JPH10172285A - Semiconductor storage - Google Patents

Semiconductor storage

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Publication number
JPH10172285A
JPH10172285A JP8330628A JP33062896A JPH10172285A JP H10172285 A JPH10172285 A JP H10172285A JP 8330628 A JP8330628 A JP 8330628A JP 33062896 A JP33062896 A JP 33062896A JP H10172285 A JPH10172285 A JP H10172285A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
precharge
circuit
bit line
memory cell
precharging
Prior art date
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Application number
JP8330628A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuo Kaihara
光男 貝原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH10172285A publication Critical patent/JPH10172285A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor storage for reducing a consumption current in high-voltage operation state and compensating for an operation in low-voltage operation state. SOLUTION: When an address is inputted to an address input part 22, address transition signals ATDS0-ATDSn are outputted from address transition detection circuits ATD0-ATDn to a synchronization signal generation circuit 33. Then, the synchronization signal generation circuit 33 operates a first precharge circuit 25 and performs precharging for a memory cell array 24. A precharge end detection circuit 27 detects whether precharging is sufficient or not, and a precharge control circuit 37 operates a second precharge circuit 26 for performing precharging at a higher voltage level than the first precharge circuit 25 when precharging is not sufficient, namely in a low-voltage operation state.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、RAM(ランダム
アクセスメモリ)等に好適に用いられ、プリチャージを
行なってメモリセルのデータの読出し又は書込みを行う
半導体記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device which is suitably used for a RAM (random access memory) or the like, and which performs precharge to read or write data in a memory cell.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、SRAM(スタティックラン
ダムアクセスメモリ)等の半導体記憶装置は、アドレス
がアドレス入力端子に入力されると、メモリセルのビッ
ト線に対してプリチャージを行い、入力されたアドレス
に基づいてワード線を活性化するなどの処理を行って、
メモリセルのデータの読出し又は書込みを行っている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a semiconductor memory device such as an SRAM (Static Random Access Memory) precharges a bit line of a memory cell when an address is input to an address input terminal, and inputs the input address. Processing such as activating the word line based on the
Data is read from or written to the memory cell.

【0003】図8は従来の半導体記憶装置の内部構成を
示すブロック図であり、図9は従来の半導体記憶装置の
データの読出動作を示すタイムチャートである。
FIG. 8 is a block diagram showing an internal configuration of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 9 is a time chart showing a data reading operation of the conventional semiconductor memory device.

【0004】従来の半導体記憶装置1は、アドレス入力
端子A0〜An、アドレス遷移検出回路ATD0〜AT
Dn、同期信号発生回路2、プリチャージ回路3、メモ
リセルアレイ4、ダミーメモリセル群5、プリチャージ
終了検出回路6、列デコーダ7、行デコーダ8、入出力
回路9、入出力端子10、アドレスバッファ11、及び
列ゲート12を備える。
The conventional semiconductor memory device 1 includes address input terminals A0 to An, address transition detection circuits ATD0 to AT
Dn, synchronization signal generation circuit 2, precharge circuit 3, memory cell array 4, dummy memory cell group 5, precharge end detection circuit 6, column decoder 7, row decoder 8, input / output circuit 9, input / output terminal 10, address buffer 11 and a column gate 12.

【0005】アドレス遷移検出回路ATD0〜ATDn
は、アドレスが入力される各アドレス入力端子A0〜A
nに対してそれぞれ設けられる。例えば、データを読出
すときにおいて、データの格納位置を指定するアドレス
が前記アドレス入力端子A0〜Anに入力されると(図
9(a)参照)、前記アドレス遷移検出回路ATD0〜
ATDnは、アドレス遷移信号(ATDS0〜ATDS
n)を同期信号発生回路2に出力する(図9(b)参
照)。
Address transition detection circuits ATD0 to ATDn
Are address input terminals A0 to A to which an address is input.
n. For example, when reading data, if an address designating a data storage position is input to the address input terminals A0 to An (see FIG. 9A), the address transition detection circuits ATD0 to ATD0.
ATDn is an address transition signal (ATDS0 to ATDS).
n) is output to the synchronization signal generating circuit 2 (see FIG. 9B).

【0006】同期信号発生回路2は、アドレス遷移信号
(ATDS0〜ATDSn)が与えられると、プリチャ
ージ制御信号(PRC)をプリチャージ回路3に出力す
る(図9(c)参照)。プリチャージ回路3は、前記プ
リチャージ信号(PRC)が与えられると、メモリセル
アレイ4及びダミーメモリセル群5の列方向のビット線
に電圧を印加してプリチャージを行う。そして、プリチ
ャージ終了検出回路6は、ダミーメモリセル群5の列方
向のビット線のプリチャージが所定の電圧レベルに達し
たかどうかを検出し、前記同期信号発生回路2にプリチ
ャージ終了信号(PRCEND)を出力する(図9
(d)参照)。
When the address transition signals (ATDS0 to ATDSn) are applied, the synchronization signal generation circuit 2 outputs a precharge control signal (PRC) to the precharge circuit 3 (see FIG. 9C). When the precharge signal (PRC) is applied, the precharge circuit 3 performs precharge by applying a voltage to bit lines in the column direction of the memory cell array 4 and the dummy memory cell group 5. The precharge end detection circuit 6 detects whether the precharge of the bit line in the column direction of the dummy memory cell group 5 has reached a predetermined voltage level, and sends a precharge end signal ( PRCEND) (FIG. 9)
(D)).

【0007】前記同期信号発生回路2は、プリチャージ
終了信号(PRCEND)が与えられると、デコーダ活
性化信号(DEN)を列デコーダ7及び行デコーダ8に
出力する(図9(e)参照)。行デコーダ8は、アドレ
スバッファ11に一時的に格納されていたアドレスに基
づいてワードライン選択信号(WL)を出力する(図9
(f)参照)。また、このときに、列デコーダ7は、列
ゲート12を制御して、入力されたアドレスに格納され
ているデータDA0〜DAmを入出力部9を介して入出
力端子10から読出す(図9(g)参照)。
When receiving the precharge end signal (PRCEND), the synchronization signal generating circuit 2 outputs a decoder activation signal (DEN) to the column decoder 7 and the row decoder 8 (see FIG. 9 (e)). Row decoder 8 outputs a word line selection signal (WL) based on the address temporarily stored in address buffer 11 (FIG. 9).
(F)). At this time, the column decoder 7 controls the column gate 12 to read the data DA0 to DAm stored at the input address from the input / output terminal 10 via the input / output unit 9 (FIG. 9). (G)).

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】上述の半導体記憶装置
1は、特に近年、保証電圧2V〜5Vの範囲で動作する
ことが要望されるとともに、携帯情報処理装置等の普及
に伴って低消費電力が図られている。
The above-mentioned semiconductor memory device 1 is required to operate within a guaranteed voltage range of 2 V to 5 V, in particular, and the power consumption has been reduced with the spread of portable information processing devices. Is planned.

【0009】前記半導体記憶装置1は、消費電流を低減
させるためにプリチャージ回路3にnチャネル型のMO
Sトランジスタを用いて、メモリセルアレイ4のビット
線のプリチャージを行っている。例えば、nチャネル型
のMOSトランジスタのゲート電極にVtn(0.8
V)の電圧レベルを印加することで、前述のプリチャー
ジ動作が行われるとする。このときに、前記ビット線に
プリチャージされる電圧レベルは、電源電圧Vcc−V
tn(0.8V)−αの示す値となる。なお、αは半導
体記憶装置1が構成される基板の特性によって定められ
る。したがって、高電圧動作状態(電源電圧Vcc=5
V)の場合にビット線の電圧レベルは約3.6V程度と
なり、消費電流の低減化が図られている。
The semiconductor memory device 1 includes an n-channel type MO in the precharge circuit 3 in order to reduce current consumption.
The bit line of the memory cell array 4 is precharged by using the S transistor. For example, the gate electrode of an n-channel MOS transistor has Vtn (0.8
It is assumed that the precharge operation described above is performed by applying the voltage level V). At this time, the voltage level precharged to the bit line is the power supply voltage Vcc-V
tn (0.8 V) -α. Note that α is determined by the characteristics of the substrate on which the semiconductor memory device 1 is formed. Therefore, the high voltage operation state (power supply voltage Vcc = 5)
V), the voltage level of the bit line is about 3.6 V, and the current consumption is reduced.

【0010】しかしながら、低電圧動作状態(電源電圧
Vcc=2V)の場合に、ビット線の電圧レベルはビッ
ト線のプリチャージに少なくとも必要な電源電圧Vcc
の半分以上の電圧レベルにならない。したがって、ビッ
ト線のプリチャージ終了状態が検出できず、データの読
出動作を行うことができないという問題が生じている。
However, in the low voltage operation state (power supply voltage Vcc = 2 V), the voltage level of the bit line is at least the power supply voltage Vcc necessary for precharging the bit line.
Voltage level is not more than half of Therefore, there is a problem that the precharge end state of the bit line cannot be detected and the data read operation cannot be performed.

【0011】この問題を解決するために、ビット線の電
圧レベルを電源電圧Vccのレベルに設定するpチャネ
ル型のMOSトランジスタをプリチャージ回路3に用い
ることが考えられる。しかし、このプリチャージ回路3
は、高電圧動作状態(電源電圧Vcc=5V)の場合で
もビット線の電圧レベルを電源電圧Vccの電圧レベル
に設定するので、消費電流が増大するという問題が生じ
ている。
In order to solve this problem, it is conceivable to use a p-channel MOS transistor for setting the voltage level of the bit line to the level of the power supply voltage Vcc for the precharge circuit 3. However, this precharge circuit 3
Has a problem that the current consumption increases because the voltage level of the bit line is set to the voltage level of the power supply voltage Vcc even in the high voltage operation state (power supply voltage Vcc = 5 V).

【0012】また、MOSトランジスタのpチャネル型
及びnチャネル型の特性の相違を利用して、ビット線の
イコライズを行う技術が特公平4−56399号公報に
開示されている。しかし、この技術は、消費電流を低減
させるものではなく、データの読出し及び書込みの処理
速度を向上させるための技術である。
Japanese Patent Publication No. 4-56399 discloses a technique for equalizing a bit line by utilizing the difference between the p-channel type and n-channel type characteristics of a MOS transistor. However, this technique does not reduce current consumption, but is a technique for improving the processing speed of data reading and writing.

【0013】本発明の目的は、高電圧動作状態のときに
は消費電流の低減を図り、低電圧動作状態のときには動
作を補償する半導体記憶装置を提供することである。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which reduces current consumption in a high voltage operation state and compensates for an operation in a low voltage operation state.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、上記の課題を解決するために、ビット線とワード線
とに接続されたメモリセルを備える記憶手段と、前記ビ
ット線に対してプリチャージを行う第1プリチャージ手
段と、前記ビット線に対して前記第1プリチャージ手段
より高い電圧レベルでプリチャージを行う第2プリチャ
ージ手段と、前記ビット線に対するプリチャージが完了
したことを検出する検出手段と、前記検出手段が第1プ
リチャージ手段のプリチャージの完了を検出しないと
き、前記第2プリチャージ手段により、ビット線にプリ
チャージを行わせる制御手段と、を備えることを特徴と
する。
In order to solve the above-mentioned problems, a semiconductor memory device according to the present invention comprises: a memory unit having a memory cell connected to a bit line and a word line; First precharge means for performing precharge, second precharge means for performing precharge on the bit line at a higher voltage level than the first precharge means, and completion of precharge for the bit line. Detecting means for detecting, and when the detecting means does not detect completion of precharging of the first precharging means, control means for causing the bit line to precharge by the second precharging means. And

【0015】また、本発明の半導体記憶装置は、ビット
線とワード線とに接続されたメモリセルを備える記憶手
段と、前記記憶手段及びダミーメモリセルのビット線に
対してプリチャージを行う第1プリチャージ手段と、前
記記憶手段のビット線に対して前記第1プリチャージ手
段よりは高い電圧レベルでプリチャージを行う第2プリ
チャージ手段と、前記ダミーメモリセルのビット線に対
するプリチャージが完了したことを検出する検出手段
と、前記検出手段が第1プリチャージ手段のプリチャー
ジの完了を検出しないとき、前記第2プリチャージ手段
により、前記記憶手段のビット線にプリチャージを行わ
せる制御手段と、を備えることを特徴とする。
In the semiconductor memory device of the present invention, the memory means having memory cells connected to the bit line and the word line, and the memory means and the bit line of the dummy memory cell are precharged. Precharge means, second precharge means for precharging the bit line of the storage means at a higher voltage level than the first precharge means, and precharge of the bit line of the dummy memory cell is completed Detecting means for detecting the completion of precharging by the first precharging means, and controlling means for causing the bit line of the storage means to precharge by the second precharging means when the detecting means does not detect completion of precharging by the first precharging means , Is provided.

【0016】半導体記憶装置の使用される動作状態は、
高電圧動作状態となる場合もあれば、低電圧動作状態と
なる場合もある。上述の構成によれば、第1プリチャー
ジ手段は、例えば、アドレスが入力されると、前記記憶
手段のビット線に対してプリチャージを行う。半導体記
憶装置の動作状態が高電圧動作状態であるときには、前
記検出手段は前記記憶手段のビット線に対して行われた
プリチャージが完了したことを検出する。即ち、検出手
段は、記憶手段のビット線のプリチャージの電圧レベル
が所定の電圧レベル以上であることを検出する。これに
よって、第2プリチャージ手段を用いて前記記憶手段の
ビット線に対してプリチャージを行うことがない。した
がって、高い電圧レベルでプリチャージを行う第2プリ
チャージ手段を用いないので、消費電流を低減すること
ができる。これに対して、半導体記憶装置の動作状態が
低電圧動作状態であるときには、前記検出手段は、前記
記憶手段のビット線に対して行われたプリチャージが完
了したことを検出しない。即ち、前記検出手段は前記記
憶手段のビット線のプリチャージの電圧レベルが所定の
電圧レベル以上であることを検出できない。このとき
に、制御手段は第2プリチャージ手段を用いて前記記憶
手段のビット線に対してプリチャージを行う。したがっ
て、第1プリチャージ手段を用いた前記記憶手段のビッ
ト線に対するプリチャージが完了しないときには、第2
プリチャージ手段を用いてプリチャージを行うので、確
実に記憶手段のビット線に対してプリチャージを行うこ
とができる。また、記憶手段のダミーメモリセルのビッ
ト線に対するプリチャージが完了したかどうかを検出手
段が検出することで、検出手段が前記記憶手段のビット
線に対するプリチャージに与える影響を防止することが
できる。即ち、検出手段によるプリチャージの電圧レベ
ルの低下等を防止することができる。このため、さらに
確実に前記記憶手段のビット線に対するプリチャージを
行うことができる。
The operating state of the semiconductor memory device is as follows.
In some cases, it may be in a high voltage operation state or in a low voltage operation state. According to the above configuration, for example, when an address is input, the first precharge unit precharges the bit line of the storage unit. When the operation state of the semiconductor memory device is a high voltage operation state, the detection means detects that the precharge performed on the bit line of the storage means is completed. That is, the detection means detects that the precharge voltage level of the bit line of the storage means is equal to or higher than a predetermined voltage level. Thus, there is no need to precharge the bit line of the storage means using the second precharge means. Therefore, current consumption can be reduced because the second precharge means for performing precharge at a high voltage level is not used. On the other hand, when the operation state of the semiconductor memory device is the low-voltage operation state, the detection unit does not detect that the precharge performed on the bit line of the storage unit is completed. That is, the detection means cannot detect that the precharge voltage level of the bit line of the storage means is equal to or higher than a predetermined voltage level. At this time, the control means uses the second precharge means to precharge the bit line of the storage means. Therefore, when the precharge to the bit line of the storage means using the first precharge means is not completed, the second
Since the precharge is performed by using the precharge means, the precharge can be reliably performed on the bit line of the storage means. Further, by detecting whether or not the precharge of the bit line of the dummy memory cell of the storage means is completed, the influence of the detection means on the precharge of the bit line of the storage means can be prevented. That is, it is possible to prevent the voltage level of the precharge from being lowered by the detection means. Therefore, it is possible to more reliably precharge the bit lines of the storage means.

【0017】また、前記検出手段は、前記第1プリチャ
ージ手段のプリチャージが開始されてから所定時間内に
プリチャージが完了するかどうかを検出してもよい。検
出手段は第1プリチャージ手段のプリチャージが完了す
るかどうかを検出している。具体的には、検出手段は、
プリチャージが開始してから完了するまでの時間を保持
しておき、実際に記憶手段又はダミーメモリセルのビッ
ト線に対して第1プリチャージ手段のプリチャージが開
始してから前記時間が経過するまでプリチャージの完了
を検出する。
Further, the detection means may detect whether the precharge is completed within a predetermined time after the precharge of the first precharge means is started. The detection means detects whether the precharge of the first precharge means is completed. Specifically, the detecting means includes:
The time from the start of the precharge to the completion thereof is held, and the time elapses from the start of the precharge of the first precharge unit to the bit line of the storage unit or the dummy memory cell. Until the completion of the precharge is detected.

【0018】また、前記検出手段は、前記第1プリチャ
ージ手段のプリチャージが完了するかどうかを予め検出
するようにしてもよい。具体的には、検出手段は、電源
投入時に、第1プリチャージ手段のプリチャージが完了
するかを検出する。そして、完了しないことが検出され
ると、実際に記憶手段のビット線に対してプリチャージ
を行うときに、制御手段は直ちに第2プリチャージ手段
を用いることとなる。
The detecting means may detect in advance whether or not the precharging of the first precharging means is completed. Specifically, when the power is turned on, the detection unit detects whether the precharge of the first precharge unit is completed. Then, when the completion is detected, the control means immediately uses the second precharge means when actually precharging the bit line of the storage means.

【0019】また、本発明の半導体記憶装置は、ビット
線とワード線とに接続されたメモリセルを備える記憶手
段と、前記ビット線に対してプリチャージを行う第1プ
リチャージ手段と、前記ビット線に対して前記第1プリ
チャージ手段よりは高い電圧レベルでプリチャージを行
う第2プリチャージ手段と、前記第1プリチャージ手段
と同一の電圧レベルで疑似ダミーメモリセルのビット線
に対してプリチャージを予め行う疑似プリチャージ手段
と、前記疑似ダミーメモリセルのビット線に対するプリ
チャージが完了するかどうかを検出する疑似検出手段
と、前記疑似検出手段がプリチャージの完了を検出しな
い場合に、前記第2プリチャージ手段により、前記ビッ
ト線にプリチャージを行わせる制御手段と、を備えるこ
とを特徴とする。
Further, the semiconductor memory device of the present invention comprises a storage means including a memory cell connected to a bit line and a word line; a first precharge means for precharging the bit line; A second precharge means for precharging the bit line at a voltage level higher than that of the first precharge means, and a second precharge means for precharging the bit line of the pseudo dummy memory cell at the same voltage level as the first precharge means. Pseudo precharge means for performing charging in advance; pseudo detection means for detecting whether or not precharging of the bit line of the pseudo dummy memory cell is completed; and when the pseudo detection means does not detect completion of precharge, Control means for precharging the bit line by a second precharge means.

【0020】上述の構成によれば、第1プリチャージ手
段を用いて前記記憶手段のビット線に対するプリチャー
ジを行う。半導体記憶装置の動作状態が高電圧動作状態
であるときには、前記記憶手段のビット線に対するプリ
チャージは完了する。これに対して、半導体記憶装置の
動作状態が低電圧動作状態であるときには、第1プリチ
ャージ手段による前記記憶手段のビット線に対するプリ
チャージは完了しない。しかし、前記疑似検出手段は、
予め(例えば、電源投入時)疑似プリチャージ手段によ
るプリチャージが完了しないことを検出している。即
ち、第1プリチャージ手段によるプリチャージが完了し
ないことを検出している。したがって、前記制御手段
は、前記ビット線に対するプリチャージを行うときに直
ちに第2プリチャージ手段を用いることとなる。これに
よって、第2プリチャージ手段を用いて前記ビット線に
対するプリチャージを行うのに所定時間を要する半導体
記憶装置の処理動作よりも高速に処理動作を行うことが
できる。
According to the above arrangement, the bit line of the storage means is precharged using the first precharge means. When the operation state of the semiconductor memory device is the high-voltage operation state, the precharge of the bit line of the storage means is completed. On the other hand, when the operation state of the semiconductor memory device is the low voltage operation state, the precharge of the bit line of the storage unit by the first precharge unit is not completed. However, the pseudo-detection means,
It is detected in advance (for example, when the power is turned on) that the precharge by the pseudo precharge means is not completed. That is, it is detected that the precharge by the first precharge means is not completed. Therefore, the control means immediately uses the second precharge means when precharging the bit line. Thus, the processing operation can be performed at a higher speed than the processing operation of the semiconductor memory device that requires a predetermined time to perform the precharge on the bit line using the second precharge means.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下に、図を用いつつ本発明の半
導体記憶装置について説明を行なう。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A semiconductor memory device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0022】(実施の形態1)図1は、実施の形態1の
半導体記憶装置の内部構成を示すブロック図である。半
導体記憶装置20は、アドレス入力部22、同期信号発
生回路33、遅延回路35、プリチャージ制御回路3
7、メモリセルアレイ24、第1プリチャージ回路2
5、第2プリチャージ回路26、プリチャージ終了検出
回路27、データ入出力部28及びデコード部29を備
える。
(First Embodiment) FIG. 1 is a block diagram showing an internal configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment. The semiconductor memory device 20 includes an address input unit 22, a synchronization signal generation circuit 33, a delay circuit 35, a precharge control circuit 3,
7, memory cell array 24, first precharge circuit 2
5, a second precharge circuit 26, a precharge end detection circuit 27, a data input / output unit 28, and a decode unit 29.

【0023】アドレス入力部22は、アドレス入力端子
A0〜An、アドレス遷移検出回路ATD0〜ATDn
及びアドレスバッファ31を備える。アドレス入力部2
2は、アドレス入力端子A0〜Anから入力したアドレ
スをアドレスバッファ31に一時的に格納するととも
に、前記アドレス遷移検出回路ATD0〜ATDnから
アドレス遷移信号(ATDS0〜ATDSn)を同期信
号発生回路33に出力する。このアドレス遷移検出回路
ATD0〜ATDnは、入力されるアドレスの変化を検
出して前記アドレス遷移信号(ATDS0〜ATDS
n)を出力している。
The address input section 22 includes address input terminals A0 to An, address transition detection circuits ATD0 to ATDn.
And an address buffer 31. Address input section 2
2 temporarily stores the addresses input from the address input terminals A0 to An in the address buffer 31, and outputs address transition signals (ATDS0 to ATDSn) from the address transition detection circuits ATD0 to ATDn to the synchronization signal generation circuit 33. I do. The address transition detection circuits ATD0 to ATDn detect a change in the input address and detect the address transition signals (ATDS0 to ATDSn).
n) is output.

【0024】デコード部29は、Xデコーダ39及びY
デコーダ41で構成される。そして、デコード部29の
Xデコード39及びYデコーダ41は、同期信号発生回
路33からデコード活性化信号(DEN)が与えられる
と、前記アドレス入力部22のアドレスバッファ31か
らアドレスを入力する。Xデコード39はそのアドレス
に基づいて行方向のワード線を選択してワードライン選
択信号(WL)をメモリセルアレイ24に出力し、Yデ
コード41は前記アドレスに基づいてデータ入出力部2
8のYゲート43(後述する)に選択信号を供給してい
る。
The decoding unit 29 includes an X decoder 39 and a Y decoder
It is composed of a decoder 41. Then, the X decoder 39 and the Y decoder 41 of the decoding unit 29 receive an address from the address buffer 31 of the address input unit 22 when receiving the decode activation signal (DEN) from the synchronization signal generation circuit 33. The X decode 39 selects a word line in the row direction based on the address and outputs a word line select signal (WL) to the memory cell array 24. The Y decode 41 uses the data input / output unit 2 based on the address.
A selection signal is supplied to eight Y gates 43 (described later).

【0025】メモリセルアレイ24は、データを格納す
る複数のメモリセルが縦(Y:列方向)横(X:行方
向)に配置されて構成される。1つのメモリセルは、列
方向に形成される一対のビット線及び行方向に形成され
る1本のワード線に接続されている。
The memory cell array 24 includes a plurality of memory cells for storing data arranged vertically (Y: column direction) and horizontally (X: row direction). One memory cell is connected to a pair of bit lines formed in the column direction and one word line formed in the row direction.

【0026】同期信号発生回路33は、前記アドレス遷
移信号(ATDS0〜ATDSn)が与えられると、第
1プリチャージ回路25を活性化(プリチャージを開始
すること)させる第1プリチャージ制御信号(PRCH
1)を第1プリチャージ回路25及び遅延回路35に与
える。また、同期信号発生回路33は、プリチャージ終
了検出回路27からプリチャージ終了検出信号(PRC
END)が与えられている。プリチャージ終了検出信号
(PRCEND)は、メモリセルアレイ24のビット線
のプリチャージの電圧レベルが所定の電圧レベル以上で
あることを検出したこと(即ち、プリチャージが完了し
たこと)を示す信号である。このプリチャージ終了検出
信号(PRCEND)が与えられると、同期信号発生回
路33は、デコード活性化信号(DEN)をデコード部
29に出力している。
When the address transition signals (ATDS0 to ATDSn) are applied, the synchronization signal generation circuit 33 activates the first precharge circuit 25 (starts precharge).
1) is given to the first precharge circuit 25 and the delay circuit 35. Further, the synchronization signal generation circuit 33 outputs a precharge end detection signal (PRC) from the precharge end detection circuit 27.
END). The precharge end detection signal (PRCEND) is a signal indicating that the precharge voltage level of the bit line of the memory cell array 24 has been detected to be equal to or higher than a predetermined voltage level (that is, the precharge has been completed). . When the precharge end detection signal (PRCEND) is applied, the synchronization signal generation circuit 33 outputs a decode activation signal (DEN) to the decode unit 29.

【0027】遅延回路35は、前記第1プリチャージ制
御信号(PRCH1)が与えられてから所定時間T1だ
け経過したときに、遅延信号(PRCHD)をプリチャ
ージ制御回路37に与える。
The delay circuit 35 supplies a delay signal (PRCHD) to the precharge control circuit 37 when a predetermined time T1 has elapsed since the first precharge control signal (PRCH1) was supplied.

【0028】プリチャージ制御回路37は、プリチャー
ジ終了検出回路27からプリチャージ終了検出信号(P
RCEND)が与えられ、遅延回路35から遅延信号
(PRCHD)が与えられる。プリチャージ制御回路3
7は、前記遅延信号(PRCHD)が与えられたときに
前記プリチャージ終了検出信号(PRCEND)が与え
られていないと、第2プリチャージ回路26を活性化す
る第2プリチャージ制御信号(PRCH2)をプリチャ
ージ回路26に出力する。これに対して、プリチャージ
制御回路37は、前記遅延信号(PRCHD)が与えら
れたときに前記プリチャージ終了検出信号(PRCEN
D)が与えられていると、第2プリチャージ制御信号
(PRCH2)を出力しない。つまり、プリチャージ制
御回路37は、所定時間T1内にメモリセルアレイ24
のビット線のプリチャージの電圧レベルが所定レベル以
上でないとき(即ち、プリチャージが完了しないとき)
に第2プリチャージ回路26を活性化させる第2プリチ
ャージ制御信号(PRCH2)を出力している。
The precharge control circuit 37 outputs a precharge end detection signal (P
RCEND) and the delay signal (PRCHD) from the delay circuit 35. Precharge control circuit 3
7 is a second precharge control signal (PRCH2) that activates the second precharge circuit 26 when the delay signal (PRCHD) is supplied and the precharge end detection signal (PRCEND) is not supplied. To the precharge circuit 26. On the other hand, when the delay signal (PRCHD) is given, the precharge control circuit 37 outputs the precharge end detection signal (PRCEN).
When D) is given, the second precharge control signal (PRCH2) is not output. That is, the precharge control circuit 37 operates the memory cell array 24 within the predetermined time T1.
When the voltage level of the precharge of the bit line is not higher than the predetermined level (that is, when the precharge is not completed)
Outputs a second precharge control signal (PRCH2) for activating the second precharge circuit 26.

【0029】第1プリチャージ回路25は、前記メモリ
セルアレイ24の各ビット線に対して設けられるプリチ
ャージ用のnチャネル型のMOSトランジスタと、一対
のビット線に対して設けられるイコライズ用のnチャネ
ル型のMOSトランジスタとを備える。第1プリチャー
ジ回路25の各プリチャージ用のMOSトランジスタ
は、同期信号発生回路33から第1プリチャージ制御信
号(PRCH1)が与えられると、印加される電源電圧
Vccを用いて、前記メモリセルアレイ24の各ビット
線に対してプリチャージを行う。イコライズ用のMOS
トランジスタは、前記第1プリチャージ制御信号(PR
CH1)が与えられると、一対のビット線の電位を等し
くしている。
The first precharge circuit 25 includes an n-channel MOS transistor for precharge provided for each bit line of the memory cell array 24 and an n-channel MOS transistor for equalization provided for a pair of bit lines. Type MOS transistor. When the first precharge control signal (PRCH1) is supplied from the synchronization signal generation circuit 33, each precharge MOS transistor of the first precharge circuit 25 uses the applied power supply voltage Vcc to generate the memory cell array 24. Is precharged for each bit line. MOS for equalization
The transistor controls the first precharge control signal (PR
When CH1) is given, the potentials of the pair of bit lines are made equal.

【0030】第2プリチャージ回路26は、上述の第1
プリチャージ回路25の前記プリチャージ用のnチャネ
ル型のMOSトランジスタをpチャネル型のMOSトラ
ンジスタに置き換えた場合と同様の構成であり、前記第
1プリチャージ回路25と並列にメモリセルアレイ24
の各ビット線に接続されている。第2プリチャージ回路
26の各プリチャージ用のMOSトランジスタは、第2
プリチャージ制御信号(PRCH2)が与えられると、
印加される電源電圧Vccを用いて、メモリセルアレイ
24の各ビット線に対してプリチャージを行う。イコラ
イズ用のpチャネル型のMOSトランジスタは、前記第
2プリチャージ制御信号(PRCH2)が与えられる
と、一対のビット線の電位を等しくしている。
The second precharge circuit 26 is connected to the first
The configuration is the same as that of the precharge circuit 25 in which the n-channel MOS transistor for precharge is replaced with a p-channel MOS transistor, and the memory cell array 24 is arranged in parallel with the first precharge circuit 25.
Are connected to each bit line. Each precharge MOS transistor of the second precharge circuit 26 is
When the precharge control signal (PRCH2) is given,
Precharge is performed on each bit line of the memory cell array 24 using the applied power supply voltage Vcc. When the second precharge control signal (PRCH2) is supplied, the equalizing p-channel MOS transistor equalizes the potentials of the pair of bit lines.

【0031】プリチャージ終了検出回路27は、前記メ
モリセルアレイ24のビット線のプリチャージの電圧レ
ベルが検出電圧レベル以上であるかどうかを検出し、検
出電圧レベル以上であるときにプリチャージ終了検出信
号(PRCEND)を同期信号発生回路33及びプリチ
ャージ制御回路37に出力する。
The precharge end detection circuit 27 detects whether the precharge voltage level of the bit line of the memory cell array 24 is higher than the detection voltage level. When the precharge voltage level is higher than the detection voltage level, the precharge end detection signal (PRCEND) is output to the synchronization signal generation circuit 33 and the precharge control circuit 37.

【0032】データ入出力部28は、メモリセルアレイ
24のデータの読出し又は書込みを行なうYゲート4
3、センスアンプ及び書込み回路などを備える入出力回
路45、及びデータの入出力を行う入出力端子44を備
える。そして、データ入出力部28は、前記Yデコーダ
41から与えられた選択信号によって、メモリセルアレ
イ24のデータの読出し、又は書込みを行なう。
The data input / output unit 28 is a Y gate 4 for reading or writing data in the memory cell array 24.
3, an input / output circuit 45 including a sense amplifier and a write circuit, and an input / output terminal 44 for inputting / outputting data. Then, the data input / output unit 28 reads or writes data in the memory cell array 24 according to the selection signal given from the Y decoder 41.

【0033】次に上述した構成における半導体記憶回路
20の読出し動作について説明を行なう。図2は、前記
半導体記憶回路20の読出し動作を説明するためのタイ
ムチャートである。なお、半導体記憶回路20は、低電
圧動作状態(例えば、電源電圧2V)で動作する回路に
用いられても、高電圧動作状態(例えば、電源電圧5
V)で動作する回路に用いられてもよい。
Next, the read operation of semiconductor memory circuit 20 having the above configuration will be described. FIG. 2 is a time chart for explaining the read operation of the semiconductor memory circuit 20. The semiconductor memory circuit 20 may be used in a circuit operating in a low-voltage operation state (for example, a power supply voltage of 2 V), but may be used in a high-voltage operation state (for example, a power supply voltage
V).

【0034】以下に、半導体記憶回路20が低電圧動作
状態で動作する場合について述べる。
The case where the semiconductor memory circuit 20 operates in the low voltage operation state will be described below.

【0035】前記アドレス入力部22のアドレス入力端
子A0〜Anから新しいアドレスが入力されると(図2
(a)参照)、アドレス遷移検出回路ATD0〜ATD
nはアドレスの変化を示すハイレベルのアドレス遷移信
号(ATD0〜ATDn)を同期信号発生回路33に出
力する(図2(b)参照)。これによって、アドレスが
半導体記憶回路20に入力されたことが検出される。
When a new address is input from the address input terminals A0 to An of the address input section 22 (FIG. 2).
(A)), address transition detection circuits ATD0 to ATD
n outputs a high-level address transition signal (ATD0 to ATDn) indicating a change in address to the synchronization signal generation circuit 33 (see FIG. 2B). As a result, it is detected that the address has been input to the semiconductor memory circuit 20.

【0036】同期信号発生回路33は、ハイレベルの各
アドレス遷移信号(ATD0〜ATDn)が与えられる
と、ハイレベルの第1プリチャージ制御信号(PRCH
1)を第1プリチャージ回路25及び遅延回路35に出
力する(図2(c)参照)。第1プリチャージ回路25
は、ハイレベルの第1プリチャージ制御信号(PRCH
1)が与えられると、メモリセルアレイ24の各ビット
線をプリチャージする。プリチャージ終了検出回路27
は、1本のビット線のプリチャージの電圧レベルが検出
電圧レベル以上であるかどうかを検出する。低電圧動作
状態の場合に、ビット線のプリチャージの電圧レベルは
検出電圧レベル以上にはならないので、プリチャージ終
了検出回路27は、プリチャージ終了検出信号(PRC
END)を出力しない(図2(e)実線参照:ハイレベ
ルの信号)。
When the high-level address transition signals (ATD0 to ATDn) are applied, the synchronizing signal generation circuit 33 outputs a high-level first precharge control signal (PRCH).
1) is output to the first precharge circuit 25 and the delay circuit 35 (see FIG. 2C). First precharge circuit 25
Is a high-level first precharge control signal (PRCH).
When 1) is applied, each bit line of the memory cell array 24 is precharged. Precharge end detection circuit 27
Detects whether the precharge voltage level of one bit line is equal to or higher than the detection voltage level. In the low voltage operation state, the precharge voltage level of the bit line does not become higher than the detection voltage level, so that the precharge end detection circuit 27 outputs the precharge end detection signal (PRC).
END) is not output (see the solid line in FIG. 2E: high-level signal).

【0037】同期信号発生回路33から第1プリチャー
ジ制御信号(PRCH1)が出力されて所定時間T1が
経過後、遅延回路35からハイレベルの遅延信号(PR
CHD)がプリチャージ制御回路37に与えられる(図
2(d)参照)。
After the first precharge control signal (PRCH1) is output from the synchronizing signal generation circuit 33 and a predetermined time T1 has elapsed, the high-level delay signal (PR
CHD) is supplied to the precharge control circuit 37 (see FIG. 2D).

【0038】プリチャージ制御回路37は、遅延信号
(PRCHD)が入力されたときに、プリチャージ終了
検出信号(PRCEND)が入力されないので、ローレ
ベルの第2プリチャージ制御信号(PRCH2)を第2
プリチャージ回路26に出力する(図2(f)実線参
照)。つまり、第2プリチャージ回路26を用いてメモ
リセルアレイ24の各ビット線のプリチャージが行われ
ることとなる。
When the delay signal (PRCHD) is input, the precharge control circuit 37 does not receive the precharge end detection signal (PRCEND), and therefore outputs the low-level second precharge control signal (PRCH2) to the second
Output to the precharge circuit 26 (see the solid line in FIG. 2 (f)). That is, the precharge of each bit line of the memory cell array 24 is performed using the second precharge circuit 26.

【0039】第2プリチャージ回路26は、ローレベル
の第2プリチャージ制御信号(PRCH2)が入力され
ると、メモリセルアレイ24の各ビット線のプリチャー
ジを行う。第2プリチャージ回路26による各ビット線
のプリチャージが行なわれると、プリチャージ終了検出
回路27は、ビット線のプリチャージの電圧レベルが検
出電圧レベルであることを検出し、同期信号発生回路3
3及びプリチャージ制御回路37にプリチャージ終了検
出信号(PRCEND)を出力する(図2(e)実線参
照:ローレベルの信号)。
The second precharge circuit 26 precharges each bit line of the memory cell array 24 when the low level second precharge control signal (PRCH2) is input. When each bit line is precharged by the second precharge circuit 26, the precharge end detection circuit 27 detects that the voltage level of the precharge of the bit line is the detection voltage level, and the synchronization signal generation circuit 3
3 and outputs a precharge end detection signal (PRCEND) to the precharge control circuit 37 (see the solid line in FIG. 2E: low level signal).

【0040】同期信号発生回路33は、プリチャージ終
了検出信号(PRCEND)が入力されると、ハイレベ
ルのデコーダ活性化信号(DEN)をデコード部29に
出力するとともに前記第1プリチャージ制御信号(PR
CH1)をハイレベルからローレベルに立下げて、第1
プリチャージ回路25のプリチャージ動作を終了してい
る(図2(c)及び図2(g)実線参照)。また、プリ
チャージ制御回路37は、プリチャージ終了検出信号
(PRCEND)が入力されると、前記第2プリチャー
ジ制御信号(PRCH2)をローレベルからハイレベル
に立上げて、第2プリチャージ回路26のプリチャージ
動作を終了している(図2(f)実線参照)。
When the precharge completion detection signal (PRCEND) is input, the synchronization signal generation circuit 33 outputs a high-level decoder activation signal (DEN) to the decoding unit 29 and the first precharge control signal (PRCEND). PR
CH1) from the high level to the low level,
The precharge operation of the precharge circuit 25 has been completed (see the solid lines in FIGS. 2C and 2G). When the precharge end detection signal (PRCEND) is input, the precharge control circuit 37 raises the second precharge control signal (PRCH2) from a low level to a high level, and the second precharge circuit 26 (See the solid line in FIG. 2 (f)).

【0041】デコード部29のXデコーダ39及びYデ
コーダ41は、ハイレベルのデコーダ活性化信号(DE
N)が与えられると、アドレス入力部22のアドレスバ
ッファ31に一時的に格納されていたアドレスを入力す
る。Xデコーダ39は、そのアドレスに基づいてワード
ライン選択信号(WL)をメモリセルアレイ24のワー
ド線に与える(図2(h)実線参照)。また、Yデコー
ダ41は、前記アドレスに基づいて選択信号をYゲート
43に出力している。Yゲート43は、メモリセルアレ
イ24に格納されたデータを読出し、入出力回路45を
介して入出力端子44からデータD0〜Dmを出力して
いる(図2(i)実線参照)。
The X-decoder 39 and the Y-decoder 41 of the decoding unit 29 have a high level decoder activation signal (DE).
When N) is given, the address temporarily stored in the address buffer 31 of the address input unit 22 is input. The X decoder 39 supplies a word line selection signal (WL) to the word line of the memory cell array 24 based on the address (see the solid line in FIG. 2 (h)). The Y decoder 41 outputs a selection signal to the Y gate 43 based on the address. The Y gate 43 reads data stored in the memory cell array 24 and outputs data D0 to Dm from an input / output terminal 44 via an input / output circuit 45 (see the solid line in FIG. 2 (i)).

【0042】次に、半導体記憶装置20が高電圧動作状
態で動作する場合について以下に述べる。なお、アドレ
スがアドレス入力部22に入力されてから第1プリチャ
ージ回路26が活性化されてメモリセルアレイ24の各
ビット線に対してプリチャージが行われるまでの動作は
前述の低電圧動作状態の場合と同様であるので説明を省
略する。
Next, a case where the semiconductor memory device 20 operates in a high voltage operation state will be described below. The operation from the input of the address to the address input unit 22 to the activation of the first precharge circuit 26 to the precharge of each bit line of the memory cell array 24 is the same as the operation in the low voltage operation state described above. The description is omitted because it is the same as the case.

【0043】この場合に、第1プリチャージ回路26を
用いることでメモリセルアレイ24の各ビット線のプリ
チャージの電圧レベルが検出電圧レベル以上になるの
で、遅延信号(PRCHD)がプリチャージ制御回路3
7に入力されたときに、プリチャージ制御回路37には
プリチャージ終了検出回路27からプリチャージ終了検
出信号(PRCEND)が入力されている(図2(e)
点線参照:ローレベルの信号)。したがって、プリチャ
ージ制御回路37は、第2プリチャージ回路26を活性
化するローレベルの第2プリチャージ制御信号(PRC
H2)を第2プリチャージ回路26に出力しない(図2
(f)点線参照)。即ち、第2プリチャージ回路26を
用いてメモリセルアレイ24の各ビット線のプリチャー
ジを行うことがない。
In this case, by using the first precharge circuit 26, the precharge voltage level of each bit line of the memory cell array 24 becomes equal to or higher than the detection voltage level, so that the delay signal (PRCHD) changes the precharge control circuit 3
7, the precharge control circuit 37 receives the precharge end detection signal (PRCEND) from the precharge end detection circuit 27 (FIG. 2 (e)).
(See dotted line: low level signal). Therefore, the precharge control circuit 37 outputs a low-level second precharge control signal (PRC) for activating the second precharge circuit 26.
H2) is not output to the second precharge circuit 26 (FIG. 2).
(F) See dotted line). That is, the precharge of each bit line of the memory cell array 24 using the second precharge circuit 26 is not performed.

【0044】また、同期信号発生回路33は、プリチャ
ージ終了検出回路27からプリチャージ終了検出信号
(PRCEND)が入力されると、ハイレベルのワード
線活性化信号(DEN)をデータ入出力部28に出力す
るとともに前記第1プリチャージ制御信号(PRCH
1)をハイレベルからローレベルに立下げ、第1プリチ
ャージ回路25によるプリチャージ動作を終了する(図
2(c)及び図2(g)点線参照)。これによって、上
述したような読出動作が、図2に示される点線のタイミ
ングで行なわれ、入力されたアドレスによってメモリセ
ルアレイ24からデータが読出され、データ入出力部2
8の入出力端子44からデータD0〜Dmが出力され
る。
When the precharge end detection signal (PRCEND) is input from the precharge end detection circuit 27, the synchronization signal generation circuit 33 outputs the high level word line activation signal (DEN) to the data input / output unit 28. And the first precharge control signal (PRCH).
1) falls from the high level to the low level, and the precharge operation by the first precharge circuit 25 is completed (see the dotted lines in FIGS. 2C and 2G). Thus, the above-described read operation is performed at the timing indicated by the dotted line in FIG. 2, data is read from memory cell array 24 by the input address, and data input / output unit 2
Data D0 to Dm are output from the eight input / output terminals 44.

【0045】上述のように、低電圧動作状態では第2プ
リチャージ回路26を用いてメモリセルアレイ24のビ
ット線をプリチャージし、高電圧動作状態では第1プリ
チャージ回路25を用いてメモリセルアレイ24のビッ
ト線をプリチャージする。したがって、低電圧動作状態
では確実にビット線をプリチャージすることができ、高
電圧動作状態では消費電流の低減を図ることができる。
As described above, the bit line of the memory cell array 24 is precharged using the second precharge circuit 26 in the low voltage operation state, and the memory cell array 24 is used using the first precharge circuit 25 in the high voltage operation state. Are precharged. Therefore, the bit line can be reliably precharged in the low voltage operation state, and the current consumption can be reduced in the high voltage operation state.

【0046】(実施の形態2)図3は、実施の形態2の
半導体記憶装置50の電気的内部構成を示すブロック図
である。実施の形態1の半導体記憶装置20の構成と同
様の構成には、同一の参照符を付して説明を省略する。
実施の形態2の半導体記憶装置50は、上述の実施の形
態1の半導体記憶装置20に対してさらに複数のダミー
メモリセルで構成されたダミーメモリセル群51を備
え、プリチャージ終了検出回路27はダミーメモリセル
群51のプリチャージ終了状態を検出する構成である。
(Second Embodiment) FIG. 3 is a block diagram showing an electrical internal structure of a semiconductor memory device 50 of the second embodiment. The same components as those of the semiconductor memory device 20 according to the first embodiment have the same reference characters allotted, and description thereof will not be repeated.
The semiconductor memory device 50 of the second embodiment is different from the semiconductor memory device 20 of the first embodiment described above in that it further includes a dummy memory cell group 51 formed of a plurality of dummy memory cells. This is a configuration for detecting a precharge end state of the dummy memory cell group 51.

【0047】図4は、ダミーメモリセル群51に構成さ
れるダミーメモリセル52及びプリチャージ終了検出回
路27に関する内部構成を示す回路図である。各ダミー
メモリセル52は、2つのn型のMOSトランジスタ5
3,54と、2つのインバータ回路55,56とを備え
る。MOSトランジスタ53は前記メモリセルアレイ2
4から延長されたワード線W1〜Wnに接続されるとと
もにビット線B2にも接続されている。さらにMOSト
ランジスタ53には、電源電圧Vccがインバータ回路
55を介して印加されている。MOSトランジスタ54
は前記メモリセルアレイ24から延長されたワード線W
1〜Wnに接続されるとともにビット線B1にも接続さ
れている。さらにMOSトランジスタ54には、接地レ
ベル(GNDレベル)がインバータ回路56を介して与
えられている。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an internal configuration of the dummy memory cells 52 included in the dummy memory cell group 51 and the precharge completion detection circuit 27. Each dummy memory cell 52 includes two n-type MOS transistors 5
3 and 54 and two inverter circuits 55 and 56. The MOS transistor 53 is connected to the memory cell array 2
4 are connected to the word lines W1 to Wn extended from the bit line 4 and to the bit line B2. Further, power supply voltage Vcc is applied to MOS transistor 53 via inverter circuit 55. MOS transistor 54
Is a word line W extended from the memory cell array 24.
1 to Wn and also to the bit line B1. Further, a ground level (GND level) is given to the MOS transistor 54 via an inverter circuit 56.

【0048】プリチャージ終了検出回路27は、否定論
理積回路59で構成されている。この否定論理積回路5
9の一方入力端子には、検出電圧レベル(ICE)が入
力され、他方入力端子にビット線B2の電圧レベルが入
力される。これによって、他方入力端子に入力されるビ
ット線B2の電圧レベルが前記検出電圧レベル(IC
E)である場合にローレベルのプリチャージ終了検出信
号(PRCEND)を出力する。
The precharge end detection circuit 27 is constituted by a NAND circuit 59. This NAND circuit 5
The detection voltage level (ICE) is input to one input terminal of the input terminal 9 and the voltage level of the bit line B2 is input to the other input terminal. As a result, the voltage level of the bit line B2 input to the other input terminal changes to the detection voltage level (IC
If E), a low-level precharge end detection signal (PRCEND) is output.

【0049】上述の構成によれば、プリチャージ終了検
出回路27は、実際にはデータの格納及び読出しが行わ
れないダミーメモリセル群51のプリーチャージの電圧
レベルが検出電圧レベル(ICE)以上であるかどうか
を検出する。したがって、プリチャージ終了検出回路2
7はメモリセルアレイ24に接続されないので、プリチ
ャージ終了検出回路27は、実際にデータの格納及び読
出を行うメモリセルアレイ24のプリチャージ状態に影
響(例えば、プリチャージの電圧レベルの低下等)を与
えずにプリチャージの電圧レベルを検出することができ
る。
According to the above configuration, the precharge completion detecting circuit 27 determines that the precharge voltage level of the dummy memory cell group 51 in which data is not actually stored or read is equal to or higher than the detection voltage level (ICE). Detect if there is. Therefore, the precharge end detection circuit 2
7 is not connected to the memory cell array 24, the precharge end detection circuit 27 affects the precharge state of the memory cell array 24 that actually stores and reads data (for example, a decrease in precharge voltage level). It is possible to detect the voltage level of the precharge without any need.

【0050】(実施の形態3)図5は、実施の形態3の
半導体記憶装置70の電気的内部構成を示すブロック図
である。実施の形態2の半導体記憶装置50の構成と同
様の構成には、同一の参照符を付して説明を省略する。
実施の形態3の半導体記憶装置70は、実施の形態2の
半導体記憶装置50に加えて、電源が投入されたことを
検出して電源投入検出信号(DCIN)を出力する電源
投入検出回路71と、プリチャージ状態を予め設定する
疑似プリチャージ部72と、予め設定されたプリチャー
ジが完了したかどうかを検出し完了したときに疑似プリ
チャージ検出信号(PPRC)を出力する疑似プリチャ
ージ判断検出回路74とを備える。なお、同期信号発生
回路33から遅延回路35に入力されていた第1プリチ
ャージ制御信号(PRCH1)は、直接プリチャージ制
御回路77に入力されている。
(Third Embodiment) FIG. 5 is a block diagram showing an electrical internal configuration of a semiconductor memory device 70 according to a third embodiment. The same components as those of the semiconductor memory device 50 according to the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
The semiconductor memory device 70 according to the third embodiment includes, in addition to the semiconductor memory device 50 according to the second embodiment, a power-on detection circuit 71 that detects power-on and outputs a power-on detection signal (DCIN). , A pseudo precharge unit 72 for setting a precharge state in advance, and a pseudo precharge determination detection circuit for detecting whether the preset precharge is completed and outputting a pseudo precharge detection signal (PPRC) when the precharge is completed 74. Note that the first precharge control signal (PRCH1) input from the synchronization signal generation circuit 33 to the delay circuit 35 is directly input to the precharge control circuit 77.

【0051】図6は、疑似プリチャージ部72及び疑似
プリチャージ判断検出回路74の内部構成を示した回路
図である。疑似プリチャージ部72は、疑似プリチャー
ジ回路76と、ダミーメモリセル52aとを備える。な
お、ダミーメモリセル52aは、図4に示される実施の
形態2のダミーメモリセル52と同様の構成であり、同
一の符号を付して説明を省略する。また、ダミーメモリ
セル52aが接続されるワード線W1〜Wnは、メモリ
セルアレイ24に接続されるのではなく接地されてい
る。
FIG. 6 is a circuit diagram showing the internal configuration of the pseudo precharge section 72 and the pseudo precharge determination detection circuit 74. The pseudo precharge unit 72 includes a pseudo precharge circuit 76 and a dummy memory cell 52a. The dummy memory cell 52a has the same configuration as the dummy memory cell 52 of the second embodiment shown in FIG. The word lines W1 to Wn to which the dummy memory cells 52a are connected are not connected to the memory cell array 24 but are grounded.

【0052】疑似プリチャージ回路76は、前述の第1
プリチャージ回路25と同様の構成であり、2つのプリ
チャージ用のnチャネル型のMOSトランジスタ82,
84と、1つのイコライズ用のnチャネル型のMOSト
ランジスタ86とを備える。そして、電源投入検出回路
71から半導体記憶装置70に電源投入がなされたこと
を示す電源投入検出信号(DCIN)が与えられると、
MOSトランジスタ82は印加される電圧を用いてビッ
ト線B1に対してプリチャージを行い、MOSトランジ
スタ84も同様にビット線B2に対してプリチャージを
行う。また、イコライズ用のMOSトランジスタ86
は、前記電源投入検出回路71から電源投入検出信号
(DCIN)が与えられると、ビット線B1,B2の電
位を等しくしている。
The pseudo precharge circuit 76 is provided by the first
The configuration is the same as that of the precharge circuit 25, and includes two n-channel MOS transistors 82 for precharge,
84 and one equalizing n-channel type MOS transistor 86. When a power-on detection signal (DCIN) indicating that power has been supplied to the semiconductor memory device 70 is given from the power-on detection circuit 71,
MOS transistor 82 precharges bit line B1 using the applied voltage, and MOS transistor 84 similarly precharges bit line B2. Also, an equalizing MOS transistor 86
When the power-on detection signal (DCIN) is supplied from the power-on detection circuit 71, the potentials of the bit lines B1 and B2 are made equal.

【0053】疑似プリチャージ判断検出回路74は、図
4に示すプリチャージ終了検出回路27と同様の構成で
あり、疑似プリチャージ判断検出回路74の否定論理積
回路59の一方端子には、図4に示すプリチャージ終了
検出回路27に入力される検出電圧レベル(ICE)と
同一の電圧レベルが入力されている。そして、疑似プリ
チャージ判断検出回路74は、他方入力端子に入力され
るビット線B2の電圧レベルが前記検出電圧レベル(I
CE)である場合に疑似プリチャージ検出信号(PPR
C)を出力する。
The pseudo precharge determination detection circuit 74 has the same configuration as the precharge end detection circuit 27 shown in FIG. 4, and one terminal of the NAND circuit 59 of the pseudo precharge determination detection circuit 74 is The same voltage level as the detection voltage level (ICE) input to the precharge end detection circuit 27 shown in FIG. The pseudo precharge determination detection circuit 74 determines that the voltage level of the bit line B2 input to the other input terminal is equal to the detection voltage level (I
CE), the pseudo precharge detection signal (PPR)
C) is output.

【0054】以下に実施の形態3の半導体記憶装置70
の読出動作について説明を行う。図7は、半導体記憶装
置70の読出動作を説明するためのタイムチャートであ
る。
The semiconductor memory device 70 according to the third embodiment will be described below.
The read operation will be described. FIG. 7 is a time chart for explaining the read operation of semiconductor memory device 70.

【0055】半導体記憶装置70は、上述の構成の疑似
プリチャージ部72及び疑似プリチャージ判断検出回路
74を用いて、半導体記憶装置70を用いる前、即ち電
源投入時に第1プリチャージ回路25でメモリセルアレ
イ24及びダミーメモリセル群51のビット線に対する
プリチャージが完了するかどうかを検出している。電源
投入検出回路71が半導体記憶装置70への電源投入を
検出すると、電源投入検出回路71は疑似プリチャージ
回路76に電源投入検出信号(DCIN)を与える。そ
して、疑似プリチャージ回路76は、ビット線B1,B
2をプリチャージする。そして、疑似プリチャージ判断
検出回路74は、ビット線B2の電圧レベルを検出して
疑似プリチャージ検出信号(PPRC)を出力する(図
7(c)参照)。なお、疑似プリチャージ検出信号(P
PRC)がハイレベルの場合(即ち、プリチャージの電
圧レベルが前記検出電圧レベル(ICE)以上の場合)
は、低電圧動作状態を示し、第1プリチャージ回路25
ではプリチャージが完了しないことを示す(図7(c)
実線参照)。また、疑似プリチャージ検出信号(PPR
C)がローレベルの場合(即ち、プリチャージの電圧レ
ベルが前記検出電圧レベル(ICE)未満の場合)は、
高電圧動作状態を示し、第1プリチャージ回路25でプ
リチャージが完了することを示す(図7(c)破線参
照)。
The semiconductor memory device 70 uses the pseudo-precharge unit 72 and the pseudo-precharge determination detection circuit 74 having the above-described configuration to store the memory in the first precharge circuit 25 before using the semiconductor memory device 70, that is, when the power is turned on. It is detected whether the precharging of the bit lines of the cell array 24 and the dummy memory cell group 51 is completed. When the power-on detection circuit 71 detects the power-on of the semiconductor memory device 70, the power-on detection circuit 71 supplies a power-on detection signal (DCIN) to the pseudo precharge circuit 76. The pseudo precharge circuit 76 is connected to the bit lines B1, B
Precharge 2. Then, the pseudo precharge determination detection circuit 74 detects the voltage level of the bit line B2 and outputs a pseudo precharge detection signal (PPRC) (see FIG. 7C). The pseudo precharge detection signal (P
PRC) is high (that is, the precharge voltage level is equal to or higher than the detection voltage level (ICE)).
Indicates a low voltage operation state, and the first precharge circuit 25
Indicates that the precharge is not completed (FIG. 7C)
See solid line). Also, a pseudo precharge detection signal (PPR)
C) is at a low level (ie, when the precharge voltage level is lower than the detection voltage level (ICE)),
A high voltage operation state is shown, indicating that the precharge is completed in the first precharge circuit 25 (see a broken line in FIG. 7C).

【0056】以下に、低電圧動作状態での半導体記憶装
置70の読出動作について説明する。
Hereinafter, a read operation of semiconductor memory device 70 in a low voltage operation state will be described.

【0057】アドレス入力部22のアドレス入力端子A
0〜Anから新しいアドレスが入力されると(図7
(a)参照)、アドレス遷移検出回路ATD0〜ATD
nはアドレスが入力されたことを示すハイレベルのアド
レス遷移信号(ATDS0〜ATDSn)を同期信号発
生回路33に出力する(図7(b)参照)。
Address input terminal A of address input section 22
When a new address is input from 0 to An (see FIG. 7)
(A)), address transition detection circuits ATD0 to ATD
n outputs a high-level address transition signal (ATDS0 to ATDSn) indicating that an address has been input to the synchronization signal generation circuit 33 (see FIG. 7B).

【0058】同期信号発生回路33は、ハイレベルのア
ドレス遷移信号(ATDS0〜ATDSn)が与えられ
ると、ハイレベルの第1プリチャージ制御信号(PRC
H1)を第1プリチャージ回路25及びプリチャージ制
御回路77に出力する(図7(d)参照)。前述したよ
うに、低電圧動作状態では第1プリチャージ回路25を
用いてメモリセルアレイ24のビット線に対してプリチ
ャージを行っても、プリチャージの電圧レベルは検出電
圧レベル(ICE)以上にならない。疑似プリチャージ
判断検出回路74は、このことを電源投入時に予め検出
しており、ハイレベルの疑似プリチャージ検出信号(P
PRC)をプリチャージ制御回路77に出力している。
プリチャージ制御回路77は、ハイレベルの疑似プリチ
ャージ検出信号(PPRC)を入力しており、さらに第
1プリチャージ制御信号(PRCH1)が与えられる
と、直ちにローレベルの第2プリチャージ制御信号(P
RCH2)を第2プリチャージ回路26に出力して(図
7(e)実線参照)、第2プリチャージ回路26を活性
化している。
When a high-level address transition signal (ATDS0 to ATDSn) is applied, the synchronization signal generation circuit 33 outputs a high-level first precharge control signal (PRC).
H1) is output to the first precharge circuit 25 and the precharge control circuit 77 (see FIG. 7D). As described above, in the low-voltage operation state, even if the first precharge circuit 25 is used to precharge the bit lines of the memory cell array 24, the precharge voltage level does not exceed the detection voltage level (ICE). . The pseudo precharge determination detection circuit 74 detects this in advance when the power is turned on, and outputs a high-level pseudo precharge detection signal (P
PRC) to the precharge control circuit 77.
The precharge control circuit 77 receives the high-level pseudo precharge detection signal (PPRC), and when the first precharge control signal (PRCH1) is further applied, immediately the low level second precharge control signal (PPRC) is input. P
RCH2) is output to the second precharge circuit 26 (see the solid line in FIG. 7E) to activate the second precharge circuit 26.

【0059】第2プリチャージ回路25は、ローレベル
の第2プリチャージ制御信号(PRCH2)が与えられ
ると、メモリセルアレイ24及びダミーメモリセル群5
1の各ビット線をプリチャージする。なお、このときに
ハイレベルの第1プリチャージ制御信号(PRCH1)
が与えられている第1プリチャージ回路26もメモリセ
ルアレイ24及びダミーメモリセル群51の各ビット線
をプリチャージしている。
When a low-level second precharge control signal (PRCH2) is applied, the second precharge circuit 25 supplies the memory cell array 24 and the dummy memory cell group 5
Precharge each bit line of 1. At this time, the high-level first precharge control signal (PRCH1)
Is also precharged to each bit line of the memory cell array 24 and the dummy memory cell group 51.

【0060】プリチャージ終了検出回路27は、ダミー
メモリセル群51のビット線B2が検出電圧レベル(I
CE)の電圧レベル以上であるかどうかを検出し、プリ
チャージ終了検出信号(PRCEND)を出力する(図
7(f)参照)。
The precharge end detection circuit 27 detects that the bit line B2 of the dummy memory cell group 51 has the detection voltage level (I
CE) or not, and outputs a precharge end detection signal (PRCEND) (see FIG. 7 (f)).

【0061】前記プリチャージ終了検出信号(PRCE
ND)は、同期信号発生回路33に入力されている。同
期信号発生回路33は、プリチャージ終了検出信号(P
RCEND)が入力されると、ハイレベルのデコード活
性化信号(DEN)をデータ入出力部28に出力すると
ともに前記第1プリチャージ制御信号(PRCH1)を
ハイレベルからローレベルに立下げ、第1プリチャージ
回路25でのプリチャージ動作を終了している。(図7
(d)及び図7(g)実線参照)。また、プリチャージ
制御回路77は、ローレベルに立ち下がった第1プリチ
ャージ制御信号(PRCH1)が入力されると、第2プ
リチャージ制御信号(PRCH2)をローレベルからハ
イレベルに立上げ、第2プリチャージ回路26でのプリ
チャージ動作を終了する。(図7(e)実線参照)
The precharge end detection signal (PRCE)
ND) is input to the synchronization signal generation circuit 33. The synchronization signal generation circuit 33 outputs a precharge end detection signal (P
RCEND), a high-level decode activation signal (DEN) is output to the data input / output unit 28, and the first precharge control signal (PRCH1) falls from a high level to a low level. The precharge operation in the precharge circuit 25 has been completed. (FIG. 7
(D) and FIG. 7 (g). Further, when the first precharge control signal (PRCH1) that has fallen to a low level is input, the precharge control circuit 77 raises the second precharge control signal (PRCH2) from a low level to a high level, and The precharge operation in the two precharge circuits 26 ends. (See the solid line in FIG. 7 (e))

【0062】これによって上述の実施の形態1で説明し
たように、データ入力部28は、入力されたアドレスに
基づいて、ワードライン選択信号(WL)をメモリセル
アレイ24のワード線に与え(図7(h)参照)、前記
アドレスに対するメモリセルアレイ24に格納されたデ
ータを読出し、入出力端子44からデータD0〜Dmを
出力する(図7(i)参照)。
Thus, as described in the first embodiment, the data input section 28 supplies the word line selection signal (WL) to the word line of the memory cell array 24 based on the input address (FIG. 7). (H)), the data stored in the memory cell array 24 corresponding to the address is read, and data D0 to Dm are output from the input / output terminal 44 (see FIG. 7 (i)).

【0063】高電圧動作状態での半導体記憶装置70の
読出動作について、以下に説明する。
The read operation of semiconductor memory device 70 in the high voltage operation state will be described below.

【0064】この場合に、第1プリチャージ回路25を
用いてメモリセルアレイ24及びダミーメモリセル群5
1の各ビット線に対してプリチャージを行うことで、プ
リチャージの電圧レベルは検出電圧レベル(ICE)以
上になる。疑似プリチャージ判断検出回路74は、この
ことを電源投入時に予め検出し、ローレベルの疑似プリ
チャージ検出信号(PPRC)をプリチャージ制御回路
77に出力している(図7(c)破線参照)。したがっ
て、プリチャージ制御回路77は、ハイレベルの疑似プ
リチャージ検出信号(PPRC)を入力しておらず、第
1プリチャージ制御信号(PRCH1)が与えられて
も、ローレベルの第2プリチャージ制御信号(PRCH
2)を出力しない(図7(e)破線参照)。これによっ
て、同期信号発生回路33からハイレベルの第1プリチ
ャージ制御信号(PRCH1)が与えられる第1プリチ
ャージ回路25だけがメモリセルアレイ24のビット線
に対してプリチャージを行うことになる。
In this case, using the first precharge circuit 25, the memory cell array 24 and the dummy memory cell group 5 are used.
By performing precharge on each bit line of 1, the precharge voltage level becomes higher than or equal to the detection voltage level (ICE). The pseudo precharge determination detection circuit 74 detects this in advance when the power is turned on, and outputs a low-level pseudo precharge detection signal (PPRC) to the precharge control circuit 77 (see the broken line in FIG. 7C). . Therefore, the precharge control circuit 77 does not receive the high-level pseudo-precharge detection signal (PPRC) and receives the first precharge control signal (PRCH1). Signal (PRCH
2) is not output (see the broken line in FIG. 7E). As a result, only the first precharge circuit 25 to which the high-level first precharge control signal (PRCH1) is supplied from the synchronization signal generation circuit 33 precharges the bit lines of the memory cell array 24.

【0065】上述の実施の形態3の半導体記憶装置70
によれば、電源投入時に第1プリチャージ回路25でメ
モリセルアレイ24の各ビット線のプリチャージを行う
ことができるかどうかを検出しているので、遅延時間を
設定する必要がなく、読出動作に無駄な時間が掛かから
ず、動作速度の向上を図ることができる。
The semiconductor memory device 70 according to the third embodiment described above.
According to the method, since it is detected whether or not each bit line of the memory cell array 24 can be precharged by the first precharge circuit 25 when the power is turned on, there is no need to set a delay time, and the read operation can be performed. The operation speed can be improved without wasting time.

【0066】なお、実施の形態3では、電源投入時に第
1プリチャージ回路25で行うプリチャージが完了する
かどうかを検出しているが、電源投入時には限定され
ず、アドレス入力前であれば、いつ行われてもよい。
In the third embodiment, whether or not the precharge performed by the first precharge circuit 25 is completed when the power is turned on is detected. However, the present invention is not limited to the case where the power is turned on. It may be done at any time.

【0067】また、前記電源投入検出回路71からの電
源投入検出信号(DCIN)を第1プリチャージ回路2
5に直接与えて、プリチャージ終了検出回路27がメモ
リセルアレイ24又はダミーメモリセル群51のビット
線のプリチャージが完了するかどうか検出を行って、前
記疑似プリチャージ検出信号(PPRC)と同様の信号
を出力するようにしてもよい。
The power-on detection signal (DCIN) from the power-on detection circuit 71 is supplied to the first precharge circuit 2.
5, the precharge end detection circuit 27 detects whether or not the precharge of the bit line of the memory cell array 24 or the dummy memory cell group 51 is completed, and the same as the pseudo precharge detection signal (PPRC). A signal may be output.

【0068】なお、上述した実施の形態1乃至実施の形
態3では、読出動作についてのみ説明をしたが、前述の
読出動作に限らず書込動作にプリチャージを行うときに
も適用される。
In the above-described first to third embodiments, only the read operation has been described. However, the present invention is not limited to the above-described read operation, but is also applicable to the case where the pre-charge is performed in the write operation.

【0069】また、上述の第1プリチャージ回路25及
び第2プリチャージ回路26は、MOSトランジスタを
用いた構成に限定されず、他のトランジスタ等を用いて
もよい。なお、第2プリチャージ回路26を用いてメモ
リセルアレイ24のビット線をプリチャージしていると
きに第1プリチャージ回路25を活性化しない構成にし
てもよい。
The first precharge circuit 25 and the second precharge circuit 26 are not limited to the configuration using MOS transistors, but may use other transistors or the like. Note that the configuration may be such that the first precharge circuit 25 is not activated when the bit line of the memory cell array 24 is precharged using the second precharge circuit 26.

【0070】また、アドレス遷移検出回路ATD0〜A
TDnを用いてアドレスの入力を検出し、その検出によ
って同期信号発生回路33によって第1プリチャージ制
御信号(PRCH1)を出力しているが、アドレスの入
力の検出をチップイネーブル信号等を用いて検出する構
成でもよい。
The address transition detection circuits ATD0 to ATD0 to A
The input of an address is detected by using TDn, and the first precharge control signal (PRCH1) is output by the synchronization signal generation circuit 33 by the detection. The detection of the input of the address is detected by using a chip enable signal or the like. The configuration may be as follows.

【0071】[0071]

【発明の効果】上述の本発明の半導体記憶装置の構成に
よれば、第1プリチャージ手段と第2プリチャージ手段
とを半導体記憶装置の動作状態によって使い分けること
で、高電圧動作状態のときには消費電流を低減すること
ができ、低電圧動作状態のときは確実にプリチャージを
行うことができる。また、第1プリチャージ手段でプリ
チャージが完了するかどうかを予め検出することで、完
了しない場合に直ちに第2プリチャージ手段を用いてプ
リチャージを行うので、半導体記憶装置の動作速度の向
上を図ることができる。
According to the structure of the semiconductor memory device of the present invention described above, the first precharge means and the second precharge means are selectively used depending on the operation state of the semiconductor memory device, so that the semiconductor memory device consumes power in the high voltage operation state. The current can be reduced, and the precharge can be reliably performed in the low voltage operation state. Further, by detecting in advance whether or not the precharge is completed by the first precharge means, if the precharge is not completed, the precharge is immediately performed using the second precharge means, thereby improving the operation speed of the semiconductor memory device. Can be planned.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施の形態1の半導体記憶装置の内部構成を示
すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram illustrating an internal configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment;

【図2】実施の形態1の半導体記憶装置の読出動作を説
明するためのタイムチャートである。
FIG. 2 is a time chart for describing a read operation of the semiconductor memory device according to the first embodiment;

【図3】実施の形態2の半導体記憶装置の内部構成を示
すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing an internal configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment;

【図4】ダミーメモリセル群及びプリチャージ終了検出
回路に関する内部構成を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing an internal configuration related to a dummy memory cell group and a precharge end detection circuit.

【図5】実施の形態3の半導体記憶装置の電気的内部構
成を示すブロック図である。
FIG. 5 is a block diagram showing an electrical internal configuration of a semiconductor memory device according to a third embodiment;

【図6】疑似プリチャージ部及び疑似プリチャージ判断
検出回路の内部構成を示した回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an internal configuration of a pseudo precharge unit and a pseudo precharge determination detection circuit.

【図7】半導体記憶装置の読出動作を説明するためのタ
イムチャートである。
FIG. 7 is a time chart for explaining a read operation of the semiconductor memory device;

【図8】従来の半導体記憶装置の内部構成を示すブロッ
ク図である。
FIG. 8 is a block diagram showing an internal configuration of a conventional semiconductor memory device.

【図9】従来の半導体記憶装置のデータの読出動作を示
すタイムチャートである。
FIG. 9 is a time chart showing a data read operation of a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20,50,70 半導体記憶装置 22 アドレス入力部 24 メモリセルアレイ 25 第1プリチャージ回路 26 第2プリチャージ回路 27 プリチャージ終了検出回路 28 データ入出力部 37,77 プリチャージ制御回路 51 ダミーメモリセル群 52,52a ダミーメモリセル 71 電源投入検出回路 72 疑似プリチャージ部 74 疑似プリチャージ判断検出回路 76 疑似プリチャージ回路 20, 50, 70 Semiconductor memory device 22 Address input unit 24 Memory cell array 25 First precharge circuit 26 Second precharge circuit 27 Precharge completion detection circuit 28 Data input / output unit 37, 77 Precharge control circuit 51 Dummy memory cell group 52, 52a Dummy memory cell 71 Power-on detection circuit 72 Pseudo precharge unit 74 Pseudo precharge determination detection circuit 76 Pseudo precharge circuit

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビット線とワード線とに接続されたメモ
リセルを備える記憶手段と、 前記ビット線に対してプリチャージを行う第1プリチャ
ージ手段と、 前記ビット線に対して前記第1プリチャージ手段より高
い電圧レベルでプリチャージを行う第2プリチャージ手
段と、 前記ビット線に対するプリチャージが完了したことを検
出する検出手段と、 前記検出手段が第1プリチャージ手段のプリチャージの
完了を検出しないときに、前記第2プリチャージ手段に
より、前記ビット線にプリチャージを行わせる制御手段
と、を備えることを特徴とする半導体記憶装置。
A storage unit including a memory cell connected to a bit line and a word line; a first precharge unit for precharging the bit line; and a first precharge unit for the bit line. Second precharge means for performing precharge at a voltage level higher than the charge means, detection means for detecting completion of precharge for the bit line, and detection means for completing the precharge of the first precharge means Control means for causing the bit line to precharge by the second precharge means when the detection is not performed.
【請求項2】 ビット線とワード線とに接続されたメモ
リセルを備える記憶手段と、 前記記憶手段及びダミーメモリセルのビット線に対して
プリチャージを行う第1プリチャージ手段と、 前記記憶手段のビット線に対して前記第1プリチャージ
手段よりは高い電圧レベルでプリチャージを行う第2プ
リチャージ手段と、 前記ダミーメモリセルのビット線に対するプリチャージ
が完了したことを検出する検出手段と、 前記検出手段が第1プリチャージ手段のプリチャージの
完了を検出しないときに、前記第2プリチャージ手段に
より、前記記憶手段のビット線にプリチャージを行わせ
る制御手段と、を備えることを特徴とする半導体記憶装
置。
2. A storage unit comprising a memory cell connected to a bit line and a word line; a first precharge unit for precharging a bit line of the storage unit and a dummy memory cell; Second precharge means for precharging the bit line at a higher voltage level than the first precharge means; detection means for detecting completion of precharge of the bit line of the dummy memory cell; Control means for causing the bit line of the storage means to precharge by the second precharge means when the detection means does not detect the completion of the precharge of the first precharge means. Semiconductor storage device.
【請求項3】 前記検出手段は、前記第1プリチャージ
手段のプリチャージが開始されてから所定時間内にプリ
チャージが完了するかどうかを検出することを特徴とす
る請求項1又は2記載の半導体記憶装置。
3. The apparatus according to claim 1, wherein the detection means detects whether the precharge is completed within a predetermined time after the precharge of the first precharge means is started. Semiconductor storage device.
【請求項4】 前記検出手段は、前記第1プリチャージ
手段のプリチャージが完了するかどうかを予め検出する
ことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体記憶装
置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein said detecting means detects in advance whether precharging of said first precharging means is completed.
【請求項5】 ビット線とワード線とに接続されたメモ
リセルを備える記憶手段と、 前記ビット線に対してプリチャージを行う第1プリチャ
ージ手段と、 前記ビット線に対して前記第1プリチャージ手段よりは
高い電圧レベルでプリチャージを行う第2プリチャージ
手段と、 前記第1プリチャージ手段と同一の電圧レベルで疑似ダ
ミーメモリセルのビット線に対してプリチャージを予め
行う疑似プリチャージ手段と、 前記疑似ダミーメモリセルのビット線に対するプリチャ
ージが完了するかどうかを検出する疑似検出手段と、 前記疑似検出手段がプリチャージの完了を検出しない場
合に、前記第2プリチャージ手段により、前記ビット線
にプリチャージを行わせる制御手段と、を備えることを
特徴とする半導体記憶装置。
5. A storage unit including a memory cell connected to a bit line and a word line; a first precharge unit for precharging the bit line; and a first precharge unit for the bit line. A second precharge means for precharging at a higher voltage level than the charging means; a pseudo precharge means for precharging the bit line of the pseudo dummy memory cell at the same voltage level as the first precharge means; Pseudo detection means for detecting whether or not precharging of the bit line of the pseudo dummy memory cell is completed; and when the pseudo detection means does not detect completion of precharge, the second precharge means Control means for causing a bit line to be precharged.
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