JPH10176663A - Trap device - Google Patents

Trap device

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JPH10176663A
JPH10176663A JP35317596A JP35317596A JPH10176663A JP H10176663 A JPH10176663 A JP H10176663A JP 35317596 A JP35317596 A JP 35317596A JP 35317596 A JP35317596 A JP 35317596A JP H10176663 A JPH10176663 A JP H10176663A
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trap
cooling
exhaust
vacuum pump
regeneration
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伸治 野路
Norihiko Nomura
典彦 野村
Tetsuo Sugiura
哲郎 杉浦
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a trap ratio, reliability, and durability by arranging a thermoelement for cooling, by electric energy, a baffle arranged so as to be brought into contact with exhaust in an exhaust passage, in a trap part arranged in the exhaust passage for exhausting an air tight chamber by a vacuum pump. SOLUTION: Two trap parts are arranged in an exhaust passage for connecting a chamber and a vacuum pump to each other freely to change into the exhaust passage and a regenerating passage. In each trap part, a fin shaped baffle 34 is installed on an axial body 32 arranged in a casing, an inner cylinder 48 is inserted into an inner space of the axial body 32 so as to form a heat medium flow passage 50. A cooler 52 in which a thermoelement 201 for carrying out cooling by thermoelectric effect is used, is arranged in a space formed between the axial body 32 and the inner cylinder 48. In the case of operation, trap operation and regeneration operation are carried out alternately, the cooler 52 is operated in the trap part during trap operation, cooling gas makes flow into the heat medium flow passage, and thereby, a temperature of a cooling wheel 56 is held to nearly a room temperature, and a cooling plate 58 is cooled in a temperature lower than the room temperature.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体の真
空チャンバを真空にするために用いる真空排気システム
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum evacuation system used to evacuate a semiconductor vacuum chamber, for example.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の真空排気を図7を参照して説明す
る。真空チャンバ101は、例えばエッチング装置や化
学気相成長装置(CVD)等の半導体成長装置のプロセ
スチャンバであり、この真空チャンバ101は、配管1
02を通じて真空ポンプ103に接続されている。真空
ポンプ103は、真空チャンバ101からのプロセスの
排ガスを大気圧まで昇圧するためのもので、従来は油回
転式ポンプが、現在はドライポンプが主に使用されてい
る。
2. Description of the Related Art A conventional vacuum evacuation will be described with reference to FIG. The vacuum chamber 101 is, for example, a process chamber of a semiconductor growth apparatus such as an etching apparatus and a chemical vapor deposition apparatus (CVD).
02 is connected to the vacuum pump 103. The vacuum pump 103 is for increasing the pressure of the exhaust gas of the process from the vacuum chamber 101 to the atmospheric pressure. Conventionally, an oil rotary pump is used, and at present, a dry pump is mainly used.

【0003】真空チャンバ101が必要とする真空度
が、ドライポンプ103の到達真空度よりも高い場合に
は、ドライポンプ103の上流側にさらにターボ分子ポ
ンプ等の超高真空ポンプが配置される。プロセスの排ガ
スの特定の成分は、プロセスの種類により毒性や爆発性
があり、そのまま大気に放出することができない。そこ
で、真空ポンプ103の下流に排ガス処理装置104を
配備し、上記のような大気に放出できないものは、ここ
で吸着、分解、吸収等の処理を行って、無害なガスのみ
を大気に放出する。なお、配管102には必要に応じて
適所にバルブが設けられている。
When the degree of vacuum required by the vacuum chamber 101 is higher than the ultimate degree of vacuum of the dry pump 103, an ultra-high vacuum pump such as a turbo molecular pump is further arranged upstream of the dry pump 103. Certain components of the process exhaust gas are toxic or explosive depending on the type of process and cannot be released directly to the atmosphere. Therefore, an exhaust gas treatment device 104 is provided downstream of the vacuum pump 103, and those which cannot be released to the atmosphere as described above are subjected to processing such as adsorption, decomposition, absorption, etc., and only harmless gas is released to the atmosphere. . The pipe 102 is provided with a valve at an appropriate position as needed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】以上のような従来の真
空排気システムにおいては、反応副生成物の中に昇華温
度の高い物質がある場合、そのガスを真空ポンプが排気
するので、昇圧途中でガスが固形化し、真空ポンプ内に
析出して真空ポンプの故障の原因になる欠点がある。
In the conventional vacuum evacuation system as described above, when a substance having a high sublimation temperature is present in a reaction by-product, the gas is exhausted by a vacuum pump. There is a disadvantage that the gas solidifies and precipitates in the vacuum pump, which causes a failure of the vacuum pump.

【0005】例えば、アルミのエッチングを行うため
に、代表的なプロセスガスであるBCl3,Cl2 を使
用すると、プロセスチャンバからは、BCl3,Cl2
のプロセスガスの残ガスとAlCl3 の反応副生成物が
真空ポンプ12により排気される。
For example, when BCl 3 and Cl 2 which are typical process gases are used for etching aluminum, BCl 3 and Cl 2 are supplied from a process chamber.
The residual gas of the process gas and the reaction by-product of AlCl 3 are exhausted by the vacuum pump 12.

【0006】このAlCl3 は、真空ポンプの吸気側で
は分圧が低いので析出しないが、加圧排気する途中で分
圧が上昇し、真空ポンプ内で析出して真空ポンプの故障
の原因となる。これは、SiNの成膜を行うCVD装置
から生じる(NH4)2SiF6やNH4Cl等の反応副生成
物の場合も同様である。
This AlCl 3 does not precipitate on the suction side of the vacuum pump due to its low partial pressure, but the partial pressure rises during pressurization and exhaust, and precipitates in the vacuum pump, causing a failure of the vacuum pump. . The same applies to the case of a reaction by-product such as (NH 4 ) 2 SiF 6 or NH 4 Cl generated from a CVD apparatus for forming a SiN film.

【0007】従来この問題に対して、 (1)真空ポンプを加熱して真空ポンプ内部で固形化物
質が析出しないようにし、ガスの状態で真空ポンプを通
過させる。 (2)真空ポンプの上流(吸気側)に水冷クーラを設け
て、析出物をトラップする。 等の対策が施されてきた。
Conventionally, to solve this problem, (1) a vacuum pump is heated to prevent solidified substances from being deposited inside the vacuum pump, and is passed through the vacuum pump in a gaseous state. (2) Provide a water-cooled cooler upstream (intake side) of the vacuum pump to trap precipitates. And other measures have been taken.

【0008】しかし、(1)の対策では、真空ポンプ自
体を保護するには効果があるが、真空ポンプの下流に配
置される排ガス処理装置に固形化物が析出し、充填層の
目詰まりを生じさせる問題があった。
[0008] However, the measure (1) is effective in protecting the vacuum pump itself, but solidifies precipitates in the exhaust gas treatment device disposed downstream of the vacuum pump, causing clogging of the packed bed. There was a problem.

【0009】また、(2)の対策は、水を媒体とするの
で、0℃以下に冷却することができず、トラップ性能が
充分でない。これ以上の冷却性能、例えば、−30℃程
度のトラップ温度を得るためには、凝固温度がさらに低
い適当な熱媒体と、これを冷却するための冷凍機が必要
になるが、装置が複雑となり、設備や運転コストが上昇
するという課題があった。また、ギフォードマクマホン
冷凍機のように振動系を有するものはメンテナンス頻度
が高くなる問題もあった。
In the measure (2), since water is used as a medium, it cannot be cooled to 0 ° C. or less, and the trap performance is not sufficient. In order to obtain a cooling performance higher than this, for example, to obtain a trap temperature of about −30 ° C., an appropriate heat medium having a lower solidification temperature and a refrigerator for cooling the heat medium are required, but the apparatus becomes complicated. However, there has been a problem that equipment and operating costs increase. In addition, a device having a vibration system such as a Gifford McMahon refrigerator has a problem that the maintenance frequency is increased.

【0010】本発明は上述の事情に鑑みなされたもの
で、簡単でコンパクトな構成で−30℃程度の低温を得
ることができ、トラップ効率が高く、しかも、信頼性、
耐用性が高く、操作性、メンテナンス性の良いトラップ
装置を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and can obtain a low temperature of about -30.degree. C. with a simple and compact structure, has a high trapping efficiency, and has high reliability and reliability.
It is an object of the present invention to provide a trap device that has high durability and good operability and maintainability.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、気密チャンバを真空ポンプにより排気する排気経路
にトラップ部が配置され、該トラップ部内には該排気経
路内の排気に接触するように配置されたバッフルと、該
バッフルを電気エネルギーにより冷却する熱電素子が設
けられていることを特徴とするトラップ装置である。
According to the first aspect of the present invention, a trap section is disposed in an exhaust path for exhausting an airtight chamber by a vacuum pump, and the trap section is in contact with exhaust in the exhaust path. And a thermoelectric element for cooling the baffle by electric energy.

【0012】熱電素子は、図1に示すように、電気を作
動エネルギーとして用いる冷凍機であり、2枚の金属板
の間に間隔を置いて配置された半導体素子201と、電
源用リード線202から構成されている。電源203よ
り電気が半導体素子201に流れこむと電子が半導体素
子201の中を逆方向に流れる。その放熱側aと吸熱側
bの間でペルチェ効果が発生する。放熱側aをN2 ある
いは水により冷却することで、−30°程度の低温がb
側に発生する。
As shown in FIG. 1, the thermoelectric element is a refrigerator using electricity as operating energy, and includes a semiconductor element 201 and a power supply lead wire 202 which are arranged at an interval between two metal plates. Have been. When electricity flows from the power supply 203 to the semiconductor element 201, electrons flow in the semiconductor element 201 in the opposite direction. The Peltier effect occurs between the heat radiation side a and the heat absorption side b. By cooling the heat radiation side a with N 2 or water, a low temperature of about -30 °
Occur on the side.

【0013】このように、エネルギー供給のための電気
配線と、放熱のための熱媒体としてN2 あるいは水を用
いることで、−30℃程度の低温を容易に得ることがで
きる。熱電素子は、小型であるので排気経路中のトラッ
プ部に容易に組み込むことができ、駆動系として必要な
のは、熱媒体である窒素ガス又は水を圧送するためのコ
ンプレッサ程度であるので、装置構成が簡単で設備コス
トが安く、メンテナンス性も良い。さらに、操作も容易
であり、例えば、冷却動作のオン・オフや温度の制御も
容易である。
As described above, a low temperature of about −30 ° C. can be easily obtained by using N 2 or water as an electric wiring for supplying energy and a heat medium for heat radiation. Since the thermoelectric element is small, it can be easily incorporated into the trap section in the exhaust path, and only a compressor for pumping nitrogen gas or water as a heat medium is required as a drive system. Simple, low equipment cost, good maintenance. Further, the operation is easy, for example, on / off of the cooling operation and control of the temperature are also easy.

【0014】請求項2に記載の発明は、前記バッフルが
軸体にフィン状に取り付けられ、該軸体の内部に前記熱
電素子が取り付けられているとともに、該軸体に該熱電
素子の放熱面を冷却するための熱媒体を供給する熱媒体
供給流路が設けられていることを特徴とする請求項1に
記載のトラップ装置である。軸体内面に熱電素子と熱媒
体経路を形成し、これにバッフルをフィン状に形成する
ことで、簡単な構造でありながら効率の良い冷却を行な
うことができる。
According to a second aspect of the present invention, the baffle is mounted on a shaft in a fin shape, the thermoelectric element is mounted inside the shaft, and a heat dissipation surface of the thermoelectric element is mounted on the shaft. 2. The trap device according to claim 1, further comprising a heat medium supply flow path for supplying a heat medium for cooling the heat medium. By forming a thermoelectric element and a heat medium path on the inner surface of the shaft and forming the baffle in a fin shape on the shaft, efficient cooling can be performed with a simple structure.

【0015】請求項3に記載の発明は、前記軸体に、さ
らに電気エネルギーにより前記バッフルを加熱する加熱
手段が内蔵されていることを特徴とする請求項1に記載
のトラップ装置である。これにより、単に電気的接続の
切り替えでトラップと再生動作を切り替えることができ
る。
The invention according to claim 3 is the trap device according to claim 1, wherein a heating means for heating the baffle by electric energy is further incorporated in the shaft body. Thereby, the trap and the reproduction operation can be switched simply by switching the electrical connection.

【0016】請求項4に記載の発明は、前記トラップ部
が少なくとも2つ設けられ、それぞれ前記排気経路とト
ラップ部の再生を行なう再生経路とに切り替え可能に配
置されていることを特徴とする請求項1に記載のトラッ
プ装置である。これにより、トラップ動作と再生動作が
交互に行われるので、トラップ量が1つのトラップの能
力を超えても排気系の稼働を停止することなく、また、
替わりのトラップを用意する必要もない。
According to a fourth aspect of the present invention, at least two of the trap sections are provided, and each of the trap sections is arranged so as to be switchable between the exhaust path and a regeneration path for regenerating the trap section. Item 4. The trap device according to item 1. As a result, the trap operation and the regeneration operation are performed alternately, so that the operation of the exhaust system is not stopped even if the trap amount exceeds the capacity of one trap, and
There is no need to prepare a replacement trap.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態について説明する。図2ないし図4に示す実施の
形態では、チャンバ10と真空ポンプ12を結ぶ排気経
路14に隣接して再生経路16が設けられ、2つのトラ
ップ部18,20が三方切替弁22,24,26,28
によってそれぞれ排気経路14と再生経路16に切り替
え可能に設けられている。各トラップ部18,20は、
図3に示すように、それぞれ気密のケーシング30の内
部に軸体32が流れに交差するように設けられ、この軸
体32にフィン状のバッフル(邪魔板)34が取り付け
られて構成されている。ケーシング30には、排気経路
14の入口36及び出口38と、再生経路16の入口4
0、出口42とが設けられている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the embodiment shown in FIGS. 2 to 4, a regeneration path 16 is provided adjacent to an exhaust path 14 connecting the chamber 10 and the vacuum pump 12, and the two trap portions 18 and 20 include three-way switching valves 22, 24 and 26. , 28
Are provided so as to be switchable between an exhaust path 14 and a regeneration path 16, respectively. Each of the trap units 18 and 20
As shown in FIG. 3, a shaft 32 is provided inside the airtight casing 30 so as to intersect the flow, and a fin-shaped baffle (baffle plate) 34 is attached to the shaft 32. . The casing 30 includes an inlet 36 and an outlet 38 of the exhaust path 14 and an inlet 4 of the regeneration path 16.
0 and an outlet 42 are provided.

【0018】真空ポンプ12の後段には排ガスを除害す
るための排ガス処理装置44が設けられている。再生経
路16には、トラップした析出物を加熱して気化させ、
あるいは気化したガスを搬送するための再生用気体が図
示しない再生気体源から三方切替弁26を介して分岐し
て流通させられ、下流側には排ガス処理装置46が設け
られている。
An exhaust gas treatment device 44 for removing exhaust gas is provided downstream of the vacuum pump 12. In the regeneration path 16, the trapped precipitate is heated and vaporized,
Alternatively, a regeneration gas for transporting the vaporized gas is branched and circulated from a regeneration gas source (not shown) via the three-way switching valve 26, and an exhaust gas treatment device 46 is provided on the downstream side.

【0019】軸体32は、図4(a)に示すように、金
属等の熱伝導性の良い材料により形成された角筒体とし
て形成され、その外面に複数のバッフル板34が溶接等
により熱的に一体となり、内側空間には内筒48が図4
(b)に示すように挿入され、これにより、内筒48の
内側から図中左端側で反転して内筒48と放熱筒54の
間へと向かう熱媒体流路50が形成されている。
As shown in FIG. 4 (a), the shaft body 32 is formed as a rectangular cylindrical body made of a material having good heat conductivity such as metal, and a plurality of baffle plates 34 are formed on its outer surface by welding or the like. Thermally integrated, an inner cylinder 48 is provided in the inner space as shown in FIG.
As shown in (b), a heat medium flow path 50 is formed which is inverted from the inside of the inner cylinder 48 on the left end side in the drawing and extends between the inner cylinder 48 and the heat radiating cylinder 54.

【0020】図4に示すように、軸体と内筒の間の空間
には、熱電効果により冷却を行なう熱電素子(ペルチェ
素子)を用いた冷却器52が設けられている。すなわ
ち、軸体32と内筒48の間にさらに放熱筒54が設け
られ、冷却器52の放熱板56を放熱筒54に、冷却板
58をインジウム等の熱伝導性のよい材質でできたスペ
ーサ60を介して軸体32に取り付けている。また、冷
却器と同じ空間に再生用のヒータ62が併置されてい
る。
As shown in FIG. 4, a cooler 52 using a thermoelectric element (Peltier element) for cooling by a thermoelectric effect is provided in a space between the shaft body and the inner cylinder. That is, a radiator tube 54 is further provided between the shaft body 32 and the inner tube 48, and a radiator plate 56 of the cooler 52 is formed on the radiator tube 54, and a cooling plate 58 is formed of a material having good heat conductivity such as indium. It is attached to the shaft 32 via 60. Further, a heater 62 for regeneration is juxtaposed in the same space as the cooler.

【0021】この実施の形態では、一方のトラップ部1
8がトラップ動作をしているときには他方が再生動作を
している。トラップ動作中のトラップ部は、熱電素子2
01の電源スイッチがオンとなって冷却器52が動作す
るとともに、図示しない切替弁の動作により熱媒体流路
50に窒素等の冷却ガスを流す。これにより、放熱板5
6の温度はほぼ室温程度に維持され、一方、冷却板58
は熱電素子201の能力によって決まる所定の温度だけ
室温より低い温度に冷却される。この冷却の程度は、熱
電素子201に流す電流によって変化する。
In this embodiment, one trap unit 1
When 8 is performing a trapping operation, the other is performing a reproducing operation. The trap portion during the trap operation is a thermoelectric element 2
The power switch 01 is turned on to operate the cooler 52, and a cooling gas such as nitrogen flows through the heat medium flow path 50 by the operation of a switching valve (not shown). Thereby, the heat sink 5
6 is maintained at about room temperature, while the cooling plate 58
Is cooled to a temperature lower than room temperature by a predetermined temperature determined by the capability of the thermoelectric element 201. The degree of the cooling varies depending on the current flowing through the thermoelectric element 201.

【0022】所定のトラップ処理を行って、再生が必要
になると、排気経路14及び再生経路16の三方切替弁
22,24,26,28が切り替えられて、トラップ部
18の処理が逆になる。再生動作をしているときは、熱
媒体経路50中の冷却ガスは止められ、ヒータ62が作
動させられる。このように電気的エネルギーにより冷却
と加熱を行なうので、装置構成が簡単であり、また、ス
イッチの開閉や供給電気量の調整により切替動作や設定
の操作が簡単に行える利点がある。再生動作により発生
したガスは、再生経路16から排出されて排ガス処理装
置46で処理される。なお、電流の±を切り換えること
により、熱電素子201の加熱・冷却を切り換えること
もできるので、電流の±を切り換えるスイッチがあれ
ば、ヒータ62は不要である。
When regeneration is required after performing a predetermined trapping process, the three-way switching valves 22, 24, 26, and 28 of the exhaust path 14 and the regeneration path 16 are switched, and the processing of the trap section 18 is reversed. During the regeneration operation, the cooling gas in the heat medium path 50 is stopped, and the heater 62 is operated. As described above, since cooling and heating are performed by the electric energy, there is an advantage that the apparatus configuration is simple, and the switching operation and the setting operation can be easily performed by opening and closing the switch and adjusting the amount of supplied electricity. The gas generated by the regeneration operation is discharged from the regeneration path 16 and processed by the exhaust gas treatment device 46. Note that heating / cooling of the thermoelectric element 201 can be switched by switching ± of the current. Therefore, if there is a switch for switching ± of the current, the heater 62 is unnecessary.

【0023】図5はこの発明の他の実施の形態を示すも
ので、再生経路16が排気経路14の両側に2つ設けら
れ、排気経路14と再生経路16の間にトラップ部1
8,20を機械的に切り替える手段が設けられている。
すなわち、この切替式トラップ装置は、排気経路14と
再生経路16に跨って配置された直方体状のケーシング
66と、このケーシング66を交差方向に貫通する軸体
68と、この軸体68を軸方向に往復移動させる駆動手
段であるエアシリンダ70を備えている。ケーシング6
6は、仕切壁72によって交差方向に3つの部屋、すな
わち、中央のトラップ室74、両側の再生室76に仕切
られており、各部屋にはそれぞれ排気経路14又は再生
経路16に接続するためのフランジ78を有する管部7
9が形成されている。
FIG. 5 shows another embodiment of the present invention. Two regeneration paths 16 are provided on both sides of the exhaust path 14, and the trap unit 1 is provided between the exhaust path 14 and the regeneration path 16.
Means for mechanically switching between 8, 20 are provided.
That is, this switchable trap device includes a rectangular parallelepiped casing 66 disposed over the exhaust path 14 and the regeneration path 16, a shaft 68 penetrating the casing 66 in the cross direction, and a shaft 68 in the axial direction. An air cylinder 70, which is a driving means for reciprocating, is provided. Casing 6
Numeral 6 is divided into three rooms in the cross direction by a partition wall 72, that is, a trap room 74 at the center and a regeneration room 76 on both sides. Each room is connected to the exhaust path 14 or the regeneration path 16 respectively. Tube section 7 having flange 78
9 are formed.

【0024】軸体68には、3枚の断熱性を有する素材
からなる仕切板80が等間隔に配置され、その間に複数
のバッフル板82が溶接等により軸体68に一体に取り
付けられている。ケーシング66の仕切壁72には中央
に開口部73が形成されており、これはバッフル板82
は通過できるが仕切板80は通過できないような大きさ
になっている。両側の2枚の仕切板80とケーシング6
6の両端の壁の内面の間にはベローズ84が設けられて
おり、再生経路16と外部環境との間の気密性を維持し
ている。また、仕切壁72の仕切板80に接する箇所に
はOリング(図示略)が配置されて、トラップ室74と
再生室76の間の気密性を維持している。仕切板80は
断熱性の高い素材で形成されて、トラップ室74と再生
室76の間の熱移動を阻止するようにしている。
On the shaft body 68, three partition plates 80 made of a material having heat insulating properties are arranged at equal intervals, and a plurality of baffle plates 82 are integrally attached to the shaft body 68 by welding or the like. . An opening 73 is formed in the center of the partition wall 72 of the casing 66, and is formed by a baffle plate 82.
Are allowed to pass through, but the partition plate 80 cannot pass through. Two partition plates 80 on both sides and casing 6
A bellows 84 is provided between the inner surfaces of the walls at both ends of 6 to maintain airtightness between the reproduction path 16 and the external environment. An O-ring (not shown) is disposed at a position of the partition wall 72 in contact with the partition plate 80 to maintain the airtightness between the trap chamber 74 and the regeneration chamber 76. The partition plate 80 is made of a material having a high heat insulating property so as to prevent heat transfer between the trap chamber 74 and the regeneration chamber 76.

【0025】この例も、トラップ部18,20の構造は
同じであるが、熱媒体流路50が両側から中央の仕切板
80まで延びている点が異なる。この例では、トラップ
部自体が切り替えられるので、切替が迅速に行われると
ともに、弁で経路を切り替える場合に比べて熱損失が少
なく、結果として切替動作によるトラップや再生の作業
への影響を小さくすることができる。
This embodiment also has the same structure of the trap portions 18 and 20, except that the heat medium flow path 50 extends from both sides to the central partition plate 80. In this example, since the trap unit itself is switched, the switching is performed quickly, and the heat loss is smaller than in the case where the path is switched by a valve. As a result, the influence of the switching operation on the trap and regeneration work is reduced. be able to.

【0026】図6は、複数のトラップ部18を排気方向
に直列に配置した実施の形態を示す。ここでは、排気経
路14の下側に再生経路16が1つ設けられている。排
気経路方向に延びて形成されたケーシング66には、エ
アシリンダにより往復移動する複数(図示例では2つ)
の軸体68が設けられ、それぞれに1つのトラップ部1
8が取り付けられている。各トラップ部18は独立にト
ラップ室74又は再生室76に移動可能である。
FIG. 6 shows an embodiment in which a plurality of trap portions 18 are arranged in series in the exhaust direction. Here, one regeneration path 16 is provided below the exhaust path 14. A plurality of (two in the illustrated example) reciprocatingly moved by an air cylinder are provided on a casing 66 formed to extend in the exhaust path direction.
Are provided, and each of them has one trap portion 1.
8 is attached. Each trap section 18 can be independently moved to the trap chamber 74 or the regeneration chamber 76.

【0027】この実施の形態においても、操作の仕方は
いずれか一方のトラップ部18がトラップ室74に、他
方が再生室76に位置するように切り替えることで、先
の実施の形態と同じように動作するが、再生経路が1つ
で良いので装置がコンパクトになる。さらに、この実施
の形態では、状況に応じて稼働するトラップ部18の数
を変えることができる柔軟性がある。
Also in this embodiment, the operation is performed in the same manner as in the previous embodiment by switching one of the trap units 18 so as to be located in the trap chamber 74 and the other in the regeneration chamber 76. Although it operates, the apparatus becomes compact because only one reproduction path is required. Furthermore, in this embodiment, there is a flexibility that the number of the trap units 18 that operate according to the situation can be changed.

【0028】この実施の形態における再生の方法は、洗
浄液により洗浄を行なうようにしている点で先の実施の
形態と異なっている。すなわち、再生室76には、上側
に洗浄液供給配管16aが開口しており、下側に洗浄液
排出配管16bが設けられている。この例では、供給配
管16aはトラップ部18,20の配置に応じて複数が
設けられている。この装置における再生の方法の例は以
下のようになる。切り替えて図6の状態になった後、供
給配管から析出物を溶解させる適当な洗浄液を流出さ
せ、これを排出配管16bより排出する。必要に応じて
この過程を繰り返したり、洗浄液を噴霧させたり、洗浄
液で再生室76を満たすようにしてもよい。また、洗浄
液を変えて前記工程を行ったり、すすぎ工程を行っても
よい。次に、乾燥気体を供給して乾燥工程を行うことに
より、液がトラップ前後の機器へ浸入することが防止さ
れる。
The regeneration method in this embodiment differs from the previous embodiment in that cleaning is performed with a cleaning liquid. That is, in the regeneration chamber 76, the cleaning liquid supply pipe 16a is opened on the upper side, and the cleaning liquid discharge pipe 16b is provided on the lower side. In this example, a plurality of supply pipes 16a are provided according to the arrangement of the trap portions 18 and 20. An example of a reproducing method in this device is as follows. After switching to the state shown in FIG. 6, an appropriate cleaning liquid for dissolving the precipitate is caused to flow out from the supply pipe, and is discharged from the discharge pipe 16b. This process may be repeated as necessary, the cleaning liquid may be sprayed, or the regeneration chamber 76 may be filled with the cleaning liquid. Further, the above-described steps may be performed by changing the cleaning liquid, or the rinsing step may be performed. Next, by supplying a dry gas and performing the drying step, the liquid is prevented from entering the devices before and after the trap.

【0029】このような洗浄液を用いる再生工程では、
再生室76を高温にする必要がないので、トラップ室7
4への熱影響阻止のための措置を軽減することができ
る。また、析出物を気化させて再生する場合に比べて再
生能力が高く、処理速度も速い。さらに、気体として再
生する場合よりも一般に後処理が容易であり、特に、再
生物を再利用する場合や貯蔵する場合に便利である。図
6の構成では、再生室76がトラップ室74の下側にの
みあるので、洗浄液が重力でトラップ室74に流れるお
それが無く、従って、この実施の形態の装置は洗浄液を
用いる再生に好適である。
In the regeneration step using such a cleaning solution,
Since there is no need to heat the regeneration chamber 76, the trap chamber 7
4 can be reduced in measures for preventing thermal effects. In addition, the regenerating ability is higher and the processing speed is higher than in the case of regenerating precipitates by vaporization. Furthermore, post-processing is generally easier than when regenerating as a gas, and it is particularly convenient when reusing or storing regenerated materials. In the configuration shown in FIG. 6, since the regeneration chamber 76 is located only below the trap chamber 74, there is no possibility that the cleaning liquid flows into the trap chamber 74 due to gravity. Therefore, the apparatus of this embodiment is suitable for regeneration using the cleaning liquid. is there.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のトラップ
装置は、電気エネルギーにより冷却動作を行なう熱電素
子を用いることにより、放熱のための熱媒体としてN2
あるいは水を用いることで、−30℃程度の低温を容易
に得ることができる。従って、簡単でコンパクトな構成
で、トラップ効率が高く、信頼性、耐用性が高く、操作
性、メンテナンス性の良いトラップ装置を提供すること
ができる。これにより、真空ポンプ中において異物が析
出して摺動部分に損傷を与えたり、排ガス処理装置の充
填層に蓄積されて目詰まりを起こすことが防止され、真
空ポンプや排ガス処理装置を保護して安定な稼働を行な
うことができる。
As described above, the trap device of the present invention uses N 2 as a heat medium for heat radiation by using a thermoelectric element performing a cooling operation by electric energy.
Alternatively, a low temperature of about −30 ° C. can be easily obtained by using water. Therefore, it is possible to provide a trap device having a simple and compact configuration, high trap efficiency, high reliability and durability, and excellent operability and maintainability. This prevents foreign substances from depositing in the vacuum pump and damaging the sliding parts, and preventing accumulation and clogging in the packed bed of the exhaust gas treatment device, thereby protecting the vacuum pump and the exhaust gas treatment device. Stable operation can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明のトラップ装置に用いる熱電素子の原
理を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing the principle of a thermoelectric element used for a trap device of the present invention.

【図2】この発明のトラップ装置の第1の実施の形態を
示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a first embodiment of the trap device of the present invention.

【図3】図2の実施の形態の全体の構成を示す図であ
る。
FIG. 3 is a diagram showing an entire configuration of the embodiment of FIG. 2;

【図4】この発明のトラップ装置のトラップ部の構造を
示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a structure of a trap section of the trap device of the present invention.

【図5】この発明のトラップ装置の第2の実施の形態を
示す図である。
FIG. 5 is a view showing a second embodiment of the trap device of the present invention.

【図6】この発明のトラップ装置の第3の実施の形態を
示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a third embodiment of the trap device of the present invention.

【図7】従来の真空排気装置を示す図である。FIG. 7 is a view showing a conventional evacuation apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 気密チャンバ 12 真空ポンプ 14 排気経路 18、20 トラップ部 32、68 軸体 34、82 バッフル 50 熱媒体供給経路 62 加熱手段 201 熱電素子 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Hermetic chamber 12 Vacuum pump 14 Exhaust path 18, 20 Trap part 32, 68 Shaft body 34, 82 Baffle 50 Heat medium supply path 62 Heating means 201 Thermoelectric element

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 気密チャンバを真空ポンプにより排気す
る排気経路にトラップ部が配置され、該トラップ部内に
は該排気経路内の排気に接触するように配置されたバッ
フルと、該バッフルを電気エネルギーにより冷却する熱
電素子が設けられていることを特徴とするトラップ装
置。
1. A trap section is disposed in an exhaust path for exhausting an airtight chamber by a vacuum pump, a baffle disposed in the trap section so as to be in contact with exhaust in the exhaust path, and the baffle is powered by electric energy. A trap device comprising a thermoelectric element for cooling.
【請求項2】 前記バッフルは軸体にフィン状に取り付
けられ、該軸体の内部に前記熱電素子が取り付けられて
いるとともに、該軸体に該熱電素子の放熱面を冷却する
ための熱媒体を供給する熱媒体供給流路が設けられてい
ることを特徴とする請求項1に記載のトラップ装置。
2. The heating medium according to claim 2, wherein said baffle is mounted on said shaft in a fin shape, said thermoelectric element is mounted inside said shaft, and said shaft is provided with a heat medium for cooling a heat radiation surface of said thermoelectric element. The trap device according to claim 1, further comprising a heat medium supply passage for supplying the heat medium.
【請求項3】 前記軸体には、さらに電気エネルギーに
より前記バッフルを加熱する加熱手段が内蔵されている
ことを特徴とする請求項1に記載のトラップ装置。
3. The trap device according to claim 1, wherein the shaft further includes heating means for heating the baffle with electric energy.
【請求項4】 前記トラップ部は少なくとも2つ設けら
れ、それぞれ前記排気経路とトラップ部の再生を行なう
再生経路に切り替え可能に配置されていることを特徴と
する請求項1に記載のトラップ装置。
4. The trap device according to claim 1, wherein at least two of the trap units are provided, and each of the trap units is arranged to be switchable between the exhaust path and a regeneration path for regenerating the trap unit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008510093A (en) * 2004-08-11 2008-04-03 ザ・ビーオーシー・グループ・インコーポレーテッド Integrated high vacuum pumping system
CN108780733A (en) * 2016-02-01 2018-11-09 雷特罗萨米科技有限责任公司 The cleaning device of exhaust passage for process reaction room

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