JPH10186391A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JPH10186391A
JPH10186391A JP34942996A JP34942996A JPH10186391A JP H10186391 A JPH10186391 A JP H10186391A JP 34942996 A JP34942996 A JP 34942996A JP 34942996 A JP34942996 A JP 34942996A JP H10186391 A JPH10186391 A JP H10186391A
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JP
Japan
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liquid crystal
display device
electrode
crystal display
film
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Pending
Application number
JP34942996A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masato Oe
昌人 大江
Kikuo Ono
記久雄 小野
Masuyuki Ota
益幸 太田
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To attain the compatibility between a wide visual field angle and display uniformity inconspicuous in display abnormality, by forming an oriented layer on at least one surface of a liquid crystal layer, specifying the specific resistance of this liquid crystal layer, and forming a part of electrode structure in direct contact with the oriented film. SOLUTION: Two sheets of transparent glass substrates having polished surfaces are used as substrates SUB1, 2. A thin-film transistors is formed on the one substrate of these substrates SUB1, 2. A silicon nitride film which is an insulating film is formed thereon. A pixel electrode, which is a slender wire-shaped or belt-like electrode and a common electrode are formed as the electrode structure for driving liquid crystal on the insulating film. Further, an oriented film is applied thereon. In such a case, the oriented film is formed on at least one surface of the liquid crystal layer and the specific resistance of the liquid crystal layer is >=10<13> Ω.cm. The electrode structure is partly formed in direct contact therewith.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は基板に対し平行な電
界を印加する液晶表示方式において、広視野角、液晶の
低抵抗に基づく表示異常の改善、液晶のコスト低減を両
立するアクティブマトリクス型液晶表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display system in which a parallel electric field is applied to a substrate. It relates to a display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の液晶表示装置においては、液晶を
駆動する電極を2枚の基板表面上に形成し、相対向させ
た電極を用いていた。これは液晶に基板に垂直な方向の
電界を印加することで動作させる、ツイステッドネマチ
ック表示方式に代表される表示方式を採用していること
による。この場合、電極はITO(Indium Tin Oxideイ
ンジウム チン オキサイド)などの透明電極を用いる。
2. Description of the Related Art In a conventional liquid crystal display device, electrodes for driving liquid crystal are formed on the surface of two substrates, and electrodes which are opposed to each other are used. This is because a display method typified by a twisted nematic display method, which operates by applying an electric field in a direction perpendicular to the substrate to the liquid crystal, is employed. In this case, a transparent electrode such as ITO (Indium Tin Oxide) is used for the electrode.

【0003】一方、液晶に印加する電界の方向を基板に
対してほぼ平行な方向にする方式(以下、横電界方式と
称する)として、1枚の基板上に設けた櫛歯電極を用い
た方式が、特公昭63−21907号公報、米国特許第
4345249号により提案されている。
On the other hand, as a method of making the direction of an electric field applied to the liquid crystal substantially parallel to the substrate (hereinafter referred to as a lateral electric field method), a method using a comb-shaped electrode provided on one substrate. Has been proposed in Japanese Patent Publication No. 63-21907 and U.S. Pat. No. 4,345,249.

【0004】この場合、電極は透明である必要はなく、
導電性が高く不透明な金属電極が用いられる。また、ア
クティブ素子を用いた横電界方式において、液晶の比抵
抗を1×10 Ω・cm より小さくするとする規定
が、特開平7−33341号公報、特開平7−3064
17号公報に記載されている。
In this case, the electrodes need not be transparent,
An opaque metal electrode having high conductivity is used. Further, in the horizontal electric field method using an active element, defined to the specific resistance of the liquid crystal is less than 1 × 10 1 3 Ω · cm is, JP-A 7-33341, JP-A No. 7-3064
No. 17 publication.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】液晶の配向方向を上下
基板で同一方向とする横電界方式では、電圧無印加のと
き黒表示を行い、電圧印加時に白表示を行うノーマリー
ブラック方式を一般的に採用している。
In a lateral electric field system in which the liquid crystal is aligned in the same direction on the upper and lower substrates, a normally black system in which black display is performed when no voltage is applied and white display is performed when a voltage is applied is generally used. Has been adopted.

【0006】この方式では従来のツイステッドネマチッ
ク方式が採用している電圧無印加時に白表示を行うノー
マリーホワイト方式に比べ、長時間動作後、例えば、白
表示時に局所的に黒いむらが発生するという表示異常が
顕著になるという問題がある。
In this system, black unevenness occurs locally after a long operation, for example, in white display, as compared to the normally white system in which white display is performed when no voltage is applied, which is adopted in the conventional twisted nematic system. There is a problem that display abnormalities become remarkable.

【0007】また、液晶のホモジニアス配向では僅かな
配向異常が表示の不具合になるということも顕著とな
る。さらに、通常アクティブ素子を用いて液晶を駆動さ
せる方式の場合、電極やアクティブ素子の保護を目的と
する絶縁膜を形成する。
In addition, in the homogeneous alignment of liquid crystal, it is remarkable that slight alignment abnormality causes display failure. Furthermore, in the case of a method of driving liquid crystal using an active element, an insulating film for protecting electrodes and the active element is formed.

【0008】しかしながら、従来型の横電界方式の液晶
表示装置では、この絶縁膜が液晶を駆動させる電極を覆
う形で具備されていると、光学的な電圧保持率が小さく
なるという欠点を生じさせる。つまり、横電界方式にお
ける本来の特徴である低抵抗液晶でも電圧保持率が大き
いことが電気的には失われないものの、光学的には小さ
い電圧保持率となってしまうという問題がある。したが
って、局部的な汚染によって光学的な電圧保持率が低下
し、表示異常として認識されるという問題が発生する。
However, in the conventional in-plane switching mode liquid crystal display device, if the insulating film is provided so as to cover the electrodes for driving the liquid crystal, there is a disadvantage that the optical voltage holding ratio is reduced. . That is, although a large voltage holding ratio is not electrically lost even in a low-resistance liquid crystal which is an original feature of the horizontal electric field method, there is a problem that the voltage holding ratio is optically small. Therefore, there is a problem that the optical voltage holding ratio is reduced due to local contamination, and the display is recognized as abnormal display.

【0009】また、絶縁膜には直流が溜りやすく、液晶
の比抵抗を高々10 Ω・cm 程度の低比抵抗の液晶
材料を用いて、液晶内のイオン等による絶縁膜に残留す
る直流成分の補償を行わないと残像が発生してしまう。
したがって、絶縁膜が液晶を駆動させる電極を覆う形で
具備されている従来型の横電界方式では低比抵抗の液晶
材料を使用しなければならないという制約もあった。こ
れは液晶の汚染性が大きいということにもつながり表示
品質を損なう一因でもあった。なお、一般的に比抵抗値
の小さい液晶は汚染されやすいために抵抗値が上がらな
い傾向がある。
Further, the direct current is easily accumulate in the insulating film, the specific resistance of the liquid crystal using at most 10 1 2 Ω · cm about the low resistivity liquid crystal material, remaining on the insulating film by ions in the liquid crystal DC If the components are not compensated, an afterimage will occur.
Therefore, in the conventional lateral electric field method in which the insulating film covers the electrodes for driving the liquid crystal, there is a restriction that a liquid crystal material having a low specific resistance must be used. This leads to high contamination of the liquid crystal, which is one of the causes of deteriorating the display quality. In general, a liquid crystal having a small specific resistance value is liable to be contaminated, and thus the resistance value does not tend to increase.

【0010】本発明はこれら問題を解決し、広視野角と
表示異常が目立たない表示均一性を両立する横電界方式
アクティブマトリクス型液晶表示装置に関する。
The present invention relates to a lateral electric field type active matrix type liquid crystal display device which solves these problems and achieves both a wide viewing angle and display uniformity in which display abnormalities are not noticeable.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決し、上記
目的を達成するために本発明では以下の手段を用いる。
Means for Solving the Problems In order to solve the above problems and achieve the above object, the present invention uses the following means.

【0012】手段1としては、ツイツト可能な構造を有
する液晶からなる液晶層と、該液晶層を挟持する2枚の
基板と、該液晶層が映像を表示するための表面を有し、
該表面とほぼ平行な成分を持つ電界を発生させる電極構
造と、該電界で制御されて、切換わる映像を表示する液
晶表示装置において、該液晶層の少なくとも一方の表面
上に配向層が形成され、該液晶層の比抵抗が10 Ω
・cm以上で、該電極構造の一部分が該配向膜に直接接
して形成されていることを特徴とする。
Means 1 include a liquid crystal layer composed of a liquid crystal having a structure capable of being twisted, two substrates sandwiching the liquid crystal layer, and the liquid crystal layer having a surface for displaying an image,
In an electrode structure for generating an electric field having a component substantially parallel to the surface, and in a liquid crystal display device that displays an image switched by being controlled by the electric field, an alignment layer is formed on at least one surface of the liquid crystal layer. the specific resistance of the liquid crystal layer 10 1 3 Omega
Cm or more, a part of the electrode structure is formed directly in contact with the alignment film.

【0013】手段2としては、手段1において、前記電
極構造は、画素電極と対向電極からなり、アクティブ素
子を覆う保護膜と前記配向膜の間に形成されることを特
徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the electrode structure includes a pixel electrode and a counter electrode, and is formed between a protective film covering an active element and the alignment film.

【0014】手段3としては、手段1において、前記液
晶の組成物は、フルオロ基を有するフッ素系液晶を主体
とする。
According to a third aspect, in the first aspect, the composition of the liquid crystal is mainly composed of a fluorine-based liquid crystal having a fluoro group.

【0015】手段4としては、手段1ないし3のいずれ
かにおいて、前記液晶の組成物は、末端にシアノ基を有
する液晶化合物が1%以下混入されていることを特徴と
する。
Means 4 is characterized in that, in any one of means 1 to 3, the liquid crystal composition contains 1% or less of a liquid crystal compound having a cyano group at a terminal.

【0016】手段5としては、手段1ないし3のいずれ
かにおいて、前記配向膜の残留溶媒が100ppm以下
であることを特徴とする。
Means 5 is characterized in that in any one of means 1 to 3, the residual solvent in the alignment film is 100 ppm or less.

【0017】手段6としては、手段1ないし3のいずれ
かにおいて、前記配向膜ののイミド化率が65%以上で
あることを特徴とする。
The means 6 is characterized in that in any one of the means 1 to 3, the imidation ratio of the alignment film is 65% or more.

【0018】手段7としては、手段1において、前記電
極構造の形成されていない一方の基板において、液晶の
駆動に影響を与えない導電層を少なくとも一層具備され
ていることを特徴とする。
The means 7 is characterized in that, in the means 1, the at least one conductive layer which does not affect the driving of the liquid crystal is provided on one of the substrates on which the electrode structure is not formed.

【0019】手段1から3の作用は、以下の通りであ
る。
The operation of the means 1 to 3 is as follows.

【0020】液晶の比抵抗値は、外的要因による液晶の
汚染されやすさと大きな相関があることが知られてい
る。一般に、精製しても抵抗値の上がらない低抵抗液晶
では、水分などの外的要因に左右されて汚染され、抵抗
値が下がる。
It is known that the specific resistance of the liquid crystal has a great correlation with the liability of contamination of the liquid crystal due to external factors. In general, a low-resistance liquid crystal, whose resistance value does not increase even after purification, is contaminated by external factors such as moisture, and its resistance value decreases.

【0021】従来の横電界方式の液晶表示装置では、表
示面内において異物などにより局部的に液晶が汚染され
ることがあり、その局部的に汚染された液晶が黒むら等
の表示むら異常の原因のひとつになっている。
In the conventional in-plane switching type liquid crystal display device, the liquid crystal may be locally contaminated by foreign matter or the like on the display surface, and the locally contaminated liquid crystal may cause abnormal display unevenness such as black unevenness. It is one of the causes.

【0022】液晶を駆動する電極を覆う絶縁膜は、光学
的電圧保持率を低下させる原因であることが分かった。
また、この絶縁膜は直流電圧を残留させやすく、この残
留直流成分を補償するために抵抗の小さい液晶を使用し
なければならないという目的もある。
It has been found that the insulating film covering the electrodes for driving the liquid crystal is a cause of lowering the optical voltage holding ratio.
The insulating film also tends to cause a DC voltage to remain, and another object is to use a liquid crystal having a small resistance to compensate for the residual DC component.

【0023】したがって、電極上にある絶縁膜を除けば
直流電圧成分が絶縁膜に残留しにくく、この場合高抵抗
の液晶を用いることができる。そして、このことで局部
的に発生する表示異常を大幅に改善することができるこ
とを見出した。また、高抵抗液晶を使用することによっ
て液晶の封入を繰り返し行うこともできコスト低減にも
効果がある。
Therefore, a DC voltage component hardly remains on the insulating film except for the insulating film on the electrode. In this case, a liquid crystal having high resistance can be used. Then, it has been found that the display abnormality that occurs locally can be greatly improved by this. Further, by using a high-resistance liquid crystal, the liquid crystal can be repeatedly sealed, which is effective in cost reduction.

【0024】手段4の作用としては、以下の通りであ
る。
The operation of the means 4 is as follows.

【0025】高抵抗液晶は末端にフルオロ基を有してい
るフッ素系液晶のみの混合系で達成されやすい。しかし
ながら、フッ素系液晶では一般に10 Ω・cm程度
の高抵抗になりやすい。
The high-resistance liquid crystal is easily achieved by a mixed system of only a fluorine-based liquid crystal having a terminal fluoro group. However, in general prone to high resistance of about 10 1 4 Ω · cm is a fluorine-based liquid crystal.

【0026】この場合静電気の影響がでてしまうため、
1%以下のシアノ基を含む液晶化合物を混入させること
でこれを改善することができる。
In this case, since the influence of static electricity occurs,
This can be improved by mixing a liquid crystal compound containing 1% or less of a cyano group.

【0027】手段5ないし6の作用としては、以下の通
りである。
The operation of the means 5 or 6 is as follows.

【0028】前述のように低抵抗の液晶では、画素内に
残留する直流を相殺する機能があり、残留直流電圧に基
づく残像の問題はあまり大きくはなかった。しかしなが
ら、このように高抵抗の液晶を用いると残留直流電圧に
基づく残像が顕在化する。したがって、この場合配向膜
は残留直流電圧の緩和が速い、あるいは残留する直流電
圧の小さい配向膜を使用することにより、高抵抗の液晶
によって残像を顕著化することはなく低残像と表示むら
異常の低減を両立することができる。
As described above, the liquid crystal having a low resistance has a function of canceling the DC remaining in the pixel, and the problem of the afterimage based on the residual DC voltage is not so large. However, when such a high-resistance liquid crystal is used, an afterimage based on the residual DC voltage becomes apparent. Therefore, in this case, by using an alignment film in which the residual DC voltage is quickly relaxed, or in which the residual DC voltage is small, the after-image is not remarkable by the high-resistance liquid crystal, and the after-image and uneven display are abnormal. Reduction can be compatible.

【0029】手段7の作用としては、以下の通りであ
る。
The operation of the means 7 is as follows.

【0030】高抵抗の液晶を用いる場合、本例の横電界
方式では、一方の基板には電極が全く無いため、静電気
による不均一性がより顕著になる。そこで、電極が形成
されていない前記一方の基板側に液晶の駆動に影響を与
えないような導電性あるいは抵抗の小さい絶縁性の薄膜
を少なくとも一層設けることにより、高抵抗液晶を使用
することによる静電気の問題は解消する。
When a high-resistance liquid crystal is used, in the lateral electric field method of this embodiment, since one of the substrates has no electrode, the non-uniformity due to static electricity becomes more remarkable. Therefore, by providing at least one conductive or low-resistance insulating thin film that does not affect the driving of the liquid crystal on the one substrate side on which the electrodes are not formed, the static electricity caused by using the high-resistance liquid crystal is provided. Problem is solved.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】本発明を実施例により具体的に説
明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described by way of examples.

【0032】〔実施例1〕図1に本発明におけるアクテ
ィブマトリクス表示装置の全体の概念図を示す。なお、
図10にはアクティブ素子と駆動回路部の概念図を示
す。
[Embodiment 1] FIG. 1 is a conceptual diagram of the whole active matrix display device according to the present invention. In addition,
FIG. 10 shows a conceptual diagram of an active element and a drive circuit unit.

【0033】基板SUB1、SUB2としては、厚みが
1.1mmで表面を研磨した透明なガラス基板を2枚用
いる。これらの基板のうち一方の基板の上に薄膜トラン
ジスタを形成し、この上には絶縁膜である窒化シリコン
膜PSVを形成した。
As the substrates SUB1 and SUB2, two transparent glass substrates having a thickness of 1.1 mm and a polished surface are used. A thin film transistor was formed on one of these substrates, and a silicon nitride film PSV as an insulating film was formed thereon.

【0034】液晶を駆動するための電極構造として、細
長い線状あるいは帯状の電極である画素電極PXと共通
電極CTとをこの絶縁膜PSVの上に形成し、更にこの
上に配向膜ORI1を塗布した。
As an electrode structure for driving the liquid crystal, a pixel electrode PX and a common electrode CT, which are elongated linear or band-like electrodes, are formed on the insulating film PSV, and an alignment film ORI1 is further coated thereon. did.

【0035】なお、配向膜や液晶に直接接する画素電極
PXと共通電極CTとは、配向膜の残留溶媒等に対する
化学反応や金属の腐食を考慮して透明電極となるITO
材を用いた。
The pixel electrode PX and the common electrode CT which are in direct contact with the alignment film or the liquid crystal are formed of an ITO which becomes a transparent electrode in consideration of a chemical reaction of the alignment film with a residual solvent and the like and corrosion of metal.
Material was used.

【0036】本実施例では、アクティブ素子が形成され
る基板SUB1側では、配向膜ORI1としてポリイミ
ドを採用し、その表面を液晶を配向させるためのラビン
グ処理をした。また、他方の基板SUB2側には、ブラ
ックマトリクス付きカラーフィルターを形成し、最表面
にポリイミドの配向膜ORI2を塗布し、同様のラビン
グ処理をした。
In this embodiment, polyimide is used as the alignment film ORI1 on the side of the substrate SUB1 on which the active element is formed, and a rubbing process is performed on the surface to align the liquid crystal. On the other substrate SUB2 side, a color filter with a black matrix was formed, and an alignment film ORI2 of polyimide was applied on the outermost surface, and the same rubbing treatment was performed.

【0037】また、配向膜の焼成温度は、ピーク温度値
で、200〜240℃の範囲で、約5〜10分保持する
ことで、配向膜の残留溶媒が100ppm以下、イミド
化率が65%以上となるように設定し、過酷な条件で長
時間使用しても黒むら等の表示むら不良が発生しないよ
うにしている。なお、配向膜の膜厚は、約0.05〜
0.15μmの範囲内で膜厚を均一になるように形成し
た。
By maintaining the firing temperature of the alignment film at a peak temperature in the range of 200 to 240 ° C. for about 5 to 10 minutes, the residual solvent of the alignment film is 100 ppm or less and the imidization ratio is 65%. This is set so as to prevent display unevenness defects such as black unevenness from occurring even when used under severe conditions for a long time. The thickness of the alignment film is about 0.05 to
The film was formed to have a uniform thickness within a range of 0.15 μm.

【0038】図3に、本実施例で使用した液晶分子の印
加電界EDRに対する初期配向方向RDR、偏光板の透
過軸方向MAXの方向を示す。
FIG. 3 shows the initial alignment direction RDR and the transmission axis direction MAX of the polarizing plate with respect to the applied electric field EDR of the liquid crystal molecules used in this embodiment.

【0039】上下界面上のラビング方向は互いにほぼ平
行で、かつ印加電界方向とのなす角度を75度(φLC1
=φLC2=75°)とした。また、2枚の偏光板〔日東
電工社製G1220DU〕でパネルを挾み、一方の偏光
板の偏光透過軸をφP1=75°に設定し、他方をそれに
直交、即ちφP2=−15°とした。したがって、本実施
例では低電圧(VOFF)で暗(黒)状態、高電圧(VO
N)で明(白)状態をとるノーマリクローズ特性を採用
した。
The rubbing directions on the upper and lower interfaces are almost parallel to each other, and the angle between the rubbing direction and the direction of the applied electric field is 75 degrees (φLC1
= ΦLC2 = 75 °). Further, the panel is sandwiched between two polarizing plates (G1220DU manufactured by Nitto Denko Corporation), and the polarization transmission axis of one of the polarizing plates is set to φP1 = 75 °, and the other is set orthogonal to it, that is, φP2 = -15 °. . Therefore, in the present embodiment, a dark (black) state at a low voltage (VOFF) and a high voltage (VO)
Normally closed characteristics that take a bright (white) state in N) are adopted.

【0040】これらの基板間に誘電率異方性Δεが正で
その値が7.3であり、屈折率異方性Δnが0.074
(589nm、20℃)のネマチック液晶組成物を挟ん
だ。ギャップdは球形のポリマビーズを基板間に分散し
て挾持し、液晶封入状態で4.0μmとした。よってΔ
n・dは0.296μmである。このときに用いた液晶
の比抵抗は8×10 Ω・cmであり、比抵抗の高い
フッ素系液晶等の混合系を使用した。
The dielectric anisotropy Δε between these substrates is positive and the value is 7.3, and the refractive index anisotropy Δn is 0.074.
(589 nm, 20 ° C.). The gap d was formed by dispersing and holding spherical polymer beads between the substrates, and was 4.0 μm in a liquid crystal sealed state. Therefore Δ
n · d is 0.296 μm. Specific resistance of the liquid crystal used at this time is 8 × 10 1 3 Ω · cm , and a mixed system of specific fluorine-based liquid crystal or the like having high resistance.

【0041】すなわち、液晶組成物としては、特開平7
−33341号公報に記載されているが、前記液晶中に
末端基としてフルオロ基が少なくとも1つ導入された、
一般式(I)で表される液晶化合物を含んでいる。
That is, the liquid crystal composition is disclosed in
JP-A-33341, wherein at least one fluoro group is introduced as a terminal group into the liquid crystal,
It contains a liquid crystal compound represented by the general formula (I).

【0042】[0042]

【化1】 Embedded image

【0043】ここで、X〜Xのうち、少なくとも1
つはフルオロ基であり、残りはフルオロ基、シアノ基、
トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ニト
ル基あるいは水素原子を表し、Rは、置換されてもよい
炭素数1から10のアルキル基あるいはアルコキシ基を
表し、環Aは、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ジオキ
サン環、ピリミジン環、または、[2,2,2]−ビシ
クロオクタン環を表し、Zは単結合、エステル結合、エ
ーテル結合またはメチレン、メチレンオキシ、エチレン
を表し、nは、1あるいは2の整数である。
Here, at least one of X 1 to X 3
One is a fluoro group, and the rest are a fluoro group, a cyano group,
Represents a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group, a nitrile group or a hydrogen atom, R represents an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted, and ring A represents a cyclohexane ring, a benzene ring, Represents a dioxane ring, a pyrimidine ring or a [2,2,2] -bicyclooctane ring, Z represents a single bond, an ester bond, an ether bond or methylene, methyleneoxy or ethylene, and n is an integer of 1 or 2 It is.

【0044】あるいは/および、一般式(II)で表さ
れる液晶化合物を含んでいる。
And / or contains a liquid crystal compound represented by the general formula (II).

【0045】[0045]

【化2】 Embedded image

【0046】ここで、XあるいはXのうち、少なく
とも1つはフルオロ基であり、残りはフルオロ基、シア
ノ基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ
基、ニトル基あるいは水素原子を表し、Rは、置換され
てもよい炭素数1から10のアルキル基あるいはアルコ
キシ基を表し、環Aは、シクロヘキサン環、ベンゼン
環、ジオキサン環、ピリミジン環、または、[2,2,
2]−ビシクロオクタン環を表し、Zは単結合、エステ
ル結合、エーテル結合またはメチレン、メチレンオキ
シ、エチレンを表し、nは、1あるいは2の整数であ
る。
Here, at least one of X 1 and X 2 is a fluoro group, and the rest represents a fluoro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group, a nitrile group or a hydrogen atom. Represents an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted, and ring A represents a cyclohexane ring, a benzene ring, a dioxane ring, a pyrimidine ring, or [2, 2,
2] -bicyclooctane ring, Z represents a single bond, an ester bond, an ether bond or methylene, methyleneoxy or ethylene, and n is an integer of 1 or 2.

【0047】図2には明状態、暗状態における液晶分子
の動作の原理を示した。
FIG. 2 shows the principle of operation of liquid crystal molecules in a bright state and a dark state.

【0048】初期配向状態として、液晶分子を基板面に
略平行にホモジニアス配向させ、基板面に略平行な電界
により、液晶分子を面内で回転させ、複屈折モードで表
示をする構成例で行った。
In the initial alignment state, the liquid crystal molecules are homogeneously aligned substantially parallel to the substrate surface, and the liquid crystal molecules are rotated in the plane by an electric field substantially parallel to the substrate surface, thereby performing display in a birefringence mode. Was.

【0049】この時の光透過率T/Tは、次式で表さ
れる。
The light transmittance T / T 0 at this time is expressed by the following equation.

【0050】 T/T=sin(2αeff)・sin(πdeff・Δn/λ)… (1) ここで、αeffは、液晶層の実効的な光軸と偏光透過軸
とのなす角で、本例では、液晶分子の回転角αの液晶層
厚み方向の実効値であり、一様な回転を想定した場合の
平均値として扱える見かけの値である。
T / T 0 = sin 2 (2αeff) · sin 2 (πdeff · Δn / λ) (1) where αeff is the angle between the effective optical axis of the liquid crystal layer and the polarization transmission axis. In this example, the effective value of the rotation angle α of the liquid crystal molecules in the thickness direction of the liquid crystal layer is an apparent value that can be treated as an average value when uniform rotation is assumed.

【0051】また、deffは、複屈折性を有する実効的
な液晶層の厚み、Δnは、屈折率異方性、λは、光の波
長を示す。
Also, deff is the effective thickness of the birefringent liquid crystal layer, Δn is the refractive index anisotropy, and λ is the wavelength of light.

【0052】(1)式において、印加電界EDR時に
は、その強度に応じてαeffの値が増大し、45度の時
最大になる。
In the equation (1), at the time of the applied electric field EDR, the value of αeff increases according to the intensity, and becomes maximum at 45 degrees.

【0053】更に、本例のシミュレーションでは、液晶
層のリタデーションΔn・deffを光の波長λの2分の
1に選定し複屈折零次モードを実現し、誘電率異方性Δ
εは正に設定している。
Further, in the simulation of this example, the retardation Δn · deff of the liquid crystal layer was selected to be half of the light wavelength λ to realize the zero-order mode of birefringence, and the dielectric anisotropy Δ
ε is set to be positive.

【0054】図4は、本発明の実施例のアクティブ・マ
トリックス型カラー液晶表示装置の液晶表示部の一画素
とその周辺を示す要部平面図である。
FIG. 4 is a plan view of an essential part showing one pixel of the liquid crystal display section and its periphery in the active matrix type color liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention.

【0055】また、図5は、図4の6−6切断線におけ
る断面図である。
FIG. 5 is a sectional view taken along section line 6-6 in FIG.

【0056】また、図6は、図4の7−7切断線におけ
る薄膜トランジスタ素子TFTの断面図である。
FIG. 6 is a sectional view of the thin film transistor element TFT taken along the line 7-7 in FIG.

【0057】また、図7は、図4の8−8切断線におけ
る蓄積容量Cstgの断面図である。
FIG. 7 is a sectional view of the storage capacitor Cstg taken along section line 8-8 in FIG.

【0058】薄膜トランジスタ素子TFTは、ソース電
極SD1、ドレイン電極SD2、走査信号線ゲート電極
GT、及びアモルファスシリコンASから構成される。
The thin film transistor TFT comprises a source electrode SD1, a drain electrode SD2, a scanning signal line gate electrode GT, and amorphous silicon AS.

【0059】走査信号線GLと対向電圧信号線CLと
は、同一の金属層をパターン化して構成した。
The scanning signal line GL and the counter voltage signal line CL are formed by patterning the same metal layer.

【0060】さらに、映像信号線DL、ソース電極SD
1、ドレイン電極SD2とも、同一の金属層をパターン
化して構成した。
Further, the video signal line DL and the source electrode SD
1. Both drain electrodes SD2 were formed by patterning the same metal layer.

【0061】さらに、絶縁膜PSVを形成後、液晶を駆
動する部分である共通電極CTをスルーホールTH2に
よって前述した対向電圧信号線CLに電気接続させ、ま
た画素電極PXもトランジスタ部近傍でスルーホールT
H1によってソース電極SD1に電気接続させる。この
共通電極CTと画素電極PXは透明なITO材を用いて
形成した。
Further, after forming the insulating film PSV, the common electrode CT, which is a portion for driving the liquid crystal, is electrically connected to the above-described counter voltage signal line CL through the through hole TH2, and the pixel electrode PX is also connected to the through hole near the transistor portion. T
H1 electrically connects to the source electrode SD1. The common electrode CT and the pixel electrode PX were formed using a transparent ITO material.

【0062】容量素子Cstgは、画素電極PXとスルー
ホールTH1によって電気接続されるソース電極SD1
と対向電圧信号線CLとで絶縁保護膜GIを挟む構造と
して形成した。
The capacitance element Cstg is connected to the source electrode SD1 electrically connected to the pixel electrode PX by the through hole TH1.
And the counter voltage signal line CL with the insulating protective film GI interposed therebetween.

【0063】画素電極PXは、図4の正面図において、
3本の共通電極CTの間に配置されている。
The pixel electrode PX is shown in the front view of FIG.
It is arranged between three common electrodes CT.

【0064】画素ピッチは横方向は100μm、縦方向
は300μmである。
The pixel pitch is 100 μm in the horizontal direction and 300 μm in the vertical direction.

【0065】配線幅は、複数画素間にまたがる配線であ
る走査信号線GL、映像信号線DL、対向電圧信号線C
Lを可能な限り大きくし、線欠陥を回避した。つまり、
配線幅は、それぞれ約10μm、8μm、8μmとし
た。
The wiring widths are scanning signal lines GL, video signal lines DL, and counter voltage signal lines C, which are wirings extending over a plurality of pixels.
L was made as large as possible to avoid line defects. That is,
The wiring width was about 10 μm, 8 μm, and 8 μm, respectively.

【0066】一方、1画素単位で独立に形成した画素電
極、及び共通電極の映像信号線の長手方向に伸びた部分
の幅は若干狭くし、それぞれ約5μm、6μmとした。
On the other hand, the widths of the pixel electrode and the common electrode, which are independently formed in pixel units, and the portions of the video signal lines extending in the longitudinal direction are slightly reduced to about 5 μm and 6 μm, respectively.

【0067】これらの電極の幅を狭くしたことで異物等
の混入により断線する可能性が高まるが、この場合1画
素の部分的欠落となるが線欠陥には至らない。
By reducing the width of these electrodes, the possibility of disconnection due to the entry of foreign matter or the like increases, but in this case, one pixel is partially missing but does not lead to a line defect.

【0068】映像信号線DLと共通電極PXは、絶縁膜
PSVを介して2μmの間隙を設けた。
The video signal line DL and the common electrode PX are provided with a gap of 2 μm via the insulating film PSV.

【0069】画素数は640×3(R、G、B)本の映
像信号線と480本の走査信号線とにより640×3×
480個とした。
The number of pixels is 640 × 3 × by 640 × 3 (R, G, B) video signal lines and 480 scanning signal lines.
The number was 480.

【0070】ブラックマトリクス(BM)付きカラーフ
ィルター基板の構造を図8に示す。
FIG. 8 shows the structure of a color filter substrate with a black matrix (BM).

【0071】図8には、基板面に垂直な方向から見た正
面図と、正面図のA−A’、B−B’における断面図を
表す。
FIG. 8 shows a front view as seen from a direction perpendicular to the substrate surface, and a cross-sectional view along AA 'and BB' of the front view.

【0072】BM22a、22bにはカーボンと有機顔
料を混合させた材料を用いた。
A material in which carbon and an organic pigment were mixed was used for the BMs 22a and 22b.

【0073】その後、感光性樹脂に顔料を分散し、R、
G、Bそれぞれコーティング、パターニング露光、現像
によりカラーマトリクス23を形成した。そして、カラ
ーフィルターのオーバーコート膜OCとしてエポキシ系
高分子を塗布形成した。
Thereafter, a pigment is dispersed in the photosensitive resin, and R,
The color matrix 23 was formed by coating, patterning exposure, and developing each of G and B. Then, an epoxy polymer was applied and formed as an overcoat film OC of the color filter.

【0074】このようにして得られたアクティブマトリ
クス型液晶表示装置は上下左右60度以上においてコン
トラスト10以上を維持しつつ階調反転が生じない広視
野角で、表示品質が良好であった。
The active matrix type liquid crystal display device obtained in this manner had a wide viewing angle in which no gradation inversion occurred while maintaining a contrast of 10 or more at 60 degrees, up, down, left and right, and good display quality.

【0075】〔実施例2〕本実施例は以下を除いて実施
例1と同じ構成である。
[Embodiment 2] This embodiment has the same configuration as that of Embodiment 1 except for the following.

【0076】BM付きカラーフィルター基板の構造を図
9に示す。
FIG. 9 shows the structure of the color filter substrate with BM.

【0077】図9には、基板面に垂直な方向から見た正
面図と正面図のA−A’、B−B’における側断面図を
表す。
FIG. 9 shows a front view as seen from a direction perpendicular to the substrate surface and side sectional views taken along AA 'and BB' of the front view.

【0078】基板上には、酸化スズを10Å程の極薄い
膜26をまず形成した。そして、その上にカーボン混入
樹脂を塗布した後、パターニング露光、現像処理により
ブラックマトリクスBM22を形成した。
First, an extremely thin film 26 of tin oxide of about 10 ° was formed on the substrate. After applying a carbon-containing resin thereon, patterning exposure and development were performed to form a black matrix BM22.

【0079】その後、感光性樹脂に顔料を分散しR、
G、Bそれぞれコーティング、パターニング露光、現像
によりカラーマトリクス23を形成した。
Thereafter, a pigment is dispersed in the photosensitive resin,
The color matrix 23 was formed by coating, patterning exposure, and developing each of G and B.

【0080】このようにして得られたアクティブマトリ
クス型液晶表示装置は上下左右60度以上においてコン
トラスト10以上を維持しつつ階調反転が生じない広視
野角で、表示品質が良好であり、また指で表示画面を擦
っても静電気による大きな液晶の配向乱れは生じなかっ
た。
The thus obtained active matrix type liquid crystal display device has a wide viewing angle at which no grayscale inversion occurs while maintaining a contrast of 10 or more in the vertical and horizontal directions of 60 ° or more, and has good display quality. Even when the display screen was rubbed, no large disturbance of the alignment of the liquid crystal due to static electricity occurred.

【0081】〔実施例3〕本実施例は以下を除いて実施
例1と同じ構成である。
[Embodiment 3] This embodiment is the same as Embodiment 1 except for the following.

【0082】使用した液晶は誘電率異方性Δεが正でそ
の値が10.1であり、屈折率異方性Δnが0.084
(589nm、20℃)である。一方、比抵抗が3×1
Ω・cmであったため、シアノ基を含む液晶化合
物を10ppm混入させたところ比抵抗値が5×10
Ω・cmとなった。
The liquid crystal used had a positive dielectric anisotropy Δε of 10.1 and a refractive index anisotropy Δn of 0.084.
(589 nm, 20 ° C.). On the other hand, the specific resistance is 3 × 1
0 1 4 Ω · cm at which was for a specific resistance value was a liquid crystal compound is mixed 10ppm is 5 × 10 1 containing cyano group
3 Ω · cm.

【0083】つまり、混入した液晶は、一般式(I)で
表される液晶化合物で、X〜Xのうち、少なくとも
1つはシアノ基であり、残りはフルオロ基、シアノ基、
トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ニト
ル基あるいは水素原子を表し、Rは、置換されてもよい
炭素数1から10のアルキル基あるいはアルコキシ基を
表し、環Aは、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ジオキ
サン環、ピリミジン環、または、[2,2,2]−ビシ
クロオクタン環を表し、Zは単結合、エステル結合、エ
ーテル結合またはメチレン、メチレンオキシ、エチレン
を表し、nは、1あるいは2の整数である。
That is, the mixed liquid crystal is a liquid crystal compound represented by the general formula (I), and at least one of X 1 to X 3 is a cyano group, and the rest is a fluoro group, a cyano group,
Represents a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group, a nitrile group or a hydrogen atom, R represents an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted, and ring A represents a cyclohexane ring, a benzene ring, Represents a dioxane ring, a pyrimidine ring or a [2,2,2] -bicyclooctane ring, Z represents a single bond, an ester bond, an ether bond or methylene, methyleneoxy or ethylene, and n is an integer of 1 or 2 It is.

【0084】あるいは/および、一般式(II)で表さ
れる液晶化合物で、XあるいはXのうち、少なくと
も1つはシアノ基であり、残りはフルオロ基、シアノ
基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、
ニトル基あるいは水素原子を表し、Rは、置換されても
よい炭素数1から10のアルキル基あるいはアルコキシ
基を表し、環Aは、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ジ
オキサン環、ピリミジン環、または、[2,2,2]−
ビシクロオクタン環を表し、Zは単結合、エステル結
合、エーテル結合またはメチレン、メチレンオキシ、エ
チレンを表し、nは、1あるいは2の整数である。
And / or a liquid crystal compound represented by the general formula (II), wherein at least one of X 1 and X 2 is a cyano group, and the rest is a fluoro group, a cyano group, a trifluoromethyl group, Trifluoromethoxy group,
R represents a substituted or unsubstituted alkyl or alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, and ring A represents a cyclohexane ring, a benzene ring, a dioxane ring, a pyrimidine ring, or [2 , 2,2] −
Represents a bicyclooctane ring, Z represents a single bond, an ester bond, an ether bond or methylene, methyleneoxy or ethylene, and n is an integer of 1 or 2.

【0085】このようにして得られたアクティブマトリ
クス型液晶表示装置は上下左右60度以上においてコン
トラスト10以上を維持しつつ階調反転が生じない広視
野角で、指で表示画面を擦っても静電気による液晶の大
きな配向乱れは生じなかった。
The active matrix type liquid crystal display device thus obtained maintains a contrast of 10 or more at 60 degrees or more in the vertical and horizontal directions and has a wide viewing angle at which gradation inversion does not occur. Did not cause a large disturbance of the alignment of the liquid crystal.

【0086】なお、本実施例は、電極構造が画素電極と
共通電極から構成され、両方の電極が、保護膜PSVと
配向膜との間に形成されていたが、本発明は、この構成
に限られることは無く、少なくとも片側の電極が配向膜
に直接接していても良く、また、電極が基板等の絶縁膜
の上に形成されていても適用できることは言うまでもな
い。
In the present embodiment, the electrode structure is composed of the pixel electrode and the common electrode, and both electrodes are formed between the protective film PSV and the alignment film. There is no limitation, and it goes without saying that the invention can be applied even if at least one electrode is in direct contact with the alignment film, and the electrode is formed on an insulating film such as a substrate.

【0087】[0087]

【発明の効果】本発明によれば、横電界方式において液
晶を駆動するための電極が直接配向膜と接しており、液
晶の比抵抗が1×10 Ω・cm以上にすることによ
り広視野角と表示異常の少ない高画質を両立したアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置を得ることができる。
According to the present invention, the horizontal electric field method in contact with the electrode directly alignment film for driving the liquid crystal, wide by specific resistance of the liquid crystal is more than 1 × 10 1 3 Ω · cm It is possible to obtain an active matrix type liquid crystal display device which has both viewing angle and high image quality with little display abnormality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のアクティブマトリクス型液晶表示装置
の簡単な概念図である。
FIG. 1 is a simple conceptual diagram of an active matrix type liquid crystal display device of the present invention.

【図2】本発明の横電界方式における液晶の動作を示す
図である。
FIG. 2 is a diagram showing an operation of a liquid crystal in a horizontal electric field mode of the present invention.

【図3】本発明の横電界方式における印加電界方向、初
期配向(ラビング)方向、偏光板の軸方向の定義を示す
図である。
FIG. 3 is a diagram showing definitions of a direction of an applied electric field, an initial alignment (rubbing) direction, and an axial direction of a polarizing plate in a horizontal electric field method of the present invention.

【図4】本発明の実施例のアクティブ・マトリックス型
カラー液晶表示装置の液晶表示部の一画素とその周辺を
示す要部平面図である。
FIG. 4 is a plan view of a principal part showing one pixel of a liquid crystal display unit and its periphery in an active matrix type color liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

【図5】図4の6−6切断線における断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along section line 6-6 in FIG. 4;

【図6】図4の7−7切断線における薄膜トランジスタ
素子TFTの断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of the thin film transistor element TFT taken along section line 7-7 in FIG.

【図7】図4の8−8切断線における蓄積容量Cstg
の断面図である。
FIG. 7 shows a storage capacitance Cstg along a section line 8-8 in FIG. 4;
FIG.

【図8】カラーフィルター基板の構成(1)を示す平面
図と断面図である。
8A and 8B are a plan view and a cross-sectional view illustrating a configuration (1) of a color filter substrate.

【図9】カラーフィルター基板の構成(2)を示す平面
図と断面図である。
FIG. 9 is a plan view and a cross-sectional view illustrating a configuration (2) of a color filter substrate.

【図10】本発明の実施例の液晶表示装置におけるTF
T回路システムを示す図である。
FIG. 10 shows a TF in the liquid crystal display device according to the embodiment of the present invention.
It is a figure showing a T circuit system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

CT…共通電極(コモン電極)、GI…ゲート絶縁膜、
DL…映像信号線、SD2…ドレイン電極、PX…画素
電極、SD1…ソース電極、ORI…配向膜、LC…液
晶分子、SUB…基板、POL…偏光板、EDR…電
界、RDR…ラビング方向、MAX…偏光板透過軸方
向、GL…走査信号線、AS…アモルファスシリコン、
TFT…薄膜トランジスタ、Cstg…蓄積容量、17…
コントロール回路、18…走査信号線駆動用回路、19
…映像信号線駆動用回路、20…共通電極駆動用回路、
21…アクティブマトリクス型液晶表示素子、22…ブ
ラックマトリクス、23…カラーフィルター、OC…オ
ーバーコート膜、 PSV…絶縁膜、26…極薄い透明
導電膜
CT: common electrode (common electrode), GI: gate insulating film,
DL: video signal line, SD2: drain electrode, PX: pixel electrode, SD1: source electrode, ORI: alignment film, LC: liquid crystal molecule, SUB: substrate, POL: polarizing plate, EDR: electric field, RDR: rubbing direction, MAX ... Polarizing plate transmission axis direction, GL ... Scan signal line, AS ... Amorphous silicon,
TFT: thin film transistor, Cstg: storage capacity, 17:
Control circuit, 18 ... scanning signal line driving circuit, 19
... Video signal line driving circuit, 20 ... Common electrode driving circuit,
Reference numeral 21: active matrix type liquid crystal display element, 22: black matrix, 23: color filter, OC: overcoat film, PSV: insulating film, 26: extremely thin transparent conductive film

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ツイツト可能な構造を有する液晶からなる
液晶層と、該液晶層を挟持する2枚の基板と、該液晶層
が映像を表示するための表面を有し、該表面とほぼ平行
な成分を持つ電界を発生させる電極構造と、該電界で制
御されて、切換わる映像を表示する液晶表示装置におい
て、該液晶層の少なくとも一方の表面上に配向層が形成
され、該液晶層の比抵抗が10 Ω・cm以上で、該
電極構造の一部分が該配向膜に直接接して形成されてい
ることを特徴とする。
1. A liquid crystal layer comprising a liquid crystal having a structure capable of being twisted, two substrates sandwiching the liquid crystal layer, the liquid crystal layer having a surface for displaying an image, and being substantially parallel to the surface. An electrode structure that generates an electric field having various components, and a liquid crystal display device that displays an image that is switched by being controlled by the electric field. An alignment layer is formed on at least one surface of the liquid crystal layer. in resistivity 10 1 3 Ω · cm or more, a portion of the electrode structure is characterized in that it is formed in direct contact with the alignment film.
【請求項2】前記電極構造は、画素電極と対向電極から
なり、アクティブ素子を覆う保護膜と前記配向膜の間に
形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示
装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the electrode structure comprises a pixel electrode and a counter electrode, and is formed between a protective film covering an active element and the alignment film.
【請求項3】前記液晶の組成物は、フルオロ基を有する
フッ素系液晶を主体とする請求項1に記載の液晶表示装
置。
3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal composition is mainly composed of a fluorine-based liquid crystal having a fluoro group.
【請求項4】前記液晶の組成物は、末端にシアノ基を有
する液晶化合物が1%以下混入されていることを特徴と
する請求項1ないし3のいずれかに記載の液晶表示装
置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal composition contains 1% or less of a liquid crystal compound having a terminal cyano group.
【請求項5】前記配向膜の残留溶媒が100ppm以下
であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに
記載の液晶表示装置。
5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the residual solvent in said alignment film is 100 ppm or less.
【請求項6】前記配向膜ののイミド化率が65%以上で
あることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記
載の液晶表示装置。
6. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the imidation ratio of the alignment film is 65% or more.
【請求項7】前記電極構造の形成されていない一方の基
板において、液晶の駆動に影響を与えない導電層を少な
くとも一層具備されていることを特徴とする請求項1に
記載の液晶表示装置。
7. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein at least one of the substrates on which the electrode structure is not formed has at least one conductive layer that does not affect the driving of the liquid crystal.
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