JPH10172124A - Production of floating magnetic head - Google Patents

Production of floating magnetic head

Info

Publication number
JPH10172124A
JPH10172124A JP32717596A JP32717596A JPH10172124A JP H10172124 A JPH10172124 A JP H10172124A JP 32717596 A JP32717596 A JP 32717596A JP 32717596 A JP32717596 A JP 32717596A JP H10172124 A JPH10172124 A JP H10172124A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
air bearing
head
recording
magnetic head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32717596A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masaki Hongo
政紀 本郷
Atsushi Inoue
温 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Electric Co Ltd filed Critical Sanyo Electric Co Ltd
Priority to JP32717596A priority Critical patent/JPH10172124A/en
Publication of JPH10172124A publication Critical patent/JPH10172124A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain smooth air bearing surfaces free from projections when recording and reproducing head parts are formed on the flanks of sliders having the air bearing surfaces consisting of prescribed rugged patterns. SOLUTION: Resist patterns 41 meeting the rugged patterns or the air bearing surfaces are formed on the surface of a substrate 3 formed with the recording and reproducing head parts 16 and thereafter, the surface of the substrate 3 is subjected to ion beam etching via the resist patterns 41. Next, the surface of the substrate 3 is immersed into an acidic treating liquid 5 to dissolve and remove the unnecessary deposits formed on the surface of the substrate 3. The resist patterns 41 are then removed from the surface of the substrate 3. Finally, the substrate 3 is sliced by each of the recording and reproducing head parts 16, by which the floating type thin-film magnetic heads are completed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスクド
ライブ装置等の信号記録再生装置に装備される浮上型磁
気ヘッドの製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a floating magnetic head mounted on a signal recording / reproducing apparatus such as a hard disk drive.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ハードディスクドライブ装置に
装備されている浮上型の薄膜磁気ヘッドは、図3に示す
如く、スライダー(1)の表面に空気ベアリング面Sを形
成すると共に、その側面に、信号記録用の誘導型ヘッド
素子(11)と信号再生用のMR(磁気抵抗効果型)ヘッド素
子(12)からなる記録再生ヘッド部(16)を形成して構成さ
れる。記録再生ヘッド部(16)の各ヘッド素子(11)(12)は
夫々、2本のターミナル層(14)(14)を経て一対のバンプ
層(13)(13)へ接続されている。又、両ヘッド素子(11)(1
2)及びターミナル層(14)は保護層(15)によって覆われ、
各バンプ層(13)は保護層(15)から露出している。スライ
ダー(1)の空気ベアリング面Sには、空気の流れ方向に
沿って伸びる複数本の溝(10)が凹設され、これによって
左右一対のサイドレール(17)(17)が形成されている。
2. Description of the Related Art In general, a floating type thin film magnetic head provided in a hard disk drive device has an air bearing surface S formed on a surface of a slider (1) and a signal surface formed on a side surface thereof as shown in FIG. A recording / reproducing head section (16) comprising an inductive head element (11) for recording and an MR (magnetoresistive) head element (12) for signal reproduction is formed. Each head element (11) (12) of the recording / reproducing head section (16) is connected to a pair of bump layers (13) (13) via two terminal layers (14) (14), respectively. Also, both head elements (11) (1
2) and terminal layer (14) are covered by a protective layer (15),
Each bump layer (13) is exposed from the protective layer (15). In the air bearing surface S of the slider (1), a plurality of grooves (10) extending in the direction of air flow are recessed, thereby forming a pair of left and right side rails (17) (17). .

【0003】上記の浮上型薄膜磁気ヘッドは、空気ベア
リング面Sを回転するディスクの信号面に対向させて配
置され、一対のサイドレール(17)(17)と回転するディス
クとの間に発生する空気圧によって、ディスク信号面か
ら浮上した位置に保持され、信号の記録及び再生を行な
う。
The above-mentioned floating type thin film magnetic head is arranged so that the air bearing surface S is opposed to the signal surface of the rotating disk, and is generated between a pair of side rails (17) and (17) and the rotating disk. It is held at a position floating above the signal surface of the disk by air pressure, and performs signal recording and reproduction.

【0004】ところで、上記の浮上型薄膜磁気ヘッドの
製造工程においては、図1(a)に示す如く、スライダー
となる基板(3)の側面に複数のヘッド部(16)を形成した
後、同図(b)の如く、基板(3)の表面にレジスト層(4)
を形成し、該レジスト層(4)に露光、現像処理を施し
て、同図(c)の如く、空気ベアリング面Sの凹凸パター
ンに応じたレジストパターン(41)を形成する。そして、
該レジストパターン(41)をマスクとして、基板(3)の表
面にイオンビームエッチングを施すことによって、図3
に示す複数本の溝(10)を凹設し、サイドレール(17)(17)
を形成するのである。
In the manufacturing process of the above-mentioned floating type thin film magnetic head, as shown in FIG. 1A, a plurality of head portions (16) are formed on a side surface of a substrate (3) serving as a slider. As shown in FIG. 2B, a resist layer (4) is formed on the surface of the substrate (3).
The resist layer (4) is exposed and developed to form a resist pattern (41) corresponding to the concavo-convex pattern on the air bearing surface S as shown in FIG. And
By performing ion beam etching on the surface of the substrate (3) using the resist pattern (41) as a mask, FIG.
The multiple grooves (10) shown in the figure are recessed, and the side rails (17) (17)
Is formed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
製造方法においては、基板(3)の表面にイオンビームエ
ッチングを施す過程で、特に、エッチングレートを増大
させるべく図4(a)の如くイオンビームの照射角度θを
基板垂線に対して傾斜させた場合(例えば傾斜角度θ=
40°〜60°)、基板表面の構成分子(例えばアルミニ
ウム)がイオンビームの照射によってはじき飛ばされ、
この分子が溝(10)の側面からレジストパターン(41)の側
面にかけて付着し、或いは同図(b)の如く基板表面とレ
ジストパターン(41)の間に浸入して、強固な付着物(6)
が形成されることになる。この様な付着物(6)は、その
後のブラシや超音波を用いた洗浄工程では除去すること
が出来ず、最終的な製品としての薄膜磁気ヘッドの空気
ベアリング面に突起物として残存するため、記録媒体の
信号面に損傷を与えたり、或いは浮上特性に悪影響を及
ぼす問題がある。
However, in the conventional manufacturing method, in the process of performing the ion beam etching on the surface of the substrate (3), especially, in order to increase the etching rate, as shown in FIG. Is inclined with respect to the substrate normal (for example, the inclination angle θ =
(40 ° to 60 °), constituent molecules on the substrate surface (for example, aluminum) are repelled by ion beam irradiation,
These molecules adhere from the side surface of the groove (10) to the side surface of the resist pattern (41), or penetrate between the substrate surface and the resist pattern (41) as shown in FIG. )
Is formed. Such deposits (6) cannot be removed in the subsequent cleaning step using a brush or ultrasonic waves, and remain as projections on the air bearing surface of the thin film magnetic head as a final product. There is a problem that the signal surface of the recording medium is damaged or the flying characteristics are adversely affected.

【0006】そこで、本発明者らは、最終的に空気ベア
リング面に残った付着物を酸性の処理液によって溶解さ
せて除去する方法を検討した。ところが、酸性の処理液
は記録再生ヘッド部(16)の記録媒体との対向面(以下、
媒体対向面という)をも浸食し、記録再生ヘッド部(16)
に損傷を与える問題がある。
Therefore, the present inventors have studied a method of dissolving and removing the deposits finally remaining on the air bearing surface with an acidic processing liquid. However, the acidic processing liquid is applied to the surface of the recording / reproducing head (16) facing the recording medium (hereinafter, referred to as the recording / reproducing head (16)).
The recording / reproducing head (16)
There is a problem that damages.

【0007】本発明の目的は、イオンビームエッチング
による不要な付着物を、記録再生ヘッド部に損傷を与え
ることなく、容易に除去することが出来る浮上型磁気ヘ
ッドの製造方法を提供することである。
An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a floating magnetic head capable of easily removing unnecessary deposits caused by ion beam etching without damaging a recording / reproducing head. .

【0008】[0008]

【課題を解決する為の手段】本発明に係る浮上型磁気ヘ
ッドの製造方法は、以下の第1工程乃至第6工程を有し
ている。第1工程では、スライダー(1)となる基板(3)
の側面にヘッド部(16)を形成する。第2工程では、空気
ベアリング面Sとなる基板(3)の表面にレジスト層(4)
を形成する。続いて第3工程にて、レジスト層(4)に露
光、現像処理を施して、空気ベアリング面Sの凹凸パタ
ーンに応じたレジストパターン(41)を形成する。第4工
程では、レジストパターン(41)を介して基板(3)の表面
にイオンビームエッチングを施す。その後、第5工程で
は、基板(3)の表面を酸性処理液(5)中に浸漬する。そ
して、第6工程にて、基板(3)の表面からレジストパタ
ーン(41)を除去する。酸性処理液(5)としては、例えば
フッ酸の溶液を用いることが出来る。
A method of manufacturing a flying magnetic head according to the present invention has the following first to sixth steps. In the first step, a substrate (3) to be a slider (1)
The head part (16) is formed on the side surface of the. In the second step, a resist layer (4) is formed on the surface of the substrate (3) to be the air bearing surface S.
To form Subsequently, in a third step, the resist layer (4) is exposed and developed to form a resist pattern (41) corresponding to the concavo-convex pattern on the air bearing surface S. In the fourth step, the surface of the substrate (3) is subjected to ion beam etching via the resist pattern (41). Thereafter, in a fifth step, the surface of the substrate (3) is immersed in the acidic treatment liquid (5). Then, in a sixth step, the resist pattern (41) is removed from the surface of the substrate (3). As the acidic treatment liquid (5), for example, a solution of hydrofluoric acid can be used.

【0009】上記製造方法においては、第4工程によっ
て、従来と同様に基板(3)の表面に付着物(6)が形成さ
れるが、次の第5工程にて、基板(3)の表面を酸性処理
液(5)中に浸漬することによって、付着物(6)が溶解
し、除去される。ここで、記録再生ヘッド部(16)の媒体
対向面はレジストパターン(41)によって覆われているの
で、該媒体対向面が酸性処理液(5)によって浸食される
ことはない。
In the above-mentioned manufacturing method, the deposit (6) is formed on the surface of the substrate (3) in the same manner as in the prior art by the fourth step. Is immersed in an acidic treatment liquid (5) to dissolve and remove the deposit (6). Here, since the medium facing surface of the recording / reproducing head section (16) is covered with the resist pattern (41), the medium facing surface is not eroded by the acidic processing liquid (5).

【0010】具体的には、第1工程にて、基板(3)の側
面にMRヘッド素子(12)及び誘導型ヘッド素子(11)を積
層して形成した後、これらのヘッド素子を覆って保護層
(15)を形成する。該具体的工程によれば、MRヘッド素
子(12)及び誘導型ヘッド素子(11)の表面は保護層(15)に
よって覆われているので、両ヘッド素子(12)(11)の表面
が酸性処理液(5)によって浸食されることはない。
More specifically, in the first step, an MR head element (12) and an inductive head element (11) are laminated on the side surface of the substrate (3), and then these head elements are covered. Protective layer
Form (15). According to the specific process, since the surfaces of the MR head element (12) and the inductive head element (11) are covered with the protective layer (15), the surfaces of both head elements (12) and (11) are acidic. It is not eroded by the treatment liquid (5).

【0011】[0011]

【発明の効果】本発明に係る浮上型磁気ヘッドの製造方
法によれば、イオンビームエッチングによる不要な付着
物を、記録再生ヘッド部に損傷を与えることなく、容易
に除去することが出来、これによって滑らかな空気ベア
リング面が形成されることになる。
According to the method of manufacturing a flying magnetic head according to the present invention, unnecessary deposits caused by ion beam etching can be easily removed without damaging the recording / reproducing head. This forms a smooth air bearing surface.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明を図3に示す浮上型
薄膜磁気ヘッドに実施した形態につき、図面に沿って具
体的に説明する。該浮上型薄膜磁気ヘッドの図3に現わ
れた構造に関しては、従来の構造と同一であり、既に説
明したところであるので、ここでは説明を省略する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which the present invention is applied to a flying type thin film magnetic head shown in FIG. 3 will be specifically described with reference to the drawings. The structure of the flying type thin film magnetic head shown in FIG. 3 is the same as that of the conventional structure and has already been described, so that the description is omitted here.

【0013】図1(a)〜(c)及び図2(a)〜(d)は、上
記浮上型薄膜磁気ヘッドの製造工程を表わしている。先
ず、図1(a)に示す如くAl23−TiCからなる基板
(3)の側面に、周知の薄膜形成技術によって誘導型ヘッ
ド素子及びMRヘッド素子を積層し、両ヘッド素子から
なる記録再生ヘッド部(16)を形成すると共に、外部回路
との接続に用いる複数のバンプ層(13)を形成する。その
後、記録再生ヘッド部(16)及びバンプ層(13)を覆って、
Al23からなる保護層(図示省略)を形成する。尚、バ
ンプ層(13)は、保護層に表面研磨を施すことによって、
表面を露出させる。
FIGS. 1A to 1C and FIGS. 2A to 2D show the steps of manufacturing the above-mentioned flying type thin film magnetic head. First, a substrate made of Al 2 O 3 -TiC, as shown in FIG. 1 (a)
On the side surface of (3), an inductive head element and an MR head element are laminated by a known thin film forming technique to form a recording / reproducing head section (16) composed of both head elements and a plurality of heads used for connection to an external circuit. The bump layer (13) is formed. After that, covering the recording / reproducing head part (16) and the bump layer (13),
A protective layer (not shown) made of Al 2 O 3 is formed. Incidentally, the bump layer (13) is obtained by subjecting the protective layer to surface polishing.
Expose the surface.

【0014】次に、図1(b)に示す如く、基板(3)の表
面にレジスト層(4)を形成した後、該レジスト層(4)に
露光、現像処理を施して、同図(c)の如く、空気ベアリ
ング面の凹凸パターンに応じたレジストパターン(41)を
形成する。
Next, as shown in FIG. 1 (b), after forming a resist layer (4) on the surface of the substrate (3), the resist layer (4) is exposed and developed, and As shown in c), a resist pattern (41) corresponding to the concave / convex pattern on the air bearing surface is formed.

【0015】その後、図2(a)に示す如く、レジストパ
ターン(41)を介して基板(3)の表面にイオンビームを照
射して、所定の深さまでエッチングを施す。この際、イ
オンビームの照射方向は必要に応じ、基板垂線に対して
傾斜させる。これによって、基板(3)の表面には、同図
(b)の如く、レジストパターン(41)から露出した領域
に、所定深さ(例えば3μm)の溝(10)が凹設されること
になる。尚、イオンビームエッチングによって、図4
(a)(b)に示す如く溝(10)の側面に、アルミニウムを主
成分とする付着物(6)が形成されることは避けられな
い。
Thereafter, as shown in FIG. 2A, the surface of the substrate (3) is irradiated with an ion beam through the resist pattern (41) to perform etching to a predetermined depth. At this time, the irradiation direction of the ion beam is inclined with respect to the perpendicular to the substrate as necessary. As a result, the surface of the substrate (3) is
As shown in (b), a groove (10) having a predetermined depth (for example, 3 μm) is formed in a region exposed from the resist pattern (41). In addition, FIG.
As shown in (a) and (b), it is inevitable that a deposit (6) containing aluminum as a main component is formed on the side surface of the groove (10).

【0016】次に、図2(c)に示す如く、酸性処理液
(5)中にヘッドブロック(2)を浸漬する。酸性処理液
(5)としては、23℃の1%フッ酸溶液を用い、浸漬時
間は1分間に設定した。これによって、図4(a)(b)に
示す付着物(6)は溶解し、完全に除去されることにな
る。この際、ヘッドブロック(2)の記録再生ヘッド部(1
6)の媒体対向面はレジストパターン(41)によって覆われ
ており、記録再生ヘッド部(16)の表面は保護層によって
覆われているので、酸性処理液(5)によって記録再生ヘ
ッド部(16)が浸食される虞れはない。
Next, as shown in FIG.
The head block (2) is immersed in (5). Acid treatment solution
As (5), a 1% hydrofluoric acid solution at 23 ° C. was used, and the immersion time was set to 1 minute. Thus, the deposit (6) shown in FIGS. 4A and 4B is dissolved and completely removed. At this time, the recording / reproducing head (1) of the head block (2)
The medium facing surface of (6) is covered with a resist pattern (41), and the surface of the recording / reproducing head (16) is covered with a protective layer. ) Is not eroded.

【0017】尚、バンプ層(13)の表面は保護層から露出
しているが、バンプ層(13)は金などの極めてイオン化傾
向の小さな金属から形成されているので、酸性処理液
(5)によって浸食を受ける虞れはない。又、基板(3)の
溝(10)の内面は酸性処理液(5)によって多少の浸食を受
けることとなるが、媒体対向面と接触することのない部
分であり、問題はない。
The surface of the bump layer (13) is exposed from the protective layer. However, since the bump layer (13) is formed of a metal having a very low ionization tendency, such as gold, an acid treatment solution is used.
There is no danger of erosion due to (5). Further, the inner surface of the groove (10) of the substrate (3) is slightly eroded by the acidic processing liquid (5), but does not come into contact with the medium facing surface, so there is no problem.

【0018】その後、図2(d)に示す如く、ヘッドブロ
ック(2)上のレジストパターン(41)を適当な溶剤によっ
て除去する。これによって、ヘッドブロック(2)の表面
には、溝(10)と凸条(31)からなる所定の凹凸パターンが
形成されることになる。最後に、ヘッドブロック(2)を
図中の破線に沿ってスライスし、これによって得られた
ヘッドチップに、適当な洗剤を用いた洗浄を施す。この
結果、図3に示す複合型薄膜磁気ヘッドが完成する。
Thereafter, as shown in FIG. 2D, the resist pattern (41) on the head block (2) is removed with a suitable solvent. As a result, a predetermined concavo-convex pattern including the groove (10) and the ridge (31) is formed on the surface of the head block (2). Finally, the head block (2) is sliced along the dashed line in the figure, and the obtained head chip is washed with a suitable detergent. As a result, the composite thin film magnetic head shown in FIG. 3 is completed.

【0019】図5(a)(b)のグラフは、上記本発明の製
造方法によって得られた浮上型薄膜磁気ヘッドと、従来
の製造方法によって得られた浮上型薄膜磁気ヘッドを対
象として、空気ベアリング面を触針式の段差計によって
走査し、溝(10)とサイドレール(17)の間の段差部の形状
を測定した結果を表わしている。図5(a)に示す従来例
では、約3μmの段差Sに対して、図中にAで示す如く
高さ0.1〜0.3μm程度の隆起が現われており、付着
物が形成されていることがわかる。これに対し、図5
(b)に示す本発明例では、段差Sに従来の如き隆起はな
く、付着物が除去されていることがわかる。
The graphs of FIGS. 5A and 5B show the air flow for the floating type thin film magnetic head obtained by the manufacturing method of the present invention and the floating type thin film magnetic head obtained by the conventional manufacturing method. It shows the result of scanning the bearing surface with a stylus type step meter and measuring the shape of the step between the groove (10) and the side rail (17). In the conventional example shown in FIG. 5A, a bump having a height of about 0.1 to 0.3 μm appears as shown by A in FIG. You can see that there is. In contrast, FIG.
In the example of the present invention shown in (b), it can be seen that the step S does not have a bump as in the prior art, and that the attached matter has been removed.

【0020】上述の如く、本発明に係る浮上型磁気ヘッ
ドの製造方法によれば、イオンビームエッチングによっ
て付着物(6)が形成されたヘッドブロック(2)を、レジ
ストパターン(41)を除去する前に、酸性処理液(5)中に
浸漬して、付着物(6)を溶解し、除去する工程を採用し
たので、記録再生ヘッド部(16)に損傷を与えることな
く、滑らかな空気ベアリング面を形成することが出来、
磁気ヘッドの信頼性、歩留りを向上させることが可能で
ある。
As described above, according to the method of manufacturing a flying magnetic head according to the present invention, the resist pattern (41) is removed from the head block (2) on which the deposit (6) is formed by ion beam etching. Previously, a process of dissolving and removing the adhered substance (6) by immersion in an acidic treatment liquid (5) was adopted, so that a smooth air bearing was provided without damaging the recording / reproducing head (16). Can form a surface,
It is possible to improve the reliability and yield of the magnetic head.

【0021】上記実施の形態の説明は、本発明を説明す
るためのものであって、特許請求の範囲に記載の発明を
限定し、或は範囲を減縮する様に解すべきではない。
又、本発明の各部構成は上記実施の形態に限らず、特許
請求の範囲に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能で
あることは勿論である。例えば、酸性処理液(5)として
は、フッ酸の溶液に限らず、硝酸、塩酸、燐酸などの溶
液を用いることも可能である。
The description of the above embodiments is for the purpose of describing the present invention, and should not be construed as limiting the invention described in the claims or reducing the scope thereof.
In addition, the configuration of each part of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that various modifications can be made within the technical scope described in the claims. For example, the acidic treatment liquid (5) is not limited to a solution of hydrofluoric acid, but may be a solution of nitric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, or the like.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る浮上型磁気ヘッドの製造工程の前
半を表わす工程図である。
FIG. 1 is a process diagram showing a first half of a manufacturing process of a flying magnetic head according to the present invention.

【図2】同上工程の後半を表わす工程図である。FIG. 2 is a process chart showing the latter half of the above process.

【図3】浮上型薄膜磁気ヘッドの斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a flying type thin film magnetic head.

【図4】付着物が形成される様子を表わす拡大断面図で
ある。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view illustrating a state in which a deposit is formed.

【図5】空気ベアリング面の段差部の形状を測定した結
果を表わすグラフである。
FIG. 5 is a graph showing a result of measuring a shape of a step portion on an air bearing surface.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(1) スライダー (10) 溝 (11) 誘導型ヘッド素子 (12) MRヘッド素子 (13) バンプ層 (15) 保護層 (16) 記録再生ヘッド部 (17) サイドレール (2) ヘッドブロック (3) 基板 (4) レジスト層 (41) レジストパターン (5) 酸性処理液 (1) Slider (10) Groove (11) Inductive head element (12) MR head element (13) Bump layer (15) Protective layer (16) Recording / reproducing head (17) Side rail (2) Head block (3) ) Substrate (4) Resist layer (41) Resist pattern (5) Acid treatment solution

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定の凹凸パターンからなる空気ベアリ
ング面Sを有するスライダー(1)と、スライダー(1)の
空気ベアリング面Sとは交叉する側面に形成された記録
再生用のヘッド部(16)とから構成される浮上型磁気ヘッ
ドの製造方法において、 スライダー(1)となる基板(3)の側面にヘッド部(16)を
形成する第1工程と、 空気ベアリング面Sとなる基板(3)の表面にレジスト層
(4)を形成する第2工程と、 レジスト層(4)に露光、現像処理を施して、空気ベアリ
ング面Sの凹凸パターンに応じたレジストパターン(41)
を形成する第3工程と、 レジストパターン(41)を介して基板(3)の表面にイオン
ビームエッチングを施す第4工程と、 基板(3)の表面を酸性処理液(5)中に浸漬する第5工程
と、 基板(3)の表面からレジストパターン(41)を除去する第
6工程とを有している浮上型磁気ヘッドの製造方法。
A slider (1) having an air bearing surface (S) having a predetermined concavo-convex pattern, and a recording / reproducing head (16) formed on a side surface intersecting the air bearing surface (S) of the slider (1). A first step of forming a head portion (16) on a side surface of a substrate (3) serving as a slider (1); and a substrate (3) serving as an air bearing surface S. Resist layer on the surface of
A second step of forming (4); exposing and developing the resist layer (4) to form a resist pattern (41) corresponding to the concavo-convex pattern on the air bearing surface S;
A fourth step of performing ion beam etching on the surface of the substrate (3) via the resist pattern (41); and immersing the surface of the substrate (3) in an acidic treatment liquid (5). A method for manufacturing a floating magnetic head, comprising: a fifth step; and a sixth step of removing a resist pattern (41) from a surface of a substrate (3).
【請求項2】 第1工程においては、基板(3)の側面に
磁気抵抗効果型ヘッド素子(12)及び誘導型ヘッド素子(1
1)を形成した後、これらのヘッド素子を覆って保護層(1
5)を形成する請求項1に記載の製造方法。
2. In a first step, a magnetoresistive head element (12) and an inductive head element (1) are provided on side surfaces of a substrate (3).
After forming (1), a protective layer (1
The method according to claim 1, wherein 5) is formed.
【請求項3】 酸性処理液(5)は、フッ酸の溶液である
請求項1又は請求項2に記載の製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the acidic treatment liquid is a solution of hydrofluoric acid.
JP32717596A 1996-12-06 1996-12-06 Production of floating magnetic head Pending JPH10172124A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32717596A JPH10172124A (en) 1996-12-06 1996-12-06 Production of floating magnetic head

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32717596A JPH10172124A (en) 1996-12-06 1996-12-06 Production of floating magnetic head

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10172124A true JPH10172124A (en) 1998-06-26

Family

ID=18196153

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32717596A Pending JPH10172124A (en) 1996-12-06 1996-12-06 Production of floating magnetic head

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10172124A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7396770B2 (en) 2006-01-10 2008-07-08 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Post-parting etch to smooth silicon sliders

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7396770B2 (en) 2006-01-10 2008-07-08 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Post-parting etch to smooth silicon sliders

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4436593A (en) Self-aligned pole tips
US5820770A (en) Thin film magnetic head including vias formed in alumina layer and process for making the same
JPH02289913A (en) Manufacturing method of thin film magnetic head
JPH03250414A (en) Manufacture of pole-tip structure for thin film magnetic head
JPH038004B2 (en)
JPS63173213A (en) Manufacture of thin film magnetic head
JPH10172124A (en) Production of floating magnetic head
US4351698A (en) Variable sloped etching of thin film heads
JPH0845031A (en) Mr read head and method for removal of short circuit betweenlead and shielding layer in its air bearing face (abs)
JPS63138513A (en) Thin film magnetic head and its production
US6012218A (en) Process for producing thin film magnetic heads
JP2803911B2 (en) Bonding pad and method of forming bonding pad portion
JP3333756B2 (en) Master information carrier and method of manufacturing the same
JPH10172111A (en) Production of thin-film magnetic head
JPH04192106A (en) Production of thin-film magnetic head
JP3603739B2 (en) Thin film magnetic head and method of manufacturing thin film magnetic head
JP3015546B2 (en) Resist coating method
JP2994997B2 (en) Thin film magnetic head and method of manufacturing the same
JP2685235B2 (en) Method for manufacturing thin-film magnetic head
JP2000011320A (en) Production of thin-film magnetic head
JP2862519B2 (en) Method for manufacturing thin-film magnetic head
JP3228385B2 (en) Method for manufacturing thin-film magnetic head
JPH10312063A (en) Forming method of photoresist pattern for lift-off process
JPH09305921A (en) Composite type thin film magnetic head and its manufacture
JPH10340428A (en) Manufacture of composite type thin film magnetic head