JPH1015509A - Cleaning method by electrolytic ion water and apparatus therefor - Google Patents

Cleaning method by electrolytic ion water and apparatus therefor

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JPH1015509A
JPH1015509A JP17096796A JP17096796A JPH1015509A JP H1015509 A JPH1015509 A JP H1015509A JP 17096796 A JP17096796 A JP 17096796A JP 17096796 A JP17096796 A JP 17096796A JP H1015509 A JPH1015509 A JP H1015509A
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JP
Japan
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water
cleaning
substrate
electrolytic
anion
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JP17096796A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Watanabe
和廣 渡邉
Tetsuya Kida
哲也 喜田
Tsugio Nakamura
次雄 中村
Yasumasa Shima
泰正 志摩
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Fujitsu Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To lessen the occurrence of cleaning unevenness. SOLUTION: Anionic water NW obtained by electrolysis of an electrolytic liquid by an electrolytic ion water producing unit 10 is jetted out of a nozzle 23 by a cleaning unit 20 to clean a substrate 30 and the water used for the cleaning treatment of the substrate 30 is recovered after the cleaning, turned back to the electrolytic ion water producing unit 10, and circulated and re-used. The anionic water NW is stirred during circulation and at the same time the anionic water NW at the tip end part of the nozzle 23 is dispersed by being jetted and adhere to the surface of the substrate 30, so that the concentration unevenness of the anionic ion water on the surface of the substrate 30 can be lessened and consequently, occurrence of cleaning unevenness can be lessened.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、少量の電解質を
含んだ純水(以下「電解液」という)を電気分解して陽
イオン水と陰イオン水とを生成し、そのうちの陰イオン
水を用いて液晶表示装置用ガラス基板の洗浄処理を行う
方法および装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention electrolyzes pure water containing a small amount of electrolyte (hereinafter referred to as "electrolyte solution") to produce cation water and anion water. The present invention relates to a method and an apparatus for cleaning a glass substrate for a liquid crystal display device using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置用ガラス基板(以下「基
板」という)の製造工程においては、基板上のパーティ
クル等を除去する必要がある。こういった基板洗浄の方
法の一つとして電解イオン水によって基板を洗浄する方
法がある。この電解イオン水による洗浄方法では、電解
液を電気分解して生成される陰イオン(OH-)水に基
板を浸漬させることによって、基板の洗浄を行う。この
ような基板の洗浄を行う基板洗浄装置としては図2に示
すようなものが代表的である。
2. Description of the Related Art In a manufacturing process of a glass substrate for a liquid crystal display device (hereinafter referred to as "substrate"), it is necessary to remove particles and the like on the substrate. As one of such substrate cleaning methods, there is a method of cleaning a substrate with electrolytic ionized water. In the cleaning method using electrolytic ionized water, the substrate is cleaned by immersing the substrate in anion (OH ) water generated by electrolyzing an electrolytic solution. As a substrate cleaning apparatus for cleaning such a substrate, an apparatus as shown in FIG. 2 is typical.

【0003】すなわち、電解槽101には直流電源10
2に接続された陽極103および陰極104が設けられ
ており、両極の間に挟まれるようにイオン隔膜105が
設けられていることによって、電解槽101は陽極側槽
室101Pと陰極側槽室101Nとに仕切られている。
そしてその電解槽101に電解液を注入し、蓄えられた
電解液に陽極103および陰極104によって適当な電
圧を印加することによって電解液を電気分解する。
That is, a DC power supply 10 is
2 is provided with an anode 103 and a cathode 104 connected to each other, and an ion separator 105 is provided so as to be sandwiched between the two electrodes, so that the electrolytic cell 101 has an anode-side cell chamber 101P and a cathode-side cell chamber 101N. And is divided into.
Then, the electrolytic solution is injected into the electrolytic bath 101, and an appropriate voltage is applied to the stored electrolytic solution by the anode 103 and the cathode 104 to electrolyze the electrolytic solution.

【0004】このような電気分解を行うことによって陰
極104側にH2が発生し、それに伴って電解槽101
内の陰極側槽室101N内には陰イオンを多量に含んだ
陰イオン水NWが生成される。
[0004] By performing such electrolysis, H 2 is generated on the side of the cathode 104, and accordingly, the electrolytic cell 101 is produced.
Anion water NW containing a large amount of anions is generated in the cathode side chamber 101N.

【0005】そして、この陰極側槽室101N内に生成
された陰イオン水NW内に複数の基板110をカセット
等に収容して一度に浸漬する等のバッチ方式によって基
板の洗浄を行っている。
[0005] Then, the substrates are cleaned by a batch method such that a plurality of substrates 110 are accommodated in a cassette or the like and immersed at a time in the anion water NW generated in the cathode-side chamber 101N.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な電解イオン水による基板の洗浄においては、基板11
0を浸漬させる際に陰極104近傍の陰イオン水と陰極
104から離れた位置での陰イオン水では、陰極104
近傍の陰イオン濃度が高く、逆に陰極104から離れた
位置では陰イオンの濃度が低いといった陰イオン水NW
の濃度差が生じ易く、それに伴って基板の洗浄度合いに
差が生じ、洗浄むらが生じ易かった。
By the way, in cleaning the substrate with electrolytic ionic water as described above, the substrate 11
0 is immersed in the anion water near the cathode 104 and the anion water at a position away from the cathode 104,
Anion water NW in which the concentration of anions in the vicinity is high, and conversely, the concentration of anions is low at a position away from the cathode 104
, A difference in the degree of cleaning of the substrate was generated, and uneven cleaning was likely to occur.

【0007】この発明は、従来技術における上述の問題
の克服を意図しており、洗浄むらの発生が少ない電解イ
オン水洗浄方法および装置を提供することを目的とす
る。
An object of the present invention is to overcome the above-mentioned problems in the prior art, and an object of the present invention is to provide a method and an apparatus for cleaning electrolytic ionized water with less occurrence of uneven cleaning.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明の請求項1の方法は、電解液を電気分解し
て陽イオン水と陰イオン水とを生成し、陰イオン水を用
いて液晶表示装置用ガラス基板の洗浄処理を行う方法で
あって、電解槽において前記陰イオン水と陽イオン水と
を生成し、前記電解槽の外部において陰イオン水をノズ
ルから噴射して前記基板の洗浄を行うことを特徴とす
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for electrolyzing an electrolytic solution to produce cationic water and anionic water, and producing anionic water. A method for performing a cleaning treatment of a glass substrate for a liquid crystal display device using the method, wherein the anion water and the cation water are generated in an electrolysis tank, and the anion water is jetted from a nozzle outside the electrolysis tank to form the anion water. The cleaning of the substrate is performed.

【0009】また、この発明の請求項2の方法は請求項
1の方法において、前記洗浄に使用された後の陰イオン
水を電解槽に帰還させ、それによって陰イオン水を循環
使用することを特徴とする。
Further, the method of claim 2 of the present invention is characterized in that, in the method of claim 1, the anion water used for the cleaning is returned to the electrolytic cell, whereby the anion water is recycled. Features.

【0010】また、この発明の請求項3の装置は、電解
液を電気分解して陽イオン水と陰イオン水とを生成し、
陰イオン水を用いて前記基板の洗浄処理を行う装置であ
って、電解液を電気分解して陽イオン水と陰イオン水と
を生成する電解イオン水生成部と、電解イオン水生成部
で生成された陰イオン水が陰イオン水送給経路を介して
供給され、陰イオン水をノズルから噴射して前記基板の
洗浄を行う洗浄処理部と、洗浄に使用した後の陰イオン
水を収集して電解イオン水生成部に戻す陰イオン水帰還
経路と、を備える。
[0010] Further, according to a third aspect of the present invention, the electrolytic solution is electrolyzed to generate cation water and anion water,
An apparatus for performing a cleaning process on the substrate using anion water, wherein the electrolysis solution is electrolyzed to generate cation water and anion water, and an electrolysis water generation unit generates the electrolysis solution. The anion water is supplied via an anion water supply path, and a cleaning processing unit that performs cleaning of the substrate by jetting the anion water from a nozzle, and collects anion water that has been used for cleaning. And an anion water return path for returning to the electrolytic ionic water generator.

【0011】また、この発明の請求項4の装置は、請求
項3の装置において、前記洗浄処理部は、前記基板を並
進搬送しつつ前記基板の洗浄を行うものであって、前記
洗浄処理部は、前記基板の搬送経路に対向してそれぞれ
が陰イオン水を噴射する複数のノズルの配列を有するこ
とを特徴とする。
The apparatus according to a fourth aspect of the present invention is the apparatus according to the third aspect, wherein the cleaning section cleans the substrate while translating the substrate. Is characterized by having an array of a plurality of nozzles each of which injects anion water in opposition to the transport path of the substrate.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

【0013】[0013]

【1.実施の形態における機構的構成と装置配列】図1
は本発明の実施の形態にかかる電解イオン水洗浄装置を
示す図である。この図1では床面に平行な水平面をX−
Y面とし、鉛直方向をZ方向とする3次元座標系X−Y
−Zが定義されている。
[1. FIG. 1 shows a mechanical configuration and an arrangement of the apparatus according to the embodiment.
1 is a diagram showing an electrolytic ionized water cleaning device according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, the horizontal plane parallel to the floor is X-
A three-dimensional coordinate system XY with the Y plane and the vertical direction as the Z direction
-Z is defined.

【0014】この電解イオン水洗浄装置は、電解槽によ
って生成された陰イオン水を洗浄液として用いて基板を
連続枚葉式に洗浄する装置であって、電解槽1、直流電
源2、陽極3、陰極4からなる電解イオン水生成ユニッ
ト10、配管6,8,9、ポンプ7ならびに上部カバー
21、回収槽22、複数のノズル23、複数の搬送ロー
ラ24からなる洗浄ユニット20から形成されている。
This electrolytic ionic water cleaning apparatus is an apparatus for successively cleaning a substrate using an anion water generated by an electrolytic cell as a cleaning liquid. The apparatus comprises an electrolytic cell 1, a DC power supply 2, an anode 3, The cleaning unit 20 includes an electrolytic ionized water generation unit 10 including the cathode 4, pipes 6, 8, 9, a pump 7 and an upper cover 21, a recovery tank 22, a plurality of nozzles 23, and a plurality of transport rollers 24.

【0015】電解イオン水生成ユニット10において、
電解槽1はイオン隔膜5によって陽極側槽室1Pと陰極
側槽室1Nとにほぼ等分されることによって二分されて
おり、さらに電解槽1には直流電源2の正負両出力端子
に接続されたそれぞれ陽極3および陰極4が電解槽1に
貯留された電解液に浸漬するように固設されている。
In the electrolytic ionic water generating unit 10,
The electrolytic cell 1 is divided into two parts by being substantially equally divided into an anode-side cell chamber 1P and a cathode-side cell chamber 1N by an ion diaphragm 5, and the electrolytic cell 1 is connected to both positive and negative output terminals of a DC power supply 2. The anode 3 and the cathode 4 are fixed so as to be immersed in the electrolytic solution stored in the electrolytic cell 1, respectively.

【0016】電解イオン水生成ユニット10の陰極4側
には配管6の一端が固設されており、さらに配管6の他
端はポンプ7に接続されている。ポンプ7にはさらに配
管8の一端が接続され、この配管8の他端は洗浄ユニッ
ト20内に伸びている。
One end of a pipe 6 is fixedly provided on the cathode 4 side of the electrolytic ionic water generating unit 10, and the other end of the pipe 6 is connected to a pump 7. One end of a pipe 8 is further connected to the pump 7, and the other end of the pipe 8 extends into the cleaning unit 20.

【0017】また、洗浄ユニット20の上方の上部カバ
ー21および下方の回収槽22は筐体状に一体的に形成
されており、さらに洗浄ユニット20のX方向の両側面
にはそれぞれ開孔20h,20iが設けられている。
An upper cover 21 above the cleaning unit 20 and a recovery tank 22 below the cleaning unit 20 are integrally formed in a housing shape. Further, openings 20h and 20h are formed on both sides in the X direction of the cleaning unit 20, respectively. 20i are provided.

【0018】そして、洗浄ユニット20に接続された配
管8には洗浄ユニット20内において複数のノズル23
の配列が設けられており、さらにその下方には複数の搬
送ローラ24が設けられている。
A plurality of nozzles 23 in the cleaning unit 20 are connected to the pipe 8 connected to the cleaning unit 20.
Are arranged, and a plurality of transport rollers 24 are further provided below the array.

【0019】複数の搬送ローラ24下方の陰イオン水N
Wを回収する回収槽22には配管9の一端が接続されて
いるとともに、他端は電解槽1の陰極4側の上方に支持
されている。
Anion water N below the plurality of transport rollers 24
One end of the pipe 9 is connected to the collection tank 22 for collecting W, and the other end is supported above the electrolytic cell 1 on the cathode 4 side.

【0020】要部についてさらに詳細に説明する。The main part will be described in more detail.

【0021】洗浄ユニット20は基板30を図示しない
駆動機構により開孔20hから洗浄ユニット20内に搬
入し、開孔20iから搬出することができるようになっ
ている。
The cleaning unit 20 can carry the substrate 30 into the cleaning unit 20 through the opening 20h and drive out the substrate 30 through the opening 20i by a drive mechanism (not shown).

【0022】また、搬入された基板30に対して陰イオ
ン水NWを噴射できるように、洗浄ユニット20に接続
された配管8は洗浄ユニット20内でその長手方向がX
方向に一致するように設けられており、配管8の洗浄ユ
ニット20内の部分には複数のノズル23が下方に向け
て設けられている。それぞれのノズル23はポンプ7に
よって電解槽1の陰極側槽室1Nから吸い上げられた陰
イオン水NWを下方が広がった円錐(フルコーン)状に
噴射することができるように構成されており、それぞれ
のノズル23は、互いに隣接するノズル23から噴射さ
れる陰イオン水NWの形成するフルコーンが複数の搬送
ローラ24の上面が形成する面を隙間なく埋めるような
間隔で配管8に等間隔に設けられている。
Further, the pipe 8 connected to the cleaning unit 20 has a longitudinal direction X in the cleaning unit 20 so that the anion water NW can be jetted onto the loaded substrate 30.
A plurality of nozzles 23 are provided downward at a portion of the pipe 8 inside the cleaning unit 20. Each of the nozzles 23 is configured to be capable of injecting the anion water NW sucked up from the cathode side chamber 1N of the electrolytic cell 1 by the pump 7 into a cone (full cone) having a widened downward portion. The nozzles 23 are provided at equal intervals in the pipe 8 at intervals such that full cones formed by the anionic water NW injected from the nozzles 23 adjacent to each other fill the surfaces formed by the upper surfaces of the plurality of transport rollers 24 without gaps. I have.

【0023】また、洗浄ユニット20内部にはX−Y面
内においてY方向に回転軸を持ち、X方向に一列に並ん
だ状態で複数の搬送ローラ24が設けられている。この
搬送ローラ24はそれぞれが図示しない駆動機構により
回転軸を中心に回転駆動される。
Further, inside the cleaning unit 20, a plurality of transport rollers 24 having a rotation axis in the Y direction in the XY plane and being arranged in a line in the X direction are provided. Each of the transport rollers 24 is driven to rotate about a rotation axis by a drive mechanism (not shown).

【0024】また、上部カバー21は洗浄ユニット20
内で基板30に対して複数のノズル23から噴射された
陰イオン水NWの基板30表面からの跳ね返りを受け止
める。
The upper cover 21 is provided with the cleaning unit 20.
In the inside, the rebound of the anion water NW jetted from the plurality of nozzles 23 onto the substrate 30 from the surface of the substrate 30 is received.

【0025】さらに、洗浄ユニット20の搬送ローラ2
4の下方に設けられた回収槽22の下面には開孔22h
が設けられ、その開孔22hに配管9がその一端におい
て接続されており、配管9の他端は電解イオン水生成ユ
ニット10の電解槽1の上方に支持されている。そし
て、洗浄ユニット20の回収槽22は複数のノズル23
から噴射されて基板30の洗浄に使用された陰イオン水
NWを回収し、配管9に排出する。そして、配管9は使
用済みの陰イオン水NWを電解イオン水生成ユニット1
0に戻す。
Further, the transport roller 2 of the cleaning unit 20
A hole 22h is formed in the lower surface of the collection tank 22 provided below
The pipe 9 is connected to the opening 22 h at one end thereof, and the other end of the pipe 9 is supported above the electrolytic cell 1 of the electrolytic ionic water generation unit 10. The collection tank 22 of the cleaning unit 20 includes a plurality of nozzles 23
The anion water NW sprayed from the substrate and used for cleaning the substrate 30 is collected and discharged to the pipe 9. The pipe 9 is used to convert the used anion water NW into the electrolytic ionic water generation unit 1.
Return to 0.

【0026】[0026]

【2.実施の形態における処理】以下において、この実
施の形態の電解イオン水洗浄装置による基板洗浄処理に
ついて説明する。
[2. Hereinafter, a description will be given of a substrate cleaning process performed by the electrolytic ionic water cleaning apparatus according to this embodiment.

【0027】まず、電解槽1に電解液を貯留し、その電
解液に直流電源2によって適当な電圧を印加する。これ
により電解液が電気分解されて陰極4側にH2が発生
し、それに伴って陰極側槽室1N内には陰イオン(OH
-)が生成され、それにより陰極側槽室1N内に陰イオ
ンを多量に含んだ陰イオン水NWが生成される。
First, an electrolytic solution is stored in the electrolytic cell 1, and an appropriate voltage is applied to the electrolytic solution by the DC power supply 2. As a result, the electrolytic solution is electrolyzed, and H 2 is generated on the cathode 4 side.
- ) Is generated, whereby an anion water NW containing a large amount of anions is generated in the cathode side chamber 1N.

【0028】そして、このようにして生成された陰イオ
ン水NWはポンプ7によって配管6を通じて吸い上げら
れ、配管8を介して洗浄ユニット20に送られる。
The anion water NW thus generated is sucked up by the pump 7 through the pipe 6 and sent to the cleaning unit 20 through the pipe 8.

【0029】洗浄ユニット20には外部から開孔20h
に基板30が一枚ずつ順次矢符A1のように搬入され
る。そして、洗浄ユニット20に搬入された基板30は
搬送ローラ24の回転によってX方向に並進搬送されな
がらノズル23によって上方から陰イオン水NWを噴射
される。これによって、基板30上面に付着した正電荷
を帯びたパーティクルは中和され、洗い流される。
The cleaning unit 20 has an opening 20h from outside.
The substrates 30 are sequentially carried one by one as indicated by an arrow A1. Then, the substrate 30 carried into the cleaning unit 20 is jetted from above by the nozzles 23 while being translated and transported in the X direction by the rotation of the transport roller 24. Thereby, the positively charged particles attached to the upper surface of the substrate 30 are neutralized and washed away.

【0030】そしてこのような洗浄処理が終了した基板
30は開孔20iから矢符A2のように搬出され、他の
処理部に搬送される。
The substrate 30 having been subjected to such a cleaning process is carried out through the opening 20i as indicated by an arrow A2, and is carried to another processing unit.

【0031】なお、1枚の基板30が洗浄され搬送され
る間に、次の基板30が開孔20hから搬入され同様の
洗浄処理を施され、同様に順次複数の処理対象となる基
板30が開孔20hから洗浄ユニット20に搬入され洗
浄処理を施された後、開孔20iを通じて洗浄ユニット
20から外部に搬出され、他の処理部に搬送される。
While one substrate 30 is cleaned and transported, the next substrate 30 is carried in through the opening 20h and subjected to the same cleaning processing. Similarly, a plurality of substrates 30 to be processed are sequentially processed. After being carried into the cleaning unit 20 through the opening 20h and subjected to a cleaning process, it is carried out of the cleaning unit 20 through the opening 20i and transported to another processing unit.

【0032】このように、この電解イオン水洗浄装置は
連続枚葉式に基板30の洗浄処理を行う。
As described above, this electrolytic ionic water cleaning apparatus performs the cleaning processing of the substrate 30 in a continuous single-wafer manner.

【0033】さらに、洗浄ユニット20において基板3
0の洗浄処理に使用された陰イオン水NWはその後、回
収槽22で回収され、開孔22hから配管9を通じて電
解槽1の陰極側槽室1Nに戻され、洗浄処理時に中和さ
れていたものが再び電解液と混合されて電気分解される
ことにより再び活性化され再度洗浄処理に用いられる。
Further, in the cleaning unit 20, the substrate 3
Thereafter, the anion water NW used in the cleaning treatment of No. 0 was recovered in the recovery tank 22, returned to the cathode side chamber 1N of the electrolytic cell 1 through the pipe 9 through the opening 22h, and neutralized during the cleaning processing. The material is again mixed with the electrolytic solution and electrolyzed to be activated again to be used again for the cleaning process.

【0034】そして、こういった一連の洗浄処理は連続
的に繰り返し行われるため、基板30の洗浄処理の実行
中は常時陰極側槽室1Nから陰イオン水NWが吸い上げ
られ洗浄ユニット20に送られた後に洗浄処理に用いら
れる。
Since such a series of cleaning processes are continuously and repeatedly performed, during the cleaning process of the substrate 30, the anion water NW is constantly sucked up from the cathode side chamber 1 N and sent to the cleaning unit 20. After the cleaning process is used.

【0035】このように、この電解イオン水洗浄装置は
陰イオン水NWを循環使用している。
As described above, the electrolytic ionic water cleaning apparatus circulates and uses the anionic water NW.

【0036】以上のように、この実施の形態にかかる電
解イオン水洗浄装置およびそれを用いた電解イオン水洗
浄方法は、電解イオン水生成ユニット10で電解液を電
気分解して得られた陰イオン水NWを洗浄ユニット20
に給液し、そこで陰イオン水NWを基板30の洗浄処理
に使用した後に回収して電解イオン水生成ユニット10
に帰還させることにより、陰イオン水NWを循環使用す
る構成としている。したがって、陰イオン水NWが循環
中に攪拌されるため、陰イオン水NWの濃度むらが少な
く、それによって基板30の洗浄むらの発生が軽減され
ている。
As described above, the electrolytic ionic water cleaning apparatus and the electrolytic ionic water cleaning method using the same according to the present embodiment provide the electrolytic ionic water cleaning unit 10 with an anionic ionic water produced by electrolyzing the electrolytic solution. Cleaning unit 20 for water NW
, Where the anion water NW is used for cleaning the substrate 30 and then collected to collect the electrolytic ion water generation unit 10.
, The anion water NW is circulated and used. Therefore, since the anion water NW is stirred during the circulation, the concentration unevenness of the anion water NW is small, and the occurrence of uneven cleaning of the substrate 30 is reduced.

【0037】さらに、陰イオン水NWによる基板30の
洗浄処理を複数のノズル23から基板30に向けて陰イ
オン水NWを噴射して基板30を洗浄する構成としたた
め、ノズル23の先端部の陰イオン水NWが噴射される
ことにより拡散されて基板30表面に付着するため基板
30表面での陰イオン水NWの濃度むらが少なく、それ
により洗浄むらの発生が軽減されている。
Furthermore, since the cleaning of the substrate 30 with the anion water NW is performed by spraying the anion water NW from the plurality of nozzles 23 toward the substrate 30, the substrate 30 is cleaned. Since the ionic water NW is sprayed and diffused and adheres to the surface of the substrate 30, the concentration unevenness of the anion water NW on the surface of the substrate 30 is small, thereby reducing the occurrence of cleaning unevenness.

【0038】[0038]

【3.変形例】本発明の実施の形態の電解イオン水洗浄
装置では、基板の洗浄処理に使用された陰イオン水は回
収槽22で回収され、電解イオン水生成ユニットの陰極
側に戻されて再利用される構成としたが、使用後の陰イ
オン水を再利用することは必須ではなく装置外に排出す
る構成とすることも可能である。
[3. Modification In the electrolytic ionic water cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention, the anion water used for the cleaning processing of the substrate is recovered in the recovery tank 22, returned to the cathode side of the electrolytic ionic water generation unit and reused. However, it is not essential to reuse the anion water after use, and it is possible to discharge the anion water outside the apparatus.

【0039】また、この実施の形態の電解イオン水洗浄
装置では洗浄ユニット内にノズルを複数備える構成とし
たが、ノズルを1個だけ備える構成としてもよい。
Although the electrolytic ion water cleaning apparatus of this embodiment has a configuration in which a plurality of nozzles are provided in the cleaning unit, it may have a configuration in which only one nozzle is provided.

【0040】また、この実施の形態の電解イオン水洗浄
装置では複数のノズルおよび複数の搬送ローラの数を特
に限定していないが、これは基板の洗浄に必要な数だけ
設ければよく任意である。
In the electrolytic ion water cleaning apparatus of this embodiment, the number of the plurality of nozzles and the number of the transport rollers are not particularly limited. However, the number may be any number necessary for cleaning the substrate. is there.

【0041】さらに、この実施の形態の電解イオン水洗
浄装置では洗浄ユニットの上部カバーおよび回収槽を一
体的な筐体状のものとしているが、それぞれ別々に設け
る構成としてもよく、さらにそれらの形状も筐体状に限
定されるものではなく、例えば回収槽を半球状等として
もよい。
Further, in the electrolytic ionized water cleaning apparatus of this embodiment, the upper cover and the recovery tank of the cleaning unit are formed in an integral housing, but they may be provided separately, respectively. The shape of the recovery tank is not limited to the housing, and the recovery tank may be a hemisphere.

【0042】[0042]

【実施例】なお、この発明の実施の形態の電解イオン水
洗浄装置において、陰イオン水の流量は40リットル/
分以下程度にして、さらに陰イオン水のコンダクタンス
は500〜1500μS程度を保つように電気分解を制
御しており、この程度の流量およびコンダクタンスが液
晶表示装置用ガラス基板の洗浄を行うのに特に適当であ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the electrolytic ionic water washing apparatus according to the embodiment of the present invention, the flow rate of the anionic water is 40 liter / liter.
The electrolysis is controlled so that the conductance of the anion water is maintained at about 500 to 1500 μS, and the flow rate and conductance at this level are particularly suitable for cleaning the glass substrate for a liquid crystal display device. It is.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1および請
求項2の電解イオン水洗浄方法および請求項3および請
求項4の電解イオン水洗浄装置は陰イオン水をノズルか
ら噴射して液晶表示装置用ガラス基板を洗浄する構成と
したため、ノズル先端部の陰イオン水が噴射されること
により拡散されて基板30表面を洗浄するため、液晶表
示装置用ガラス基板表面での陰イオン水の濃度むらが少
なくなり、それにより洗浄むらの発生を軽減できる。
As described above, the electrolytic ionic water cleaning method according to the first and second aspects and the electrolytic ionic water cleaning apparatus according to the third and fourth aspects eject a negative ion water from a nozzle to display a liquid crystal. Since the apparatus glass substrate is cleaned, the surface of the substrate 30 is cleaned by spraying the anion water at the tip of the nozzle to be diffused to clean the surface of the substrate 30. And the occurrence of uneven cleaning can be reduced.

【0044】さらに、請求項2の電解イオン水洗浄方法
では電解槽で電解液を電気分解して得られた陰イオン水
を電解槽の外部で液晶表示装置用ガラス基板の洗浄処理
に使用した後に回収して電解槽に帰還させることにより
陰イオン水を循環使用する構成とし、また、請求項3の
電解イオン水洗浄装置では、電解イオン水生成部で電解
液を電気分解して得られた陰イオン水を洗浄処理部で液
晶表示装置用ガラス基板の洗浄処理に使用した後に陰イ
オン水帰還径路によって電解イオン水生成部に帰還させ
ることにより陰イオン水を循環使用する構成としたた
め、陰イオン水が循環中に攪拌されることにより陰イオ
ン水の濃度むらが少なくなり、液晶表示装置用ガラス基
板の洗浄むらの発生を軽減できる。
Further, in the method for cleaning electrolytic ionic water according to claim 2, after the anion water obtained by electrolyzing the electrolytic solution in the electrolytic bath is used for cleaning the glass substrate for a liquid crystal display device outside the electrolytic bath. The anionic water is circulated and used by collecting and returning to the electrolytic cell. In the electrolytic ionic water washing apparatus according to the third aspect, the anionic water obtained by electrolyzing the electrolytic solution in the electrolytic ionic water generating unit is obtained. Since the anion water is used for cleaning the glass substrate for the liquid crystal display device in the cleaning processing unit and then returned to the electrolytic ionic water generation unit by the anion water return path, the anion water is circulated and used. Is stirred during the circulation, the concentration unevenness of the anion water is reduced, and the occurrence of uneven washing of the glass substrate for the liquid crystal display device can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる電解イオン水洗浄装置の一実施
形態を示す図である。
FIG. 1 is a view showing an embodiment of an electrolytic ion water cleaning apparatus according to the present invention.

【図2】従来の電解イオン水洗浄装置を示す図である。FIG. 2 is a view showing a conventional electrolytic ionized water cleaning apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電解槽 2 直流電源 3 陽極 4 陰極 5 イオン隔膜 6,8,9 配管 7 ポンプ 10 電解イオン水生成ユニット 20 洗浄ユニット 21 上部カバー 22 回収槽 23 ノズル 24 搬送ローラ 30 基板 NW 陰イオン水 1N 陰極側槽室 1P 陽極側槽室 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrolyzer 2 DC power supply 3 Anode 4 Cathode 5 Ion diaphragm 6,8,9 Piping 7 Pump 10 Electrolyzed ionic water generation unit 20 Cleaning unit 21 Upper cover 22 Recovery tank 23 Nozzle 24 Transport roller 30 Substrate NW Anion water 1N Cathode side Tank room 1P Anode side tank room

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/304 341 H01L 21/304 341N (72)発明者 喜田 哲也 神奈川県川崎市中原区上小田中4丁目1番 1号 富士通株式会社内 (72)発明者 中村 次雄 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 志摩 泰正 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Agency reference number FI Technical display location H01L 21/304 341 H01L 21/304 341N (72) Inventor Tetsuya Kita 4-chome, Kamodanaka, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture No. 1 Fujitsu Co., Ltd. (72) Inventor Tsugio Nakamura 1 at 480 Takamiyacho, Hikone City, Shiga Prefecture Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. 1 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. in Hikone area

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電解液を電気分解して陽イオン水と陰イ
オン水とを生成し、陰イオン水を用いて液晶表示装置用
ガラス基板の洗浄処理を行う方法において、 電解槽において前記陰イオン水と陽イオン水とを生成
し、 前記電解槽の外部において陰イオン水をノズルから噴射
して前記基板の洗浄を行うことを特徴とする電解イオン
水洗浄方法。
1. A method of electrolyzing an electrolytic solution to produce cationic water and anionic water, and performing a cleaning process on a glass substrate for a liquid crystal display device using the anionic water. An electrolytic ionic water cleaning method, comprising generating water and cationic water, and washing the substrate by jetting anionic water from a nozzle outside the electrolytic cell.
【請求項2】 請求項1の方法において、 前記洗浄に使用された後の陰イオン水を電解槽に帰還さ
せ、それによって陰イオン水を循環使用することを特徴
とする電解イオン水洗浄方法。
2. The method according to claim 1, wherein the anion water used for the cleaning is returned to the electrolytic cell, whereby the anion water is recycled.
【請求項3】 電解液を電気分解して陽イオン水と陰イ
オン水とを生成し、陰イオン水を用いて前記基板の洗浄
処理を行う装置であって、 電解液を電気分解して陽イオン水と陰イオン水とを生成
する電解イオン水生成部と、 電解イオン水生成部で生成された陰イオン水が陰イオン
水送給経路を介して供給され、陰イオン水をノズルから
噴射して前記基板の洗浄を行う洗浄処理部と、 洗浄に使用した後の陰イオン水を収集して電解イオン水
生成部に戻す陰イオン水帰還経路と、を備えることを特
徴とする電解イオン水洗浄装置。
3. An apparatus for electrolyzing an electrolytic solution to generate cationic water and anionic water, and for performing a cleaning treatment of the substrate using the anionic water, wherein the electrolytic solution is electrolyzed to form a positive electrode. An electrolytic ionic water generating unit for generating ionic water and anionic water, and an anionic water generated by the electrolytic ionic water generating unit are supplied through an anionic water supply path, and eject the anionic water from a nozzle. A washing processing section for washing the substrate by using the above-mentioned method, and an anion water return path for collecting anion water used for the washing and returning the collected anion water to the electrolytic ionic water generating section. apparatus.
【請求項4】 請求項3の装置において、 前記洗浄処理部は、前記基板を並進搬送しつつ前記基板
の洗浄を行うものであって、 前記洗浄処理部は、前記基板の搬送経路に対向してそれ
ぞれが陰イオン水を噴射する複数のノズルの配列を有す
ることを特徴とする電解イオン水洗浄装置。
4. The apparatus according to claim 3, wherein the cleaning processing unit performs the cleaning of the substrate while translating the substrate, and the cleaning processing unit faces a transport path of the substrate. And an array of a plurality of nozzles each of which injects anion water.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6048466A (en) * 1997-08-20 2000-04-11 Fine Glass Technology Co., Ltd. Method of cleaning glass substrate for magnetic disk or semiconductor substrate

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US6048466A (en) * 1997-08-20 2000-04-11 Fine Glass Technology Co., Ltd. Method of cleaning glass substrate for magnetic disk or semiconductor substrate

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