JPH10198036A - Image forming material and image forming method - Google Patents

Image forming material and image forming method

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JPH10198036A
JPH10198036A JP212097A JP212097A JPH10198036A JP H10198036 A JPH10198036 A JP H10198036A JP 212097 A JP212097 A JP 212097A JP 212097 A JP212097 A JP 212097A JP H10198036 A JPH10198036 A JP H10198036A
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JP
Japan
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alkali
layer
ultraviolet
image forming
image
Prior art date
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Pending
Application number
JP212097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Kojima
康生 児島
Shigehiro Kitamura
繁寛 北村
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
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Publication of JPH10198036A publication Critical patent/JPH10198036A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a digital recording material capable of processing in a light room or dry processing and ensuring high image strength by incorporating a photothermic converting agent, a hot alkali generating material and a UV- curing resin deprived of its curability by alkali. SOLUTION: This image forming material contains a photothermic converting agent, a hot alkali generating material and a UV-curing resin deprived of its curability by alkali on the substrate. A layer contg. the photothermic converting agent and the hot alkali generating material or further contg. a resin binder is called an alkali generating layer. The photothermic converting agent and the hot alkali generating material may exist in the same layer or separate layers. In the case of separate layers, a layer contg. the photothermic converting agent is formed as a layer closer to the substrate.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、明室あるいは乾式
処理可能で画像強度の強いデジタル記録材料に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a digital recording material which can be processed in a bright room or dry processing and has a high image intensity.

【0002】[0002]

【従来の技術】紫外線露光による画像形成については、
例えば特開昭59−113435号、同60−2631
43号、特開平5−66558号等に記載されており、
紫外線露光により酸を発生し、この酸によりエポキシ樹
脂等を硬化させることは知られている。しかしデジタル
画像を印刷記録する場合、紫外線を画像状に付与するこ
とは記録装置上困難であった。
2. Description of the Related Art For image formation by ultraviolet exposure,
For example, JP-A-59-113435 and JP-A-60-2631
No. 43, JP-A-5-66558 and the like,
It is known that an acid is generated by exposure to ultraviolet light and the acid is used to cure an epoxy resin or the like. However, when printing and recording a digital image, it is difficult for a recording apparatus to apply ultraviolet rays in an image form.

【0003】また赤外露光については米国特許第5,3
40,699号、同第5,466,557号、同第5,
491,046号等に記載されており、大出力の赤外レ
ーザーにより画像状に熱パターンを適用し、熱により酸
を発生し、この酸によりエポキシ樹脂等を硬化させ、画
像を形成する方法が知られている。しかしこの方法では
硬化に十分な酸を発生させることが困難であり、硬化が
不十分となり印刷版等に用いるには画像強度が不足して
いた。
As for infrared exposure, US Pat.
No. 40,699, No. 5,466,557, No. 5,
No. 491,046 and the like, a method of applying an image-like heat pattern by a high-output infrared laser, generating an acid by heat, and curing an epoxy resin or the like with the acid to form an image. Are known. However, in this method, it is difficult to generate an acid sufficient for curing, the curing is insufficient, and the image strength is insufficient for use in a printing plate or the like.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
して、本発明の課題は、明室あるいは乾式処理可能で画
像強度の強いデジタル記録材料を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a digital recording material which can be processed in a bright room or dry processing and has a high image intensity.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は下記
手段により達成される。
The above object of the present invention is achieved by the following means.

【0006】 支持体上に光熱変換剤、熱アルカリ発
生物質及びアルカリにより硬化性が失われる紫外線硬化
樹脂を含有することを特徴とする画像形成材料。
[0006] An image forming material comprising a support containing a photothermal conversion agent, a thermo-alkali generating substance, and an ultraviolet curable resin whose curability is lost by alkali.

【0007】 透明支持体上にアルカリにより硬化性
が失われる紫外線硬化物質層、紫外線吸収層、光熱変換
物質及び熱アルカリ発生物質を含有する層(アルカリ発
生層)をこの順に有する画像形成材料にアルカリ発生層
側から画像状に可視あるいは赤外域の波長の高照度光を
露光し、その後に透明支持体側から紫外線で全面露光し
た後、高照度光で露光した部分を除去することを特徴と
する画像形成方法。
An image forming material having, on a transparent support, an ultraviolet curable substance layer whose curability is lost due to alkali, an ultraviolet absorbing layer, a layer containing a photothermal conversion substance and a thermal alkali generating substance (alkali generating layer) in this order, has an alkali. An image characterized by exposing high illuminance light having a wavelength in the visible or infrared region in an image form from the generation layer side, then exposing the entire surface with ultraviolet light from the transparent support side, and removing the portion exposed with the high illuminance light. Forming method.

【0008】 支持体上にアルカリにより硬化性が失
われる紫外線硬化樹脂層、光熱変換物質及び熱アルカリ
発生物質を含有する層(アルカリ発生層)、カバーシー
トをこの順に有する画像形成材料に該カバーシート側か
ら画像状に高照度光を照射し、カバーシートと光熱変化
物質含有層を除去し、紫外線硬化樹脂層側から紫外線全
面露光を行い、高照度光で露光された部分の紫外線硬化
樹脂層を除去することを特徴とする画像形成方法。
[0008] An image-forming material comprising an ultraviolet-curable resin layer, which loses curability due to alkali on a support, a layer containing a photothermal conversion substance and a thermal alkali-generating substance (alkali-generating layer), and a cover sheet in this order, is a cover sheet. Irradiate high-intensity light in an image form from the side, remove the cover sheet and the layer containing the photothermal change substance, perform UV exposure on the entire surface of the UV-curable resin layer, and remove the UV-cured resin layer exposed in the high-intensity light. An image forming method characterized by removing.

【0009】以下、本発明について具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0010】以下、本発明においてアルカリにより硬化
性が失われる紫外線硬化樹脂を単にUV樹脂という。
Hereinafter, in the present invention, an ultraviolet curable resin whose curability is lost by alkali is simply referred to as a UV resin.

【0011】前記のように紫外線を画像状に露光するこ
とは困難であるため、本発明者は、アルカリ性の環境下
では酸によるUV樹脂の硬化が阻害されることに着目
し、高照度光で画像状に露光してアルカリ発生層から画
像状にアルカリ雰囲気を形成した後、全面紫外線露光を
行い、アルカリ雰囲気外のUV樹脂の架橋を起こさせる
ことにより画像を形成できることを見いだした。
As described above, it is difficult to imagewise expose ultraviolet rays. Therefore, the present inventor paid attention to the fact that the curing of UV resin by an acid is inhibited in an alkaline environment, After imagewise exposure to form an imagewise alkaline atmosphere from the alkali generating layer, it was found that the entire surface was exposed to ultraviolet light to cause crosslinking of the UV resin outside the alkaline atmosphere to form an image.

【0012】こうして得られたUV樹脂架橋物は十分な
露光が与えられているために十分な画像強度を有してい
た。
The crosslinked UV resin thus obtained had a sufficient image intensity because of being given sufficient exposure.

【0013】以下、本発明においては光熱変換剤及び熱
アルカリ発生と必要に応じてバインダー樹脂を含有する
層をアルカリ発生層という。光熱変換剤と熱アルカリ発
生剤は同一層に存在しても別層でも良い。別層にする場
合は光熱変換剤を含有する層を支持体に近い層とする。
Hereinafter, in the present invention, a layer containing a light-to-heat conversion agent, hot alkali generation and, if necessary, a binder resin is referred to as an alkali generation layer. The photothermal conversion agent and the thermal alkali generator may be present in the same layer or in different layers. In the case of a separate layer, the layer containing the photothermal conversion agent is a layer close to the support.

【0014】(画像形成プロセス)本発明の画像形成材
料の好ましい実施態様としては以下のような層構成が挙
げられる。
(Image Forming Process) Preferred embodiments of the image forming material of the present invention include the following layer constitutions.

【0015】 透明支持体上にUV樹脂層、紫外線吸
収層、アルカリ発生層をこの順に設ける。このアルカリ
発生層側から画像形成材料に画像状に高照度光を露光し
た後、透明支持体側から紫外線で全面露光を行う。この
後にUV樹脂層の高照度光で露光された部分に該当する
部分を除去し画像を形成する。
On a transparent support, a UV resin layer, an ultraviolet absorbing layer, and an alkali generating layer are provided in this order. After exposing the image forming material to high illuminance light in an image form from the alkali generating layer side, the entire surface is exposed to ultraviolet light from the transparent support side. Thereafter, a portion corresponding to the portion of the UV resin layer exposed to the high illuminance light is removed to form an image.

【0016】 支持体上にUV樹脂層、アルカリ発生
層、カバーシートをこの順に設ける。この画像形成材料
にカバーシート側から画像状に高照度光を露光した後、
アルカリ発生層とUV樹脂層の間で剥離し、カバーシー
ト及びアルカリ発生層を除去した後、UV樹脂層に紫外
線で全面露光を行う。この後にUV樹脂層の高照度光で
露光された部分に該当する部分を除去し画像を形成す
る。
A UV resin layer, an alkali generation layer, and a cover sheet are provided on a support in this order. After exposing the image forming material to high illuminance light in an image form from the cover sheet side,
After peeling off between the alkali generating layer and the UV resin layer and removing the cover sheet and the alkali generating layer, the entire surface of the UV resin layer is exposed to ultraviolet light. Thereafter, a portion corresponding to the portion of the UV resin layer exposed to the high illuminance light is removed to form an image.

【0017】(熱アルカリ発生剤)本発明に用いられる
熱アルカリ発生剤としては、カルボン酸と有機塩基との
塩を挙げることができる。カルボン酸と有機塩基との塩
からなる塩基プレカーサーは、米国特許第3,493,
374号、英国特許第998,949号、特開昭59−
180537号、特開昭61−51139号及び米国特
許第4,060,420号等に記載されているものを使
用することができる。これらのカルボン酸と有機塩基と
の塩からなる塩基プレカーサーは、カルボン酸のカルボ
キシル基が加熱により脱炭酸する性質を利用して、使用
時(加熱時)に有機塩基を放出するように構成されてい
る。
(Thermal Alkali Generator) Examples of the thermal alkali generator used in the present invention include salts of a carboxylic acid and an organic base. A base precursor consisting of a salt of a carboxylic acid and an organic base is disclosed in U.S. Pat.
374, British Patent No. 998,949, JP-A-59-949.
No. 1,805,371, JP-A-61-51139, U.S. Pat. No. 4,060,420 and the like can be used. The base precursor comprising a salt of a carboxylic acid and an organic base is configured to release an organic base at the time of use (at the time of heating) by utilizing the property that a carboxyl group of the carboxylic acid is decarboxylated by heating. I have.

【0018】(光熱変換剤)光熱変換物質としては、カ
ーボンブラック、グラファイト、特開昭52−2084
2号に記載の金、銀、アルミニウム、クロム、ニッケ
ル、アンチモン、テルル、ビスマス、セレン等のメタル
ブラック、特開昭63−139191号、同64−33
547号、特開平1−160683号、同1−2807
50号、同1−293342号、同2−2074号、同
3−26593号、同3−30991号、同3−348
91号、同3−36093号、同3−36094号、同
3−36095号、同3−42281号、同3−975
89号、同3−103476号各公報等に記載のシアニ
ン系、ポリメチン系、アズレニウム系、スクワリウム
系、チオピリリウム系、ナフトキノン系、アントラキノ
ン系色素等の有機化合物、フタロシアニン系、アゾ系、
チオアミド系の有機金属錯体などが適当に用いられる。
(Light-to-heat conversion agent) Examples of light-to-heat conversion materials include carbon black, graphite, and JP-A-52-2084.
2, metal blacks such as gold, silver, aluminum, chromium, nickel, antimony, tellurium, bismuth, and selenium described in JP-A Nos. 63-139191 and 64-33.
No. 547, JP-A-1-160683 and 1-2807
Nos. 50, 1-293342, 2-2074, 3-26593, 3-30991, 3-348
Nos. 91, 3-36093, 3-36094, 3-36095, 3-42281, 3-975
Nos. 89 and 3-103476; organic compounds such as cyanine-based, polymethine-based, azurenium-based, squarium-based, thiopyrylium-based, naphthoquinone-based and anthraquinone-based dyes, phthalocyanine-based, azo-based, and the like.
A thioamide-based organometallic complex or the like is appropriately used.

【0019】(UV樹脂)UV樹脂組成物形成用として
は、紫外線硬化性のプレポリマー及び/又はモノマーと
重合開始剤とを主成分とする組成物によって形成するこ
とができる。
(UV Resin) For forming a UV resin composition, it can be formed by a composition mainly composed of an ultraviolet curable prepolymer and / or a monomer and a polymerization initiator.

【0020】紫外線硬化性のプレポリマー、モノマーと
しては、ラジカル重合によって高分子化の起こるタイプ
(主にアクリレートタイプ)や、カチオン重合により高
分子化の起こるタイプ(主にエポキシタイプ)があり、
この発明の目的においてはエポキシタイプの紫外線硬化
性プレポリマー、モノマーが好ましい。
As the UV-curable prepolymer and monomer, there are a type in which a polymer is formed by radical polymerization (mainly an acrylate type) and a type in which a polymer is formed by cationic polymerization (mainly epoxy type).
For the purpose of this invention, epoxy type ultraviolet curable prepolymers and monomers are preferred.

【0021】エポキシ系のプレポリマー、モノマーとし
ては1分子内にエポキシ基を2個以上含有するプレポリ
マーを挙げることができる。このようなプレポリマーと
しては、例えば、脂環式ポリエポキシド類、多塩基酸の
ポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリ
シジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールの
ポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグ
リシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジ
ルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキ
シ化合物類およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げ
ることができる。これらのプレポリマーは、その一種を
単独で使用することもできるし、また、その二種以上を
混合して使用することもできる。前記UV樹脂の、エポ
キシ基を1分子内に2個以上有するプレポリマーの含有
量は70重量%以上であるのが好ましい。
Examples of the epoxy prepolymer and monomer include a prepolymer having two or more epoxy groups in one molecule. Examples of such prepolymers include alicyclic polyepoxides, polyglycidyl esters of polybasic acids, polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, polyglycidyl ethers of polyoxyalkylene glycol, and polyglycidyl of aromatic polyol. Examples include ethers, hydrogenated compounds of polyglycidyl ethers of aromatic polyols, urethane polyepoxy compounds, and epoxidized polybutadienes. One of these prepolymers can be used alone, or two or more of them can be used as a mixture. The content of the prepolymer having two or more epoxy groups in one molecule of the UV resin is preferably 70% by weight or more.

【0022】アクリレート系のモノマー、プレポリマー
としては、例えば2−エチルヘキシルアクリレート、2
−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステル及びそ
の誘導体或いはこれらのアクリレートをメタクリレー
ト、イタコネート、クロトネート、マレエート等に代え
た化合物、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノールA
ジアクリレート、ヒドロキシビバリン酸ネオペンチルグ
リコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリレート
等の2官能アクリル酸エステル及びその誘導体或いはこ
れらのアクリレートをメタクリレート、イタコネート、
クロトネート、マレエート等に代えた化合物、或いはト
リメチロールプロパントリアクリレート、EO変性され
たイソシアヌル酸のトリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート、ピ
ロガロールトリアクリレート等の多官能アクリル酸エス
テル及びその誘導体或いはこれらのアクリレートをメタ
クリレート、イタコネート、クロトネート、マレエート
等に代えた化合物を挙げることができる。
As the acrylate monomer or prepolymer, for example, 2-ethylhexyl acrylate, 2
Monofunctional acrylates such as -hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxypropyl acrylate and derivatives thereof or compounds obtained by replacing these acrylates with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, etc., polyethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, bisphenol A
Diacrylates, bifunctional acrylates such as diacrylate of ε-caprolactone adduct of neopentyl glycol hydroxybivalate and derivatives thereof or acrylates of these methacrylates, itaconates,
Compounds substituted for crotonate, maleate, etc., or trimethylolpropane triacrylate, EO-modified isocyanuric acid triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pyrogallol Examples include polyfunctional acrylates such as triacrylate and derivatives thereof, and compounds in which these acrylates are replaced with methacrylate, itaconate, crotonate, maleate, and the like.

【0023】また、適当な分子量のオリゴマーにアクリ
ル酸又はメタクリル酸を導入し、光重合性を付与した所
謂プレポリマーと呼ばれるものも好適に使用できる。
Also, a so-called prepolymer obtained by introducing acrylic acid or methacrylic acid into an oligomer having an appropriate molecular weight and imparting photopolymerizability can be suitably used.

【0024】前記重合開始剤としては、カチオン重合開
始剤が好ましく、具体的には芳香族オニウム塩やトリア
ジン化合物を挙げることができる。
As the polymerization initiator, a cationic polymerization initiator is preferable, and specific examples thereof include aromatic onium salts and triazine compounds.

【0025】この芳香族オニウム塩として、周期表第V
a族元素の塩、例えばホスホニウム塩(たとえばヘキサ
フルオロリン酸トリフェニルフェナシルホスホニウムな
ど)、第VIa族元素の塩、例えばスルホニウム塩(たと
えばテトラフルオロホウ酸トリフェニルスルホニウム、
ヘキサフルオロリン酸トリフェニルスルホニウム、ヘキ
サフルオロリン酸トリス(4−チオメトキシフェニ
ル)、スルホニウムおよびヘキシサフルオロアンチモン
酸トリフェニルスルホニウムなど)、および第VIIa族
元素の塩、例えばヨードニウム塩(例えば塩化ジフェニ
ルヨードニウムなど)を挙げることができる。
As this aromatic onium salt, V in the periodic table
Salts of Group a elements, such as phosphonium salts (such as triphenylphenacylphosphonium hexafluorophosphate), salts of Group VIa elements such as sulfonium salts (such as triphenylsulfonium tetrafluoroborate,
Triphenylsulfonium hexafluorophosphate, tris (4-thiomethoxyphenyl) hexafluorophosphate, triphenylsulfonium sulfonium and hexisafluoroantimonate, and salts of Group VIIa elements, such as iodonium salts (eg, diphenyliodonium chloride) Etc.).

【0026】このような芳香族オニウム塩をエポキシ化
合物の重合におけるカチオン重合開始剤として使用する
ことは、米国特許第4,058,401号、同第4,0
69,055号、同第4,101,513号および同第
4,161,478号に詳述されている。
The use of such an aromatic onium salt as a cationic polymerization initiator in the polymerization of an epoxy compound is disclosed in US Pat. Nos. 4,058,401 and 4,058,401.
Nos. 69,055, 4,101,513 and 4,161,478.

【0027】好ましいカチオン重合開始剤としては、第
VIa族元素のスルホニウム塩が挙げられる。その中で
も、紫外線硬化性と紫外線硬化性の組成物の貯蔵安定性
の観点からすると、ヘキサフルオロアンチモン酸トリア
リールスルホニウムが好ましい。
Preferred cationic polymerization initiators include
Examples include sulfonium salts of Group VIa elements. Among them, triarylsulfonium hexafluoroantimonate is preferred from the viewpoint of ultraviolet curability and storage stability of the ultraviolet curable composition.

【0028】又、本発明に用いられるUV樹脂として
は、酸性条件下で架橋反応を起こすアルカリ可溶性樹脂
を用いることもできる。該アルカリ可溶樹脂としては特
に限定されないが、例えばフェノール性水酸基をもつも
のが好ましい。かかる樹脂としてフェノール、クレゾー
ル、エチルフェノール、t−ブチルフェノール、キシレ
ノール、ナフトール等のヒドロキシ芳香族化合物をホル
ムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド等
のアルデヒドで縮重合させたノボラック樹脂、低級アル
キル基等の置換基を有しても良いポリビニルフェノール
誘導体、N−(p−ヒドロキシフェニル)マレイミドポ
リマー等が挙げられる。中でもクレゾールノボラック樹
脂、ポリビニルフェノール誘導体が好ましい。
As the UV resin used in the present invention, an alkali-soluble resin which causes a crosslinking reaction under acidic conditions can also be used. The alkali-soluble resin is not particularly limited, but for example, a resin having a phenolic hydroxyl group is preferable. As such a resin, phenol, cresol, ethylphenol, t-butylphenol, xylenol, a novolak resin obtained by condensation polymerization of a hydroxyaromatic compound such as naphthol with an aldehyde such as formaldehyde, acetaldehyde or benzaldehyde, and having a substituent such as a lower alkyl group. And an N- (p-hydroxyphenyl) maleimide polymer. Among them, cresol novolak resins and polyvinylphenol derivatives are preferred.

【0029】架橋剤としては、酸存在下にアルカリ可溶
性樹脂と架橋反応する化合物であれば特に限定されない
が、例えば特開昭59−113435号、同60−26
3143号、同62−164045号に引用されている
化合物、A.Knop.L.A.Piraton著Ph
enolic Resins記載の化合物、分子中に−
N(CH2OR12基又は−NH(CH2OR2)基(但
しR1及びR2は水素原子又はアルキル基を表す)を有す
る化合物等が挙げられる。
The crosslinking agent is not particularly limited as long as it is a compound which undergoes a crosslinking reaction with an alkali-soluble resin in the presence of an acid. For example, JP-A-59-113435 and JP-A-60-26 can be used.
Compounds cited in Nos. 3143 and 62-164045; Knop. L. A. Ph by Piraton
Compounds described in enolic Resins, in the molecule
Examples include compounds having an N (CH 2 OR 1 ) 2 group or an —NH (CH 2 OR 2 ) group (where R 1 and R 2 each represent a hydrogen atom or an alkyl group).

【0030】本発明に用いられる酸発生剤としては前記
カチオン重合開始剤として挙げられた化合物を用いるこ
とができる。
As the acid generator used in the present invention, the compounds mentioned as the cationic polymerization initiator can be used.

【0031】上記UV樹脂層用コーティング剤中には、
更に油類(特にシリコーン油)、シリコーン−アルキレ
ンオキシド共重合体(例えばユニオンカーバイド社から
市販されているL−5410)のような界面活性剤、シ
リコーン油含有脂肪族エポキシド類、3M社から市販さ
れているFO−171および3M社から市販されている
FO−430、大日本インキ株式会社から市販されてい
るMegafac F−141のようなフルオロカーボ
ン界面活性剤等を含有させてもよい。
[0031] In the coating agent for the UV resin layer,
Further, surfactants such as oils (especially silicone oils), silicone-alkylene oxide copolymers (eg, L-5410 commercially available from Union Carbide), aliphatic epoxides containing silicone oil, commercially available from 3M. FO-171 available from 3M Company, and Fluorocarbon surfactants such as Megafac F-141 available from Dainippon Ink Co., Ltd. may be contained.

【0032】前記UV樹脂層用コーティング剤中には、
さらに、例えば、スチレン、パラメチルスチレン、メタ
クリル酸エステル、アクリル酸エステル等のビニル単量
体やセルロース系、熱可塑性ポリエステル、フェニルグ
リシジルエーテル、ケイ素含有モノエポキシド、ブチル
グリシジルエーテル等のモノエポキシド等が、この発明
の効果を阻害しない範囲で含有されていてもよい。
In the UV resin layer coating agent,
Further, for example, styrene, paramethylstyrene, methacrylic acid esters, vinyl monomers such as acrylates, cellulose-based, thermoplastic polyester, phenyl glycidyl ether, silicon-containing monoepoxide, monoepoxides such as butyl glycidyl ether, and the like, It may be contained within a range that does not impair the effects of the present invention.

【0033】また、このUV樹脂層用コーティング剤中
には、不活性成分として染料、顔料、増粘剤、可塑剤、
安定剤、レベリング剤、カップリング剤、粘着付与剤、
シリコーン基含有活性剤、フルオロカーボン基含有表面
活性剤等の濡れ向上剤、その他の各種添加剤、さらにコ
ーティング剤の塗布中における流動性を改良することを
目的として、前記カチオン重合開始剤とほとんど反応し
ないアセトン、メチルエチルケトン、メチルクロライド
等の少量の溶剤を含有させてもよい。
The UV resin layer coating agent contains, as an inactive component, a dye, a pigment, a thickener, a plasticizer,
Stabilizers, leveling agents, coupling agents, tackifiers,
Silicone group-containing activators, wetting improvers such as fluorocarbon group-containing surfactants, and other various additives, for the purpose of improving fluidity during application of the coating agent, hardly react with the cationic polymerization initiator. A small amount of a solvent such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl chloride may be contained.

【0034】(支持体)本発明に用いられる支持体とし
ては、例えばアルミニウム、ステンレス、クロム、ニッ
ケル等の金属板、例えばポリエステルフィルム、ポリエ
チレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のプラスチ
ックフィルムや紙、合成紙、樹脂コーティングした紙に
前述の金属薄膜をラミネート又は蒸着したもの、例えば
ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ナイロン
フィルム等の表面を親水化処理を施したもの、等が挙げ
られる。
(Support) As the support used in the present invention, for example, a metal plate such as aluminum, stainless steel, chromium, nickel, etc., for example, a plastic film such as polyester film, polyethylene film, polypropylene film, paper, synthetic paper, resin Examples include those obtained by laminating or vapor-depositing the above-mentioned metal thin film on coated paper, for example, those obtained by subjecting the surface of a polyester film, vinyl chloride film, nylon film or the like to a hydrophilic treatment.

【0035】(親水性処理)印刷版として用いる場合
は、表面を親水化処理を行い、親水性とする必要があ
る。前述のプラスチックフィルムの親水化処理方法とし
ては、硫酸処理、酸素プラズマエッチング処理、コロナ
放電処理、水溶性樹脂塗布層を設ける、等が好ましく用
いられる。
(Hydrophilic treatment) When used as a printing plate, it is necessary to make the surface hydrophilic to make it hydrophilic. As the above-mentioned method for hydrophilizing a plastic film, sulfuric acid treatment, oxygen plasma etching treatment, corona discharge treatment, providing a water-soluble resin coating layer, and the like are preferably used.

【0036】表面を砂目立て、陽極酸化処理、封孔処理
を施したアルミニウム板が印刷版用支持体として特に好
ましい。砂目立て処理の方法としては、例えば、機械的
方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
An aluminum plate whose surface is grained, anodized and sealed is particularly preferable as a support for a printing plate. Examples of the graining method include a mechanical method and an electrolytic etching method.

【0037】機械的方法としては、例えば、ボール研磨
法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによる研磨法、バフ
研磨法が挙げられる。アルミニウム材の組成等に応じて
上述の各種方法を単独もしくは組合せて用いることがで
きる。好ましいのは、電解エッチングによる方法であ
る。
Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a brush polishing method, a polishing method using liquid honing, and a buff polishing method. The above-mentioned various methods can be used alone or in combination depending on the composition of the aluminum material and the like. Preferred is a method by electrolytic etching.

【0038】電解エッチングは、燐酸、硫酸、塩酸、硝
酸等の無機酸を単独ないし2種以上混合した浴で行われ
る。砂目立て処理の後、必要に応じて、アルカリあるい
は酸の水溶液によってデスマット処理を行い中和して水
洗する。
The electrolytic etching is performed in a bath containing one or more inorganic acids such as phosphoric acid, sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid. After the graining treatment, if necessary, a desmut treatment is performed with an aqueous solution of an alkali or an acid to neutralize and wash with water.

【0039】陽極酸化処理は、電解液として硫酸、クロ
ム酸、シュウ酸、燐酸、マロン酸等を一種または二種以
上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解し
て行われる。形成された陽極酸化被覆量は、1〜50m
g/dm2が適当であり、好ましくは10〜40mg/
dm2である。陽極酸化被覆量は、例えばアルミニウム
板を燐酸クロム酸溶液(燐酸85%液:35ml、酸化
クロム20gを1lの水に溶解して作製)に浸積し、酸
化被膜を溶解し、板の被覆溶解前後の重量変化測定等か
ら求められる。
The anodic oxidation treatment is carried out by using a solution containing one or more of sulfuric acid, chromic acid, oxalic acid, phosphoric acid, malonic acid and the like as an electrolytic solution, and using an aluminum plate as an anode to perform electrolysis. The formed anodized coating amount is 1 to 50 m
g / dm 2 is suitable, and preferably 10 to 40 mg / g.
dm 2 . The anodic oxidation coating amount is determined, for example, by immersing an aluminum plate in a chromic phosphoric acid solution (prepared by dissolving 35 g of 85% phosphoric acid and 20 g of chromium oxide in 1 liter of water), dissolving the oxide film, and dissolving the coating of the plate. It can be determined from a change in weight before and after.

【0040】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。親水
性支持体はその表面の水に対する接触角が60度以下、
より好ましくは40度以下である。親水性支持体の厚さ
は、50〜1000μm、好ましくは75〜500μm
の範囲である。
Examples of the sealing treatment include boiling water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, dichromate aqueous solution treatment, and the like. In addition, the aluminum plate support may be subjected to an undercoating treatment with an aqueous solution of a water-soluble polymer compound or a metal salt such as fluorinated zirconic acid. The hydrophilic support has a contact angle of water on its surface of 60 degrees or less,
More preferably, it is 40 degrees or less. The thickness of the hydrophilic support is 50 to 1000 μm, preferably 75 to 500 μm.
Range.

【0041】(現像処理)現像液としては、従来より知
られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ
酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二燐酸
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、重炭酸ナト
リウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウ
ム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム及び同リチウムなどの無機アルカ
リ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチル
アミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチ
ルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、
n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノー
ルアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノー
ルアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミ
ン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤
も用いられる。これらのアルカリ剤は、単独もしくは、
二種以上組合せて用いられる。
(Development treatment) As the developer, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used. For example, sodium silicate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium hydrogen carbonate, potassium, potassium Inorganic alkaline agents such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, potassium, ammonium, and lithium. Also, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine,
Organic alkali agents such as n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used. These alkaline agents can be used alone or
Used in combination of two or more.

【0042】また、該現像液中に必要に応じ、アニオン
性界面活性剤、両性活性剤やアルコール等の有機溶媒を
加えることができる。
If necessary, an organic solvent such as an anionic surfactant, an amphoteric surfactant or an alcohol can be added to the developer.

【0043】(画像露光方法)本発明においては画像露
光用光源としては、キセノンランプ、ハロゲンランプ、
タングステンランプ、レーザー、LED、CRT等が挙
げられ、光強度の強い光源であれば発光波長等に制限さ
れず用いることができる。好適に用いられる光源として
はフラッシュ光源あるいはレーザー光源があげられる。
フラッシュ光源としては発光半値幅が10ms以下で発
光強度が10W/cm2以上のキセノンフラッシュが好
ましい。好適なレーザー光源としては出力50mW以上
のアルゴンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、半導体
レーザー等が挙げられる。
(Image Exposure Method) In the present invention, the light source for image exposure is a xenon lamp, a halogen lamp,
Examples thereof include a tungsten lamp, a laser, an LED, and a CRT, and any light source having a high light intensity can be used without being limited by the emission wavelength. A flash light source or a laser light source is preferably used as a light source.
As a flash light source, a xenon flash having an emission half width of 10 ms or less and an emission intensity of 10 W / cm 2 or more is preferable. Suitable laser light sources include an argon laser, a helium neon laser, and a semiconductor laser having an output of 50 mW or more.

【0044】このような光源を用いる場合の露光方法と
しては密着露光と走査露光が挙げられる。密着露光の場
合、オリジナルの透過原稿と記録材料を密着し、透過原
稿側より上記高照度光で露光を行なう。この場合の露光
時間としては10ms以下が好ましい。露光時間が10
msより長い場合、熱パターンの拡散により画質が低下
する。
The exposure method using such a light source includes contact exposure and scanning exposure. In the case of contact exposure, the original transmission original and the recording material are brought into close contact with each other, and exposure is performed from the transmission original side with the high illuminance light. The exposure time in this case is preferably 10 ms or less. Exposure time is 10
If the time is longer than ms, the image quality deteriorates due to the diffusion of the thermal pattern.

【0045】走査露光方法の場合、記録光学系としては
円筒走査光学系や平面走査光学系が用いられる。その中
で円筒外面走査光学系が光源のロスが少なく、ビームを
細く絞ることが容易であり最も好ましい。
In the case of the scanning exposure method, a cylindrical scanning optical system or a plane scanning optical system is used as a recording optical system. Among them, the cylindrical outer surface scanning optical system is most preferable because the loss of the light source is small and the beam can be narrowed down easily.

【0046】(全面露光方法)紫外線光による全面露光
に用いられる光源としては太陽光線、低圧水銀灯、高圧
水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハラ
イドランプ、キセノンランプ等が挙げられる。紫外線光
を照射する際の雰囲気は、空気または窒素ガスや炭酸ガ
ス等の不活性ガスであってもよい。またこの発明で用い
られる紫外線硬化物質への紫外線照射時間は上記紫外線
領域の照射光源の種類によって異なるが0.5秒〜5
分、好ましくは3秒〜3分である。
(Whole Surface Exposure Method) Examples of the light source used for the whole surface exposure with ultraviolet light include sunlight, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, and the like. The atmosphere when irradiating the ultraviolet light may be air or an inert gas such as nitrogen gas or carbon dioxide gas. The time for irradiating the ultraviolet ray to the ultraviolet curable substance used in the present invention varies depending on the type of the irradiation light source in the above-mentioned ultraviolet region.
Minutes, preferably 3 seconds to 3 minutes.

【0047】硬化に際し、紫外線光の照射時または照射
の前後に加熱を行い照射時間をさらに短くすることもで
きる。加熱する場合にはその加熱温度は30℃〜80℃
が好ましい。紫外線照射前においては紫外線硬化性組成
物がこの温度になれば加熱時間は短くてもよく、紫外線
照射後においては加熱時間は1分〜120分が好まし
い。
At the time of curing, heating may be performed at the time of irradiation with ultraviolet light or before or after the irradiation to further shorten the irradiation time. When heating, the heating temperature is 30 ° C to 80 ° C
Is preferred. Before ultraviolet irradiation, the heating time may be short as long as the ultraviolet curable composition reaches this temperature, and after ultraviolet irradiation, the heating time is preferably 1 minute to 120 minutes.

【0048】(紫外線吸収剤層)紫外線吸収剤層は全面
露光に用いられる紫外線光の透過率を低減させる機能を
有する層である。紫外線光を吸収する染料、顔料を適当
なバインダー中に溶解ないし分散させた液を塗行するこ
とによって得ることができる。
(Ultraviolet Absorbent Layer) The ultraviolet absorbent layer is a layer having a function of reducing the transmittance of ultraviolet light used for the entire surface exposure. It can be obtained by coating a solution in which a dye or pigment absorbing ultraviolet light is dissolved or dispersed in a suitable binder.

【0049】全面露光に用いられる紫外線光の波長にお
ける透過濃度は1.0〜5.0であることが望ましい。
さらに好ましくは2.0〜4.0である。透過濃度が低
いと全面露光時に塩基発生層から塩基が拡散し硬化が阻
害される恐れがある。透過濃度が濃い場合は紫外線遮蔽
効果は十分であるが膜厚が過大になりやすく画像露光時
の塩基の浸透が抑制される。
It is desirable that the transmission density at the wavelength of the ultraviolet light used for the entire surface exposure is 1.0 to 5.0.
More preferably, it is 2.0 to 4.0. If the transmission density is low, the base may be diffused from the base generating layer at the time of overall exposure, and curing may be inhibited. When the transmission density is high, the ultraviolet shielding effect is sufficient, but the film thickness tends to be excessively large, and the penetration of the base during image exposure is suppressed.

【0050】[0050]

【実施例】以下、実施例により本発明の効果を例証す
る。
EXAMPLES The effects of the present invention will now be illustrated by examples.

【0051】実施例1 砂目立て親水化処理されたアルミ支持体上に下記組成の
UV樹脂層を有する画像形成材料を作成した。
Example 1 An image forming material having a UV resin layer having the following composition on an aluminum support subjected to graining and hydrophilic treatment was prepared.

【0052】 ヘキサフルオロアンチモン酸トリアリールスルホニウム 3重量部 ジグリシジルヘキサヒドロフタレート 20重量部 水添ビスフェノールAグリシジルエーテル 30重量部 30μm厚のポリエステルフィルム上に下記の塩基発生
層を設け、アルカリ発生シートを作成した。
Triarylsulfonium hexafluoroantimonate 3 parts by weight Diglycidyl hexahydrophthalate 20 parts by weight Hydrogenated bisphenol A glycidyl ether 30 parts by weight The following base generating layer is provided on a 30 μm thick polyester film to prepare an alkali generating sheet. did.

【0053】 カーボンブラック #30(三菱化学(株)製) 5重量部 下記構造の塩基プレカーサーP 5重量部5 parts by weight of carbon black # 30 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 5 parts by weight of base precursor P having the following structure

【0054】[0054]

【化1】 Embedded image

【0055】このアルカリ発生シート層側と上記画像形
成材料の紫外線硬化性樹脂層を密着しラミネートした。
The alkali-generating sheet layer side and the ultraviolet-curable resin layer of the above-mentioned image forming material were adhered and laminated.

【0056】この記録材料をアルカリ発生シート側から
2Wの半導体レーザーで画像露光した後、アルカリ発生
シートを剥離し、紫外線光で10秒間全面露光を行い、
80℃、2分間加熱した後、PS版現像液SDR−1
(コニカ(株)製)の6倍希釈液に30秒間浸漬した
後、水洗し現像した。
After the recording material was image-exposed from the alkali generation sheet side with a 2 W semiconductor laser, the alkali generation sheet was peeled off, and the entire surface was exposed to ultraviolet light for 10 seconds.
After heating at 80 ° C. for 2 minutes, PS plate developer SDR-1
It was immersed in a 6-fold diluted solution (manufactured by Konica Corporation) for 30 seconds, washed with water and developed.

【0057】これにより、半導体レーザーで画像露光さ
れた領域のみ除去されたポジ型の画像が形成された。
As a result, a positive type image was formed in which only the area exposed to the image by the semiconductor laser was removed.

【0058】実施例2 砂目立て親水化処理されたアルミニウム支持体上に膜厚
2μmの下記組成のUV樹脂層を有する画像形成を有す
る画像形成材料を作成した。
Example 2 An image forming material having an image formation having a UV resin layer of the following composition having a thickness of 2 μm on an aluminum support subjected to graining and hydrophilization was prepared.

【0059】 レゾール樹脂 6重量部 ノボラック樹脂 6重量部 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロリン酸塩 1重量部 30μm厚のポリエステルフィルム上に下記の塩基発生
層を乾燥膜厚で0.5μmに設けアルカリ発生シートを
作成した。
Resol resin 6 parts by weight Novolak resin 6 parts by weight Diphenyliodonium hexafluorophosphate 1 part by weight The following base generation layer is provided on a 30 μm thick polyester film at a dry film thickness of 0.5 μm to prepare an alkali generation sheet. did.

【0060】 赤外染料D 1重量部 塩基プレカーサーP 5重量部1 part by weight of infrared dye D 5 parts by weight of base precursor P

【0061】[0061]

【化2】 Embedded image

【0062】このアルカリ発生シートの塩基発生層側と
上記画像形成材料のUV樹脂を密着し、ラミネートし
た。
The base generation layer side of this alkali generation sheet and the UV resin of the above-mentioned image forming material were adhered and laminated.

【0063】この記録材料をアルカリ発生シート側から
2Wの半導体レーザーで画像露光した後、アルカリ発生
シートを剥離し、UV光で10秒間全面露光を行い、8
0℃、2分間加熱した後、PS版現像液SDR−1(コ
ニカ(株)製)の6倍希釈液に30秒間浸漬した後、水
洗し現像した。
After the recording material was image-exposed from the alkali generating sheet side with a 2 W semiconductor laser, the alkali generating sheet was peeled off, and the entire surface was exposed to UV light for 10 seconds, and
After heating at 0 ° C. for 2 minutes, the plate was immersed in a 6-fold diluted solution of PS plate developer SDR-1 (manufactured by Konica Corporation) for 30 seconds, washed with water and developed.

【0064】これにより半導体レーザーで画像露光され
た領域のみ除去されたポジ型の画像が形成された。
As a result, a positive type image was formed in which only the area exposed to the image by the semiconductor laser was removed.

【0065】比較例1 砂目立て親水化処理されたアルミニウム支持体上に膜厚
2μmの下記組成のUV樹脂層を有する画像形成材料を
作成した。
Comparative Example 1 An image forming material having a UV resin layer of the following composition having a thickness of 2 μm was formed on an aluminum support subjected to graining and hydrophilization.

【0066】 レゾール樹脂 6重量部 ノボラック樹脂 6重量部 ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロリン酸塩 1重量部 赤外染料D 1重量部 この記録材料をアルカリ発生シート側から2Wの半導体
レーザーで画像露光した後、PS版現像液SDR−1
(コニカ(株)製)の6倍希釈液に30秒間浸漬した
後、水洗し現像した。
Resol resin 6 parts by weight Novolak resin 6 parts by weight Diphenyliodonium hexafluorophosphate 1 part by weight Infrared dye D 1 part by weight After this recording material was image-exposed with a 2 W semiconductor laser from the alkali generation sheet side, PS Plate developer SDR-1
It was immersed in a 6-fold diluted solution (manufactured by Konica Corporation) for 30 seconds, washed with water and developed.

【0067】これにより半導体レーザーで画像露光され
た領域のみ残存したネガ型の画像が形成された。
As a result, a negative type image was formed in which only the area exposed to the image by the semiconductor laser remained.

【0068】(評価)上記、実施例1、2と比較例1で
作成された印刷版について印刷テストを枚葉印刷機に装
着し、印刷テストを行ったところ実施例1、2の印刷版
はいずれも10万枚以上の耐刷力を示したのに対し、比
較例の印刷版は約5万枚で画像部の小点が欠落しはじめ
耐刷力として劣っていた。
(Evaluation) A printing test was carried out on the printing plates prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, and the printing test was carried out. All of them exhibited printing durability of 100,000 sheets or more, whereas the printing plate of the comparative example was inferior in printing durability, starting with the loss of small dots in the image area on about 50,000 sheets.

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明により、明室あるいは乾式処理可
能で画像強度の強いデジタル記録材料を提供することが
できた。
According to the present invention, it is possible to provide a digital recording material which can be processed in a bright room or dry processing and has a high image intensity.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に光熱変換剤、熱アルカリ発生
物質及びアルカリにより硬化性が失われる紫外線硬化樹
脂を含有することを特徴とする画像形成材料。
1. An image-forming material comprising, on a support, a photothermal conversion agent, a thermal alkali-generating substance and an ultraviolet curable resin whose curability is lost by alkali.
【請求項2】 透明支持体上にアルカリにより硬化性が
失われる紫外線硬化樹脂層、紫外線吸収層、光熱変換物
質及び熱アルカリ発生物質を含有する層(アルカリ発生
層)をこの順に有する画像形成材料に、光熱変換物質含
有層側から画像状に可視あるいは赤外域の波長の高照度
光を露光し、その後に透明支持体側から紫外線で全面露
光した後、高照度光で露光した部分を除去することを特
徴とする画像形成方法。
2. An image forming material comprising, on a transparent support, an ultraviolet-curable resin layer whose curability is lost by alkali, an ultraviolet-absorbing layer, a layer containing a photothermal conversion substance and a thermal alkali-generating substance (alkali-generating layer) in this order. First, imagewise high-intensity light having a wavelength in the visible or infrared region is exposed imagewise from the light-heat conversion material-containing layer side, and then the entire surface is exposed to ultraviolet light from the transparent support side, and then the portion exposed to high-intensity light is removed. An image forming method comprising:
【請求項3】 支持体上にアルカリにより硬化性が失わ
れる紫外線硬化物質層、光熱変換物質及び熱アルカリ発
生物質を含有する層(アルカリ発生層)、カバーシート
をこの順に有する画像形成材料に、該カバーシート側か
ら画像状に高照度光を照射し、カバーシートと光熱変換
物質含有層を除去し、該紫外線硬化樹脂層側から紫外線
の全面露光を行い、高照度光で露光された部分の紫外線
硬化樹脂層を除去することを特徴とする画像形成方法。
3. An image forming material having a UV curable substance layer whose curability is lost by alkali, a layer containing a photothermal conversion substance and a thermal alkali generating substance (alkali generating layer), and a cover sheet in this order on a support. Irradiate high-intensity light in an image form from the cover sheet side, remove the cover sheet and the light-to-heat conversion material-containing layer, perform full-surface exposure to ultraviolet light from the ultraviolet-curable resin layer side, and expose the portion exposed to high-intensity light. An image forming method comprising removing an ultraviolet curable resin layer.
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