JPH10144761A - Wafer processing device system, wafer processing device, and use of wafer processing device - Google Patents

Wafer processing device system, wafer processing device, and use of wafer processing device

Info

Publication number
JPH10144761A
JPH10144761A JP29860296A JP29860296A JPH10144761A JP H10144761 A JPH10144761 A JP H10144761A JP 29860296 A JP29860296 A JP 29860296A JP 29860296 A JP29860296 A JP 29860296A JP H10144761 A JPH10144761 A JP H10144761A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
processing apparatus
wafer processing
transfer
cassette
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP29860296A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3249056B2 (en
Inventor
Kiyotaka Chiba
清隆 千葉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP29860296A priority Critical patent/JP3249056B2/en
Publication of JPH10144761A publication Critical patent/JPH10144761A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3249056B2 publication Critical patent/JP3249056B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize a wafer processing device which is high enough in general- purpose properties to process a lot of wafers in a short time, wherein the test other than a loader can be effectively used when one of the loaders is out of order. SOLUTION: A wafer processing device system is composed of wafer processing devices each composed of stages 34a and 34b, wafer transfer sections 31a and 31b which take out wafers from the cassettes 131a and 131b capable of housing wafers and transferring them to the stages 34a and 34b, and control means 38a and 38b which control the stages 34a and 34b and the wafer transfer sections 31a and 31b in movement, wherein a positioning means 51 to fix the wafer processing device in such a positional relation that a wafer transfer section is capable of delivering a wafer to another wafer processing device and a communication means between the control means 38a and 38b are provided. The control means 38a and 38b control a wafer processing device loaded with cassettes so as to transfer wafers to another wafer processing device loaded with no cassettes if a wafer processing device loaded with no cassettes is present.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハの測
定やダイシング等の処理を行うウエハ処理装置とその使
用方法に関し、特にウエハ処理装置を組み合わせて、1
つのウエハカセットに収納されて1つのウエハ処理装置
に供給された複数のウエハを、複数のウエハ処理装置で
並行して処理することができるウエハ処理装置システ
ム、及びそこで使用するウエハ処理装置とウエハ処理装
置の使用方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer processing apparatus for performing processing such as measurement and dicing of a semiconductor wafer and a method of using the same.
Wafer processing apparatus system capable of processing a plurality of wafers stored in one wafer cassette and supplied to one wafer processing apparatus in parallel by a plurality of wafer processing apparatuses, and a wafer processing apparatus and wafer processing used therein It relates to how to use the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウエハを処理する装置が各種使用
されている。例えば、ウエハ上に形成された多数のチッ
プが正常に動作するか検査する時には、プローバと呼ば
れる装置にウエハをセットし、触針(ニードル)をチッ
プの電極パッドに接触させた上で、ICテスタから所定
のニードルに電気信号を印加し、他のニードルに出力さ
れた電気信号を検出する。また、このようにして検査さ
れたウエハは、ダイシング装置で切り離される。本発明
は、ウエハを処理する装置であればどのような装置にも
適用可能であるが、ここでは、検査の際に使用するプロ
ーバとテスタを組み合わせたウエハ検査装置を例として
説明する。
2. Description of the Related Art Various apparatuses for processing semiconductor wafers are used. For example, when testing whether a large number of chips formed on a wafer operate normally, the wafer is set in a device called a prober, and a stylus (needle) is brought into contact with an electrode pad of the chip, and then an IC tester is used. To apply an electric signal to a predetermined needle, and detect an electric signal output to another needle. The wafer inspected in this way is cut off by a dicing device. The present invention can be applied to any apparatus that processes wafers. Here, a wafer inspection apparatus combining a prober and a tester used for inspection will be described as an example.

【0003】図1は、もっとも一般的なウエハ検査装置
の従来例の概略構成を示す図である。図1において、参
照番号10はプローバを、100は検査対象であるウエ
ハを示し、ウエハ100はウエハカセット101に複数
枚収容されて供給され、検査終了後再びウエハカセット
101に戻されて回収される。11は搬送アーム12の
駆動部であり、搬送アーム12を伸縮させたり、回転さ
せる機構を有する。一般に、この機構11と搬送アーム
12を合わせてローダと呼んでいる。また、搬送アーム
12の先端部は、載置されたウエハ100を吸着して固
定できるようになっている。13は載置されたウエハカ
セット101を上下移動させる移動機構である。14は
検査中にウエハを保持するステージであり、移動機構に
より3次元方向に移動可能であり、同様にウエハを吸着
する機構が設けられている。15はプローブカードであ
り、チップの電極パッドに合わせて配列されたニードル
16が設けられており、上面にニードル16に接続され
る電極が設けられている。17はテスタであり、検査時
には回転軸18の回りを回転してプローブカードの電極
に接触する。
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional example of the most general wafer inspection apparatus. In FIG. 1, reference numeral 10 denotes a prober, 100 denotes a wafer to be inspected, and a plurality of wafers 100 are stored and supplied in a wafer cassette 101, and are returned to the wafer cassette 101 again after the inspection and collected. . Reference numeral 11 denotes a driving unit of the transfer arm 12, which has a mechanism for extending and contracting and rotating the transfer arm 12. Generally, the mechanism 11 and the transfer arm 12 are collectively called a loader. Further, the distal end portion of the transfer arm 12 can suck and fix the placed wafer 100. Reference numeral 13 denotes a moving mechanism that moves the mounted wafer cassette 101 up and down. Reference numeral 14 denotes a stage for holding a wafer during inspection, which is movable in a three-dimensional direction by a moving mechanism, and is similarly provided with a mechanism for sucking the wafer. Reference numeral 15 denotes a probe card, on which needles 16 arranged in accordance with the electrode pads of the chip are provided, and electrodes connected to the needles 16 are provided on the upper surface. Reference numeral 17 denotes a tester, which rotates around a rotation shaft 18 at the time of inspection and contacts an electrode of the probe card.

【0004】検査を行う時には、アーム駆動部11を駆
動して搬送アーム12がウエハカセット101内に収容
されたウエハ100の下まで移動する。この状態で移動
機構13によりウエハカセット101が下方に移動する
とウエハ100が搬送アーム12上に載置されることに
なる。この状態でウエハ100を吸着し、搬送アーム1
2を引出した後、回転してステージ14上にウエハを移
動させる。ステージ14からは、後述するように、突出
ピンが上方に出てきてウエハ100を載せた状態になる
ので、搬送アーム12を戻し、その後突出ピンを下方に
戻せばウエハがステージ14上に載置されることになる
ので吸着する。この状態又はプローブカード15の下に
移動した状態で、図示していない画像システムにより精
密に位置決めされ、プローブカード15の下ある状態か
ら上方へ移動してニードル16とチップの電極パッドが
接触する。そしてテスタ17を測定位置に回転させてテ
スタがチップの電極パッドに接続された状態にして検査
を行う。すべてのチップが検査された後には、上記と逆
の経路を通って検査済みのウエハはウエハカセット10
1に戻される。移動機構13によりウエハカセット10
1を移動させて次のウエハを検査し、すべてのウエハの
検査が終了し、ウエハカセット101にすべてのウエハ
が戻された時点でウエハカセット101が回収される。
なお、ウエハカセット101は複数セット可能なものも
ある。
When performing an inspection, the arm driving unit 11 is driven to move the transfer arm 12 to a position below the wafer 100 accommodated in the wafer cassette 101. In this state, when the wafer cassette 101 is moved downward by the moving mechanism 13, the wafer 100 is placed on the transfer arm 12. In this state, the wafer 100 is sucked, and the transfer arm 1
After pulling out the wafer 2, the wafer is rotated to move the wafer onto the stage 14. As will be described later, since the projecting pins come out from the stage 14 and the wafer 100 is placed thereon, the transfer arm 12 is returned, and then the wafer is placed on the stage 14 by returning the projecting pins downward. It will be adsorbed. In this state or under the probe card 15, the positioning is precisely performed by an image system (not shown), and the probe card 15 is moved upward from the under state to contact the needle 16 with the electrode pad of the chip. Then, the tester 17 is rotated to the measurement position, and the test is performed with the tester connected to the electrode pads of the chip. After all the chips have been inspected, the inspected wafers pass through the reverse path to the wafer cassette 10.
Returned to 1. The wafer cassette 10 is moved by the moving mechanism 13.
1 is moved to inspect the next wafer, inspection of all wafers is completed, and when all wafers are returned to wafer cassette 101, wafer cassette 101 is collected.
In some cases, a plurality of wafer cassettes 101 can be set.

【0005】図1に示すように、従来のプローバは、1
個のテスタに対して、1個のステージと1個の搬送アー
ムを備え、セットされたウエハカセット101内のウエ
ハをすべてそのプローバで処理する構成が一般的であ
る。また、ローダがウエハカセット101からウエハを
取り出す時及びウエハを戻す時には、移動機構13がウ
エハカセット101を移動させ、ステージも上下方向に
移動可能でローダとの間でウエハを受け渡す時にはステ
ージが上下方向に移動する。従って、ローダには上下方
法の移動機構は設けられていないのが一般的である。
[0005] As shown in FIG.
Generally, one tester is provided with one stage and one transfer arm, and all the wafers in the set wafer cassette 101 are processed by the prober. When the loader takes out the wafer from the wafer cassette 101 and returns the wafer, the moving mechanism 13 moves the wafer cassette 101, and the stage can also move up and down. Move in the direction. Therefore, it is common that the loader is not provided with a vertical moving mechanism.

【0006】半導体ウエハの製造工程ではロット単位で
生産が行われる。あるロットのウエハは同一のウエハカ
セットに収容されて各プローバに供給されるのが一般的
である。そのため、多数のプローバを稼働させた検査工
程では、異なるロットのウエハの検査が並行して行われ
ることになる。ここで、製造工程の管理の問題から、あ
るロットを優先的に処理することが必要になる場合があ
る。このような処理を行うためには、そのロットのウエ
ハを複数のウエハカセットに分散し、それらを複数のプ
ローバに供給して並行して検査することになるが、この
ような作業は煩雑で生産性の面からは好ましくない。
In a semiconductor wafer manufacturing process, production is performed in lot units. Generally, wafers of a certain lot are housed in the same wafer cassette and supplied to each prober. Therefore, in the inspection process in which many probers are operated, inspection of wafers of different lots is performed in parallel. Here, there is a case where it is necessary to preferentially process a certain lot due to a problem of management of a manufacturing process. In order to perform such processing, the wafers of the lot are distributed to a plurality of wafer cassettes, and they are supplied to a plurality of probers for inspection in parallel. It is not preferable from the aspect of sex.

【0007】特公平5−37496号公報は、複数の処
理部分とステージの組みを有し、ローダを共通化して、
1個のウエハカセットに収容した複数のウエハを処理部
分とステージの各組みに分配して処理する構成を開示し
ている。図2は、このような構成のウエハ検査装置を示
す図であり1個のウエハカセット101から共通のロー
ダ21でウエハを取り出し、2個のステージ24と2
4’に分配する。なお、テスタ部分は省略してあるが、
両側に2個設けられている。このような構成であれば、
ウエハカセット内の複数のウエハは並行して処理される
ことになるので、ウエハカセット内のウエハ、すなわ
ち、1つのロットのウエハは短時間に処理できるように
なる。しかも、ローダは共通化されているので、設置面
積も小さくなるという利点がある。
Japanese Patent Publication No. Hei 5-37496 has a combination of a plurality of processing sections and stages, and a common loader.
It discloses a configuration in which a plurality of wafers housed in one wafer cassette are distributed to each set of a processing portion and a stage for processing. FIG. 2 is a view showing a wafer inspection apparatus having such a configuration, in which a wafer is taken out from one wafer cassette 101 by a common loader 21 and two stages 24 and 2
Distribute to 4 '. Although the tester part is omitted,
Two are provided on both sides. With such a configuration,
Since a plurality of wafers in the wafer cassette are processed in parallel, wafers in the wafer cassette, that is, wafers of one lot, can be processed in a short time. In addition, since the loader is shared, there is an advantage that the installation area is reduced.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】図2に示した構成のウ
エハ処理装置は、ローダを共通化しているため、ローダ
が故障すると2台分の処理装置が使用できなくなり、故
障の影響が大きくなるという問題がある。プローバでは
このローダ部分での故障が多いのが現状であり、これが
大きな問題になっている。
In the wafer processing apparatus having the structure shown in FIG. 2, since the loader is shared, if the loader fails, two processing apparatuses cannot be used, and the influence of the failure increases. There is a problem. At present, there are many failures in the loader part of the prober, and this is a major problem.

【0009】また、図2に示した装置は、ローダ部分は
共通化しているがその他の部分は2台分の装置であり、
装置全体の大きさが非常に大きくなる。そのため、据え
付けや移動が困難で、設置時の自由度が制限されるとい
う問題がある。更に、図2に示した装置は、上記の目的
のためには適しているが、逆にいえば個別の処理装置と
して使用できず、汎用性に欠けるという問題があった。
例えば、一方のテスタのプログラムを変更して別々の検
査装置として使用するといったことはできなかった。
In the apparatus shown in FIG. 2, the loader part is shared, but the other parts are equivalent to two units.
The size of the whole device becomes very large. Therefore, there is a problem that installation and movement are difficult, and the degree of freedom during installation is limited. Further, the apparatus shown in FIG. 2 is suitable for the above purpose, but conversely cannot be used as an individual processing apparatus and has a problem of lack of versatility.
For example, it was not possible to change the program of one tester and use it as a separate inspection device.

【0010】本発明は、1つのロットのウエハが短時間
に処理でき、且つたとえ一方のローダが故障してもロー
ダ部分以外は有効に使用でき、小型で個別の装置として
も使用できるようにすることを目的とする。
According to the present invention, wafers of one lot can be processed in a short time, and even if one of the loaders fails, the parts other than the loader part can be effectively used, so that they can be used as small and individual devices. The purpose is to:

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】図3は、本発明のウエハ
処理装置システムの基本構成を示す図である。本発明で
は、図示のように、個別に使用できる複数のウエハ処理
装置(図では2台)30aと30bの組み合わせてシス
テムを構築し、1個のウエハカセットのウエハを複数の
ウエハ処理装置で並行して処理できるようにする。この
ようなシステムを実現するには、複数のウエハ処理装置
の位置関係を固定する手段51と、異なる装置のローダ
を連携して制御できるようにするための制御部38aと
38b間の通信手段39とが必要である。
FIG. 3 is a diagram showing a basic configuration of a wafer processing apparatus system according to the present invention. In the present invention, as shown, a system is constructed by combining a plurality of individually usable wafer processing apparatuses (two in the figure) 30a and 30b, and the wafers of one wafer cassette are concurrently processed by the plurality of wafer processing apparatuses. So that it can be processed. In order to realize such a system, a means 51 for fixing the positional relationship between a plurality of wafer processing apparatuses and a communication means 39 between the control units 38a and 38b for controlling the loaders of different apparatuses in cooperation with each other. Is necessary.

【0012】すなわち、本発明のウエハ処理装置システ
ムは、ウエハに対する検査等の処理が行われる間、ウエ
ハを保持するステージ34a、34bと、複数枚のウエ
ハが収容可能なウエハカセット131a、131bから
ウエハを取り出してステージ34a、34bに搬送する
ウエハ搬送部31a、31bと、ステージ34a、34
bとウエハ搬送部31a、31bの移動を制御する制御
手段38a、38bとを備えるウエハ処理装置を複数台
組み合わせて構築するウエハ処理装置システムである。
このシステムにおいては、上記目的を実現するため、組
み合わされる複数台のウエハ処理装置を、ウエハ搬送部
31a、31bにより他のウエハ処理装置にウエハを受
け渡せる位置関係になるように固定する位置決め手段5
1と、組み合わされる複数台のウエハ処理装置の制御手
段38a、38bの間で通信を行うための通信手段39
とを備え、制御手段38a、38bは、組み合わされる
複数台のウエハ処理装置の内にウエハカセット131
a、131bがセットされないウエハ処理装置が存在す
る場合に、ウエハカセット131a、131bがセット
されたウエハ処理装置からウエハカセット131a、1
31bがセットされないウエハ処理装置にウエハを搬送
するように、ウエハ搬送部31a、31bを制御するこ
とを特徴とする。
That is, the wafer processing system according to the present invention comprises a stage 34a, 34b for holding a wafer and a wafer cassette 131a, 131b capable of accommodating a plurality of wafers during processing such as inspection of the wafer. Transfer units 31a and 31b for taking out the wafer and transferring them to stages 34a and 34b, and stages 34a and 34
b and a wafer processing apparatus system constructed by combining a plurality of wafer processing apparatuses each including control means 38a and 38b for controlling the movement of the wafer transfer sections 31a and 31b.
In this system, in order to achieve the above object, a positioning means 5 for fixing a plurality of wafer processing apparatuses to be combined so that the wafers can be transferred to another wafer processing apparatus by the wafer transfer units 31a and 31b.
And communication means 39 for performing communication between the control means 38a and 38b of a plurality of wafer processing apparatuses to be combined.
The control means 38a and 38b include a wafer cassette 131 in a plurality of wafer processing apparatuses to be combined.
When there is a wafer processing apparatus in which the wafer cassettes 131a and 131b are not set, the wafer cassettes 131a and 131b are moved from the wafer processing apparatus in which the wafer cassettes 131a and 131b are set.
The wafer transfer units 31a and 31b are controlled so as to transfer a wafer to a wafer processing apparatus in which 31b is not set.

【0013】上記のように、本発明のウエハ処理装置シ
ステムを構成する各ウエハ処理装置は、図1に示した従
来の装置と同様の構成を有するので、個別に使用でき
る。すなわち、汎用性に富んでいる。このような汎用の
ウエハ処理装置が、位置決め手段51により所定の位置
関係に固定されるので、ウエハの受け渡しが可能にな
る。また、個々のウエハ処理装置は、ウエハ搬送部(ロ
ーダ)を制御する制御部を備えているが、ウエハの受け
渡しを行うには、異なる装置のローダが連携して動作す
る必要がある。通信手段により異なる装置の制御部が連
携して制御動作を行うことが可能になるので、ウエハの
受け渡しが可能になる。従って、一方のウエハ処理装置
のローダが故障しても、正常に動作する他のウエハ処理
装置のローダを使用して、ローダが故障したウエハ処理
装置にウエハを供給して処理を行うことが可能になる。
図1と図2に示した従来例では、1台の装置に1個のロ
ーダがあるだけなので、ローダが故障するとその装置は
使用できなくなった。これに対して、本発明のウエハ処
理装置システムであれば、1個のローダが故障しても両
方の装置の稼働を維持することができ、その間に故障し
たローダを修理するといったことも可能で、装置の稼働
率を高くすることができる。
As described above, each wafer processing apparatus constituting the wafer processing apparatus system of the present invention has the same configuration as the conventional apparatus shown in FIG. 1 and can be used individually. That is, it is versatile. Since such a general-purpose wafer processing apparatus is fixed in a predetermined positional relationship by the positioning means 51, it is possible to transfer a wafer. Each wafer processing apparatus has a control unit for controlling a wafer transfer unit (loader). However, in order to transfer a wafer, loaders of different apparatuses need to operate in cooperation. The communication means enables control units of different apparatuses to perform control operations in cooperation with each other, so that wafer transfer is possible. Therefore, even if the loader of one wafer processing apparatus fails, it is possible to use the loader of another wafer processing apparatus that operates normally to supply wafers to the failed wafer processing apparatus for processing. become.
In the conventional example shown in FIGS. 1 and 2, since there is only one loader in one device, if the loader fails, the device cannot be used. On the other hand, with the wafer processing apparatus system of the present invention, even if one loader fails, the operation of both apparatuses can be maintained, and the failed loader can be repaired during that time. In addition, the operation rate of the device can be increased.

【0014】本発明のウエハ処理装置システムでは、上
記のような構成により、1つの装置にセットされたウエ
ハカセットのウエハを複数のウエハ処理装置で処理する
ことが可能になるが、そのような必要がない場合には、
各ウエハ処理装置にそこで処理するウエハを収容したウ
エハカセットをセットして処理を行うようにすることも
できる。これであれば、各ウエハ処理装置を独立して使
用する従来と同じ使用方法になる。また、ウエハ処理装
置を設置する場合には、各ウエハ処理装置を設置した上
で、位置決め手段51で固定し、通信手段39で接続す
ればよいので、設置も容易である。
In the wafer processing apparatus system according to the present invention, it is possible to process a wafer in a wafer cassette set in one apparatus by a plurality of wafer processing apparatuses. If there is no
It is also possible to set a wafer cassette accommodating a wafer to be processed in each wafer processing apparatus and perform the processing. In this case, the method of use is the same as the conventional method in which each wafer processing apparatus is used independently. Further, when the wafer processing apparatuses are installed, each of the wafer processing apparatuses can be installed, fixed by the positioning means 51 and connected by the communication means 39, so that the installation is easy.

【0015】ウエハカセット131a、131bから取
り出されたウエハは、処理後同じウエハカセットに回収
されるのが一般的であるが、供給用と回収用で別のウエ
ハカセットが使用される場合もある。ウエハ処理装置は
図3に示すような位置関係に固定されるが、このような
位置関係で配置するには、組み合わされるウエハ処理装
置は配置時の隣接面に対して対称の形状を有することが
望ましい。
The wafers taken out of the wafer cassettes 131a and 131b are generally collected in the same wafer cassette after processing, but different wafer cassettes may be used for supply and recovery. Although the wafer processing apparatus is fixed in a positional relationship as shown in FIG. 3, in order to arrange the wafer processing apparatus in such a positional relationship, the combined wafer processing apparatus may have a symmetric shape with respect to an adjacent surface at the time of arrangement. desirable.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】図4は、本発明を適用したプロー
バとテスタで構成されるウエハ検査システムの第1実施
例の上面図であり、2台のウエハ検査装置を組み合わせ
た場合の例である。図4において、30aと30bは組
み合わされる2台のプローバを示す。プローバ30a
は、ローダ31aと、ステージ34aと、制御部38a
と、ウエハ保持機構40aを有し、テスタ37aが取り
付けられている。プローバ30bも同様の構成を有する
が、図示のようにプローバ30aと左右対称である。制
御部38aと38bには、通信ポート41aと41bが
設けられており、通信ケーブル39で接続されている。
また、制御部38aと38bは、それぞれのテスタ37
aと37bに接続されているが、ここでは図示を省略し
てある。131aと131bはウエハカセットである。
51はプローバ30aと30bを固定する部材であり、
これによりプローバ30aと30bは所定の位置関係に
なる。
FIG. 4 is a top view of a first embodiment of a wafer inspection system comprising a prober and a tester to which the present invention is applied, and shows an example in which two wafer inspection apparatuses are combined. is there. In FIG. 4, reference numerals 30a and 30b denote two probers to be combined. Prober 30a
Is a loader 31a, a stage 34a, and a control unit 38a.
And a wafer holding mechanism 40a, and a tester 37a is attached. The prober 30b has a similar configuration, but is symmetrical to the prober 30a as shown in the figure. The control units 38a and 38b are provided with communication ports 41a and 41b, respectively, and are connected by a communication cable 39.
In addition, the control units 38a and 38b
a and 37b, but are not shown here. 131a and 131b are wafer cassettes.
51 is a member for fixing the probers 30a and 30b,
Thus, the probers 30a and 30b have a predetermined positional relationship.

【0017】プローバ30aと30bの間のウエハの受
け渡しは、ウエハ保持機構40aと40bを利用して行
う。図5はウエハ保持機構40aと40bの構造を示す
図である。図5において、参照番号61は基体64に対
して回転可能な回転部材であり、図示していない駆動部
材により回転される。回転部材61には、モータ63に
より上下移動する突出ピン62が設けられており、突出
ピン62の上にウエハ100が載置される。
The transfer of the wafer between the probers 30a and 30b is performed using the wafer holding mechanisms 40a and 40b. FIG. 5 is a diagram showing the structure of the wafer holding mechanisms 40a and 40b. In FIG. 5, reference numeral 61 denotes a rotating member rotatable with respect to the base 64, which is rotated by a driving member (not shown). The rotating member 61 is provided with a protruding pin 62 that moves up and down by a motor 63, and the wafer 100 is mounted on the protruding pin 62.

【0018】図4において、右側のプローバ30bから
左側のプローバ30aにウエハを渡す場合ついて説明す
る。まず、ローダ31aを図4の状態に退避させた上
で、ローダ31bがウエハカセット131bに収容され
たウエハの下にアームの先端を移動させ、図示していな
い上下移動機構によりウエハカセット131bが下方に
移動してウエハをアームの先端に載置する。ローダはこ
のウエハを吸着して引出し、反時計方向に回転してウエ
ハ保持機構40a上にウエハを移動する。この状態で、
吸着を解除し、突出ピン42を上方に突き出すと、ウエ
ハはローダ31bから離れ、突出ピン62上に載置され
る。ローダ31bはアームを引っ込めて、回転して左側
に出ない位置に戻る。次にウエハ保持機構40aは所定
角度回転する。この回転は、ローダ31aからアームが
伸びた時に突出ピン62に当たらないようにするため
と、ウエハの回転方向を所望の方向にするためである。
次に、ローダ31aが回転し、アームの先端をウエハ保
持機構40aの突出ピン62の間に伸ばす。この状態で
突出ピン62が下方に移動するとウエハはローダ31a
のアームの先端に載置されるので、これを吸着する。そ
して、ローダ31aが回転してステージ34aにウエハ
を渡す。後は従来と同様である。検査の終了したウエハ
を左側のプローバ30aから右側のプローバ30bのウ
エハカセット131bに戻す場合には、上記と逆の動作
を行う。なお、ウエハの回転方向の調整がステージで行
われ、回転しなくてもアームの先端が突出ピン62に当
たらない場合には、ウエハ保持機構の回転機構は必要な
い。また、図4では、プローバ30aと30bの両方に
ウエハ保持機構40aと40bを設けたが、上記のよう
に、一方のみでもウエハの受け渡しは可能である。
Referring to FIG. 4, a case where a wafer is transferred from the right prober 30b to the left prober 30a will be described. First, after the loader 31a is retracted to the state shown in FIG. 4, the loader 31b moves the tip of the arm below the wafer stored in the wafer cassette 131b, and the wafer cassette 131b is moved downward by a vertical movement mechanism (not shown). To place the wafer on the tip of the arm. The loader sucks and pulls out the wafer, and rotates in the counterclockwise direction to move the wafer onto the wafer holding mechanism 40a. In this state,
When the suction is released and the protruding pins 42 protrude upward, the wafer separates from the loader 31b and is placed on the protruding pins 62. The loader 31b retracts the arm and rotates to return to a position where it does not protrude to the left. Next, the wafer holding mechanism 40a rotates by a predetermined angle. This rotation is performed so that the arm does not hit the protruding pin 62 when the arm is extended from the loader 31a, and to rotate the wafer in a desired direction.
Next, the loader 31a rotates to extend the tip of the arm between the projecting pins 62 of the wafer holding mechanism 40a. When the protruding pins 62 move downward in this state, the wafer is loaded into the loader 31a.
Since it is placed on the tip of the arm, it is sucked. Then, the loader 31a rotates to transfer the wafer to the stage 34a. The rest is the same as before. When returning the inspected wafer from the prober 30a on the left side to the wafer cassette 131b of the prober 30b on the right side, the operation reverse to the above is performed. If the adjustment of the rotation direction of the wafer is performed on the stage and the tip of the arm does not hit the protruding pin 62 without rotating, the rotation mechanism of the wafer holding mechanism is not necessary. Further, in FIG. 4, the wafer holding mechanisms 40a and 40b are provided in both the probers 30a and 30b. However, as described above, it is possible to transfer the wafer by only one of them.

【0019】第1実施例のウエハ検査システムでは、ウ
エハカセットが一方のみにセットされ、このウエハカセ
ット内のウエハをウエハカセットのセットされていない
プローバでも並行して処理するように指示された時に、
並行して処理を行う。図6と図7は、第1実施例のウエ
ハ検査システムにおける各プローバの制御部の処理動作
を示すフローチャートである。
In the wafer inspection system according to the first embodiment, when the wafer cassette is set to only one of the wafer cassettes and the wafer in the wafer cassette is instructed to be processed in parallel by a prober without the wafer cassette,
Perform processing in parallel. FIGS. 6 and 7 are flowcharts showing the processing operation of the control unit of each prober in the wafer inspection system of the first embodiment.

【0020】ステップ201では、ウエハカセットがセ
ットされているか検出され、セットされていない時に
は、ステップ231でカセットがセットされていないこ
とを他方の装置の制御部に通知する。そして、ステップ
232で、他方の装置にカセットがセットされていて並
行して処理するかの通知を受ける。この処理をダブル処
理と呼ぶことにする。ダブル処理でない時には、ステッ
プ201に戻る。ダブル処理の時には、この装置は他方
の装置からウエハを受け取って処理し、処理の終了した
ウエハを渡すことになる。この場合の処理はステップ2
41以下に示される。
In step 201, it is detected whether or not the wafer cassette has been set. If the wafer cassette has not been set, in step 231 the control unit of the other apparatus is notified that the cassette has not been set. Then, in step 232, a notification is received as to whether a cassette is set in the other apparatus and processing is performed in parallel. This processing is called double processing. If it is not a double process, the process returns to step 201. At the time of double processing, this apparatus receives and processes a wafer from the other apparatus, and delivers the processed wafer. The process in this case is Step 2
41 and below.

【0021】ステップ201でカセットがセットされて
いることが検出された時には、ステップ202で他方の
装置でカセットがセットされているかの通知を受け、セ
ットされている場合にはそれぞれの装置でそれぞれのカ
セットのウエハを処理する通常の処理であるから通常処
理を行い、セットされていない場合にはこの装置から他
方の装置にウエハを渡し、処理されたウエハを受け取る
ダブル処理をすることになる。ステップ204では他方
の装置にダブル処理であることを通知する。ステップ2
04では、この装置と他方の装置でウエハが検査されて
いない空の状態、すなわち、ステージにウエハがセット
されていない空の状態であることを示すレジスタをセッ
トする。
When it is detected in step 201 that a cassette has been set, a notification is sent in step 202 as to whether the cassette has been set in the other device. Since this is a normal process for processing the wafers in the cassette, the normal process is performed, and if not set, the wafer is transferred from this device to the other device, and the double process for receiving the processed wafer is performed. In step 204, the other device is notified of the double process. Step 2
In step 04, a register is set which indicates that the wafer is empty in this apparatus and the other apparatus, that is, the wafer is not inspected, that is, the wafer is not set on the stage.

【0022】ステップ205では、カセットに未検査の
ウエハが残っているかを判定する。残っていない場合に
は、ステップ220で、両方の装置が空の状態であるか
判定し、空であれば、ステップ221でこのカセットの
検査が終了したことを表示してステップ201に戻る。
どちらかでも検査中であれば、ステップ206に進む。
カセットに未検査のウエハが残っている場合もステップ
206に進む。
In step 205, it is determined whether untested wafers remain in the cassette. If not, it is determined in step 220 whether both devices are empty, and if empty, the completion of the inspection of this cassette is displayed in step 221 and the process returns to step 201.
If any one is under inspection, the process proceeds to step 206.
The process also proceeds to step 206 when untested wafers remain in the cassette.

【0023】ステップ206では、この装置が空の状態
で、新たにウエハが検査できるかを判定する。空の状態
であれば、他方の装置とは関係なく、ステップ207で
ロード処理を行って、ステップ208でこの装置が空で
ないことを示すようにレジスタをリセットして、ステッ
プ205に戻る。ステップ206で、この装置が空でな
いと判定された場合には、ステップ209で他方の装置
が空であるか判定する。空の場合には、ステップ216
で、他方の装置にウエハを渡すためにウエハ保持機構4
0aと40bのいずれかにウエハをロードする処理を行
い、ステップ217で所定の位置に戻る。このように、
ウエハ保持機構へのロード処理後に所定の位置へ戻るの
は、他方の装置のローダがこのウエハ保持機構に保持さ
れたウエハを受け取る時に、ローダ同士が当たるのを防
止するためである。ステップ218では、他方の装置に
ウエハ保持機構へのロード処理が終了したことを通知
し、ステップ219で他方の装置が空でないことを示す
ようにレジスタをリセットし、ステップ205に戻る。
In step 206, it is determined whether a new wafer can be inspected while the apparatus is empty. If it is empty, regardless of the other device, the loading process is performed in step 207, the register is reset in step 208 to indicate that this device is not empty, and the process returns to step 205. If it is determined in step 206 that this device is not empty, it is determined in step 209 whether the other device is empty. If empty, step 216
In order to transfer the wafer to the other device, the wafer holding mechanism 4
A process for loading a wafer into either 0a or 40b is performed, and the process returns to a predetermined position in step 217. in this way,
The reason for returning to the predetermined position after the loading process to the wafer holding mechanism is to prevent the loaders of the other apparatus from hitting each other when receiving the wafer held by the wafer holding mechanism. In step 218, the other device is notified that the loading process to the wafer holding mechanism has been completed, and in step 219, the register is reset to indicate that the other device is not empty, and the process returns to step 205.

【0024】ステップ209で他方の装置も空でないと
判定された場合には、ステップ210で、この装置での
検査が終了して、検査済みのウエハを載置したステージ
が所定位置まで戻っているかを判定する。検査が終了し
ていれば、ステップ211でこのウエハの回収処理を行
い、ステップ212でこの装置が空であることを示すよ
うにレジスタをレジスタをセットし、ステップ205に
戻る。
If it is determined in step 209 that the other device is not empty, in step 210, the inspection by this device is completed and the stage on which the inspected wafer is mounted has returned to a predetermined position. Is determined. If the inspection has been completed, the process of collecting the wafer is performed in step 211, and a register is set in step 212 to indicate that the apparatus is empty, and the process returns to step 205.

【0025】ステップ210でこの装置での検査が終了
していない時には、ステップ213で他方の装置での検
査が終了して、検査済のウエハがウエハ保持機構に渡さ
れたかを判定する。この情報は、他方の装置から送られ
る。他方の装置での検査が終了していない場合には、ス
テップ205に戻り、終了していれば、ステップ214
でウエハ保持機構からの回収処理を行い、ステップ21
5で他方の装置が空であることを示すように、レジスタ
をセットして、ステップ205に戻る。
If the inspection in this apparatus has not been completed in step 210, the inspection in the other apparatus has been completed in step 213, and it is determined whether the inspected wafer has been transferred to the wafer holding mechanism. This information is sent from the other device. If the inspection in the other device has not been completed, the process returns to step 205;
The collecting process from the wafer holding mechanism is performed in step 21.
The register is set to indicate that the other device is empty at 5, and the process returns to step 205.

【0026】以上が、ダブル処理の場合の、カセットが
セットされた側になった時の処理である。カセットがセ
ットされず、ウエハを受け取る側になった時の処理は、
ステップ240で、この装置が空状態であるかを示すレ
ジスタを空状態を示すようにセットし、ステップ241
で、空の状態であるか判定する。空であれば、ステップ
242でローダをリセット位置(退避位置)に移動し、
他方の装置からウエハ保持機構へのロードが終了したこ
とを示す通知を待つ。ステップ243で、この通知が来
たことを検出すると、ステップ244でウエハ保持機構
からステージへのロード処理を行い、ステップ245で
レジスタを空でないことを示すようにリセットし、ステ
ップ241に戻る。
The above is the processing when the cassette is set on the side where the cassette is set in the double processing. When the cassette is not set and the wafer is received,
At step 240, a register indicating whether the device is empty is set to indicate an empty state, and step 241 is executed.
Then, it is determined whether or not it is empty. If empty, the loader is moved to the reset position (retreat position) in step 242,
It waits for a notification indicating that the loading from the other device to the wafer holding mechanism has been completed. If it is detected in step 243 that this notification has been received, loading processing from the wafer holding mechanism to the stage is performed in step 244, and the register is reset to indicate that it is not empty in step 245, and the process returns to step 241.

【0027】ステップ241で空状態でないと判定され
た時には、ステップ246で、検査が終了しているか判
定し、検査が終了するまで待機する。検査が終了する
と、ステップ247で回収処理をして、ウエハ保持機構
へ検査済のウエハを渡す。ステップ248で退避位置に
戻り、ステップ249でレジスタを空であることを示す
ようにセットし、ステップ241に戻る。
If it is determined in step 241 that the inspection is not empty, it is determined in step 246 whether the inspection is completed, and the process waits until the inspection is completed. When the inspection is completed, a recovery process is performed in step 247, and the inspected wafer is transferred to the wafer holding mechanism. In step 248, the process returns to the retreat position, and in step 249, the register is set to indicate that it is empty, and the process returns to step 241.

【0028】以上説明したように、2つの装置が通信手
段で通信を行いながら連携してロード処理を行わせるこ
とにより、ウエハの受け渡しが行われる。第1実施例で
は、ウエハの受け渡しのために、ウエハ保持機構を設け
たが、装置上の配置によっては、このようなウエハ保持
機構を設けずにウエハの受け渡しが可能である。第2及
び第3実施例はこのような実施例である。
As described above, the transfer of the wafer is performed by the two devices performing the load processing in cooperation with each other while performing the communication by the communication means. In the first embodiment, the wafer holding mechanism is provided for transferring the wafer. However, depending on the arrangement on the apparatus, the wafer can be transferred without providing such a wafer holding mechanism. The second and third embodiments are such embodiments.

【0029】図8は、第2実施例のウエハ処理装置シス
テムの上面図である。図では、制御部や通信ケーブル等
は省略してあるが、図4と同様にこれらのものが備わっ
ている。第1実施例と異なるのは、ステージ34aが他
方のローダ31bとウエハの受け渡しが可能な位置まで
移動可能なように構成した点である。同様に、ステージ
34bも他方のローダ31aとウエハの受け渡しが可能
な位置まで移動可能である。ステージには、ローダとの
間でウエハを受け渡すために、図5に示したような突出
ピンが設けられている。これは従来通りである。図で
は、ローダ31bがウエハカセット131bから取り出
したウエハを直接ステージ34aに渡す。従って、左側
のローダ31aは、常に退避状態に位置することにな
る。このことは、たとえローダ31aが故障しても、両
方の装置にカセット131bからウエハの供給が行える
ことを意味する。第2実施例のウエハ処理装置システム
でも、ウエハの受け渡しを行うためには、ステージが他
方のローダと連携して動作することが必要である。この
動作については、第1実施例の説明から容易に理解でき
るので、ここでは説明を省略する。
FIG. 8 is a top view of the wafer processing apparatus system of the second embodiment. In the figure, the control unit, the communication cable, and the like are omitted, but these are provided similarly to FIG. The difference from the first embodiment is that the stage 34a is configured to be movable to a position where the wafer can be transferred to and from the other loader 31b. Similarly, the stage 34b can be moved to a position where the wafer can be transferred to and from the other loader 31a. The stage is provided with protruding pins as shown in FIG. 5 for transferring the wafer to and from the loader. This is as usual. In the figure, the loader 31b transfers the wafer taken out of the wafer cassette 131b directly to the stage 34a. Therefore, the left loader 31a is always in the retracted state. This means that even if the loader 31a breaks down, wafers can be supplied to both devices from the cassette 131b. In the wafer processing system of the second embodiment as well, in order to transfer a wafer, the stage needs to operate in cooperation with the other loader. Since this operation can be easily understood from the description of the first embodiment, the description is omitted here.

【0030】図9は、第3実施例のウエハ処理装置シス
テムを示す図で、(1)はその上面図である。図では、
制御部や通信ケーブル等は省略してあるが、図4と同様
にこれらのものが備わっている。第1実施例及び第2実
施例と異なるのは、ローダ31aと31bの間でウエハ
の受け渡しが可能にした点である。ローダ間でのウエハ
の受け渡しを可能にするため、ローダ31aと32aの
アーム32aと32bは図9の(2)に示すような形状
をしている。また、アーム32aと32bは、図9の
(3)に示すように、上下移動可能になっている。この
ような形状により、図9の(2)に示す状態ではいずれ
のアームもウエハを載置することができる。ウエハを受
け渡す場合には、図9の(3)に示すように、受け取る
側のアーム32bを、渡す側のアーム32aの下の位置
に移動させる。この時、上方からみると図9の(2)に
示す状態になっている。そして、アーム32bをアーム
32aを越えて上昇させると、ウエハはアーム32b上
に載置されることになり、受け渡される。
FIG. 9 is a diagram showing a wafer processing apparatus system according to the third embodiment, and (1) is a top view thereof. In the figure,
Although a control unit, a communication cable and the like are omitted, these are provided similarly to FIG. The difference from the first embodiment and the second embodiment is that the transfer of the wafer between the loaders 31a and 31b is enabled. The arms 32a and 32b of the loaders 31a and 32a are shaped as shown in FIG. 9 (2) in order to enable the transfer of wafers between the loaders. The arms 32a and 32b are vertically movable as shown in FIG. 9 (3). With such a shape, the wafer can be placed on any of the arms in the state shown in FIG. 9 (2). When transferring the wafer, as shown in FIG. 9C, the receiving arm 32b is moved to a position below the transferring arm 32a. At this time, when viewed from above, the state is as shown in FIG. 9 (2). When the arm 32b is raised above the arm 32a, the wafer is placed on the arm 32b and is delivered.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
汎用性のある独立して使用できるウエハ処理装置を組み
合わせて、1つのロットのウエハが短時間に処理でき、
且つたとえ一方のローダが故障してもローダ部分以外は
有効に使用できるウエハ処理装置システムが容易に実現
できる。
As described above, according to the present invention,
Combining versatile and independently usable wafer processing equipment, one lot of wafers can be processed in a short time,
Further, even if one of the loaders fails, a wafer processing apparatus system that can effectively use portions other than the loader portion can be easily realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来の一般的なウエハ検査装置の基本構成を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a basic configuration of a conventional general wafer inspection apparatus.

【図2】1つのロットのウエハが短時間に処理できよう
にした従来のウエハ検査装置の構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a conventional wafer inspection apparatus capable of processing wafers of one lot in a short time.

【図3】本発明のウエハ処理装置システムの基本構成を
示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a basic configuration of a wafer processing apparatus system according to the present invention.

【図4】第1実施例のウエハ処理装置システムの上面図
である。
FIG. 4 is a top view of the wafer processing apparatus system according to the first embodiment.

【図5】第1実施例のウエハ保持機構の構造を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram showing a structure of a wafer holding mechanism of the first embodiment.

【図6】第1実施例のウエハ処理装置システムにおける
各装置の処理動作を示すフローチャートである。
FIG. 6 is a flowchart illustrating a processing operation of each apparatus in the wafer processing apparatus system according to the first embodiment.

【図7】第1実施例のウエハ処理装置システムにおける
各装置の処理動作を示すフローチャートである。
FIG. 7 is a flowchart illustrating a processing operation of each apparatus in the wafer processing apparatus system according to the first embodiment.

【図8】第2実施例のウエハ処理装置システムの上面図
である。
FIG. 8 is a top view of a wafer processing apparatus system according to a second embodiment.

【図9】第3実施例のウエハ処理装置システムの上面図
である。
FIG. 9 is a top view of a wafer processing apparatus system according to a third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

31a、31b…ウエハ搬送部(ローダ) 34a、34b…ステージ 37a、37b…テスタ 38a、38b…制御手段 39…通信手段 40a、40b…ウエハ保持機構 41a、41b…通信ポート 51…位置決め手段 31a, 31b: Wafer transfer section (loader) 34a, 34b: Stage 37a, 37b: Tester 38a, 38b: Control means 39: Communication means 40a, 40b: Wafer holding mechanism 41a, 41b: Communication port 51: Positioning means

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウエハに対する検査等の処理が行われる
間、ウエハを保持するステージ(34a、34b)と、 複数枚のウエハが収容可能なウエハカセット(131
a、131b)から前記ウエハを取り出して前記ステー
ジ(34a、34b)に搬送するウエハ搬送部(31
a、31b)と、 前記ステージ(34a、34b)と前記ウエハ搬送部
(31a、31b)の移動を制御する制御手段(38
a、38b)とを備えるウエハ処理装置を複数台組み合
わせたウエハ処理装置システムであって、 組み合わされる前記複数台のウエハ処理装置を、前記ウ
エハ搬送部(31a、31b)により他のウエハ処理装
置にウエハを受け渡せる位置関係になるように固定する
位置決め手段(51)と、 組み合わされる前記複数台のウエハ処理装置の前記制御
手段(38a、38b)の間で通信を行うための通信手
段(39)とを備え、 前記制御手段(38a、38b)は、組み合わされる前
記複数台のウエハ処理装置の内に前記ウエハカセット
(131a、131b)がセットされないウエハ処理装
置が存在する場合に、前記ウエハカセット(131a、
131b)がセットされたウエハ処理装置から前記ウエ
ハカセット(131a、131b)がセットされないウ
エハ処理装置にウエハを搬送するように、前記ウエハ搬
送部(31a、31b)を制御することを特徴とするウ
エハ処理装置システム。
1. A stage (34a, 34b) for holding a wafer and a wafer cassette (131) capable of accommodating a plurality of wafers during a process such as inspection of the wafer.
a, 131b) to take out the wafer and transport it to the stage (34a, 34b).
a, 31b), and control means (38) for controlling the movement of the stage (34a, 34b) and the wafer transfer section (31a, 31b).
a, 38b), wherein the plurality of combined wafer processing apparatuses are transferred to another wafer processing apparatus by the wafer transfer units (31a, 31b). Positioning means (51) for fixing the wafer processing apparatus so that the wafers can be transferred, and communication means (39) for performing communication between the control means (38a, 38b) of the plurality of wafer processing apparatuses to be combined. The control means (38a, 38b) is configured to control the wafer cassette (131) when the wafer cassette (131a, 131b) is not set in the plurality of wafer processing apparatuses to be combined. 131a,
The wafer transfer unit (31a, 31b) is controlled so as to transfer a wafer from the wafer processing apparatus in which the wafer cassette (131b) is set to a wafer processing apparatus in which the wafer cassette (131a, 131b) is not set. Processing equipment system.
【請求項2】 請求項1に記載のウエハ処理装置システ
ムであって、 前記ウエハカセット(131a、131b)から取り出
されたウエハは、処理後前記ウエハカセット(131
a、131b)に回収され、 前記制御手段(38a、38b)は、前記ウエハカセッ
ト(131a、131b)がセットされないウエハ処理
装置に搬送されたウエハの処理が終了した後は、当該ウ
エハが、前記ウエハカセット(131a、131b)が
セットされないウエハ処理装置から前記ウエハカセット
(131a、131b)がセットされたウエハ処理装置
に搬送され、前記ウエハカセット(131a、131
b)に回収されるように、前記ウエハ搬送部(31a、
31b)を制御するウエハ処理装置システム。
2. The wafer processing system according to claim 1, wherein the wafer taken out of the wafer cassettes (131a, 131b) is processed and then processed by the wafer cassette (131).
a, 131b), and after the processing of the wafer transported to the wafer processing apparatus in which the wafer cassette (131a, 131b) is not set is completed, the control means (38a, 38b) removes the wafer. The wafer cassettes (131a, 131b) are transported from the wafer processing apparatus in which the wafer cassettes (131a, 131b) are not set to the wafer processing apparatus in which the wafer cassettes (131a, 131b) are set.
b) so as to be collected in the wafer transfer section (31a,
31b) a wafer processing apparatus system for controlling
【請求項3】 請求項1又は2に記載のウエハ処理装置
システムであって、組み合わされる前記複数台のウエハ
処理装置は、配置時の隣接面に対して対称の形状を有す
るウエハ処理装置システム。
3. The wafer processing apparatus system according to claim 1, wherein the plurality of wafer processing apparatuses to be combined have a symmetrical shape with respect to an adjacent surface at the time of arrangement.
【請求項4】 請求項1から3のいずれか1項に記載の
ウエハ処理装置システムであって、 隣接する2台のウエハ処理装置の少なくとも一方は、両
方のウエハ処理装置のウエハ搬送部(31a、31b)
がウエハを搬送できる範囲に、前記ウエハ搬送部(31
a、31b)との間でウエハの受渡しができるウエハ保
持手段(40a、40b)を備えるウエハ処理装置シス
テム。
4. The wafer processing apparatus system according to claim 1, wherein at least one of the two adjacent wafer processing apparatuses includes a wafer transfer unit (31a) of both of the wafer processing apparatuses. , 31b)
The wafer transfer section (31)
a, a wafer processing apparatus system including a wafer holding means (40a, 40b) capable of transferring a wafer to and from the wafer processing apparatus.
【請求項5】 請求項4に記載のウエハ処理装置システ
ムであって、 前記ウエハ保持手段(40a、40b)は、前記ウエハ
を上下移動させる上下移動手段を備えるウエハ処理装置
システム。
5. The wafer processing apparatus system according to claim 4, wherein said wafer holding means (40a, 40b) includes a vertical moving means for vertically moving said wafer.
【請求項6】 請求項4又は5に記載のウエハ処理装置
システムであって、 前記ウエハ保持手段(40a、40b)は、前記ウエハ
を回転させる回転手段を備えるウエハ処理装置システ
ム。
6. The wafer processing apparatus system according to claim 4, wherein said wafer holding means (40a, 40b) includes rotation means for rotating said wafer.
【請求項7】 請求項4から6のいずれか1項に記載の
ウエハ処理装置システムであって、 ウエハを渡す側の前記制御手段は、ウエハを受け取る側
の前記制御手段からウエハを受け取る側の前記ウエハ搬
送部を退避させたことが前記通信手段(39)を介して
通知された後に、ウエハを渡す側の前記ウエハ搬送部が
前記ウエハ保持手段にウエハを渡すように制御し、 ウエハを受け取る側の前記制御手段は、ウエハを渡す側
の前記制御手段から前記ウエハ保持手段へのウエハの受
け渡しが終了し且つウエハを渡す側の前記ウエハ搬送部
を退避させたことが前記通信手段を介して通知された後
に、ウエハを受け取る側の前記ウエハ搬送部を前記ウエ
ハ保持手段からウエハを受け取るように制御するウエハ
処理装置システム。
7. The wafer processing system according to claim 4, wherein the control means on the side for transferring the wafer receives the wafer from the control means on the side for receiving the wafer. After being notified via the communication means (39) that the wafer transfer section has been retracted, the wafer transfer section on the side for transferring the wafer is controlled to transfer the wafer to the wafer holding means, and receives the wafer. Via the communication means that the transfer of the wafer from the control means on the wafer transfer side to the wafer holding means has been completed and the wafer transfer unit on the wafer transfer side has been retracted through the communication means A wafer processing apparatus system that controls the wafer transfer unit on the side that receives a wafer to receive a wafer from the wafer holding unit after being notified.
【請求項8】 請求項1から3のいずれか1項に記載の
ウエハ処理装置システムであって、 前記ステージ(34a、34b)は、隣接する他のウエ
ハ処理装置のウエハ搬送部(31a、31b)がウエハ
を搬送できる範囲に移動可能であり、 前記ステージを有するウエハ処理装置の前記制御手段
は、ウエハの受け渡しの間、ウエハ搬送部を前記ステー
ジから離れた位置に退避させるウエハ処理装置システ
ム。
8. The wafer processing apparatus system according to claim 1, wherein the stage (34a, 34b) is a wafer transfer unit (31a, 31b) of another adjacent wafer processing apparatus. ) Is movable within a range in which the wafer can be transferred, and the control means of the wafer processing apparatus having the stage retracts the wafer transfer section to a position away from the stage during transfer of the wafer.
【請求項9】 請求項1から3のいずれか1項に記載の
ウエハ処理装置システムであって、 前記ウエハ搬送部(31a、31b)は上下移動可能
で、隣接する他のウエハ処理装置のウエハ搬送部(31
a、31b)にウエハを搬送できる範囲にあり、隣接す
るウエハ処理装置間でのウエハの受渡しは前記ウエハ搬
送部(31a、31b)間で行われるウエハ処理装置シ
ステム。
9. The wafer processing apparatus system according to claim 1, wherein the wafer transfer section (31a, 31b) is vertically movable and a wafer of another adjacent wafer processing apparatus. Transport unit (31
a, 31b) in a range in which a wafer can be transferred, and transfer of a wafer between adjacent wafer processing apparatuses is performed between the wafer transfer units (31a, 31b).
【請求項10】 ウエハに対する検査等の処理が行われ
る間、ウエハを保持するステージ(34a、34b)
と、 複数枚のウエハが収容可能なウエハカセット(131
a、131b)から前記ウエハを取り出して前記ステー
ジ(34a、34b)に搬送するウエハ搬送部(31
a、31b)と、 前記ステージ(34a、34b)と前記ウエハ搬送部
(31a、31b)の移動を制御する制御手段(38
a、38b)とを備えるウエハ処理装置において、 他のウエハ処理装置と通信するための通信ポート(41
a、41b)を備え、 前記制御手段(38a、38b)は、隣接して配置され
た他のウエハ処理装置と前記通信ポート(41a、41
b)を介して通信しながら、他のウエハ処理装置との間
でウエハを受け渡すように、前記ウエハ搬送部(31
a、31b)を制御することを特徴とするウエハ処理装
置。
10. A stage (34a, 34b) for holding a wafer while processing such as inspection on the wafer is performed.
And a wafer cassette (131) capable of accommodating a plurality of wafers.
a, 131b) to take out the wafer and transport it to the stage (34a, 34b).
a, 31b), and control means (38) for controlling the movement of the stage (34a, 34b) and the wafer transfer section (31a, 31b).
a, 38b), a communication port (41) for communicating with another wafer processing apparatus.
a, 41b), and the control means (38a, 38b) communicates with the communication port (41a, 41b) with another wafer processing apparatus arranged adjacently.
b) so as to transfer a wafer to and from another wafer processing apparatus while communicating via the wafer transfer unit (31).
a, 31b) is controlled.
【請求項11】 請求項10に記載のウエハ処理装置で
あって、 前記ウエハカセット(131a、131b)から取り出
されたウエハは、処理後前記ウエハカセット(131
a、131b)に回収されるウエハ処理装置。
11. The wafer processing apparatus according to claim 10, wherein the wafers taken out of the wafer cassettes (131a, 131b) are processed and the wafer cassettes (131) are processed.
a, 131b).
【請求項12】 請求項10又は11に記載のウエハ処
理装置であって、 他のウエハ処理装置との間でウエハを受け渡すためのウ
エハ保持手段(40a、40b)を、前記ウエハ搬送部
(31a、31b)がウエハを搬送できる範囲に備える
ウエハ処理装置。
12. The wafer processing apparatus according to claim 10, wherein a wafer holding unit (40a, 40b) for transferring a wafer to and from another wafer processing apparatus is provided in the wafer transfer unit (40). 31a) and 31b) are provided in a range in which a wafer can be transferred.
【請求項13】 請求項12に記載のウエハ処理装置で
あって、 前記ウエハ保持手段(40a、40b)は、前記ウエハ
を上下移動させる上下移動手段を備えるウエハ処理装
置。
13. The wafer processing apparatus according to claim 12, wherein the wafer holding means (40a, 40b) includes a vertical movement means for vertically moving the wafer.
【請求項14】 請求項12又は13に記載のウエハ処
理装置であって、 前記ウエハ保持手段(40a、40b)は、前記ウエハ
を回転させる回転手段を備えるウエハ処理装置。
14. The wafer processing apparatus according to claim 12, wherein said wafer holding means (40a, 40b) includes rotation means for rotating said wafer.
【請求項15】 ウエハに対する検査等の処理が行われ
る間ウエハを保持するステージ(34a、34b)と、 複数枚のウエハが収容可能なウエハカセット(131
a、131b)から前記ウエハを取り出して前記ステー
ジ(34a、34b)に搬送するウエハ搬送部(31
a、31b)と、を備えるウエハ処理装置を複数台組み
合わせて使用する時の使用方法であって、 前記ウエハ搬送部(31a、31b)により他のウエハ
処理装置にウエハを受け渡せるように、ウエハ処理装置
を隣接して配置し、 前記ウエハカセット(131a、131b)がセットさ
れないウエハ処理装置がある時には、ウエハカセット
(131a、131b)がセットされたウエハ処理装置
は、前記ウエハカセット(131a、131b)内のウ
エハを当該ウエハ処理装置で処理すると共に、ウエハを
前記ウエハカセットがセットされないウエハ処理装置に
渡すように搬送することを特徴とするウエハ処理装置の
使用方法。
15. A stage (34a, 34b) for holding a wafer while processing such as inspection of the wafer is performed, and a wafer cassette (131) capable of accommodating a plurality of wafers.
a, 131b) to take out the wafer and transport it to the stage (34a, 34b).
a, 31b) when using a plurality of wafer processing apparatuses in combination, wherein the wafer transfer unit (31a, 31b) can transfer the wafer to another wafer processing apparatus. When the processing apparatuses are arranged adjacent to each other, and there is a wafer processing apparatus in which the wafer cassettes (131a, 131b) are not set, the wafer processing apparatus in which the wafer cassettes (131a, 131b) are set is connected to the wafer cassettes (131a, 131b). The method of using a wafer processing apparatus, wherein the wafer in () is processed by the wafer processing apparatus, and the wafer is transferred so as to be transferred to a wafer processing apparatus in which the wafer cassette is not set.
JP29860296A 1996-11-11 1996-11-11 Wafer processing system Expired - Fee Related JP3249056B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29860296A JP3249056B2 (en) 1996-11-11 1996-11-11 Wafer processing system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29860296A JP3249056B2 (en) 1996-11-11 1996-11-11 Wafer processing system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10144761A true JPH10144761A (en) 1998-05-29
JP3249056B2 JP3249056B2 (en) 2002-01-21

Family

ID=17861862

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29860296A Expired - Fee Related JP3249056B2 (en) 1996-11-11 1996-11-11 Wafer processing system

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3249056B2 (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7061182B2 (en) 2001-06-27 2006-06-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Metal halide lamp
JP2007015863A (en) * 1998-03-25 2007-01-25 Hitachi Plant Technologies Ltd Conveyance device and manufacturing method
JP2008182061A (en) * 2007-01-25 2008-08-07 Tokyo Seimitsu Co Ltd Prober
JP2008199008A (en) * 2001-05-21 2008-08-28 Tokyo Electron Ltd Processing apparatus and transfer apparatus
KR101218507B1 (en) 2008-09-17 2013-01-18 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Probe apparatus

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007015863A (en) * 1998-03-25 2007-01-25 Hitachi Plant Technologies Ltd Conveyance device and manufacturing method
JP2008199008A (en) * 2001-05-21 2008-08-28 Tokyo Electron Ltd Processing apparatus and transfer apparatus
JP4668286B2 (en) * 2001-05-21 2011-04-13 東京エレクトロン株式会社 Processing equipment
US7061182B2 (en) 2001-06-27 2006-06-13 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Metal halide lamp
JP2008182061A (en) * 2007-01-25 2008-08-07 Tokyo Seimitsu Co Ltd Prober
KR101218507B1 (en) 2008-09-17 2013-01-18 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Probe apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP3249056B2 (en) 2002-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7701236B2 (en) Each inspection units of a probe apparatus is provided with an imaging unit to take an image of a wafer
US7741837B2 (en) Probe apparatus
TWI442509B (en) Check the device
JP4356915B2 (en) Probe information, probe card channel information creation program, and probe card channel information creation device
EP0552036A1 (en) A probing apparatus having an automatic probe card installation mechanism and a semiconductor wafer testing system including the same
JP4931617B2 (en) Prober
JPH0661318A (en) Semiconductor test device
JP5613333B2 (en) Modular prober and method of operating this prober
KR20090091063A (en) Probe apparatus, probing method, and storage medium
US10082524B2 (en) Prober in which probe head of probe card is replaced automatically
KR20130018580A (en) Wafer transfer device
US7108471B2 (en) Transporting tool for object to be tested, and object-to-be-tested transporting system
JPH08335614A (en) Probe system
JP3249056B2 (en) Wafer processing system
US20070115011A1 (en) Probe apparatus
US11385283B2 (en) Chuck top, inspection apparatus, and chuck top recovery method
JPH0417347A (en) Probe device
JPH0737941A (en) Probe device
JP3169900B2 (en) Prober
JPH0669296A (en) Testing apparatus
JPH1167854A (en) Wafer prober
US20200088828A1 (en) Wafer testing apparatus and method of diagnosing wafer testing apparatus
JP2000124274A (en) Prober
US6433566B1 (en) Probing method and probing system
JPH09199553A (en) Probing

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees