JPH101327A - Glass substrate for recording medium, magnetic recording medium using the same and its production - Google Patents

Glass substrate for recording medium, magnetic recording medium using the same and its production

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JPH101327A
JPH101327A JP17176696A JP17176696A JPH101327A JP H101327 A JPH101327 A JP H101327A JP 17176696 A JP17176696 A JP 17176696A JP 17176696 A JP17176696 A JP 17176696A JP H101327 A JPH101327 A JP H101327A
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glass
magnetic
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学禄 鄒
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve heat resistance, flatness and strength by using oxynitride glass as a substrate material. SOLUTION: A mixture of SiO2 with an oxide such as Na2 O, CaO, Nd2 O3 or Al2 O3 and other metal oxide or metal oxynitride is melted by heating at 1,400-1,900 deg.C for 3-10hr in an inert gaseous atmosphere and the resultant oxynitride glass is molded in a plate shape to obtain a substrate material. This substrate material is lapped and polished to obtain the objective glass substrate 2 for a magnetic recording medium having 3-8Å surface roughness Ra. A ruggedness controlling layer 3 of a metal or alloy having 50-300Å surface roughness Rmax, an underlayer 4, a magnetic layer 5 and a protective layer 6 are successively formed on the glass substrate 2, heat treatment is carried out at a temp. (300-1,000 deg.C) below the glass transition temp. and a lubricative layer 7 is formed by coating with a liq. lubricant to obtain the objective magnetic recording medium.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性、平坦性及び強
度に優れた記録媒体用ガラス基板、このガラス基板を用
いた磁気記録媒体及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass substrate for a recording medium having excellent heat resistance, flatness and strength, a magnetic recording medium using the glass substrate, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、機械的強度の高い磁気記録媒体用
ガラス基板としては、基板表面をイオン交換で強化した
化学強化ガラス基板や、基板表面に結晶化処理を施した
結晶化ガラス基板が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a glass substrate for a magnetic recording medium having a high mechanical strength, a chemically strengthened glass substrate in which the substrate surface is reinforced by ion exchange and a crystallized glass substrate in which the substrate surface is subjected to a crystallization treatment are known. Have been.

【0003】例えば、化学強化ガラス基板として、特開
平1−239036号公報には、重量%で、SiO2
60〜70%、Al23を0.5〜14%、R2O(た
だしRはアルカリ金属)を10〜32%、ZnOを1〜
15%、B23を1.1〜14%含むガラスをイオン交
換することにより強化した磁気記録媒体用ガラス基板が
開示されている。
For example, as a chemically strengthened glass substrate, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-239036 discloses that, by weight, 60-70% of SiO 2 , 0.5-14% of Al 2 O 3 , and R 2 O (where R is an alkali metal) 10 to 32%, ZnO 1 to
15%, a glass substrate for a magnetic recording medium having enhanced by a glass containing B 2 O 3 1.1~14% ion exchange is disclosed.

【0004】また、結晶化ガラス基板として、特開平7
−187711号公報には、重量%で、SiO2を50
〜65%、CaOを18〜25%、Na2Oを6〜11
%、K2Oを6〜12%、Al23を0〜2.5%、F
を5〜9%含み、主結晶としてカサナイトを含む磁気記
録媒体用ガラス基板が開示されている。
As a crystallized glass substrate, Japanese Patent Application Laid-Open No.
Japanese Patent Publication No. 187711 discloses that SiO 2 is 50% by weight.
65%, the CaO 18 to 25%, a Na 2 O 6 to 11
% 6-12% of K 2 O, the Al 2 O 3 0~2.5%, F
And a glass substrate for a magnetic recording medium containing 5 to 9% by mass and containing kasanite as a main crystal.

【0005】しかし近年では、ディスクの小型化、磁気
記録の高密度化に伴って、磁気ヘッドの低浮上化や、デ
ィスクの高速回転化が進み、そのためディスクの強度
や、ディスク表面の表面精度が一層厳しく要求されてき
ており、今後この要求は一層厳しくなる情勢にある。
However, in recent years, as the size of disks has been reduced and the density of magnetic recording has increased, the flying height of the magnetic head has been reduced and the rotation speed of the disks has been increased. Therefore, the strength of the disks and the surface accuracy of the disk surface have been reduced. The demands have been stricter, and in the future this demand will be stricter.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このような情勢下、上
述した従来技術には次に示す問題がある。
Under such circumstances, the above-mentioned prior art has the following problems.

【0007】まず、特開平1−239036号公報に開
示されているような従来の化学強化ガラスでは、強度が
不十分で、今後のディスク強度の向上の要求に対応でき
なくなる恐れがある。
First, the conventional chemically strengthened glass disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-239036 has insufficient strength and may not be able to meet the demand for improvement in disk strength in the future.

【0008】また、磁気記録媒体の製造においては、ガ
ラス基板上に磁性層を設けた後に、磁性層の保磁力等の
特性を向上させるために所定の熱処理を施す場合がある
が、上記従来の化学強化ガラスでは、ガラス転移点が5
00℃程度と耐熱性に乏しいため、高保磁力が得られな
いという問題がある。
In the production of a magnetic recording medium, after a magnetic layer is provided on a glass substrate, a predetermined heat treatment may be performed in order to improve characteristics such as coercive force of the magnetic layer. For chemically strengthened glass, the glass transition point is 5
There is a problem that high coercive force cannot be obtained due to poor heat resistance of about 00 ° C.

【0009】さらに、特開平7−187711号公報に
開示されているような従来の結晶化ガラスでは、強度や
耐熱性の点で上記化学強化ガラス基板よりは優れている
ものの、表面精度がRaでせいぜい10オングストロー
ム程度であり、平坦性に乏しく磁気ヘッドの低浮上化に
限界があるため、高密度記録化に対応できないという問
題がある。
Further, the conventional crystallized glass as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-187711 is superior in strength and heat resistance to the above-mentioned chemically strengthened glass substrate, but has a surface accuracy of Ra. At most, it is about 10 angstroms, and the flatness is poor, and there is a limit to the low flying height of the magnetic head.

【0010】他には、特開平3−273525号公報に
開示されているようなカーボン基板を利用した磁気記録
媒体が知られている。カーボン基板は、耐熱性の点でガ
ラス基板より優れており、高密度記録が期待できるもの
の、機械的強度の点ではガラス材料より劣るため、基板
の厚みを大きくとる必要があり、ディスクを小型化する
上で問題がある。
Another magnetic recording medium using a carbon substrate as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-273525 is known. Carbon substrates are superior to glass substrates in terms of heat resistance, and although high density recording can be expected, they are inferior to glass materials in terms of mechanical strength. There is a problem in doing.

【0011】本発明は上述した事情にかんがみてなされ
たものであり、耐熱性、平坦性に優れ、かつ強度の大き
い磁気記録媒体用ガラス基板の提供を第一の目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its first object to provide a glass substrate for a magnetic recording medium having excellent heat resistance, flatness, and high strength.

【0012】また、磁性層の特性向上を最大限に達成で
きるとともに、磁気ヘッドの低浮上化すなわち高密度記
録化が達成でき、さらに、ディスクの薄板化及び小型化
を達成できる磁気記録媒体及びその製造方法の提供を第
二の目的とする。
A magnetic recording medium and a magnetic recording medium capable of maximizing the improvement of the characteristics of the magnetic layer, achieving low flying of the magnetic head, that is, achieving high-density recording, and achieving thinner and smaller discs. A second object is to provide a manufacturing method.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は、基板材料とし
て、オキシナイトライドガラスを用いた構成としてあ
る。
In order to achieve the above object, a glass substrate for a magnetic recording medium according to the present invention has a structure using oxynitride glass as a substrate material.

【0014】また、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板
は、上記磁気記録媒体用ガラス基板において、オキシナ
イトライドガラスが、Mg−Al−Si−O−N系、C
a−Al−Si−O−N系、Y−Al−Si−O−N
系、Mg−Si−O−N系、Ca−Si−O−N系、C
e−Al−Si−O−N系から選ばれる組成、あるい
は、これらの組成系を二以上混合した組成からなる構成
としてある。
Further, the glass substrate for a magnetic recording medium of the present invention is the above glass substrate for a magnetic recording medium, wherein the oxynitride glass is a Mg-Al-Si-ON-based glass,
a-Al-Si-ON system, Y-Al-Si-ON
System, Mg-Si-ON system, Ca-Si-ON system, C
It is configured to have a composition selected from e-Al-Si-ON-based compositions or a composition in which two or more of these composition systems are mixed.

【0015】さらに、本発明の磁気記録媒体は、上記本
発明の磁気記録媒体用ガラス基板の主表面に、少なくと
も磁性層を形成した構成としてある。
Further, the magnetic recording medium of the present invention has a configuration in which at least a magnetic layer is formed on the main surface of the glass substrate for a magnetic recording medium of the present invention.

【0016】また、本発明の磁気記録媒体は、上記磁気
記録媒体において、ガラス基板と磁性層との間に位置す
る層として、あるいは磁性層より上部に位置する層とし
て、磁気ヘッドと磁気記録媒体とが吸着することを防止
するための凹凸制御層を設けた構成、あるいは、凹凸制
御層の表面粗さRmaxが、50〜300オングストロー
ムである構成としてある。
Further, the magnetic recording medium of the present invention is characterized in that, in the above magnetic recording medium, the magnetic head and the magnetic recording medium are provided as a layer located between the glass substrate and the magnetic layer or as a layer located above the magnetic layer. And a structure in which an unevenness control layer for preventing the adsorption of undulation is provided, or the surface roughness Rmax of the unevenness control layer is 50 to 300 Å.

【0017】さらに、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、オキシナイトライドガラス基板の主表面に、少なく
とも磁性層を形成した後、少なくとも前記磁性層をガラ
ス転移点より低い温度で加熱処理する構成としてある。
Further, in the method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention, at least a magnetic layer is formed on a main surface of an oxynitride glass substrate, and at least the magnetic layer is heated at a temperature lower than a glass transition point. There is.

【0018】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、上記磁気記録媒体の製造方法において、加熱処理温
度が300〜1000℃である構成としてある。
Further, a method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention has a configuration in which the heat treatment temperature is 300 to 1000 ° C. in the above-described method of manufacturing a magnetic recording medium.

【0019】さらに、本発明の記録媒体用ガラス基板
は、基板材料として、オキシナイトライドガラスを用い
た構成としてある。
Further, the glass substrate for a recording medium of the present invention has a configuration using oxynitride glass as a substrate material.

【作用】本発明では、ガラス基板材料としてオキシナイ
トライドガラスを用いているので、耐熱性、平坦性に優
れ、かつ強度の大きい磁気記録媒体用ガラス基板が得ら
れる。
According to the present invention, since oxynitride glass is used as the glass substrate material, a glass substrate for a magnetic recording medium having excellent heat resistance and flatness and high strength can be obtained.

【0020】また、耐熱性に優れるため、磁性層の特性
向上に必要な熱処理を基板の変形なしに施すことがで
き、平坦性に優れるため、磁気ヘッドの低浮上化すなわ
ち高密度記録化が達成でき、強度が大きいので、ディス
クの薄板化及び小型化を達成できるとともにディスクの
破損も避けられる。
Also, because of its excellent heat resistance, heat treatment necessary for improving the characteristics of the magnetic layer can be performed without deformation of the substrate, and because of its excellent flatness, low flying of the magnetic head, that is, high density recording can be achieved. And high strength, so that the disk can be made thinner and smaller, and the disk can be prevented from being damaged.

【0021】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0022】まず、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板
について説明する。
First, the glass substrate for a magnetic recording medium of the present invention will be described.

【0023】本発明では、ガラス基板材料としてオキシ
ナイトライドガラスを用いる。
In the present invention, oxynitride glass is used as a glass substrate material.

【0024】オキシナイトライドガラスは、酸化物ガラ
スに窒化物を含有したガラスで、酸窒化物(oxynitrid
e)ガラスとも呼ばれ、窒素をその構造中に取り込んだ
ものである。
The oxynitride glass is a glass containing a nitride in an oxide glass, and is an oxynitride glass.
e) Also called glass, nitrogen is incorporated into its structure.

【0025】オキシナイトライドガラス(窒素含有ガラ
ス)は、酸化物ガラス中の二価の酸素イオンの一部が三
価の窒素イオンにより置換された構造を有する。このた
め、酸化物ガラスより多くの化学結合が形成されてガラ
スのネットワークが強固になる。このため、高硬度、高
強度を示すなどの優れた物理的性質を有し、磁気記録媒
体用基板として優れた特性を有する。
Oxynitride glass (nitrogen-containing glass) has a structure in which part of divalent oxygen ions in oxide glass is replaced by trivalent nitrogen ions. For this reason, more chemical bonds are formed than in the oxide glass, and the glass network is strengthened. Therefore, it has excellent physical properties such as high hardness and high strength, and has excellent properties as a substrate for a magnetic recording medium.

【0026】オキシナイトライドガラスの種類、成分、
組成は、特に制限されない。オキシナイトライドガラス
は、化学組成を連続的に変化することができ、添加量に
よっては周期表の90種類の元素がガラス構造中に入
る。
The type and components of oxynitride glass,
The composition is not particularly limited. Oxynitride glass can change its chemical composition continuously, and depending on the amount of addition, 90 kinds of elements of the periodic table enter into the glass structure.

【0027】また、オキシナイトライドガラス中の窒素
含有量も特に制限されない。これは、組成系によって
は、僅かな窒素含有量で物性が飛躍的に向上する場合も
あるし、逆に窒素含有量を多くし又は最適量とした方が
物性が飛躍的に向上する場合もあるからである。
The nitrogen content in the oxynitride glass is not particularly limited. This is because, depending on the composition system, the physical properties may be dramatically improved with a slight nitrogen content, and conversely, the physical properties may be dramatically improved by increasing the nitrogen content or setting it to the optimum amount. Because there is.

【0028】オキシナイトライドガラスとしては、例え
ば、Ca−Si−Al−O−N系、Na−Ca−Si−
O−N系、La−Si−Al−O−N系、Li−Na−
K−B−Si−O−N系、Ce−Si−O−N系、Ce
−Al−Si−O−N系、Na−B−Si−O−N系、
Li−Si−Al−O−N系、Be−Si−Al−O−
N系、Mg−Si−Al−O−N系、Si−Al−O−
N系、Li−Mg−Si−Al−O−N系、Ce−Mg
−Si−Al−O−N系、Mg−Ba−Si−Al−O
−N系、Y−Si−Al−O−N系、Mn−Si−Al
−O−N系、Nd−Si−Al−O−N系、Na−B−
Al−P−O−N系、K−Si−O−N系、Si−M−
O−N(Mはアルカリ土類金属)系、Si−O−N系、
Na−Si−O−N系、Mg−Si−O−N系、La−
Si−O−N系、Li−Si−O−N系、Ca−Si−
Al−O−N系などのケイ酸塩系や、Na−B−O−N
系などのホウ酸塩系、Li−P−O−N系、Na−P−
O−N系、K−P−O−N系、Na−Ba−Al−P−
O−N系などのリン酸塩系等の組成を持つものが挙げら
れる。
Examples of the oxynitride glass include, for example, Ca—Si—Al—ON, Na—Ca—Si—
ON-based, La-Si-Al-ON-based, Li-Na-
KB-Si-ON system, Ce-Si-ON system, Ce
-Al-Si-ON system, Na-B-Si-ON system,
Li-Si-Al-O-N system, Be-Si-Al-O-
N-based, Mg-Si-Al-ON-based, Si-Al-O-
N system, Li-Mg-Si-Al-ON system, Ce-Mg
-Si-Al-ON-based, Mg-Ba-Si-Al-O
-N system, Y-Si-Al-ON system, Mn-Si-Al
-ON-based, Nd-Si-Al-ON-based, Na-B-
Al-P-O-N system, K-Si-ON system, Si-M-
O-N (M is an alkaline earth metal), Si-ON,
Na-Si-ON system, Mg-Si-ON system, La-
Si-ON-based, Li-Si-ON-based, Ca-Si-
Silicates such as Al-O-N and Na-B-O-N
Borate, Li-PON-based, Na-P-
ON-based, K-P-ON-based, Na-Ba-Al-P-
Those having a composition such as a phosphate type such as an ON-N type are exemplified.

【0029】特に、磁気記録媒体用ガラス基板として
は、比重が比較的に低く、弾性率、耐熱性が比較的高
く、かつアルカリ溶出のない、Mg−Al−Si−O−
N系、Ca−Al−Si−O−N系、Y−Al−Si−
O−N系、Mg−Si−O−N系、Ca−Si−O−N
系、Ce−Al−Si−O−N系から選ばれる組成、あ
るいは、これらの組成系を二以上混合した組成からなる
オキシナイトライドガラスを用いることが好ましい。
Particularly, as a glass substrate for a magnetic recording medium, Mg—Al—Si—O— having a relatively low specific gravity, a relatively high elastic modulus and a high heat resistance, and no alkali elution is used.
N-based, Ca-Al-Si-ON-based, Y-Al-Si-
ON-based, Mg-Si-ON-based, Ca-Si-ON
It is preferable to use an oxynitride glass having a composition selected from the group consisting of a Ce-Al-Si-ON system and a composition obtained by mixing two or more of these composition systems.

【0030】オキシナイトライドガラスの製造方法は、
特に制限されず、各種製造方法を利用できる。例えば、
高温溶融法や、溶融体中に窒素ガスをバブリングで導入
する方法、多孔質ガラスをアンモニアガスで処理しこれ
を無孔化する方法、ゾル−ゲル法、CVD法などが知ら
れている。
The method for producing oxynitride glass is as follows:
There is no particular limitation, and various production methods can be used. For example,
There are known a high-temperature melting method, a method of introducing nitrogen gas into a melt by bubbling, a method of treating porous glass with ammonia gas to make it non-porous, a sol-gel method, a CVD method, and the like.

【0031】なお、オキシナイトライドガラスの諸物性
は、窒素含有量、原料、原料として加える窒素源となる
化合物の種類、溶融温度、溶融時間、溶融雰囲気、融液
の冷却速度、不純物の混入の有無(積極的に混入させる
場合を含む)、るつぼの種類、溶融ガラスの量などによ
って影響を受けるので、これらの条件を適宜選択して製
造することが必要である。
The various physical properties of the oxynitride glass include the nitrogen content, the raw material, the type of the nitrogen source compound to be added as the raw material, the melting temperature, the melting time, the melting atmosphere, the cooling rate of the melt, and the contamination of impurities. It is affected by the presence / absence (including the case of being positively mixed), the type of crucible, the amount of molten glass, and the like. Therefore, it is necessary to appropriately select these conditions for production.

【0032】オキシナイトライドガラスの製造方法にお
いては、例えば、原料としてSiO2、他の酸化物(例
えば、Na2O、CaOや、Na23、Al23、Y2
3、MgO、K2O、ZnO、As23など)、及び窒素
供給源として金属酸化物や金属酸窒化物を混合したもの
を使用する(高温溶融法)。
In the method for producing oxynitride glass, for example, SiO 2 as a raw material and other oxides (eg, Na 2 O, CaO, Na 2 O 3 , Al 2 O 3 , Y 2 O
3 , MgO, K 2 O, ZnO, As 2 O 3 ), and a mixture of a metal oxide and a metal oxynitride as a nitrogen supply source (high-temperature melting method).

【0033】ここで、金属酸化物としては、SiO2
Al23、BaO、Sb23、SrO、Na2O、Na2
3、CaO、MgO、K2O、La23、CeO2、Y2
3、ZrO2、ZnO2、As23、TiO2、B23
Cr23、PbO、V25、SnO2などが挙げられ
る。また、金属酸化物原料として、熱分解によってこれ
らの金属酸化物となる炭酸塩、水酸化物、シュウ酸塩を
原料として配合してもよい。
Here, as the metal oxide, SiO 2 ,
Al 2 O 3 , BaO, Sb 2 O 3 , SrO, Na 2 O, Na 2
O 3 , CaO, MgO, K 2 O, La 2 O 3 , CeO 2 , Y 2
O 3 , ZrO 2 , ZnO 2 , As 2 O 3 , TiO 2 , B 2 O 3 ,
Cr 2 O 3 , PbO, V 2 O 5 , SnO 2 and the like can be mentioned. Further, as a metal oxide raw material, a carbonate, a hydroxide, or an oxalate which becomes these metal oxides by thermal decomposition may be blended as a raw material.

【0034】金属窒化物としては、Si34、AlN、
Al22、Mg22、Li3Nなどが挙げられる。
As the metal nitride, Si 3 N 4 , AlN,
Al 2 N 2 , Mg 2 N 2 , Li 3 N and the like can be mentioned.

【0035】金属酸窒化物としては、Si22O、Si
56Oなどが挙げられる。
As the metal oxynitride, Si 2 N 2 O, Si
5 N 6 O and the like.

【0036】これらの原料は十分に混合され、加熱、溶
融してオキシナイトライドガラスとする。このとき、混
合物の溶融は、例えば、1400〜1900℃にて3〜
100時間、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下
にて行い、ガラス化することが好ましい。
These raw materials are sufficiently mixed, heated and melted to obtain oxynitride glass. At this time, for example, the mixture is melted at 1400 to 1900 ° C. for 3 to
Vitrification is preferably performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon for 100 hours.

【0037】ガラス化したオキシナイトライドガラス
は、清澄後、周知のプレス成形やダウンドロー成形など
の方法により、板状に成形され、その後、研削、研磨等
の加工が施され所望のサイズ、形状の磁気記録媒体用基
板とされる。
The vitrified oxynitride glass is refined, formed into a plate by a known method such as press molding or down-draw molding, and then subjected to processing such as grinding and polishing to obtain a desired size and shape. Of the magnetic recording medium.

【0038】なお、研磨では、ラッピング(砂掛け)及
び酸化セリウム等の研磨粉によるポリシング加工(精密
研磨)を行うことで、表面精度を例えばRaで3〜8オ
ングストロームの範囲にすることができる。
In the polishing, lapping (sanding) and polishing (precision polishing) with a polishing powder such as cerium oxide can be performed to adjust the surface accuracy to, for example, Ra in the range of 3 to 8 angstroms.

【0039】なお、本発明のガラス基板においては、基
板の平坦度を悪化させない範囲であれば、ガラスにTi
2、ZrO2などの結晶核生成剤を添加するか、あるい
は、結晶核生成剤を添加せずにガラス転移点より高い温
度で熱処理することによって、ガラスの一部を結晶化
(分相を含む)させてもよい。また、窒素系セラミック
スの成分を含むガラス、あるいは、焼結窒素系セラミッ
クスに似た状態を含むガラスとしてもよい。さらに、本
発明のガラス基板は、透明、半透明、不透明のいずれの
態様も含まれる。
In the glass substrate of the present invention, as long as the flatness of the substrate is not deteriorated, Ti is added to the glass.
By adding a crystal nucleating agent such as O 2 or ZrO 2 , or by performing a heat treatment at a temperature higher than the glass transition point without adding the crystal nucleating agent, a part of the glass is crystallized (phase separation is performed). Included). Further, glass containing a component of nitrogen-based ceramics or glass containing a state similar to sintered nitrogen-based ceramics may be used. Further, the glass substrate of the present invention includes any of transparent, translucent and opaque modes.

【0040】また、ガラス中にSiを主成分とするイン
クルージョンが存在してもよい。
Further, the glass may contain an inclusion containing Si as a main component.

【0041】さらに、ガラス中に、SiC、アルミナ繊
維などのセラミック系繊維、カーボン繊維、ボロン繊
維、ガラス繊維、アラミド繊維、無機系繊維、各種ウィ
スカ等のファイバー又は強化材等を入れて、高温域にお
ける高度の力学特性を付与してもよい。
Further, fibers such as ceramic fibers such as SiC and alumina fibers, carbon fibers, boron fibers, glass fibers, aramid fibers, inorganic fibers, and fibers such as various whiskers or reinforcing materials are put into glass, and a high temperature region is added. May be imparted with high mechanical properties.

【0042】本発明では、必要に応じ、ガラス基板の主
表面に、エッチング処理や成膜、あるいはレーザ光の照
射などの手段で凹凸を付け、テクスチャリング処理を施
してもよい。
In the present invention, if necessary, the main surface of the glass substrate may be subjected to texturing by forming irregularities by means of etching, film formation, or laser light irradiation.

【0043】具体的には、ガラス基板の表面を、フッ化
水素酸と硝酸との混合液よりなるエッチング液で湿式エ
ッチングしてガラス表面に凹凸を付けテクスチャリング
処理を施すことができる。また、ガラス基板の表面に、
アルミニウム等の凹凸膜を設けることで、ガラス表面に
テクスチャリング処理を施すことができる。
Specifically, the surface of the glass substrate can be wet-etched with an etching solution composed of a mixed solution of hydrofluoric acid and nitric acid to form irregularities on the glass surface and to perform texturing. Also, on the surface of the glass substrate,
By providing a concavo-convex film of aluminum or the like, the glass surface can be subjected to texturing.

【0044】なお、上述した本発明の磁気記録媒体用ガ
ラス基板は、耐熱性、平坦性、化学的耐久性、光学的性
質及び強度(機械的特性)に優れているので、光磁気デ
ィスク用のガラス基板や、光ディスクなどの電子光学用
ガラス基板、次世代LCDとして期待される低温多結晶
シリコン液晶表示装置用の耐熱性ガラス基板、あるいは
電気・電子部品用のガラス基板としても好適に使用でき
る。
The above-mentioned glass substrate for a magnetic recording medium of the present invention is excellent in heat resistance, flatness, chemical durability, optical properties and strength (mechanical properties). It can be suitably used as a glass substrate, a glass substrate for electro-optics such as an optical disk, a heat-resistant glass substrate for a low-temperature polycrystalline silicon liquid crystal display expected as a next-generation LCD, or a glass substrate for electric / electronic parts.

【0045】次に、本発明の磁気記録媒体及びその製造
方法について説明する。
Next, the magnetic recording medium of the present invention and a method for manufacturing the same will be described.

【0046】本発明の磁気記録媒体は、上述した本発明
の磁気記録媒体用ガラス基板の主表面に、少なくとも磁
性層を形成したものである。
The magnetic recording medium of the present invention is obtained by forming at least a magnetic layer on the main surface of the above-mentioned glass substrate for a magnetic recording medium of the present invention.

【0047】ここで、主表面とは磁気記録媒体用ガラス
基板の両面のうち磁性層が形成される面を指し、片面あ
るいは両面を指す。
Here, the main surface refers to the surface on which the magnetic layer is formed, of the two surfaces of the glass substrate for a magnetic recording medium, and refers to one surface or both surfaces.

【0048】磁性層以外の層としては、機能面から、下
地層、保護層、潤滑層、凹凸制御層などが挙げられ、必
要に応じ形成される。これらの各層の形成には各種薄膜
形成技術が利用される。
The layers other than the magnetic layer include an underlayer, a protective layer, a lubricating layer, a concavo-convex control layer, and the like in terms of function, and are formed as necessary. Various thin film forming techniques are used to form these layers.

【0049】磁性層の材料は特に制限されない。磁性層
としては、例えば、Co系の他、フェライト系、鉄−希
土類系などが挙げられる。磁性層は、水平磁気記録、垂
直磁気記録のいずれの磁性層でもよい。
The material of the magnetic layer is not particularly limited. Examples of the magnetic layer include, in addition to Co-based, ferrite-based and iron-rare-earth-based. The magnetic layer may be any of horizontal magnetic recording and perpendicular magnetic recording.

【0050】磁性層としては、具体的には、例えば、C
oを主成分とするCoPt、CoCr、CoNi、Co
NiCr、CoCrTa、CoPtCrや、CoNiC
rPt、CoNiCrTa、CoCrPtTa、CoC
rPtSiOなどの磁性薄膜が挙げられる。また、磁性
層を非磁性膜で分割してノイズの低減を図った多層構成
としもよい。
As the magnetic layer, specifically, for example, C
CoPt, CoCr, CoNi, Co mainly containing o
NiCr, CoCrTa, CoPtCr, CoNiC
rPt, CoNiCrTa, CoCrPtTa, CoC
A magnetic thin film such as rPtSiO may be used. Further, the magnetic layer may be divided by a non-magnetic film to have a multilayer structure in which noise is reduced.

【0051】磁気記録媒体における下地層は、磁性層に
応じて選択される。下地層としては、例えば、Cr、M
o、Ta、Ti、W、V、B、Alなどの非磁性金属か
ら選ばれる少なくとも一種以上の材料、又はそれらの金
属の酸化物、窒化物、炭化物等からなる下地層等が挙げ
られる。Coを主成分とする磁性層の場合には、磁気特
性向上等の観点からCr単体やCr合金であることが好
ましい。下地層は単層とは限らず、同一又は異種の層を
積層した複数層構造とすることもできる。例えば、Al
/Cr/CrMo、Al/Cr/Cr等の多層下地層等
が挙げられる。
The underlayer in the magnetic recording medium is selected according to the magnetic layer. As the underlayer, for example, Cr, M
Examples include at least one or more materials selected from nonmagnetic metals such as o, Ta, Ti, W, V, B, and Al, and an underlying layer made of an oxide, nitride, carbide, or the like of these metals. In the case of a magnetic layer containing Co as a main component, it is preferable to use Cr alone or a Cr alloy from the viewpoint of improving magnetic properties. The underlayer is not limited to a single layer, and may have a multilayer structure in which the same or different layers are stacked. For example, Al
/ Cr / CrMo, Al / Cr / Cr, etc.

【0052】本発明では、ガラス基板と磁性層との間又
は磁性層の上部に、磁気ヘッドと磁気記録媒体が吸着す
ることを防止するための凹凸制御層を設けてもよい。こ
の凹凸制御層を設けることによって、磁気記録媒体の表
面粗さは適度に調整されるので、磁気ヘッドと磁気記録
媒体が吸着することがなくなり、信頼性の高い磁気記録
媒体が得られる。
In the present invention, an unevenness control layer may be provided between the glass substrate and the magnetic layer or above the magnetic layer to prevent the magnetic head and the magnetic recording medium from adsorbing. By providing this unevenness control layer, the surface roughness of the magnetic recording medium is appropriately adjusted, so that the magnetic head and the magnetic recording medium do not stick to each other, and a highly reliable magnetic recording medium can be obtained.

【0053】凹凸制御層の材質及び形成方法は多種知ら
れており、特に制限されない。例えば、凹凸制御層の材
質として、Al、Ag、Ti、Nb、Ta、Bi、S
i、Zr、Cr、Cu、Au、Sn、Pd、Sb、G
e、Mgなどから選ばれる少なくとも一種以上の金属、
又はそれらの合金、あるいは、それらの酸化物、窒化
物、炭化物等からなる下地層等が挙げられる。
There are various known materials and methods for forming the unevenness control layer, and there is no particular limitation. For example, Al, Ag, Ti, Nb, Ta, Bi, S
i, Zr, Cr, Cu, Au, Sn, Pd, Sb, G
e, at least one or more metals selected from Mg, etc.
Or an alloy thereof, or an underlayer made of an oxide, nitride, carbide, or the like thereof.

【0054】形成が容易で効果があるという観点から
は、凹凸制御層の材質として、Al単体やAl合金、酸
化Al、窒化AlといったAlを主成分とする金属であ
ることが望ましい。
From the viewpoint that the formation is easy and effective, it is desirable that the material of the unevenness control layer is a metal mainly composed of Al, such as Al alone, an Al alloy, Al oxide, or Al nitride.

【0055】また、ヘッドスティクションを考慮する
と、凹凸制御層の表面粗さは、Rmax=50〜300オ
ングストロームであることが望ましい。より好ましい範
囲は、Rmax=100〜200オングストロームであ
る。
In consideration of head stiction, it is desirable that the surface roughness of the unevenness control layer is Rmax = 50 to 300 Å. A more preferred range is Rmax = 100-200 Å.

【0056】Rmaxが50オングストローム未満の場
合、磁気記録媒体表面が平坦に近いため、磁気ヘッドと
磁気記録媒体が吸着し、磁気ヘッドや磁気記録媒体が傷
ついてしまったり、吸着によるヘッドクラッシュを起こ
すので好ましくない。また、Rmaxが300オングスト
ロームを越える場合、グライド高さ(グライドハイト)
が大きくなり記録密度の低下を招くので好ましくない。
If Rmax is less than 50 angstroms, the surface of the magnetic recording medium is almost flat, so that the magnetic head and the magnetic recording medium are attracted, and the magnetic head and the magnetic recording medium are damaged, or a head crash occurs due to the attracting. Not preferred. When Rmax exceeds 300 angstroms, glide height (glide height)
And the recording density decreases, which is not preferable.

【0057】保護層としては、例えば、Cr膜、Cr合
金膜、炭素膜、ジルコニア膜、シリカ膜等が挙げられ
る。これらの保護膜は、下地層、磁性層等とともにイン
ライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、こ
れらの保護膜は、単層としてもよく、あるいは、同一又
は異種の膜からなる多層構成としてもよい。
Examples of the protective layer include a Cr film, a Cr alloy film, a carbon film, a zirconia film, and a silica film. These protective films can be continuously formed with an underlayer, a magnetic layer, and the like by an in-line type sputtering apparatus. Further, these protective films may have a single-layer structure or a multi-layer structure composed of the same or different films.

【0058】上記保護層上に、あるいは上記保護層に替
えて、他の保護層を形成してもよい。例えば、上記保護
層上にテトラアルコキシランをアルコール系の溶媒で希
釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布
し、さらに焼成して酸化ケイ素(SiO2)膜を形成し
てもよい。この場合、保護層と凹凸制御層の両方の機能
を果たす。
Another protective layer may be formed on the protective layer or in place of the protective layer. For example, colloidal silica fine particles may be dispersed and applied to the above-mentioned protective layer while diluting tetraalkoxylan with an alcohol-based solvent, and then fired to form a silicon oxide (SiO 2 ) film. In this case, it functions as both the protective layer and the unevenness control layer.

【0059】潤滑層としては多種多様な提案がなされて
いるが、一般的には、液体潤滑剤であるパーフロロポリ
エーテル(PFPE)をフレオン系などの溶媒で希釈
し、媒体表面にディッピング法、スピンコート法、スプ
レイ法によって塗布し、必要に応じ加熱処理を行って形
成する。
Although various proposals have been made for a lubricating layer, generally, a liquid lubricant, perfluoropolyether (PFPE), is diluted with a solvent such as a Freon-based solvent and dipped on a medium surface by a dipping method. It is formed by applying by a spin coating method or a spraying method and performing a heat treatment as needed.

【0060】本発明では、磁気記録媒体を製造する際
に、オキシナイトライドガラス基板の主表面に、少なく
とも磁性層を形成した後、少なくとも前記磁性層をガラ
ス転移点より低い温度で加熱処理することが好ましい。
In the present invention, at the time of producing a magnetic recording medium, at least a magnetic layer is formed on the main surface of the oxynitride glass substrate, and then at least the magnetic layer is heat-treated at a temperature lower than the glass transition point. Is preferred.

【0061】これは、磁性層の種類によっては、加熱処
理することで磁気特性の向上が図られるためである。本
発明で用いるオキシナイトライドガラス基板は、従来の
ガラス基板に比べ耐熱性が高いので、より高い最適な温
度で加熱処理でき、磁気特性を最大限に向上させること
が可能である。
This is because, depending on the type of the magnetic layer, the magnetic properties can be improved by performing the heat treatment. Since the oxynitride glass substrate used in the present invention has higher heat resistance than a conventional glass substrate, it can be heat-treated at a higher optimum temperature, and the magnetic properties can be maximized.

【0062】この加熱処理は、磁性層を形成する際又は
磁性層形成以降であって、保護層や潤滑層の特性に影響
を与えない温度であれば、いずれの段階で加熱処理を行
ってもよい。
This heat treatment can be performed at any stage when forming the magnetic layer or after forming the magnetic layer and at any temperature that does not affect the properties of the protective layer and the lubricating layer. Good.

【0063】磁気特性を向上させるために必要な加熱処
理温度は磁性層によって異なり適宜選択される。例え
ば、Co系の磁性層の場合、高い保磁力を得るために、
磁性層を300〜1000℃で加熱処理することが好ま
しい。
The heat treatment temperature required to improve the magnetic properties differs depending on the magnetic layer and is appropriately selected. For example, in the case of a Co-based magnetic layer, in order to obtain a high coercive force,
It is preferable to heat-treat the magnetic layer at 300 to 1000C.

【0064】加熱処理温度が300℃未満の場合、下地
層を構成する非磁性体が磁性層を構成する強磁性体の結
晶粒界への熱拡散が少ないため、強磁性体の各粒子間の
強い磁気的相互作用を断ち切ることができず、高い保磁
力を有する磁気記録媒体が得られない。また、加熱処理
温度が1000℃を越えないようにするのは、オキシナ
イトライドガラスのガラス転移点が950〜1000℃
程度であるので、ガラス基板の変形等を回避するためで
ある。
When the heat treatment temperature is lower than 300 ° C., the non-magnetic material constituting the underlayer has less heat diffusion to the crystal grain boundaries of the ferromagnetic material constituting the magnetic layer, so that the ferromagnetic substance A strong magnetic interaction cannot be broken, and a magnetic recording medium having a high coercive force cannot be obtained. The heat treatment temperature is controlled not to exceed 1000 ° C. because the glass transition point of the oxynitride glass is 950 to 1000 ° C.
This is for avoiding deformation and the like of the glass substrate.

【0065】[0065]

【実施例】以下、実施例にもとづき本発明をさらに具体
的に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described below more specifically based on examples.

【0066】磁気記録媒体用ガラス基板の製造 Production of glass substrate for magnetic recording medium

【0067】実施例1〜3 Examples 1 to 3

【0068】表1に示す組成のオキシナイトライドガラ
スからなる磁気記録媒体用ガラス基板を製造した。
A glass substrate for a magnetic recording medium made of oxynitride glass having the composition shown in Table 1 was manufactured.

【0069】なお、各実施例では、いずれも酸化物、窒
化物、炭酸塩、硝酸塩等の原料を配合し、これを155
0〜1650℃の範囲で溶融し、脱泡させ,ついで攪拌
により均質化して清澄化後、板状に成形し、冷却して得
られた原ガラス試料を、ディスク状に切断し、主表面を
酸化セリウムにてポリシング加工することによって磁気
記録媒体用ガラス基板を得た。
In each of the embodiments, raw materials such as oxides, nitrides, carbonates, and nitrates were mixed,
The raw glass sample is melted in the range of 0 to 1650 ° C., defoamed, homogenized by stirring, clarified, formed into a plate shape, cooled, and cut into a disk shape. A glass substrate for a magnetic recording medium was obtained by polishing with cerium oxide.

【0070】得られた磁気記録媒体用ガラス基板のガラ
ス転移点、ヤング率、比重、比弾性率、曲げ強度、ヌー
プ硬さ、及び研磨後の表面粗度(Ra)の各測定結果を
表1に示す。
Table 1 shows the measurement results of the glass transition point, Young's modulus, specific gravity, specific elastic modulus, bending strength, Knoop hardness, and surface roughness (Ra) after polishing of the obtained glass substrate for a magnetic recording medium. Shown in

【0071】比較例1〜2 Comparative Examples 1 and 2

【0072】比較のため、特開平1−239036号公
報に記載されたイオン交換による化学強化ガラス基板
(比較例1)と、特開平7−197711号公報に記載
された結晶化ガラス基板(比較例2)との組成及び特性
を表1に示す。
For comparison, a chemically strengthened glass substrate described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-239036 (Comparative Example 1) and a crystallized glass substrate described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-197711 (Comparative Example) Table 1 shows the composition and characteristics of 2).

【0073】[0073]

【表1】 [Table 1]

【0074】表1からも明らかなように、実施例1〜3
のガラス基板はガラス転移点が高いため、所望の熱処理
に対しても十分に対応できる程度に耐熱性があることが
わかる。また、ヤング率、比弾性率、曲げ強度、ヌープ
硬さ等の値が大きく、強度が高いことがわかる。特に、
比弾性率が大きいことから、磁気記録媒体用ガラス基板
として使用した場合、このガラス基板が高速回転して
も、基板に反りやブレが生じにくく、より基板の薄板化
にも対応できることがわかる。さらに、表面粗度(R
a)を4オングストローム程度にすることができ、平坦
性に優れているので、高密度記録化を図ることができ、
磁気記録媒体用ガラス基板として有用である。
As is clear from Table 1, Examples 1 to 3 are shown.
Since the glass substrate has a high glass transition point, it can be seen that the glass substrate has sufficient heat resistance to cope with a desired heat treatment. Also, the values of Young's modulus, specific elastic modulus, bending strength, Knoop hardness and the like are large, and it is understood that the strength is high. Especially,
Since the specific elastic modulus is large, it can be understood that, when used as a glass substrate for a magnetic recording medium, even if the glass substrate rotates at a high speed, the substrate is hardly warped or blurred, and the substrate can be made thinner. Further, the surface roughness (R
a) can be about 4 angstroms and is excellent in flatness, so that high-density recording can be achieved.
It is useful as a glass substrate for a magnetic recording medium.

【0075】これに対して、比較例1の化学強化ガラス
基板は、平坦性に優れているものの、耐熱性及び強度の
点で本発明のガラス基板に比べ著しく劣る。したがっ
て、磁気記録媒体を製造する際、高い保磁力を得るため
に行う磁性層に対する熱処理が十分にできず、高保磁力
を有する磁気記録媒体が得られない。
On the other hand, the chemically strengthened glass substrate of Comparative Example 1 is excellent in flatness, but is significantly inferior to the glass substrate of the present invention in heat resistance and strength. Therefore, when manufacturing a magnetic recording medium, the heat treatment on the magnetic layer for obtaining a high coercive force cannot be performed sufficiently, and a magnetic recording medium having a high coercive force cannot be obtained.

【0076】また、比較例2の結晶化ガラス基板は、比
弾性率や平坦性の点で本発明のガラス基板に比べ著しく
劣る。特に、平坦性が損なわれるので、高密度記録化を
図ることができない。
The crystallized glass substrate of Comparative Example 2 is significantly inferior to the glass substrate of the present invention in specific elastic modulus and flatness. In particular, since flatness is impaired, high-density recording cannot be achieved.

【0077】以上のことから、磁気記録媒体用基板とし
て使用するためには、上述した物理的性質や機械的性質
が優れていることが望ましく、オキシナイトライドガラ
スが有用であることがわかる。
From the above, it can be seen that, for use as a substrate for a magnetic recording medium, the above-mentioned physical properties and mechanical properties are desirably excellent, and oxynitride glass is useful.

【0078】磁気記録媒体の製造 Manufacturing of magnetic recording medium

【0079】実施例4 図1は、本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の構成を
示す模式的断面図である。
Embodiment 4 FIG. 1 is a schematic sectional view showing the structure of a magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention.

【0080】図1に示すように、本発明の磁気記録媒体
1は、オキシナイトライドガラス基板2上に、順次、凹
凸制御層3、下地層4、磁性層5、保護層6、潤滑層7
を形成したものである。
As shown in FIG. 1, a magnetic recording medium 1 according to the present invention comprises an oxynitride glass substrate 2 in which an unevenness control layer 3, an underlayer 4, a magnetic layer 5, a protective layer 6, a lubricating layer 7
Is formed.

【0081】各層について具体的に説明すると、オキシ
ナイトライドガラス基板は、外径65mmφ、中心部の
穴径20mmφ、厚さ0.381mmの円板状に加工し
たものであって、その両主表面を表面粗さがRa=4オ
ングストローム、Rmax=40オングストロームとなる
ように精密研磨したものである。
More specifically, each oxynitride glass substrate is formed into a disk having an outer diameter of 65 mmφ, a hole diameter at the center of 20 mmφ, and a thickness of 0.381 mm. Was precisely polished so that the surface roughness was Ra = 4 Å and Rmax = 40 Å.

【0082】凹凸制御層は、平均厚さ50オングストロ
ーム、表面粗さRmaxが150オングストローム、窒素
の含有量が5〜35%のAlNの薄膜である。
The unevenness control layer is an AlN thin film having an average thickness of 50 angstroms, a surface roughness Rmax of 150 angstroms, and a nitrogen content of 5 to 35%.

【0083】下地層は、厚さ約600オングストローム
のCrVの薄膜で、組成比はCr:83at%(原子
%)、V:17at%である。
The underlayer is a thin film of CrV having a thickness of about 600 Å, and has a composition ratio of Cr: 83 at% (atomic%) and V: 17 at%.

【0084】磁性層は、厚さ約300オングストローム
のCoPtCrの薄膜で、組成比はCo:76at%、
Pt:6.6at%、Cr:17.4at%である。
The magnetic layer is a thin film of CoPtCr having a thickness of about 300 Å, and has a composition ratio of Co: 76 at%,
Pt: 6.6 at%, Cr: 17.4 at%.

【0085】保護層は、厚さ約100オングストローム
のカーボンの薄膜である。
The protective layer is a carbon thin film having a thickness of about 100 Å.

【0086】潤滑層は、パーフルオロポリエーテルから
なる潤滑剤をスピンコート法によって、カーボン保護層
上に塗布して厚さ8オングストロームに形成したもので
ある。
The lubricating layer is formed by applying a lubricant made of perfluoropolyether onto the carbon protective layer by spin coating to a thickness of 8 Å.

【0087】次に、本発明の一実施例に係る磁気記録媒
体の製造方法について説明する。
Next, a method for manufacturing a magnetic recording medium according to one embodiment of the present invention will be described.

【0088】まず、オキシナイトライドガラスを、外径
65mmφ、中心部の穴径20mmφ、厚さ0.381
mmの円板状に研削加工し、その両主表面を表面粗さが
Ra=4オングストローム、Rmax=40オングストロ
ームとなるように精密研磨して磁気記録媒体用ガラス基
板を得る。
First, an oxynitride glass was prepared with an outer diameter of 65 mmφ, a hole diameter of 20 mmφ at the center, and a thickness of 0.381.
Then, the two main surfaces are precisely polished so that the surface roughness is Ra = 4 angstroms and Rmax = 40 angstroms to obtain a glass substrate for a magnetic recording medium.

【0089】次いで、上記ガラス基板を基板ホルダーに
セットした後、インラインスパッタ装置の仕込み室に送
り込む。続いて、ガラス基板のセットされたホルダー
を、Alターゲットが設置された第一チャンバーに送り
込み、圧力4mtorr、基板温度350℃、Ar+N
2ガス(N2=4%)雰囲気中でスパッタリングする。そ
の結果、ガラス基板上に、表面粗さRmax=150オン
グストローム、膜厚50オングストロームのAlN薄膜
(凹凸制御層)が得られた。
Next, after setting the above glass substrate in the substrate holder, the glass substrate is fed into the charging chamber of the in-line sputtering apparatus. Subsequently, the holder on which the glass substrate is set is sent to the first chamber in which the Al target is installed, and the pressure is 4 mtorr, the substrate temperature is 350 ° C., and Ar + N
Sputtering is performed in a 2 gas (N 2 = 4%) atmosphere. As a result, an AlN thin film (irregularity control layer) having a surface roughness Rmax = 150 Å and a film thickness of 50 Å was obtained on the glass substrate.

【0090】次に、AlNが成膜されたガラス基板のセ
ットされたホルダーを、CrV(Cr:83at%、
V:17at%)ターゲットが設置された第二チャンバ
ー、CoPtCr(Co:76at%、Pt:6.6a
t%、Cr:17.4at%)ターゲットが設置された
第三チャンバーに連続的に順次送り込み、基板上に成膜
する。これらの膜は、圧力2mtorr、基板温度35
0℃、Ar雰囲気中でスパッタリングし、膜厚約600
オングストロームのCrV下地層、膜厚約300オング
ストロームのCoPtCr磁性層を得る。
Next, the holder on which the glass substrate on which AlN was formed was set was placed on a CrV (Cr: 83 at%,
V: 17 at%) a second chamber in which a target was installed, CoPtCr (Co: 76 at%, Pt: 6.6 a)
(t%, Cr: 17.4 at%) The wafer is continuously and sequentially fed into a third chamber in which a target is installed, and a film is formed on a substrate. These films have a pressure of 2 mtorr and a substrate temperature of 35
Sputtering in an Ar atmosphere at 0 ° C.
An Angstrom CrV underlayer and a CoPtCr magnetic layer having a thickness of about 300 Å are obtained.

【0091】次いで、凹凸制御層、下地層、磁性層が形
成された積層体を、加熱処理するための加熱ヒーターが
設けられた第四チャンバーに送り込む。このとき第四チ
ャンバー内をArガス(圧力2mtorr)雰囲気に
し、850℃で熱処理する。
Next, the laminate on which the unevenness control layer, the underlayer, and the magnetic layer are formed is sent to a fourth chamber provided with a heater for performing a heat treatment. At this time, a heat treatment is performed at 850 ° C. in an atmosphere of Ar gas (pressure 2 mtorr) in the fourth chamber.

【0092】上記基板をカーボンターゲットが設置され
た第五チャンバーに送り込み、Ar+H2ガス(H2=6
%)雰囲気中で成膜したこと以外は上記CrV下地層及
びCoPtCr磁性層と同じ成膜条件で、膜厚約100
オングストロームのカーボン保護層を得る。
The substrate was fed into a fifth chamber in which a carbon target was installed, and Ar + H 2 gas (H 2 = 6)
%) Under the same film forming conditions as the CrV underlayer and the CoPtCr magnetic layer except that the film was formed in an atmosphere, a film thickness of about 100
Angstrom carbon protective layer is obtained.

【0093】最後に、カーボン保護層の形成までを終え
た基板を上記インラインスパッタ装置から取り出し、そ
のカーボン保護層の表面に、ディッピング法によってパ
ーフルオロポリエーテルを塗布して厚さ8オングストロ
ームの潤滑層を形成して磁気記録媒体を得た。
Finally, the substrate after the formation of the carbon protective layer was taken out of the in-line sputtering apparatus, and the surface of the carbon protective layer was coated with a perfluoropolyether by dipping to form a lubricating layer having a thickness of 8 angstroms. Was formed to obtain a magnetic recording medium.

【0094】評価 上記で得られた磁気記録媒体の保磁力は3000Oeで
あり、高記録密度を有する磁気記録媒体が得られた。ま
た、ヘッドとの関係においては、動摩擦係数が0.2、
静止擦係数が0.25であり、CSS(contact start/
stop)耐久試験(10万回)を行ったが全く問題なく、
その時のグライド高さも0.015μm以下なので、高
記録密度でかつ信頼性の高い磁気記録媒体が得られた。
Evaluation The coercive force of the magnetic recording medium obtained above was 3000 Oe, and a magnetic recording medium having a high recording density was obtained. In relation to the head, the dynamic friction coefficient is 0.2,
The coefficient of static friction is 0.25, and CSS (contact start /
stop) Endurance test (100,000 times), but no problem,
Since the glide height at that time was also 0.015 μm or less, a highly reliable magnetic recording medium having a high recording density was obtained.

【0095】また、得られた磁気ディスクについてグラ
インドテストを実施したところ、ヒット(ヘッドが磁気
ディスク表面の突起にかすること)やクラッシュ(ヘッ
ドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること)は認めら
れなかった。
When a grind test was performed on the obtained magnetic disk, a hit (the head touches a protrusion on the surface of the magnetic disk) and a crash (the head hit the protrusion on the surface of the magnetic disk) were found. Did not.

【0096】実施例5〜10及び比較例3〜4 凹凸制御層のスパッタリング条件(基板温度、膜厚、窒
素含有量)を適宜選択して、凹凸制御層の表面粗さRma
xを変化させたこと以外は実施例4と同様にして磁気記
録媒体を得た。
Examples 5 to 10 and Comparative Examples 3 to 4 The sputtering conditions (substrate temperature, film thickness, nitrogen content) of the concavo-convex control layer were appropriately selected to obtain the surface roughness Rma of the concavo-convex control layer.
A magnetic recording medium was obtained in the same manner as in Example 4 except that x was changed.

【0097】上記で得られた磁気記録媒体について、凹
凸制御層の表面粗さRmaxを変化させたときの磁気記録
媒体の耐久性を調べた。その結果を表2に示す。
With respect to the magnetic recording medium obtained above, the durability of the magnetic recording medium when the surface roughness Rmax of the unevenness control layer was changed was examined. Table 2 shows the results.

【0098】[0098]

【表2】 [Table 2]

【0099】表2から明らかなように、凹凸制御層の表
面粗さRmaxが50〜300オングストロームのとき、
媒体表面粗さRmaxが60〜300オングストロームに
なるので、磁気ヘッドと磁気記録媒体との吸着が防止で
き、かつグライド高さも0.03μm以下に抑えられる
ので、高記録密度で信頼性の高い磁気記録媒体が得られ
る。
As is clear from Table 2, when the surface roughness Rmax of the unevenness control layer is 50 to 300 Å,
Since the medium surface roughness Rmax is 60 to 300 angstroms, adsorption between the magnetic head and the magnetic recording medium can be prevented, and the glide height can be suppressed to 0.03 [mu] m or less. A medium is obtained.

【0100】これに対し、凹凸制御層の表面粗さRmax
が45オングストロームのとき、それに起因して形成さ
れる媒体表面のRmaxも50オングストロームと平坦に
近いので、動摩擦係数及び静止擦係数が大きくなり、C
SS耐久試験においては2000回で磁気ヘッドと磁気
記録媒体とが吸着してしまった(比較例3)。また、凹
凸制御層の表面粗さRmaxが350オングストロームの
とき、AlNの結晶が異常成長(各結晶の成長がバラバ
ラ)してしまうので、磁気ヘッドと磁気記録媒体との吸
着は防止できるものの、グライド高さが0.04μmと
大きくなり、高記録密度化の妨げとなるので好ましくな
い(比較例4)。
On the other hand, the surface roughness Rmax of the unevenness control layer
Is 45 angstroms, the Rmax of the medium surface formed due to it is almost flat at 50 angstroms, so that the coefficient of dynamic friction and the coefficient of static friction increase, and C
In the SS durability test, the magnetic head and the magnetic recording medium were adsorbed 2000 times (Comparative Example 3). Also, when the surface roughness Rmax of the unevenness control layer is 350 Å, the AlN crystal grows abnormally (the growth of each crystal varies), so that the adhesion between the magnetic head and the magnetic recording medium can be prevented. The height is undesirably increased to 0.04 μm, which hinders an increase in recording density (Comparative Example 4).

【0101】実施例11〜15及び比較例5 磁性層形成後の熱処理温度を変化させたこと以外は実施
例4と同様にして磁気記録媒体を得た。
Examples 11 to 15 and Comparative Example 5 Magnetic recording media were obtained in the same manner as in Example 4 except that the heat treatment temperature after the formation of the magnetic layer was changed.

【0102】上記で得られた磁気記録媒体について、磁
性層の熱処理温度を変化させたときの保持力の変化を調
べた。その結果を表3に示す。
With respect to the magnetic recording medium obtained above, the change in coercive force when the heat treatment temperature of the magnetic layer was changed was examined. Table 3 shows the results.

【0103】[0103]

【表3】 [Table 3]

【0104】表3から明らかなように、磁性層形成後の
加熱処理温度が300℃未満の場合、下地層を構成する
非磁性体が磁性層を構成する強磁性体の結晶粒界への熱
拡散が少ないため、強磁性体の各粒子間の強い磁気的相
互作用を断ち切ることができず、高い保磁力を有する磁
気記録媒体が得られない(比較例5)。また、加熱処理
温度が950℃を越えると、オキシナイトライドガラス
のガラス転移点を越えてしまうので、基板に変形が起き
るとともに、CrV下地層の非磁性体がCoPtCr磁
性層の強磁性体の結晶粒界に過度に拡散されるため、保
磁力の低下を招き好ましくない。
As is evident from Table 3, when the heat treatment temperature after the formation of the magnetic layer is lower than 300 ° C., the non-magnetic material constituting the underlayer heats up the crystal grain boundaries of the ferromagnetic material constituting the magnetic layer. Since the diffusion is small, strong magnetic interaction between the particles of the ferromagnetic material cannot be broken, and a magnetic recording medium having a high coercive force cannot be obtained (Comparative Example 5). On the other hand, if the heat treatment temperature exceeds 950 ° C., the glass transition point of the oxynitride glass is exceeded, so that the substrate is deformed and the nonmagnetic material of the CrV underlayer is made of the ferromagnetic material of the CoPtCr magnetic layer. Since it is excessively diffused into the grain boundaries, the coercive force is undesirably reduced.

【0105】以上好ましい実施例をあげて本発明を説明
したが、本発明は上記実施例に限定されるものではな
い。
Although the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments.

【0106】例えば、磁性層の加熱処理は、磁性層の成
膜後であって保護層の形成前に行ったが、保護層がオキ
シナイトライドガラスの融点まで十分に耐えられるもの
であれば、保護層を形成するための第五チャンバーに加
熱処理するためのヒーターを設け、保護層成膜後に加熱
処理を行ってもよい。
For example, the heat treatment of the magnetic layer was performed after the formation of the magnetic layer and before the formation of the protective layer. If the protective layer can sufficiently withstand the melting point of the oxynitride glass, A heater for performing heat treatment may be provided in the fifth chamber for forming the protective layer, and the heat treatment may be performed after forming the protective layer.

【0107】また、加熱処理における雰囲気も圧力1m
torr〜大気圧であれば同様の効果が得られる。
The atmosphere in the heat treatment was at a pressure of 1 m.
A similar effect can be obtained if the pressure is from torr to atmospheric pressure.

【0108】さらに、オキシナイトライドガラスの組成
や磁性層の材質についても実施例のものに限定されな
い。
Further, the composition of the oxynitride glass and the material of the magnetic layer are not limited to those of the embodiment.

【0109】また、次世代LCDとして期待される低温
多結晶シリコン液晶表示装置用のガラス基板を各種サイ
ズ製造したところ、耐熱性、平坦性、化学的耐久性、光
学的性質及び強度(各種物理的・機械的特性)等に優
れ、高価な石英ガラス基板に比べコスト面でのメリット
があり、十分に実用に適したものであることを確認し
た。
When glass substrates for low-temperature polycrystalline silicon liquid crystal display devices, which are expected to be next-generation LCDs, were manufactured in various sizes, heat resistance, flatness, chemical durability, optical properties and strength (various physical properties) were obtained.・ Mechanical properties) and other advantages, and it has the merit in terms of cost as compared with an expensive quartz glass substrate, and was confirmed to be sufficiently suitable for practical use.

【0110】さらに、必要に応じ、本発明のオキシナイ
トライドガラス基板と他の材料の基板を貼り合わせた
り、他の材料の基板上にオキシナイトライドガラスのC
VD薄膜を形成したものを用途に応じ使用することもで
きる。
Further, if necessary, the oxynitride glass substrate of the present invention may be bonded to a substrate of another material, or the oxynitride glass C
What formed the VD thin film can also be used according to a use.

【0111】[0111]

【発明の効果】以上説明したように本発明の磁気記録媒
体用ガラス基板によれば、ガラス基板材料としてオキシ
ナイトライドガラスを用いているので、耐熱性、平坦性
に優れ、かつ強度の大きい磁気記録媒体用ガラス基板が
得られる。
As described above, according to the glass substrate for a magnetic recording medium of the present invention, since oxynitride glass is used as the glass substrate material, it has excellent heat resistance, flatness and high strength. A glass substrate for a recording medium is obtained.

【0112】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法に
よれば、基板が耐熱性に優れるため、磁性層の特性向上
に必要な熱処理を基板の変形なしに施すことができ、磁
性層の特性向上を最大限に図ることができる。
Further, according to the method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, since the substrate has excellent heat resistance, the heat treatment required for improving the characteristics of the magnetic layer can be performed without deforming the substrate. Improvement can be maximized.

【0113】さらに、本発明の磁気記録媒体によれば、
基板の耐熱性に優れるため、磁性層の特性向上を最大限
に達成できるとともに、基板の平坦性に優れるため、磁
気ヘッドの低浮上化すなわち高密度記録化が達成でき、
さらに、基板の強度が大きいので、ディスクの破損も避
けられるとともにディスクの薄板化及び小型化を達成で
きる。
Further, according to the magnetic recording medium of the present invention,
Because of the excellent heat resistance of the substrate, it is possible to achieve the maximum improvement in the properties of the magnetic layer, and because of the excellent flatness of the substrate, it is possible to achieve low flying of the magnetic head, that is, high density recording,
Further, since the strength of the substrate is large, breakage of the disk can be avoided and the disk can be made thinner and smaller.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る磁気記録媒体の構成を
示す模式的断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a configuration of a magnetic recording medium according to one embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 磁気記録媒体 2 オキシナイトライドガラス基板 3 凹凸制御層 4 下地層 5 磁性層 6 保護層 7 潤滑層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Magnetic recording medium 2 Oxynitride glass substrate 3 Unevenness control layer 4 Underlayer 5 Magnetic layer 6 Protective layer 7 Lubrication layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 諸石 圭二 東京都新宿区中落合2丁目7番5号 ホー ヤ株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Keiji Moroishi 2-7-5 Nakaochiai, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Hoya Corporation

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板材料として、オキシナイトライドガ
ラスを用いたことを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基
板。
1. A glass substrate for a magnetic recording medium, wherein oxynitride glass is used as a substrate material.
【請求項2】 オキシナイトライドガラスが、Mg−A
l−Si−O−N系、Ca−Al−Si−O−N系、Y
−Al−Si−O−N系、Mg−Si−O−N系、Ca
−Si−O−N系、Ce−Al−Si−O−N系から選
ばれる組成、あるいは、これらの組成系を二以上混合し
た組成からなることを特徴とする請求項1記載の磁気記
録媒体用ガラス基板。
2. An oxynitride glass comprising Mg-A
1-Si-ON system, Ca-Al-Si-ON system, Y
-Al-Si-ON-based, Mg-Si-ON-based, Ca
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium comprises a composition selected from the group consisting of -Si-ON-based and Ce-Al-Si-ON-based, or a mixture of two or more of these compositions. For glass substrates.
【請求項3】 請求項1又は2記載のガラス基板の主表
面に、少なくとも磁性層を形成したことを特徴とする磁
気記録媒体。
3. A magnetic recording medium comprising at least a magnetic layer formed on the main surface of the glass substrate according to claim 1.
【請求項4】 請求項1又は2記載のガラス基板と磁性
層との間に位置する層として、あるいは磁性層より上部
に位置する層として、磁気ヘッドと磁気記録媒体とが吸
着することを防止するための凹凸制御層を設けることを
特徴とする磁気記録媒体。
4. A magnetic head and a magnetic recording medium are prevented from being attracted as a layer located between the glass substrate and the magnetic layer according to claim 1 or as a layer located above the magnetic layer. A magnetic recording medium, comprising: a concavo-convex control layer.
【請求項5】 凹凸制御層の表面粗さRmaxが、50〜
300オングストロームであることを特徴とする請求項
4記載の磁気記録媒体。
5. The surface roughness Rmax of the unevenness control layer is 50 to 50.
5. The magnetic recording medium according to claim 4, wherein the thickness is 300 angstroms.
【請求項6】 オキシナイトライドガラス基板の主表面
に、少なくとも磁性層を形成した後、少なくとも前記磁
性層をガラス転移点より低い温度で加熱処理することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
6. A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: forming at least a magnetic layer on a main surface of an oxynitride glass substrate; and heat-treating at least the magnetic layer at a temperature lower than a glass transition point.
【請求項7】 請求項6記載の製造方法において、加熱
処理温度が300〜1000℃であることを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。
7. The method according to claim 6, wherein the heat treatment temperature is 300 to 1000 ° C.
【請求項8】 基板材料として、オキシナイトライドガ
ラスを用いたことを特徴とする記録媒体用ガラス基板。
8. A glass substrate for a recording medium, wherein oxynitride glass is used as a substrate material.
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