethylcyclotetrasiloxane (1 micromol / m 3 in terms of silicon atoms), and the organotin concentration is 200 in terms of tin atoms.
Picomoles / m 3 ) and the total amount of organic gas was 300 ppb in terms of ethyl acrylate (90 μmol / m 3 in terms of carbon atoms).

【0026】組立後、HDAを常温下で稼働させ、内部
のガス分析をした結果、有機シリコーン濃度についてオ
クタメチルシクロテトラシロキサン換算で10ppb
(シリコン原子換算で2マイクロモル/m3)、総有機
ガス量はアクリル酸エチル換算で1ppm(炭素原子換
算で290マイクロモル/m3)であった。また、実施
例1と同様にして測定した有機スズ濃度は、スズ原子換
算で250ピコモル/m3であった。
After assembling, the HDA was operated at room temperature, and the internal gas was analyzed. As a result, the concentration of organic silicone was 10 ppb in terms of octamethylcyclotetrasiloxane.
(2 micromoles / m 3 in terms of silicon atoms), and the total amount of organic gas was 1 ppm in terms of ethyl acrylate (290 micromoles / m 3 in terms of carbon atoms). The organotin concentration measured in the same manner as in Example 1 was 250 picomoles / m 3 in terms of tin atoms.

【0027】実施例1と同様な稼働試験での粘着力の変
化を図2にbで示す。5000時間後の粘着力は増加
し、約5gに達した。
FIG. 2B shows the change in the adhesive force in the same operation test as in Example 1. After 5000 hours, the adhesion increased and reached about 5 g.

【0028】なお、試験後の磁気ディスクに斜めから光
を当てて顕微鏡で観察したところ、比較例の磁気ディス
クではわずかにシークエリアと非シークエリアとで濃淡
の違いが観察されたが、実施例の磁気ディスクは観察さ
れなかった。比較例の磁気ディスクの潤滑膜厚を顕微フ
ーリエ変換赤外スペクトルで波数1290cm-1のCF
伸縮結合の吸光度により定量すると、非シークエリアは
2nmに対し、シークエリアは1nmと半減しているこ
とが分かった。
When the magnetic disk after the test was obliquely irradiated with light and observed with a microscope, the magnetic disk of the comparative example showed a slight difference in density between the seek area and the non-seek area. No magnetic disk was observed. The lubricating film thickness of the magnetic disk of the comparative example was measured using a CF having a wave number of 1290 cm -1 in a micro Fourier transform infrared spectrum.
When quantified by the absorbance of the elastic bond, it was found that the non-seek area was reduced to 2 nm and the seek area was reduced to 1 nm by half.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上述べたように、HDA組み立て環境
の有機ガスを制御するか、組み立て前の部品の保存環境
の有機ガスを制御するか、その両者を行なうことによ
り、磁気ヘッドの粘着力の低減が図れる。そのためこれ
に起因するヘッドクラッシュ等障害がなくなり、製造し
たHDAの信頼性が向上する。また、HDAのハウジン
グ内の有機ガスを制御することにより、HDAの信頼性
が向上する。また、このようなHDAを組み込むことに
より信頼性の向上した磁気ディスク装置が得られる。
As described above, by controlling the organic gas in the environment for assembling the HDA or controlling the organic gas in the environment for storing the parts before assembly, or both, the adhesion of the magnetic head is reduced. Reduction can be achieved. Therefore, troubles such as a head crash due to this are eliminated, and the reliability of the manufactured HDA is improved. Further, by controlling the organic gas in the housing of the HDA, the reliability of the HDA is improved. Also, by incorporating such an HDA, a magnetic disk device with improved reliability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例のHDAの組み立てに用いる
グローブボックスの模式図。
FIG. 1 is a schematic view of a glove box used for assembling an HDA according to one embodiment of the present invention.

【図2】HDAの稼働試験での粘着力の変化を示した説
明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a change in adhesive strength in an operation test of HDA.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…真空グローブボックス 2…シリカゲル吸着層 3…モレキュラーシーブズ吸着層 4…活性炭吸着層 5…モレキュラーシーブズ吸着管 6…グローブ 7…ヒーター DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Vacuum glove box 2 ... Silica gel adsorption layer 3 ... Molecular sieves adsorption layer 4 ... Activated carbon adsorption layer 5 ... Molecular sieves adsorption tube 6 ... Glove 7 ... Heater

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ハウジング内に、少なくとも磁気ディスク
及びボイスコイルモーターを含む部品を組み込んでヘッ
ドディスクアッセンブリを組み立てるヘッドディスクア
ッセンブリの製造方法において、上記部品の組立ては、
ガス状で存在する有機シリコーン量がシリコン原子換算
で0.2マイクロモル/m3以下の条件、ガス状で存在
する有機スズ量がスズ原子換算で50ピコモル/m3
下の条件及び総有機ガス量が炭素原子換算で20マイク
ロモル/m3以下の条件からなる群から選ばれた少なく
とも一つの条件を満足する雰囲気で行なうことを特徴と
するヘッドディスクアッセンブリの製造方法。
1. A head disk assembly manufacturing method for assembling a head disk assembly by incorporating at least parts including a magnetic disk and a voice coil motor into a housing.
Conditions in which the amount of organosilicone present in gaseous state is 0.2 μmol / m 3 or less in terms of silicon atoms, conditions in which the amount of organotin present in gaseous state is 50 picomoles / m 3 or less in terms of tin atoms, and total organic gas A method for producing a head disk assembly, wherein the method is performed in an atmosphere that satisfies at least one condition selected from the group consisting of 20 micromol / m 3 or less in terms of carbon atoms.
【請求項2】請求項1記載のヘッドディスクアッセンブ
リの製造方法において、上記雰囲気は、ガス吸着材によ
り構成されるガス吸着手段、有機ガス分解手段、低温冷
却手段からなるの群から選ばれた少なくとも一つの手段
を通過したガスにより上記条件を満足するように構成さ
れることを特徴とするヘッドディスクアッセンブリの製
造方法。
2. The method for manufacturing a head disk assembly according to claim 1, wherein the atmosphere is at least one selected from the group consisting of a gas adsorbing means constituted by a gas adsorbing material, an organic gas decomposing means, and a low-temperature cooling means. A method for manufacturing a head disk assembly, characterized in that the above conditions are satisfied by gas passed through one means.
【請求項3】ハウジング内に、少なくとも磁気ディスク
及びボイスコイルモーターを含む部品を組み込んでヘッ
ドディスクアッセンブリを組み立てるヘッドディスクア
ッセンブリの製造方法において、上記部品を、ガス状で
存在する有機シリコーン量がシリコン原子換算で0.2
マイクロモル/m3以下の条件、ガス状で存在する有機
スズ量がスズ原子換算で50ピコモル/m3以下の条件
及び総有機ガス量が炭素原子換算で20マイクロモル/
3以下の条件からなる群から選ばれた少なくとも一つ
の条件を満足する環境下に保存した後、ハウジング内に
組み込むことを特徴とするヘッドディスクアッセンブリ
の製造方法。
3. A method of manufacturing a head disk assembly in which at least parts including a magnetic disk and a voice coil motor are incorporated in a housing to assemble a head disk assembly. 0.2 in conversion
Micromol / m 3 or less, the condition that the amount of organotin existing in a gaseous state is 50 picomoles / m 3 or less in terms of tin atoms, and the total amount of organic gas is 20 micromol / m 2 in terms of carbon atoms.
after storage in an environment that satisfies at least one condition selected from the group consisting of m 3 the following conditions, method of manufacturing the head disk assembly, characterized in that incorporated within the housing.
【請求項4】請求項3記載のヘッドディスクアッセンブ
リの製造方法において、上記部品が上記環境下に保存さ
れる前に、10-4Pa以下の真空で、常温を越え、10
0℃以下の温度で加熱されることを特徴とするヘッドデ
ィスクアッセンブリの製造方法。
4. The method of manufacturing a head disk assembly according to claim 3, wherein the temperature of the component exceeds a normal temperature under a vacuum of 10 −4 Pa or less before the component is stored in the environment.
A method for manufacturing a head disk assembly, wherein the head disk assembly is heated at a temperature of 0 ° C. or less.
【請求項5】ハウジング内に、少なくとも磁気ディスク
及びボイスコイルモーターを含む部品が組み込まれたヘ
ッドディスクアッセンブリにおいて、上記ハウジング内
の雰囲気は、常温下の稼働状態で、ガス状で存在する有
機シリコーン量がシリコン原子換算で0.2マイクロモ
ル/m3以下の条件、ガス状で存在する有機スズ量がス
ズ原子換算で100ピコモル/m3以下の条件及び総有
機ガス量が炭素原子換算で40マイクロモル/m3以下
の条件からなる群から選ばれた少なくとも一つの条件を
満足する雰囲気であることを特徴とするヘッドディスク
アッセンブリ。
5. A head disk assembly in which parts including at least a magnetic disk and a voice coil motor are incorporated in a housing, wherein the atmosphere in the housing is an amount of organic silicone present in a gaseous state in an operating state at normal temperature. Is 0.2 micromol / m 3 or less in terms of silicon atoms, the organic tin content in gaseous condition is 100 picomoles / m 3 or less in terms of tin atoms, and the total organic gas content is 40 micromoles / m 3 in terms of carbon atoms. A head disk assembly having an atmosphere satisfying at least one condition selected from the group consisting of mol / m 3 or less.
【請求項6】請求項5記載のヘッドディスクアッセンブ
リを少なくとも1個有することを特徴とする磁気ディス
ク装置。
6. A magnetic disk drive comprising at least one head disk assembly according to claim 5.
JP1228797A 1997-01-27 1997-01-27 Magnetic disc device, head disc assembly and its manufacture Pending JPH10208442A (en)

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