JPH10206613A - Reflecting plate and reflector for stroboscope by using this - Google Patents

Reflecting plate and reflector for stroboscope by using this

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JPH10206613A
JPH10206613A JP9010417A JP1041797A JPH10206613A JP H10206613 A JPH10206613 A JP H10206613A JP 9010417 A JP9010417 A JP 9010417A JP 1041797 A JP1041797 A JP 1041797A JP H10206613 A JPH10206613 A JP H10206613A
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JP
Japan
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reflector
resin layer
layer
thin film
thickness
Prior art date
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Pending
Application number
JP9010417A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumiharu Yamazaki
文晴 山▲崎▼
Satoshi Kawamoto
悟志 川本
Masami Gotou
優実 後藤
Shin Fukuda
福田  伸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly durable reflecting plate by which a quantity of light of a stroboscope can be improved when it is used as a reflector for a stroboscope and blackening can be restrained by forming a polyparaxylene resin layer on a reflecting surface as a protective resin layer. SOLUTION: A reflecting plate 20 is constituted by forming a polyparaxylene resin layer 01, a silver thin film layer 02, a transparent high polymer film 03, an adhesive layer 04 and a plate-like mold 05 in order in a layer shape. A reflecting surface 99 is the polyparaxylene resin layer surface side. It is desirable that in the polyparaxylene resin layer 01 as a protective resin layer, a dielectric loss tangent to a high frequency of a frequency 100kHz to 10MHz is not more than 0.0025. The polyparaxylene resin layer 01 can be formed by chemically evaporating it on the silver thin film layer 02 by generating diradical paraxylene by thermally decomposing a diparaxylylene solid dimer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、反射板に関するも
のであり、さらに詳しくは、ストロボ用の反射傘に好適
に用いることができる反射板及びその反射傘に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflector, and more particularly, to a reflector which can be suitably used for a reflector for a strobe light, and to the reflector.

【0002】[0002]

【従来の技術】ストロボ用の反射傘として従来、表面を
研磨したアルミニウムの板を板金加工により成形加工し
たものが用いられてきたが、近年、レンズ付きフィルム
の様な簡便なカメラにもストロボが装備されるようにな
り、ストロボのシステム全体として見た場合に、軽量化
および小型化が重要視されるようになってきた。ストロ
ボの回路においては、ストロボに用いるキセノンランプ
を放電させるためのコンデンサーが大きな割合を占めて
おり、該コンデンサーを小さくすることは、ストロボシ
ステム全体としての小型化ばかりでなく、低コスト化に
つながり産業上きわめて重要である。このコンデンサー
を小型化する1つの方法として、キセノンランプから放
射される光を効率的に被写体に到達させるために、上記
の表面を研磨したアルミニウムに代わって、より反射率
の高い銀を用いることが1つの解決法として考えられ
る。本発明者らは、アルミニウムよりも可視光領域で反
射率が高く、かつ、アルミニウム板と同様に板金加工や
打ち抜き加工が可能な反射板に関する技術を開示してき
た(特開平5−162227号公報)。それは、透明高
分子フィルム、銀薄膜層、接着層、板状成形体が順次形
成された、透明高分子フィルム側を反射面とする反射板
であって、液晶ディスプレイのバックライト用反射板や
照明用反射板として好適に使用されている。これは銀薄
膜表面を直接大気に暴露することがないので、銀薄膜表
面の腐食の問題等を解決し、銀を用いた反射板の耐侯性
を飛躍的に向上させるものであった。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a reflector for a strobe, an aluminum plate having a polished surface formed by sheet metal processing has been used. In recent years, however, a strobe is also used for a simple camera such as a film with a lens. As a result, the weight and size of the electronic flash system have become increasingly important as a whole. In a strobe circuit, a capacitor for discharging a xenon lamp used for the strobe occupies a large proportion. Reducing the size of the capacitor not only reduces the size of the entire strobe system but also lowers the cost and leads to a reduction in cost. It is extremely important. One way to reduce the size of this capacitor is to use silver with a higher reflectivity in place of the polished aluminum in order to allow the light emitted from the xenon lamp to efficiently reach the subject. It can be considered as one solution. The present inventors have disclosed a technique relating to a reflector having a higher reflectivity in the visible light region than aluminum and capable of performing sheet metal working or punching like an aluminum plate (Japanese Patent Laid-Open No. 5-162227). . It is a reflection plate having a transparent polymer film side as a reflection surface, in which a transparent polymer film, a silver thin film layer, an adhesive layer, and a plate-like molded body are sequentially formed. Used as a reflection plate for use. Since this method does not directly expose the surface of the silver thin film to the atmosphere, it solves the problem of corrosion of the surface of the silver thin film and the like, and drastically improves the weather resistance of the reflection plate using silver.

【0003】そこで、上記銀を用いた反射板を、ストロ
ボ用に使用するために打ち抜き加工し、ストロボ用反射
傘の形に板金加工し、実際にストロボに反射板として装
着し、10〜50回発光させたところ、反射板の高分子
フィルム層表面が黒く変色する黒化問題に遭遇した。実
際に使用される反射板では、少なくとも100回の発光
に対して黒化しないことが望まれる。
[0003] Therefore, the above-mentioned reflecting plate using silver is punched out for use for a strobe, sheet-metal processed into the shape of a reflecting umbrella for a strobe, and is actually mounted on the strobe as a reflecting plate, and is used 10 to 50 times. Upon light emission, a blackening problem was encountered in which the surface of the polymer film layer of the reflector turned black. It is desired that a reflector actually used does not blacken at least 100 times of light emission.

【0004】本発明者らが黒化の原因を鋭意調査したと
ころ、発光を誘起させるためにランプの外部から印加す
る高電圧の高周波トリガに黒化の原因があることを、そ
して、反射面表面に誘電正接が0.0025以下の高分
子フィルムを積層することで黒化を抑制することができ
ることをすでに見いだしたのである。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies on the cause of blackening, and found that there is a cause of blackening in a high-frequency high-frequency trigger applied from outside the lamp to induce light emission. It has already been found that blackening can be suppressed by laminating a polymer film having a dielectric loss tangent of 0.0025 or less.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、黒化の
抑制は上記したような範囲の誘電正接を持つ高分子フィ
ルムを積層すれば実現できるが、一方、ストロボの光量
としては必ずしも増加しないのである。反射面に高分子
フィルムが存在すると、ストロボ発光した光は高分子フ
ィルムを通って反射面である銀薄膜に達し、再び高分子
フィルムを通って反射されることになる。この高分子フ
ィルムの厚さはフィルムとしての強度を保持するために
少なくとも10μm以上となり、そこを通して反射され
る光は、高分子フィルム中の不純物で分散されたりして
所定の方向へ反射されず、反射板自体の反射率は高いに
もかかわらず、ストロボの光量としては必ずしも高くな
らないのである。
However, the suppression of blackening can be realized by laminating polymer films having a dielectric loss tangent in the above-mentioned range, but the light quantity of the strobe does not always increase. When the polymer film is present on the reflection surface, the light emitted by the strobe light reaches the silver thin film as the reflection surface through the polymer film, and is reflected again through the polymer film. The thickness of this polymer film is at least 10 μm or more in order to maintain the strength as a film, and light reflected therethrough is not reflected in a predetermined direction due to being dispersed by impurities in the polymer film, Although the reflectivity of the reflector itself is high, the light quantity of the strobe does not always increase.

【0006】本発明は、ストロボ用反射傘として使用し
たときに、ストロボの光量の向上が図られ、さらに黒化
を抑制した耐久性の高い反射板を得ることを目的として
いる。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a highly durable reflector which can be used as a reflector for a strobe to improve the quantity of light of the strobe and suppress blackening.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討した結果、高分子フィルムを反
射面には使用せずに、反射面には誘電正接が0.002
5以下であるポリパラキシリレン樹脂層を保護樹脂層と
して形成することで、黒化抑制及びストロボの光量向上
の両立が図れることを見いだし本発明に到達した。しか
もポリパラキシリレン樹脂層は化学蒸着法で形成するこ
とができるため、高分子フィルムよりもはるかに薄い厚
さに設定することが可能である。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems. As a result, the polymer film was not used for the reflective surface, and the dielectric tangent was 0.002 for the reflective surface.
By forming a polyparaxylylene resin layer having a thickness of 5 or less as a protective resin layer, it has been found that it is possible to achieve both suppression of blackening and improvement of the amount of light of a strobe, and the present invention has been achieved. In addition, since the polyparaxylylene resin layer can be formed by a chemical vapor deposition method, it can be set to a thickness much smaller than that of the polymer film.

【0008】すなわち、本発明は、(1) 少なくと
も、ポリパラキシリレン樹脂層(A)、銀薄膜層
(B)、透明高分子フィルム(C)、接着層(D)、板
状成形体(E)が、A/B/C/D/Eの順に形成され
たAの面が反射面である反射板、(2) ポリパラキシ
リレン樹脂層(A)の100kHz〜10MHzの高周
波に対する誘電正接が0.0025以下であることを特
徴とする(1)に記載の反射板、(3) ポリパラキシ
リレン樹脂層(A)がジパラキシリレン固体ダイマーか
ら熱分解を伴う化学蒸着により形成されることを特徴と
する(1)又は(2)に記載の反射板、(4) ポリパ
ラキシリレン樹脂層(A)の厚さが0.1μm〜15μ
mであることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに
記載の反射板、(5) 銀薄膜層(B)がスパッタリン
グ法もしくは真空蒸着法で作製されることを特徴とする
(1)〜(4)のいずれかに記載の反射板、(6) 銀
薄膜層(B)の厚さが70nm〜500nmであること
を特徴とする(5)に記載の反射板、(7) 板状成形
体(D)がアルミニウム、アルミニウム合金、ステンレ
ス鋼、銅亜鉛合金、鋼から選ばれたものであることを特
徴とする(1)〜(6)のいずれかに記載の反射板、
(8) 波長450nm〜750nmの範囲の光線に対
する反射率が93%以上であることを特徴とする(1)
〜(7)のいずれかに記載の反射板、(9) (1)〜
(8)のいずれかに記載の反射板を用いたストロボ用反
射傘である。
More specifically, the present invention provides (1) at least a polyparaxylylene resin layer (A), a silver thin film layer (B), a transparent polymer film (C), an adhesive layer (D), and a plate-like molded product ( E) is a reflection plate in which the surface of A formed in the order of A / B / C / D / E is a reflection surface. (2) Dielectric loss tangent of the polyparaxylylene resin layer (A) to a high frequency of 100 kHz to 10 MHz. (1) wherein the polyparaxylylene resin layer (A) is formed from a diparaxylylene solid dimer by chemical vapor deposition accompanied by thermal decomposition. The reflector according to (1) or (2), wherein the thickness of the polyparaxylylene resin layer (A) is 0.1 μm to 15 μm.
m, wherein the reflective plate according to any one of (1) to (3), wherein (5) the silver thin film layer (B) is produced by a sputtering method or a vacuum evaporation method ( The reflector according to any one of 1) to (4), (6) the reflector according to (5), wherein the silver thin film layer (B) has a thickness of 70 nm to 500 nm, (7) The plate according to any one of (1) to (6), wherein the plate-like molded body (D) is selected from aluminum, aluminum alloy, stainless steel, copper zinc alloy, and steel;
(8) The reflectance to light rays in the wavelength range of 450 nm to 750 nm is 93% or more (1).
(9) (1) to (7),
It is a reflector for strobe light using the reflector according to any one of (8).

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の反射板は、ポリパラキシ
リレン樹脂層(A)、銀薄膜層(B)、透明高分子フィ
ルム(C)、接着層(D)、板状成形体(E)が、A/
B/C/D/Eの順に形成されたAの面が反射面である
反射板であり、ストロボ用反射傘に使用した際に黒化の
抑制及びストロボの光量向上が可能なものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The reflector of the present invention comprises a polyparaxylylene resin layer (A), a silver thin film layer (B), a transparent polymer film (C), an adhesive layer (D), and a plate-like molded product (A). E) is A /
The surface of A formed in the order of B / C / D / E is a reflecting plate which is a reflecting surface, and can suppress blackening and improve the amount of light of the strobe when used in a strobe reflector.

【0010】以下、添付図面を参照しながら、本発明を
説明する。(図1)は、本発明の反射板の構造の一例を
示す断面図である。(図1)において01はポリパラキ
シリレン樹脂層(A)、02は銀薄膜層(B)、03は
透明高分子フィルム(C)、04は接着層(D)、05
は板状成形体(E)である。これらが、層状に順次形成
されて反射板20を構成する。反射面は、ポリパラキシ
リレン樹脂層面側であり、図中では矢印99の方向であ
る。
The present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the structure of the reflector of the present invention. In FIG. 1, 01 is a polyparaxylylene resin layer (A), 02 is a silver thin film layer (B), 03 is a transparent polymer film (C), 04 is an adhesive layer (D), 05
Is a plate-shaped molded product (E). These are sequentially formed in layers to form the reflecting plate 20. The reflection surface is on the polyparaxylylene resin layer surface side, and is in the direction of arrow 99 in the figure.

【0011】本発明において透明高分子フィルム(C)
は、銀薄膜を形成する際の基材となる。その材料として
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネー
ト、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスチレ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルエーテ
ルケトン等が使用できるが、必ずしもこれらに限定され
るわけではなく、ある程度常用耐熱温度が高く、表面が
平滑で銀薄膜を形成したときに鏡面が得られるものであ
れば使用できる。なかでもポリエチレンテレフタレート
フィルムやポリカーボネートフィルムは常用耐熱温度が
比較的高く、表面平滑なフィルムが工業的に生産されて
いるため好適に使用できる。また、特に常用耐熱温度が
高いものが必要とされる場合には、ポリイミドフィルム
やポリエーテルスルホンフィルムが好適に使用できる。
In the present invention, the transparent polymer film (C)
Becomes a base material when a silver thin film is formed. As the material thereof, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polyimide, polyethersulfone, polystyrene, polyethylene terephthalate, polyetheretherketone, and the like can be used. Can be used as long as it is smooth and a mirror surface can be obtained when a silver thin film is formed. Among them, a polyethylene terephthalate film or a polycarbonate film has a relatively high normal heat resistance and a film having a smooth surface is industrially produced, so that it can be suitably used. In particular, when a film having a high normal heat resistance is required, a polyimide film or a polyethersulfone film can be suitably used.

【0012】高分子フィルムの厚さには限定的な制限値
はないが、12〜250μmが好ましく用いられる。使
用する高分子フィルムの光学特性には特に制限はない
が、表面は平滑であることが必要で、銀薄膜を形成した
時に鏡面が得られなければならない。
The thickness of the polymer film is not limited, but is preferably 12 to 250 μm. The optical properties of the polymer film used are not particularly limited, but the surface must be smooth and a mirror surface must be obtained when a silver thin film is formed.

【0013】本発明においては、かかる高分子フィルム
の一方の面上に銀薄膜層(B)を形成するが、かかる銀
薄膜の形成法は、湿式法及び乾式法がある。湿式法とは
いわゆるメッキ法の総称であり、溶液から銀を析出させ
膜を形成する方法である。具体例を挙げるとすれば、銀
鏡反応等がある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称
であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸
着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティ
ング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法
等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロー
ルツロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられ
る。
In the present invention, the silver thin film layer (B) is formed on one surface of the polymer film. The silver thin film can be formed by a wet method or a dry method. The wet method is a general term for a so-called plating method, and is a method of depositing silver from a solution to form a film. Specific examples include a silver mirror reaction. On the other hand, the dry method is a general term for a vacuum film forming method, and specific examples include a resistance heating type vacuum deposition method, an electron beam heating type vacuum deposition method, an ion plating method, and an ion beam assisted vacuum deposition method. And a sputtering method. In particular, a vacuum film forming method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention.

【0014】真空蒸着法では銀の原材料を電子ビーム、
抵抗加熱、誘導加熱等で溶融させ、蒸気圧を上昇させ、
好ましくは0.1mTorr(約13.3mPa)以上
導入させ、高周波もしくは直流のグロー放電を起こして
もよい。
In the vacuum deposition method, a silver raw material is an electron beam,
Melt by resistance heating, induction heating, etc., raise the vapor pressure,
Preferably, 0.1 mTorr (about 13.3 mPa) or more is introduced to cause high frequency or direct current glow discharge.

【0015】スパッタ法では、DCマグネトロンスパッ
タ法、rfマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ECRスパッタ法、コンベンショナルrfスパ
ッタ法、コンベンショナルDCスパッタ法等を使用し得
る。スパッタ法においては、原材料は銀の板状のターゲ
ットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、ネオ
ン、アルゴン、クリプトン、キセノン等を使用し得る
が、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は、
99.0%以上が好ましいが、より好ましくは99.5
%以上である。
As the sputtering method, a DC magnetron sputtering method, an rf magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method, an ECR sputtering method, a conventional rf sputtering method, a conventional DC sputtering method, or the like can be used. In the sputtering method, a silver plate-shaped target may be used as a raw material, and helium, neon, argon, krypton, xenon, or the like may be used as a sputtering gas, but argon is preferably used. The purity of the gas is
It is preferably at least 99.0%, more preferably 99.5%.
% Or more.

【0016】銀薄膜層の厚さは70nm〜500nmが
好ましく、より好ましくは70nm〜300nmであ
る。70nm未満では、銀の膜厚が十分でないために、
透過する光が存在し、反射率が十分でなくなる。一方、
膜厚が500nmを超えても、反射率は上昇せず、飽和
傾向を示す上に、銀層の高分子フィルムに対する密着性
が低下したり、ストロボの反射傘として屈曲加工した際
にひび割れが生じるので好ましくない。
The thickness of the silver thin film layer is preferably from 70 to 500 nm, more preferably from 70 to 300 nm. If it is less than 70 nm, the silver film thickness is not sufficient,
The transmitted light is present and the reflectivity is not sufficient. on the other hand,
Even if the film thickness exceeds 500 nm, the reflectance does not increase and shows a tendency to saturate. In addition, the adhesion of the silver layer to the polymer film is reduced, and cracks are generated when bending as a strobe reflector. It is not preferable.

【0017】膜厚の測定は、触針粗さ計、繰り返し反射
干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法等があるが、
水晶振動子法では成膜中に膜厚の測定が可能なので所望
の膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜条件
を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜
厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜厚制御する方
法もある。
For measuring the film thickness, there are a stylus roughness meter, a repetitive reflection interferometer, a microbalance, a quartz oscillator method and the like.
The quartz oscillator method is suitable for obtaining a desired film thickness because the film thickness can be measured during film formation. There is also a method in which film formation conditions are determined in advance, a film is formed on a sample substrate, the relationship between the film formation time and the film thickness is examined, and the film thickness is controlled by the film formation time.

【0018】なお、銀薄膜層には、性能の低下、特に可
視光反射率の低下を及ぼさない程度の、金、銅、ニッケ
ル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタ
ル、クロム、インジュウム、マンガン、チタン等の金属
不純物が含まれてもよい。
The silver thin film layer has gold, copper, nickel, iron, cobalt, tungsten, molybdenum, tantalum, chromium, indium, manganese, and the like that do not deteriorate the performance, particularly, the visible light reflectance. Metal impurities such as titanium may be included.

【0019】銀薄膜層を透明高分子フィルム上に設ける
際に、高分子フィルム表面に、コロナ放電処理、グロー
放電処理、表面化学処理、粗面化処理等を行うことが銀
薄膜層と高分子フィルムの密着性を向上させる上で効果
があることは当業者の技術的常識の範囲であろう。
When the silver thin film layer is provided on the transparent polymer film, the surface of the polymer film may be subjected to corona discharge treatment, glow discharge treatment, surface chemical treatment, surface roughening treatment, etc. It is within the common technical knowledge of those skilled in the art that it is effective in improving the adhesion of the film.

【0020】なお、上記の処理を行うと基材である透明
高分子フィルムが加熱される。また、ストロボ発光した
際ランプが発熱するため、熱による透明高分子フィルム
の変形及び変色を防ぐため、フィルムの常用耐熱温度は
80℃以上が好ましい。より好ましくは常用耐熱温度1
00℃以上である。ポリスチレンの常用耐熱温度は80
℃であるため、ストロボ用反射板に好適に利用できる。
また、ポリエチレンの常用耐熱温度は120℃、ポリプ
ロピレンの常用耐熱温度は130℃、ポリカーボネート
の常用耐熱温度は120℃であるため、これらのフィル
ムはストロボ用反射板に好適に使用できる。
When the above treatment is performed, the transparent polymer film as the base material is heated. Further, since the lamp generates heat when strobe light is emitted, it is preferable that the normal heat resistance temperature of the film is 80 ° C. or higher in order to prevent deformation and discoloration of the transparent polymer film due to heat. More preferably, normal heat resistance temperature 1
It is 00 ° C or higher. The normal heat resistance temperature of polystyrene is 80
Since it is ° C, it can be suitably used as a reflector for strobe light.
Further, since the common heat-resistant temperature of polyethylene is 120 ° C., the common heat-resistant temperature of polypropylene is 130 ° C., and the common heat-resistant temperature of polycarbonate is 120 ° C., these films can be suitably used for a flash reflector.

【0021】本発明においては、銀薄膜層(B)のさら
に上にポリパラキシリレン樹脂層(A)を形成する。ポ
リパラキシリレン樹脂層は、周波数100KHz〜10
MHzの高周波に対する誘電正接が0.0025以下で
あることが好ましい。該樹脂層を形成しないと、ストロ
ボを発光させる際に印加されるトリガの電気的衝撃によ
って銀薄膜層が破壊される。また、該樹脂層の誘電正接
が0.0025より高いと、前記したようにストロボを
発光させる際に印加されるトリガによって該樹脂層が劣
化し黒く変色する現象、黒化を引き起こすため使用でき
ない。従って、銀薄膜層をトリガによる電気的衝撃から
保護し、さらに樹脂層自体の劣化をも抑制するために誘
電正接が小さい保護樹脂材料を選択することが必要であ
る。
In the present invention, a polyparaxylylene resin layer (A) is formed further on the silver thin film layer (B). The polyparaxylylene resin layer has a frequency of 100 kHz to 10 kHz.
It is preferable that the dielectric loss tangent for a high frequency of MHz is 0.0025 or less. If the resin layer is not formed, the silver thin film layer is destroyed by the electric shock of the trigger applied when the strobe emits light. On the other hand, if the dielectric loss tangent of the resin layer is higher than 0.0025, the resin layer is deteriorated by the trigger applied when the strobe light is emitted as described above, causing a phenomenon that the resin layer is discolored to black and blackening is not possible. Therefore, it is necessary to select a protective resin material having a small dielectric loss tangent in order to protect the silver thin film layer from electric shock caused by the trigger and to suppress the deterioration of the resin layer itself.

【0022】ポリパラキシリレン樹脂層の厚さは、0.
1μm〜15μmが好ましく、さらに好ましくは0.3
μm〜15μmである。該層の厚さが薄すぎると銀薄膜
層を保護する役目を果たさず、逆に厚すぎると発光した
光が樹脂層を通過する距離が長くなることにより、反射
される光の量が低下してしまうのに加え、ストロボ用反
射傘に加工する際に行う折り曲げ加工でひび割れや剥離
を引き起こしやすくなるため好ましくない。
The thickness of the polyparaxylylene resin layer is 0.1.
It is preferably 1 μm to 15 μm, more preferably 0.3 μm.
μm to 15 μm. If the thickness of the layer is too thin, it does not serve to protect the silver thin film layer, and if it is too thick, the amount of reflected light decreases due to the long distance of emitted light passing through the resin layer. In addition to this, it is not preferable because the bending process performed when processing into a reflector for a strobe tends to cause cracking or peeling.

【0023】ポリパラキシリレン樹脂は比較的薄膜形成
が容易な樹脂材料として、本発明に好適に用いることが
できる。ポリパラキシリレン樹脂の誘電正接は、周波数
1MHzにおいて0.0002と極めて小さく、さらに
耐屈曲性も有するため折り曲げ加工も可能である。さら
にポリパラキシリレン樹脂は、化学蒸着を施すことによ
って薄膜を形成することができるため、所望の厚さの薄
膜を形成することが容易に可能である。誘電正接が0.
0025より小さな材料には、例えばポリエチレンやポ
リプロピレンといった樹脂があるが、これらは薄膜とし
て形成することが困難で、これらの樹脂フィルムを貼り
あわせるしか形成する方法がなかった。しかし樹脂フィ
ルムの厚さは通常12μm以上で、これより薄くするこ
とはできなかった。
Polyparaxylylene resin can be suitably used in the present invention as a resin material from which a relatively thin film can be easily formed. The dielectric loss tangent of the polyparaxylylene resin is as extremely small as 0.0002 at a frequency of 1 MHz, and since it has bending resistance, it can be bent. Further, since a polyparaxylylene resin can be formed into a thin film by performing chemical vapor deposition, a thin film having a desired thickness can be easily formed. The dielectric loss tangent is 0.
Materials smaller than 0025 include, for example, resins such as polyethylene and polypropylene. However, it is difficult to form these as a thin film, and there has been no other way but to bond these resin films. However, the thickness of the resin film was usually 12 μm or more, and could not be made thinner.

【0024】ポリパラキシリレン樹脂は下記式(1)
(化1)で示されるポリマー材料であり、分子量は50
万程度である。該ポリパラキシリレン樹脂は下記式
(2)(化2)に示されるジパラキシリレン固体ダイマ
ーを、真空室内に導入し、これを熱分解してジラジカル
パラキシリレンを生成させ、それを基材へ吸着させるこ
とで形成することができる。熱分解温度は約680℃で
あり、熱分解させたジラジカルパラキシリレンを基材表
面へ導入させ、吸着させればよい。基材を加熱させる必
要は特になく、基材温度は室温でかまわない。本方法の
特徴は、重合が基材への吸着と同時に進行するため特別
な重合処理を必要としないことであり、所望の厚さの樹
脂薄膜の形成が容易に行える。該樹脂層の厚さの制御
は、樹脂材料であるジパラキシリレンの導入量の制御
と、形成時間を制御することで行うことができる。
The polyparaxylylene resin has the following formula (1)
It is a polymer material represented by (Chemical Formula 1) and has a molecular weight of 50
It is about ten thousand. As the polyparaxylylene resin, a diparaxylylene solid dimer represented by the following formula (2) (formula 2) is introduced into a vacuum chamber, which is thermally decomposed to generate a diradical paraxylylene, which is adsorbed on a substrate. This can be formed. The thermal decomposition temperature is about 680 ° C., and the thermally decomposed diradical p-xylylene may be introduced to the surface of the base material and adsorbed. There is no particular need to heat the substrate, and the substrate temperature may be room temperature. The feature of this method is that no special polymerization treatment is required because the polymerization proceeds simultaneously with the adsorption to the substrate, and a resin thin film having a desired thickness can be easily formed. The thickness of the resin layer can be controlled by controlling the amount of diparaxylylene as the resin material and by controlling the formation time.

【0025】[0025]

【化1】 Embedded image

【0026】[0026]

【化2】 Embedded image

【0027】本発明においては、透明高分子フィルム
(C)と板状成形体(E)を接着層(D)で、接着一体
化するが、ここで用いられる接着剤は、熱または触媒の
助けにより接着される接着剤であり具体的には、シリコ
ン系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接着
剤、シアノアクリレート系接着剤など一般的な接着剤を
用いることができる。シリコン系接着剤、及びポリエス
テル系接着剤は耐熱性、電気特性に優れているためトリ
ガを印加するストロボ用反射板に好適に利用できる。エ
ポキシ系接着剤は強度、耐熱性に優れているため、これ
もまた好適に利用できる。シアノアクリレート系接着剤
は、速効性と強度に優れているため、効率的な反射板作
製に利用できる。これらの接着剤は、接着方法によって
熱硬化型、ホットメルト型、二液混合型に大別される
が、好ましくは連続生産が可能な熱硬化型あるいはホッ
トメルト型が使用される。接着層の厚みは特に限定はな
いが、通常0.5μm〜50μm、好ましくは1μm〜
20μm程度である。
In the present invention, the transparent polymer film (C) and the plate-like molded body (E) are bonded and integrated by an adhesive layer (D). The adhesive used here is heat or catalyst assisted. Specifically, a general adhesive such as a silicone adhesive, a polyester adhesive, an epoxy adhesive, and a cyanoacrylate adhesive can be used. Silicone-based adhesives and polyester-based adhesives are excellent in heat resistance and electrical properties, and thus can be suitably used for a strobe reflector for applying a trigger. Epoxy-based adhesives are excellent in strength and heat resistance, and therefore can also be suitably used. The cyanoacrylate-based adhesive is excellent in quick action and strength, and can be used for efficient reflection plate production. These adhesives are roughly classified into a thermosetting type, a hot-melt type, and a two-component mixing type depending on the bonding method, and a thermosetting type or a hot-melt type which can be continuously produced is preferably used. The thickness of the adhesive layer is not particularly limited, but is usually 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to
It is about 20 μm.

【0028】板状成形体(E)には、アルミニウム、ア
ルミニウム合金、ステンレス鋼、銅亜鉛合金、鋼等が使
用されるが、これらの金属にはそれぞれ長所があり次の
ように使い分けることができる。アルミニウムは軽量か
つ加工性に優れ、また、熱伝導率が高くそれにかかる熱
を効果的に大気中に逃がすことができるため、ランプ発
光によって反射板が加熱されるストロボ用反射傘に好適
に利用できる。アルミニウム合金は軽量かつ機械的強度
が強いため、ストロボ用反射傘に好適に利用できる。ス
テンレス鋼は機械的強度が高度にあり、また耐蝕性に優
れているため、ストロボ用反射傘に好適に利用できる。
銅亜鉛合金すなわち黄銅またはしんちゅうは、機械的強
度の強いことに加え、はんだづけが容易なためトリガ端
子をとり易くこれもまたストロボ用反射傘に好適に利用
できる。鋼は安価なため、コストを抑える必要がある時
に好ましく用いられる。
Aluminum, aluminum alloy, stainless steel, copper-zinc alloy, steel and the like are used for the plate-shaped molded product (E). These metals have their advantages and can be used as follows. . Aluminum is lightweight and excellent in workability, and has a high thermal conductivity and can effectively release the heat applied to the atmosphere, so that it can be suitably used as a reflector for a strobe in which a reflector is heated by lamp emission. . Aluminum alloys are lightweight and have high mechanical strength, and thus can be suitably used for strobe reflectors. Since stainless steel has high mechanical strength and excellent corrosion resistance, it can be suitably used as a reflector for strobe light.
A copper-zinc alloy, that is, brass or brass, has high mechanical strength and is easy to solder, so that it is easy to take a trigger terminal, and this can also be suitably used for a strobe reflector. Since steel is inexpensive, it is preferably used when it is necessary to reduce costs.

【0029】板状成形体の厚さとしては、金属の加工性
にもよるが、概ね0.1〜1mm程度である。あまり薄
いと支持体としての機能が果たせず、またあまり厚いと
ストロボ用反射傘の形状に曲げることができず好ましく
ない。
The thickness of the plate-like molded product is generally about 0.1 to 1 mm, although it depends on the workability of the metal. If it is too thin, it cannot function as a support, and if it is too thick, it cannot be bent into the shape of a flash reflector, which is not preferable.

【0030】高分子フィルムと板状成形体との接着は、
銀薄膜層への接着剤のコーティング、乾燥、ローラーに
よる板状成形体とのラミネート、の手順により行われ
る。接着剤のコーティング方法は、基材や接着剤の種類
によって多くの方法があるが、広く使用されているのは
グラビアコーター方式及びリバースコーター方式であ
る。グラビアコーター方式では、接着剤に一部分が浸さ
れているグラビアロールを回転させ、バックアップロー
ルによって送られるフィルムを接着剤の付着したグラビ
アロールに接触させることでコーティングする。コーテ
ィング量はロールの回転数、接着剤の粘度を制御するこ
とで調整できる。リバースコーター方式も、グラビアロ
ール方式に類似した方法だが、コーティングロールに付
着する接着剤の量を、それに接して設置されているメタ
リングロールによって調整する。コーティングされた接
着剤の乾燥温度、及びラミネート温度は接着剤の種類に
よってまちまちであるが、上記に掲げた一般的な接着剤
を用いる場合は100℃前後である。
The adhesion between the polymer film and the plate-like molded product is as follows:
The coating is performed by a procedure of coating the silver thin film layer with an adhesive, drying, and laminating the silver thin film layer with a plate-shaped molded body using a roller. There are many methods for coating the adhesive depending on the type of the base material and the adhesive, but the gravure coater method and the reverse coater method are widely used. In the gravure coater method, coating is performed by rotating a gravure roll partially immersed in an adhesive and bringing a film sent by a backup roll into contact with the gravure roll to which the adhesive is attached. The coating amount can be adjusted by controlling the number of rotations of the roll and the viscosity of the adhesive. The reverse coater method is similar to the gravure roll method, but the amount of the adhesive adhering to the coating roll is adjusted by a metering roll installed in contact with the coating roll. The drying temperature and the laminating temperature of the coated adhesive vary depending on the type of the adhesive, but are around 100 ° C. when the above-mentioned general adhesive is used.

【0031】この接着剤による銀薄膜層を形成した透明
高分子フィルムと板状成形体との密着強度は、180度
ピール強度で測定して100g/cm以上であることが
望ましい。この密着強度に達しない場合には、ストロボ
用反射板として板金加工した際、銀薄膜層を形成した透
明高分子フィルムの板状成形体からの剥がれ等が生じ、
変形等を引き起こす。
It is desirable that the adhesive strength between the transparent polymer film having the silver thin film layer formed thereon and the plate-like molded article, measured by a 180 degree peel strength, is 100 g / cm or more. If the adhesion strength is not reached, when a sheet metal is processed as a strobe reflector, peeling of the transparent polymer film on which the silver thin film layer is formed from the plate-like molded body occurs,
Causes deformation.

【0032】かくして、作製された反射板の反射率は典
型的には550nmの波長の光に対して93%以上であ
り、より詳しくは450nm〜750nmの範囲で93
%以上である。
The reflectivity of the reflector thus manufactured is typically 93% or more for light having a wavelength of 550 nm, and more specifically, 93% in the range of 450 nm to 750 nm.
% Or more.

【0033】上記のようにして作製された反射板を用い
てストロボ用反射傘を作製するには、アルミニウム板を
ストロボ用反射傘に加工する従来の方法がそのまま適用
できる。それは、反射板を反射傘を平面的に展開した形
状に裁断し、この裁断した平板を折曲げ加工して形成さ
れる(特開昭55−118002号公報)。該方法は製
造コストが安いことから、レンズ付きフィルム等に利用
されている。
In order to manufacture a strobe reflector using the reflector thus fabricated, a conventional method of processing an aluminum plate into a strobe reflector can be applied as it is. It is formed by cutting a reflecting plate into a shape obtained by expanding a reflecting umbrella in a plane, and bending the cut flat plate (Japanese Patent Laid-Open No. 55-118002). This method is used for a film with a lens and the like because the production cost is low.

【0034】本発明の反射板の構成、及び電気特性の代
表的な評価方法を以下に説明する。透明高分子フィル
ム、銀薄膜層、接着層、板状成形体の各部の厚さは、そ
の断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することで
直接測定できる。高分子フィルムの材料分析は、赤外分
光(IR)により行うことができる。また、接着剤の材
料分析は銀薄膜層と板状成形体を引き剥して接着剤を露
出させ、適当な溶媒にそれを溶かして試料を作製し、そ
の試料の赤外分光(IR)をとることで行うことができ
る。銀薄膜層及び板状形成体の材料分析は、蛍光X線分
光(XRF)により行うことができる。さらに、X線マ
イクロアナライザ(EPMA)では蛍光X線分光より微
細な部分の元素分析が行える。また、銀薄膜層の形成さ
れた高分子フィルムを、接着層から引き剥し銀薄膜層を
露出させれば、オージェ電子分光(AES)により組成
分析が、そして深さプロファイルをとることで厚さも知
ることができる。ポリパラキシリレン樹脂層の誘電率及
び誘電正接は、JIS−K−6911に準じた方法で測
定できる。精度を求めるならば相互誘導ブリッジ法(変
成器ブリッジ法)、簡便には電圧上昇比率法(Qメータ
法)が用いられる。
The configuration of the reflector of the present invention and a typical method for evaluating the electrical characteristics will be described below. The thickness of each part of the transparent polymer film, the silver thin film layer, the adhesive layer, and the plate-like molded body can be directly measured by observing the cross section with a transmission electron microscope (TEM). Material analysis of the polymer film can be performed by infrared spectroscopy (IR). In the material analysis of the adhesive, the silver thin film layer and the plate-shaped molded body are peeled off to expose the adhesive, and the adhesive is dissolved in an appropriate solvent to prepare a sample, and infrared spectroscopy (IR) of the sample is taken. That can be done. Material analysis of the silver thin film layer and the plate-like formed body can be performed by X-ray fluorescence spectroscopy (XRF). Further, an X-ray microanalyzer (EPMA) can perform elemental analysis of a portion finer than X-ray fluorescence spectroscopy. If the polymer film on which the silver thin film layer is formed is peeled off from the adhesive layer to expose the silver thin film layer, composition analysis is performed by Auger electron spectroscopy (AES), and the thickness is obtained by taking a depth profile. be able to. The dielectric constant and the dielectric loss tangent of the polyparaxylylene resin layer can be measured by a method according to JIS-K-6911. If accuracy is required, a mutual induction bridge method (transformer bridge method), or simply a voltage rise ratio method (Q meter method) is used.

【0035】[0035]

【実施例】以下、実施例により本発明の実施の態様の一
例を説明する。なお、実施例に記載された全光線透過
率、反射率、誘電正接は以下に記載する機器ないし方法
で測定した。 ・全光線透過率、及び反射率:分光光度計(日立製作所
(株)製:U−3400)で測定した。 ・誘電正接:JIS−K−6911によるところのブリ
ッジ法により、誘電体損測定器(安藤電気(株)製:C
R−10型)を用いて測定した。測定用試料はアルミニ
ウム箔上に樹脂を形成したものを使用し、アルミニウム
箔自体はそのまま電極として使用した。また樹脂がフィ
ルム状であるものは電極には水銀を使用してそのまま測
定した。測定は室温で行い、測定周波数は1MHz、5
回の測定値の平均をとった。
EXAMPLES Examples of the embodiments of the present invention will be described below with reference to examples. In addition, the total light transmittance, the reflectance, and the dielectric loss tangent described in the examples were measured by the following devices and methods. -Total light transmittance and reflectance: Measured with a spectrophotometer (U-3400, manufactured by Hitachi, Ltd.). -Dielectric loss tangent: A dielectric loss measuring device (manufactured by Ando Electric Co., Ltd .: C) by the bridge method according to JIS-K-6911.
R-10). As a measurement sample, a resin formed on an aluminum foil was used, and the aluminum foil itself was used as it was as an electrode. In the case where the resin was in the form of a film, the electrode was measured using mercury as it was. The measurement is performed at room temperature and the measurement frequency is 1 MHz, 5
The average of the measurements was taken.

【0036】以下、実施例1〜8、比較例1〜10にお
ける写真撮影用のストロボの概略図を(図2)及び(図
3)に示す。ここで(図2)はキセノン管に反射板を接
触させたストロボ構造の断面を示し、(図3)はキセノ
ン管に反射板を接触させたストロボ構造の発光面の裏側
から見た図を示している。図において、10はキセノン
ランプ、20は反射板、30はトリガ端子である。な
お、(図4)はストロボを発光させるための発光回路で
ある。キセノンランプに電界コンデンサーで充電した電
圧をかけ、発光を誘起するためにトリガ端子に高電圧、
高周波のトリガを印加する。ここで、キセノンランプに
かかる電圧、トリガ端子にかかる電圧及び周波数は、キ
セノンランプを発光させ得る適当な値に設定すればよ
い。
Hereinafter, FIGS. 2 and 3 show schematic views of strobes for photographing in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 10. Here, (FIG. 2) shows a cross section of a strobe structure in which a reflector is brought into contact with a xenon tube, and (FIG. 3) shows a view seen from the back side of a light emitting surface of the strobe structure in which a reflector is brought into contact with a xenon tube. ing. In the figure, 10 is a xenon lamp, 20 is a reflector, and 30 is a trigger terminal. Note that FIG. 4 shows a light emitting circuit for emitting a flash. A voltage charged by an electric field capacitor is applied to the xenon lamp, and a high voltage is applied to the trigger terminal to induce light emission.
Apply a high frequency trigger. Here, the voltage applied to the xenon lamp, the voltage applied to the trigger terminal, and the frequency may be set to appropriate values that allow the xenon lamp to emit light.

【0037】(実施例1)ポリエチレンテレフタレート
フィルム(厚さ50μm、全光線透過率=87%)に電
子ビーム真空蒸着法で、純度99.9%の銀を蒸着し
た。水晶式膜厚モニターで銀層の膜厚を測定したところ
150nmであった。そのフィルムの銀薄膜側にポリパ
ラキシリレン樹脂(日本パリレン(株)製:製品名・パ
リレンN)からなる樹脂層を、ジパラキシリレンを気化
させた後、熱分解を伴う化学蒸着法により形成した。ポ
リパラキシリレン樹脂層の厚さは触針粗さ計により、薄
膜の有無部分の段差の高さを計測することにより測定し
たところ1μmであった。次に銀薄膜層、及びポリパラ
キシリレン樹脂層が形成された面とは逆面に、板状成形
体としてアルミニウム板(厚さ0.3mm)をポリエス
テル系ホットメルト型接着剤で接着し、反射板を形成し
た。
Example 1 99.9% pure silver was vapor-deposited on a polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm, total light transmittance = 87%) by an electron beam vacuum vapor deposition method. The thickness of the silver layer was measured with a quartz crystal film thickness monitor to be 150 nm. On the silver thin film side of the film, a resin layer made of polyparaxylylene resin (manufactured by Nippon Parylene Co., Ltd., product name: Parylene N) was formed by vaporizing diparaxylylene and then performing chemical vapor deposition accompanied by thermal decomposition. The thickness of the polyparaxylylene resin layer was 1 μm as measured by measuring the height of a step in a portion with or without a thin film using a stylus roughness meter. Next, an aluminum plate (thickness: 0.3 mm) as a plate-like molded body is adhered to the surface opposite to the surface on which the silver thin film layer and the polyparaxylylene resin layer are formed using a polyester-based hot-melt adhesive, A reflector was formed.

【0038】それを板金加工によってストロボ用反射傘
用反射板とし、キセノンランプとポリパラキシリレン樹
脂層側を接触させて固定、ストロボ発光回路のトリガ端
子を反射板のアルミニウム板に接続することで、写真撮
影用のストロボを作製した。
By forming it into a reflector for a strobe reflector by sheet metal processing, the xenon lamp and the polyparaxylylene resin layer side are fixed in contact with each other, and the trigger terminal of the strobe light emitting circuit is connected to the aluminum plate of the reflector. And a strobe for photographing.

【0039】(実施例2〜実施例5)保護樹脂層の厚さ
を0.1μm(実施例2)、0.3μm(実施例3)、
5μm(実施例4)、15μm(実施例5)とした以外
は実施例1と同じ手法により反射板、及びストロボを作
製した。
(Examples 2 to 5) The thickness of the protective resin layer was 0.1 μm (Example 2), 0.3 μm (Example 3),
A reflector and a strobe were manufactured in the same manner as in Example 1 except that the thickness was 5 μm (Example 4) and 15 μm (Example 5).

【0040】(実施例6〜実施例8)銀薄膜層の厚さを
70nm(実施例6)、300nm(実施例7)、50
0nm(実施例8)とした以外は実施例1と同じ手法に
より反射板、及びストロボを作製した。
(Examples 6 to 8) The thickness of the silver thin film layer was set to 70 nm (Example 6), 300 nm (Example 7), 50 nm.
A reflector and a strobe were manufactured in the same manner as in Example 1 except that the thickness was set to 0 nm (Example 8).

【0041】(比較例1)従来のストロボの反射板に使
用されている、鏡面研磨アルミニウム板(住友軽金属
(株)製:SLタイプ、厚さ0.3mm)を使用して、
ストロボを作製した。
(Comparative Example 1) A mirror-polished aluminum plate (SL type, 0.3 mm in thickness, manufactured by Sumitomo Light Metal Co., Ltd.) used for a reflector of a conventional strobe was used.
A strobe was made.

【0042】(比較例2〜比較例4)ポリパラキシリレ
ン樹脂層を形成しなかった(比較例2)、厚さを0.0
5μm(比較例3)、25μm(比較例4)とした以外
は実施例1と同じ手法により反射板、及びストロボを作
製した。
(Comparative Examples 2 to 4) The polyparaxylylene resin layer was not formed (Comparative Example 2), and the thickness was 0.0
A reflector and a strobe were manufactured in the same manner as in Example 1 except that the thickness was set to 5 μm (Comparative Example 3) and 25 μm (Comparative Example 4).

【0043】(比較例5)ポリパラキシリレン樹脂層の
代わりに保護樹脂層としてポリエチレンフィルム(厚
さ:25μm、可視光透過率:92%)を、銀薄膜層の
上にポリエステル系接着剤により貼り合わせて形成した
こと以外は実施例1と同じ手法により反射板、及びスト
ロボを作製した。
Comparative Example 5 A polyethylene film (thickness: 25 μm, visible light transmittance: 92%) was used as a protective resin layer instead of the polyparaxylylene resin layer, and a polyester adhesive was applied on the silver thin film layer. A reflector and a strobe were manufactured in the same manner as in Example 1 except that they were bonded together.

【0044】(比較例6〜比較例8)ポリパラキシリレ
ン樹脂層の代わりに保護樹脂層としてポリエーテルスル
ホンフィルム(厚さ:25μm、可視光透過率:91
%)(比較例6)、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム(厚さ:25μm、可視光透過率:92%)(比較例
7)、ポリカーボネートフィルム(厚さ:50μm、可
視光透過率:93%)(比較例8)とした以外は比較例
5と同じ手法により反射板、ストロボを作製した。
(Comparative Examples 6 to 8) Instead of a polyparaxylylene resin layer, a polyethersulfone film (thickness: 25 μm, visible light transmittance: 91) was used as a protective resin layer.
%) (Comparative Example 6), polyethylene terephthalate film (thickness: 25 μm, visible light transmittance: 92%) (Comparative Example 7), polycarbonate film (thickness: 50 μm, visible light transmittance: 93%) (Comparative Example) A reflector and a strobe were manufactured in the same manner as in Comparative Example 5 except that the method was changed to 8).

【0045】(比較例9〜比較例10)銀薄膜層の厚さ
を50nm(比較例9)、1000nm(比較例10)
とした以外は実施例1と同じ手法により反射板、及びス
トロボを作製した。
(Comparative Examples 9 to 10) The thickness of the silver thin film layer was set to 50 nm (Comparative Example 9) and 1000 nm (Comparative Example 10).
A reflector and a strobe were produced in the same manner as in Example 1 except that the above conditions were satisfied.

【0046】実施例1〜8及び比較例1〜10において
形成した写真撮影用ストロボの明るさを、JIS−B−
7093に準拠して測定したガイドナンバーで評価し
た。ガイドナンバー(略称:GN、単位:m)が大きい
ほど明るいストロボだといえる。また、ストロボの発光
耐久性を評価するために、(図4)でもって説明したス
トロボ回路において、キセノンランプに印加する電圧を
320V、トリガ端子に印加する電圧をピーク−ピーク
値で15kV、周波数1MHzに設定し、キセノンラン
プを30秒間隔で繰り返し発光させ、10回発光させる
度にストロボの反射面を観察し、黒化現象が見られた回
数を寿命発光回数として記録した。
The brightness of the strobe for photographing formed in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 10 was measured according to JIS-B-
The evaluation was made based on the guide number measured according to 7093. The higher the guide number (abbreviation: GN, unit: m), the brighter the strobe. Further, in order to evaluate the light emission durability of the strobe, in the strobe circuit described with reference to FIG. 4, the voltage applied to the xenon lamp is 320 V, the voltage applied to the trigger terminal is 15 kV in peak-peak value, and the frequency is 1 MHz. , The xenon lamp was repeatedly emitted at intervals of 30 seconds, and the strobe reflection surface was observed every 10 times, and the number of times the blackening phenomenon was observed was recorded as the number of lifetime emission.

【0047】実施例1〜8、比較例1〜10において作
製した反射板の反射率、保護樹脂層材料の誘電正接、及
びストロボのガイドナンバー、寿命発光回数を以下の
(表1)、及び(表2)に示す。
The reflectivity of the reflectors, the dielectric loss tangent of the protective resin layer material, the guide number of the strobe, and the number of times of light emission of the strobes prepared in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 10 are shown in Table 1 below. It is shown in Table 2).

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】[0049]

【表2】 [Table 2]

【0050】以上の結果より実施例1〜8に示した本発
明のストロボ用反射傘は、ガイドナンバーが10.9〜
11.2mと、従来使用されている鏡面研磨アルミニウ
ム板を使用したストロボ(ガイドナンバー:10.0
m)より高くなっている。すなわち本発明によればスト
ロボの光量を、発光電圧の高くしたり、発光管のサイズ
を大きくすることなく増加させることができる。言い替
えればサイズを小さくしても同じ光量を得るストロボの
製造も可能となることがわかる。
From the above results, the strobe reflectors according to the present invention shown in Examples 1 to 8 have guide numbers of 10.9 to 10.
11.2 m and a strobe (guide number: 10.0) using a conventionally used mirror-polished aluminum plate
m). That is, according to the present invention, the amount of light of the strobe can be increased without increasing the emission voltage or increasing the size of the arc tube. In other words, it can be seen that even if the size is reduced, it is possible to manufacture a strobe which can obtain the same light amount.

【0051】さらに、本発明の反射板を使用したストロ
ボ用反射傘の寿命発光回数は100回以上、特に保護樹
脂層としてのポリパラキシリレン樹脂層の厚さを最適化
すれば300回以上であり、十分実用的に使用し得るも
のである。
The lifespan of the flash umbrella using the reflector of the present invention is 100 times or more, especially 300 times or more if the thickness of the polyparaxylylene resin layer as the protective resin layer is optimized. Yes, it can be used sufficiently practically.

【0052】[0052]

【発明の効果】本発明によれば、黒化を抑制した耐久性
の高い、ストロボの光量が向上された、ストロボ用反射
傘に好適に用いることができる反射板を提供することが
できる。
According to the present invention, it is possible to provide a reflector which can be preferably used for a reflector for a strobe, which has high durability and an improved strobe light amount, which suppresses blackening.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の反射板の一例を示す構造断面図FIG. 1 is a structural sectional view showing an example of a reflector of the present invention.

【図2】キセノン管に反射板を接触させたストロボ構造
の一例を示す断面図
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of a strobe structure in which a reflector is brought into contact with a xenon tube.

【図3】キセノン管に反射板を接触させたストロボ構造
の発光面の裏側から見た図
FIG. 3 is a view seen from the back side of a light emitting surface of a strobe structure in which a reflector is brought into contact with a xenon tube.

【図4】ストロボ発光回路を示す図FIG. 4 is a diagram showing a strobe light emitting circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

01 ポリパラキシリレン樹脂層 02 銀薄膜層 03 透明高分子フィルム 04 接着層 05 板状成形体 10 キセノンランプ 20 反射板 30 トリガ端子 99 反射面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 01 Polyparaxylylene resin layer 02 Silver thin film layer 03 Transparent polymer film 04 Adhesive layer 05 Plate-shaped body 10 Xenon lamp 20 Reflector 30 Trigger terminal 99 Reflective surface

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI F21V 7/22 F21V 7/22 C D G02B 5/10 G02B 5/10 C G03B 15/05 G03B 15/05 (72)発明者 福田 伸 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 東圧化学株式会社内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI F21V 7/22 F21V 7/22 CD G02B 5/10 G02B 5/10 C G03B 15/05 G03B 15/05 (72) Inventor Shin Fukuda 1190 Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Mitsui Toatsu Chemicals Co., Ltd.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも、ポリパラキシリレン樹脂層
(A)、銀薄膜層(B)、透明高分子フィルム(C)、
接着層(D)、板状成形体(E)が、A/B/C/D/
Eの順に形成されたAの面が反射面である反射板。
At least a polyparaxylylene resin layer (A), a silver thin film layer (B), a transparent polymer film (C),
The adhesive layer (D) and the plate-like molded product (E) are A / B / C / D /
A reflector in which the surface of A formed in the order of E is a reflection surface.
【請求項2】 ポリパラキシリレン樹脂層(A)の10
0kHz〜10MHzの高周波に対する誘電正接が0.
0025以下であることを特徴とする請求項1に記載の
反射板。
2. The polyparaxylylene resin layer (A) 10
The dielectric loss tangent for a high frequency of 0 kHz to 10 MHz is 0.
2. The reflector according to claim 1, wherein the thickness is not more than 0025.
【請求項3】 ポリパラキシリレン樹脂層(A)がジパ
ラキシリレン固体ダイマーから熱分解を伴う化学蒸着に
より形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載
の反射板。
3. The reflector according to claim 1, wherein the polyparaxylylene resin layer (A) is formed from a diparaxylylene solid dimer by chemical vapor deposition accompanied by thermal decomposition.
【請求項4】 ポリパラキシリレン樹脂層(A)の厚さ
が0.1μm〜15μmであることを特徴とする請求項
1〜3のいずれかに記載の反射板。
4. The reflection plate according to claim 1, wherein the thickness of the polyparaxylylene resin layer (A) is 0.1 μm to 15 μm.
【請求項5】 銀薄膜層(B)がスパッタリング法もし
くは真空蒸着法で作製されることを特徴とする請求項1
〜4のいずれかに記載の反射板。
5. The silver thin film layer (B) is produced by a sputtering method or a vacuum evaporation method.
5. The reflector according to any one of items 1 to 4.
【請求項6】 銀薄膜層(B)の厚さが70nm〜50
0nmであることを特徴とする請求項5に記載の反射
板。
6. The silver thin film layer (B) has a thickness of 70 nm to 50 nm.
The reflector according to claim 5, wherein the thickness is 0 nm.
【請求項7】 板状成形体(D)がアルミニウム、アル
ミニウム合金、ステンレス鋼、銅亜鉛合金、鋼から選ば
れたものであることを特徴とする請求項1〜6のいずれ
かに記載の反射板。
7. The reflection according to claim 1, wherein the plate-shaped formed body (D) is selected from aluminum, aluminum alloy, stainless steel, copper zinc alloy, and steel. Board.
【請求項8】 波長450nm〜750nmの範囲の光
線に対する反射率が93%以上であることを特徴とする
請求項1〜7のいずれかに記載の反射板。
8. The reflector according to claim 1, wherein a reflectance of the light in a wavelength range of 450 nm to 750 nm is 93% or more.
【請求項9】 請求項1〜8のいずれかに記載の反射板
を用いたストロボ用反射傘。
9. A reflector for strobe light using the reflector according to claim 1. Description:
JP9010417A 1997-01-23 1997-01-23 Reflecting plate and reflector for stroboscope by using this Pending JPH10206613A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007227010A (en) * 2006-02-21 2007-09-06 Japan Wavelock Co Ltd Reflection sheet for forming lamp reflector, method of manufacturing lamp reflector, and lamp reflector
JP2010061008A (en) * 2008-09-05 2010-03-18 Canon Electronics Inc Optical filter

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