JPH10144601A - Command value determining method and stage device - Google Patents

Command value determining method and stage device

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JPH10144601A
JPH10144601A JP31865496A JP31865496A JPH10144601A JP H10144601 A JPH10144601 A JP H10144601A JP 31865496 A JP31865496 A JP 31865496A JP 31865496 A JP31865496 A JP 31865496A JP H10144601 A JPH10144601 A JP H10144601A
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JP
Japan
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stage
command value
surface plate
vibration
isolation table
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Application number
JP31865496A
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Japanese (ja)
Inventor
Akimitsu Ebihara
明光 蛯原
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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    • GPHYSICS
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    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the swing of a vibration-isolation table by a method wherein a command value to a stage is so determined as to have the swing of the vibration- isolation table at least in one direction among a direction of the stage movement of the vibration-isolation table and a direction opposite to that direction immediately after the transfer start accelerated and have the swing speed zero at the initial position immediately after the acceleration. SOLUTION: When a large thrust command value is given to the driving part 18 of a linear motor when the transfer of a stage 16 is started, a surface plate (vibration- isolation table) 14 is displaced in a direction opposite to the transfer direction of the stage 16 by the counter force against the thrust of the stage 16. After that, the thrust command value is once turned to be zero and, immediately before or after the movement direction of the surface plate 14 is reversed in the same transfer direction of the stage 16, a negative thrust which reduces the acceleration of the stage 16 is applied to the driving part 18. In this case, the swing in a positive direction which is the same as in the direction of the stage 16 is accelerated by the negative thrust and the surface plate 14 is returned to the initial position quickly. With this constitution, the swing of the surface plate 14 can be reduced and the relative displacement between the stage 16 and the surface plate 14 can be reduced, so that the high precision positioning can be realized.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、指令値の決定方法
及びステージ装置に係り、さらに詳しくは、ステージの
位置決め(あるいは定速度制御)の際の整定期間におけ
るステージと除振台との相対位置(あるいは速度)変化
が低減されるようなステージに対する指令値の決定方
法、及びこの決定方法により予め決定された指令値をス
テージの駆動手段に出力してステージを制御するステー
ジ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for determining a command value and a stage apparatus, and more particularly, to a relative position between a stage and a vibration isolation table during a settling period when the stage is positioned (or at constant speed control). The present invention relates to a method for determining a command value for a stage in which a change in (or speed) is reduced, and a stage device for controlling a stage by outputting a command value determined in advance by the determining method to a driving means of the stage.

【0002】[0002]

【従来の技術】ステップ・アンド・リピート方式の縮小
投影型露光装置、即ちいわゆるステッパ等の精密機器の
高精度化に伴い、設置床から定盤(除振台)に作用する
微振動をマイクロGレベルで絶縁する必要が生じてい
る。従来のこの種の装置における除振台を支持する除振
パッドとしてはダンピング液中に圧縮コイルバネを入れ
た機械式ダンパや空気式ダンパ等種々のものが使用さ
れ、除振パッド自体がある程度のセンタリング機能を備
えている。
2. Description of the Related Art With the advancement of precision equipment such as a step-and-repeat type reduction projection type exposure apparatus, that is, a so-called stepper, a micro-vibration acting on a surface plate (anti-vibration table) from an installation floor is micro-G. There is a need for isolation at the level. Various types of vibration-damping pads for supporting the vibration-isolation table in this type of conventional device, such as a mechanical damper containing a compression coil spring in a damping liquid and a pneumatic damper, are used. Has functions.

【0003】従来のステッパ等の精密機器に用いられる
ステージ装置は、図8に示されるような構造であった。
この図8において、除振パッド82によって水平に支え
られた定盤(除振台)84上には、当該定盤84上を所
定方向(図8における紙面左右方向)に移動可能なステ
ージ86が搭載されている。このステージ86上には保
持部材88を介して基板状の試料90が載置されてお
り、ステージ86は送りねじ92を介してモータ94に
よって駆動されるようになっている。ステージ86の位
置は、移動鏡96を介してレーザ干渉計98により計測
されており、制御装置100では、このレーザ干渉計9
8の計測値をモニタしつつモータ94の回転を制御する
ことによりステージ86の位置を制御していた。
A conventional stage apparatus used for precision equipment such as a stepper has a structure as shown in FIG.
In FIG. 8, on a surface plate (vibration isolation table) 84 horizontally supported by a vibration isolation pad 82, a stage 86 that can move on the surface plate 84 in a predetermined direction (the left-right direction in FIG. 8). It is installed. A substrate 90 is placed on the stage 86 via a holding member 88, and the stage 86 is driven by a motor 94 via a feed screw 92. The position of the stage 86 is measured by a laser interferometer 98 via a movable mirror 96, and the control device 100 controls the laser interferometer 9
The position of the stage 86 has been controlled by controlling the rotation of the motor 94 while monitoring the measurement value of No. 8.

【0004】また、特にステッパ等の半導体露光装置の
場合、集積回路の高密度化によるパターン線幅のますま
すの微細化に伴い、より高精度なステージの位置制御の
ため、最近ではエア・ベアリングとリニアモータを用い
たステージ装置も用いられるようになってきた。
In the case of a semiconductor exposure apparatus such as a stepper, especially, as the line width of a pattern becomes finer due to an increase in the density of an integrated circuit, the position of the stage is controlled with higher precision. A stage device using a linear motor has also been used.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のステージ装置においては、除振パッド82の機
能により設置床から定盤84に作用する振動は防げる
が、ステージ86が例えば紙面左側に移動したとき右向
きの反力が定盤84に作用し、除振パッド82が圧縮、
伸張を受け、定盤84ひいてはこの定盤84の一端部に
取り付けられたレーザ干渉計98を揺動させることにな
る。この揺動はステージ86とレーザ干渉計98の間の
距離に変化をもたらす外乱として働き、ステージ86の
位置決め性能を悪化させる。
However, in the above-described conventional stage device, the vibration acting on the surface plate 84 from the installation floor can be prevented by the function of the vibration isolating pad 82, but the stage 86 is moved to the left side of the drawing, for example. When the rightward reaction force acts on the surface plate 84, the vibration isolating pad 82 is compressed,
In response to the extension, the platen 84 and the laser interferometer 98 attached to one end of the platen 84 are swung. This swing acts as a disturbance that changes the distance between the stage 86 and the laser interferometer 98, and deteriorates the positioning performance of the stage 86.

【0006】かかる不都合を改善すべく、最近では、変
位センサ、加速度センサ等の出力に基づいてアクチュエ
ータを駆動することにより、定盤の振動を積極的にキャ
ンセルしようとするアクティブ除振装置も種々開発され
ている。しかしながら、このアクティブ除振装置により
ステージの移動による定盤の揺動の影響を低減するため
には、上記変位センサ、加速度センサ、アクチュエータ
等の構成要素を付加しなければならず、その分装置構成
が複雑になるとともに制御系が複雑になるという不都合
があった。
In order to improve such disadvantages, recently, various active vibration isolators for actively canceling the vibration of the surface plate by driving an actuator based on the output of a displacement sensor, an acceleration sensor or the like have been developed. Have been. However, in order to reduce the influence of the movement of the stage by the swing of the surface plate by the active vibration isolator, the above-described components such as the displacement sensor, the acceleration sensor, and the actuator must be added. And the control system becomes complicated.

【0007】ところで、ステージの移動に伴う上記定盤
(除振台)の揺動は、上述した送りねじとモータとを用
いてステージを駆動する装置より、エア・ベアリングと
リニアモータとを用いてステージを駆動する装置の方が
大きくなる。これは、リニアモータによる場合は、ステ
ージと定盤との間に機械的結合がなく、より大きな反力
が定盤に作用するからである。
By the way, the rocking of the surface plate (anti-vibration table) accompanying the movement of the stage is performed by using an air bearing and a linear motor by a device for driving the stage using the above-described feed screw and motor. The device for driving the stage is larger. This is because in the case of the linear motor, there is no mechanical connection between the stage and the surface plate, and a larger reaction force acts on the surface plate.

【0008】図9(A)には、従来のステージ装置にお
いて、リニアモータ駆動部に与えられる指令値の一例が
示されている。この図に示される如く、指令値はステー
ジが最終位置決め期間(整定期間)に振動的にならない
ように、滑らかな曲線となるように設定されていた。図
9(B)にはこの時の定盤の変位の時間的変化(揺動)
の一例が示されている。
FIG. 9A shows an example of a command value given to a linear motor driving section in a conventional stage device. As shown in this figure, the command value is set to have a smooth curve so that the stage does not vibrate during the final positioning period (settling period). FIG. 9 (B) shows a temporal change (oscillation) of the displacement of the surface plate at this time.
An example is shown.

【0009】この図9(B)に示されるような定盤の揺
動はステージとレーザ干渉計との間の距離に変化をもた
らす外乱として働き、ステージの位置決め性能を悪化さ
せる。この図9(B)の場合、定盤は最大約90μm変
位しているが、現在のステッパ等のステージに求められ
る位置決め精度は、ナノメータ(nm)のオーダーであ
り、90000nmの定盤の変位は位置決め性能に大き
く影響することは明らかである。
The swing of the surface plate as shown in FIG. 9B acts as a disturbance that changes the distance between the stage and the laser interferometer, thereby deteriorating the positioning performance of the stage. In the case of FIG. 9B, the platen is displaced at a maximum of about 90 μm, but the positioning accuracy required for a stage such as a current stepper is on the order of nanometers (nm), and the displacement of the platen at 90000 nm is Obviously, this greatly affects the positioning performance.

【0010】さらに、ステージが高加速度で移動すると
きその反力はさらに大きくなるため、揺動もさらに大き
くなり外乱が増し、位置決め性能はさらに悪化する。
Further, when the stage moves at a high acceleration, the reaction force is further increased, so that the swing is further increased, the disturbance is increased, and the positioning performance is further deteriorated.

【0011】本発明は、かかる事情の下になされたもの
で、ステージを高加速度で移動させる際の定盤(除振
台)の揺動を減少させることができるステージに対する
指令値の決定方法を提供することにある。
The present invention has been made under such circumstances, and a method of determining a command value for a stage capable of reducing the swing of a surface plate (anti-vibration table) when the stage is moved at high acceleration. To provide.

【0012】また、本発明の別の目的は、装置構成の複
雑化を招くことがないとともに、高速、高精度にステー
ジを位置決めすることができるステージ装置を提供する
ことにある。
Another object of the present invention is to provide a stage device which can position a stage at high speed and with high accuracy without complicating the structure of the device.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、除振台(14)上で移動するステージ(16)に対
する指令値の決定方法であって、前記ステージ(16)
及び除振台(14)を含む装置本体の振動周期を考慮し
て、前記ステージ(16)の移動開始直後の除振台(1
4)の前記ステージ運動方向及びその反対方向の少なく
とも一方の方向の除振台(14)の揺動が加速され、そ
の直後に前記除振台(14)の初期位置でその揺動速度
が零となるように前記ステージに対する指令値を決定す
ることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for determining a command value for a stage (16) moving on an anti-vibration table (14).
The vibration isolation table (1) immediately after the start of the movement of the stage (16) in consideration of the vibration cycle of the apparatus main body including the vibration isolation table (14).
4) The vibration of the vibration isolation table (14) in at least one of the direction of the stage movement and the opposite direction is accelerated, and immediately after that, the vibration velocity becomes zero at the initial position of the vibration isolation table (14). A command value for the stage is determined such that

【0014】この決定方法によって決定された指令値に
基づいてステージ(16)の移動が制御されると、ステ
ージ(16)の移動開始時は、ステージ(16)に作用
する推力の反力により、除振台(14)がステージ(1
6)と反対方向に揺動し、この直後に除振台(14)は
前と反対方向(すなわち、ステージ移動方向)に揺動す
るが、これらのいずれかの揺動方向の除振台(14)の
揺動が加速され、これにより、除振台(14)は従来例
の場合より早く初期位置へ戻る。その直後に除振台(1
4)の初期位置でその揺動速度が零となる。このため、
除振台(14)は半周期又は1周期分の揺動後に直ちに
停止し、しかも初期位置へは従来より早く戻るので、ス
テージ(16)を高加速度で移動させる際にも除振台
(14)の揺動を減少させることができる。
When the movement of the stage (16) is controlled based on the command value determined by this determination method, when the movement of the stage (16) starts, the reaction force of the thrust acting on the stage (16) causes The vibration isolation table (14) is mounted on the stage (1
6). Immediately after this, the anti-vibration table (14) swings in the opposite direction (i.e., stage moving direction). The swing of (14) is accelerated, whereby the anti-vibration table (14) returns to the initial position earlier than in the conventional example. Immediately after that, the anti-vibration table (1
The swing speed becomes zero at the initial position of 4). For this reason,
The anti-vibration table (14) stops immediately after swinging for half or one cycle, and returns to the initial position earlier than before, so that the anti-vibration table (14) can be moved even when the stage (16) is moved at high acceleration. ) Can be reduced.

【0015】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の指令値の決定方法において、前記除振台(14)の揺
動速度が零になったときに指令値の加速度成分が零にな
るように前記ステージに対する指令値を決定することを
特徴とする。これによれば、除振台(14)の揺動速度
が零になったときに指令値の加速度成分が零になるよう
にステージに対する指令値が決定されることから、この
指令値に基づいてステージ(16)の移動を制御した場
合、位置決め後又は目標速度へ設定後のその状態を保持
するためのステージ(16)のサーボ制御が不要とな
る。
According to a second aspect of the present invention, in the method for determining a command value according to the first aspect, the acceleration component of the command value becomes zero when the swing speed of the vibration isolation table (14) becomes zero. A command value for the stage is determined so that According to this, the command value for the stage is determined so that the acceleration component of the command value becomes zero when the swing speed of the vibration isolation table (14) becomes zero. When the movement of the stage (16) is controlled, servo control of the stage (16) for maintaining the state after positioning or after setting to the target speed becomes unnecessary.

【0016】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の指令値の決定方法において、前記除振台(14)の揺
動速度が零になるまでの指令値の加速度成分を時間積分
すると目標速度になるように前記ステージに対する指令
値を決定することを特徴とする。これによれば、除振台
(14)の揺動速度が零になるまでの指令値の加速度成
分を時間積分すると目標速度になるようにステージ(1
6)に対する指令値が決定されることから、推力の指令
が停止した時点で確実に目標速度に設定することができ
る。
According to a third aspect of the present invention, in the method of determining a command value according to the second aspect, the acceleration component of the command value until the swing speed of the vibration isolation table (14) becomes zero is integrated with time. Then, a command value for the stage is determined so as to reach the target speed. According to this, when the acceleration component of the command value until the swing speed of the vibration isolation table (14) becomes zero is integrated with time, the stage (1
Since the command value for 6) is determined, the target speed can be reliably set at the time when the thrust command is stopped.

【0017】請求項4に記載の発明に係るステージ装置
は、除振パッド(12)を介して水平に保持された除振
台(14)上を所定の移動方向に移動可能なステージ
(16)と;前記ステージ(16)の位置を計測する位
置計測手段(28)と;前記ステージ(16)を駆動す
る駆動手段(18〜19)と;前記位置計測手段(2
8)の計測値と目標値とに基づいて前記駆動手段を制御
するとともに、請求項1ないし3のいずれかの決定方法
により予め決定された指令値を前記駆動手段に出力する
制御手段(20)とを有する。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a stage (16) movable in a predetermined moving direction on a vibration isolation table (14) horizontally held via a vibration isolation pad (12). Position measuring means (28) for measuring the position of the stage (16); driving means (18 to 19) for driving the stage (16); and the position measuring means (2).
Control means (20) for controlling the driving means based on the measured value and the target value of (8), and outputting a command value predetermined by the determining method according to any one of claims 1 to 3 to the driving means. And

【0018】これによれば、制御手段(20)から駆動
手段(18〜19)に、請求項1ないし3のいずれかの
決定方法により予め決定された指令値が出力され、ステ
ージ(16)の移動が制御されることから、請求項1に
記載の発明と同様に、ステージ(16)を高加速度で移
動させる際にも除振台(14)の揺動を減少させること
ができ、また、アクティブ除振装置等を新たに設ける必
要はない。従って、装置構成の複雑化を招くことがない
とともに、高速、高精度にステージを位置決めすること
ができる。
According to this, the control means (20) outputs to the driving means (18 to 19) a command value determined in advance by the determining method according to any one of claims 1 to 3, and outputs the command value of the stage (16). Since the movement is controlled, the swing of the vibration isolation table (14) can be reduced even when the stage (16) is moved at high acceleration, similarly to the first aspect of the invention. It is not necessary to newly provide an active vibration isolator or the like. Therefore, the stage can be positioned with high speed and high accuracy without complicating the device configuration.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

《第1の実施形態》以下、本発明の第1の実施形態を図
1ないし図5に基づいて説明する。
<< First Embodiment >> A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.

【0020】図1には、第1の実施形態に係るステージ
装置10の構成が概略的に示されている。このステージ
装置10は、複数(ここでは4つ)の除振パッド12を
介して水平に保持された除振台としての定盤14上で静
圧流体軸受け15によって支持され、所定の移動方向
(図1における紙面左右方向)に移動可能なステージ1
6と、このステージ16をリニアモータ19(図1では
図示せず、図2参照)を介して駆動するリニアモータ駆
動部18と、このリニアモータ駆動部18を制御する制
御手段としての制御装置20とを備えている。本実施形
態では、リニアモータ駆動部18とリニアモータ19と
によって駆動手段が構成されている。
FIG. 1 schematically shows the configuration of a stage apparatus 10 according to the first embodiment. The stage device 10 is supported by a hydrostatic bearing 15 on a surface plate 14 as a vibration isolation table which is horizontally held through a plurality of (four in this example) vibration isolation pads 12 and moves in a predetermined moving direction ( Stage 1 that can move in the horizontal direction on the paper of FIG. 1)
6, a linear motor drive unit 18 for driving the stage 16 via a linear motor 19 (not shown in FIG. 1, see FIG. 2), and a control device 20 as control means for controlling the linear motor drive unit 18. And In the present embodiment, a driving unit is configured by the linear motor driving unit 18 and the linear motor 19.

【0021】除振パッド12としては、ここでは機械式
ダンパが用いられている。ステージ16上には保持部材
(例えば、ウエハホルダ)22を介して試料(例えばウ
エハ等の基板)24が吸着保持されている。ステージ1
6の一端部(図1における左端部)上面には、移動方向
に直交する方向(図1における紙面直交方向)の反射面
を有する移動鏡26が設けられており、この移動鏡26
に対向して定盤14の一端部上面の延設部14aの上面
には、位置計測手段としてのレーザ干渉計28が固定さ
れている。このレーザ干渉計28は、移動鏡26にレー
ザビームを照射し、その反射光を受光して例えば0.0
1μmの分解能でステージ16の位置を計測する。
As the vibration damping pad 12, a mechanical damper is used here. A sample (eg, a substrate such as a wafer) 24 is suction-held on a stage 16 via a holding member (eg, a wafer holder) 22. Stage 1
A movable mirror 26 having a reflecting surface in a direction perpendicular to the moving direction (a direction perpendicular to the plane of FIG. 1) is provided on the upper surface of one end (the left end in FIG. 1) of the movable mirror 6.
A laser interferometer 28 as a position measuring means is fixed to the upper surface of the extending portion 14a on the upper surface of one end of the surface plate 14 in opposition to the above. The laser interferometer 28 irradiates the movable mirror 26 with a laser beam, receives the reflected light, and
The position of the stage 16 is measured with a resolution of 1 μm.

【0022】レーザ干渉計28の計測値は制御装置20
に供給されており、この制御装置20ではレーザ干渉計
28の計測値に基づいてリニアモータ駆動部18を介し
てリニアモータ19を制御することにより、ステージ1
6上の試料24を目標位置へ位置決めする。この際に、
制御装置20では後述するような指令値をリニアモータ
駆動部18に与えるようになっている。
The measured value of the laser interferometer 28 is
The control device 20 controls the linear motor 19 via the linear motor drive unit 18 based on the measurement value of the laser interferometer 28, thereby
6 is positioned at the target position. At this time,
The control device 20 gives a command value to be described later to the linear motor driving unit 18.

【0023】図2には、ステージ装置10の位置制御系
の構成が模式的に示されている。ここで、この図2を用
いてステージ16の位置決め時の制御系動作を説明す
る。
FIG. 2 schematically shows a configuration of a position control system of the stage device 10. Here, a control system operation at the time of positioning the stage 16 will be described with reference to FIG.

【0024】制御装置20は、不図示のメインコンピュ
ータからの目標位置の指令とレーザ干渉計28で計測さ
れたステージ16の現在位置とに基づいて、ステージの
移動距離(又はステッピング距離)を演算し、この演算
結果に基づいて後述する本発明に係る指令値の決定方法
により予め決定された指令値をリニアモータ駆動部18
に出力する。リニアモータ駆動部18ではこの指令値に
基づいてリニアモータ19を駆動する。これにより、リ
ニアモータ19の推力によってステージ16が移動す
る。
The controller 20 calculates the moving distance (or stepping distance) of the stage based on a target position command from a main computer (not shown) and the current position of the stage 16 measured by the laser interferometer 28. A command value determined in advance by a method for determining a command value according to the present invention, which will be described later, based on the calculation result,
Output to The linear motor drive unit 18 drives the linear motor 19 based on the command value. Thus, the stage 16 is moved by the thrust of the linear motor 19.

【0025】このようにして、指令値に従ってリニアモ
ータ駆動部18によってリニアモータ19を介してステ
ージ16の移動が行われ、ステージ16が目標位置に達
すると、レーザ干渉計28の計測位置と目標位置とが一
致するが、本実施形態の場合、この直後に後述するよう
に推力指令値が零となるとともに定盤14の変位が零に
なって、ステージ16がその位置で速やかに位置決めさ
れる(図5(A)〜(C)参照)。
In this way, the stage 16 is moved by the linear motor drive unit 18 via the linear motor 19 in accordance with the command value. When the stage 16 reaches the target position, the measurement position of the laser interferometer 28 and the target position However, in the case of the present embodiment, immediately after this, the thrust command value becomes zero and the displacement of the surface plate 14 becomes zero as described later, and the stage 16 is quickly positioned at that position ( (See FIGS. 5A to 5C).

【0026】図3には、本実施形態に係るステージ装置
10において、ステージ16を22mmステップ移動さ
せる際に用いられる本発明に係る指令値の決定方法によ
って決定された推力指令値の一例が示され、また、図4
には、制御装置20からリニアモータ駆動部18にこの
推力指令値が出力された際の定盤14の変位の時間変化
が示されている。ここで、これらの図を用いて、ステー
ジ16の運動と定盤14の運動との関係について説明す
る。
FIG. 3 shows an example of the thrust command value determined by the command value determining method according to the present invention used when the stage 16 is moved by 22 mm in the stage apparatus 10 according to the present embodiment. And FIG.
3 shows the time change of the displacement of the surface plate 14 when the thrust command value is output from the control device 20 to the linear motor drive unit 18. Here, the relationship between the movement of the stage 16 and the movement of the base 14 will be described with reference to these figures.

【0027】ステージ16の運動開始時に、図3中の符
号Aで示されるような大きな推力指令値がリニアモータ
駆動部18に与えられると、ステージ16の推力の反力
により定盤14はステージ16の運動方向と逆方向に変
位する。その後、一旦、推力指令値が零になり、定盤1
4の運動方向が反転してステージ16と同じ方向になる
直前又は直後に、ステージ16の加速度を減少させるよ
うな図3中の符号Bで示されるような負の推力がリニア
モータ駆動部18に与えられる。ここで、ステージ16
が負の推力を持つということは、定盤14に対してステ
ージ16の運動方向と同じ向きの力を加えることに他な
らない。この場合、定盤14は除振パッド12によって
減衰することなく、図4中の符号D部分のように、ステ
ージ16と同じ正の方向に向かって揺動するが、この揺
動が上記負の推力により加速され、定盤14は初期位置
に早く戻る。ここで、この定盤14が初期位置に戻った
時点では、推力指令値は零に戻っている(図3参照)。
At the start of the movement of the stage 16, when a large thrust command value as indicated by the symbol A in FIG. 3 is given to the linear motor driving unit 18, the platen 14 is moved by the reaction force of the thrust of the stage 16. Is displaced in the direction opposite to the direction of movement. Thereafter, the thrust command value once becomes zero, and the platen 1
Immediately before or immediately after the movement direction of the stage 4 is reversed to become the same direction as the stage 16, a negative thrust as shown by a symbol B in FIG. Given. Here, stage 16
Has a negative thrust means that a force in the same direction as the movement direction of the stage 16 is applied to the surface plate 14. In this case, the platen 14 swings in the same positive direction as the stage 16 as indicated by the reference numeral D in FIG. 4 without being attenuated by the vibration isolation pad 12, but this swing is negative. The platen 14 is accelerated by the thrust, and quickly returns to the initial position. Here, when the base 14 returns to the initial position, the thrust command value has returned to zero (see FIG. 3).

【0028】次に、定盤14が正方向に向かって正方向
の最大振幅点(図4中の符号イ)まで揺動を続け、その
後揺動の向きが負方向になる。この定盤14の負の方向
の揺動開始から約4分の1周期弱経過した時に、定盤1
4の負の方向の揺動を相殺するような図3中の符号Cで
示される推力指令値をステージ16に与えると、定盤1
4が丁度初期位置(図4中の符号ロ)に戻ってきたとき
に、その揺動速度が零となって、定盤14は初期位置ロ
で静止する。
Next, the platen 14 continues swinging in the positive direction until the maximum amplitude point in the positive direction (indicated by a in FIG. 4), and thereafter the direction of the swing becomes the negative direction. When about a quarter cycle has passed from the start of the swing of the surface plate 14 in the negative direction, the surface plate 1
When a thrust command value indicated by reference symbol C in FIG.
When 4 just returns to the initial position (reference numeral b in FIG. 4), its swing speed becomes zero, and the base 14 stops at the initial position b.

【0029】そこで、本実施形態では、予め、図3に示
されるような推力の指令値、すなわちステージ16の
運動開始時には大きな推力指令値(A)である、定盤
14の運動方向が反転してステージ16と同じ方向にな
る直前又は直後には負の推力指令値(B)である、定
盤14が初期位置に戻った時点では零である、定盤1
4が正方向の最大振幅点を過ぎて、負の方向の揺動を開
始し、最大振幅点イから約4分の1周期弱経過した時に
は、定盤14の負の方向の揺動を相殺するような推力指
令値である、の4つの要件を満足するような推力指令値
の関数を、予めシミュレーションにより求め、制御装置
20内のメモリに格納している。
Therefore, in the present embodiment, the direction of movement of the surface plate 14, which is a thrust command value as shown in FIG. 3, ie, a large thrust command value (A) at the start of the movement of the stage 16, is reversed in advance. The platen 1 is a negative thrust command value (B) immediately before or immediately after the same direction as the stage 16. The platen 1 is zero when the platen 14 returns to the initial position.
4 starts the swing in the negative direction after passing the maximum amplitude point in the positive direction, and cancels the swing in the negative direction of the platen 14 when less than about a quarter period has passed from the maximum amplitude point a. A function of the thrust command value that satisfies the four requirements of the thrust command value is obtained by simulation in advance and stored in the memory in the control device 20.

【0030】そして、実際のステージ16の位置決めの
際には、制御装置20では、ステッピング距離に応じ
て、推力指令値(A)、(B)の大きさを調整した推力
指令値をリニアモータ駆動部18に出力し、前記の如く
して、ステージ16が静止したときステージ16を、目
標位置に正確に位置決めするようになっている。
At the time of actual positioning of the stage 16, the controller 20 outputs the thrust command values obtained by adjusting the magnitudes of the thrust command values (A) and (B) in accordance with the stepping distance. The data is output to the unit 18 and, as described above, the stage 16 is accurately positioned at the target position when the stage 16 comes to a standstill.

【0031】図5(A)〜(C)には、上記の推力指令
値、そのときのステージ16と定盤14の相対変位、定
盤14の変位が、前述した従来例の場合と対比してそれ
ぞれ示されている。これらの図において、実線は本実施
形態の場合を示し、点線は従来例の場合を示す。これら
の図からも明かなように、本発明に係る指令値の決定方
法によって決定された推力指令値を用いた方が定盤14
の揺動が小さくなり、整定期間におけるステージ16と
定盤14との相対変位が小さくなっている。
FIGS. 5A to 5C show the above-described thrust command values, the relative displacement of the stage 16 and the surface plate 14 at that time, and the displacement of the surface plate 14 in comparison with the case of the above-described conventional example. Respectively. In these figures, solid lines indicate the case of the present embodiment, and dotted lines indicate the case of the conventional example. As is clear from these figures, it is better to use the thrust command value determined by the command value determination method according to the present invention.
And the relative displacement between the stage 16 and the surface plate 14 during the settling period is reduced.

【0032】以上説明したように、本実施形態による
と、ステージ16の移動開始時は、ステージ16に作用
する推力の反力により、定盤14がステージ16と反対
方向に揺動するが、その直後に定盤14は前と反対方向
(すなわち、ステージ16移動方向)に揺動し始めたと
き加速され、これにより、定盤14は前述した従来例の
場合(図5(C)点線参照)より初期位置に早く戻る
(図5(C)実線参照)。次いで、定盤14が反対方向
に揺動する際に初期位置でその揺動速度が零となって、
定盤14の揺動が停止する。このため、定盤14は1周
期分(1往復)の揺動後に直ちに停止し、しかもステー
ジ16移動方向への揺動の際には、初期位置に早く戻る
ので、ステージ16を高加速度で移動させる際にも定盤
14の揺動を減少させることができる。従って、ステー
ジ16が定盤14の揺動を大きくすることがないのでス
テージ16に対する外乱を減らすことができ高速、高精
度の位置決めが可能になる。
As described above, according to the present embodiment, when the stage 16 starts to move, the platen 14 swings in the opposite direction to the stage 16 due to the reaction force of the thrust acting on the stage 16. Immediately after, the surface plate 14 is accelerated when it starts swinging in the opposite direction (that is, the moving direction of the stage 16), whereby the surface plate 14 is in the case of the above-described conventional example (see the dotted line in FIG. 5C). It returns to the initial position earlier (see the solid line in FIG. 5C). Next, when the surface plate 14 swings in the opposite direction, its swing speed becomes zero at the initial position,
The swing of the surface plate 14 stops. For this reason, the platen 14 immediately stops after swinging for one cycle (one reciprocation), and when swinging in the moving direction of the stage 16, returns to the initial position quickly, so that the stage 16 is moved at high acceleration. The swing of the surface plate 14 can also be reduced when performing this operation. Accordingly, since the stage 16 does not increase the swing of the surface plate 14, disturbance to the stage 16 can be reduced, and high-speed, high-precision positioning can be performed.

【0033】《第2の実施形態》次に、本発明の第2の
実施形態を図6ないし図7に基づいて説明する。ここ
で、前述した第1の実施形態の装置と同一の構成部分に
ついては、同一の符号を用いるとともに、その説明を省
略するものとする。
<< Second Embodiment >> Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. Here, the same components as those of the device of the above-described first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

【0034】図6には、本第2の実施形態に係るステー
ジ16装置の速度制御系の構成が模式的に示されてい
る。この速度制御系は、前述した図2の位置制御系にお
いて、レーザ干渉計28と制御装置20との間に、レー
ザ干渉計28の計測値(位置)を微分する微分回路30
が挿入されている点に特徴を有する。その他の部分の構
成は、図2の位置制御系と同様であり、また、ステージ
装置そのものの構成は第1の実施形態の装置と同一にな
っている。
FIG. 6 schematically shows a configuration of a speed control system of the stage 16 device according to the second embodiment. This speed control system is a differentiating circuit 30 for differentiating the measured value (position) of the laser interferometer 28 between the laser interferometer 28 and the controller 20 in the position control system of FIG.
Is characterized by the fact that is inserted. The configuration of the other parts is the same as that of the position control system of FIG. 2, and the configuration of the stage device itself is the same as the device of the first embodiment.

【0035】ここで、この図6を用いてステージ16の
位置決め時の制御系の動作を説明する。
Here, the operation of the control system at the time of positioning the stage 16 will be described with reference to FIG.

【0036】制御装置20は、不図示のメインコンピュ
ータからの目標速度の指令とレーザ干渉計28で計測さ
れたステージ16の現在位置の情報を微分して得られる
微分回路30からの速度情報とに基づいて、ステージ1
6の移動速度を演算し、この演算結果に基づいて後述す
る推力指令値をリニアモータ駆動部18に出力する。リ
ニアモータ駆動部18ではこの指令値に基づいてリニア
モータ19を駆動する。これにより、リニアモータ19
の推力によってステージ16が移動する。
The controller 20 converts a target speed command from a main computer (not shown) into speed information from a differentiation circuit 30 obtained by differentiating information on the current position of the stage 16 measured by the laser interferometer 28. Stage 1 based on
6 is calculated, and a thrust command value described later is output to the linear motor drive unit 18 based on the calculation result. The linear motor drive unit 18 drives the linear motor 19 based on the command value. Thereby, the linear motor 19
The stage 16 is moved by the thrust.

【0037】このようにして、指令値に従ってリニアモ
ータ駆動部18によってリニアモータ19を介してステ
ージ16の移動が行われ、ステージ16が目標速度に達
すると、レーザ干渉計28の計測速度と目標速度とが一
致するが、本実施形態の場合、この直後に後述するよう
に推力指令値が零となるとともに定盤14の変位が零に
なって、ステージ16がその速度で保たれる(図7
(A)〜(C)参照)。
In this way, the stage 16 is moved by the linear motor drive unit 18 via the linear motor 19 according to the command value. When the stage 16 reaches the target speed, the measurement speed of the laser interferometer 28 and the target speed However, in the case of the present embodiment, immediately after this, the thrust command value becomes zero and the displacement of the surface plate 14 becomes zero as described later, and the stage 16 is maintained at that speed (FIG. 7).
(A) to (C)).

【0038】図7(A)には、本実施形態に係るステー
ジ装置において、ステージ16を400mm/secで
等速移動させる際に用いられる本発明に係る指令値の決
定方法によって決定された指令値の一例が示され、ま
た、図7(B)には、制御装置20からリニアモータ駆
動部18にこの推力指令値が出力された際のステージ1
6と定盤14の相対変位が示され、図7(C)には定盤
14の変位の時間変化が示されている。これらの図で
は、従来例の場合が対比のために示されている。これら
の図において、実線は本実施形態の場合を示し、点線は
従来例の場合を示す。
FIG. 7A shows a command value determined by the command value determining method according to the present invention used when the stage 16 is moved at a constant speed of 400 mm / sec in the stage apparatus according to the present embodiment. FIG. 7B shows the stage 1 when the thrust command value is output from the control device 20 to the linear motor drive unit 18.
6 shows the relative displacement between the platen 6 and the platen 14, and FIG. 7C shows the time change of the displacement of the platen 14. In these figures, the case of the conventional example is shown for comparison. In these figures, solid lines indicate the case of the present embodiment, and dotted lines indicate the case of the conventional example.

【0039】図7(A)に示される推力指令値は、前述
した第1の実施形態の場合と同様に、ステージ16及び
定盤14を含む装置本体の振動周期を考慮して、ステー
ジ16の移動開始直後の定盤14のステージ運動方向及
びその反対方向の少なくとも一方の方向の定盤14の揺
動が加速され、その直後に定盤14の初期位置でその揺
動速度が零となるよう予め決定されたものである。ま
た、この推力指令値は、時間積分(斜線部の面積)が目
標速度400(mm/sec)に一致するように定めら
れている。
The thrust command value shown in FIG. 7A is, as in the case of the above-described first embodiment, taken into consideration of the vibration cycle of the main body including the stage 16 and the surface plate 14, and Immediately after the start of the movement, the swing of the surface plate 14 in at least one of the direction of the stage movement of the surface plate 14 and the opposite direction is accelerated, and immediately thereafter, the oscillation speed becomes zero at the initial position of the surface plate 14. It is determined in advance. The thrust command value is determined so that the time integral (the area of the hatched portion) matches the target speed 400 (mm / sec).

【0040】この図7から明らかなように、本発明に係
る決定方法により決定された推力指令値を用いた方が定
盤14の揺動が小さくなり(図7(C)参照)、等速度
に到るまでの整定期間におけるステージ16と定盤14
との相対速度の変化が小さくなっている(図7(B)参
照)。従って、ステージ16に対する外乱を減らすこと
ができ、従来に比べて整定時間の短い速やかな定速度制
御を実現することができる。また、推力指令値は、時間
積分が目標速度に一致するように定められていることか
ら、推力の指令が停止した時点で確実に目標速度に設定
することができるという利点もある。本実施形態の定速
度制御は、マスクと感光基板を投影光学系に対して同期
して走査しつつ、マスクのパターンを感光基板上に投影
露光する走査型露光装置のマスクステージ、基板ステー
ジの速度制御に適用して好適である。
As is apparent from FIG. 7, when the thrust command value determined by the determining method according to the present invention is used, the swing of the surface plate 14 becomes smaller (see FIG. 7C), and the constant speed is obtained. Stage 16 and surface plate 14 during the settling period up to
The change in the relative speed with respect to (b) is small (see FIG. 7B). Therefore, disturbance to the stage 16 can be reduced, and quick constant speed control with a shorter settling time than in the related art can be realized. Further, since the thrust command value is determined so that the time integral is equal to the target speed, there is an advantage that the target speed can be reliably set when the thrust command is stopped. The constant speed control of the present embodiment is performed by scanning the mask and the photosensitive substrate in synchronization with the projection optical system, and projecting and exposing the pattern of the mask onto the photosensitive substrate. It is suitable for control.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る指令
値の決定方法によれば、決定された指令値に基づいてス
テージを高加速度で移動させる際の除振台の揺動を減少
させることができるという従来にない優れた効果があ
る。
As described above, according to the method for determining a command value according to the present invention, the swing of the anti-vibration table when the stage is moved at a high acceleration based on the determined command value is reduced. There is an unprecedented excellent effect that it can be performed.

【0042】また、本発明に係るステージ装置によれ
ば、装置構成の複雑化を招くことがないとともに、高
速、高精度にステージを位置決めすることができるとい
う効果がある。
Further, according to the stage apparatus of the present invention, there is an effect that the stage can be positioned with high speed and high accuracy without complicating the apparatus configuration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施形態に係るステージ装置の構成を概
略的に示す正面図である。
FIG. 1 is a front view schematically showing a configuration of a stage device according to a first embodiment.

【図2】図1の装置の位置制御系の構成を模式的に示す
ブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram schematically showing a configuration of a position control system of the apparatus shown in FIG.

【図3】図1の装置において、ステージを22mmステ
ップ移動させる際に用いられる推力指令値の一例を示す
線図である。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a thrust command value used when the stage is moved by a step of 22 mm in the apparatus of FIG. 1;

【図4】制御装置からリニアモータ駆動部に図3の推力
指令値が出力された際の定盤の変位の時間変化を示す線
図が示されている。
FIG. 4 is a diagram showing a time change of the displacement of the surface plate when the thrust command value of FIG. 3 is output from the control device to the linear motor driving unit.

【図5】第1の実施形態の効果を説明するための図であ
って、(A)は推力指令値を、(B)はステージと定盤
の相対変位を、(C)は定盤の変位を、従来例の場合と
対比してそれぞれ示す線図である。
5A and 5B are diagrams for explaining the effect of the first embodiment, wherein FIG. 5A shows a thrust command value, FIG. 5B shows a relative displacement between a stage and a surface plate, and FIG. It is a diagram which shows displacement in comparison with the case of a conventional example, respectively.

【図6】第2の実施形態に係るステージ装置の速度制御
系の構成を模式的に示すブロック図である。
FIG. 6 is a block diagram schematically illustrating a configuration of a speed control system of a stage device according to a second embodiment.

【図7】第2の実施形態の効果を説明するための図であ
って、(A)はステージを400mm/secで等速移
動させる際に用いられる指令値の一例を、(B)は制御
装置からリニアモータ駆動部に(A)の推力指令値が出
力された際のステージと定盤の相対変位を、(C)は定
盤の変位の時間変化を、従来例の場合と対比してそれぞ
れ示す線図である。
7A and 7B are diagrams for explaining the effect of the second embodiment, in which FIG. 7A shows an example of a command value used when the stage is moved at a constant speed of 400 mm / sec, and FIG. The relative displacement between the stage and the surface plate when the thrust command value of (A) is output from the device to the linear motor driving unit, and the time change of the displacement of the surface plate when the thrust command value of (A) is output, and FIG. FIG.

【図8】従来のステージ装置の構成を示す説明図であ
る。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing a configuration of a conventional stage device.

【図9】発明が解決しようとする課題を説明するための
図であって、(A)は従来のステージ装置においてリニ
アモータ駆動部に与えられる指令値の一例を、(B)は
このときの定盤の変位の時間的変化を、それぞれ示す線
図である。
9A and 9B are diagrams for explaining a problem to be solved by the present invention, wherein FIG. 9A is an example of a command value given to a linear motor driving unit in a conventional stage device, and FIG. It is a diagram which shows the time change of the displacement of a surface plate, respectively.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ステージ装置 12 除振パッド 14 定盤(除振台) 16 ステージ 18 リニアモータ駆動部 19 リニアモータ 20 制御装置 28 レーザ干渉計 Reference Signs List 10 Stage device 12 Vibration isolation pad 14 Surface plate (vibration isolation table) 16 Stage 18 Linear motor drive unit 19 Linear motor 20 Control device 28 Laser interferometer

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 除振台上で移動するステージに対する指
令値の決定方法であって、 前記ステージ及び除振台を含む装置本体の振動周期を考
慮して、前記ステージの移動開始直後の除振台の前記ス
テージ運動方向及びその反対方向の少なくとも一方の方
向の除振台の揺動が加速され、その直後に前記除振台の
初期位置でその揺動速度が零となるように前記ステージ
に対する指令値を決定することを特徴とする指令値の決
定方法。
1. A method for determining a command value for a stage moving on a vibration isolation table, the method comprising: determining vibrations of an apparatus body including the stage and the vibration isolation table; The vibration of the vibration isolation table in at least one of the direction of the stage movement of the table and the opposite direction is accelerated, and immediately after that, the vibration isolation table is moved to the initial position with respect to the stage so that the rocking speed becomes zero at the initial position. A method for determining a command value, comprising determining a command value.
【請求項2】 前記除振台の揺動速度が零になったとき
に指令値の加速度成分が零になるように前記ステージに
対する指令値を決定することを特徴とする請求項1に記
載の指令値の決定方法。
2. A command value for the stage is determined so that an acceleration component of the command value becomes zero when the swing speed of the vibration isolation table becomes zero. How to determine the command value.
【請求項3】 前記除振台の揺動速度が零になるまでの
指令値の加速度成分を時間積分すると目標速度になるよ
うに前記ステージに対する指令値を決定することを特徴
とする請求項2に記載の指令値の決定方法。
3. A command value for said stage is determined so that a target speed is obtained by time-integrating an acceleration component of a command value until the swing speed of said vibration isolation table becomes zero. Method of determining command value described in.
【請求項4】 除振パッドを介して水平に保持された除
振台上を所定の移動方向に移動可能なステージと;前記
ステージの位置を計測する位置計測手段と;前記ステー
ジを駆動する駆動手段と;前記位置計測手段の計測値と
目標値とに基づいて前記駆動手段を制御するとともに、
請求項1ないし3のいずれかの決定方法により予め決定
された指令値を前記駆動手段に出力する制御手段とを有
するステージ装置。
4. A stage movable in a predetermined moving direction on a vibration isolation table held horizontally via a vibration isolation pad; position measuring means for measuring a position of the stage; and driving for driving the stage. Means for controlling the driving means based on a measurement value and a target value of the position measuring means;
A stage device comprising: a control unit that outputs a command value predetermined by the determination method according to any one of claims 1 to 3 to the driving unit.
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