JP3162650B2 - TRAP DEVICE AND ITS REPRODUCING METHOD - Google Patents

TRAP DEVICE AND ITS REPRODUCING METHOD

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JP3162650B2
JP3162650B2 JP08875397A JP8875397A JP3162650B2 JP 3162650 B2 JP3162650 B2 JP 3162650B2 JP 08875397 A JP08875397 A JP 08875397A JP 8875397 A JP8875397 A JP 8875397A JP 3162650 B2 JP3162650 B2 JP 3162650B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
装置等の真空チャンバを真空にするために用いる真空排
気システムにおいて用いられるトラップ装置及びその再
生方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a trap device used in a vacuum exhaust system used to evacuate a vacuum chamber of, for example, a semiconductor manufacturing apparatus, and a method for regenerating the trap device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の真空排気システムを、図7を参照
して説明する。ここにおいて、真空チャンバ101は、
例えばエッチング装置や化学気相成長装置(CVD)等
の半導体製造工程に用いるプロセスチャンバであり、こ
の真空チャンバ101は、配管102を通じて真空ポン
プ103に接続されている。真空ポンプ103は、真空
チャンバ101からのプロセスの排ガスを大気圧まで昇
圧するためのもので、従来は油回転式ポンプが、現在は
ドライポンプが主に使用されている。
2. Description of the Related Art A conventional vacuum pumping system will be described with reference to FIG. Here, the vacuum chamber 101 is
For example, it is a process chamber used for a semiconductor manufacturing process such as an etching apparatus and a chemical vapor deposition apparatus (CVD). The vacuum chamber 101 is connected to a vacuum pump 103 through a pipe 102. The vacuum pump 103 is for increasing the pressure of the exhaust gas of the process from the vacuum chamber 101 to the atmospheric pressure. Conventionally, an oil rotary pump is used, and at present, a dry pump is mainly used.

【0003】真空チャンバ101が必要とする真空度が
ドライポンプ103の到達真空度よりも高い場合には、
ドライポンプの上流側にさらにターボ分子ポンプ等の超
高真空ポンプが配置されることもある。プロセスの排ガ
スは、プロセスの種類により毒性や爆発性があるので、
そのまま大気に放出できない。そのため、真空ポンプ1
03の下流には排ガス処理装置104が配備されてい
る。大気圧まで昇圧されたプロセスの排ガスのうち、上
記のような大気に放出できないものは、ここで吸着、分
解、吸収等の処理が行われて無害なガスのみが大気に放
出される。なお、配管102には必要に応じて適所にバ
ルブが設けられている。
When the degree of vacuum required by the vacuum chamber 101 is higher than the ultimate degree of vacuum of the dry pump 103,
An ultra-high vacuum pump such as a turbo-molecular pump may be further arranged upstream of the dry pump. The exhaust gas of the process is toxic or explosive depending on the type of process,
It cannot be released to the atmosphere as it is. Therefore, the vacuum pump 1
An exhaust gas treatment device 104 is provided downstream of the apparatus 03. Among the exhaust gas of the process whose pressure has been increased to the atmospheric pressure, those which cannot be released to the atmosphere as described above are subjected to treatment such as adsorption, decomposition, absorption and the like, and only harmless gas is released to the atmosphere. The pipe 102 is provided with a valve at an appropriate position as needed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】以上のような従来の真
空排気システムにおいては、反応副生成物の中に昇華温
度の高い物質がある場合、そのガスを真空ポンプで排気
するので、昇圧途中でガスが固形化し、真空ポンプ内に
析出して真空ポンプの故障の原因になる欠点がある。こ
のため、排気経路の真空ポンプの上流(吸気側)に水冷
のトラップ部を設けて析出物をトラップすることが考え
られる。
In the conventional vacuum evacuation system described above, when a substance having a high sublimation temperature is present in a reaction by-product, the gas is exhausted by a vacuum pump. There is a disadvantage that the gas solidifies and precipitates in the vacuum pump, which causes a failure of the vacuum pump. For this reason, it is conceivable to provide a water-cooled trap section upstream (intake side) of the vacuum pump in the exhaust path to trap precipitates.

【0005】この場合、トラップ部には排気処理量に応
じた量の析出物が堆積し、この析出物中には、気化する
と有害であるような物質や、高価であるため再利用した
方が良いものが混在する。従って、トラップ部自体の再
使用及び析出物の無毒化処理や回収を行って再使用する
ために、トラップ部の析出物を分離したり除去する再生
処置を行うことが望まれている。
In this case, an amount of deposits corresponding to the amount of exhaust gas is deposited on the trap portion, and the deposits contain substances that are harmful when vaporized or expensive, so it is better to reuse them. Good things are mixed. Therefore, in order to reuse the trap portion by reusing the precipitate itself and detoxifying or collecting the precipitate, it is desired to perform a regeneration treatment for separating or removing the precipitate in the trap portion.

【0006】従来、このような排ガスの再生処理は、ト
ラップ部を高温にして該トラップ部の析出物をガス化し
て再生するか、またはトラップ部を別の場所に移動し
て、ここで中和洗浄することによって一般に行われてい
た。
Conventionally, in such an exhaust gas regenerating treatment, the trap portion is heated to a high temperature to gasify the precipitate in the trap portion and regenerated, or the trap portion is moved to another place and neutralized here. This was commonly done by washing.

【0007】しかし、前者の場合、昇華温度の高いもの
については、トラップ部をこの昇華温度以上の高温にし
なくてはならず、条件によっては非常に危険を伴うばか
りでなく、トラップする位置の近くでこれを行うと、低
温部と高温部が隣接することになって、大幅なエネルギ
のロスに繋がってしまう。更に、トラップ処置よりも昇
華による再生処理の方が一般に長い時間を要し、このた
め、作業能率が悪く、また気化させた後の再生ガスを再
利用するには、貯蔵のための大きな容器が必要となって
しまう。
[0007] However, in the former case, if the sublimation temperature is high, the trap section must be heated to a temperature higher than the sublimation temperature. If this is done, the low-temperature part and the high-temperature part will be adjacent to each other, leading to a significant energy loss. Furthermore, regeneration treatment by sublimation generally requires a longer time than trap treatment, so that work efficiency is poor and a large container for storage is required in order to reuse recycled gas after vaporization. You will need it.

【0008】一方、後者にあっては、トラップ部を取外
して洗浄位置へ移動させる必要があるばかりでなく、取
外したトラップ部の保管等の作業が別途必要となって、
作業性がかなり悪い。しかも、多数のトラップ部を予め
用意して、これを交換する必要があるといった問題があ
った。
On the other hand, in the case of the latter, not only is it necessary to remove the trap portion and move it to the washing position, but also it is necessary to separately store the removed trap portion and other operations.
Workability is quite bad. In addition, there is a problem that it is necessary to prepare a large number of trap portions in advance and replace them.

【0009】本発明は上述の事情に鑑みなされたもので
あり、トラップ部の再生処置を能率良く、且つ迅速に行
って、排気系の真空ポンプや排ガス処理装置の長寿命化
及び運転の信頼性と安全性の向上を図り、更に設備や運
転コストの低減を図ることができるトラップ装置及びそ
の再生方法を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and efficiently and promptly regenerates a trap portion to extend the life of a vacuum pump and an exhaust gas treatment device of an exhaust system and to improve the reliability of operation. Another object of the present invention is to provide a trap device capable of improving safety and safety, and further reducing equipment and operating costs, and a method for regenerating the trap device.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、気密チャンバから真空ポンプにより排気する排気経
路に配置され、排ガス中の成分を付着させて除去するト
ラップ部を有するトラップ装置において、前記排気経路
に隣接して前記トラップ部に付着した付着物を減圧によ
りガス化させて排出する再生ガス排出経路が設けられ、
前記トラップ部を前記排気経路と再生ガス排出経路に切
替える切替手段が設けられていることを特徴とするトラ
ップ装置である。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a trap device having a trap portion disposed in an exhaust path for exhausting a gas from a hermetic chamber by a vacuum pump and attaching and removing components in exhaust gas. A regeneration gas discharge path is provided adjacent to the exhaust path for gasifying and discharging the deposits attached to the trap section under reduced pressure,
Switching means for switching the trap section between the exhaust path and the regeneration gas discharge path is provided.

【0011】これにより、トラップ部を高温にしたり洗
浄することなく、これに付着した付着物を減圧によりガ
ス化させて再生することができ、装置の規模を簡略化す
るとともに、設備コストを抑え、しかも安全性を高める
ことができる。また、適当な切替タイミング判定手段を
用いて完全な自動化を図ることも容易である。
[0011] This makes it possible to regenerate by depositing gas adhering to the trap portion without reducing the temperature and cleaning the trap portion without raising the temperature or cleaning the device. Moreover, safety can be improved. It is also easy to achieve complete automation by using an appropriate switching timing determination unit.

【0012】気密チャンバは、例えば、半導体製造装置
のプロセスチャンバであり、必要に応じて、プロセスガ
スを除害化する排ガス処理装置を設ける。真空ポンプと
しては、油による逆拡散によるチャンバの汚染を防ぐた
めに潤滑油を用いないドライポンプを用いるのが好まし
い。
The airtight chamber is, for example, a process chamber of a semiconductor manufacturing apparatus, and is provided with an exhaust gas treatment device for detoxifying a process gas as required. As the vacuum pump, it is preferable to use a dry pump that does not use lubricating oil in order to prevent contamination of the chamber due to back diffusion by oil.

【0013】トラップ部の切替駆動は、エアーシリンダ
で行なうようにしてもよい。その場合は、ソレノイドバ
ルブ、スピードコントローラで構成されたエアー駆動制
御機器により制御するようにしてもよく、さらに、エア
ー駆動制御機器を、シーケンサあるいは、リレーによる
制御信号により、制御するようにしてもよい。
The switching of the trap portion may be performed by an air cylinder. In that case, control may be performed by an air drive control device including a solenoid valve and a speed controller, and further, the air drive control device may be controlled by a control signal from a sequencer or a relay. .

【0014】トラップ部の切替を人手を介することなく
完全に自動的に行なうことができる方法としては、例え
ば、トラップ部の前後の差圧を検出するセンサを設けて
これの検出値が所定値になったときに切替を行なう方
法、あるいはより実用的な方法として予め適当な切替時
間を設定しておく方法がある。排ガス循環経路と再生物
排出経路が1対1である場合には、トラップと再生の時
間は同一となるので、再生終了時間の方が短くなるよう
に再生能力をトラップ能力よりも高めておくのが好まし
い。
As a method of completely automatically switching the trap portion without manual operation, for example, a sensor for detecting a differential pressure before and after the trap portion is provided and the detected value is set to a predetermined value. There is a method in which switching is performed when this happens, or a more practical method in which an appropriate switching time is set in advance. When the exhaust gas circulation path and the regenerated material discharge path are one-to-one, the trap and regeneration times are the same. Therefore, the regeneration capacity should be higher than the trap capacity so that the regeneration end time is shorter. Is preferred.

【0015】請求項2に記載の発明は、前記トラップ装
置は、前記トラップ部を冷却して前記成分を析出させる
低温トラップであることを特徴とする請求項1に記載の
真空排気システムである。
According to a second aspect of the present invention, in the vacuum evacuation system according to the first aspect, the trap device is a low-temperature trap that cools the trap portion to precipitate the components.

【0016】トラップ部を低温トラップとして構成する
場合、外部から温度媒体をトラップ部に流通させる方法
があり、液化ガスの気化熱(例えば液体窒素)、あるい
は冷却水、冷媒などがある。また、熱電素子(ペルチェ
素子)や、パルスチューブ冷凍機などを用いて温度媒体
そのものを流さずにトラップ部で低温を発生させる方法
もある。
When the trap section is configured as a low-temperature trap, there is a method in which a temperature medium is circulated from the outside to the trap section, such as heat of vaporization of liquefied gas (for example, liquid nitrogen), cooling water, and refrigerant. There is also a method of generating a low temperature in the trap portion without flowing the temperature medium itself using a thermoelectric element (Peltier element), a pulse tube refrigerator, or the like.

【0017】記再生ガス排出経路に、付着物を成分毎
にトラップする複数の再生ガストラップ容器並列に設
てもよい。これにより、再生ガス内の成分を物質別に
各再生ガストラップ容器内に析出させて貯蔵して、この
処理及び再利用等の便を図ることができる。
[0017] Prior Symbol regeneration gas discharge path, a plurality of reproduction gas trap to trap deposits for each component may be provided in parallel. Thereby, the components in the regeneration gas can be deposited and stored in each regeneration gas trap container for each substance, so that the processing and reuse can be facilitated.

【0018】請求項に記載の発明は、前記切替手段
が、前記トラップ部を前記排気経路及び再生ガス排出経
路に移動させるものであることを特徴とする請求項1に
記載のトラップ装置であるので、切り替えが迅速に行わ
れて稼動効率が高い。
The invention described in claim 3, wherein the switching means is in the trap apparatus according to claim 1, characterized in that the trap portion is to move to the exhaust path and the regeneration gas discharge path Therefore, switching is performed quickly and operation efficiency is high.

【0019】請求項に記載の発明は、前記切替手段
が、前記トラップ部を前記排気経路及び再生ガス排出経
路に弁の操作で切り替えるものであることを特徴とする
請求項1に記載のトラップ装置であるので、機械的な切
替駆動手段が不要で設備を小型化することができる。
According to a fourth aspect of the present invention, the switching means switches the trap section between the exhaust path and the regeneration gas discharge path by operating a valve. Since it is a device, no mechanical switching drive means is required, and the equipment can be downsized.

【0020】請求項に記載の発明は、気密チャンバか
ら真空ポンプにより排気する排気経路に配置され、排ガ
ス中の成分を付着させて除去するトラップ部を有するト
ラップ装置で捕捉した前記成分を再生する再生方法にお
いて、前記トラップ部に付着した付着物を減圧によって
物質別にガス化し、このガス化した再生ガスを物質別の
各再生ガストラップ容器に移送し該容器内で再度析出さ
せることを特徴とするトラップ装置の再生方法である。
According to a fifth aspect of the present invention, the components trapped by a trap device which is disposed in an exhaust path for exhausting the components from the airtight chamber by a vacuum pump and has a trap portion for attaching and removing components in the exhaust gas are regenerated. In the regeneration method, the deposits attached to the trap portion are gasified by substance under reduced pressure, and the gasified regeneration gas is transferred to each regeneration gas trap container for each substance and precipitated again in the container. It is a regeneration method of the trap device.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態について説明する。図1ないし図5は、この発明
のトラップ装置を用いた真空排気システムを示すもの
で、気密チャンバ10を真空ポンプ12により排気する
排気経路14に隣接して再生ガス排出経路16が配置さ
れ、この排気経路14及び再生ガス排出経路16の双方
に跨るようにトラップ本体20が設けられている。排気
経路14の真空ポンプ12の後段には、排ガスを除害す
るための排ガス処理装置24が設けられている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIGS. 1 to 5 show a vacuum exhaust system using the trap apparatus of the present invention. A regeneration gas exhaust path 16 is arranged adjacent to an exhaust path 14 for exhausting the airtight chamber 10 by a vacuum pump 12. A trap body 20 is provided so as to straddle both the exhaust path 14 and the regeneration gas discharge path 16. An exhaust gas treatment device 24 for removing exhaust gas is provided downstream of the vacuum pump 12 in the exhaust path 14.

【0022】このトラップ本体20は、ケーシング26
内に構成されたトラップ室32aと再生室34aと、こ
のトラップ室32aと再生室34aとの間を排気経路1
4及び再生ガス排出経路16に交差する方向に移動自在
なトラップ部18を有している。
The trap body 20 includes a casing 26
The trapping chamber 32a and the regenerating chamber 34a formed therein, and the exhaust path 1 is provided between the trap chamber 32a and the regenerating chamber 34a.
4 and a trap portion 18 movable in a direction intersecting the regeneration gas discharge path 16.

【0023】排ガス排出経路16は、再生室34a内の
圧力を調整する圧力調整バルブ96を有し、さらに、そ
の下流において3つの経路16a〜16cに分岐してい
る。各経路には、それぞれ択一的に開かれる切替弁98
a〜98c 、再生ガストラップ容器22a〜22cが
設けられ、再生用真空ポンプ13a〜13cに接続され
ている。再生用真空ポンプ13a〜13cは、それぞれ
個別に稼動し、再生室34a内を順次低下する設定圧力
にするように動作制御される。
The exhaust gas discharge path 16 has a pressure adjusting valve 96 for adjusting the pressure in the regeneration chamber 34a, and further branches downstream into three paths 16a to 16c. In each path, a switching valve 98 which is opened alternatively is provided.
a to 98c and regeneration gas trap containers 22a to 22c are provided and connected to the regeneration vacuum pumps 13a to 13c. The regeneration vacuum pumps 13a to 13c are individually operated, and are operationally controlled so that the pressure inside the regeneration chamber 34a is gradually reduced.

【0024】図2及び図3は、トラップ本体20を示す
もので、これは、排気経路14と再生ガス排出経路16
に跨って配置された直方体状のケーシング26と、この
ケーシング26を交差方向に貫通する軸体28と、この
軸体28を軸方向に往復移動させる切替手段であるエア
シリンダ30を備えている。ケーシング26は、内部を
トラップ室32aとしたトラップ容器32と、内部を再
生室34aとした再生容器34とを有している。
FIGS. 2 and 3 show the trap body 20, which includes an exhaust path 14 and a regeneration gas discharge path 16.
, A shaft body 28 penetrating the casing 26 in the cross direction, and an air cylinder 30 as switching means for reciprocating the shaft body 28 in the axial direction. The casing 26 has a trap container 32 whose inside is a trap chamber 32a and a regeneration container 34 whose inside is a regeneration chamber 34a.

【0025】トラップ容器32には、排気経路14に接
続されてトラップ室32a内に排ガスを導入する排ガス
導入口32bと、このトラップ室32a内の排ガスを排
出する排ガス排出口32cが設けられている。また再生
容器34には、この内部の圧力を開放する開放口34b
と、この再生室34a内を吸引する吸引口34cが設け
られている。
The trap container 32 is provided with an exhaust gas inlet 32b connected to the exhaust path 14 for introducing exhaust gas into the trap chamber 32a and an exhaust gas outlet 32c for discharging exhaust gas in the trap chamber 32a. . The regeneration container 34 has an opening 34b for releasing the internal pressure.
And a suction port 34c for sucking the inside of the regeneration chamber 34a.

【0026】軸体28には、断熱性を有する素材からな
る一対のシール板40が配置され、その間に複数のバッ
フル板42が熱伝導を良くするために溶接等により軸体
28に一体に取付けられトラップ部18が構成されてい
る。トラップ容器32と再生室34との隣接側には、バ
ッフル板42は通過できるがシール板40は通過できな
いような大きさの開口部36が設けられている。更に、
軸体28のケーシング26からの両突出部には、ベロー
ズ44が設けられており、排気経路14及び再生経路1
6と外部環境との間の気密性を維持している。
A pair of seal plates 40 made of a heat insulating material are disposed on the shaft 28, and a plurality of baffle plates 42 are integrally attached to the shaft 28 by welding or the like in order to improve heat conduction. The trap section 18 is configured. On the side adjacent to the trap container 32 and the regeneration chamber 34, an opening 36 having a size such that the baffle plate 42 can pass but the seal plate 40 cannot pass is provided. Furthermore,
Bellows 44 are provided on both protruding portions of the shaft body 28 from the casing 26, and the exhaust path 14 and the regeneration path 1 are provided.
6 and the external environment are kept airtight.

【0027】トラップ容器32の開口部36を挟んだ両
側と該開口部36と対面する内面の合計4カ所には、シ
ール板40の外形に沿った形状に形成されたシール板収
納部46が設けられている。シール板40は断熱性の高
い素材で形成されて、トラップ室32aと再生室34a
の間の熱移動を阻止するようにしているとともに、この
外周端面は、横断面円状に形成され、ここにシール部4
8が設けられている。このシール部48は、シール板4
0の外周端面に設けた凹部40a内にシール材としての
Oリング50を嵌着して構成され、このシール板40が
シール板収納部46内に位置した時、Oリング50がシ
ール板収納部46の内周面に圧接するようになってい
る。ここに、このシール板収納部46の内周面は、シー
ル板40が入り易くなるように、テーパ状に形成されて
いる。
[0027] The total of four places of the inner surface facing opposite sides of the opening 36 of the trap container 32 and the opening 36, the seal plate accommodating section 46 formed in a shape along the outer shape of the sealing plate 40 Is provided. The seal plate 40 is formed of a material having high heat insulating properties, and includes a trap chamber 32a and a regeneration chamber 34a.
The outer peripheral end surface is formed in a circular cross section, and the seal portion 4
8 are provided. The sealing portion 48 is provided on the sealing plate 4.
The O-ring 50 is formed by fitting an O-ring 50 as a sealing material into a concave portion 40 a provided on the outer peripheral end surface of the O-ring 50. The inner peripheral surface 46 is pressed against the inner peripheral surface. Here, the inner peripheral surface of the seal plate housing portion 46 is formed in a tapered shape so that the seal plate 40 can easily enter.

【0028】更に、シール板40の側端面または該側端
面が当接するシール板収納部46の壁面の一方には、第
2のシール部52が設けられている。この例では、1枚
のシール板40の1側端面に第2のシール部52を、3
つのシール板収納部46に第2のシール部52をそれぞ
れ設けた例を示している。すなわち、シール板40にあ
っては、その側端面にリング状の凹部40bを設け、こ
の凹部40b内にOリング54を嵌着することによっ
て、またシール板収納部46にあっては、この壁面にリ
ング状の凹部46aを設け、この凹部46a内にOリン
グ54を嵌着することによって、第2のシール部52が
構成されている。
Further, a second seal portion 52 is provided on one of the side end surfaces of the seal plate 40 or one of the wall surfaces of the seal plate storage portion 46 with which the side end surface abuts. In this example, the second seal portion 52 is provided on one end surface of one seal plate 40.
An example is shown in which two seal portions 52 are provided in two seal plate storage portions 46, respectively. That is, in the seal plate 40, a ring-shaped concave portion 40b is provided on the side end surface thereof, and the O-ring 54 is fitted in the concave portion 40b. A second seal portion 52 is formed by providing a ring-shaped concave portion 46a in the concave portion and fitting an O-ring 54 into the concave portion 46a.

【0029】このように、シール板40とケーシング2
6(トラップ容器32及び再生容器34)との間をシー
ル板40の外周端面と側端面で二重にシールすることに
より、ここでのシールの完全性を図って、排気経路14
と再生経路16の気密性を維持している。
As described above, the sealing plate 40 and the casing 2
6 (the trap container 32 and the regeneration container 34) is double-sealed at the outer peripheral end face and the side end face of the seal plate 40, thereby assuring the integrity of the seal here and the exhaust path 14
And the airtightness of the reproduction path 16 is maintained.

【0030】軸体28は、金属等の熱伝導性の良い材料
により形成された2重円筒体として形成され、冷媒供給
管56から供給された冷媒が軸体28の内側の管の内部
を通った後、両管の間の隙間を流れて冷媒排出管58か
ら排出され、これによって、バッフル板42が冷却され
るようになっている。ここにこの冷媒としては、例えば
液体窒素のような液体又は冷却された空気又は水等が使
用される。なお、再生の際には、この冷媒の供給を停止
するとともに、冷媒の替わりに再生用の加熱用熱媒体を
流通させることもできる。
The shaft 28 is formed as a double cylinder made of a material having good heat conductivity such as metal, and the refrigerant supplied from the refrigerant supply pipe 56 passes through the inside of the pipe inside the shaft 28. After that, it flows through the gap between the two pipes and is discharged from the refrigerant discharge pipe 58, whereby the baffle plate 42 is cooled. Here, as the refrigerant, for example, a liquid such as liquid nitrogen or cooled air or water is used. At the time of regeneration, the supply of the refrigerant may be stopped, and a heating heat medium for regeneration may be circulated instead of the refrigerant.

【0031】再生ガストラップ容器22a〜22cは、
図4に示すように、比較的大容量の箱状に形成され、再
生ガス排出経路16(図1参照)に連通して内部に再生
ガスを導入する再生ガス導入口60と、再生用真空ポン
プ13a〜13c(図1参照)に連通する排気口62と
が設けられ、底部には、移動用のキャスタ64が取り付
けられている。更に、内部に液体窒素等の冷媒を流す中
空の冷却パイプ66が配置され、この冷却パイプ66に
はその軸方向に沿って所定のピッチで多数のバッフル板
68が溶接等によって一体に取り付けられている。
The regeneration gas trap containers 22a to 22c
As shown in FIG. 4, a regeneration gas inlet 60 formed into a relatively large-capacity box and communicating with the regeneration gas discharge path 16 (see FIG. 1) to introduce the regeneration gas therein, and a regeneration vacuum pump An exhaust port 62 communicating with 13a to 13c (see FIG. 1) is provided, and a caster 64 for movement is attached to the bottom. Further, a hollow cooling pipe 66 through which a coolant such as liquid nitrogen flows is disposed, and a number of baffle plates 68 are integrally attached to the cooling pipe 66 at a predetermined pitch along the axial direction by welding or the like. I have.

【0032】このように、比較的大容量の再生ガストラ
ップ容器22a〜22c内に再生ガスをトラップして貯
蔵することにより、この交換周期を長くするとともに、
例えば排ガス成分で一杯になった再生ガストラップ容器
22a〜22cを廃棄物処理業者に引き渡すこと等によ
り、再利用等、この処理を容易に行うことができる。
As described above, by trapping and storing the regeneration gas in the regeneration gas trap containers 22a to 22c having a relatively large capacity, the replacement cycle can be lengthened,
For example, by transferring the regenerated gas trap containers 22a to 22c which are full of the exhaust gas component to a waste disposal company, it is possible to easily perform this processing such as reuse.

【0033】なお、液体窒素等の冷媒を流す代わりに、
図6に示すように、例えば冷却パイプ66をヘリウム冷
凍機等の冷凍機70で冷やし、この冷却パイプ66に熱
的に結合されたバッフル板68を冷却するようにしても
良い。
Instead of flowing a refrigerant such as liquid nitrogen,
As shown in FIG. 6, for example, the cooling pipe 66 may be cooled by a refrigerator 70 such as a helium refrigerator, and the baffle plate 68 thermally connected to the cooling pipe 66 may be cooled.

【0034】エアシリンダ30の駆動用のエアー配管
は、図5に示すようになっている。すなわち、エアー源
からのエアーはレギュレータ80で減圧され、ソレノイ
ドバルブ82に送られ、これの電磁信号による開閉の切
替によって制御されてシリンダ30に送られ、ピストン
が前進又は後退をする。この時のシリンダ30の駆動速
度はスピードコントローラ84で制御される。ソレノイ
ドバルブ82は、例えば、シーケンサ、リレー等からの
制御信号により、この例では一定時間毎に切替動作が行
われるように制御される。
The air pipe for driving the air cylinder 30 is as shown in FIG. That is, the air from the air source is depressurized by the regulator 80, sent to the solenoid valve 82, and controlled to be opened or closed by an electromagnetic signal, sent to the cylinder 30, and the piston moves forward or backward. The driving speed of the cylinder 30 at this time is controlled by the speed controller 84. In this example, the solenoid valve 82 is controlled by a control signal from a sequencer, a relay, or the like so that the switching operation is performed at regular intervals.

【0035】なお、トラップ部18のバッフル板42等
の所定位置に温度センサ90が、また、排気経路14の
トラップ部18の前後に圧力センサ92が設けられ、こ
れにより温度や差圧を検知することができるようになっ
ている。
A temperature sensor 90 is provided at a predetermined position such as the baffle plate 42 of the trap section 18, and a pressure sensor 92 is provided before and after the trap section 18 of the exhaust path 14, thereby detecting a temperature and a differential pressure. You can do it.

【0036】このような構成の発明の実施の形態のトラ
ップ装置の作用を説明する。図2に示す位置において、
トラップ室32a内に位置するトラップ部18には冷媒
供給管56から液体窒素や冷却空気又は水等の冷媒が供
給され、これは軸体28と、これを介してバッフル板4
2を冷却する。従って、これに接触した排ガス中の特定
の成分はここで析出してこれらに付着し、トラップされ
る。
The operation of the thus configured trap device of the embodiment of the invention will be described. In the position shown in FIG.
A coolant such as liquid nitrogen, cooling air, or water is supplied from a coolant supply pipe 56 to the trap portion 18 located in the trap chamber 32a, and the coolant is supplied to the shaft 28 and the baffle plate 4 via the shaft 28.
Cool 2 Therefore, specific components in the exhaust gas that come into contact therewith are deposited here, adhere to them, and are trapped.

【0037】所定時間の経過後にエアシリンダ30が動
作し、図3に示すように、トラップ室32aに有ったト
ラップ部18が再生室34a内に位置するように切り替
えられる。ここで、再生用真空ポンプ13a〜13cを
順次1つづつ起動して再生室34a内を事前に設定され
たそれぞれ異なる圧力に減圧する。まず、第1の再生ガ
ス排出経路の弁98aのみを開いて再生用真空ポンプ1
3aで再生室34a内を第1の設定圧力に減圧する。こ
れにより、トラップ部18でトラップされた析出物のう
ち、比較的気化しやすい成分が再生室34a内で気化
し、この気化した再生ガスは、再生ガス排出経路16
a,16を経由して再生ガストラップ容器22aに導か
れる。
After a lapse of a predetermined time, the air cylinder 30 operates to switch the trap portion 18 in the trap chamber 32a so as to be located in the regeneration chamber 34a, as shown in FIG. Here, the regeneration vacuum pumps 13a to 13c are sequentially activated one by one to reduce the pressure in the regeneration chamber 34a to preset different pressures. First, only the valve 98a of the first regeneration gas discharge path is opened and the regeneration vacuum pump 1 is opened.
At 3a, the pressure inside the regeneration chamber 34a is reduced to the first set pressure. As a result, of the precipitates trapped in the trap portion 18, relatively easily vaporized components are vaporized in the regeneration chamber 34a, and the vaporized regeneration gas is supplied to the regeneration gas discharge path 16
a and 16 to the regeneration gas trap container 22a.

【0038】そして、再生ガスは、この再生ガストラッ
プ容器22a内で冷却されたバッフル板68で再度トラ
ップされ、このトラップ後のガスは再生用真空ポンプ1
3aから外部に排出される。次に、この成分が充分に再
生された時点で切替弁98aを閉じ、98bを開として
再生用ポンプ13bにより再生室34aを第1の設定圧
力より低い第2の圧力に減圧する。これにより、この圧
力で気化する成分が再生され、再生ガストラップ容器2
2bに導かれて溜められる。この後、同様にして第3の
再生用ポンプ13cにより再生室34aを第2の設定圧
力より低い第3の圧力に減圧し、最も気化しにくい成分
が再生され、再生ガストラップ容器22cに導かれて溜
められる。
[0038] Then, the regeneration gas, the reproduced gas trap 22 a in a cooled again trapped in the baffle plate 68, the gas after the trap regeneration vacuum pump 1
3a is discharged to the outside. Next, when this component is sufficiently regenerated, the switching valve 98a is closed, 98b is opened, and the regenerating chamber 34a is depressurized to a second pressure lower than the first set pressure by the regenerating pump 13b. As a result, the components vaporized at this pressure are regenerated, and the regenerated gas trap container 2
It is led to 2b and stored. Thereafter, similarly, the pressure of the regeneration chamber 34a is reduced to a third pressure lower than the second set pressure by the third regeneration pump 13c, and the component which is hardest to vaporize is regenerated, and is led to the regeneration gas trap container 22c. Can be stored.

【0039】このようにして、トラップされた付着物は
その成分に応じて分離されて各再生ガストラップ容器2
2a〜22cに貯蔵される。再生ガストラップ容器22
a〜22cは貯留成分で一杯になった時に新たなものと
交換され、それぞれ、再利用、廃棄等の所定の処理に回
される。
In this manner, the trapped deposits are separated according to their components, and are separated into the respective regeneration gas trap containers 2.
2a to 22c. Regeneration gas trap container 22
When a to 22c are full of stored components, they are replaced with new ones, and are respectively sent to predetermined processes such as reuse and disposal.

【0040】ここで、軸体28の両突出部は、伸縮する
ベローズ44により気密を維持されているので、外部と
の間の熱移動によるエネルギーロスや処理の効率低下が
抑えられ、安定したトラップと再生処理が行われるとと
もに、外部からの汚染要素が再生ガス排出経路16に侵
入することも防止される。
Here, since both the protruding portions of the shaft body 28 are kept airtight by the bellows 44 which expand and contract, energy loss due to heat transfer to the outside and a reduction in processing efficiency are suppressed, and a stable trap is formed. The regeneration process is also performed, and the contamination element from the outside is prevented from entering the regeneration gas discharge path 16.

【0041】なお、トラップのための冷却手段として、
熱電効果により冷却を行なう熱電素子(ペルチェ素子)
を用いた冷却器を使用しても良いことは勿論である。こ
の種の冷却器は、2枚の金属板の間に熱電素子を間隔を
置いて配置することによって構成される。この実施の形
態では、再生ガストラップ容器を3個並列に設けた例を
示しているが、必要に応じて適宜の数を設けても良いこ
とは勿論である。
As a cooling means for the trap,
Thermoelectric element that cools by thermoelectric effect (Peltier element)
It is a matter of course that a cooler using the above may be used. This type of cooler is constructed by placing a thermoelectric element at a distance between two metal plates. In this embodiment, an example is shown in which three regeneration gas trap containers are provided in parallel, but it is needless to say that an appropriate number may be provided as needed.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、トラップ部でトラップした成分を該トラップ部を加
熱したり洗浄液を使用することなく、減圧することによ
ってガス再生することができ、これによって、装置の規
模を簡略化するとともに、設備コストのコストダウンを
図ることができる。また、複数の再生ガス排出経路を設
けることにより、排ガスを物質別に回収して処置してそ
の処理を成分の特性に応じて行うことができるので、そ
れぞれの処理が効率的にかつ低コストで行われ、再利用
も容易である。
As described above, according to the present invention, the components trapped in the trap portion can be regenerated by reducing the pressure without heating the trap portion or using a cleaning liquid. Thereby, the scale of the apparatus can be simplified, and the cost of equipment can be reduced. In addition, by providing a plurality of regeneration gas discharge paths, exhaust gas can be collected and treated for each substance, and the processing can be performed according to the characteristics of the components, so that each processing can be performed efficiently and at low cost. It is easy to reuse.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の1つの実施の形態のトラップ装置の
構造を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a structure of a trap device according to one embodiment of the present invention.

【図2】図1の実施の形態で使用されるトラップ本体を
一部を破断して示す正面図である。
FIG. 2 is a partially cutaway front view showing a trap body used in the embodiment of FIG. 1;

【図3】図2のトラップ本体の切替後の一部切断の正面
図である。
FIG. 3 is a front view of a partially cut state after switching of the trap body of FIG. 2;

【図4】図1の実施の形態で使用される再生ガストラッ
プ容器の断面図である。
FIG. 4 is a sectional view of a regeneration gas trap container used in the embodiment of FIG.

【図5】エアシリンダの駆動系を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a drive system of an air cylinder.

【図6】再生ガストラップ容器の別の例を示す断面図で
ある。
FIG. 6 is a sectional view showing another example of the regeneration gas trap container.

【図7】従来の真空排気システムの構造を示す図であ
る。
FIG. 7 is a view showing the structure of a conventional evacuation system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 真空チャンバ 12 主真空ポンプ 13a,13b,13c 再生用真空ポンプ 14 排気経路 16 再生ガス排出経路 18 トラップ部 20 トラップ本体 22a,22b,22c 再生ガストラップ容器 26 ケーシング 28 軸体 30 エアシリンダ(駆動手段) 32 トラップ容器 32a トラップ室 34 再生容器 34a 再生室 42 バッフル板 46 シール板収納部 48,52 シール部 66 冷却パイプ 68 バッフル板 96 圧力調整バルブ 98a,98b,98c 切替弁 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Vacuum chamber 12 Main vacuum pump 13a, 13b, 13c Vacuum pump for reproduction | regeneration 14 Evacuation path 16 Regeneration gas discharge path 18 Trap part 20 Trap main body 22a, 22b, 22c Regeneration gas trap container 26 Casing 28 Shaft 30 Air cylinder (driving means) 32) Trap container 32a Trap chamber 34 Regeneration container 34a Regeneration chamber 42 Baffle plate 46 Seal plate storage part 48, 52 Seal part 66 Cooling pipe 68 Baffle plate 96 Pressure regulating valve 98a, 98b, 98c Switching valve

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F04B 37/16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) F04B 37/16

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 気密チャンバから真空ポンプにより排気
する排気経路に配置され、排ガス中の成分を付着させて
除去するトラップ部を有するトラップ装置において、 前記排気経路に隣接して前記トラップ部に付着した付着
物を減圧によりガス化させて排出する再生ガス排出経路
が設けられ、 前記トラップ部を前記排気経路と再生ガス排出経路に切
替える切替手段が設けられ 前記再生ガス排出経路には、付着物を物質別にガス化し
成分毎にトラップする複数の再生ガストラップ容器が並
列に設けられ ていることを特徴とするトラップ装置。
1. A trap device disposed in an exhaust path for exhausting air from a hermetic chamber by a vacuum pump and having a trap section for attaching and removing components in exhaust gas, wherein the trap section is attached to the trap section adjacent to the exhaust path. deposits regeneration gas discharge path for discharging by gasification is provided by vacuum, the trap portion switching means for switching the regeneration gas exhaust path and the exhaust path provided with, on the regeneration gas discharge path, a deposit Gasification by substance
Multiple regeneration gas trap containers that trap each component
A trap device provided in a row .
【請求項2】 前記切替手段は、前記トラップ部を前記
排気経路及び再生ガス排出経路に移動させるものである
ことを特徴とする請求項1に記載のトラップ装置。
2. The switching device according to claim 1 , wherein
It is moved to the exhaust path and regeneration gas discharge path
The trap device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記切替手段は、前記トラップ部を前記
排気経路及び再生ガス排出経路に弁の操作で切り替える
ものであることを特徴とする請求項1に記載のトラップ
装置。
3. The switching means includes :
Switching to exhaust path and regeneration gas discharge path by operating a valve
2. The trap according to claim 1, wherein
apparatus.
【請求項4】 気密チャンバから真空ポンプにより排気
する排気経路に配置され、排ガス中の成分を付着させて
除去するトラップ部を有するトラップ装置で捕捉した前
記成分を再生する再生方法において、 前記トラップ部に付着した付着物を減圧によって物質別
にガス化し、このガス化した再生ガスを物質別の各再生
ガストラップ容器に移送し該容器内で再度析出させるこ
とを特徴とするトラップ装置の再生方法。
4. Evacuation from a hermetic chamber by a vacuum pump
Is placed in the exhaust path,
Before captured by a trap device with a trap section to be removed
In the regeneration method for regenerating the above-mentioned components, the deposits adhering to the trap portion are separated into
And regenerate this gasified regeneration gas by substance.
Transfer to a gas trap container and allow it to precipitate again in the container.
And a method for regenerating a trap device.
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