JPH10188351A - Information recording medium - Google Patents

Information recording medium

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JPH10188351A
JPH10188351A JP8348335A JP34833596A JPH10188351A JP H10188351 A JPH10188351 A JP H10188351A JP 8348335 A JP8348335 A JP 8348335A JP 34833596 A JP34833596 A JP 34833596A JP H10188351 A JPH10188351 A JP H10188351A
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JP
Japan
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film
light
recording medium
recording layer
information recording
Prior art date
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Application number
JP8348335A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryohei Miyake
了平 三宅
Masaaki Iwasaki
眞明 岩▲崎▼
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Sony Music Solutions Inc
Original Assignee
Sony Disc Technology Inc
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Publication date
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Priority to JP8348335A priority Critical patent/JPH10188351A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a recording medium having an optical translucent film simple in structure, easy in production and low in light absorption loss by forming the optical translucent film from a silicon compd. and incorporating a specified amount of oxygen and carbon. SOLUTION: The optical semipermeable film 5 is formed on the first recording layer 4 as the silicon compd. film by executing sputtering, etc., under a mixed gas atmosphere containing gaseous oxygen and hydrocarbon based gas such as gaseous methane. The total amount of the oxygen and the carbon incorporated in the optical translucent film 5 is at least within a range of 10-40 atomic % preferably in order to obtain the most suitable light transmitivity and reflectivity. The information recording medium 1 is obtained by forming a space layer 6 on the optical translucent film 5 and sticking a plate in which an aluminum reflective film is formed on a transparent substrate 2 on which the recording layer is formed so that the first and second recording layers 4 and 8 are placed opposite to each other.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多層の記録層を有
し、光半透過膜を備えることにより、同一面から各記録
層の記録信号の読み出しを行う情報記録媒体に係り、特
に光半透過膜に入射する光の透過率と反射率を制御しう
る情報記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an information recording medium having a multi-layered recording layer and a light semi-transmissive film to read recording signals of each recording layer from the same surface. The present invention relates to an information recording medium capable of controlling the transmittance and the reflectance of light incident on a transmission film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、オーディオやビデオ、その他
の各種情報を記録または/および再生を行う情報媒体と
して、図5に示す読み出し専用光ディスクや、図6に示
す書き換え可能光ディスクが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a read-only optical disc shown in FIG. 5 and a rewritable optical disc shown in FIG. 6 have been known as information media for recording and / or reproducing audio, video and other various information.

【0003】図5は、読み出し専用光ディスクの断面構
造を示す概略図である。図5において、読み出し専用光
ディスク11の光照射側面11aは、ポリカーボネート
等の透明基板12によって形成され、この透明基板12
上には、記録データの凹凸ピット13を有する記録層1
4が形成されている。この記録層14上には、アルミニ
ウム蒸着膜等の反射膜15が形成され、この反射膜15
は、紫外線硬化樹脂等の保護膜16によって覆われて保
護されている。
FIG. 5 is a schematic view showing a sectional structure of a read-only optical disk. In FIG. 5, the light irradiation side surface 11a of the read-only optical disk 11 is formed by a transparent substrate 12 made of polycarbonate or the like.
On the recording layer 1 having the concave and convex pits 13 of the recording data
4 are formed. A reflective film 15 such as an aluminum vapor-deposited film is formed on the recording layer 14.
Is covered and protected by a protective film 16 such as an ultraviolet curable resin.

【0004】また図6は、書き換え可能光ディスクの断
面構造を示す概略図である。図6において、書き換え可
能光ディスク21の光照射側面21aは、ポリカーボネ
ート等の透明基板22によって形成され、この透明基板
22上には、高屈折率誘電体のエンハンスト層23およ
び記録層24が順次形成されている。この記録層24上
には、高屈折率誘電体よりなる保護層25を介して、ア
ルミニウム蒸着膜等の反射膜26が形成され、この反射
膜26は、紫外線硬化樹脂等の保護膜27によって覆わ
れて保護されている。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a sectional structure of a rewritable optical disk. In FIG. 6, the light irradiation side surface 21a of the rewritable optical disk 21 is formed of a transparent substrate 22 of polycarbonate or the like. On this transparent substrate 22, an enhanced layer 23 of a high refractive index dielectric and a recording layer 24 are sequentially formed. ing. On the recording layer 24, a reflective film 26 such as an aluminum vapor-deposited film is formed via a protective layer 25 made of a high-refractive index dielectric, and the reflective film 26 is covered with a protective film 27 such as an ultraviolet curable resin. We are protected.

【0005】このように、これらの光ディスク11,2
1の断面構造において、記録層14,24は、それぞれ
単層であった。
As described above, these optical discs 11 and 12
In the sectional structure of No. 1, the recording layers 14 and 24 were each a single layer.

【0006】しかし、利用する情報量の増加に伴って、
光ディスクの単位面積当たりの記録密度を増加させるこ
とが必要となり、デジタルビデオディスク等の次世代光
ディスクにおいては、記録層を多層に形成した高密度光
ディスクの利用が考えられている。
However, as the amount of information used increases,
It is necessary to increase the recording density per unit area of the optical disc, and for next-generation optical discs such as digital video discs, use of a high-density optical disc having a multi-layered recording layer has been considered.

【0007】図7は、高密度光ディスクの断面構造を示
す概略図である。図7において、高密度光ディスク31
は、光照射側に位置される第1の基板32と、非照射側
に位置される第2の基板33とから成っている。第1の
基板32は、ポリカーボネート等の透明基板34上に、
記録データの凹凸ピット35を有する第1の記録層36
を形成し、この第1の記録層36上に、SiN等の光半
透過膜37を形成したものである。一方、第2の基板3
3は、ポリカーボネート等の第2の透明基板38上に、
記録データの凹凸ピット39を有する第2の記録層40
を形成し、この第2の記録層40上に、アルミニウム蒸
着膜等の反射膜41を形成したものである。そして、第
1の基板32および第2の基板33は、光半透過膜37
と反射膜41を相対向させるように、紫外線硬化樹脂等
のスペース層42を介して一体化されている。
FIG. 7 is a schematic view showing a sectional structure of a high-density optical disk. Referring to FIG.
Is composed of a first substrate 32 located on the light irradiation side and a second substrate 33 located on the non-irradiation side. The first substrate 32 is formed on a transparent substrate 34 such as polycarbonate.
First recording layer 36 having concave / convex pits 35 of recording data
And a light semi-transmissive film 37 of SiN or the like is formed on the first recording layer 36. On the other hand, the second substrate 3
3 is on a second transparent substrate 38 such as polycarbonate,
Second recording layer 40 having concave / convex pits 39 of recording data
And a reflective film 41 such as an aluminum vapor-deposited film is formed on the second recording layer 40. Then, the first substrate 32 and the second substrate 33 form a light semi-transmissive film 37.
And a reflection film 41 are opposed to each other via a space layer 42 such as an ultraviolet curable resin.

【0008】このような高密度光ディスク31を実現す
るには、光半透過膜37が極めて重要な要素となる。す
なわち、この光半透過膜37には、20%乃至40%の
反射率と透過率が必要とされ、読み出しの焦点を第1の
記録層36に合わせると第1の記録層36から記録信号
が読み出される。このとき、第2の記録層40には読み
出しの焦点が合っていないため、記録信号が読み出し時
に混じり合うことはない。一方、読み出しの焦点を第2
の記録層40に合わせると、同様に第2の記録層40の
記録信号のみが読み出される。
In order to realize such a high-density optical disk 31, the light translucent film 37 is an extremely important element. That is, the light semi-transmissive film 37 needs a reflectance and a transmittance of 20% to 40%, and when the read focus is set on the first recording layer 36, a recording signal is transmitted from the first recording layer 36. Is read. At this time, the read signal is not focused on the second recording layer 40, so that the recording signals are not mixed at the time of reading. On the other hand, the focus of reading
In this case, only the recording signal of the second recording layer 40 is read out.

【0009】このような光半透過膜37に要求される性
能としては、入射光を有効に利用するために吸収損失が
小さいこと、第1の記録層36と第2の記録層40の間
の戻り光量を等しくするために反射率や透過率が調整で
きること、スペース層42との密着性が良いこと、耐環
境性に優れていることなどがある。
The performance required of such a light semi-transmissive film 37 is that absorption loss is small in order to make effective use of incident light, and that the first recording layer 36 and the second recording layer 40 The reflectance and transmittance can be adjusted to equalize the amount of return light, the adhesion to the space layer 42 is good, and the environment resistance is excellent.

【0010】従来より用いられてきた光反透過膜として
は、金属薄膜を用いたものと、誘電体多層膜を用いたも
のとがあり、それぞれ次のような構造や製造方法が採ら
れている。
Conventionally, there are two types of light transmissive films using a metal thin film and a film using a dielectric multilayer film, and the following structures and manufacturing methods are employed. .

【0011】まず、金属薄膜を用いた光半透過膜につい
て説明する。通常用いられている金属薄膜の組成として
は、金やクロム等が挙げられるが、これらに限らず、薄
膜化が可能な金属であれば種類は問わない。金属の光半
透過膜の製造方法は、ステンレスやアルミニウムによっ
て構築されたチャンバー内に金属材料を載せた加熱ボー
トを収容し、このチャンバー内をロータリーポンプおよ
び油拡散ポンプで高真空に排気した後、加熱ボート上の
金属材料を加熱することにより蒸発させる。加熱蒸発し
た金属は、プラスチック、ガラスおよびセラミック等に
より作製されたターゲット基板に到達し、ターゲット基
板上に凝固して金属薄膜になる。この種の光半透過膜
は、金属薄膜の厚みを調整することにより、入射光の透
過率と反射率を制御するものである。
First, a light translucent film using a metal thin film will be described. The composition of the metal thin film generally used includes gold, chromium, and the like, but is not limited thereto, and any type of metal can be used as long as the metal can be thinned. The method for producing a metal semi-transmissive film is such that a heating boat loaded with a metal material is housed in a chamber constructed of stainless steel or aluminum, and the inside of the chamber is evacuated to a high vacuum with a rotary pump and an oil diffusion pump. The metal material on the heating boat is evaporated by heating. The heated and evaporated metal reaches a target substrate made of plastic, glass, ceramic, or the like, and solidifies on the target substrate to form a metal thin film. This type of semi-transmissive film controls the transmittance and reflectance of incident light by adjusting the thickness of the metal thin film.

【0012】次に、誘電体多層膜を用いた光半透過膜に
ついて説明する。図8に示すように、誘電体多層膜52
は、透明基板51とスペース層55との間に設けられて
おり、低屈折率膜53と高屈折率膜54とを交互に積層
して形成されている。すなわち、誘電体多層膜50と
は、屈折率の異なる透明な誘電体膜53,54を多層に
積層することにより、膜界面での干渉を利用して光の反
射率と透過率を制御するものである。
Next, a light semi-transmissive film using a dielectric multilayer film will be described. As shown in FIG. 8, the dielectric multilayer film 52
Is provided between the transparent substrate 51 and the space layer 55, and is formed by alternately stacking the low-refractive-index films 53 and the high-refractive-index films 54. That is, the dielectric multilayer film 50 is a film in which transparent dielectric films 53 and 54 having different refractive indices are laminated in multiple layers to control light reflectance and transmittance by utilizing interference at the film interface. It is.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】ところで、金属薄膜を
用いた光半透過膜にあっては、図9に示すような問題が
あった。なお、図9において、(a)はクロムの反射率
・透過率の膜厚依存性を示す説明図であり、(b)は金
の反射率・透過率の膜厚依存性を示す説明図である。
By the way, the light semi-transmissive film using the metal thin film has a problem as shown in FIG. 9A is an explanatory diagram showing the film thickness dependence of the reflectance and transmittance of chromium, and FIG. 9B is an explanatory diagram showing the film thickness dependence of the reflectance and transmittance of gold. is there.

【0014】図示するように、金属薄膜は光の吸収係数
が大きいため、反射した光と透過した光との総量が減少
するという問題があった。また、膜厚に対する透過率お
よび反射率の変化が急峻であるため、膜厚の制御を非常
に厳密に行う必要があるという問題があった。これは、
製品の歩留まりを決める大きな要因になっている。
As shown in the figure, since the metal thin film has a large light absorption coefficient, there is a problem that the total amount of reflected light and transmitted light is reduced. Further, since the transmittance and the reflectance change sharply with the film thickness, there is a problem that the film thickness needs to be controlled very strictly. this is,
It is a major factor in determining product yield.

【0015】一方、誘電体多層膜を用いた光半透過膜に
あっては、透明な誘電体膜を使用するため、光の吸収損
失が非常に少なく、任意の透過率と反射率をもつ光半透
過膜を得ることができる。しかし、多層の膜界面での干
渉を利用しているため、各膜厚を精密に制御する必要が
あり、情報記録媒体のような広い面積に均一に成膜する
ことは極めて困難であるという問題があった。また、光
半透過膜として用いるには、多層化する必要があるた
め、製造に長時間を要し、また組成の異なる膜を二種類
必要とするので、成膜装置も複雑に成るという問題があ
った。
On the other hand, in a light semi-transmissive film using a dielectric multilayer film, since a transparent dielectric film is used, light absorption loss is extremely small, and light having arbitrary transmittance and reflectance is obtained. A semi-permeable membrane can be obtained. However, since the interference at the multilayer film interface is used, it is necessary to precisely control each film thickness, and it is extremely difficult to uniformly form a film over a large area such as an information recording medium. was there. Further, in order to use the film as a light semi-transmissive film, it is necessary to form a multilayer, so that it takes a long time to manufacture, and two kinds of films having different compositions are required, so that a film forming apparatus becomes complicated. there were.

【0016】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、構造が簡単で、製造し易く、光の吸収
損失が少ない光半透過膜を有する情報記録媒体を提供す
ることを目的とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to provide an information recording medium having a light semi-transmissive film which has a simple structure, is easy to manufacture, and has a small light absorption loss. It is assumed that.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明によ
れば、多層の記録層を有し、光半透過膜を備えることに
より、同一面から各記録層の記録信号の読み出しを行う
情報記録媒体において、上記光半透過膜が珪素化合物に
より形成され、この珪素化合物に含まれる酸素と炭素と
の総量が少なくとも10原子%乃至40原子%であるこ
とを特徴とする情報記録媒体により、達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, there is provided an information processing apparatus comprising a multi-layered recording layer and a light semi-transmissive film for reading a recording signal of each recording layer from the same surface. In the recording medium, the light semi-transmissive film is formed of a silicon compound, and the total amount of oxygen and carbon contained in the silicon compound is at least 10 to 40 atomic%. Is done.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
を添付図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下に述
べる実施形態は、本発明の好適な形態であるから、技術
的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範
囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記
載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiment described below is a preferred embodiment of the present invention, and therefore, various technically preferable limitations are added. However, the scope of the present invention particularly limits the present invention in the following description. Are not limited to these embodiments unless otherwise described.

【0019】図1は、本発明に係る情報記録媒体の断面
構造の一実施形態を示す概略図である。図1において、
情報記録媒体1は、例えば円板状の光ディスクとして構
成され、その光照射側には、例えばポリカーボネートや
ポリメチルメタクリレート等からなる透明基板2が設け
られている。この透明基板2は、例えば金型内にポリカ
ーボネートやポリメチルメタクリレート等を射出成形す
ることにより円板状に形成され、その上面にはスタンパ
により記録データの凹凸ピット3を有する第1の記録層
4が形成されている。
FIG. 1 is a schematic view showing an embodiment of a cross-sectional structure of an information recording medium according to the present invention. In FIG.
The information recording medium 1 is configured as, for example, a disk-shaped optical disk, and a light-irradiation side is provided with a transparent substrate 2 made of, for example, polycarbonate or polymethyl methacrylate. The transparent substrate 2 is formed in a disk shape by, for example, injection molding polycarbonate, polymethyl methacrylate, or the like in a mold, and has a first recording layer 4 having concave and convex pits 3 of recording data by a stamper on an upper surface thereof. Are formed.

【0020】第1の記録層4上には、酸素ガスとメタン
ガス等の炭化水素系ガスを含む混合ガス雰囲気下で、ス
パッタリング等の成膜方法を実施することにより、珪素
化合物膜として光半透明膜5が成膜されている。したが
って、光半透明膜5には、所定量の酸素と炭素が含まれ
ている。光半透明膜5として最適な光の透過率と反射率
を得るためには、光半透明膜5に含まれる酸素と炭素と
の総量が、少なくとも10原子%乃至40原子%の範囲
であることが好ましい。
On the first recording layer 4, a film forming method such as sputtering is performed in a mixed gas atmosphere containing a hydrocarbon-based gas such as an oxygen gas and a methane gas, so that a light-translucent silicon compound film is formed. The film 5 is formed. Therefore, the light translucent film 5 contains predetermined amounts of oxygen and carbon. In order to obtain the optimal light transmittance and reflectance as the light translucent film 5, the total amount of oxygen and carbon contained in the light translucent film 5 should be at least 10 to 40 atomic%. Is preferred.

【0021】光半透明膜5上には、紫外線硬化樹脂や光
硬化樹脂等よりなる透明なスペース層6が形成されてい
る。このように、記録層を形成した透明基板上にアルミ
ニウム反射膜を成膜した単板を、2つの記録層4,8が
対向するように、貼り合わせることにより、第1の記録
層4と第2の記録層8とを有する情報記録媒体1を作製
した。
On the light translucent film 5, a transparent space layer 6 made of an ultraviolet curable resin, a light curable resin or the like is formed. In this way, the first recording layer 4 and the first recording layer 4 are bonded by bonding the single plate having the aluminum reflection film formed on the transparent substrate on which the recording layer is formed so that the two recording layers 4 and 8 face each other. The information recording medium 1 having the second recording layer 8 was produced.

【0022】このように本実施の形態の情報記録媒体1
は、第1の記録層4と第2の記録層8を有しており、第
1の記録層4上に光半透過膜5を備えることにより、透
明基板2側から各記録層4,8の記録信号の読み出しを
行うものである。そして、その光半透過膜5は、少なく
とも総量で10原子%乃至40原子%の酸素と炭素を含
む珪素化合物よりなり、例えばスパッタリング等の成膜
方法によって、所定の屈折率と所定の膜厚に成膜される
ものである。
As described above, the information recording medium 1 of the present embodiment
Has a first recording layer 4 and a second recording layer 8, and includes a light semi-transmissive film 5 on the first recording layer 4, so that the recording layers 4, 8 The recording signal is read out. The light translucent film 5 is made of a silicon compound containing at least 10 to 40 atomic% of oxygen and carbon in a total amount, and has a predetermined refractive index and a predetermined thickness by a film forming method such as sputtering. The film is formed.

【0023】なお、本実施の形態では、二層の記録層を
有する情報記録媒体1を構成したが、これに限るもので
はなく、三層以上の記録層を有する情報記録媒体として
構成してもよい。
In the present embodiment, the information recording medium 1 having two recording layers has been described. However, the present invention is not limited to this, and may be configured as an information recording medium having three or more recording layers. Good.

【0024】図2は、酸素と炭素を含む珪素化合物を光
半透過膜とした場合の機能を説明するための概略図であ
る。図2において、光半透過膜5は、ポリカーボネート
等により形成された透明基板2と、紫外線硬化樹脂等に
より形成されたスペース層6との間に介設されている。
例えば、透明基板2側から入射した光は、光半透過膜5
内で多重反射を起こし、干渉する。したがって、図3に
示すように、光半透過膜5を通過する光量と反射する光
量は、この光半透過膜5の膜厚と屈折率によって変化す
る。すなわち、屈折率と膜厚を変化させることで、反射
率と透過率を任意に選択することができる。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the function when a silicon compound containing oxygen and carbon is used as the light translucent film. In FIG. 2, a light translucent film 5 is interposed between a transparent substrate 2 formed of polycarbonate or the like and a space layer 6 formed of an ultraviolet curable resin or the like.
For example, light entering from the transparent substrate 2 side is
Cause multiple reflections in the light and interfere. Therefore, as shown in FIG. 3, the amount of light passing through and the amount of light reflected by the light semi-transmissive film 5 vary depending on the thickness and the refractive index of the light semi-transmissive film 5. That is, the reflectance and the transmittance can be arbitrarily selected by changing the refractive index and the film thickness.

【0025】また、図4は、酸素量を一定(3%)と
し、炭素量を変化させたときの光半透過膜の屈折率変
化、および炭素量を一定(6%)とし、酸素量を変化さ
せたときの光半透過膜の屈折率変化を示す説明図であ
る。図4によれば、酸素と炭素の総量が増加するにした
がって、屈折率が小さくなっていくことが判る。
FIG. 4 shows that the amount of oxygen is constant (3%), the refractive index of the light semi-transmissive film is changed when the amount of carbon is changed, and the amount of oxygen is constant (6%). FIG. 4 is an explanatory diagram showing a change in the refractive index of the light semi-transmissive film when the film is changed. FIG. 4 shows that the refractive index decreases as the total amount of oxygen and carbon increases.

【0026】このときの屈折率と膜厚の最適値は、次の
ようにして決められる。屈折率は、透明基板2側からみ
て第1の記録層4と第2の記録層8からの戻り光量が等
しくなるように設定する。また、膜厚は、面内において
均一な戻り光量を得るために、膜厚の変化に対して反射
率と透過率の変化が最も少ない値に設定する。さらに、
酸素と炭素の比率は、スペース層6との密着性が最適に
なるように考慮して定められる。
The optimum values of the refractive index and the film thickness at this time are determined as follows. The refractive index is set so that the amount of return light from the first recording layer 4 and the second recording layer 8 is equal when viewed from the transparent substrate 2 side. Further, the film thickness is set to a value that minimizes the change in reflectance and transmittance with respect to the change in film thickness in order to obtain a uniform return light amount in the plane. further,
The ratio between oxygen and carbon is determined in consideration of the optimum adhesion with the space layer 6.

【0027】すなわち、光半透過膜5には、20%乃至
40%の反射率と透過率が必要とされるので、図3に示
す膜厚と反射率と屈折率との関係から20%乃至40%
の反射率に対する膜厚および屈折率をを最適値に選択
し、図4に示す酸素,炭素含有量と屈折率との関係を応
用して、酸素と炭素の総量を10原子%から40原子%
に規定するものである。
That is, since the light semi-transmissive film 5 needs a reflectance and a transmittance of 20% to 40%, the light transmissive film 5 has a reflectance and a refractive index of 20% to 40% as shown in FIG. 40%
The film thickness and the refractive index with respect to the reflectance are selected to the optimum values, and the relationship between the oxygen and carbon contents and the refractive index shown in FIG. 4 is applied to make the total amount of oxygen and carbon 10 atomic% to 40 atomic%.
It is specified in.

【0028】特に、光半透過膜5に炭素をドーピングす
る際に、炭化水素系のガスを用いるので、光半透過膜5
中に水素が取り込まれることになり、この水素によって
珪素の未結合手が終端されるため、経時変化が小さくな
るという利点がある。
In particular, when doping carbon into the light semi-transmissive film 5, a hydrocarbon-based gas is used.
Hydrogen is taken in, and the dangling bonds of silicon are terminated by the hydrogen, so that there is an advantage that the change with time is reduced.

【0029】[0029]

【実施例】【Example】

実施例1 実施例1の情報記録媒体は、図1に示した情報記録媒体
と近似した断面構造を有しているため、同一の符号は同
一部材を示している。透明基板2の材質には、ポリカー
ボネートを採用する。まず、金型内にポリカーボネート
を射出成形して、スタンパにより凹凸ピット3を有する
第1の記録層4の形成された透明基板2を作製した。
Embodiment 1 The information recording medium of Embodiment 1 has a cross-sectional structure similar to that of the information recording medium shown in FIG. 1, and therefore, the same reference numerals indicate the same members. Polycarbonate is used as the material of the transparent substrate 2. First, polycarbonate was injection-molded in a mold, and a transparent substrate 2 on which a first recording layer 4 having uneven pits 3 was formed by a stamper was produced.

【0030】次に、この透明基板2をスパッタリング装
置のチャンバー内に導入して陽極に設置すると共に、陰
極に珪素ターゲットを設置した。この珪素ターゲット
は、その導電性を高めるため、ボロンがドーピングされ
ている。
Next, the transparent substrate 2 was introduced into a chamber of a sputtering apparatus and set on an anode, and a silicon target was set on a cathode. This silicon target is doped with boron to increase its conductivity.

【0031】そして、チャンバー内を十分に排気した
後、15sccmのアルゴンガスに3sccmの酸素ガ
スと2sccmのメタンガスを混入した混合ガスをチャ
ンバーのガス入口から導入し、RF重畳DC反応性スパ
ッタを行って、透明基板2の第1の記録層4上に光半透
過膜5を成膜した。光半透過膜5の成膜は、7nm/秒
の成膜速度で8秒間行った。その結果、光半透過膜5と
して、酸素を19原子%、炭素を4原子%含んだ珪素化
合物膜を56nmの厚さで成膜した。
After sufficiently exhausting the chamber, a mixed gas of 15 sccm argon gas mixed with 3 sccm oxygen gas and 2 sccm methane gas was introduced from the gas inlet of the chamber, and RF superposed DC reactive sputtering was performed. Then, a light semi-transmissive film 5 was formed on the first recording layer 4 of the transparent substrate 2. The light semi-transmissive film 5 was formed at a film forming speed of 7 nm / sec for 8 seconds. As a result, a silicon compound film containing 19 atomic% of oxygen and 4 atomic% of carbon was formed with a thickness of 56 nm as the light semi-transmissive film 5.

【0032】この珪素化合物膜からなる光半透過膜5
は、屈折率n=2.95を有していた。この光半透過膜
5上に紫外線硬化樹脂よりなるスペース層6を47ミク
ロンの厚さで形成する。このように記録層を形成した透
明基板上にアルミニウム反射膜を成膜した単板を、2つ
の記録層4,8が対向するように、貼り合わせることに
より、第1の記録層4と第2の記録層8とを有する光デ
ィスク1を作製した。
Light semi-transmissive film 5 made of this silicon compound film
Had a refractive index n = 2.95. On this light semi-transmissive film 5, a space layer 6 made of an ultraviolet curing resin is formed with a thickness of 47 microns. The first recording layer 4 and the second recording layer 4 and 8 are bonded together such that the two recording layers 4 and 8 are opposed to each other on a single plate having an aluminum reflective film formed on the transparent substrate on which the recording layer is formed. The optical disc 1 having the recording layer 8 was manufactured.

【0033】以上のようにして作製した光ディスク1の
反射率を測定したところ、第1の記録層4の反射率が2
9%であり、第2の記録層8の反射率が32%であっ
た。また、この光ディスク1は、光ピックアップにより
第1の記録層4または第2の記録層8に焦点を合わせる
と、それぞれに記録したデータを良好に読み出すことが
できた。
When the reflectance of the optical disk 1 manufactured as described above was measured, the reflectance of the first recording layer 4 was 2
9%, and the reflectance of the second recording layer 8 was 32%. When the optical disc 1 was focused on the first recording layer 4 or the second recording layer 8 by the optical pickup, the data recorded on each of the optical discs 1 could be read satisfactorily.

【0034】実施例2 実施例2の情報記録媒体は、図1に示した情報記録媒体
と近似した断面構造を有しているため、同一の符号は同
一部材を示している。透明基板2の材質には、ポリカー
ボネイトを採用する。まず、金型内にポリカーボネイト
を射出成形して、スタンパにより凹凸ピット3を有する
第1の記録層4の形成された透明基板2を作製した。
Embodiment 2 The information recording medium of Embodiment 2 has a cross-sectional structure similar to that of the information recording medium shown in FIG. 1, and the same reference numerals denote the same members. The material of the transparent substrate 2 is polycarbonate. First, polycarbonate was injection-molded in a mold to produce a transparent substrate 2 on which a first recording layer 4 having uneven pits 3 was formed by a stamper.

【0035】次に、この透明基板2をスパッタリング装
置のチャンバー内に導入して陽極に設置すると共に、陰
極に珪素ターゲットを設置した。この珪素ターゲット
は、その導電性を高めるため、ボロンがドーピングされ
ている。
Next, the transparent substrate 2 was introduced into a chamber of a sputtering apparatus and set on an anode, and a silicon target was set on a cathode. This silicon target is doped with boron to increase its conductivity.

【0036】そして、チャンバー内を十分に排気した
後、20sccmのアルゴンガスに4sccmの酸素ガ
スと3sccmのメタンガスを混入した混合ガスをチャ
ンバーのガス入口から導入し、RF重畳DC反応性スパ
ッタを行って、透明基板2の第1の記録層4上に光半透
過膜5を成膜した。光半透過膜5の成膜は、9nm/秒
の成膜速度で6秒間行った。その結果、光半透過膜5と
して、酸素を21原子%、炭素を5原子%含んだ珪素化
合物膜を54nmの厚さで成膜した。
After sufficiently exhausting the inside of the chamber, a mixed gas obtained by mixing 4 sccm oxygen gas and 3 sccm methane gas into 20 sccm argon gas is introduced from the gas inlet of the chamber, and RF superposed DC reactive sputtering is performed. Then, a light semi-transmissive film 5 was formed on the first recording layer 4 of the transparent substrate 2. The light semi-transmissive film 5 was formed at a film forming speed of 9 nm / sec for 6 seconds. As a result, a silicon compound film containing 21 atomic% of oxygen and 5 atomic% of carbon was formed as the light semi-transmissive film 5 to a thickness of 54 nm.

【0037】この珪素化合物膜からなる光半透過膜5
は、屈折率n=2.90を有していた。この光半透過膜
5上に紫外線硬化樹脂よりなるスペース層6を47ミク
ロンの厚さで形成した。このように記録層を形成した透
明基板上にアルミニウム反射膜を成膜した単板を、2つ
の記録層4,8が対向するように、貼り合わせることに
より、第1の記録層4と第2の記録層8とを有する光デ
ィスク1を作製した。
The light semi-transmissive film 5 made of this silicon compound film
Had a refractive index n = 2.90. On this light semi-transmissive film 5, a space layer 6 made of an ultraviolet curable resin was formed with a thickness of 47 microns. The first recording layer 4 and the second recording layer 4 and 8 are bonded together such that the two recording layers 4 and 8 are opposed to each other on a single plate having an aluminum reflective film formed on the transparent substrate on which the recording layer is formed. The optical disc 1 having the recording layer 8 was manufactured.

【0038】以上のようにして作製した光ディスク1の
反射率を測定したところ、第1の記録層4の反射率が2
6%であり、第2の記録層8の反射率が35%であっ
た。また、この光ディスク1は、光ピックアップにより
第1の記録層4または第2の記録層8に焦点を合わせる
と、それぞれに記録したデータを良好に読み出すことが
できた。
When the reflectance of the optical disk 1 manufactured as described above was measured, the reflectance of the first recording layer 4 was 2
6%, and the reflectance of the second recording layer 8 was 35%. When the optical disc 1 was focused on the first recording layer 4 or the second recording layer 8 by the optical pickup, the data recorded on each of the optical discs 1 could be read satisfactorily.

【0039】以上述べたように、本発明の実施の形態及
び実施例によれば、光半透過膜5を所定量の酸素と炭素
を含む珪素化合物によって構成し、その屈折率と膜厚を
最適値に選択することにより、所定の反射率と透過率を
有する光半透過膜5を得ることができ、大容量の光ディ
スク1に必要とされる多層の記録層を実現することがで
きた。
As described above, according to the embodiments and examples of the present invention, the light semi-transmissive film 5 is made of a silicon compound containing a predetermined amount of oxygen and carbon, and its refractive index and film thickness are optimized. By selecting a value, a light semi-transmissive film 5 having a predetermined reflectance and transmittance can be obtained, and a multilayer recording layer required for the large-capacity optical disc 1 can be realized.

【0040】この光ディスク1は、構造が簡単で、製造
し易く、かつスペース層6との密着性に優れるために経
時変化が少なく、光の吸収損失が少ないという優れた性
能を有するものである。
The optical disc 1 has a simple structure, is easy to manufacture, and has excellent performance in that it has little change over time and little light absorption loss due to its excellent adhesion to the space layer 6.

【0041】[0041]

【発明の効果】かくして、本発明によれば、構造が簡単
で、製造し易く、光の吸収損失が少ない光半透過膜を有
する情報記録媒体を提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide an information recording medium having a light semi-transmissive film which has a simple structure, is easy to manufacture, and has a small light absorption loss.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る情報記録媒体の一実施形態の断面
構造を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an embodiment of an information recording medium according to the present invention.

【図2】本実施形態において、酸素と炭素を含む珪素化
合物を光半透過膜とした場合の機能を説明するための概
念図である。
FIG. 2 is a conceptual diagram for explaining a function when a silicon compound containing oxygen and carbon is used as a light semi-transmissive film in the present embodiment.

【図3】本実施形態において、膜厚と反射率と屈折率と
の関係を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a relationship among a film thickness, a reflectance, and a refractive index in the present embodiment.

【図4】本実施形態において、酸素,炭素含有量と屈折
率との関係を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a relationship between oxygen and carbon contents and a refractive index in the present embodiment.

【図5】従来の読み出し専用光ディスクの断面構造を示
す概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a conventional read-only optical disc.

【図6】従来の書き換え可能光ディスクの断面構造を示
す概略図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of a conventional rewritable optical disk.

【図7】従来の高密度光ディスクの断面構造を示す概略
図である。
FIG. 7 is a schematic view showing a cross-sectional structure of a conventional high-density optical disk.

【図8】従来の誘電体多層膜を用いた光半透過膜を示す
概略図である。
FIG. 8 is a schematic view showing a conventional light semi-transmissive film using a dielectric multilayer film.

【図9】従来の金属薄膜を用いた光半透過膜において、
(a)はクロムの反射率・透過率の膜厚依存性を示す説
明図であり、(b)は金の反射率・透過率の膜厚依存性
を示す説明図である。
FIG. 9 shows a conventional light translucent film using a metal thin film.
(A) is an explanatory diagram showing the film thickness dependence of the reflectance and transmittance of chromium, and (b) is an explanatory diagram showing the film thickness dependence of the reflectance and transmittance of gold.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・情報記録媒体、2・・・透明基板、3・・・凹
凸ピット、4・・・第1の記録層、5・・・光半透明
膜、6・・・スペース層、7・・・凹凸ピット、8・・
・第2の記録層、9・・・全反射膜、10・・・保護膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Information recording medium, 2 ... Transparent substrate, 3 ... Uneven pits, 4 ... First recording layer, 5 ... Optical translucent film, 6 ... Space layer, 7 ..Uneven pits, 8.
・ Second recording layer, 9: total reflection film, 10: protective film

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多層の記録層を有し、光半透過膜を備え
ることにより、同一面から各記録層の記録信号の読み出
しを行う情報記録媒体において、 上記光半透過膜が珪素化合物により形成され、この珪素
化合物に含まれる酸素と炭素との総量が少なくとも10
原子%乃至40原子%であることを特徴とする情報記録
媒体。
1. An information recording medium having a multi-layer recording layer and a light semi-transmissive film to read a recording signal of each recording layer from the same surface, wherein the light semi-transmissive film is formed of a silicon compound. And the total amount of oxygen and carbon contained in the silicon compound is at least 10
An information recording medium characterized by being at least 40 atomic%.
【請求項2】 前記光半透過膜の主成分である珪素への
炭素のドーピングが、炭化水素系ガスを含む雰囲気下で
行われ、珪素の未結合手が膜中に取り込まれた水素によ
って終端されている請求項1に記載の情報記録媒体。
2. Doping of carbon, which is a main component of the light translucent film, with silicon is performed in an atmosphere containing a hydrocarbon gas, and dangling bonds of silicon are terminated by hydrogen taken into the film. The information recording medium according to claim 1, wherein
【請求項3】 前記光半透過膜の屈折率が、各記録層か
ら光照射側への戻り光量がほぼ等しくなるように設定さ
れる請求項1に記載の情報記録媒体。
3. The information recording medium according to claim 1, wherein the refractive index of the light semi-transmissive film is set such that the amount of light returning from each recording layer to the light irradiation side is substantially equal.
【請求項4】 前記光半透過膜の屈折率が、各記録層か
ら光照射側への戻り光量がほぼ等しくなるように設定さ
れる請求項2に記載の情報記録媒体。
4. The information recording medium according to claim 2, wherein the refractive index of the light semi-transmissive film is set such that the amount of light returning from each recording layer to the light irradiation side is substantially equal.
【請求項5】 前記光半透過膜の膜厚が、膜厚の変化に
対して反射率と透過率の変化が最も少ない値に設定され
る請求項1に記載の情報記録媒体。
5. The information recording medium according to claim 1, wherein the thickness of the light semi-transmissive film is set to a value at which a change in reflectance and a change in transmittance with respect to a change in the film thickness are smallest.
【請求項6】 前記光半透過膜の膜厚が、膜厚の変化に
対して反射率と透過率の変化が最も少ない値に設定され
る請求項2に記載の情報記録媒体。
6. The information recording medium according to claim 2, wherein the thickness of the light semi-transmissive film is set to a value at which a change in reflectance and a change in transmittance with respect to a change in film thickness are smallest.
【請求項7】 前記光半透過膜の膜厚が、膜厚の変化に
対して反射率と透過率の変化が最も少ない値に設定され
る請求項3に記載の情報記録媒体。
7. The information recording medium according to claim 3, wherein the thickness of the light semi-transmissive film is set to a value at which a change in reflectance and a change in transmittance with respect to a change in the film thickness are smallest.
【請求項8】 前記光半透過膜の膜厚が、膜厚の変化に
対して反射率と透過率の変化が最も少ない値に設定され
る請求項4に記載の情報記録媒体。
8. The information recording medium according to claim 4, wherein the thickness of the light semi-transmissive film is set to a value in which a change in reflectance and a change in transmittance with respect to a change in the film thickness are smallest.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6606293B1 (en) 1999-01-11 2003-08-12 Nec Corporation Optical information recording medium and methods for recording, reading, and erasing information thereupon
KR100619004B1 (en) * 2000-07-10 2006-08-31 삼성전자주식회사 high density optical disk

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