JPH10154676A - Substrate automatic processing device - Google Patents

Substrate automatic processing device

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Publication number
JPH10154676A
JPH10154676A JP32794296A JP32794296A JPH10154676A JP H10154676 A JPH10154676 A JP H10154676A JP 32794296 A JP32794296 A JP 32794296A JP 32794296 A JP32794296 A JP 32794296A JP H10154676 A JPH10154676 A JP H10154676A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
support mechanism
base
substrate
processing apparatus
Prior art date
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Pending
Application number
JP32794296A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomohiko Ochiai
朋彦 落合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaijo Corp
Original Assignee
Kaijo Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kaijo Corp filed Critical Kaijo Corp
Priority to JP32794296A priority Critical patent/JPH10154676A/en
Publication of JPH10154676A publication Critical patent/JPH10154676A/en
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce consumption of processing fluid and to prevent processing fluid in one processing tank from mixing with processing fluid in the other processing tank by a method wherein a cassette is dipped into processing fluid, and the support mechanism tilts the cassette when a support mechanism is transferred along a prescribed route which extends both in a nearly horizontal direction and a nearly vertical direction. SOLUTION: In a substrate automatic processing device, a cassette 5 supported by a support mechanism 7 is dipped into deionized water 1 and pulled out from it. The cassette 5 is tilted by a tilting means provided to the support mechanism 7 itself. The support mechanism 7 has such a constitution that the base 21 as a component member of the support mechanism 7 is mounted on a movable pole 37 in a swingable manner so as to tilt the cassette 5. The support mechanism 7 is constituted as mentioned above, whereby the lower edges of suspension members 27 and 28 can be set at difference levels without swinging the suspension members 27 and 28, and the occurrence of an undesirable moment can be avoided. Therefore, a substrate automatic processing device of this constitution can be lessened in weight and size as a whole.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
などとして利用されるガラス基板やシリコンウェーハな
どの基板を処理槽内の処理用流体中に浸漬させ、洗浄処
理等を施す基板自動処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an automatic substrate processing apparatus for immersing a substrate such as a glass substrate or a silicon wafer used as a liquid crystal display or the like in a processing fluid in a processing tank and performing a cleaning process or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の装置として、図11に示
す構成のものがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as this type of apparatus, there is an apparatus having a configuration shown in FIG.

【0003】図示のように、当該基板自動処理装置は、
処理用流体として例えば脱イオン水(DIW:deio
nized water)1を貯留する処理槽たる洗浄
槽2と、被処理物である液晶用ガラス基板(以下、単に
基板と称する)3を保持したカセット5を支持する支持
機構7と、該支持機構7を搬送する搬送手段9とを備え
ている。
[0003] As shown in the figure, the automatic substrate processing apparatus includes:
As the processing fluid, for example, deionized water (DIW: deio)
a cleaning tank 2 serving as a processing tank for storing therein a water, a supporting mechanism 7 for supporting a cassette 5 holding a glass substrate for liquid crystal (hereinafter simply referred to as a substrate) 3 as an object to be processed, and the supporting mechanism 7 And transport means 9 for transporting the image.

【0004】また、洗浄槽2に対応して、傾斜台10
と、該傾斜台10を傾斜可能に支持した支持枠11とが
設けられている。図示してはいないが、この支持枠11
を昇降せしめる昇降手段が設けられている。
[0004] In addition, corresponding to the cleaning tank 2,
And a support frame 11 that supports the tilt base 10 so as to be tiltable. Although not shown, this support frame 11
Lifting means for raising and lowering the table.

【0005】図示してはいないが、上記傾斜台10を水
平状態にて支持枠11に固定するロック手段が設けられ
ており、上記昇降手段により支持枠11が下降せしめら
れる際に該ロック手段による固定状態が自動的に解除さ
れるようになされている。この解除がなされると、傾斜
台10はこれに載置されたカセット5と共に傾斜する。
この逆に、支持枠11が上昇するときには、傾斜してい
る傾斜台10が水平状態に戻され、かつ、該ロック手段
により該支持枠11に固定される。
Although not shown, a lock means for fixing the inclined table 10 to the support frame 11 in a horizontal state is provided, and the lock means is used when the support frame 11 is lowered by the elevating means. The fixed state is automatically released. When this release is performed, the inclined table 10 is inclined together with the cassette 5 placed thereon.
Conversely, when the support frame 11 rises, the inclined base 10 is returned to a horizontal state, and is fixed to the support frame 11 by the locking means.

【0006】図12及び図13に、前記カセット5の詳
細を示す。このカセット5は複数枚の基板3をその主た
る面が略平行となるように所定の間隙を隔てて配列して
保持する。但し、図の複雑化を避けるため、図12には
基板3を1枚だけ示している。
FIGS. 12 and 13 show the cassette 5 in detail. The cassette 5 holds a plurality of substrates 3 arranged with a predetermined gap therebetween so that their main surfaces are substantially parallel. However, only one substrate 3 is shown in FIG. 12 to avoid complication of the drawing.

【0007】図示のように、カセット5は、例えば6本
の基板支持部材13と、2枚の側板14とを有してい
る。該基板支持部材6は、矩形板状に形成された基板3
の外周に沿うようにそれぞれ離間してかつ互いに平行に
配置されている。各側板14は、これら基板支持部材1
3各々の端部同士を相互に結合させている。
As shown, the cassette 5 has, for example, six substrate supporting members 13 and two side plates 14. The substrate supporting member 6 is a substrate 3 formed in a rectangular plate shape.
Are arranged apart from each other and in parallel with each other along the outer periphery of. Each side plate 14 supports these substrate support members 1.
3 Each end is mutually connected.

【0008】側板14の下部には、各基板3の下辺部に
当接して該基板3を支承する円柱状の支承部材16が2
本、上記基板支持部材13と平行に設けられている。そ
して、側板14の上部には、該カセット5が搬送される
際に支え持たれるべき突起17が表裏に一対づつ、合計
4本設けられている。これら突起17は円柱状に形成さ
れている。
At the lower part of the side plate 14, two columnar supporting members 16 for supporting the substrate 3 by contacting the lower side of each substrate 3 are provided.
The book is provided in parallel with the substrate support member 13. On the upper part of the side plate 14, a total of four projections 17, which are to be supported and held when the cassette 5 is conveyed, are provided on each of the front and back sides. These projections 17 are formed in a columnar shape.

【0009】図12に示すように、上記各基板支持部材
13には、各基板3の外周部が係合する受け溝13aが
長手方向に沿って並設されている。
As shown in FIG. 12, a receiving groove 13a with which the outer peripheral portion of each substrate 3 is engaged is provided in each of the substrate supporting members 13 along the longitudinal direction.

【0010】次いで、前記支持機構7について詳述す
る。
Next, the support mechanism 7 will be described in detail.

【0011】図11に示すように、支持機構7は、前記
搬送手段9によって搬送される基体部21と、該基体部
部21から前方に張り出すように設けられた2本の支持
部材23及び24とを有している。該支持部材23、2
4は長尺な円柱状に形成され、互いに平行に水平に伸長
し、基体部21内に設けられた軸受機構により各々一端
部にて軸中心周りに回転自在に支持されている。基体部
21内には、これら支持部材23、24に回転力を付与
する回転力付与手段が設けられている。
As shown in FIG. 11, the support mechanism 7 includes a base 21 conveyed by the conveying means 9 and two support members 23 provided so as to protrude forward from the base 21. 24. The support members 23, 2
Numerals 4 are formed in a long columnar shape, extend horizontally in parallel with each other, and are rotatably supported at one ends thereof around an axis by a bearing mechanism provided in the base 21. A rotational force applying means for applying a rotational force to these support members 23 and 24 is provided in the base portion 21.

【0012】上記支持部材23及び24の自由端部に
は、一対づつの吊支部材27、28が取付ブロック3
1、32によって垂下状態にて装着されている。これら
吊支部材27、28の下端部は円弧状のフック部27
a、28aとされており、カセット5に設けられた上記
突起17をこのフック部27a、28aで吊る。これに
より、カセット5は、その保持した基板3の主たる面が
略垂直となるように支持される。上記回転力付与手段
は、両支持部材23、24を回転せしめることで各吊支
部材27、28を吊支位置と吊支解除位置との間で枢動
させることとなる故、吊支部材駆動手段とも称する。
At the free ends of the support members 23 and 24, a pair of suspension members 27 and 28 are provided.
It is mounted in a hanging state by 1, 32. The lower ends of these suspension support members 27 and 28 are arc-shaped hook portions 27.
The protrusions 17 provided on the cassette 5 are suspended by the hook portions 27a and 28a. Thus, the cassette 5 is supported such that the main surface of the substrate 3 held by the cassette 5 is substantially vertical. Since the rotation force applying means pivots the respective suspension members 27, 28 between the suspension position and the suspension release position by rotating the support members 23, 24, the suspension member drive is performed. Also referred to as means.

【0013】続いて、前記搬送手段9について説明す
る。
Next, the transfer means 9 will be described.

【0014】図11から、搬送手段9は、水平方向(矢
印Hで示す)に移動自在な可動ベース35と、該可動ベ
ース35内に設けられて該可動ベースを移動せしめるベ
ース駆動手段(図示せず)とを有している。この可動ベ
ース35には昇降部材としての可動ポール37が昇降自
在(矢印Zにで示す)に設けられており、該可動ベース
35内に設けられた図示しない昇降部材駆動手段によっ
て昇降せしめられる。
As shown in FIG. 11, the conveying means 9 includes a movable base 35 movable in a horizontal direction (indicated by an arrow H), and a base driving means (not shown) provided in the movable base 35 to move the movable base. Z). A movable pole 37 as an elevating member is provided on the movable base 35 so as to be able to move up and down (indicated by an arrow Z), and is moved up and down by a not-shown elevating member driving means provided in the movable base 35.

【0015】次に、上述した構成の基板自動処理装置の
動作を、図14及び図15をも参照しつつ説明する。但
し、以下に説明する動作の制御は、当該基板自動処理装
置が備えた制御部が司る。
Next, the operation of the automatic substrate processing apparatus having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. However, the control of the operation described below is controlled by a control unit provided in the automatic substrate processing apparatus.

【0016】図11に示すように、前段の工程を終了し
た基板入りのカセット5を支持機構7により支持させた
状態で、可動ベース35を水平に移動させる(図におい
て矢印H1 で示す:該可動ベース35内に設けられたベ
ース駆動手段[図示せず]の作動による)。これによっ
て、カセット5が洗浄槽2の上方、特には傾斜台10の
直上に位置決めされる。この位置決めが完了したら、可
動ポール37を下降させ(図で矢印Z1 にて示す:可動
ベース35内に設けられた図示しない昇降部材駆動手段
の作動による)、カセット5を傾斜台10上に載置す
る。
[0016] As shown in FIG. 11, in a state in which the cassette 5 of the substrate containing the completion of the preceding step was supported by a support mechanism 7, shown in (Fig moving the movable base 35 horizontally by the arrow H 1: the (By operation of base driving means [not shown] provided in the movable base 35). As a result, the cassette 5 is positioned above the cleaning tank 2, particularly, just above the inclined table 10. After the positioning is completed, lowers the movable pole 37 (shown in Figure by an arrow Z 1: by the operation of the lifting member drive means (not shown) provided on the movable base 35), mounting the cassette 5 on the ramp 10 Place.

【0017】この後、図14において矢印R1 、R2
示すように、各支持部材23、24を回動させる。これ
によって、同図に二点鎖線で示すように、各吊支部材2
7、28が内側に開いて吊支解除位置に至る。但し、こ
の吊支解除の際、各吊支部材27、28のフック部27
a、28aがカセット5の突起17に引っ掛からぬよう
に、上記の如くカセット5を傾斜台10に載置した後、
更に所定距離e1 (図14参照)だけ該吊支部材27、
28を下降せしめることが行われる。
Thereafter, as shown by arrows R 1 and R 2 in FIG. 14, the support members 23 and 24 are rotated. As a result, as shown by a two-dot chain line in FIG.
7, 28 open inward to the suspension release position. However, when this suspension support is released, the hook portions 27 of the respective suspension support members 27, 28 are used.
After the cassette 5 is placed on the inclined base 10 as described above so that the a and 28a do not catch on the projections 17 of the cassette 5,
Further, the suspension support member 27 for a predetermined distance e 1 (see FIG. 14)
28 is lowered.

【0018】カセット5の吊支状態を解除したら、上記
可動ポール37を上昇させて支持機構7を上方に退避さ
せる。
When the suspended state of the cassette 5 is released, the movable pole 37 is raised to retract the support mechanism 7 upward.

【0019】続いて、図15において矢印Dで示すよう
に、上記傾斜台10を支持した支持枠11を下降させ
る。この下降が開始されると、図示しないロック手段に
よる傾斜台10の固定状態が解除され、傾斜台10はカ
セット5と共に傾斜する。同図において、傾斜前のカセ
ット5の状態を実線で示し、傾斜後の状態を二点鎖線で
示している。
Subsequently, as shown by an arrow D in FIG. 15, the support frame 11 supporting the inclined table 10 is lowered. When the lowering is started, the fixed state of the inclined table 10 by the locking means (not shown) is released, and the inclined table 10 is inclined together with the cassette 5. In the figure, the state of the cassette 5 before the inclination is shown by a solid line, and the state after the inclination is shown by a two-dot chain line.

【0020】傾斜台10及びカセット5の傾斜後、更に
下降が続けられ、同じく図15に示すように、カセット
5、すなわち各基板3が脱イオン水1に浸漬される。こ
の浸漬状態が所定時間維持され、洗浄処理が行われる。
After the inclination of the inclined table 10 and the cassette 5, the descent is further continued, and the cassette 5, that is, each substrate 3 is immersed in deionized water 1 as shown in FIG. This immersion state is maintained for a predetermined time, and the cleaning process is performed.

【0021】かくして洗浄処理が完了すると、カセット
5は洗浄槽2の外に搬出される。搬出動作は搬入動作の
逆の過程を辿って行われる。すなわち、上記支持枠11
を上昇させる。この上昇の間、傾斜台10は傾いた状態
にある。このように傾かせておくのは、脱イオン水1か
らカセット5を引き上げる際に、各基板3からの水切
れ、又、該基板3とカセット5との間からの水切れを良
好ならしめるためである。水切れが良好であれば、基板
3に染み等が発生する懸念がなく、洗浄効率が向上す
る。
When the cleaning process is completed, the cassette 5 is carried out of the cleaning tank 2. The unloading operation is performed by following the reverse process of the loading operation. That is, the support frame 11
To rise. During this ascent, the ramp 10 is in a tilted state. The inclination is set so that when the cassette 5 is pulled up from the deionized water 1, the drainage from each substrate 3 and the drainage from between the substrate 3 and the cassette 5 are improved. . If the drainage is good, there is no concern that stains or the like occur on the substrate 3, and the cleaning efficiency is improved.

【0022】支持枠11の上昇が完了したら、傾斜台1
0は水平状態とされ、同時に前記記ロック手段によって
自動的に該支持枠11に固定される。
When the lifting of the support frame 11 is completed,
The reference numeral 0 indicates a horizontal state, and at the same time, it is automatically fixed to the support frame 11 by the lock means.

【0023】この後、各吊支部材27、28を吊支解除
位置(図14で二点鎖線にて示す位置)に維持して可動
ポール37を下降させ(図11において矢印Z2 で示
す)、該吊支部材27、28を図14に示す位置に持ち
来す。そして、支持部材23及び24を、図14におけ
る矢印R1 、R2 とは反対方向に回動させ、吊支部材2
7、28を吊支位置(図14で実線で示す位置)に枢動
させる。
[0023] Thereafter, to lower the movable pole 37 maintains the respective hanging support members 27 and 28 Tsu支release position (position shown in FIG. 14 by a two-dot chain line) (indicated by arrow Z 2 in FIG. 11) Then, the suspension members 27 and 28 are brought to the position shown in FIG. Then, the support members 23 and 24 are rotated in the directions opposite to the arrows R 1 and R 2 in FIG.
7 and 28 are pivoted to the suspension position (the position indicated by the solid line in FIG. 14).

【0024】次いで、上記可動ポール37を上昇させ、
各吊支部材27、28にカセット5の突起17を吊ら
せ、該カセット5を洗浄槽2の上方に引き出す。続い
て、可動ベース35を水平に移動させ、このカセット5
を後段の工程に向けて搬送する(図11で矢印H2 にて
示す)。
Next, the movable pole 37 is raised,
The projection 17 of the cassette 5 is hung on each of the hanging support members 27 and 28, and the cassette 5 is pulled out above the washing tank 2. Subsequently, the movable base 35 is moved horizontally, and the cassette 5
The conveyed towards the subsequent step (indicated by arrow H 2 in FIG. 11).

【0025】[0025]

【発明が解決しようとする課題】上記した基板自動処理
装置においては、下記の問題がある。
The automatic substrate processing apparatus described above has the following problems.

【0026】すなわち、カセット5を洗浄槽2外に搬出
する際に傾斜台10を傾けておくことにより、各基板3
自体及び該基板3とカセット5との間からの水切れは有
効に行われる。
That is, when the cassette 5 is carried out of the cleaning tank 2, the inclined table 10 is tilted so that each substrate 3
The drainage from itself and between the substrate 3 and the cassette 5 is effectively performed.

【0027】しかしながら、傾斜台10とカセット5と
の間に付着している脱イオン水については充分な水切れ
はなされず、カセット5の底部にかなりの量の脱イオン
水が付着したまま支持機構7に移し換えられ、後段の工
程に向け搬出されてしまう。このことは、洗浄槽2内に
貯留した脱イオン水1がカセット搬出の度に減じて消費
量が多くなるという不都合を招来している。
However, the deionized water adhering between the inclined table 10 and the cassette 5 is not sufficiently drained, and the supporting mechanism 7 remains with a considerable amount of deionized water adhering to the bottom of the cassette 5. And are carried out to the subsequent process. This causes a disadvantage that the deionized water 1 stored in the cleaning tank 2 is reduced every time the cassette is carried out, and the consumption increases.

【0028】また、後段の工程で他の種類の処理液によ
る処理を行う場合、カセット5に付着している脱イオン
水が該処理液に混濁してしまうなどの問題がある。
Further, when processing with another type of processing liquid is performed in a subsequent step, there is a problem that deionized water adhering to the cassette 5 becomes turbid in the processing liquid.

【0029】また、上記傾斜台10やこれを昇降せしめ
る昇降手段(図示せず)の作動によってパーティクル
(particle)が発生し、これが脱イオン水1に
混入することで洗浄効果が殺がれる可能性がある。
Further, the operation of the above-mentioned inclined table 10 and the elevating means (not shown) for elevating and lowering the inclined table 10 generates particles, which may be mixed with the deionized water 1 to thereby impair the cleaning effect. There is.

【0030】本発明は、上記従来技術の欠点に鑑みてな
されたものであって、その目的とするところは、処理用
流体の消費量を低減し、また処理用流体同士の混濁を防
止し、しかも、パーティクルの発生を抑え、更に装置全
体としての小型化を可能とした基板自動処理装置を提供
することである。
The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and has as its object to reduce the consumption of processing fluids and prevent turbidity between processing fluids. In addition, an object of the present invention is to provide an automatic substrate processing apparatus which suppresses generation of particles and which can be downsized as a whole apparatus.

【0031】また、本発明は、更に他の効果をも奏し得
る基板自動処理装置を提供する。
Further, the present invention provides an automatic substrate processing apparatus which can exhibit other effects.

【0032】[0032]

【課題を解決するための手段】上記目的達成のため、本
発明による基板自動処理装置は、処理用流体を貯留する
処理槽と、基板を保持したカセットを該基板の主たる面
が略垂直となるように支持する支持機構と、該支持機構
を略水平方向及び略垂直方向を含む所定経路に沿って搬
送し、その搬送過程で前記カセットを前記処理用流体に
浸漬せしめる搬送手段とを備え、前記支持機構は、前記
カセットを傾斜させる傾斜手段を有する。
In order to achieve the above object, an automatic substrate processing apparatus according to the present invention comprises a processing tank for storing a processing fluid and a cassette holding the substrates, wherein a main surface of the substrates is substantially vertical. And a transfer mechanism for transferring the support mechanism along a predetermined path including a substantially horizontal direction and a substantially vertical direction, and immersing the cassette in the processing fluid during the transfer process. The support mechanism has a tilting means for tilting the cassette.

【0033】加えて、更に他の効果を得るために、下記
の構成が採用されている。
In addition, in order to obtain another effect, the following configuration is adopted.

【0034】すなわち、前記基板自動処理装置において
は、前記基板は略矩形板状であり、前記カセットの傾斜
によって該基板の下辺部が水平線に対して傾斜するよう
になされている。
That is, in the automatic substrate processing apparatus, the substrate has a substantially rectangular plate shape, and the lower side of the substrate is inclined with respect to a horizontal line by the inclination of the cassette.

【0035】また、前記基板自動処理装置では、前記支
持機構は、略垂直な面に平行に揺動自在にして前記搬送
手段によって搬送される基体部と、該基体部を揺動させ
る基体部駆動手段と、前記基体部に対して垂下状態にて
枢動自在に取り付けられてその下端部にて前記カセット
を吊支する吊支部材と、該吊支部材を吊支位置と吊支解
除位置との間で作動させる吊支部材駆動手段とを有し、
該吊支部材駆動手段の作動部が前記搬送手段側及び前記
吊支部材に対して前記基体部が揺動する方向で枢動自在
に結合されている。
Further, in the automatic substrate processing apparatus, the support mechanism is configured to be capable of swinging in a direction substantially parallel to a vertical plane and to be transported by the transporting means, and to drive the substrate unit to swing the substrate. Means, a suspension member pivotally attached to the base portion in a hanging state and suspending the cassette at a lower end thereof, and a suspension position and a suspension release position of the suspension member. And a suspension member driving means operated between
An operating portion of the suspension member driving means is pivotally connected to the transport means side and the suspension member in a direction in which the base portion swings.

【0036】また、前記基板自動処理装置においては、
前記支持機構は、前記基体部から互いに平行に伸長して
設けられてその軸中心周りに回転自在にして自由端部に
前記吊支部材が装着された支持部材を有し、前記吊支部
材駆動手段は該支持部材に回転力を付与する。
In the automatic substrate processing apparatus,
The support mechanism includes a support member that extends parallel to each other from the base portion and is rotatable around the axis thereof and has a free end to which the suspension member is attached. The means applies a rotational force to the support member.

【0037】また、前記基板自動処理装置では、前記搬
送手段は、略水平方向に移動する可動ベースと、該可動
ベースを移動せしめるベース駆動手段と、該可動ベース
に昇降自在に設けられて前記支持機構を搭載した昇降部
材と、該昇降部材を昇降させる昇降部材駆動手段とを有
する。
In the automatic substrate processing apparatus, the transfer means includes a movable base that moves in a substantially horizontal direction, base driving means that moves the movable base, and the support that is provided on the movable base so as to be movable up and down. It has an elevating member on which a mechanism is mounted, and elevating member driving means for elevating the elevating member.

【0038】[0038]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例としての基
板自動処理装置を添付図面を参照しつつ説明する。但
し、当該基板自動処理装置は、以下に説明する部分以外
は前述した従来の基板自動処理装置と同様に構成されて
おり、装置全体としての構成の説明は重複する故に省略
し、要部のみの説明に止める。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an automatic substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the substrate automatic processing apparatus is configured in the same manner as the above-described conventional substrate automatic processing apparatus except for the parts described below, and the description of the configuration of the entire apparatus is omitted because it is redundant, and only the main parts are omitted. Stop it for explanation.

【0039】また、扱う基板も従来例と同様に液晶用ガ
ラス基板であり、これを収容するカセットも同じものと
する。
The substrate to be handled is also a glass substrate for liquid crystal as in the conventional example, and the cassette for accommodating the same is the same.

【0040】また、以下の説明において、従来例の構成
部分と同一又は対応する構成部分については同じ参照符
号を付して示している。
In the following description, components that are the same as or correspond to those of the conventional example are denoted by the same reference numerals.

【0041】図1において二点鎖線にて示すように、当
該基板自動処理装置においては、カセット5を支持機構
7によって支持した状態のまま脱イオン水1に浸漬せし
め、又、引き出すことが行われる。そして、この浸漬、
引出しの間、該支持機構7自体が備えた傾斜手段(下
記)によってカセット5を傾斜させる。すなわち、前述
した従来例で設けられている傾斜台(10)等、カセッ
ト5を脱イオン水1に対して出し入れしかつ傾斜させる
作用のみをなす機構部分は有してはいない。
As shown by the two-dot chain line in FIG. 1, in the automatic substrate processing apparatus, the cassette 5 is immersed in the deionized water 1 while being supported by the supporting mechanism 7 and is pulled out. . And this dipping,
During withdrawal, the cassette 5 is tilted by tilting means (described below) provided in the support mechanism 7 itself. That is, it does not have a mechanism such as the tilting table (10) provided in the above-described conventional example, which functions only to move the cassette 5 in and out of the deionized water 1 and to tilt it.

【0042】カセット5を傾斜させる傾斜手段は次のよ
うに構成されている。
The tilting means for tilting the cassette 5 is constructed as follows.

【0043】該傾斜手段は、支持機構7の構成部材であ
る基体部21が可動ポール37に揺動自在に取り付けら
れていることを基本的構成とする。
The basic structure of the tilting means is that the base 21 which is a component of the support mechanism 7 is swingably attached to the movable pole 37.

【0044】なお、図1から明らかなように、当該基板
自動処理装置では可動ポール37は断面が矩形状の角パ
イプからなり、大きな剛性を有する。また、図2乃至図
5は主として上記基体部21及びその内部の機構を示す
ものであるが、これらの図と図1とから、略直方体状を
呈する該基体部21は、その底部をなすベース21a
と、側部及び上部を形成するカバー21bとからなる。
As is clear from FIG. 1, in the automatic substrate processing apparatus, the movable pole 37 is formed of a square pipe having a rectangular cross section and has a large rigidity. FIGS. 2 to 5 mainly show the base portion 21 and the mechanism inside the base portion. From these figures and FIG. 1, the base portion 21 having a substantially rectangular parallelepiped shape has a base portion forming a bottom portion. 21a
And a cover 21b that forms the side and top.

【0045】図2乃至図5に示すように、可動ポール3
7の上端部には円柱状の支点シャフト45が水平に貫通
され、かつ固定されている。基体部21は、可動ポール
37の外側に突出した該支点シャフト45の両端部に揺
動自在に取り付けられている。詳しくは、図3から、基
体部21のベース21上に一対の軸受ブロック47が固
設されており、該軸受ブロック47がオイルレスベアリ
ング48及び他の軸受49、50を介して支点シャフト
45の端部に回転自在に装着されている。
As shown in FIGS. 2 to 5, the movable pole 3
A column-shaped fulcrum shaft 45 is horizontally penetrated and fixed to the upper end of 7. The base 21 is swingably attached to both ends of the fulcrum shaft 45 protruding outside the movable pole 37. Specifically, from FIG. 3, a pair of bearing blocks 47 is fixed on the base 21 of the base portion 21, and the bearing blocks 47 are connected to the fulcrum shaft 45 via oilless bearings 48 and other bearings 49 and 50. It is rotatably mounted on the end.

【0046】同じく図3に示すように、基体部21のベ
ース21aには開口部21dが形成されており、可動ポ
ール37はこの開口部21dに隙間をもって挿通されて
いる。従って、基体部21の揺動はこの隙間の範囲内で
可能となっている。
As shown in FIG. 3, an opening 21d is formed in the base 21a of the base 21, and the movable pole 37 is inserted through the opening 21d with a gap. Therefore, the swing of the base portion 21 is possible within the range of the gap.

【0047】基体部21を軸支する上記支点シャフト4
5が水平に伸長していることから、基体部21の揺動は
垂直な面(仮想の平面)に平行になされる。
The fulcrum shaft 4 that supports the base 21.
Since the base 5 extends horizontally, the swing of the base 21 is made parallel to a vertical plane (virtual plane).

【0048】次に、基体部21を揺動させる基体部駆動
手段について説明する。
Next, the base unit driving means for swinging the base unit 21 will be described.

【0049】ここで、上記支点シャフト45等からなっ
て基体部21を揺動自在に支持する構成部分を支持手段
と称すると、前記傾斜手段はこの支持手段と基体部駆動
手段とによって構成される。
Here, a component part which is composed of the fulcrum shaft 45 and the like and which supports the base portion 21 so as to be swingable is referred to as a support means. The tilt means is constituted by the support means and the base portion drive means. .

【0050】図2乃至図4に示すシリンダ51が、該基
体部駆動手段が具備する駆動力発生手段である。該シリ
ンダ51は、油圧式又は空圧式のいずれかが選定され
る。これら各図に示すように、該シリンダ51のシリン
ダチューブ51aは、可動ポール37に固定された取付
板53に対し、後端部にて揺動自在に取り付けられてい
る。詳しくは、特に図2から、シリンダ軸55及びカラ
ー56等を用いて装着されている。該シリンダチューブ
51aの揺動方向は上記基体部21の揺動方向と同じで
ある。
The cylinder 51 shown in FIGS. 2 to 4 is a driving force generating means provided in the base portion driving means. The cylinder 51 is selected from a hydraulic type and a pneumatic type. As shown in each of these drawings, a cylinder tube 51a of the cylinder 51 is swingably attached to a mounting plate 53 fixed to the movable pole 37 at a rear end. More specifically, it is mounted using a cylinder shaft 55, a collar 56, and the like, particularly from FIG. The swing direction of the cylinder tube 51a is the same as the swing direction of the base 21.

【0051】他方、シリンダ51のピストンロッド51
cは、基体部21に対して次のように連結されている。
On the other hand, the piston rod 51 of the cylinder 51
c is connected to the base 21 as follows.

【0052】すなわち、図2乃至図4から、該ピストン
ロッド51cにはクレビス61が固着されている。該ク
レビス61にはクレビス軸63が設けられ、このクレビ
ス軸63に互いに同形状のリンク65が各々の一端部に
て回動自在に取り付けられている。そして、該リンク6
5同士の間に他のリンク67が配置され、該クレビス軸
63に一端部にて回動自在に取り付けられている。
That is, from FIGS. 2 to 4, the clevis 61 is fixed to the piston rod 51c. The clevis 61 is provided with a clevis shaft 63, and links 65 of the same shape are rotatably attached to the clevis shaft 63 at one end thereof. And the link 6
Another link 67 is arranged between the five members 5, and is rotatably attached to the clevis shaft 63 at one end.

【0053】上記一対のリンク65の他端部は基体部2
1に固設されたクレビス69にクレビス軸71によって
回動自在に装着されている。図2から、これらリンク6
5の該他端部間にはカラー73が介装されている。
The other end of the pair of links 65 is the base 2
A clevis 69 fixed to 1 is rotatably mounted on a clevis shaft 71. From FIG. 2, these links 6
A collar 73 is interposed between the other end portions of the reference numeral 5.

【0054】また、他のリンク67の他端部は、上記シ
リンダチューブ51aが枢着された取付板53に対して
リンク軸75によって回動自在に結合されている。図3
から、このリンク67の該他端部と該取付板53との間
にはカラー76が介装されている。
The other end of the other link 67 is rotatably connected to a mounting plate 53 on which the cylinder tube 51a is pivotally connected by a link shaft 75. FIG.
Therefore, a collar 76 is interposed between the other end of the link 67 and the mounting plate 53.

【0055】上記構成の基体部駆動手段においては、シ
リンダ51の作動によって基体部21を揺動せしめる。
In the base unit driving means having the above structure, the base unit 21 is swung by the operation of the cylinder 51.

【0056】続いて、カセット5を吊支する吊支部材2
7及び28を吊支位置と吊支解除位置との間で作動させ
る吊支部材駆動手段について説明する。
Subsequently, a suspension member 2 for suspending the cassette 5
A description will be given of the suspension member driving means for operating the members 7 and 28 between the suspension position and the suspension release position.

【0057】ここで、該吊支部材駆動手段の説明に先立
ち、吊支部材27、28を上記吊支位置及び吊支解除位
置の間で可動とする構成に関して説明しておく。
Here, prior to the description of the suspension support member driving means, a configuration in which the suspension support members 27 and 28 are movable between the suspension support position and the suspension support release position will be described.

【0058】まず、上記吊支位置とは、図5において実
線で示す位置、すなわち、カセット5に設けられた突起
17を各吊支部材27、28のフック部27a、28a
が吊り得る位置である。そして、吊支解除位置は、該フ
ック部27a及び28aがこの突起17を吊り得ない位
置、つまり該図において二点鎖線にて示す位置を指す。
First, the suspension position is a position indicated by a solid line in FIG. 5, that is, the projection 17 provided on the cassette 5 is connected to the hook portions 27a, 28a of the suspension members 27, 28.
Is a position where it can be hung. The suspended support release position indicates a position where the hooks 27a and 28a cannot suspend the projection 17, that is, a position indicated by a two-dot chain line in the drawing.

【0059】各吊支部材27、28が上記の両位置を取
り得べく枢動させるために、回動自在な2本の支持部材
23、24に装着されている。図2及び図3に示すよう
に、これらの支持部材23、24は二組ずつの軸受機構
81及び82によって軸支されている。一方の軸受機構
81は、インナーレースが支持部材23、24に嵌着さ
れた大径及び小径の2つのボールベアリング84、85
と、基体部21に固着されてこれらボールベアリングを
保持するブロック86とからなる。他方の軸受機構82
は、同径の2つのボールベアリング88と、これを保持
するブロック91とからなる。
Each of the suspension members 27, 28 is mounted on two rotatable support members 23, 24 for pivoting to take the above-mentioned two positions. As shown in FIGS. 2 and 3, these support members 23 and 24 are supported by two sets of bearing mechanisms 81 and 82, respectively. One bearing mechanism 81 has two large-diameter and small-diameter ball bearings 84, 85 in which an inner race is fitted to the support members 23, 24.
And a block 86 fixed to the base portion 21 and holding these ball bearings. The other bearing mechanism 82
Is composed of two ball bearings 88 having the same diameter and a block 91 holding the ball bearings.

【0060】前記吊支部材駆動手段は、上記支持部材2
3、24に回転力を付与することでこれらを回動させ、
以て上記吊支部材27及び28を作動させる。
The suspension member driving means includes the support member 2
By applying rotational force to 3, 24, these are rotated,
Thus, the suspension members 27 and 28 are operated.

【0061】該吊支部材駆動手段は、図2、図3及び図
5に示す2つのシリンダ94、95を作動部として有し
ている。これらシリンダ94、95のシリンダチューブ
はそれぞれアーム97、98に取り付けられている。該
アーム97及び98は、アーム軸100等によって固定
板102に枢動自在に取り付けられている。但し、これ
らアーム97及び98の枢動、従って各シリンダ94、
95の枢動は、前記基体部21が揺動する方向でなされ
る。
The suspension member driving means has two cylinders 94 and 95 shown in FIGS. 2, 3 and 5 as operating parts. The cylinder tubes of the cylinders 94 and 95 are attached to arms 97 and 98, respectively. The arms 97 and 98 are pivotally attached to a fixed plate 102 by an arm shaft 100 or the like. However, the pivotal movement of these arms 97 and 98, and thus each cylinder 94,
The pivot 95 is performed in a direction in which the base 21 swings.

【0062】なお、上記固定板102は、搬送手段9
(図1参照)の構成部材である可動ポール37に固定さ
れたものである。図2から、該固定板102は、前記取
付板53の他、他の固定板113、114やストッパ金
具115、116と共に可動ポール37を囲むように設
けられ、該動ポール37に対する固定状態が堅固となっ
ている。
It is to be noted that the fixed plate 102 is
It is fixed to a movable pole 37 which is a constituent member (see FIG. 1). 2, the fixing plate 102 is provided so as to surround the movable pole 37 together with the other fixing plates 113 and 114 and the stoppers 115 and 116, in addition to the mounting plate 53, so that the fixed state with respect to the moving pole 37 is firm. It has become.

【0063】一方、シリンダ94及び95のピストンロ
ッド94c、95cにはナックル105及び106がそ
れぞれ固着されている。そして、これらナックル10
5、106が、各支持部材23及び24に嵌着されたア
ーム108及び109に対してアーム軸111、112
によって枢動自在に結合されている。この枢動方向も、
前記基体部21の揺動方向と一致している。
On the other hand, knuckles 105 and 106 are fixed to the piston rods 94c and 95c of the cylinders 94 and 95, respectively. And these knuckles 10
The arm shafts 111 and 112 are attached to the arms 108 and 109 fitted to the support members 23 and 24, respectively.
Are pivotally connected by This pivoting direction also
It coincides with the swing direction of the base 21.

【0064】前記吊支部材駆動手段は、作動部としての
上記シリンダ94、95と、アーム97及び98と、ア
ーム軸100と、ナックル105及び106と、アーム
108、109と、アーム軸111及び112とによっ
て構成される。
The suspension support member driving means includes the cylinders 94 and 95 as operating parts, the arms 97 and 98, the arm shaft 100, the knuckles 105 and 106, the arms 108 and 109, and the arm shafts 111 and 112. It is constituted by and.

【0065】次に、当該基板自動処理装置の動作を、図
6以降をも参照して説明する。但し、以下に説明する動
作の制御は、当該基板自動処理装置が備えた制御部が司
る。
Next, the operation of the automatic substrate processing apparatus will be described with reference to FIGS. However, the control of the operation described below is controlled by a control unit provided in the automatic substrate processing apparatus.

【0066】まず、前段の工程を終了した基板入りカセ
ット5を支持機構7によって支持せしめる。すなわち、
図5において、各シリンダ94及び95を突出動作させ
ることで各支持部材23、24を矢印R1 、R2 で示す
ように回動させ、各吊支部材27、28を吊支解除位置
(同図で二点鎖線にて示す位置)に揺動させる。
First, the substrate-containing cassette 5 having undergone the previous step is supported by the support mechanism 7. That is,
In FIG. 5, each of the support members 23 and 24 is rotated as indicated by arrows R 1 and R 2 by protruding each of the cylinders 94 and 95, and each of the suspension members 27 and 28 is moved to the suspension release position (the same as in the case of FIG. 5). (The position shown by the two-dot chain line in the figure).

【0067】そして可動ポール37を下降させ(可動ベ
ース35[図1に示す]内に設けられた図示しない昇降
部材駆動手段の作動による)、該吊支部材27、28を
降ろして図5に示す位置に持ち来す。この状態で、シリ
ンダ94、95を引き動作させて支持部材23及び24
を同矢印R1 、R2 とは反対方向に回動させ、吊支部材
27、28を吊支位置(同図で実線で示す位置)に揺動
させる。但し、この回動時、各吊支部材27、28のフ
ック部27a、28aがカセット5の突起17に引っ掛
からぬように、該フック部の当接部が該突起17よりも
所定距離e1 だけ下に位置するようになされる。
Then, the movable pole 37 is lowered (by the operation of an unillustrated lifting / lowering member driving means provided in the movable base 35 [shown in FIG. 1]), and the hanging members 27 and 28 are lowered, as shown in FIG. Bring to position. In this state, the cylinders 94 and 95 are pulled to operate the support members 23 and 24.
Is rotated in the direction opposite to the arrows R 1 and R 2 to swing the suspension members 27 and 28 to the suspension position (the position indicated by the solid line in the figure). However, during this rotation, the hook portion 27a of the hanging support members 27, 28, 28a is so as not catch on the projections 17 of the cassette 5, the contact portion of the hook portion by a predetermined distance e 1 than the projections 17 It is made to be located below.

【0068】この後、上記可動ポール37を上昇させる
ことで、カセット5は吊支部材27、28に吊られて支
持され、所定高さまで上昇せしめられる。
Thereafter, by raising the movable pole 37, the cassette 5 is suspended and supported by the suspension members 27 and 28, and is raised to a predetermined height.

【0069】上記のように基板入りカセット5を支持機
構7により支持させた状態で、搬送手段9(図1参照)
の可動ベース35を水平に移動させる(図1において矢
印H1 で示す:該可動ベース35内に設けられたベース
駆動手段[図示せず]の作動による)。これによって、
図6にも示すように、カセット5が洗浄槽2の直上に位
置決めされる。
With the substrate-containing cassette 5 supported by the support mechanism 7 as described above, the transfer means 9 (see FIG. 1)
Moving the movable base 35 of the horizontally (in FIG. 1 indicated by the arrow H 1: by the operation of the movable base 35 base driving means provided in [not shown]). by this,
As shown in FIG. 6, the cassette 5 is positioned immediately above the cleaning tank 2.

【0070】この位置決めが完了したら、図7に示すよ
うにシリンダ51を突出動作させる。同図に示すよう
に、該シリンダ51のシリンダチューブ51a側は、シ
リンダ軸55によって固定側である取付板53に対して
枢着されている。よって、該シリンダチューブ51aは
揺動するだけで軸方向には移動しない。つまり、ピスト
ンロッド51cの突出によってその駆動力が、クレビス
61、クレビス軸63、リンク65、クレビス軸71及
びクレビス69を介して基体部21に伝わり、該基体部
21が同図のように揺動する。この揺動角度θは、例え
ば約5°〜8°程度に設定される。
When the positioning is completed, the cylinder 51 is caused to protrude as shown in FIG. As shown in the drawing, the cylinder tube 51a side of the cylinder 51 is pivotally attached to a fixed mounting plate 53 by a cylinder shaft 55. Therefore, the cylinder tube 51a only swings and does not move in the axial direction. That is, the protrusion of the piston rod 51c transmits the driving force to the base 21 via the clevis 61, the clevis shaft 63, the link 65, the clevis shaft 71, and the clevis 69, and the base 21 swings as shown in FIG. I do. Is set, for example, to about 5 ° to 8 °.

【0071】この基体部21の揺動時、図8に示すよう
に、吊支部材27及び28については、揺動することな
く互いに平行にして垂直な垂下状態を維持し、上下方向
のズレe2 を生ずるのみである。これは、シリンダ94
及び95のシリンダチューブが可動ポール37に対して
アーム軸100を介して枢動自在に結合し、又、支持部
材27、28に嵌着されているアーム108及び109
に対してピストンロッド94c、95cがアーム軸11
1、112を介して枢動自在に結合し、しかも、これら
枢動動作の方向が基体部21の揺動方向と一致せしめら
れていることによる。
When the base portion 21 swings, as shown in FIG. 8, the hanging support members 27 and 28 are kept parallel to each other without swinging, and maintain a vertical hanging state. Only yields 2 . This is the cylinder 94
And 95 are pivotally connected to the movable pole 37 via the arm shaft 100, and the arms 108 and 109 are fitted to the support members 27 and 28.
The piston rods 94c and 95c are
1, 112, and the direction of these pivoting operations is made to coincide with the direction of swinging of the base portion 21.

【0072】この構成によれば、基体部21が揺動して
も、各アーム軸100、111及び112を中心とする
回り対偶によって各吊支部材27、28の垂下状態が保
たれ、吊支部材同士のズレe2 のみが生ずる。このズレ
2 により、同図に示すようにカセット5が傾く。
According to this configuration, even if the base portion 21 swings, the hanging state of each of the suspension members 27 and 28 is maintained by a pair around the arm shafts 100, 111 and 112, and the suspension portion only deviation e 2 of wood to each other occurs. The deviation e 2, cassette 5 as shown in FIG tilts.

【0073】かかる構成によって、次に示す効果が得ら
れる。
With this configuration, the following effects can be obtained.

【0074】つまり、上記の構成を採らず、仮に、上記
各シリンダ94、95のシリンダチューブを基体部21
に対して固定としても、上記支持部材23、24を回転
させて各吊支部材27及び28を作動させることは可能
である。しかし、この構成では、基体部21が揺動した
場合、各シリンダ94、95と共に各吊支部材27、2
8も揺動してしまう。すると、該吊支部材27、28に
よって吊られているカセット5が大きく横方向に振られ
ることとなり、該吊支部材や基体部21等に比較的大き
なモーメントが加わってしまう。
That is, instead of adopting the above configuration, if the cylinder tubes of the cylinders 94 and 95 are temporarily
, It is possible to rotate the support members 23 and 24 to operate the suspension members 27 and 28. However, in this configuration, when the base portion 21 swings, each of the suspension members 27, 2
8 also rocks. Then, the cassette 5 suspended by the suspension members 27 and 28 is largely swung in the horizontal direction, and a relatively large moment is applied to the suspension member, the base 21 and the like.

【0075】当該基板自動処理装置では、上記の構成を
採用することで吊支部材27、28を揺動させず、上下
のズレe2 (図8参照)のみを生ぜしめ、以て不都合な
モーメントの発生を回避している。従って、吊支部材2
7、28や基体部21等の剛性をそれほど高くする必要
がなく、装置全体の小型・軽量化が図られている。
In the automatic substrate processing apparatus, by employing the above-described structure, only the vertical displacement e 2 (see FIG. 8) is generated without swinging the suspension members 27 and 28, thereby causing an inconvenient moment. The occurrence of is avoided. Therefore, the suspension support member 2
It is not necessary to make the stiffness of the bases 7, 28, the base 21 and the like so high, and the size and weight of the entire apparatus are reduced.

【0076】図9は、上述の動作によって洗浄槽2の上
方においてカセット5が傾けられた状態を示すものであ
る。
FIG. 9 shows a state where the cassette 5 is tilted above the cleaning tank 2 by the above-described operation.

【0077】上記のようにカセット5の傾けが完了した
ら、可動ポール37を下降させ(図1で矢印Z3 で示
す:可動ベース35内に設けられた図示しない昇降部材
駆動手段の作動による)、カセット5を洗浄槽2内の脱
イオン水1に浸漬させる。カセット5の下降を図9で矢
印Z4 にて示し、脱イオン水1に浸漬した状態を図10
において実線で示している。この浸漬状態が所定時間維
持され、基板3の洗浄処理がなされる。
[0077] When the tilting of the cassette 5 as described above is completed, to lower the movable pole 37 (shown by the arrow Z 3 in Figure 1: by the operation of the lifting member drive means (not shown) provided on the movable base 35), The cassette 5 is immersed in the deionized water 1 in the cleaning tank 2. The descent of the cassette 5 shown in FIG. 9 by arrows Z 4, 10 a state immersed in deionized water 1
Is indicated by a solid line. This immersion state is maintained for a predetermined time, and the substrate 3 is cleaned.

【0078】かくして洗浄処理が完了すると、カセット
5は洗浄槽2の外に搬出される。すなわち、可動ポール
37を上昇させる(図1において矢印Z6 で示し、図1
0で矢印H7 で示している)。
When the cleaning process is completed, the cassette 5 is carried out of the cleaning tank 2. That shows in raising the movable pole 37 (FIG. 1 by the arrow Z 6, FIG. 1
0 is indicated by an arrow H 7 in).

【0079】図10から、この上昇の間、カセット5は
傾いた状態を維持される。これにより、カセット5を脱
イオン水1から引き上げる際に、各基盤3からの水切
れ、又、該基板3とカセット5との間からの水切れが良
好となる。特に、各基板3に関しては、本実施例のよう
に矩形板上のガラス基板である場合、ガラス基板の直線
上の下辺部が水平線に対して傾斜し、水切りが有効に行
われる。
From FIG. 10, during this ascent, the cassette 5 is maintained in an inclined state. Thereby, when the cassette 5 is pulled up from the deionized water 1, the drainage from the bases 3 and the drainage from between the substrate 3 and the cassette 5 are improved. In particular, when each of the substrates 3 is a glass substrate on a rectangular plate as in the present embodiment, the lower side portion of the glass substrate on a straight line is inclined with respect to a horizontal line, and draining is effectively performed.

【0080】可動ポール37の上昇によってカセット5
が所定高さに至ったら、前記シリンダ51(図7等参
照)を引き動作させる。よって、カセット5は傾きを修
正されて図1及び図6に示す状態に戻る。続いて、可動
ベース(図1参照)を水平に移動させ、このカセット5
を後段の工程に向けて搬送する(図1で矢印H2 にて示
す)。
When the movable pole 37 rises, the cassette 5
Reaches a predetermined height, the cylinder 51 (see FIG. 7 and the like) is pulled. Therefore, the cassette 5 is corrected in inclination and returns to the state shown in FIGS. Subsequently, the movable base (see FIG. 1) is moved horizontally to
The conveyed towards the subsequent step (indicated by arrow H 2 in FIG. 1).

【0081】上記から、当該基板自動処理装置において
は、カセット5を支持して搬送手段9(図1参照)によ
り搬送される支持機構7が、該カセットを傾斜せしめる
傾斜手段を有している。
As described above, in the automatic substrate processing apparatus, the support mechanism 7 that supports the cassette 5 and is transported by the transport unit 9 (see FIG. 1) has the tilting unit that tilts the cassette.

【0082】すなわち、従来設けられている傾斜台(1
0)を無用としたものであり、洗浄槽2内の脱イオン水
1の消費量が削減され、又、隣り合う処理槽があれば該
処理槽間で処理用流体同士の混濁が極く少なく抑えられ
る。
That is, the conventional inclined table (1)
0) is unnecessary, the consumption of deionized water 1 in the cleaning tank 2 is reduced, and if there is an adjacent processing tank, turbidity of the processing fluids between the processing tanks is extremely small. Can be suppressed.

【0083】また、上記支持機構7は、その極く一部で
ある吊支部材27、28が脱イオン水1に浸るのみであ
り、浸るのも洗浄中だけで一時的であるから、パーティ
クルが該脱イオン水に混入する恐れがない。
Further, the support mechanism 7 has only a small part of the suspension members 27 and 28 which are only immersed in the deionized water 1 and are only temporarily immersed during washing, so that particles are There is no risk of mixing in the deionized water.

【0084】これらから、基板入りカセットの乾燥効果
の向上、装置の信頼性向上が達成されている。
From these, the improvement of the drying effect of the substrate-containing cassette and the improvement of the reliability of the apparatus have been achieved.

【0085】更に、当該基板自動処理装置においては、
従来用いられていた傾斜台(10)等が無用であるか
ら、装置全体としての小型化が図り易い。
Further, in the substrate automatic processing apparatus,
Since the conventionally used inclined table (10) and the like are unnecessary, the size of the entire apparatus can be easily reduced.

【0086】なお、本実施例においては、基体部21に
2本の回転自在な支持部材23、24を片持ち梁状に設
け、この支持部材23、24の自由端部に前記各吊支部
材27、28を装着し、該支持部材23、24の回転で
該吊支部材27、28を枢動せしめているが、次の構成
を採用することも可能である。
In the present embodiment, two rotatable support members 23 and 24 are provided on the base 21 in a cantilever shape, and the respective suspension members are provided at the free ends of the support members 23 and 24. The hanging members 27 and 28 are pivoted by the rotation of the supporting members 23 and 24 while the supporting members 23 and 24 are mounted. However, the following configuration may be adopted.

【0087】すなわち、上記支持部材23、24を省略
して各吊支部材27、28を基体部21に直接枢動自在
に装着し、各シリンダ94、95によりこの吊支部材2
7、28を直接駆動する構成である。但し、本実施例の
ように長尺の支持部材23、24を介して吊支部材2
7、28を作動させる構成によれば、基体部21及びそ
の内部機構からなる重い駆動部分を洗浄槽2の側方に配
置して、比較的軽い吊支部材27、28等のみを洗浄槽
2の上方に位置せしめることができる。よって、装置全
体のバランスが良くなり、その結果、補強等を必要最小
限に止められ、装置の小型・軽量かが図り易くなってい
る。
That is, the support members 23 and 24 are omitted, and the respective suspension members 27 and 28 are directly and pivotally mounted on the base 21.
7 and 28 are directly driven. However, as in this embodiment, the suspension support member 2 is provided via the long support members 23 and 24.
According to the structure for operating the cleaning tanks 7 and 28, the heavy driving portion including the base 21 and the internal mechanism is disposed on the side of the cleaning tank 2, and only the relatively light suspension members 27 and 28 are mounted on the cleaning tank 2. Can be located above. Therefore, the balance of the entire apparatus is improved, and as a result, reinforcement and the like are minimized, and it is easy to determine whether the apparatus is small and lightweight.

【0088】[0088]

【発明の効果】以上説明したように、本発明による基板
自動処理装置においては、カセットを支持して搬送手段
により搬送される支持機構が、該カセットを傾斜せせめ
る傾斜手段を有している。
As described above, in the automatic substrate processing apparatus according to the present invention, the support mechanism which supports the cassette and is transported by the transport means has the tilt means for tilting the cassette.

【0089】すなわち、従来設けられている傾斜台を無
用としたものであり、処理用流体の消費量、処理用流体
同士の混濁が共に極く少なく抑えられる。
In other words, the conventional inclined table is unnecessary, and both the consumption of the processing fluid and the turbidity of the processing fluids can be minimized.

【0090】また、カセットを搬送するために支持する
支持機構は、その極く一部が処理用流体に浸るのみであ
り、浸るのも一時的であるから、パーティクルが処理用
流体に混入する恐れがない。
Further, only a part of the supporting mechanism for supporting the cassette for transport is immersed in the processing fluid, and the immersion is also temporary. There is no.

【0091】これらから、基板入りカセットの乾燥効果
の向上、装置の信頼性向上が達成されている。
From these, the effect of drying the cassette containing substrates and the reliability of the apparatus have been improved.

【0092】更に、当該基板自動処理装置においては、
上記傾斜台等が無用であるから、装置全体としての小型
化が図り易い。
Further, in the automatic substrate processing apparatus,
Since the above-mentioned inclined table is unnecessary, it is easy to reduce the size of the entire apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明の実施例としての基板自動処理
装置の、一部断面を含む斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view including a partial cross section of an automatic substrate processing apparatus as an embodiment of the present invention.

【図2】図2は、図1に示した基板自動処理装置が具備
する基体部とその内部の構成とを示す、断面を含む平面
図である。
FIG. 2 is a plan view, including a cross section, showing a base portion included in the automatic substrate processing apparatus shown in FIG. 1 and an internal configuration thereof.

【図3】図3は、図2に関する、断面を含むA−A矢視
図である。
FIG. 3 is a view on arrow AA including a cross-section of FIG. 2;

【図4】図4は、図2に関する、断面を含むB−B矢視
図である。
FIG. 4 is a view on arrow BB of FIG. 2 including a cross section.

【図5】図5は、図2に関する、断面を含むC−C矢視
図である。
FIG. 5 is a view taken along the line CC in FIG. 2 including a cross section.

【図6】図6は、図1乃至図5に示した基板自動処理装
置の動作を説明するための図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining the operation of the automatic substrate processing apparatus shown in FIGS. 1 to 5;

【図7】図7は、図1乃至図5に示した基板自動処理装
置、特に図4に示した構成の動作を説明するための図で
ある。
FIG. 7 is a diagram for explaining an operation of the automatic substrate processing apparatus shown in FIGS. 1 to 5, particularly, an operation of the configuration shown in FIG. 4;

【図8】図8は、図1乃至図5に示した基板自動処理装
置、特に図5に示した構成の動作を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing the operation of the automatic substrate processing apparatus shown in FIGS. 1 to 5, particularly the operation of the configuration shown in FIG. 5;

【図9】図9は、図1乃至図5に示した基板自動処理装
置の動作を説明するための図である。
FIG. 9 is a diagram for explaining the operation of the automatic substrate processing apparatus shown in FIGS. 1 to 5;

【図10】図10は、図1乃至図5に示した基板自動処
理装置の動作を説明するための図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining the operation of the automatic substrate processing apparatus shown in FIGS. 1 to 5;

【図11】図11は、従来の基板自動処理装置の、一部
断面を含む斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view including a partial cross section of a conventional automatic substrate processing apparatus.

【図12】図12は、図11に示した基板自動処理装置
で用いられるカセットの平面図である。
FIG. 12 is a plan view of a cassette used in the automatic substrate processing apparatus shown in FIG. 11;

【図13】図13は、図12に示したカセットの正面図
である。
FIG. 13 is a front view of the cassette shown in FIG.

【図14】図14は、図11に示した基板自動処理装置
の要部の動作を説明するための図である。
FIG. 14 is a diagram for explaining an operation of a main part of the automatic substrate processing apparatus shown in FIG. 11;

【図15】図15は、図11に示した基板自動処理装置
の動作を説明するための図である。
FIG. 15 is a diagram for explaining an operation of the automatic substrate processing apparatus shown in FIG. 11;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 脱イオン水(処理用流体) 2 洗浄槽(処理槽) 3 基板(ガラス基板) 5 カセット 7 支持機構 9 搬送手段 21 (支持機構7が具備する)基体部 23、24 (支持機構7が具備する)支持部
材 27、28 (支持機構7が具備する)吊支部
材 27a、28a (吊支部材27、28の)フック
部 35 可動ベース 37 可動ポール(昇降部材) 51、94、95 シリンダ 65、67 リンク 27a、28a (吊支部材27、28の)フック
部 35 可動ベース 37 可動ポール(昇降部材) 51、94、95 シリンダ 65、67 リンク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Deionized water (processing fluid) 2 Cleaning tank (processing tank) 3 Substrate (glass substrate) 5 Cassette 7 Support mechanism 9 Transport means 21 Base parts 23 and 24 (provided by support mechanism 7) Support members 27, 28 suspension members 27a, 28a (provided in the support mechanism 7) hook portions 35 of the suspension members 27, 28 movable base 37 movable poles (elevating members) 51, 94, 95 cylinders 65, 67 Link 27a, 28a Hook portion (of suspension support member 27, 28) 35 Movable base 37 Movable pole (elevating member) 51, 94, 95 Cylinder 65, 67 link

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 処理用流体を貯留する処理槽と、 基板を保持したカセットを該基板の主たる面が略垂直と
なるように支持する支持機構と、 該支持機構を略水平方向及び略垂直方向を含む所定経路
に沿って搬送し、その搬送過程で前記カセットを前記処
理用流体に浸漬せしめる搬送手段とを備え、 前記支持機構は、前記カセットを傾斜させる傾斜手段を
有することを特徴とする基板自動処理装置。
1. A processing tank for storing a processing fluid, a support mechanism for supporting a cassette holding a substrate such that a main surface of the substrate is substantially vertical, and a support mechanism for supporting the cassette in a substantially horizontal direction and a substantially vertical direction. Transport means for transporting the cassette along a predetermined path, and immersing the cassette in the processing fluid during the transport process, wherein the support mechanism has an inclining means for inclining the cassette. Automatic processing equipment.
【請求項2】 前記基板は略矩形板状であり、前記カセ
ットの傾斜によって該基板の下辺部が水平線に対して傾
斜することを特徴とする請求項1記載の基板自動処理装
置。
2. The automatic substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the substrate has a substantially rectangular plate shape, and a lower side of the substrate is inclined with respect to a horizontal line by the inclination of the cassette.
【請求項3】 前記支持機構は、略垂直な面に平行に揺
動自在にして前記搬送手段によって搬送される基体部
と、該基体部を揺動させる基体部駆動手段と、前記基体
部に対して垂下状態にて枢動自在に取り付けられてその
下端部にて前記カセットを吊支する吊支部材と、該吊支
部材を吊支位置と吊支解除位置との間で作動させる吊支
部材駆動手段とを有し、該吊支部材駆動手段の作動部が
前記搬送手段側及び前記吊支部材に対して前記基体部が
揺動する方向で枢動自在に結合されていることを特徴と
する請求項1又は請求項2記載の基板自動処理装置。
3. The base mechanism, wherein the support mechanism is configured to swing in a direction substantially parallel to a vertical surface and to be conveyed by the conveying means, a base part driving means for oscillating the base part, and A hanging member which is pivotally mounted in a hanging state and suspends the cassette at the lower end thereof, and a hanging member which operates the hanging member between a hanging position and a hanging position. Material driving means, and an operating portion of the hanging member driving means is pivotally connected to the conveying means side and the hanging member in a direction in which the base part swings. 3. The automatic substrate processing apparatus according to claim 1, wherein:
【請求項4】 前記支持機構は、前記基体部から互いに
平行に伸長して設けられてその軸中心周りに回転自在に
して自由端部に前記吊支部材が装着された支持部材を有
し、前記吊支部材駆動手段は該支持部材に回転力を付与
することを特徴とする請求項3記載の基板自動処理装
置。
4. The support mechanism includes a support member that extends from the base portion in parallel with each other and is rotatable around its axis and has a free end to which the suspension member is attached. 4. The automatic substrate processing apparatus according to claim 3, wherein said suspension member driving means applies a rotational force to said support member.
【請求項5】 前記搬送手段は、略水平方向に移動する
可動ベースと、該可動ベースを移動せしめるベース駆動
手段と、該可動ベースに昇降自在に設けられて前記支持
機構を搭載した昇降部材と、該昇降部材を昇降させる昇
降部材駆動手段とを有することを特徴とする請求項1乃
至請求項4のうちいずれか1記載の基板自動処理装置。
5. The transfer means includes: a movable base that moves in a substantially horizontal direction; a base driving means that moves the movable base; and an elevating member that is provided on the movable base so as to be able to move up and down and has the support mechanism mounted thereon. 5. The automatic substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising an elevating member driving means for elevating and lowering the elevating member.
JP32794296A 1996-11-22 1996-11-22 Substrate automatic processing device Pending JPH10154676A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003077880A (en) * 2001-09-03 2003-03-14 Sumitomo Electric Ind Ltd Cleaning and transfer method of wafer, and jig for wafer cleaning and transfer

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