JPH10158867A - Peeling agent for noble metal - Google Patents

Peeling agent for noble metal

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JPH10158867A
JPH10158867A JP33466396A JP33466396A JPH10158867A JP H10158867 A JPH10158867 A JP H10158867A JP 33466396 A JP33466396 A JP 33466396A JP 33466396 A JP33466396 A JP 33466396A JP H10158867 A JPH10158867 A JP H10158867A
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JP
Japan
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compound
noble metal
metal
peeling
substrate
Prior art date
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Application number
JP33466396A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaki Ishikawa
正樹 石川
Ariyasu Miyamoto
有庸 宮本
Saburo Kondo
三郎 近藤
Masamichi Terayama
正道 寺山
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ASAHI PURITETSUKU KK
Original Assignee
ASAHI PURITETSUKU KK
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a peeling agent which allows the recycling of metallic base materials after peeling as they are by adding carboxylic acid and the its alkaline metal salt to a system contg. a nitrobenzene compd., its alkaline metal salt and their deriv., a lead compd. and a cyan radial supplying source compd. SOLUTION: This peeling material contains, for example, 1 to 100g/l alkaline metal slat of the nitrobenzene sulfonic acid, 0.0001 to 3g/l lead carboxylate, 1 to 100g/l cyan radial supplying source compd. and further, the carboxylic acid and the alkaline metal salt of the carboxylic acid and the pH of the aq. soln. is >=7.5. The concn. of the carboxylic acid and the alkaline metal salt of the carboxylic acid is preferably 0.001 to 10g/l. This peeling agent is perfect in peeling, is fast in a peeling rate and hardly corrodes the metallic base materials and therefor, allows the recycling of the substrates as the base bodies for noble plating, etc., as they are, after peeling.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は貴金属の剥離剤に関
するもので更に詳しく述べると、金属基体の表面にメッ
キ等の手段によって固着されている貴金属を、金属基体
を傷めることなく選択的に剥離することができ、剥離後
の基体を再使用できる特徴がある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a noble metal release agent, and more particularly, to selectively remove a noble metal adhered to a surface of a metal substrate by plating or the like without damaging the metal substrate. And that the substrate after peeling can be reused.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、貴金属メッキを施した製品等から
貴金属を回収する方法としては、硝酸あるいは王水等を
用いて金属基体を含めた全体を一旦溶解した後貴金属を
分離して回収する方法、或いはシアンラジカルと有機酸
化剤またはチオ尿素等により錯塩を形成させて溶解した
後回収する錯化法、または電解法が用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of recovering a noble metal from a product coated with a noble metal, a method of once dissolving the entirety including a metal substrate using nitric acid or aqua regia and then separating and recovering the noble metal is used. Alternatively, a complexing method in which a complex salt is formed by dissolving a cyanide radical with an organic oxidizing agent or thiourea and the like is dissolved and then recovered, or an electrolytic method is used.

【0003】しかしこれらの方法の中、強酸を用いて下
地の金属基体も含めた全体を溶解する方法では、当然金
属基体をそのまま再使用することは不可能である。また
錯化法では貴金属の完全剥離が極めて困難であり、たと
え完全剥離ができた場合でもその下地である金属基体が
再使用に耐えない程度まで浸食してしまう場合が殆どで
あった。
However, among these methods, in the method of dissolving the entire metal base including the base metal base using a strong acid, it is naturally impossible to reuse the metal base as it is. Further, in the complexing method, it is extremely difficult to completely remove the noble metal, and even if the noble metal is completely peeled off, it is almost the case that the underlying metal substrate is eroded to such an extent that it cannot withstand reuse.

【0004】例えば、特開昭60-92487号公報には、ニト
ロ安息香酸誘導体、シアンラジカル供給源化合物、タリ
ウム化合物及び場合によっては更に鉛化合物を含む水溶
液を用いて、金、パラジウムまたはパラジウム/ニッケ
ルの固着物を金属基体から溶解除去する方法が記載され
ている。しかし、この方法では金属基体の溶解が激しく
基体の再使用は不可能であった。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-92487 discloses that gold, palladium or palladium / nickel is prepared by using an aqueous solution containing a nitrobenzoic acid derivative, a cyanide radical source compound, a thallium compound and optionally a lead compound. A method for dissolving and removing the adhered substance from a metal substrate is described. However, in this method, the metal substrate was severely dissolved, and it was impossible to reuse the substrate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】貴金属メッキ層等の剥
離に使用れる従来の剥離剤は剥離速度が遅くまた、下地
である金属基体の腐食が激しいため剥離後の基体をその
まま再使用することが殆ど不可能であった。その後、剥
離速度はかなり改良されているが金属基体の腐食の抑制
は尚不十分である。本発明はこれらの問題点を解決し基
体を損傷することなく、金属基体表面に固着した貴金属
固着物を効果的に溶解、剥離する組成物であって、剥離
後の金属基体をそのまま再使用できる剥離剤を開発して
提供しようとするものである。
A conventional release agent used for peeling a noble metal plating layer or the like has a slow release rate, and the base metal substrate serving as an underlayer is severely corroded. Almost impossible. Thereafter, the peel rate has improved considerably, but the control of corrosion of the metal substrate is still insufficient. The present invention is a composition that solves these problems and effectively dissolves and removes a noble metal adhered substance adhered to the surface of a metal substrate without damaging the substrate. The metal substrate after peeling can be reused as it is. It is intended to develop and provide a release agent.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者等はメッキ等に
よって下地の金属基体に固着している貴金属を溶解して
剥離する際、貴金属の溶解性が優れていると共に金属基
体を傷めず、貴金属の溶解後基体をそのまま再利用でき
る方法について研究した。その結果、剥離剤としてニト
ロベンゼンスルフォン酸アルカリ金属塩及びシアンラジ
カル供給源化合物、カルボン酸鉛を含む系を使用した場
合には、貴金属の溶解時かなり金属基体が腐食される
が、この系に更にカルボン酸を加えると金属基体を腐食
することなく表面に固着した貴金属のみを容易に溶解で
きることを見出した。更に、同様な効果を有するカルボ
ン酸誘導体についても検討した結果本発明に到達した。
Means for Solving the Problems When dissolving and separating a noble metal adhered to a base metal substrate by plating or the like, the present inventors have excellent noble metal solubility and do not damage the metal substrate. A method was studied in which the substrate can be reused as it is after dissolution of the noble metal. As a result, when a system containing an alkali metal salt of nitrobenzene sulfonic acid, a cyan radical source compound and lead carboxylate is used as a release agent, the metal substrate is considerably corroded when the noble metal is dissolved. It has been found that when an acid is added, only the noble metal adhered to the surface can be easily dissolved without corroding the metal substrate. Furthermore, as a result of studying a carboxylic acid derivative having the same effect, the present invention has been reached.

【0007】すなわち、水溶液中における、(A) ニトロ
ベンゼン化合物、ニトロベンゼン化合物アルカリ金属塩
及びこれらの誘導体からなる群より選ばれた、少なくと
も1種類の化合物の濃度が1〜100 g/リットルであり、
(B) 少なくとも1種類の鉛化合物の濃度が 0.0001 〜3
g/リットルであり、(C) シアンラジカル供給源化合物の
濃度が1〜100 g/リットルであり、更に、(D) カルボン
酸及びカルボン酸アルカリ金属塩からなる群より選ばれ
た少なくとも1種類の化合物が含まれていて、且つ水溶
液のpHが7.5 以上である、金属基体表面に固着した貴金
属の剥離剤である。
That is, the concentration of at least one compound selected from the group consisting of (A) a nitrobenzene compound, a nitrobenzene compound alkali metal salt and a derivative thereof in an aqueous solution is 1 to 100 g / liter,
(B) the concentration of at least one lead compound is 0.0001 to 3;
g / liter, the concentration of (C) the cyanogen radical source compound is 1 to 100 g / liter, and (D) at least one kind selected from the group consisting of carboxylic acids and alkali metal salts of carboxylic acids. A noble metal release agent fixed to the surface of a metal substrate, which contains a compound and has a pH of an aqueous solution of 7.5 or more.

【0008】ここで、ニトロベンゼン化合物としてはニ
トロ安息香酸が、ニトロベンゼン化合物アルカリ金属塩
としてはニトロベンゼンスルフォン酸ナトリウムが好ま
しい。また、鉛化合物としては酢酸鉛または硼酸鉛が、
カルボン酸としては蓚酸またはマロン酸が好ましい。
Here, nitrobenzoic acid is preferred as the nitrobenzene compound, and sodium nitrobenzenesulfonate is preferred as the alkali metal salt of the nitrobenzene compound. In addition, as a lead compound, lead acetate or lead borate is used,
Oxalic acid or malonic acid is preferred as the carboxylic acid.

【0009】以下、本発明について詳しく説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0010】本発明の貴金属剥離剤は水溶液の状態で使
用されるが、水溶液の形態のみでなく必要な化学成分を
ドライの状態で予め調合しておき、水に溶解すればその
まま貴金属剥離剤として使用できる組成物としても調製
される場合がある。本発明にはそれらの2つの態様が含
まれている。
The noble metal stripping agent of the present invention is used in the form of an aqueous solution. Not only the form of the aqueous solution but also the necessary chemical components are prepared in advance in a dry state, and when dissolved in water, the noble metal stripping agent is used as it is as a noble metal stripping agent. It may also be prepared as a composition that can be used. The present invention includes these two embodiments.

【0011】貴金属剥離剤には複数成分が含まれている
が、その一成分として(A) ニトロベンゼン化合物、ニト
ロベンゼン化合物アルカリ金属塩及びこれらの誘導体か
らなる群より選ばれた、少なくとも1種類の化合物を組
成物においては1〜100 重量部、水溶液においては1〜
100 g/リットル含まれている必要がある。
The noble metal stripping agent contains a plurality of components. One of the components is (A) at least one compound selected from the group consisting of nitrobenzene compounds, nitrobenzene compound alkali metal salts and derivatives thereof. 1 to 100 parts by weight in the composition, 1 to 100 parts by weight in the aqueous solution
Should contain 100 g / l.

【0012】これらの成分の濃度の下限は、貴金属を固
着されている下地の金属基体から剥離する作用の点から
1 g/ リットルであり、更にこの作用が急速に高まる 4
0 g/リットル以上がより好ましい。また、上限はこの成
分の溶解性の点から 100 g/リットルであり、更に剥離
性の挙動の点から 60 g/リットル以下がより好ましい。
The lower limit of the concentration of these components is determined from the viewpoint of the action of peeling the noble metal from the underlying metal substrate to which it is fixed.
1 g / l, and this effect rapidly increases 4
0 g / liter or more is more preferable. The upper limit is 100 g / liter from the viewpoint of the solubility of this component, and more preferably 60 g / liter or less from the viewpoint of the releasability.

【0013】ニトロベンゼン化合物、ニトロベンゼン化
合物アルカリ金属塩及びこれらの誘導体に属する広範囲
の化合物は、いずれも本発明の一成分として使用可能で
あるがこれらの化合物の中、o-、m-及びp-ニトロベンゼ
ンスルフォン酸及びこれらのアルカリ金属塩、o-、また
はm-及びp-ニトロ安息香酸及びこれらのアルカリ金属
塩、或いはo-、m-及びp-ニトロベンゼンスルフォニルク
ロライド、m-及びp-ニトロフェニルエステル等がより好
ましい。
A wide range of compounds belonging to nitrobenzene compounds, alkali metal salts of nitrobenzene compounds and their derivatives can be used as one component of the present invention. Among these compounds, o-, m- and p-nitrobenzene Sulfonic acid and their alkali metal salts, o- or m- and p-nitrobenzoic acid and their alkali metal salts, or o-, m- and p-nitrobenzenesulfonyl chloride, m- and p-nitrophenyl esters Is more preferred.

【0014】本発明の貴金属剥離剤にはその他の成分と
して、(B) 少なくとも1種類の鉛化合物を組成物におい
ては 0.0001 〜3重量部、水溶液においては 0.001〜3
g/リットル含まれている必要がある。
The noble metal stripping agent of the present invention contains, as another component, at least one lead compound (B) in an amount of 0.0001 to 3 parts by weight in the composition and 0.001 to 3 parts by weight in the aqueous solution.
g / liter must be included.

【0015】この成分の濃度の下限は、貴金属を剥離す
る際に金属基体の保護効果が不十分となって、基体の浸
食が発生するのを防止する観点から 0.0001 g/リットル
であり、更に 0.1 g/ リットル以上がより好ましい。ま
たこの成分の濃度が上昇すると貴金属固着物の溶解速度
が著しく低下して実用性が失われ、不溶解分が下地表面
に残存して下地を汚しその再使用に悪影響を与える。そ
のため上限は 3g/リットルである。
The lower limit of the concentration of this component is 0.0001 g / liter from the viewpoint of preventing the protection effect of the metal substrate from being insufficient when peeling the noble metal and preventing the substrate from eroding. g / liter or more is more preferred. In addition, when the concentration of this component increases, the dissolution rate of the noble metal adhered substance is remarkably reduced, and the practicality is lost. Insoluble matter remains on the surface of the base to stain the base and adversely affect its reuse. Therefore the upper limit is 3g / l.

【0016】鉛化合物は貴金属剥離剤の一成分として有
効であるが特に好ましいものとして、酢酸鉛、硼酸鉛、
塩化鉛、硝酸鉛、硫酸鉛、エチレンジアミン四酢酸鉛が
挙げられる。
The lead compound is effective as one component of the noble metal release agent, but particularly preferred are lead acetate, lead borate,
Examples include lead chloride, lead nitrate, lead sulfate, and ethylenediaminetetraacetate.

【0017】本発明の貴金属剥離剤には更にその他の成
分として、(C) シアンラジカル供給源化合物を組成物に
おいては1〜100 重量部、水溶液においては1〜100 g/
リットル含まれている必要がある。
The noble metal stripping agent of the present invention further comprises (C) 1 to 100 parts by weight of a cyan radical source compound in the composition and 1 to 100 g /
Liters need to be included.

【0018】水溶液の状態でシアンラジカルを生成する
シアンラジカル供給源化合物は特に限定しないが、例え
ば、ナトリウム、カリウム等アルカリ金属のシアン化合
物が挙げられる。こ成分の濃度が低下すると貴金属の溶
解速度が減少して使用できないため、その下限は1g/リ
ットルであり、より好ましくは5g/リットル以上であ
る。また、水溶液中のシアン化合物濃度が上昇し過ぎる
と金属基体の損傷や変色が起こることがあり、金属器基
体の再利用が困難となるおそれがあるためその上限は 1
00g/リットルであり、より好ましくは20g/リットル以下
である。
The cyan radical source compound that produces cyan radicals in the state of an aqueous solution is not particularly limited, and examples thereof include cyanides of alkali metals such as sodium and potassium. When the concentration of this component is reduced, the dissolution rate of the noble metal is reduced and it cannot be used. Therefore, the lower limit is 1 g / liter, more preferably 5 g / liter or more. If the concentration of the cyanide compound in the aqueous solution is too high, the metal base may be damaged or discolored, and it may be difficult to reuse the metal base.
00 g / liter, and more preferably 20 g / liter or less.

【0019】本発明の貴金属剥離剤には更にその他の成
分として、(D) カルボン酸及びカルボン酸アルカリ金属
塩からなる群より選ばれた、少なくとも1種類の化合物
を含む必要がある。これらの化合物の剥離剤水溶液にお
ける濃度は 0.001〜10g/リットルであることが好まし
い。
The noble metal stripping agent of the present invention must further contain, as another component, at least one compound selected from the group consisting of (D) carboxylic acids and alkali metal salts of carboxylic acids. The concentration of these compounds in the aqueous release agent solution is preferably 0.001 to 10 g / liter.

【0020】本発明の剥離剤におけるカルボン酸及びカ
ルボン酸アルカリ金属塩の作用機構の詳細は明らかでな
いが、下地の金属基体にメッキ等の方法で固着した貴金
属層を溶解する際、金属基体の浸食を緩和する顕著な効
果が認められる。この効果の観点からこの成分の濃度の
下限は好ましくは0.001 g/リットルであり、より好まし
くは0.01g/リットル以上である。また、濃度の上限はこ
の成分の増加と金属基体の浸食緩和効果との関係よりみ
て好ましくは10g/リットルであり、より好ましくは8g/
リットル以下である。尚、これらの各成分の比率は組成
物として調製する場合にも好ましい。
The details of the mechanism of action of the carboxylic acid and the alkali metal carboxylate in the release agent of the present invention are not clear, but when dissolving the noble metal layer fixed to the underlying metal substrate by plating or the like, erosion of the metal substrate occurs. And a remarkable effect of alleviating this is observed. From the viewpoint of this effect, the lower limit of the concentration of this component is preferably 0.001 g / liter, and more preferably 0.01 g / liter or more. The upper limit of the concentration is preferably 10 g / liter, more preferably 8 g / liter, in view of the relationship between the increase in this component and the effect of alleviating erosion of the metal substrate.
Less than a liter. In addition, the ratio of each of these components is preferable also when preparing as a composition.

【0021】カルボン酸及びカルボン酸アルカリ金属塩
に含まれる広範囲の化合物は、いずれも本発明の成分と
して有効であるが、これらの中好ましい成分としてはグ
リコール酸、プロピオン酸、ステアリン酸、乳酸、蓚
酸、マロン酸、マレイン酸、クエン酸及びそれらのアル
カリ金属塩が挙げられる。より好ましくは蓚酸及びマロ
ン酸またはこれらのアルカリ金属塩である。
Although a wide range of compounds contained in carboxylic acids and alkali metal salts of carboxylic acids are all effective as components of the present invention, preferred components among them are glycolic acid, propionic acid, stearic acid, lactic acid, oxalic acid and the like. , Malonic acid, maleic acid, citric acid and their alkali metal salts. More preferred are oxalic acid and malonic acid or alkali metal salts thereof.

【0022】更に本発明の剥離剤水溶液の pH の下限
は、貴金属層の剥離効果及び下地である金属基体の腐食
防止の観点から7.5 であることが必要であり、同様な効
果の観点からより好ましくは 9.0以上であり、上限は 1
3.0 である。
The lower limit of the pH of the aqueous solution of the stripping agent of the present invention must be 7.5 from the viewpoint of the stripping effect of the noble metal layer and the prevention of corrosion of the metal substrate as the base, and is more preferably from the viewpoint of the same effect. Is 9.0 or higher and the upper limit is 1
3.0.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】本発明の剥離剤によって剥離の対
象となる貴金属は主として、金及び銀、パラジウム或い
はこれらの金属をベースとする合金である。また貴金属
層を形成させる下地となる金属基体には種々の金属材料
が使用可能であり、真鍮にニッケルメッキを施した材料
等が最もよく使用される。金及び銀、パラジウム等の貴
金属層の形成法は特に限定しないが通常はメッキにより
形成される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The noble metals to be stripped by the stripping agent of the present invention are mainly gold and silver, palladium or alloys based on these metals. Various metal materials can be used for a metal substrate serving as a base for forming a noble metal layer, and a material obtained by plating nickel on brass or the like is most often used. The method of forming the noble metal layer such as gold, silver, and palladium is not particularly limited, but is usually formed by plating.

【0024】前述の様な組成を有する貴金属剥離剤を調
製するには、予め(A) ニトロベンゼン化合物、ニトロベ
ンゼン化合物アルカリ金属塩、例えば、ニトロベンゼン
スルフォン酸ナトリウム及び(B) 鉛化合物、例えば酢酸
鉛、(D) カルボン酸及びカルボン酸アルカリ金属塩、例
えば蓚酸を所定の比率で混合した組成物をつくり、使用
する際この組成物を(C) シアンラジカル供給源化合物の
水溶液、例えば、シアン化カリウムまたはシアン化ナト
リウム水溶液中に投入して溶解し、貴金属剥離剤を調製
する。
In order to prepare a noble metal stripping agent having the above-mentioned composition, (A) a nitrobenzene compound, a nitrobenzene compound alkali metal salt such as sodium nitrobenzenesulfonate and (B) a lead compound such as lead acetate, D) A composition is prepared by mixing a carboxylic acid and a carboxylic acid alkali metal salt, for example, oxalic acid, in a predetermined ratio, and when used, the composition is used in (C) an aqueous solution of a cyan radical source compound, for example, potassium cyanide or sodium cyanide. It is poured into an aqueous solution and dissolved to prepare a noble metal release agent.

【0025】例えば、真鍮にニッケルメッキを施した地
金の上にメッキにより形成された金の薄層を剥離するに
は、この貴金属製品を剥離剤溶液中に浸漬することによ
り、貴金属層がこの溶液中に溶解することによって容易
に剥離される。
For example, in order to peel a thin layer of gold formed by plating on a nickel-plated brass metal, the noble metal product is immersed in a stripping agent solution to form the noble metal layer. It is easily exfoliated by dissolving in a solution.

【0026】剥離液の使用温度は一定はしていないが、
温度が高い方が剥離速度が速くなるため通常30〜70℃程
度で使用されることが多い。また攪拌しなくても徐々に
剥離は進行するが、剥離を促進するため攪拌する場合が
多い。
Although the use temperature of the stripping solution is not constant,
The higher the temperature, the faster the peeling rate, so that the temperature is usually used at about 30 to 70 ° C. The peeling gradually proceeds without stirring, but is often stirred to promote the peeling.

【0027】本発明の剥離剤の最も大きな特徴は貴金属
層を剥離する際、地金である金属基体の表面の浸食が極
めて少ない点である。従来から剥離剤として使用されて
いた(A) ニトロベンゼンスルフォン酸ナトリウム、(B)
酢酸鉛及び、(C) シアン化カリウムからなる3成分系の
剥離剤の最も大きなデメリットは、剥離の際金属基体表
面の浸食防止が困難で、そのため剥離後の基体をそのま
ま再使用することが殆どできなかった点である。
The most significant feature of the release agent of the present invention is that when the noble metal layer is peeled off, the erosion of the surface of the metal substrate as the base metal is extremely small. (A) Sodium nitrobenzenesulfonate, (B) which has been conventionally used as a release agent
The biggest disadvantage of the three-component release agent composed of lead acetate and (C) potassium cyanide is that it is difficult to prevent erosion of the metal substrate surface at the time of release, so that the substrate after peeling can hardly be reused as it is. It is a point.

【0028】本発明の貴金属剥離剤はこのデメリットを
排除するため本研究者等の研究の結果、前記の3成分系
の剥離剤に更に第4の成分としてカルボン酸またはカル
ボン酸アルカリ金属塩を加えた点で、この4成分系の剥
離剤により金属基体表面の浸食を僅少に止め、剥離後金
属基体をそのまま再使用できるようにした点である。こ
れが本発明の最も大きな特徴である。
In order to eliminate the disadvantage, the noble metal release agent of the present invention has been studied by the present inventors. As a result, a carboxylic acid or an alkali metal carboxylate is further added as a fourth component to the three-component release agent. In this respect, the erosion on the surface of the metal substrate is slightly suppressed by the four-component release agent, and the metal substrate can be reused as it is after the release. This is the most significant feature of the present invention.

【0029】更に、使用中剥離能力が低下した場合はそ
の液中において消費されて濃度低下した成分のみ補給す
ることにより、剥離能力を回復させることができ且つ金
属基体表面の浸食を防止する機能も変わずに保持でき
る。この点も後述の実施例に示すように前述の3成分系
剥離剤と比較して著しく優れている。
Further, when the peeling ability is reduced during use, the function of recovering the peeling ability and preventing erosion of the surface of the metal substrate can be obtained by replenishing only the components which have been consumed in the liquid and have a reduced concentration. Can be kept unchanged. This point is also remarkably superior to the above-mentioned three-component release agent as shown in Examples described later.

【0030】本発明の貴金属剥離剤は水溶液の状態で使
用されるものであるが、予め必要な化学成分をドライの
状態で混合して需要者に供給し、使用する際水に溶解す
ればそのまま貴金属剥離剤として使用できる組成物とし
ても調製することができる。
The noble metal stripping agent of the present invention is used in the form of an aqueous solution. However, the necessary chemical components are mixed in advance in a dry state and supplied to the user. It can also be prepared as a composition that can be used as a noble metal release agent.

【0031】[0031]

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を更に具体的に説
明する。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.

【0032】(実施例1)貴金属剥離液としてニトロベ
ンゼンスルフォン酸ナトリウム 50 g/リットル、酢酸鉛
0.25 g/リットル、シアン化カリウム 10 g/リットル、
蓚酸2g/リットルを含む水溶液100 mlを調製した。
(Example 1) As a noble metal stripping solution, sodium nitrobenzenesulfonate 50 g / liter, lead acetate
0.25 g / l, potassium cyanide 10 g / l,
100 ml of an aqueous solution containing 2 g / l of oxalic acid was prepared.

【0033】真鍮に厚さ 3μm のニッケルメッキをした
基体の表面に金をフラッシュメッキして作成したテスト
ピースを、前記で調製した剥離液に50℃で金メッキが完
全に剥離できるまで浸漬した後に引き揚げて基体の表面
を観察した。その結果を表1に示す。
A test piece prepared by flash plating gold on the surface of a 3 μm-thick nickel-plated brass substrate was immersed in the stripping solution prepared above at 50 ° C. until the gold plating was completely peeled off, and then lifted up. To observe the surface of the substrate. Table 1 shows the results.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】(実施例2)実施例1においてニトロベン
ゼンスルフォン酸ナトリウムの代わりに、ニトロベンゼ
ン安息香酸 50 g/リットル及び少量の水酸化ナトリウム
を使用した他は同一の組成の水溶液を調製した。
Example 2 An aqueous solution having the same composition as in Example 1 was prepared except that in place of sodium nitrobenzenesulfonate, 50 g / liter of nitrobenzenebenzoic acid and a small amount of sodium hydroxide were used.

【0036】実施例1と同様に真鍮に厚さ 3μm のニッ
ケルメッキをした基体の表面に金をフラッシュメッキし
て作成したテストピースを、前記で調製した剥離液に50
℃で金メッキが完全に剥離できるまで浸漬した後に引き
揚げて基体の表面を観察した。その結果を表1に併せて
示す。
In the same manner as in Example 1, a test piece prepared by flash-plating gold on the surface of a 3 μm-thick nickel-plated brass substrate was applied to the stripping solution prepared above.
After immersion at ℃ until the gold plating was completely peeled off, it was pulled up and the surface of the substrate was observed. The results are shown in Table 1.

【0037】(実施例3)貴金属剥離液としてニトロベ
ンゼンスルフォン酸ナトリウム 50 g/リットル、硼酸鉛
0.25 g/リットル、シアン化カリウム 10 g/リットル、
蓚酸2g/リットルを含む水溶液100 mlを調製した。
(Example 3) As a noble metal stripping solution, sodium nitrobenzenesulfonate 50 g / l, lead borate
0.25 g / l, potassium cyanide 10 g / l,
100 ml of an aqueous solution containing 2 g / l of oxalic acid was prepared.

【0038】真鍮に厚さ 3μm のニッケルメッキをした
基体の表面に金をフラッシュメッキして作成したテスト
ピースを、前記で調製した剥離液に50℃で金メッキが完
全に剥離されるまで浸漬した後に引き揚げて基体の表面
を観察した。その結果を表1に示す。
A test piece prepared by flash-plating gold on the surface of a 3 μm-thick nickel-plated brass substrate was immersed in the stripping solution prepared above at 50 ° C. until the gold plating was completely stripped. The substrate was pulled out and the surface of the substrate was observed. Table 1 shows the results.

【0039】(実施例4)実施例3において蓚酸の代わ
りに、マロン酸2g/リットルを使用した他は同一の組成
の水溶液を調製した。
Example 4 An aqueous solution having the same composition was prepared as in Example 3, except that malonic acid was used in place of oxalic acid at 2 g / liter.

【0040】実施例3と同様に真鍮に厚さ 3μm のニッ
ケルメッキをした基体の表面に金をフラッシュメッキし
て作成したテストピースを、前記で調製した剥離液に50
℃で金メッキが完全に剥離できるまで浸漬した後に引き
揚げて基体の表面を観察した。その結果を表1に併せて
示す。
In the same manner as in Example 3, a test piece prepared by flash-plating gold on the surface of a 3 μm-thick nickel-plated brass substrate was applied to the stripping solution prepared above.
After immersion at ℃ until the gold plating was completely peeled off, it was pulled up and the surface of the substrate was observed. The results are shown in Table 1.

【0041】(実施例5)実施例1と同一の組成を有す
る貴金属剥離液を使用して、真鍮に厚さ 3μm のニッケ
ルメッキをした基体の表面に銀をフラッシュメッキして
作成したテストピースを、剥離液に50℃で銀メッキが完
全に剥離されるまで浸漬した後に引き揚げて基体の表面
を観察した。その結果を表1に示す。
Example 5 Using a noble metal stripper having the same composition as in Example 1, a test piece was prepared by flash-plating silver on the surface of a 3 μm-thick nickel-plated substrate made of brass. Then, the substrate was immersed in a stripping solution at 50 ° C. until the silver plating was completely stripped, then pulled up, and the surface of the substrate was observed. Table 1 shows the results.

【0042】表1に示した実施例1〜5の結果によっ
て、金属基体の表面に形成された金または銀のメッキ層
は短時間で完全に剥離されていることが分かる。しかも
基体のニッケルメッキの表面は処理前と全く同様な金属
光沢を残していて、基体の表面が殆ど浸食されずそのま
ま新しいメッキの基体として再使用できることを示して
いる。
The results of Examples 1 to 5 shown in Table 1 show that the gold or silver plating layer formed on the surface of the metal substrate was completely peeled off in a short time. Moreover, the nickel-plated surface of the substrate has the same metallic luster as before the treatment, indicating that the substrate surface is hardly eroded and can be reused as it is as a new plated substrate.

【0043】更に実施例1〜5の剥離操作を繰り返して
剥離速度が低下した場合、当初の剥離液の組成となるよ
うに各成分の不足分を補充して、テストピースの剥離試
験を繰り返して実施した。その結果、再調製した剥離液
を使用した場合も、新たに調製した剥離液と同様な剥離
性を有し、剥離後の基体のニッケルメッキの表面は処理
前と全く同様な金属光沢を残していることが確かめられ
た。
When the peeling operation in Examples 1 to 5 was repeated and the peeling speed was reduced, the shortage of each component was replenished so that the composition of the initial peeling liquid was obtained, and the peel test of the test piece was repeated. Carried out. As a result, even when the re-prepared stripping solution is used, it has the same releasability as the newly prepared stripping solution, and the nickel-plated surface of the substrate after the stripping has the same metallic luster as before the treatment. It was confirmed that there was.

【0044】(比較例1)実施例1において、貴金属剥
離液としてニトロベンゼンスルフォン酸ナトリウム 50
g/リットル、シアン化カリウム 10 g/リットルを含む水
溶液100 mlを使用した他は同一の条件で、基体の表面に
金をフラッシュメッキして同様に調製したテストピース
を使用して剥離試験をした。その結果を表1に示す。
(Comparative Example 1) In Example 1, sodium nitrobenzenesulfonate was used as the noble metal stripping solution.
Under the same conditions except that 100 ml of an aqueous solution containing 10 g / liter of potassium cyanide and 10 g / liter of potassium cyanide were used, a peeling test was performed using a test piece prepared by flash-plating gold on the surface of the substrate and similarly prepared. Table 1 shows the results.

【0045】表1に示した結果によって、この剥離液を
使用した場合には金の剥離に長時間を要し、しかも基体
のニッケルメッキ表面が著しく腐食されていたことか認
められた。
From the results shown in Table 1, it was confirmed that when this stripping solution was used, it took a long time to strip gold, and the nickel plating surface of the substrate was significantly corroded.

【0046】(比較例2)実施例1において、貴金属剥
離液としてニトロベンゼンスルフォン酸ナトリウム 50
g/リットル、酢酸鉛 0.25 g/リットル、シアン化カリウ
ム 10 g/リットルを含む水溶液100 mlを使用した他は同
一の条件で、基体の表面に金をフラッシュメッキして同
様に調製したテストピースを使用して剥離試験をした。
その結果を表1に示す。
(Comparative Example 2) In Example 1, sodium nitrobenzenesulfonate was used as the noble metal stripping solution.
g / litre, 0.25 g / l lead acetate, and 100 ml of an aqueous solution containing 10 g / litre of potassium cyanide. A peel test was performed.
Table 1 shows the results.

【0047】表1に示した結果によって、金メッキは約
30秒で完全に剥離できた。また基体表面のニッケルメッ
キの腐食は比較的少なく基体の再利用も可能であった。
しかし、一度使用した剥離液に当初の組成となるように
各成分を補充して再調製した後、更に同様なテストピー
スを使用して剥離試験を繰り返した結果、金メッキの剥
離は可能であったが、ニッケルメッキ表面の腐食が著し
く基体の再利用は不可能であった。従って、この様な組
成の貴金属剥離液では継続的に使用する必要がある工業
的な用途には使用できないことが分かった。
According to the results shown in Table 1, the gold plating is approximately
Peeling was completed completely in 30 seconds. Further, the corrosion of the nickel plating on the substrate surface was relatively small, and the substrate could be reused.
However, after replenishing and re-preparing each component so as to have the original composition in the used stripping solution, the stripping test was repeated using a similar test piece. As a result, the gold plating could be stripped. However, the nickel-plated surface was significantly corroded and it was impossible to reuse the substrate. Therefore, it was found that the noble metal stripper having such a composition cannot be used for industrial applications that need to be used continuously.

【0048】[0048]

【発明の効果】貴金属メッキ層等の剥離に使用される従
来の剥離剤は剥離速度も遅くまた、下地である金属基体
の腐食が著しいため、剥離後基体をそのまま再使用する
ことは不可能であった。剥離速度はその後かなり改良さ
れたものもあるが基体腐食の抑制は尚不十分であった。
本発明の剥離剤は剥離が完全で剥離速度も速く、金属基
体の腐食も殆どないため、剥離後基体をそのまま貴金属
メッキ等の下地として再利用することが可能である。更
に剥離速度が低下した場合、各成分の減少分を補充する
ことにより性能を回復させることが可能である。
According to the present invention, the conventional stripping agent used for stripping a noble metal plating layer has a slow stripping rate, and the metal base as the base is significantly corroded. Therefore, it is impossible to reuse the base as it is after stripping. there were. Although the stripping rates have subsequently improved considerably, the control of substrate corrosion was still insufficient.
Since the peeling agent of the present invention is completely peeled, has a high peeling speed, and hardly corrodes a metal substrate, the substrate can be reused as a substrate for precious metal plating or the like after peeling. Further, when the peeling speed is further reduced, the performance can be restored by replenishing the reduced amount of each component.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A) ニトロベンゼン化合物、ニトロベン
ゼン化合物アルカリ金属塩及びこれらの誘導体からなる
群より選ばれた、少なくとも1種類の化合物を1〜100
重量部と、(B) 少なくとも1種類の鉛化合物を 0.0001
〜3重量部と、(C) シアンラジカル供給源化合物を1〜
100 重量部と、(D) カルボン酸及びカルボン酸アルカリ
金属塩からなる群より選ばれた、少なくとも1種類の化
合物の、4種類の成分を含有せしめてなる金属基体表面
に固着した貴金属の剥離剤。
1. A method according to claim 1, wherein at least one compound selected from the group consisting of nitrobenzene compounds, nitrobenzene compound alkali metal salts and derivatives thereof is used in an amount of 1 to 100.
Parts by weight and (B) at least one lead compound
To 3 parts by weight and (C) a cyan radical source compound
100 parts by weight of a noble metal release agent fixed to the surface of a metal substrate containing four types of at least one compound selected from the group consisting of carboxylic acids and alkali metal salts of carboxylic acids. .
【請求項2】 水溶液中における、(A) ニトロベンゼン
化合物、ニトロベンゼン化合物アルカリ金属塩及びこれ
らの誘導体からなる群より選ばれた、少なくとも1種類
の化合物の濃度が1〜100 g/リットルであり、(B) 少な
くとも1種類の鉛化合物の濃度が 0.0001 〜3g/リット
ルであり、(C) シアンラジカル供給源化合物の濃度が1
〜100 g/リットルであり、(D) カルボン酸及びカルボン
酸アルカリ金属塩からなる群より選ばれた、少なくとも
1種類の化合物の濃度が 0.001〜10g/リットルであり、
且つ水溶液のpHが7.5 以上である、金属基体表面に固着
した貴金属の剥離剤。
2. The concentration of at least one compound selected from the group consisting of (A) a nitrobenzene compound, a nitrobenzene compound alkali metal salt and a derivative thereof in an aqueous solution is 1 to 100 g / liter, B) the concentration of at least one lead compound is 0.0001 to 3 g / l; and (C) the concentration of the cyan radical source compound is 1
(D) the concentration of at least one compound selected from the group consisting of carboxylic acids and alkali metal carboxylate is 0.001 to 10 g / liter,
A stripping agent for a noble metal adhered to the surface of a metal substrate, wherein the pH of the aqueous solution is 7.5 or more.
【請求項3】 ニトロベンゼン化合物がニトロ安息香酸
である、請求項1または2記載の金属基体表面に固着し
た貴金属の剥離剤。
3. The stripping agent for a noble metal adhered to the surface of a metal substrate according to claim 1, wherein the nitrobenzene compound is nitrobenzoic acid.
【請求項4】 ニトロベンゼン化合物アルカリ金属塩が
ニトロベンゼンスルフォン酸ナトリウムである、請求項
1または2記載の金属基体表面に固着した貴金属の剥離
剤。
4. The stripping agent for a noble metal fixed to the surface of a metal substrate according to claim 1, wherein the alkali metal salt of the nitrobenzene compound is sodium nitrobenzenesulfonate.
【請求項5】 鉛化合物が酢酸鉛または硼酸鉛である、
請求項1または2記載の金属基体表面に固着した貴金属
の剥離剤。
5. The lead compound is lead acetate or lead borate,
The stripping agent for a noble metal adhered to the surface of the metal substrate according to claim 1.
【請求項6】 カルボン酸が蓚酸またはマロン酸であ
る、請求項1または2記載の金属基体表面に固着した貴
金属の剥離剤。
6. The stripping agent for a noble metal adhered to the surface of a metal substrate according to claim 1, wherein the carboxylic acid is oxalic acid or malonic acid.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006199987A (en) * 2005-01-19 2006-08-03 Mitsubishi Chemicals Corp Etching liquid and etching method
JP2007098211A (en) * 2005-09-30 2007-04-19 Nihon Tetra Pak Kk Separation method of laminated packaging material containing aluminum layer and exfoliation liquid

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006199987A (en) * 2005-01-19 2006-08-03 Mitsubishi Chemicals Corp Etching liquid and etching method
JP4696565B2 (en) * 2005-01-19 2011-06-08 三菱化学株式会社 Etching solution and etching method
JP2007098211A (en) * 2005-09-30 2007-04-19 Nihon Tetra Pak Kk Separation method of laminated packaging material containing aluminum layer and exfoliation liquid

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