JPH10126055A - Manufacture of printed wiring board having through hole - Google Patents
Manufacture of printed wiring board having through holeInfo
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- JPH10126055A JPH10126055A JP8282707A JP28270796A JPH10126055A JP H10126055 A JPH10126055 A JP H10126055A JP 8282707 A JP8282707 A JP 8282707A JP 28270796 A JP28270796 A JP 28270796A JP H10126055 A JPH10126055 A JP H10126055A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線硬化型の孔
埋めインク及び液状エッチングレジストインクを用いた
スルーホール付きプリント配線板の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a printed wiring board with through holes using an ultraviolet curing ink for filling holes and a liquid etching resist ink.
【0002】[0002]
【従来の技術】プリント配線板の導体パターンの微細か
つ高密度化の進展に伴い、スルーホール付きプリント配
線板の製造方法としては、従来のスクリーン印刷型エッ
チングレジストと孔埋めインクを用いるいわゆる「穴埋
め法」にかわって、例えば、特開昭58−100493
号公報あるいは特開昭61−139089号公報等に開
示されるように、孔埋めインクと現像可能な液状エッチ
ングレジストインクを用いる製造方法(以下「穴埋め−
液状エッチングレジスト法」という。)が注目されてい
る。この「穴埋め−液状エッチングレジスト法」に用い
られる孔埋めインクは硬化に要する時間が短く、硬化時
の体積収縮が小さい点から、紫外線硬化型のものが特に
好適に用いられる。2. Description of the Related Art With the progress of finer and higher-density conductor patterns on printed wiring boards, a method of manufacturing a printed wiring board with through holes is a so-called "hole filling" using a conventional screen printing type etching resist and a hole filling ink. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-100493.
As disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. Sho 61-139089, etc., a production method using a hole filling ink and a developable liquid etching resist ink (hereinafter referred to as "hole filling
"Liquid etching resist method". ) Is drawing attention. As the filling ink used in the “filling-liquid etching resist method”, an ultraviolet curing type ink is particularly preferably used because the time required for curing is short and the volume shrinkage during curing is small.
【0003】通常、紫外線硬化型の孔埋めインクには、
紫外線硬化性成分としてエチレン性不飽和単量体が含ま
れているが、これのみでは孔埋めインク硬化物のアルカ
リ溶液による除去性を充分付与することができない。し
たがって、従来からインク中に高酸価のロジン類等のア
ルカリ易溶性の樹脂を配合することで、アルカリ溶液に
よる除去性を向上させるという方法が採られている。[0003] Usually, ultraviolet curing type hole filling inks include:
Although an ethylenically unsaturated monomer is contained as a UV-curable component, it is not possible to sufficiently impart the removal property of the cured product of the ink for filling holes with an alkaline solution. Therefore, conventionally, a method of improving the removability with an alkali solution by incorporating a highly acid-soluble resin such as a rosin having a high acid value into the ink has been adopted.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなアルカリ易溶性の樹脂は本来紫外線硬化性を有しな
いので、孔埋めインクの硬化をむしろ阻害する。また、
アルカリ易溶性の樹脂はエチレン性不飽和単量体との相
溶性が悪いため、スルーホールに充填され、紫外線によ
り硬化される際に不均一となる。このためにスルーホー
ルに充填されたインクを紫外線により硬化する際に、紫
外線照射機のランプから生ずる熱線によりインク成分の
部分的気化等が起こり、孔埋めインク硬化物の膨れ、破
裂を生じたり、孔埋めインク硬化物が多孔質の発泡体と
なったりする等の問題がある。However, such an alkali-soluble resin inherently does not have ultraviolet curability, and thus rather hinders the curing of the filling ink. Also,
Since the alkali-soluble resin has poor compatibility with the ethylenically unsaturated monomer, it becomes non-uniform when filled in the through-hole and cured by ultraviolet rays. For this reason, when the ink filled in the through holes is cured by ultraviolet rays, the heat rays generated from the lamp of the ultraviolet irradiator cause partial vaporization of the ink components, etc. There are problems such as that the cured product of the hole filling ink becomes a porous foam.
【0005】また、従来の孔埋めインクにおいては、孔
埋めインク硬化物のアルカリ溶液による溶解性向上を主
たる目的としてロジン類が配合されているが、これらは
一般に色調が高いため紫外線透過性が低いので、孔埋め
インクが充填されたスルーホール深部では露光量不足と
なり、深部硬化不良から研磨工程で孔埋めインク硬化物
の表面の剥がれや孔埋めインク硬化物の内部の未硬化樹
脂の飛び出し等の問題が起こりやすかった。[0005] In addition, rosins are blended in the conventional filling ink for the main purpose of improving the solubility of the cured filling ink in an alkaline solution. However, these are generally high in color tone and have low ultraviolet transmittance. Therefore, the exposure amount is insufficient at the deep part of the through hole filled with the filling ink, and the poor curing of the deep part causes the peeling of the surface of the cured filling material in the polishing process or the popping out of the uncured resin inside the cured filling material from the deep curing failure. The problem was easy to happen.
【0006】また、このように紫外線透過性が低いの
で、紫外線透過性を低下させる性質のある顔料等の不活
性固体粉末は少量しか配合することができない。この不
活性固体粉末は孔埋めインク硬化物の研磨性、アルカリ
溶液による剥離性を向上させる性質を有するので充分な
量配合することが望ましいものである。これらの問題の
ため、現状では導体パターンの微細化、高密度化が可能
であるという「穴埋め―液状エッチングレジスト法」の
特長を充分発揮させることができていない。[0006] Further, since the ultraviolet transmittance is low as described above, only a small amount of an inert solid powder such as a pigment having a property of lowering the ultraviolet transmittance can be blended. It is desirable that the inert solid powder be blended in a sufficient amount because it has the property of improving the polishing properties of the cured ink of the pore filling ink and the releasability with an alkaline solution. Due to these problems, at present, the features of the "fill-in-the-liquid etching resist method", in which the conductor pattern can be miniaturized and densified, cannot be fully exhibited.
【0007】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、孔埋めインク硬化物の膨れや破裂を生じさせない
ようにすることができると共に孔埋めインク硬化物が多
孔質の発泡体とならないようにすることができ、また研
磨工程での孔埋めインク硬化物の表面の剥がれや孔埋め
インク硬化物の内部の未硬化樹脂の飛び出しを防止する
ことができ、さらに孔埋めインク硬化物の研磨性やアル
カリ溶液による剥離性を向上させることができるスルー
ホール付きプリント配線板の製造方法を提供することを
目的とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and it is possible to prevent swelling or rupture of a cured product of a filled ink, and the cured product of a filled ink does not become a porous foam. In addition, it is possible to prevent peeling of the surface of the cured filling material in the polishing process, and to prevent uncured resin from jumping out of the cured filling material in the polishing step. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a printed wiring board with through holes, which can improve the properties and the releasability by an alkali solution.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
のスルーホール付きプリント配線板の製造方法は、酸価
が150以上でハーゼン色調が300以下の無色ロジン
誘導体と分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチレ
ン性不飽和単量体とを反応させて得られる反応生成物
(A−1)と、光重合触媒(B)と、不活性固体粉末
(C)とを含有させて紫外線硬化型の孔埋めインク4を
調製し、この孔埋めインク4をプリント配線板製造用パ
ネル10のスルーホール2に充填して硬化させるスルー
ホール充填工程と、スルーホール充填工程でプリント配
線板製造用パネル10の表面に付着した余分の孔埋めイ
ンク4及びその硬化物4hを研磨により除去する研磨工
程と、研磨工程の後のプリント配線板製造用パネル10
の上に現像可能な液状エッチングレジストインクを塗布
し、次に露光、現像してエッチングレジスト層6hを形
成するレジスト形成工程と、レジスト形成工程の後にエ
ッチングによりプリント配線板製造用パネル10の上に
導体パターンを形成するエッチング工程と、エッチング
工程の後にプリント配線板製造用パネル10の表面のエ
ッチングレジスト層6hとスルーホール2内の孔埋めイ
ンク硬化物4hを除去する剥離工程とから成ることを特
徴とするものであり、無色ロジン誘導体にエチレン性不
飽和基が導入された紫外線透過性の良好な反応生成物
(A−1)を用いることにより均一な硬化反応を可能と
し、スルーホール2の深部における硬化性を良好なもの
としかつ不活性固体粉末(C)を充分配合して得られる
紫外線硬化型の孔埋めインク4を用いることで、「穴埋
め―液状エッチングレジスト法」が本来有する導体パタ
ーンの微細化、高密度化が可能であるという特長を充分
発揮させるものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for producing a printed wiring board having a through hole, comprising a colorless rosin derivative having an acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 300 or less, and one compound per molecule. A reaction product (A-1) obtained by reacting an ethylenically unsaturated monomer having only an epoxy group, a photopolymerization catalyst (B), and an inert solid powder (C). A through-hole filling step of preparing an ultraviolet-curing type filling ink 4 and filling the through-hole 2 of the printed wiring board manufacturing panel 10 with the filling ink 4 and curing the same, and a printed wiring board manufacturing process through a through-hole filling step Polishing step of removing excess hole filling ink 4 and its cured product 4h attached to the surface of panel 10 for polishing, and printed wiring board manufacturing panel 10 after the polishing step.
A resist forming step of applying a developable liquid etching resist ink to the top, then exposing and developing to form an etching resist layer 6h, and after the resist forming step, etching is performed on the printed wiring board manufacturing panel 10 by etching. An etching step for forming a conductor pattern, and a peeling step for removing the etching resist layer 6h on the surface of the printed wiring board manufacturing panel 10 and the cured ink filling material 4h in the through hole 2 after the etching step. A uniform curing reaction is enabled by using a reaction product (A-1) having good UV transmittance, in which an ethylenically unsaturated group is introduced into a colorless rosin derivative, and a deep portion of the through-hole 2 is formed. UV curable pore filling obtained by improving the curability at room temperature and sufficiently blending the inert solid powder (C) By using the ink 4, - fine conductor pattern "filling liquid etching resist method" is inherent, but to sufficiently exhibit the advantage that it is possible density.
【0009】また本発明の請求項2に記載のスルーホー
ル付きプリント配線板の製造方法は、請求項1の構成に
加えて、酸価が150以上でハーゼン色調が300以下
の無色ロジン誘導体と分子中に1個のみのエポキシ基を
有するエチレン性不飽和単量体とを反応させて得られた
反応生成物を1〜79.99重量%と、光重合触媒を
0.01〜20重量%と、不活性固体粉末を20〜90
重量%とを含有させて紫外線硬化型の孔埋めインクを調
製することを特徴とするものである。According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed wiring board having a through-hole according to the first aspect, further comprising a colorless rosin derivative having an acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 300 or less. The reaction product obtained by reacting an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group therein is 1 to 79.99% by weight, and the photopolymerization catalyst is 0.01 to 20% by weight. , 20 to 90 inert solid powders
% By weight to prepare a UV-curable ink for filling holes.
【0010】また本発明の請求項3に記載のスルーホー
ル付きプリント配線板の製造方法は、酸価が150以上
でハーゼン色調が300以下の無色ロジン誘導体と分子
中に1個のみのエポキシ基を有するエチレン性不飽和単
量体とを反応させて得られる反応生成物にさらに多塩基
酸無水物を反応させて得られる反応生成物(A−2)
と、光重合触媒(B)と、不活性固体粉末(C)とを含
有させて紫外線硬化型の孔埋めインク4を調製し、この
孔埋めインク4をプリント配線板製造用パネル10のス
ルーホール2に充填して硬化させるスルーホール充填工
程と、スルーホール充填工程でプリント配線板製造用パ
ネル10の表面に付着した余分の孔埋めインク4及びそ
の硬化物4hを研磨により除去する研磨工程と、研磨工
程の後のプリント配線板製造用パネル10の上に現像可
能な液状エッチングレジストインク6を塗布し、次に露
光、現像してエッチングレジスト層6hを形成するレジ
スト形成工程と、レジスト形成工程の後にエッチングに
よりプリント配線板製造用パネル10の上に導体パター
ンを形成するエッチング工程と、エッチング工程の後に
プリント配線板製造用パネル10の表面のエッチングレ
ジスト層6とスルーホール2内の孔埋めインク硬化物4
hを除去する剥離工程とから成ることを特徴とするもの
であり、無色ロジン誘導体にエチレン性不飽和基が導入
され、且つ多塩基酸無水物を反応させて酸価が調整され
た紫外線透過性の良好な反応生成物(A−2)を用いる
ことにより、均一な硬化反応を可能とし、スルーホール
2の深部における硬化性を良好なものとしかつ不活性固
体粉末(C)を充分配合して得られる紫外線硬化型の孔
埋めインク4を用いることで、「穴埋め―液状エッチン
グレジスト法」が本来有する導体パターンの微細化、高
密度化が可能であるという特長を充分発揮させるもので
ある。According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed wiring board having a through hole, wherein a colorless rosin derivative having an acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 300 or less and only one epoxy group in a molecule. Reaction product obtained by reacting a polybasic acid anhydride with a reaction product obtained by reacting an ethylenically unsaturated monomer having the same (A-2)
, A photopolymerization catalyst (B), and an inert solid powder (C) to prepare an ultraviolet-curable ink 4 for filling the pores, and apply the filling ink 4 to the through-holes of the panel 10 for manufacturing a printed wiring board. 2, a through-hole filling step of filling and curing, and a polishing step of removing excess hole filling ink 4 attached to the surface of the printed wiring board manufacturing panel 10 and the cured product 4h thereof by polishing in the through-hole filling step. A resist forming step of applying a developable liquid etching resist ink 6 on the printed wiring board manufacturing panel 10 after the polishing step, and then exposing and developing to form an etching resist layer 6h; An etching step of forming a conductor pattern on the printed wiring board manufacturing panel 10 by etching, and a printed wiring board Hole filling ink cured product of the etching resist layer 6 and the through hole 2 of the surface of the use panel 10 4
and a peeling step of removing h, wherein an ethylenically unsaturated group is introduced into the colorless rosin derivative, and an acid value is adjusted by reacting with a polybasic acid anhydride. By using the reaction product (A-2) having a good quality, a uniform curing reaction is enabled, the curability in the deep part of the through hole 2 is improved, and the inert solid powder (C) is sufficiently mixed. By using the obtained ultraviolet-curing type hole filling ink 4, it is possible to sufficiently exhibit the feature that the "filling-liquid etching resist method" inherently enables finer and higher density conductive patterns.
【0011】また本発明の請求項4に記載のスルーホー
ル付きプリント配線板の製造方法は、請求項3の構成に
加えて、酸価が150以上でハーゼン色調が300以下
の無色ロジン誘導体と分子中に1個のみのエポキシ基を
有するエチレン性不飽和単量体とを反応させて得られる
反応生成物にさらに多塩基酸無水物を反応させて得られ
る反応生成物を1〜79.99重量%と、光重合触媒を
0.01〜20重量%と、不活性固体粉末を20〜90
重量%とを含有させて紫外線硬化型の孔埋めインクを調
製することを特徴とするものである。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed wiring board with through holes according to the third aspect, wherein the colorless rosin derivative having an acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 300 or less and a molecule. A reaction product obtained by reacting an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group therein with a polybasic acid anhydride is used in an amount of 1 to 79.99 wt. % Of the photopolymerization catalyst, 0.01 to 20% by weight, and 20 to 90% of the inert solid powder.
% By weight to prepare a UV-curable ink for filling holes.
【0012】また本発明の請求項5に記載のスルーホー
ル付きプリント配線板の製造方法は、請求項1乃至4の
いずれかの構成に加えて、上記無色ロジン誘導体とし
て、精製ロジンを水素化反応させて得られる酸価160
〜185の無色ロジン誘導体と、α,β−不飽和モノカ
ルボン酸及び/又はα,β−不飽和ジカルボン酸と精製
ロジンとの付加反応物を水素化反応させて得られる酸価
150〜400の無色ロジン誘導体の少なくとも一方を
用いることを特徴とするものである。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a printed wiring board with through holes according to any one of the first to fourth aspects, further comprising the step of hydrogenating purified rosin as the colorless rosin derivative. Acid value 160 obtained by
185 to an acid value of 150 to 400 obtained by subjecting a colorless rosin derivative to an addition reaction product of an α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or an α, β-unsaturated dicarboxylic acid with purified rosin to a hydrogenation reaction. It is characterized by using at least one of a colorless rosin derivative.
【0013】また本発明の請求項6に記載のスルーホー
ル付きプリント配線板の製造方法は、請求項1乃至5の
いずれかの構成に加えて、上記スルーホール2がランド
レススルーホールであることを特徴とするものである。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a printed wiring board with through holes according to any one of the first to fifth aspects, wherein the through hole 2 is a landless through hole. It is a feature.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】本発明の請求項1のスルーホール
付きプリント配線板製造用の紫外線硬化型の孔埋めイン
クに用いられる反応生成物(A−1)は、無色ロジン誘
導体と分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチレン
性不飽和単量体とを反応させて得られるものである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The reaction product (A-1) used in the ultraviolet-curing type filling ink for producing a printed wiring board with through holes according to claim 1 of the present invention contains a colorless rosin derivative and a compound in the molecule. It is obtained by reacting with an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group.
【0015】反応生成物(A−1)の原料である無色ロ
ジン誘導体としては、アビエチン酸、パラストリン酸、
ネオアビエチン酸、ピマール酸、イソピマール酸、デヒ
ドロアビエチン酸等の樹脂酸を主成分とするガムロジ
ン、ウッドロジン、トール油ロジン、あるいは精製ロジ
ンなどの一般的なロジンを化学的処理して得られるも
の、例えば水添ロジン、不均化ロジン、精製不均化ロジ
ン、不均化ロジンもしくは精製不均化ロジンを脱水素化
触媒を用いて脱水素化反応させて得られるもの、重合ロ
ジン、アクリル酸付加ロジン、フマル酸付加ロジン、マ
レイン酸付加ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジ
ン変性フェノール樹脂等の内でハーゼン色調が300以
下のものをいう。一般にロジン及びロジン誘導体はガー
ドナー色調7〜10程度であり、精製ロジンあるいは水
添ロジン等の淡色の場合でもガードナー色調6程度であ
るが、本発明の無色ロジン誘導体としては、その色がこ
れらよりも薄いもので、ハーゼン色調が300以下(ガ
ードナー色調1はハーゼン色調400に相当する。)の
ものでなければならない。Examples of the colorless rosin derivative as a raw material of the reaction product (A-1) include abietic acid, parastolic acid,
Neoabietic acid, pimaric acid, isopimaric acid, gum rosin containing resin acids such as dehydroabietic acid as a main component, wood rosin, tall oil rosin, or those obtained by chemically treating general rosin such as purified rosin, for example, Hydrogenated rosin, disproportionated rosin, purified disproportionated rosin, disproportionated rosin or purified disproportionated rosin obtained by dehydrogenation reaction using a dehydrogenation catalyst, polymerized rosin, acrylated rosin Rosin, fumaric acid-added rosin, maleic acid-added rosin, rosin-modified maleic resin, rosin-modified phenol resin, etc., having a Hazen color tone of 300 or less. In general, rosin and rosin derivatives have a Gardner color tone of about 7 to 10, and even a light color such as purified rosin or hydrogenated rosin has a Gardner color tone of about 6, but the colorless rosin derivative of the present invention has a color higher than these. It must be thin and have a Hazen tone of 300 or less (Gardner tone 1 corresponds to Hazen tone 400).
【0016】そしてこのようにハーゼン色調が300以
下の無色ロジン誘導体を用いることによって、孔埋めイ
ンクを紫外線の透過性が良好なものとすることができ、
紫外線による硬化の際にスルーホール深部における孔埋
めインクの硬化性が良好となり、研磨工程で孔埋めイン
ク硬化物の表面の剥がれや孔埋めインク硬化物の内部の
未硬化樹脂の飛び出し等の問題が生じないようにするこ
とができる。また孔埋めインク硬化物の耐エッチング液
性が特に良好となるものである。By using a colorless rosin derivative having a Hazen color tone of 300 or less as described above, the hole filling ink can be made to have good ultraviolet transmittance.
The curing property of the hole-filling ink in the deep portion of the through-hole is improved when cured by ultraviolet light, and the polishing process causes problems such as peeling of the surface of the cured material of the hole-filled ink and popping out of the uncured resin inside the cured material of the hole-filled ink. Can be prevented. In addition, the cured product of the ink for filling pores has particularly good etching solution resistance.
【0017】また本発明に用いられる無色ロジン誘導体
は、その酸価が150以上であることが必要である。酸
価が150未満では本発明に用いる孔埋めインクの硬化
物のアルカリ溶液による除去性が低下する。また無色ロ
ジン誘導体はその酸価が150以上であれば使用可能で
あるが、入手可能であるという点で500以下であるこ
とが好ましい。また酸価が500を超えると孔埋めイン
ク硬化物のエッチング液に対する耐酸性が低下し、エッ
チング時にスルーホール部分の金属導体層が侵食されて
しまい、製造されるべきスルーホール付きプリント配線
板の性能低下を生じ易い傾向になり、この点を考慮して
も無色ロジン誘導体の酸価は500以下であることが好
ましい。特に好ましい無色ロジン誘導体の酸価の範囲は
150〜400である。The colorless rosin derivative used in the present invention must have an acid value of 150 or more. If the acid value is less than 150, the removability of the cured product of the pore-filling ink used in the present invention with an alkaline solution is reduced. The colorless rosin derivative can be used if its acid value is 150 or more, but is preferably 500 or less from the viewpoint of availability. On the other hand, when the acid value exceeds 500, the acid resistance of the cured product of the filled-in ink to the etchant decreases, and the metal conductor layer in the through-hole portion is eroded at the time of etching. The acid value of the colorless rosin derivative is preferably 500 or less even in consideration of this point. Particularly preferred acid value range of the colorless rosin derivative is 150 to 400.
【0018】上記無色ロジン誘導体の例としては、精製
ロジンを水素化反応させて得られる酸価160〜185
及びハーゼン色調300以下の無色ロジン誘導体(1)
を挙げることができる。ここで精製ロジンとは、アビエ
チン酸、パラストリン酸、ネオアビエチン酸、ピマール
酸、イソピマール酸、デヒドロアビエチン酸等の樹脂酸
を主成分とするガムロジン、ウッドロジン、トール油ロ
ジン等の未精製ロジンあるいは未精製不均化ロジンから
不ケン化物等を除去したものをいう。この不ケン化物の
除去による精製方法は特に限定されるものではなく、例
えば蒸留、再結晶、抽出等の公知の方法を用いることが
できるが、これらの中でも蒸留により主留分を得る方法
が、優れた無色ロジン誘導体を生成する点で好ましい。
また精製不均化ロジンの場合、精製の後さらに、脱水素
化触媒を用いて脱水素したものであってもよい。また水
素化反応は、公知の条件で、例えばパラジウムカーボ
ン、ロジウムカーボン等の公知の水素化触媒により常圧
又は加圧下で加熱することによりおこなわれるが、特に
この方法に限定されるものではない。尚、水素化反応の
後さらにトリフェニルホスファイト等の有機リン系化合
物を加え、さらに必要に応じて加熱するのが最適であ
る。Examples of the above colorless rosin derivative include an acid value of 160 to 185 obtained by hydrogenating purified rosin.
And a colorless rosin derivative having a Hazen color tone of 300 or less (1)
Can be mentioned. Here, the purified rosin is an unpurified rosin or an unpurified rosin such as gum rosin, wood rosin, tall oil rosin or the like, which is mainly composed of resin acids such as abietic acid, parastolic acid, neoabietic acid, pimaric acid, isopimaric acid, and dehydroabietic acid. It refers to a product obtained by removing unsaponifiable substances and the like from disproportionated rosin. The purification method by removing the unsaponifiable matter is not particularly limited, and for example, known methods such as distillation, recrystallization, and extraction can be used.Among these methods, a method of obtaining a main fraction by distillation is described. It is preferable in that it produces an excellent colorless rosin derivative.
In the case of purified disproportionated rosin, it may be one which has been further dehydrogenated using a dehydrogenation catalyst after purification. The hydrogenation reaction is carried out under known conditions, for example, by heating with a known hydrogenation catalyst such as palladium carbon, rhodium carbon or the like under normal pressure or under pressure, but is not particularly limited to this method. It is best to add an organic phosphorus compound such as triphenyl phosphite after the hydrogenation reaction, and further heat if necessary.
【0019】そしてこの精製ロジンを水素化反応させて
得られる酸価160〜185及びハーゼン色調300以
下の無色ロジン誘導体(1)としては、例えば特開平3
−277675号公報に開示されるものを用いることが
でき、荒川化学工業(株)製の超淡色ロジン「KR−6
10」(商品名 色調(ハーゼン60)、酸価170、
軟化点85℃)等がこれに該当する。The colorless rosin derivative (1) having an acid value of 160 to 185 and a Hazen color tone of 300 or less obtained by hydrogenating this purified rosin is described in, for example,
-277675 can be used, and a super-light rosin “KR-6” manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd. can be used.
10 "(trade name color tone (Hazen 60), acid value 170,
(Softening point of 85 ° C.) corresponds to this.
【0020】また無色ロジン誘導体としては上記の他に
例えば、α,β−不飽和モノカルボン酸及び/又はα,
β−不飽和ジカルボン酸と精製ロジンとの付加反応物を
水素化反応させて得られる酸価150〜400及びハー
ゼン色調300以下の無色ロジン誘導体(2)を例示す
ることができる。精製ロジンとしては上記無色ロジン誘
導体(1)の精製ロジンと同様のものを用いることがで
きる。α,β−不飽和モノカルボン酸としては、例えば
アクリル酸、メタアクリル酸、クロトン酸等が挙げられ
る。またα,β−不飽和ジカルボン酸としては、例えば
マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸等が挙げられ
る。Examples of the colorless rosin derivative other than the above include, for example, α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or α, β-unsaturated monocarboxylic acid.
A colorless rosin derivative (2) having an acid value of 150 to 400 and a Hazen color tone of 300 or less obtained by hydrogenating an addition reaction product of β-unsaturated dicarboxylic acid and purified rosin can be exemplified. As the purified rosin, the same as the purified rosin of the colorless rosin derivative (1) can be used. Examples of the α, β-unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid and the like. Examples of the α, β-unsaturated dicarboxylic acid include maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid and the like.
【0021】上記α,β−不飽和モノカルボン酸及び/
又はα,β−不飽和ジカルボン酸と精製ロジンとの付加
反応は、通常、ディールスアルダー反応により、例えば
180〜240℃で1〜9時間、好ましくは不活性ガス
気流下でおこなわれる。また、水素化反応は、公知の条
件で、例えばパラジウムカーボン、ロジウムカーボン等
の公知の水素化触媒により常圧又は加圧下で加熱するこ
とによりおこなわれる。尚、付加反応及び水素化反応は
上記の方法に限定されるものではない。The above α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or
Alternatively, the addition reaction between the α, β-unsaturated dicarboxylic acid and the purified rosin is usually carried out by a Diels-Alder reaction, for example, at 180 to 240 ° C. for 1 to 9 hours, preferably in an inert gas stream. The hydrogenation reaction is carried out under known conditions, for example, by heating with a known hydrogenation catalyst such as palladium carbon or rhodium carbon at normal pressure or under pressure. Incidentally, the addition reaction and the hydrogenation reaction are not limited to the above methods.
【0022】そしてα,β−不飽和モノカルボン酸及び
/又はα,β−不飽和ジカルボン酸と精製ロジンとの付
加反応物を水素化反応させて得られる酸価150〜40
0及びハーゼン色調300以下の無色ロジン誘導体
(2)としては、例えばα,β−不飽和モノカルボン酸
としてアクリル酸を用いた特開平5−86334号公報
の実施例1に開示されるものを用いることができ、荒川
化学工業(株)製の超淡色ロジン「KE−604」(商
品名 色調(ハーゼン50)、酸価245、軟化点13
2℃)等がこれに該当する。An acid value of 150 to 40 obtained by hydrogenating an addition reaction product of α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or α, β-unsaturated dicarboxylic acid with purified rosin.
As the colorless rosin derivative (2) having 0 and a Hazen color tone of 300 or less, for example, the one disclosed in Example 1 of JP-A-5-86334 using acrylic acid as an α, β-unsaturated monocarboxylic acid is used. Ultra light rosin “KE-604” (trade name, color tone (Hazen 50), acid value 245, softening point 13) manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd.
2 ° C.) corresponds to this.
【0023】反応生成物(A−1)の原料であるエチレ
ン性不飽和単量体としては、分子中に1個のみのエポキ
シ基を有するものであって、これは反応生成物(A−
1)に紫外線による硬化性を付与することを目的として
用いられる。分子中に1個のみのエポキシ基を有するエ
チレン性不飽和単量体としては、例えばグリシジル(メ
タ)アクリレ−ト、β−メチルグリシジル(メタ)アク
リレート及び(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチ
ル(メタ)アクリレ−ト等の(メタ)アクリル酸のエポ
キシシクロヘキシル誘導体類並びに(メタ)アクリレ−
トの脂環エポキシ誘導体類及びエポキシ化ステアリルア
クリレートなどが挙げられ、これらは単独で又は併せて
用いることができる。The ethylenically unsaturated monomer, which is a raw material of the reaction product (A-1), has only one epoxy group in the molecule.
It is used for the purpose of imparting curability by ultraviolet rays to 1). Examples of the ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule include glycidyl (meth) acrylate, β-methylglycidyl (meth) acrylate and (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) ) Epoxycyclohexyl derivatives of (meth) acrylic acid such as acrylate and (meth) acrylic acid
And alicyclic epoxy derivatives and epoxidized stearyl acrylate. These can be used alone or in combination.
【0024】またこれらの中でも、反応性の面からメタ
クリル酸エステル系のものよりもアクリル酸エステル系
のものが良く、特にロジン類との付加反応が容易であり
かつ工業的に入手容易な(3,4−エポキシシクロヘキ
シル)メチル(メタ)アクリレ−ト等の(メタ)アクリ
ル酸のエポキシシクロヘキシル誘導体類等が最適であ
る。Among them, acrylates are better than methacrylates in terms of reactivity, and particularly, addition reaction with rosins is easy and industrially easily available (3) Most suitable are epoxycyclohexyl derivatives of (meth) acrylic acid such as 2,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate.
【0025】反応生成物(A−1)は、上記無色ロジン
誘導体と分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチレ
ン性不飽和単量体の反応は公知の方法を用いておこなう
ことができる。例えば、無色ロジン誘導体と(3,4−
エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレ−ト
の反応を例にとると、これらに対し熱重合禁止剤として
ハイドロキノンもしくはハイドロキノンモノメチルエー
テル等及び触媒としてベンジルジメチルアミン、トリエ
チルアミン等の第3級アミン類、トリメチルベンジルア
ンモニウムクロライド、メチルトリエチルアンモニウム
クロライド等の第4級アンモニウム塩類もしくはトリフ
ェニルスチビン等を加え撹拌混合し、常法により、好ま
しくは60〜150℃、特に好ましくは80〜120℃
の反応温度で反応させる。In the reaction product (A-1), the reaction between the colorless rosin derivative and an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule can be carried out by a known method. For example, a colorless rosin derivative and (3,4-
Taking the reaction of epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate as an example, a tertiary amine such as benzyldimethylamine or triethylamine as a thermal polymerization inhibitor and a tertiary amine such as benzyldimethylamine or triethylamine as a catalyst; Ammonium chloride, quaternary ammonium salts such as methyltriethylammonium chloride or triphenylstibine and the like are added and mixed by stirring, and preferably 60 to 150 ° C, particularly preferably 80 to 120 ° C, according to a conventional method.
At a reaction temperature of
【0026】この場合、反応に供する成分を均一に混合
させる等のために、上記各成分に反応溶媒として本反応
に対し不活性である酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン等の低
沸点溶剤を加えて反応をおこない、反応終了後これら溶
剤を留去しても良い。また、本発明に用いる紫外線硬化
型の孔埋めインクに任意成分として後述するエチレン性
不飽和単量体(D)を配合する場合であって、当該エチ
レン性不飽和単量体(D)が本反応に対し不活性なも
の、例えばメチルカルビトール(メタ)アクリレート、
ブチルカルビトール(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メ
タ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ)アクリル
アミド等あるいはこれらの混合物である場合には、これ
を本反応における反応溶媒として用い、得られた反応生
成物溶液中のエチレン性不飽和単量体(D)を留去する
ことなく、そのままインクの調製に用いることもでき
る。In this case, in order to uniformly mix the components to be used for the reaction and the like, low boiling points such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, cyclohexane and the like, which are inert to the reaction, are used as the reaction solvent for each of the above components. The reaction may be carried out by adding a solvent, and after the completion of the reaction, these solvents may be distilled off. Further, in the case where the ethylenically unsaturated monomer (D) described later is blended as an optional component into the ultraviolet curing type hole filling ink used in the present invention, the ethylenically unsaturated monomer (D) is used in the present invention. Those inert to the reaction, such as methyl carbitol (meth) acrylate,
Butyl carbitol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, N , N-dimethyl (meth) acrylamide or the like, or a mixture thereof, is used as a reaction solvent in the present reaction to distill the ethylenically unsaturated monomer (D) in the obtained reaction product solution. Without removing, it can also be used for the preparation of ink as it is.
【0027】上記反応生成物(A−1)の合成反応時に
おいては、分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチ
レン性不飽和単量体は上記酸価を有する無色ロジン誘導
体中のカルボキシル基と反応する。この場合、分子中に
1個のみのエポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体
の使用量は、無色ロジン誘導体のカルボキシル基の1当
量あたり0.05モル以上であってかつ反応後の反応生
成物(A−1)の残存酸価を70以上とすることができ
る量でなければならない。At the time of the synthesis reaction of the above reaction product (A-1), the ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule is substituted with the carboxyl group in the colorless rosin derivative having the above acid value. Reacts with. In this case, the amount of the ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule is 0.05 mol or more per equivalent of the carboxyl group of the colorless rosin derivative and the reaction product after the reaction is formed. It must be an amount that allows the residual acid value of the product (A-1) to be 70 or more.
【0028】分子中に1個のみのエポキシ基を有するエ
チレン性不飽和単量体の使用量が、0.05モルに満た
ない場合には、紫外線による反応性を有する不飽和結合
の反応生成物(A−1)中への導入量が不足し、孔埋め
インク硬化物の膨れ、破裂及び硬化物の発泡体化を効果
的に防止できない。また残存酸価が70に満たない場
合、反応生成物(A−1)のアルカリ溶液に対する溶解
性が不足し、本発明に用いる孔埋めインク及び孔埋めイ
ンク硬化物のアルカリ溶液による除去性が不十分とな
る。特に、このアルカリ溶液による除去性の点から、分
子中に1個のみのエポキシ基を有するエチレン性不飽和
単量体の使用量は、反応生成物(A−1)の残存酸価が
100以上になるような量であることが好ましい。When the amount of the ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule is less than 0.05 mol, the reaction product of an unsaturated bond having reactivity with ultraviolet rays is used. (A-1) Insufficiency in the amount introduced into the ink makes it impossible to effectively prevent swelling, rupture, and foaming of the cured product of the filled pore ink. When the residual acid value is less than 70, the solubility of the reaction product (A-1) in an alkali solution is insufficient, and the removability of the pore-filling ink and the cured product of the pore-filling ink used in the present invention by an alkaline solution is not sufficient. Will be enough. Particularly, from the viewpoint of the removability by the alkaline solution, the amount of the ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule is such that the residual acid value of the reaction product (A-1) is 100 or more. Preferably, the amount is such that
【0029】尚、上記(A−1)成分の製造方法におけ
る各種条件及び工程等は例示的なものでありその製造方
法を限定するものではない。反応生成物(A−1)の配
合量は孔埋めインク全体量中で1〜79.99重量%で
あり、これが1重量%未満ではアルカリ溶液による孔埋
めインクの除去性が低下し、また79.99重量%を超
えると粘度上昇のためスルーホールへの孔埋めインクの
充填が困難になる。この点から反応生成物(A−1)の
配合量の特に好ましい範囲は5〜50重量%である。The various conditions, steps, and the like in the method for producing the component (A-1) are illustrative, and do not limit the production method. The amount of the reaction product (A-1) is 1 to 79.99% by weight based on the total amount of the hole filling ink. If the amount is less than 1% by weight, the removability of the hole filling ink by an alkaline solution is reduced. If it exceeds 0.99% by weight, it becomes difficult to fill the through-holes with the ink for filling holes due to an increase in viscosity. From this point, a particularly preferred range of the amount of the reaction product (A-1) is 5 to 50% by weight.
【0030】本発明のスルーホール付きプリント配線板
製造用の紫外線硬化型の孔埋めインクに用いられる光重
合触媒(B)としては、例えば可視、近紫外又は紫外光
線照射後の光化学反応によってラジカルあるいはルイス
酸を発生する通常の化合物を使用することができるが、
作業性等を考慮すると紫外光領域に分光感度の高いもの
が好ましい。The photopolymerization catalyst (B) used in the ultraviolet-curable ink for filling a hole in a printed wiring board having through holes according to the present invention is, for example, a radical or a radical produced by a photochemical reaction after irradiation with visible, near-ultraviolet or ultraviolet light. Normal compounds that generate Lewis acids can be used,
Considering workability and the like, those having high spectral sensitivity in the ultraviolet region are preferable.
【0031】ラジカル重合反応を誘起する化合物とし
て、ベンゾフェノン類、ビシナルケトン類、例えばジア
セチル、ベンジル、α−ピリジル及びアシロイン類、例
えばピバロイン、α−ピリドイン及びベンゾイン類、例
えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、
ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタ
ール、及びアセトフェノン類、例えば4−フェノキシジ
クロロアセトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセ
トフェノン、ジエトキシアセトフェノン、及びチオキサ
ントン系、例えば2,4−ジエチルチオキサントン、
2,4−ジメチルチオキサントン、2−クロルチオキサ
ントン、2−メチルチオキサントン、イソプロピルチオ
キサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、2,4
−ジプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導
体、及びアントラキノン類、例えばエチルアントラキノ
ン、ベンズアントラキノン、ジアミノアントラキノン、
及びカンファーキノン、4,4′−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン、ジベンゾスベロン、4,4′−ジ
エチルイソフタロフェノン、2−メチル−1−[4−
(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパ
ン−1−オン、アシルホスフィンオキサイド、2,4,
6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ドを挙げることができ、上記化合物は単独或は2種以上
の混合物として用いることができる。尚、これらの中で
も、特にベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン
類、チオキサントン及びその誘導体、アントラキノン類
が、紫外光領域における大きな硬化深度を確保する点で
好ましい。Compounds which induce a radical polymerization reaction include benzophenones, vicinal ketones such as diacetyl, benzyl, α-pyridyl and acyloins such as pivaloin, α-pyridin and benzoins such as benzoin, benzoin methyl ether and benzoin ethyl ether , Benzoin isopropyl ether,
Benzoin isobutyl ether, benzyl dimethyl ketal, and acetophenones such as 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl-dichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, and thioxanthones, such as 2,4-diethylthioxanthone;
2,4-dimethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4
Thioxanthone derivatives such as dipropylthioxanthone, and anthraquinones such as ethylanthraquinone, benzanthraquinone, diaminoanthraquinone,
And camphorquinone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, dibenzosuberone, 4,4'-diethylisophthalophenone, 2-methyl-1- [4-
(Methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, acylphosphine oxide, 2,4,
6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide can be mentioned, and the above compounds can be used alone or as a mixture of two or more kinds. Among these, benzyldimethyl ketal, benzophenones, thioxanthone and its derivatives, and anthraquinones are particularly preferable in terms of securing a large curing depth in the ultraviolet region.
【0032】また、カチオン重合反応を誘起させる光重
合触媒としては、アリールジアゾニウム、ジアリールハ
ロニウム、トリフェニルホスホニウム、ジアルキル−4
−ヒドロキシスルホニウム、ジアルキル−4−ヒドロキ
シジフェニルスルホニウム、アレン−鉄錯体等のPF6
- 、AsF6 - 、BF4 - 、SbF6 - 塩等を挙げるこ
とができる。As the photopolymerization catalyst for inducing the cationic polymerization reaction, aryldiazonium, diarylhalonium, triphenylphosphonium, dialkyl-4
- hydroxy sulfonium, dialkyl-4-hydroxy-diphenyl sulfonium, Allen - PF 6, such as iron complex
-, AsF 6 -, BF 4 -, SbF 6 - can be exemplified salts.
【0033】また、それ自体は紫外線照射により活性化
はしないが、光重合触媒と併用することで光重合反応を
促進するアミン系光重合助触媒等も併せて用いることが
できる。そのような光重合助触媒として、主に脂肪族、
芳香族アミンが使用され、例えば、トリエチレンテトラ
ミン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミ
ン、トリイソプロパノールアミン、n−ブチルアミン、
N−メチルジエタノールアミン、ジエチルアミノエチル
メタアクリレート、ミヒラーケトン、4、4′−ジエチ
ルアミノフェノン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−ブトキシ)エチ
ル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等を挙げる
ことができる。これらの中でも、特にミヒラーケトン、
4、4′−ジエチルアミノフェノン、4−ジメチルアミ
ノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−
ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソア
ミル等の芳香族アミンが、紫外光領域における大きな硬
化深度を確保する点で好ましい。Further, although the photopolymerization catalyst itself is not activated by irradiation with ultraviolet light, an amine-based photopolymerization co-catalyst which promotes a photopolymerization reaction when used in combination with a photopolymerization catalyst can also be used. As such a photopolymerization promoter, mainly aliphatic,
Aromatic amines are used, for example, triethylenetetramine, triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, n-butylamine,
N-methyldiethanolamine, diethylaminoethyl methacrylate, Michler's ketone, 4,4'-diethylaminophenone, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate (n-butoxy), isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, etc. Can be mentioned. Among these, especially Michler's ketone,
4,4'-diethylaminophenone, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid (n-
Aromatic amines such as butoxy) ethyl and isoamyl 4-dimethylaminobenzoate are preferred from the viewpoint of securing a large curing depth in the ultraviolet region.
【0034】光重合触媒(B)の配合量は孔埋めインク
全体量中で0.01〜20重量%であり、これが0.0
1%未満では露光時における孔埋めインクの表面硬化性
が著しく低下し、また20重量%を超えると耐エッチン
グ性が低下する。本発明のスルーホール付きプリント配
線板製造用の紫外線硬化型の孔埋めインクに用いられる
不活性固体粉末(C)は、孔埋めインクがスルーホール
内に充填される際の充填性及び充填状態を向上させると
ともに、孔埋めインク硬化物の研磨性、アルカリ溶液に
よる剥離性を向上させる。この不活性固体粉末(C)と
しては、例えば体質顔料や着色顔料としてタルク、シリ
カ、水酸化アルミニウム、酸化チタン、硫酸バリウム、
カオリン、炭酸カルシウム、フタロシアニン等、また有
機重合体微粒子としてポリエチレン、ナイロン、ポリエ
ステル等、さらに揺変剤としてアエロジル等が挙げられ
る。The blending amount of the photopolymerization catalyst (B) is 0.01 to 20% by weight based on the total amount of the ink for filling pores,
If it is less than 1%, the surface curability of the hole-filling ink at the time of exposure is remarkably reduced. The inert solid powder (C) used in the ultraviolet curing type filling ink for producing a printed wiring board with a through hole according to the present invention has a filling property and a filling state when the filling ink is filled in the through hole. In addition to improving the polishing property, the polishing property of the cured product of the hole-filling ink and the releasability with an alkaline solution are improved. Examples of the inert solid powder (C) include talc, silica, aluminum hydroxide, titanium oxide, barium sulfate, and the like as extender and color pigment.
Examples include kaolin, calcium carbonate, phthalocyanine, and the like, organic polymer fine particles such as polyethylene, nylon, and polyester, and thixotropic agents such as Aerosil.
【0035】本発明の紫外線硬化型の孔埋めインクには
上述のような反応生成物(A−1)を用いるので、不活
性固体粉末(C)を孔埋めインク全体量中で20重量%
以上配合した場合であっても、孔埋めインクが充填され
たスルーホールの深部へ容易に紫外線が到達する。した
がって、スルーホール深部での孔埋めインクの硬化性が
良好となり、深部硬化不良の際にしばしば起こる研磨工
程での硬化物の表面の剥がれや充填硬化物の内部の未硬
化樹脂が飛び出したりする等の問題がない。このため、
孔埋めインク硬化物の研磨性が特に良好になると共に硬
化物のアルカリ溶液による剥離性が向上する不活性固体
粉末の本来的な目的を充分達成でき、孔埋めインク硬化
物の欠けもなく、また最終の剥離工程において孔埋めイ
ンク硬化物がスルーホールからその内壁への残存なしに
完全に除去され、部品装着時のトラブル等が防止され
る。Since the above-mentioned reaction product (A-1) is used in the ultraviolet curing type hole filling ink of the present invention, the inert solid powder (C) is used in an amount of 20% by weight in the total amount of the hole filling ink.
Even in the case of blending as described above, the ultraviolet ray easily reaches the deep part of the through hole filled with the hole filling ink. Therefore, the curability of the ink for filling the hole in the deep part of the through hole becomes good, and the surface of the hardened material is peeled off in the polishing step, which often occurs at the time of poor hardening in the deep part, and the uncured resin inside the filled hardened material pops out. There is no problem. For this reason,
The intrinsic purpose of the inert solid powder, in which the abrasion property of the cured ink filled material becomes particularly good and the releasability of the cured material by an alkaline solution is improved, and the cured ink filled material is not chipped, In the final peeling step, the cured product of the filling ink is completely removed from the through-hole without remaining on the inner wall, and trouble at the time of mounting components is prevented.
【0036】だたし、不活性粉末の配合量が孔埋めイン
ク全体量中で90重量%を超えると粘度上昇のためスル
ーホールへの孔埋めインクの充填が困難となり、またス
ルーホール深部への紫外線の透過性不足を生じ易くな
る。また、従来の孔埋めインクにおいては、スルーホー
ルへの充填時における空気の抱き込みによる泡の発生を
防止するため多量の消泡剤等の添加剤が配合されてい
る。しかしながら、これら添加剤は露光後の充填物ある
いは硬化物の表面にブリードするので、スルーホールに
充填された孔埋めインクの硬化物上に液状レジストイン
ク等が塗布された場合、スルーホール周辺部で液状エッ
チングレジストインクのハジキが起こり、形成されるエ
ッチングレジスト層の膜厚が極端に薄くなる。このた
め、スルーホールエッジにおいて、エッチング時に保護
されるべき配線回路導体の部分の侵食が起り易い。一
方、本発明の孔埋めインクにおいては、特に不活性固体
粉末(C)を孔埋めインク全体量中で20重量%以上配
合することができるので、消泡剤などの添加剤を配合す
ることなく十分な消泡効果を得られ、液状エッチングレ
ジストインク等のハジキが起こらない。However, if the amount of the inert powder exceeds 90% by weight in the total amount of the filling ink, the viscosity increases, so that it is difficult to fill the filling hole with the filling ink, and it is difficult to fill the deep part of the through hole. Insufficient transmittance of ultraviolet light easily occurs. Further, in the conventional hole filling ink, a large amount of an additive such as an antifoaming agent is blended in order to prevent the generation of bubbles due to the trapping of air when filling the through holes. However, since these additives bleed to the surface of the filled or cured material after exposure, when a liquid resist ink or the like is applied on the cured material of the filling hole filling ink filled in the through hole, it may be around the through hole. Repelling of the liquid etching resist ink occurs, and the thickness of the formed etching resist layer becomes extremely thin. For this reason, at the edge of the through-hole, the portion of the wiring circuit conductor to be protected at the time of etching is likely to be eroded. On the other hand, in the filling ink of the present invention, in particular, the inert solid powder (C) can be blended in an amount of 20% by weight or more based on the whole amount of the filling ink, so that an additive such as an antifoaming agent is not blended. A sufficient defoaming effect can be obtained, and repelling of the liquid etching resist ink or the like does not occur.
【0037】しかも不活性固体粉末(C)を20重量%
以上配合した場合、上述の様々な利点から「穴埋め―液
状エッチングレジスト法」によりスルーホール付きプリ
ント配線板を製造する本発明の方法に好適に用いられる
のみならず、微細かつ高密度の導体パターンを有するラ
ンドレススルーホール付きプリント配線板の製造に特に
好適なものとなり、特に不活性固体粉末を30〜90重
量%の範囲で配合した場合、「穴埋め―液状エッチング
レジスト法」によるランドレススルーホール付きプリン
ト配線板の製造に最適なものとなる。In addition, 20% by weight of the inert solid powder (C)
When compounded as described above, from the various advantages described above, not only is preferably used in the method of the present invention for producing a printed wiring board with through holes by “fill-in-liquid etching resist method”, but also a fine and high-density conductor pattern is formed. It is particularly suitable for the production of printed wiring boards with landless through-holes, especially when the inert solid powder is blended in the range of 30 to 90% by weight, and the printed wiring with landless through-holes by the "fill-in-liquid etching resist method" It is optimal for the production of boards.
【0038】さらに本発明の請求項1のスルーホール付
きプリント配線板製造用の紫外線硬化型の孔埋めインク
には、インクの粘度、硬化速度及び剥離速度の調整等の
目的で、上記成分(A−1)で用いられるエチレン性不
飽和単量体以外のエチレン性不飽和単量体(D)を加え
ることができる。このような不飽和化合物として、例え
ば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、セロソルブ
(メタ)アクリレート、メチルセロソルブ(メタ)アク
リレート、ブチルセロソルブ(メタ)アクリレート、カ
ルビトール(メタ)アクリレート、メチルカルビトール
(メタ)アクリレート、ブチルカルビトール(メタ)ア
クリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、
ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、ジシク
ロペンタジエニルオキシエチル(メタ)アクリレート、
酢酸ビニル、N−ビニルピロリドン、(メタ)アクリル
アマイド、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレー
ト、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、ポリブチレングリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、フ
ェニルグリシジルエーテル(メタ)アクリル酸付加物等
の単官能エチレン性不飽和単量体、及びポリエチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、モルフォリン(メタ)アク
リレート、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、
ポリカプロラクトンジ(メタ)アクリレート等の二官能
エチレン性不飽和単量体等が挙げられる。この成分
(D)の配合量は孔埋めインク全体量中で50重量%以
下であることが好ましく、これを50重量%を越えて用
いるとアルカリ溶液による除去性を低下させる傾向が生
じる。Further, the ultraviolet curing type hole filling ink for manufacturing a printed wiring board with through holes according to claim 1 of the present invention contains the above component (A) for the purpose of adjusting the viscosity, curing speed and peeling speed of the ink. Ethylenically unsaturated monomers (D) other than the ethylenically unsaturated monomers used in -1) can be added. Examples of such unsaturated compounds include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate,
Hydroxypropyl (meth) acrylate, cellosolve (meth) acrylate, methyl cellosolve (meth) acrylate, butyl cellosolve (meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate, methyl carbitol (meth) acrylate, butyl carbitol (meth) acrylate, phenoxy Ethyl (meth) acrylate,
Dicyclopentadienyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyloxyethyl (meth) acrylate,
Vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, (meth) acrylamide, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, polybutylene glycol mono (meth) acrylate, polycaprolactone mono Monofunctional ethylenically unsaturated monomers such as (meth) acrylate and phenylglycidyl ether (meth) acrylic acid adduct, and polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, and polybutylene glycol di (meth) ) Acrylate, morpholine (meth) acrylate, N, N-dimethyl (meth) acrylamide,
Examples include bifunctional ethylenically unsaturated monomers such as polycaprolactone di (meth) acrylate. It is preferable that the compounding amount of the component (D) is 50% by weight or less in the total amount of the filling ink. If the amount exceeds 50% by weight, the removability with an alkaline solution tends to be reduced.
【0039】また本発明の請求項1のスルーホール付き
プリント配線板製造用の紫外線硬化型の孔埋めインクに
は、さらに各種添加剤(E)等を加えることもでき、シ
ランカップリング剤等のカップリング剤、密着性付与
剤、レベリング剤等の各種添加剤、あるいはハイドロキ
ノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロー
ル、ターシャリーブチルカテコール及びフェノチアジン
等の重合禁止剤等を例示することができる。Further, the ultraviolet curing type hole filling ink for manufacturing a printed wiring board with through holes according to the first aspect of the present invention may further contain various additives (E) and the like. Examples thereof include various additives such as a coupling agent, an adhesion-imparting agent, and a leveling agent, and polymerization inhibitors such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, tert-butylcatechol, and phenothiazine.
【0040】また本発明の請求項1のスルーホール付き
プリント配線板製造用の紫外線硬化型の孔埋めインク
は、上記反応生成物(A−1)と光重合触媒(B)と不
活性固体粉末(C)、及びエチレン性不飽和単量体
(D)と各種添加剤(E)等を、例えば三本ロール、ボ
ールミル、サンドミル又はミキサー等の単独又は組み合
わせての使用等の公知の方法により混練して調製するこ
とができる。The ultraviolet curing type filling ink for producing a printed wiring board with through holes according to claim 1 of the present invention comprises the reaction product (A-1), the photopolymerization catalyst (B) and an inert solid powder. (C) and kneading the ethylenically unsaturated monomer (D) and various additives (E) by a known method such as using a three-roll, ball mill, sand mill or mixer alone or in combination. Can be prepared.
【0041】次に上記紫外線硬化型の孔埋めインクを用
いた本発明のスルーホール付きプリント配線板の製造方
法について説明する。本発明のスルーホール付きプリン
ト配線板の製造方法の「穴埋め−液状エッチングレジス
ト法」の製造工程は、上述の紫外線硬化型の孔埋めイン
クをプリント配線板製造用パネルのスルーホールに充填
し、硬化させるスルーホール充填工程と、スルーホール
充填工程でプリント配線板製造用パネルの表面に付着し
た余分の孔埋めインク及びその硬化物を研磨により除去
する研磨工程と、研磨工程の後にプリント配線板製造用
パネルの表面に現像可能な液状エッチングレジストイン
クを塗布し、必要に応じて予備乾燥し、次に露光、現像
してエッチングレジスト層を形成するレジスト形成工程
と、レジスト形成工程の後にエッチングによりプリント
配線板製造用パネルの表面に導体パターンを形成するエ
ッチング工程と、エッチング工程の後にプリント配線板
製造用パネルの表面のエッチングレジストとスルーホー
ル内の孔埋めインク硬化物を除去する剥離工程とからな
るものである。Next, a method of manufacturing a printed wiring board with through holes according to the present invention using the above-mentioned ultraviolet curing type filling ink will be described. In the manufacturing process of the “filling hole—liquid etching resist method” of the manufacturing method of the printed wiring board with the through hole of the present invention, the above-described ultraviolet curing type hole filling ink is filled in the through hole of the printed wiring board manufacturing panel and cured. A through-hole filling step, a polishing step of removing excess hole filling ink attached to the surface of the printed wiring board manufacturing panel and a cured product thereof by polishing in the through hole filling step, and a printed wiring board manufacturing step after the polishing step. A developable liquid etching resist ink is applied to the surface of the panel, pre-dried if necessary, then exposed and developed to form an etching resist layer, and printed wiring is formed by etching after the resist forming step. After the etching step of forming a conductor pattern on the surface of the panel for panel production, and after the etching step It is made of a hole filling peeling process for removing the ink cured product of the etching resist and the through hole of the printed wiring board surface of the manufacturing panel.
【0042】図1は本発明のランドを有するスルーホー
ル付きプリント配線板の製造方法の具体例を示す要部断
面図である。図1(a)に示すように、絶縁基板1(絶
縁基板とは、例えば紙基材フェノール樹脂、紙基材エポ
キシ樹脂、紙基材ポリエステル樹脂、ガラス基材エポキ
シ樹脂、ガラス基材テフロン樹脂、ガラス基材ポリイミ
ド樹脂もしくはコンポジット樹脂などの合成樹脂基板、
あるいはアルミニウムもしくは鉄などの金属をエポキシ
樹脂などで覆って絶縁処理をした金属系絶縁基板、ある
いはアルミナセラッミック、低温焼成セラッミックもし
くは窒化アルミニウムセラッミックなどのセラッミック
基板からなるもの等である。)の上下両面に銅からなる
導体金属層を形成して得た積層板(例えば銅張積層版
等)の所望個所にスルーホール用の孔を穿設し、例えば
無電解めっきと電解めっきの併用により孔壁を含む両面
銅張積層板の全面に銅めっき層3等からなる導電層を形
成する。これにより表裏の配線回路導体の電気的接続を
するスルーホール2が形成されたプリント配線板製造用
パネル10を得る。尚、プリント配線板製造用パネル1
0としては、まず絶縁基材1の所望個所にスルーホール
用の孔を穿設し、その後、例えば無電解めっきと電解め
っきの併用により孔壁を含む絶縁基材の全面に金属導電
層を形成することにより得たもの等の絶縁基板の両面に
金属導体層が形成されたものであっても良い。FIG. 1 is a sectional view of a main part showing a specific example of a method of manufacturing a printed wiring board having through holes having lands according to the present invention. As shown in FIG. 1A, an insulating substrate 1 (for example, a paper base phenol resin, a paper base epoxy resin, a paper base polyester resin, a glass base epoxy resin, a glass base Teflon resin, Synthetic resin substrate such as glass base polyimide resin or composite resin,
Alternatively, a metal-based insulating substrate in which a metal such as aluminum or iron is covered with an epoxy resin or the like and subjected to an insulation treatment, or a ceramic insulating substrate such as an alumina ceramic, a low-temperature fired ceramic, or an aluminum nitride ceramic is used. ), Through holes are formed at desired locations on a laminate (eg, a copper-clad laminate, etc.) obtained by forming a conductive metal layer made of copper on both upper and lower surfaces, for example, a combination of electroless plating and electrolytic plating. Thus, a conductive layer including the copper plating layer 3 and the like is formed on the entire surface of the double-sided copper-clad laminate including the hole walls. As a result, a printed wiring board manufacturing panel 10 in which the through holes 2 for electrically connecting the front and back wiring circuit conductors are formed is obtained. The printed wiring board manufacturing panel 1
As 0, a hole for a through hole is first formed at a desired position of the insulating base material 1 and then a metal conductive layer is formed on the entire surface of the insulating base material including the hole wall by, for example, a combination of electroless plating and electrolytic plating. In this case, a metal conductor layer may be formed on both surfaces of an insulating substrate such as a substrate obtained by the above method.
【0043】次に、スルーホール充填工程において、図
1(b)に示すように、スルーホール2内に、エッチン
グ液からその内壁を保護するために、上記紫外線硬化型
の孔埋めインク4が浸漬充填法、スクリーン印刷充填
法、ピン充填法、ロール充填法等により充填され、続い
て、このプリント配線板製造用パネル10を高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を用い、片
面当たり50〜2000mJの光量にて両面を露光する
ことで、孔埋めインク4が硬化して孔埋めインク硬化物
4hとなる。この際、片面当たり700μm以上の硬化
深度を得ることも可能であり、また、スルーホール2内
の孔埋めインク硬化物4hの充填率は90〜100%に
保持され得る。また、孔埋めインク硬化物4hの膨れ、
破裂或いは孔埋めインク硬化物4hの発泡体化等は発生
しない。尚、上記孔埋めインク4は特に限定されること
なく公知の露光方法により硬化させることができる。Next, in the through-hole filling step, as shown in FIG. 1B, the above-mentioned ultraviolet curing type hole filling ink 4 is immersed in the through-hole 2 in order to protect the inner wall from the etching solution. Filling is performed by a filling method, a screen printing filling method, a pin filling method, a roll filling method, and the like. Subsequently, the printed wiring board manufacturing panel 10 is subjected to 50 to 2000 mJ per side using a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like. By exposing both surfaces with the light amount of, the filling ink 4 is cured to form a cured filling ink 4h. At this time, it is possible to obtain a curing depth of 700 μm or more per one side, and the filling rate of the filled ink cured material 4h in the through hole 2 can be maintained at 90 to 100%. In addition, the swelling of the hole-filled ink cured product 4h,
Rupture or foaming of the hole-filled cured ink 4h does not occur. The hole filling ink 4 can be cured by a known exposure method without any particular limitation.
【0044】上記スルーホール充填工程の後の研磨工程
において、図1(c)に示すように、銅めっき層3表面
の孔埋めインク硬化物4hが、例えばベルトサンダー研
磨、バフ研磨もしくはスラブ研磨等の機械研磨等により
除去される。この場合上記紫外線硬化型の孔埋めインク
4の適用により、未硬化の孔埋めインク4及び孔埋めイ
ンク硬化物4hは低研磨圧で容易に除去される。また、
上述の通り孔埋めインク硬化物4h自体にも膨れ、破裂
或いは孔埋めインク硬化物4hの発泡体化等を生じた部
分がないことから銅めっき層3及びスルーホールエッジ
部2aにおける孔埋めインク硬化物4hの欠けが発生せ
ず、また研磨後においてもスルーホール2内の孔埋めイ
ンク硬化物4hの表面は平滑であり、且つ充填率は90
〜100%に保持され得る。In the polishing step after the through-hole filling step, as shown in FIG. 1C, the cured product 4h of the ink filling the surface of the copper plating layer 3 is subjected to, for example, belt sander polishing, buff polishing or slab polishing. Is removed by mechanical polishing or the like. In this case, by applying the above-mentioned ultraviolet curing type hole filling ink 4, the uncured hole filling ink 4 and the cured material 4h of the hole filling ink are easily removed with a low polishing pressure. Also,
As described above, since the hole-filled ink cured product 4h itself swells, and there is no portion that ruptures or foams the hole-filled ink cured material 4h, the hole-filled ink is cured at the copper plating layer 3 and the through-hole edge 2a. No chipping of the object 4h occurs, and even after polishing, the surface of the cured ink filling material 4h in the through hole 2 is smooth and the filling rate is 90%.
100100%.
【0045】上記研磨工程の後のレジスト形成工程にお
いて、現像可能な液状のエッチングレジストインクを用
いて銅めっき層3表面にエッチングレジスト層6hが形
成されるが、この場合先ず図1(d)に示すように、研
磨後の銅めっき層3の表面にスクリーン印刷法、カーテ
ンコート法、ロールコート法、スピンコート法、ディッ
プコート法又はスプレー法等によりエッチングレジスト
インクが塗布され、必要に応じて予備乾燥されてエッチ
ングレジストインク塗膜層6が形成される。この場合上
記紫外線硬化型の孔埋めインク4の適用により、スルー
ホール2内の孔埋めインク硬化物4hの平坦化が優れて
いるため、スルーホール2の開口部においてもそれ以外
の部分と同様に均一な厚みのエッチングレジストインク
塗膜層6となる。また、この場合、エッチングレジスト
インク塗膜層6中の溶剤によるスルーホール2内の孔埋
めインク硬化物4hの溶出も生じにくい。次に、図1
(e)に示すように、配線回路を描いたパターンマスク
フィルム7がエッチングレジストインク塗膜層6の上に
当てがわれ、紫外線、可視光、近赤外線等の放射線によ
り露光される。尚、上記マスクフィルム7はエッチング
レジストインク塗膜層6に対してオフコンタクト状態に
配置されても良い。上記エッチングレジストインク塗膜
層6の露光後、マスクフィルム7が除去され、続いて現
像液にて現像され、図1(f)に示すように、所望のレ
ジストパターンのエッチングレジスト層6hが形成され
る。そして上記本発明の紫外線硬化型の孔埋めインクが
適用された場合は、スルーホール2内の孔埋めインク硬
化物4hの平坦化が優れているため、均一な厚みのエッ
チングレジスト層6hを形成することが可能である。In a resist forming step after the above-mentioned polishing step, an etching resist layer 6h is formed on the surface of the copper plating layer 3 using a developable liquid etching resist ink. In this case, first, FIG. As shown, the surface of the polished copper plating layer 3 is coated with an etching resist ink by a screen printing method, a curtain coating method, a roll coating method, a spin coating method, a dip coating method, a spraying method, or the like. After drying, the etching resist ink coating film layer 6 is formed. In this case, the use of the above-mentioned ultraviolet curing type hole filling ink 4 is excellent in flattening the cured hole filling ink 4h in the through hole 2, so that the opening portion of the through hole 2 is the same as other portions. The etching resist ink coating layer 6 has a uniform thickness. Further, in this case, the solvent in the through-hole 2 due to the solvent in the etching resist ink coating film layer 6 hardly elutes the cured material 4h for filling the hole. Next, FIG.
As shown in (e), a pattern mask film 7 depicting a wiring circuit is applied on the etching resist ink coating layer 6, and is exposed to radiation such as ultraviolet light, visible light, and near infrared light. Incidentally, the mask film 7 may be arranged in an off-contact state with respect to the etching resist ink coating layer 6. After the exposure of the etching resist ink coating film layer 6, the mask film 7 is removed and subsequently developed with a developing solution to form an etching resist layer 6h having a desired resist pattern as shown in FIG. 1 (f). You. When the ultraviolet curing type filling ink of the present invention is applied, since the cured filling material 4h in the through hole 2 is excellent in flattening, the etching resist layer 6h having a uniform thickness is formed. It is possible.
【0046】上記レジスト形成工程の後のエッチング工
程において、図1(g)に示すように、塩化第二鉄液、
塩化第二銅液等のエッチング液により銅めっき層の露出
部分がエッチング除去され、プリント配線板製造用パネ
ル10の上に所望の導体パターンの銅配線回路導体(ラ
ンドを含む)8が形成される。上記エッチング工程の
後、最後の剥離工程において、図1(h)に示すよう
に、例えば苛性ソーダ、苛性カリ、メタケイ酸ソーダ等
の無機の塩基性物質あるいはアルキルアミン、アルカノ
ールアミン等の有機の塩基性物質の水性液、すなわちア
ルカリ溶液により、図1(i)に示したエッチングレジ
スト層6h及び孔埋めインク硬化物4hが溶解除去さ
れ、目的とするスルーホール付きプリント配線板が得ら
れる。In the etching step after the resist forming step, as shown in FIG.
The exposed portion of the copper plating layer is removed by etching with an etching solution such as a cupric chloride solution, and a copper wiring circuit conductor (including lands) 8 having a desired conductor pattern is formed on the printed wiring board manufacturing panel 10. . After the etching step, in a final stripping step, as shown in FIG. 1H, an inorganic basic substance such as caustic soda, caustic potash, sodium metasilicate, or an organic basic substance such as alkylamine, alkanolamine, etc. 1h, the etching resist layer 6h and the cured ink 4h for filling holes shown in FIG. 1 (i) are dissolved and removed, and the intended printed wiring board with through holes is obtained.
【0047】次にランドレススルーホール付きプリント
配線板の製造方法ついて説明する。図2は本発明のスル
ーホール付きプリント配線板の製造方法によるランドレ
ススルーホール形成過程のうちエッチングレジスト層6
hが形成された時点及び最終的に形成されたランドレス
スルーホール2の部分の具体例を示す平面図及び要部断
面図である。Next, a method of manufacturing a printed wiring board having landless through holes will be described. FIG. 2 shows an etching resist layer 6 in a landless through-hole forming process according to the method of manufacturing a printed wiring board with through-holes of the present invention.
It is the top view and principal part sectional drawing which show the example at the time when h was formed, and the part of the landless through-hole 2 finally formed.
【0048】この場合の製造工程は上述の現像可能な液
状のエッチングレジストインクを用いて通常のランドを
有するスルーホール付きプリント配線板を製造する場合
と全く同様である。ただし、図2(a)に示すように、
形成されるべきレジストパターンのエッチングレジスト
塗膜層6(及びエッチングレジスト層6h)がスルーホ
ールランドに対応する部分を有さないという特徴を有す
るものである。さらにこの状態をA断面について図2
(b)で、またB断面について図2(c)にて示す。The manufacturing process in this case is exactly the same as that for manufacturing a printed wiring board with through holes having ordinary lands by using the above-mentioned developable liquid etching resist ink. However, as shown in FIG.
The feature is that the etching resist coating layer 6 (and the etching resist layer 6h) of the resist pattern to be formed does not have a portion corresponding to the through-hole land. Further, this state is shown in FIG.
FIG. 2B shows the cross section B, and FIG.
【0049】この場合従来では、図2(b)に示すスル
ーホール2のエッジ部でエッチングレジスト層6hと銅
めっき層3及び硬化後の孔埋めインク硬化物4hの三者
が接触する部分9で、孔埋めインク硬化物4hの平滑性
不良等によりエッチングレジスト層6hの密着不良が起
き易く、また液状エッチングレジストインクのはじきの
問題からエッチングレジスト塗膜層6の厚みが不十分と
なり、最終的に得られたプリント配線板表面のランドレ
ススルーホール部分のC断面の状態が、図3(c)に示
すように、スルーホール2のエッジ部の配線回路導体8
がエッチング液により侵食され導通不良を起こしやす
い。In this case, conventionally, at the edge 9 of the through hole 2 shown in FIG. 2 (b), a portion 9 where the etching resist layer 6h and the copper plating layer 3 and the cured ink for filling the filled hole 4h contact each other 9 In addition, poor adhesion of the etching resist layer 6h is likely to occur due to poor smoothness of the hole filling ink cured product 4h and the like, and the thickness of the etching resist coating layer 6 becomes insufficient due to the problem of repelling the liquid etching resist ink. As shown in FIG. 3C, the state of the cross section C of the landless through-hole portion on the surface of the printed wiring board is the wiring circuit conductor 8 at the edge of the through-hole 2.
Are easily eroded by the etchant, causing poor conduction.
【0050】一方、本発明の紫外線硬化型の孔埋めイン
クを用いた場合は、このような問題が無く最終的に形成
されたランドレススルーホール2のエッジ部は、図3
(a)におけるC断面の状態が図3(b)に示すように
配線回路導体8の侵食もなく、導通不良の問題も生じな
いものである。このように本発明では、無色ロジン誘導
体にエチレン性不飽和単量体が付加されている反応生成
物(A−1)を含有する紫外線硬化型の孔埋めインクを
用いているので、孔埋めインクの硬化性が向上するとと
もにスルーホールに充填され、紫外線により硬化される
際に充分均一な状態となり孔埋めインク硬化物の膨れ、
破裂或いは硬化物の発泡体化の問題を解消できるもので
ある。On the other hand, when the ultraviolet curing type hole filling ink of the present invention is used, the edge portion of the finally formed landless through-hole 2 without such a problem is formed as shown in FIG.
As shown in FIG. 3B, the state of the cross section C in FIG. 3A is such that there is no erosion of the wiring circuit conductor 8 and no problem of poor conduction occurs. As described above, in the present invention, the ultraviolet-curable filling ink containing the reaction product (A-1) in which the ethylenically unsaturated monomer is added to the colorless rosin derivative is used. The curability of the ink is improved and filled into the through-holes, and when cured by ultraviolet light, it becomes a sufficiently uniform state and swells the cured ink for filling the holes,
It can solve the problem of rupture or foaming of the cured product.
【0051】尚、上記製造方法における各種条件及び工
程等は例示的なものであり、本発明のスルーホール付き
プリント配線板の製造方法を限定するものではない。ま
た上述の紫外線硬化型の孔埋めインクは本発明のスルー
ホール付きプリント配線板の製造方法に用いられるばか
りでなく、スリーン印刷型のエッチングレジストを用い
る従来の「穴埋め法」によるスルーホール付きプリント
配線板の製造に好適に用いることができることはいうま
でもない。The various conditions, steps, and the like in the above manufacturing method are merely examples, and do not limit the method for manufacturing a printed wiring board with through holes of the present invention. The above-mentioned ultraviolet curing type hole filling ink is used not only in the method of manufacturing a printed wiring board with through holes according to the present invention, but also with a printed wiring having through holes by a conventional "hole filling method" using a screen printing type etching resist. Needless to say, it can be suitably used for manufacturing a plate.
【0052】次に本発明の請求項2のスルーホール付き
プリント配線板の製造方法について説明する。本発明の
請求項2のスルーホール付きプリント配線板の製造方法
は、上記請求項1の紫外線硬化型の孔埋めインクに用い
られる反応生成物(A−1)の代わりに、酸価が150
以上でハーゼン色調が300以下の無色ロジン誘導体と
分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチレン性不飽
和単量体とを反応させて得られる反応生成物(請求項1
の反応生成物(A−1)に相当)にさらに多塩基酸無水
物を反応させて得られる反応生成物(A−2)を用いて
紫外線硬化型の孔埋めインクを調製した点に特徴を有す
るものである。そして本発明の請求項2のスルーホール
付きプリント配線板の製造方法は、上記請求項1の紫外
線硬化型の孔埋めインクに用いられる反応生成物(A−
1)の代わりに、反応生成物(A−2)を用いた点以外
は、請求項1のスルーホール付きプリント配線板の製造
方法と同様におこなうことができる。Next, a method for manufacturing a printed wiring board with through holes according to claim 2 of the present invention will be described. According to the method for producing a printed wiring board with through holes according to claim 2 of the present invention, an acid value of 150 is used in place of the reaction product (A-1) used in the ultraviolet-curable ink for filling holes of claim 1.
A reaction product obtained by reacting a colorless rosin derivative having a Hazen color tone of 300 or less with an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule (claim 1)
(Corresponding to the reaction product (A-1) of Example 1) with a polybasic anhydride to prepare a UV-curable ink for filling pores using the reaction product (A-2) obtained. Have The method for producing a printed wiring board with through holes according to claim 2 of the present invention is directed to a reaction product (A-
Except that the reaction product (A-2) is used instead of 1), the method can be carried out in the same manner as in the method of manufacturing a printed wiring board with through holes according to claim 1.
【0053】反応生成物(A−2)の配合量は孔埋めイ
ンク全体量中で1〜79.99重量%であり、これが1
重量%未満ではアルカリ溶液による孔埋めインクの除去
性が低下し、また79.99重量%を超えると粘度上昇
のためスルーホールへの孔埋めインクの充填が困難にな
る。この点から反応生成物(A−2)の配合量の特に好
ましい範囲は5〜50重量%である。The amount of the reaction product (A-2) is 1 to 79.99% by weight in the total amount of the ink for filling pores,
If the amount is less than 7% by weight, the removability of the pore-filling ink by the alkali solution is reduced. If the amount exceeds 79.99% by weight, the filling of the through-hole with the hole-filling ink becomes difficult due to an increase in viscosity. From this viewpoint, a particularly preferred range of the amount of the reaction product (A-2) is 5 to 50% by weight.
【0054】反応生成物(A−2)は、上記無色ロジン
誘導体(1)(2)の少なくとも一方と、分子中に1個
のみのエポキシ基を有する上記エチレン性不飽和単量体
(反応生成物(A−1)を製造する際に用いられるもの
と同様のもの)とを反応させた反応生成物に、多塩基酸
無水物を反応させて得られるものである。多塩基酸無水
物は、主として反応生成物(A−2)の酸価調整のため
に用いられる。The reaction product (A-2) is composed of at least one of the colorless rosin derivatives (1) and (2) and the ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule (reaction product). (A-1) is obtained by reacting a reaction product of the compound (A-1) with a polybasic acid anhydride. The polybasic acid anhydride is mainly used for adjusting the acid value of the reaction product (A-2).
【0055】無色ロジン誘導体と分子中に1個のみのエ
ポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体とを反応させ
た場合、ロジン類由来のカルボキシル基の残存量が減少
する。このため、主として無色ロジン誘導体のカルボキ
シル基とエポキシ基との反応由来のヒドロキシル基に多
塩基酸無水物を付加させることでカルボキシル基を導入
して反応生成物(A−2)の酸価を調整するのである。When a colorless rosin derivative is reacted with an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule, the residual amount of carboxyl groups derived from rosins decreases. Therefore, the acid value of the reaction product (A-2) is adjusted by introducing a carboxyl group by adding a polybasic acid anhydride to the hydroxyl group derived from the reaction between the carboxyl group and the epoxy group of the colorless rosin derivative. You do it.
【0056】そしてこの場合、(A−2)は酸価を大き
く保ちつつ、エチレン性不飽和基を十分な量導入される
ので、孔埋めインクの均一かつ良好な紫外線硬化性とそ
の硬化物のアルカリ剥離性を併せ持ったものとすること
ができる。多塩基酸無水物としては、フタル酸、テトラ
ヒドロフタル酸、3−メチルテトラヒドロフタル酸、4
−メチルテトラヒドロフタル酸、3−エチルテトラヒド
ロフタル酸、4−エチルテトラヒドロフタル酸、3−プ
ロピルテトラヒドロフタル酸、4−プロピルテトラヒド
ロフタル酸、3−ブチルテトラヒドロフタル酸、4−ブ
チルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、3
−メチルヘキサヒドロフタル酸、4−メチルヘキサヒド
ロフタル酸、3−エチルヘキサヒドロフタル酸、4−エ
チルヘキサヒドロフタル酸、3−プロピルヘキサヒドロ
フタル酸、4−プロピルヘキサヒドロフタル酸、3−ブ
チルヘキサヒドロフタル酸及び4−ブチルヘキサヒドロ
フタル酸、ナジック酸、メチルナジック酸、コハク酸、
ドテシルコハク酸、クロレンディック酸、ピロメリット
酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコ
ールビス(アンヒドロトリメート)、メチルシクロヘキ
センテトラカルボン酸、トリメリット酸、ポリアゼライ
ン酸等の無水物を例示することができる。尚、これらの
中でも、特にテトラヒドロフタル酸、トリメリット酸、
ナジック酸、コハク酸が本発明に用いる孔埋めインク及
びその硬化物のアルカリ溶液による除去性を向上させる
点で好ましい。In this case, since (A-2) introduces a sufficient amount of ethylenically unsaturated groups while maintaining a large acid value, the uniform and good ultraviolet curability of the pore-filling ink and the cured product thereof can be obtained. It can also have alkali peelability. Examples of polybasic acid anhydrides include phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, 3-methyltetrahydrophthalic acid,
-Methyltetrahydrophthalic acid, 3-ethyltetrahydrophthalic acid, 4-ethyltetrahydrophthalic acid, 3-propyltetrahydrophthalic acid, 4-propyltetrahydrophthalic acid, 3-butyltetrahydrophthalic acid, 4-butyltetrahydrophthalic acid, hexahydro Phthalic acid, 3
-Methylhexahydrophthalic acid, 4-methylhexahydrophthalic acid, 3-ethylhexahydrophthalic acid, 4-ethylhexahydrophthalic acid, 3-propylhexahydrophthalic acid, 4-propylhexahydrophthalic acid, 3-butyl Hexahydrophthalic acid and 4-butylhexahydrophthalic acid, nadic acid, methylnadic acid, succinic acid,
Anhydrides such as dotesylsuccinic acid, chlorendic acid, pyromellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, ethylene glycol bis (anhydrotrimate), methylcyclohexenetetracarboxylic acid, trimellitic acid, and polyazeleic acid can be exemplified. . In addition, among these, especially tetrahydrophthalic acid, trimellitic acid,
Nadic acid and succinic acid are preferred from the viewpoint of improving the removability of the pore-filling ink used in the present invention and the cured product thereof with an alkaline solution.
【0057】反応生成物(A−2)は二段階の反応によ
り製造することができる。その第一段反応は、まず無色
ロジン誘導体と分子中に1個のみのエポキシ基を有する
エチレン性不飽和単量体を反応させるものである。この
反応は(A−1)の製造の場合と同様な方法によりおこ
なうことができる。この場合、分子中に1個のみのエポ
キシ基を有するエチレン性不飽和単量体の使用量は、反
応生成物(A−1)の場合と同様、無色ロジン誘導体の
カルボキシル基の1当量あたり0.05モル以上でなけ
ればならない。ただし、この反応後の第2段反応におい
て多塩基酸無水物を付加させることでカルボキシル基が
導入されるので、第1段階反応の生成物の酸価は70に
満たなくても良い。この点では反応生成物(A−1)の
製造の場合と異なる。The reaction product (A-2) can be produced by a two-stage reaction. In the first step reaction, first, a colorless rosin derivative is reacted with an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in a molecule. This reaction can be carried out in the same manner as in the production of (A-1). In this case, the amount of the ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule is 0 per equivalent of the carboxyl group of the colorless rosin derivative as in the case of the reaction product (A-1). Must be greater than or equal to .05 moles. However, since a carboxyl group is introduced by adding a polybasic acid anhydride in the second step reaction after this reaction, the acid value of the product of the first step reaction may be less than 70. This is different from the case of producing the reaction product (A-1).
【0058】反応生成物(A−2)の製造の第二段反応
は、第一段反応の後、反応系に多塩基酸無水物を加えて
第一段反応の生成物と反応させるものである。第二段反
応は、公知の方法を用いておこなうことができる。例え
ば、第一段反応の後の反応系に多塩基酸無水物を加え、
撹拌混合し、常法により、好ましくは60〜150℃、
特に好ましくは80〜120℃の反応温度で反応させ
る。この際、新たに熱重合禁止剤、触媒等を追加しても
良い。The second stage reaction for producing the reaction product (A-2) is a process in which after the first stage reaction, a polybasic acid anhydride is added to the reaction system to react with the product of the first stage reaction. is there. The second-stage reaction can be performed using a known method. For example, a polybasic acid anhydride is added to the reaction system after the first-stage reaction,
Stir and mix, preferably by 60-150 ° C. by a conventional method,
The reaction is particularly preferably performed at a reaction temperature of 80 to 120 ° C. At this time, a thermal polymerization inhibitor, a catalyst and the like may be newly added.
【0059】このようにして得られた反応生成物(A−
2)の残存酸価は70以上でなければならない。残存酸
価が70に満たない場合、反応生成物(A−2)のアル
カリ溶液に対する溶解性が不足し、本発明に用いる孔埋
めインク及び孔埋めインク硬化物のアルカリ溶液による
除去性が不十分となる。特に、このアルカリ溶液による
除去性の点からは、分子中に1個のみのエポキシ基を有
するエチレン性不飽和単量体の使用量は、反応生成物
(A−2)の残存酸価が100以上になるような量であ
ることが好ましい。The reaction product (A-
The residual acid value of 2) must be 70 or more. When the residual acid value is less than 70, the solubility of the reaction product (A-2) in an alkali solution is insufficient, and the removability of the pore-filling ink and the cured product of the pore-filling ink used in the present invention is insufficient. Becomes In particular, from the viewpoint of the removability with the alkaline solution, the amount of the ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule is such that the residual acid value of the reaction product (A-2) is 100%. It is preferable that the amount is such as to be as described above.
【0060】[0060]
【実施例】以下に、本発明を実施例によって具体的に説
明するが、本発明はそれらの実施例に限定されるもので
はない。尚、以下に使用される部及び%は全て重量基準
である。 〔合成例1〕超淡色ロジン「KE−604」(商品名
荒川化学工業(株)製の無色ロジン誘導体、ハーゼン色
調50、酸価245、軟化点132℃)376.0gと
フェノキシエチルアクリレート100.0gを攪拌装置
付きフラスコに入れ充分溶解した後、グリシジルメタク
リレートを71.0g投入し、これにN,N−ジメチル
ベンジルアミン0.1g及びヒドロキノンモノメチルエ
ーテル0.1gを加え、空気を吹き込みながら95℃に
て24時間反応させ、赤外線吸収スペクトルのエポキシ
基由来のピークが消失したことを確認した。フェノキシ
エチルアクリレート溶液として得られた反応生成物溶液
を(A−1−1)とした。反応生成物溶液(A−1−
1)中の反応生成物の酸価は167であった。尚、酸価
測定は(A−1−1)溶液についておこない、換算で反
応生成物の酸価を求めた。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. All parts and percentages used below are based on weight. [Synthesis Example 1] Ultra-light rosin “KE-604” (trade name)
376.0 g of a colorless rosin derivative manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., Hazen color tone 50, acid value 245, softening point 132 ° C.) and 100.0 g of phenoxyethyl acrylate were put into a flask equipped with a stirrer, dissolved sufficiently, and glycidyl methacrylate was added. 71.0 g was added, and 0.1 g of N, N-dimethylbenzylamine and 0.1 g of hydroquinone monomethyl ether were added thereto. The mixture was allowed to react at 95 ° C. for 24 hours while blowing air, and a peak derived from an epoxy group in an infrared absorption spectrum was obtained. Was confirmed to have disappeared. The reaction product solution obtained as a phenoxyethyl acrylate solution was designated as (A-1-1). Reaction product solution (A-1-
The acid value of the reaction product in 1) was 167. The acid value was measured for the solution (A-1-1), and the acid value of the reaction product was determined by conversion.
【0061】〔合成例2〕超淡色ロジン「KR−61
0」(商品名 荒川化学工業(株)製の無色ロジン誘導
体、ハーゼン色調60、酸価170、軟化点85℃)3
06.0gと酢酸エチル100.0gを攪拌装置付きフ
ラスコに入れ充分溶解した後、CyclomerA20
0(商品名 ダイセル化学工業(株)製の(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)メチルアクリレ−ト)を39.
2g投入し、これにN,N−ジメチルベンジルアミン
0.1g及びヒドロキノンモノメチルエーテル0.1g
を加え、空気を吹き込みながら95℃にて24時間反応
させ、赤外線吸収スペクトルのエポキシ基由来のピーク
が消失したことを確認した。反応終了後、フェノキシエ
チルアクリレート100.0gを加え冷却した後減圧下
で酢酸エチルを留去した。フェノキシエチルアクリレー
ト溶液として得られた反応生成物溶液を(A−1−2)
とした。反応生成物溶液(A−1−2)中の反応生成物
の酸価は120であった。尚、酸価測定は(A−1−
2)溶液についておこない、換算で反応生成物の酸価を
求めた。[Synthesis Example 2] Ultra-light rosin “KR-61”
0 "(trade name, colorless rosin derivative manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., Hazen color tone 60, acid value 170, softening point 85 ° C) 3
06.0 g and 100.0 g of ethyl acetate were placed in a flask equipped with a stirrer and dissolved sufficiently.
0 (trade name, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl acrylate, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.).
2 g, N, N-dimethylbenzylamine 0.1 g and hydroquinone monomethyl ether 0.1 g
Was added thereto, and the mixture was allowed to react at 95 ° C. for 24 hours while blowing air. It was confirmed that the peak derived from the epoxy group in the infrared absorption spectrum had disappeared. After completion of the reaction, 100.0 g of phenoxyethyl acrylate was added, and the mixture was cooled, and then ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The reaction product solution obtained as a phenoxyethyl acrylate solution was subjected to (A-1-2)
And The acid value of the reaction product in the reaction product solution (A-1-2) was 120. In addition, the acid value measurement was performed using (A-1-
2) For the solution, the acid value of the reaction product was determined in conversion.
【0062】〔合成例3〕超淡色ロジン「KE−60
4」(商品名 荒川化学工業(株)製の無色ロジン誘導
体、ハーゼン色調50、酸価245、軟化点132℃)
376.0gと酢酸エチル100.0gを攪拌装置付き
フラスコに入れ充分溶解した後、CyclomerA2
00(商品名 ダイセル化学工業(株)製 (3,4−
エポキシシクロヘキシル)メチルアクリレ−ト))を9
8.0g投入し、N,N−ジメチルベンジルアミン0.
1g及びヒドロキノンモノメチルエーテル0.1gを加
え、空気を吹き込みながら95℃にて24時間反応さ
せ、赤外線吸収スペクトルのエポキシ基由来のピークが
消失したことを確認した。この後、系に無水ナジック酸
82.0gを投入し、空気を吹き込みながら95℃にて
8時間反応させた。反応終了後、フェノキシエチルアク
リレート100.0gを加え冷却し、続いて減圧下で酢
酸エチルを留去した。フェノキシエチルアクリレート溶
液として得られた反応生成物溶液を(A−2−1)とし
た。反応生成物溶液(A−2−1)中の反応生成物の酸
価は185であった。尚、酸価測定は(A−2−1)溶
液についておこない、換算で反応生成物の酸価を求め
た。[Synthesis Example 3] Ultra-light rosin “KE-60”
No. 4 "(trade name, colorless rosin derivative manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., Hazen color tone 50, acid value 245, softening point 132 ° C)
376.0 g and 100.0 g of ethyl acetate were placed in a flask equipped with a stirrer and dissolved sufficiently.
00 (trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. (3,4-
Epoxycyclohexyl) methyl acrylate))
8.0 g was charged, and N, N-dimethylbenzylamine was added in an amount of 0.1 g.
1 g and 0.1 g of hydroquinone monomethyl ether were added, and the mixture was reacted at 95 ° C. for 24 hours while blowing in air, and it was confirmed that the peak derived from the epoxy group in the infrared absorption spectrum had disappeared. Thereafter, 82.0 g of nadic anhydride was added to the system and reacted at 95 ° C. for 8 hours while blowing air. After completion of the reaction, 100.0 g of phenoxyethyl acrylate was added and the mixture was cooled, and then ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The reaction product solution obtained as a phenoxyethyl acrylate solution was designated as (A-2-1). The acid value of the reaction product in the reaction product solution (A-2-1) was 185. The acid value was measured for the solution (A-2-1), and the acid value of the reaction product was determined in terms of conversion.
【0063】〔合成例4〕超淡色ロジン「KR−61
0」(商品名 荒川化学工業(株)製の無色ロジン誘導
体、ハーゼン色調60、酸価170、軟化点85℃)3
06.0gと酢酸エチル100.0gを攪拌装置付きフ
ラスコに入れ充分溶解した後、CyclomerA20
0(商品名 ダイセル化学工業(株)製の(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)メチルアクリレ−ト)を19
6.0g投入し、これにN,N−ジメチルベンジルアミ
ン0.1g及びヒドロキノンモノメチルエーテル0.1
gを加え、空気を吹き込みながら95℃にて24時間反
応させ、赤外線吸収スペクトルのエポキシ基由来のピー
クが消失したことを確認した。この後、系に無水トリメ
リット酸192.0gを投入し空気を吹き込みながら9
5℃にて8時間反応させた。反応終了後、フェノキシエ
チルアクリレート100.0gを加え冷却し、続いて減
圧下で酢酸エチルを留去した。フェノキシエチルアクリ
レート溶液として得られた反応生成物溶液を(A−2−
2)とした。反応生成物溶液(A−2−2)中の反応生
成物の酸価は150であった。尚、酸価測定は(A−2
−2)溶液についておこない、換算で反応生成物の酸価
を求めた。[Synthesis Example 4] Ultra-light rosin “KR-61”
0 "(trade name, colorless rosin derivative manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., Hazen color tone 60, acid value 170, softening point 85 ° C) 3
06.0 g and 100.0 g of ethyl acetate were placed in a flask equipped with a stirrer and dissolved sufficiently.
0 (trade name: (3,4-epoxycyclohexyl) methyl acrylate manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.)
6.0 g, N, N-dimethylbenzylamine 0.1 g and hydroquinone monomethyl ether 0.1
g was added thereto, and the mixture was reacted at 95 ° C. for 24 hours while blowing air thereinto, and it was confirmed that the peak derived from the epoxy group in the infrared absorption spectrum had disappeared. Thereafter, 192.0 g of trimellitic anhydride was added to the system, and while blowing air, 9
The reaction was performed at 5 ° C. for 8 hours. After completion of the reaction, 100.0 g of phenoxyethyl acrylate was added and the mixture was cooled, and then ethyl acetate was distilled off under reduced pressure. The reaction product solution obtained as a phenoxyethyl acrylate solution was subjected to (A-2-
2). The acid value of the reaction product in the reaction product solution (A-2-2) was 150. In addition, the acid value measurement was performed according to (A-2).
-2) For the solution, the acid value of the reaction product was determined by conversion.
【0064】〔合成例5〕ヘキサヒドロフタル酸無水物
154.0g、2−ヒドロキシエチルアクリレート11
6.0g、N,N−ジメチルベンジルアミン0.1g及
びヒドロキノンモノメチルエーテル0.1gを攪拌装置
付きフラスコに入れ、空気を吹き込みながら95℃にて
赤外線吸収スペクトルの酸無水物由来のピークが消失す
るまで24時間反応させてモノエステル化合物(F)を
得た。Synthesis Example 5 Hexahydrophthalic anhydride 154.0 g, 2-hydroxyethyl acrylate 11
6.0 g, 0.1 g of N, N-dimethylbenzylamine and 0.1 g of hydroquinone monomethyl ether are placed in a flask equipped with a stirrer, and the peak derived from the acid anhydride in the infrared absorption spectrum disappears at 95 ° C. while blowing air. To obtain a monoester compound (F).
【0065】〔孔埋めインクの製造〕表1に示す配合組
成に基づいて各成分を配合すると共に各々三本ロールに
より混練し、本発明の実施例及び比較例に用いる孔埋め
インク(I)乃至(X)を調製した。[Manufacture of Filling Ink] Each component was blended based on the composition shown in Table 1 and kneaded by three rolls, respectively, and the filling inks (I) to (I) used in Examples and Comparative Examples of the present invention were used. (X) was prepared.
【0066】[0066]
【表1】 [Table 1]
【0067】(実施例1乃至8及び比較例1、2)ガラ
スエポキシ両面銅張積層板「R1705」(商品名 松
下電工(株)製板厚1.6mm、銅厚35μm 基板サ
イズ 330mm×330mm)にドリル直径0.9m
mの孔を5000個穿設し、無電解銅及び電解銅めっき
により孔壁を含む両面銅張積層板の全面に30μmの銅
めっき層を形成してプリント配線板製造用パネル10を
作成した。(Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2) Glass epoxy double-sided copper-clad laminate “R1705” (trade name, Matsushita Electric Works, Ltd., plate thickness 1.6 mm, copper thickness 35 μm, substrate size 330 mm × 330 mm) Drill diameter 0.9m
5,000 holes were formed, and a 30 μm copper plating layer was formed on the entire surface of the double-sided copper-clad laminate including the hole walls by electroless copper and electrolytic copper plating, to produce a printed wiring board manufacturing panel 10.
【0068】次に、表1の各孔埋めインク(I)乃至
(X)を用いて、図1(a)乃至(c)に示す工程に従
って、プリント配線板製造用パネル10を孔埋めインク
4中に浸漬すると共にスルーホール2内に孔埋めインク
4を充填した後に取り出し、プリント配線板製造用パネ
ル10の両面に付着した孔埋めインク4をウレタンスキ
ージーによりかき落した。Next, using the hole filling inks (I) to (X) shown in Table 1, the printed wiring board manufacturing panel 10 was filled with the hole filling ink 4 in accordance with the steps shown in FIGS. After filling the inside of the through hole 2 with the filling ink 4, it was taken out, and the filling ink 4 attached to both surfaces of the printed wiring board manufacturing panel 10 was scraped off with a urethane squeegee.
【0069】続いてこのプリント配線板製造用パネル1
0を高圧水銀灯を用い、片面当たり1000mJで露光
し(尚、比較例2においては、1000mJでは殆ど硬
化しないため2000mJで露光した)、両面から孔埋
めインク4を硬化させた。その後、プリント配線板製造
用パネル10の表面に付着した孔埋めインク4及びその
硬化物4hを、(株)丸源鐵工所製のベルトサンダー
(研削ベルト=400番)を用いて負荷電流2Aで研磨
し、さらに4軸両面研磨機「IOP−600」(商品名
(株)石井表記製)にて、研磨用バフとして「CPホ
イール VF」(商品名 住友スリーエム(株)製)を
用いて負荷電流2Aで研磨することにより除去した。Subsequently, the printed wiring board manufacturing panel 1
No. 0 was exposed at 1000 mJ per side using a high-pressure mercury lamp (in Comparative Example 2, exposure was performed at 2000 mJ because it hardly cures at 1000 mJ), and the hole filling ink 4 was cured from both sides. Then, the hole filling ink 4 and the cured product 4h adhering to the surface of the printed wiring board manufacturing panel 10 are subjected to a load current of 2A using a belt sander (grinding belt = No. 400) manufactured by Marugen Ironworks Co., Ltd. And a four-axis double-side polishing machine "IOP-600" (trade name, manufactured by Ishii Co., Ltd.) using "CP Wheel VF" (trade name, manufactured by Sumitomo 3M Limited) as a polishing buff. It was removed by polishing at a load current of 2A.
【0070】上記研磨工程後のプリント配線板製造用パ
ネル10に、図1(d)乃至(h)に示す工程に従っ
て、希アルカリ溶液で現像可能な液状エッチングレジス
トインク6「エキレジン PER−800(RB−10
2)」(商品名 互応化学工業(株)製)を、(株)フ
ァーネス 製の横型両面ロールコーターにより塗布し、
遠赤外線乾燥機にて雰囲気温度70℃で3分間乾燥し
た。After the polishing step, the printed wiring board manufacturing panel 10 is provided with a liquid etching resist ink 6 "Ekiresin PER-800 (RB) which can be developed with a dilute alkaline solution, according to the steps shown in FIGS. 1 (d) to 1 (h). -10
2) ”(trade name, manufactured by Yoyo Kagaku Kogyo Co., Ltd.) using a horizontal double-sided roll coater manufactured by Furness Co., Ltd.
Drying was performed for 3 minutes at an ambient temperature of 70 ° C. using a far infrared dryer.
【0071】次に、これに各スルーホール2に対応する
ランド形状(ランド直径1.35mm)を有するパター
ンを描いたマスクフィルム7を当てがい、フォトレジス
ト露光用両面同時露光機「HMW201GX」(商品名
(株)オーク製作所 製)により光量100mJで露
光し、その後、1%炭酸ナトリウム水溶液にて現像して
エッチングレジスト層6hを形成した。続いて、50℃
の塩化第二銅エッチング液により銅露出部分をエッチン
グ除去し、水洗後、3%の水酸化ナトリウム水溶液のス
プレーにより上記孔埋めインク硬化物4h及びエッチン
グレジスト層6hを除去して、ランドを有するスルーホ
ール付きプリント配線板を作成した。Next, a mask film 7 on which a pattern having a land shape (land diameter 1.35 mm) corresponding to each through hole 2 is drawn is applied thereto, and a double-sided simultaneous exposure machine “HMW201GX” for photoresist exposure (commercially available) (Oak Manufacturing Co., Ltd.) at a light intensity of 100 mJ, and then developed with a 1% aqueous sodium carbonate solution to form an etching resist layer 6h. Then, at 50 ° C
The exposed copper portion is removed by etching with a cupric chloride etching solution, and after washing with water, the above-mentioned cured ink 4h and the etching resist layer 6h are removed by spraying a 3% aqueous solution of sodium hydroxide to form a through hole having a land. A printed wiring board with holes was made.
【0072】上記のようにして得られた、実施例1乃至
8及び比較例1、2のスルーホール付きプリント配線板
について、その製造過程における孔埋めインク4の硬化
深度及び孔埋めインク硬化物4hの充填率を測定すると
共に、研磨工程における研磨性、エッチングレジスト適
用時のエッチング適正及び剥離工程における溶解除去時
間の各試験項目について試験した。結果を表2に示す。
尚、上記硬化深度の測定は、孔埋めインクの上記充填及
び硬化処理(片面のみ紫外線照射して)後に未硬化の孔
埋めインクを除去すると共に残った硬化部分の厚さをマ
イクロメータで実測することにより行なった。With respect to the printed wiring boards with through holes obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 obtained as described above, the curing depth of the hole filling ink 4 and the cured product 4 h of the hole filling ink in the manufacturing process. And the test items such as the polishing property in the polishing step, the appropriateness of the etching when applying the etching resist, and the dissolution and removal time in the stripping step were tested. Table 2 shows the results.
In addition, the measurement of the curing depth is performed by removing the uncured pore-filling ink after the filling and curing treatment (irradiation of ultraviolet light only on one side) with the pore-filling ink, and actually measuring the thickness of the remaining cured portion with a micrometer. It was done by doing.
【0073】[0073]
【表2】 [Table 2]
【0074】表2に示すように、実施例1乃至5は比較
例1、2に比べて全ての試験結果について良好であっ
た。一方、比較例1については、露光時の硬化深度が小
さく、溶剤の溶出によるスルーホールエッジ部の侵食等
の難点があり、また比較例2については孔埋めインクの
極端な硬化不足により殆ど全ての試験項目について判定
不能となった。 (実施例9乃至16及び比較例3、4)ガラスエポキシ
両面銅張積層板「R1705」(商品名 松下電工
(株)製板厚1.6mm、銅厚35μm 基板サイズ
330mm×330mm)にドリル直径0.3mmのバ
イヤホール用の孔を5000個穿設し、無電解銅及び電
解銅めっきにより孔壁を含む両面銅張積層板の全面に3
0μmの銅めっき層を形成してプリント配線板製造用パ
ネル10を作成した。As shown in Table 2, Examples 1 to 5 were better in all test results than Comparative Examples 1 and 2. On the other hand, in Comparative Example 1, the curing depth at the time of exposure was small, and there were difficulties such as erosion of the through-hole edge portion due to the elution of the solvent. The test item could not be determined. (Examples 9 to 16 and Comparative Examples 3 and 4) Glass epoxy double-sided copper-clad laminate “R1705” (trade name, manufactured by Matsushita Electric Works, Ltd., plate thickness 1.6 mm, copper thickness 35 μm)
(330 mm x 330 mm), 5,000 holes for via holes with a drill diameter of 0.3 mm are drilled, and 3 holes are formed on the entire surface of the double-sided copper-clad laminate including the hole walls by electroless copper and electrolytic copper plating.
A printed wiring board manufacturing panel 10 was formed by forming a copper plating layer of 0 μm.
【0075】次に、表1の各孔埋めインク(I)乃至
(X)を用いて、図1(a)乃至(c)に示す工程に従
って、上記のごとくバイヤスルーホールが形成されてな
るプリント配線板製造用パネル10を孔埋めインク4中
に浸漬すると共にスルーホール2内に孔埋めインクを充
填した後に取り出し、プリント配線板製造用パネル10
の両面に付着した孔埋めインク4をウレタンスキージー
によりかき落した。Next, using each of the hole filling inks (I) to (X) shown in Table 1, according to the steps shown in FIGS. 1A to 1C, a print in which a via-through hole is formed as described above. The printed circuit board manufacturing panel 10 is immersed in the hole filling ink 4 and taken out after filling the through hole 2 with the hole filling ink.
The hole-filling ink 4 attached to both surfaces was scraped off with a urethane squeegee.
【0076】続いて、このプリント配線板製造用パネル
10を高圧水銀灯を用い、片面当たり1000mJで露
光し(比較例4の場合は片面あたり2000mJの露光
をおこなった)、両面から孔埋めインク4を硬化させ
た。その後、プリント配線板製造用パネル10の表面に
付着した孔埋めインク4及びその硬化物4hを、(株)
丸源鐵工所製のベルトサンダー(研削ベルト=400
番)を用いて負荷電流2Aで研磨し、さらに4軸両面研
磨機「IOP−600」(商品名 (株)石井表記製)
にて、研磨用バフとして「CPホイール VF」(商品
名 住友スリーエム(株)製)を用いて負荷電流2Aで
研磨することにより除去した。Subsequently, the printed wiring board manufacturing panel 10 was exposed at 1000 mJ per side using a high-pressure mercury lamp (in the case of Comparative Example 4, exposure was performed at 2000 mJ per side). Cured. Thereafter, the hole filling ink 4 attached to the surface of the printed wiring board manufacturing panel 10 and the cured product 4h thereof are supplied to
Belt sander manufactured by Marugen Iron Works (grinding belt = 400
) And a 4-axis double-side polishing machine "IOP-600" (trade name, manufactured by Ishii Notation).
Then, using a "CP Wheel VF" (trade name, manufactured by Sumitomo 3M Limited) as a polishing buff, the substrate was polished at a load current of 2 A, and removed.
【0077】上記研磨工程後のプリント配線板製造用パ
ネルに、図1(d)示す工程に従って、希アルカリ溶液
で現像可能な液状エッチングレジストインク6「エキレ
ジンPER−800(RB−102)」(商品名 互応
化学工業(株)製)を、(株)ファーネス 製の横型両
面ロールコーターにより塗布し、遠赤外線乾燥機にて雰
囲気温度70℃で3分間乾燥した。次に、各バイヤホー
ル用スルーホールに対応する部分が図2(a)のような
幅80μmのストライプ形状であるパターンを描いたマ
スクフィルム7を当てがい、フォトレジスト露光用両面
同時露光機「HMW201GX」(商品名 (株)オー
ク製作所 製)により光量100mJで露光し、その
後、1%炭酸ナトリウム水溶液にて現像してエッチング
レジスト層6hを形成した。続いて、50℃の塩化第二
銅エッチング液により銅露出部分をエッチング除去し、
水洗後、3%の水酸化ナトリウム水溶液のスプレーによ
り上記孔埋めインク硬化物4h及びエッチングレジスト
層6hを除去してランドレスバイヤスルーホール付きプ
リント配線板を作成した。After the above-mentioned polishing step, a liquid etching resist ink 6 “Ekiresin PER-800 (RB-102)” (product) which can be developed with a dilute alkaline solution is applied to the panel for manufacturing a printed wiring board according to the step shown in FIG. Was applied by a horizontal double-sided roll coater manufactured by Furness Co., Ltd., and dried at 70 ° C. for 3 minutes with a far-infrared dryer. Next, a mask film 7 in which a portion corresponding to each via hole through hole has a stripe-shaped pattern having a width of 80 μm as shown in FIG. 2A is applied, and a double-sided simultaneous exposure machine “HMW201GX” for photoresist exposure is applied. (Trade name, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) at a light intensity of 100 mJ, and then developed with a 1% aqueous sodium carbonate solution to form an etching resist layer 6h. Subsequently, the copper exposed portion is removed by etching with a cupric chloride etching solution at 50 ° C.
After washing with water, the above-mentioned cured ink 4 h and the etching resist layer 6 h were removed by spraying a 3% aqueous sodium hydroxide solution to prepare a printed wiring board with a landless via through hole.
【0078】上記のようにして得られた、実施例9乃至
16及び比較例3、4のランドレスバイヤスルーホール
付きプリント配線板について、その製造過程における孔
埋めインクの硬化深度及び孔埋めインク硬化物の充填率
を測定すると共に、研磨工程における研磨性、エッチン
グレジスト適用時のエッチング適正及び剥離工程におけ
る溶解除去時間の各試験項目について試験した。結果を
表3に示す。尚、上記硬化深度の測定は、孔埋めインク
の上記充填及び硬化処理(片面のみ紫外線照射して)後
に未硬化の孔埋めインクを除去すると共に残った硬化部
分の厚さをマイクロメータで実測することによりおこな
った。With respect to the printed wiring boards having the landless via-through holes of Examples 9 to 16 and Comparative Examples 3 and 4 obtained as described above, the curing depth of the filling ink and the curing of the filling ink during the manufacturing process. In addition to measuring the filling rate of the object, each test item of the polishing property in the polishing step, the appropriateness of the etching when applying the etching resist, and the dissolution and removal time in the stripping step was tested. Table 3 shows the results. In addition, the measurement of the curing depth is performed by removing the uncured pore-filling ink after the filling and curing treatment (irradiation of ultraviolet light only on one side) with the pore-filling ink, and actually measuring the thickness of the remaining cured portion with a micrometer. It was done by doing.
【0079】[0079]
【表3】 [Table 3]
【0080】表3に示すように、実施例9乃至16は比
較例3、4に比べて全ての項目の試験で良好であった。
一方、比較例3については、1000mJでは硬化不足
のため、液状エッチングレジストインク塗布時に溶出
し、エッチングで侵食を生じ、また露光量が2000m
Jの比較例4については、はじきのためスルーホール角
部のエッチングレジストの膜厚か極端に薄くなり、エッ
チングで侵食を生じた。As shown in Table 3, Examples 9 to 16 were better in all the tests than Comparative Examples 3 and 4.
On the other hand, with respect to Comparative Example 3, when 1000 mJ was insufficiently cured, it was eluted during application of the liquid etching resist ink, eroded by etching, and the exposure amount was 2000 mJ.
In Comparative Example 4 of J, the thickness of the etching resist at the corners of the through-hole became extremely thin due to repelling, and erosion occurred by etching.
【0081】[0081]
【発明の効果】上記のように本発明の請求項1に記載の
発明は、酸価が150以上でハーゼン色調が300以下
の無色ロジン誘導体と分子中に1個のみのエポキシ基を
有するエチレン性不飽和単量体とを反応させて得られる
反応生成物と、光重合触媒と、不活性固体粉末とを含有
させて紫外線硬化型の孔埋めインクを調製し、この孔埋
めインクをプリント配線板製造用パネルのスルーホール
に充填して硬化させるスルーホール充填工程と、スルー
ホール充填工程でプリント配線板製造用パネルの表面に
付着した余分の孔埋めインク及びその硬化物を研磨によ
り除去する研磨工程と、研磨工程の後のプリント配線板
製造用パネルの表面に現像可能な液状エッチングレジス
トインクを塗布し、次に露光、現像してエッチングレジ
スト層を形成するレジスト形成工程と、レジスト形成工
程の後にエッチングによりプリント配線板製造用パネル
の表面に導体パターンを形成するエッチング工程と、エ
ッチング工程の後にプリント配線板製造用パネルの表面
のエッチングレジスト層とスルーホール内の孔埋めイン
ク硬化物を除去する剥離工程とから成るので、孔埋めイ
ンク硬化物の膨れや破裂を生じさせないようにすること
ができると共に孔埋めインク硬化物が多孔質の発泡体と
ならないようにすることができ、また研磨工程での孔埋
めインク硬化物の表面の剥がれや孔埋めインク硬化物の
内部の未硬化樹脂の飛び出しを防止することができ、さ
らに孔埋めインク硬化物の研磨性やアルカリ溶液による
剥離性を向上させることができるものである。従ってス
ルーホールのカバーリングが良好でエッチングによる侵
食の問題がなく、またランドレススルーホールと導体パ
ターンとの導通性が良好で断線等の問題がないものであ
る。As described above, the invention according to claim 1 of the present invention comprises a colorless rosin derivative having an acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 300 or less and an ethylenic compound having only one epoxy group in the molecule. A reaction product obtained by reacting with an unsaturated monomer, a photopolymerization catalyst, and an inert solid powder are contained to prepare an ultraviolet-curable ink for filling holes, and the filled ink is used for a printed wiring board. A through-hole filling step of filling and curing through holes of a manufacturing panel, and a polishing step of removing excess hole filling ink attached to the surface of a printed wiring board manufacturing panel and a cured product thereof by polishing during the through hole filling step. Applying a developable liquid etching resist ink to the surface of the printed wiring board manufacturing panel after the polishing step, and then exposing and developing to form an etching resist layer A resist forming step, an etching step of forming a conductor pattern on the surface of the printed wiring board manufacturing panel by etching after the resist forming step, and an etching resist layer and a through hole formed on the surface of the printed wiring board manufacturing panel after the etching step. And a peeling step of removing the cured filling material of the filling material, so that it is possible to prevent swelling or rupture of the cured filling material from the ink and to prevent the cured filling material from becoming a porous foam. It is also possible to prevent peeling of the surface of the cured filling material in the polishing step and to prevent uncured resin from jumping out of the cured filling material in the polishing step. It can improve the releasability with an alkali solution. Therefore, the through hole has good covering and there is no problem of erosion due to etching, and the conductivity between the landless through hole and the conductor pattern is good and there is no problem such as disconnection.
【0082】また本発明の請求項2に記載の発明は、酸
価が150以上でハーゼン色調が300以下の無色ロジ
ン誘導体と分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチ
レン性不飽和単量体とを反応させて得られた反応生成物
を1〜79.99重量%と、光重合触媒を0.01〜2
0重量%と、不活性固体粉末を20〜90重量%とを含
有させて紫外線硬化型の孔埋めインクを調製するので、
孔埋めインク硬化物の膨れや破裂を生じさせないように
することができると共に孔埋めインク硬化物が多孔質の
発泡体とならないようにすることができ、また研磨工程
での孔埋めインク硬化物の表面の剥がれや孔埋めインク
硬化物の内部の未硬化樹脂の飛び出しを防止することが
でき、さらに孔埋めインク硬化物の研磨性やアルカリ溶
液による剥離性を向上させることができるものである。
従ってスルーホールのカバーリングが良好でエッチング
による侵食の問題がなく、またランドレススルーホール
と導体パターンとの導通性が良好で断線等の問題がない
ものである。The invention according to claim 2 of the present invention relates to a colorless rosin derivative having an acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 300 or less and an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule. And 1-79.99% by weight of a reaction product obtained by reacting
0% by weight and 20 to 90% by weight of an inert solid powder to prepare an ultraviolet-curable ink for filling holes.
It is possible to prevent swelling or rupture of the filled-in ink cured product, to prevent the filled-in ink cured product from becoming a porous foam, and to use the cured-filled ink in the polishing process. It is possible to prevent peeling of the surface and jumping out of the uncured resin inside the cured product of the hole-filling ink, and it is possible to further improve the polishing property of the cured product of the hole-filling ink and the releasability with an alkaline solution.
Therefore, the through hole has good covering and there is no problem of erosion due to etching, and the conductivity between the landless through hole and the conductor pattern is good and there is no problem such as disconnection.
【0083】また本発明の請求項3に記載の発明は、酸
価が150以上でハーゼン色調が300以下の無色ロジ
ン誘導体と分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチ
レン性不飽和単量体とを反応させて得られる反応生成物
にさらに多塩基酸無水物を反応させて得られる反応生成
物と、光重合触媒と、不活性固体粉末とを含有させて紫
外線硬化型の孔埋めインクを調製し、この孔埋めインク
をプリント配線板製造用パネルのスルーホールに充填し
て硬化させるスルーホール充填工程と、スルーホール充
填工程でプリント配線板製造用パネルの表面に付着した
余分の孔埋めインク及びその硬化物を研磨により除去す
る研磨工程と、研磨工程の後のプリント配線板製造用パ
ネルの表面に現像可能な液状エッチングレジストインク
を塗布し、次に露光、現像してエッチングレジスト層を
形成するレジスト形成工程と、レジスト形成工程の後に
エッチングによりプリント配線板製造用パネルの表面に
導体パターンを形成するエッチング工程と、エッチング
工程の後にプリント配線板製造用パネルの表面のエッチ
ングレジスト層とスルーホール内の孔埋めインク硬化物
を除去する剥離工程とから成るので、孔埋めインク硬化
物の膨れや破裂を生じさせないようにすることができる
と共に孔埋めインク硬化物が多孔質の発泡体とならない
ようにすることができ、また研磨工程での孔埋めインク
硬化物の表面の剥がれや孔埋めインク硬化物の内部の未
硬化樹脂の飛び出しを防止することができ、さらに孔埋
めインク硬化物の研磨性やアルカリ溶液による剥離性を
向上させることができるものである。従ってスルーホー
ルのカバーリングが良好でエッチングによる侵食の問題
がなく、またランドレススルーホールと導体パターンと
の導通性が良好で断線等の問題がないものである。The invention according to claim 3 of the present invention relates to a colorless rosin derivative having an acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 300 or less and an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule. And a reaction product obtained by further reacting a polybasic acid anhydride with a reaction product obtained by reacting the same with a photopolymerization catalyst and an inert solid powder to form an ultraviolet-curable ink for filling pores. A through-hole filling step of preparing and filling this through-hole filling ink into through-holes of a printed wiring board manufacturing panel, and an excess of filling ink attached to the surface of the printed wiring board manufacturing panel in the through-hole filling step. A polishing step of removing the cured product by polishing, and applying a developable liquid etching resist ink to the surface of the printed wiring board manufacturing panel after the polishing step. A resist forming step of developing and forming an etching resist layer; an etching step of forming a conductive pattern on the surface of the printed wiring board manufacturing panel by etching after the resist forming step; and a printed wiring board manufacturing panel after the etching step And an exfoliation step for removing the cured ink in the through-hole in the through-hole, so that blistering and rupture of the cured ink in the through-hole can be prevented and the cured ink in the filled hole can be prevented. Can be prevented from becoming a porous foam, and it is also possible to prevent the peeling of the surface of the cured ink of the filling material in the polishing step and the protrusion of the uncured resin inside the cured product of the filling ink, Further, it can improve the polishing property of the cured product of the hole-filling ink and the releasability with an alkali solution. Therefore, the through hole has good covering and there is no problem of erosion due to etching, and the conductivity between the landless through hole and the conductor pattern is good and there is no problem such as disconnection.
【0084】また本発明の請求項4に記載の発明は、酸
価が150以上でハーゼン色調が300以下の無色ロジ
ン誘導体と分子中に1個のみのエポキシ基を有するエチ
レン性不飽和単量体とを反応させて得られる反応生成物
にさらに多塩基酸無水物を反応させて得られる反応生成
物を1〜79.99重量%と、光重合触媒を0.01〜
20重量%と、不活性固体粉末を20〜90重量%とを
含有させて紫外線硬化型の孔埋めインクを調製するの
で、孔埋めインク硬化物の膨れや破裂を生じさせないよ
うにすることができると共に孔埋めインク硬化物が多孔
質の発泡体とならないようにすることができ、また研磨
工程での孔埋めインク硬化物の表面の剥がれや孔埋めイ
ンク硬化物の内部の未硬化樹脂の飛び出しを防止するこ
とができ、さらに孔埋めインク硬化物の研磨性やアルカ
リ溶液による剥離性を向上させることができるものであ
る。従ってスルーホールのカバーリングが良好でエッチ
ングによる侵食の問題がなく、またランドレススルーホ
ールと導体パターンとの導通性が良好で断線等の問題が
ないものである。The invention according to claim 4 of the present invention relates to a colorless rosin derivative having an acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 300 or less and an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule. And a reaction product obtained by further reacting a polybasic acid anhydride with a reaction product obtained by reacting
Since the ultraviolet curing type filling ink is prepared by containing 20% by weight and 20 to 90% by weight of the inert solid powder, it is possible to prevent swelling or rupture of the cured filling material. At the same time, it is possible to prevent the cured product of the filled-in ink from becoming a porous foam, and to remove the surface of the cured product of the filled-in ink during the polishing process and to jump out of the uncured resin inside the cured product of the filled-in ink. This can improve the polishing property of the cured product of the ink for filling holes and the releasability of the cured product with an alkaline solution. Therefore, the through hole has good covering and there is no problem of erosion due to etching, and the conductivity between the landless through hole and the conductor pattern is good and there is no problem such as disconnection.
【0085】また本発明の請求項5に記載の発明は、上
記無色ロジン誘導体として、精製ロジンを水素化反応さ
せて得られる酸価160〜185の無色ロジン誘導体
と、α,β−不飽和モノカルボン酸及び/又はα,β−
不飽和ジカルボン酸と精製ロジンとの付加反応物を水素
化反応させて得られる酸価150〜400の無色ロジン
誘導体との少なくとも一方を用いるので、孔埋めインク
硬化物の膨れや破裂を生じさせないようにすることがで
きると共に孔埋めインク硬化物が多孔質の発泡体となら
ないようにすることができ、また研磨工程での孔埋めイ
ンク硬化物の表面の剥がれや孔埋めインク硬化物の内部
の未硬化樹脂の飛び出しを防止することができ、さらに
孔埋めインク硬化物の研磨性やアルカリ溶液による剥離
性を向上させることができるものである。従ってスルー
ホールのカバーリングが良好でエッチングによる侵食の
問題がなく、またランドレススルーホールと導体パター
ンとの導通性が良好で断線等の問題がないものである。The invention according to claim 5 of the present invention is characterized in that, as the colorless rosin derivative, a colorless rosin derivative having an acid value of 160 to 185 obtained by hydrogenating purified rosin, and an α, β-unsaturated Carboxylic acids and / or α, β-
Since at least one of a colorless rosin derivative having an acid value of 150 to 400 obtained by subjecting an addition reaction product of an unsaturated dicarboxylic acid and purified rosin to a hydrogenation reaction is used, the swelling or rupture of the cured product of the filled pore ink is prevented. In addition, it is possible to prevent the cured product of the hole-filling ink from becoming a porous foam, and to peel off the surface of the cured product of the hole-filled ink in the polishing step and to remove the inside of the cured product of the hole-filled ink. This can prevent the cured resin from jumping out, and can further improve the polishing property of the cured product of the ink for filling holes and the releasability with an alkaline solution. Therefore, the through hole has good covering and there is no problem of erosion due to etching, and the conductivity between the landless through hole and the conductor pattern is good and there is no problem such as disconnection.
【0086】また本発明の請求項6に記載の発明は、上
記スルーホールがランドレススルーホールであるので、
孔埋めインク硬化物の膨れや破裂を生じさせないように
することができると共に孔埋めインク硬化物が多孔質の
発泡体とならないようにすることができ、また研磨工程
での孔埋めインク硬化物の表面の剥がれや孔埋めインク
硬化物の内部の未硬化樹脂の飛び出しを防止することが
でき、さらに孔埋めインク硬化物の研磨性やアルカリ溶
液による剥離性を向上させることができるものである。
従ってスルーホールのカバーリングが良好でエッチング
による侵食の問題がなく、またランドレススルーホール
と導体パターンとの導通性が良好で断線等の問題がない
ものである。In the invention according to claim 6 of the present invention, since the through hole is a landless through hole,
It is possible to prevent swelling or rupture of the filled-in ink cured product, to prevent the filled-in ink cured product from becoming a porous foam, and to use the cured-filled ink in the polishing process. It is possible to prevent peeling of the surface and jumping out of the uncured resin inside the cured product of the hole-filling ink, and it is possible to further improve the polishing property of the cured product of the hole-filling ink and the releasability with an alkaline solution.
Therefore, the through hole has good covering and there is no problem of erosion due to etching, and the conductivity between the landless through hole and the conductor pattern is good and there is no problem such as disconnection.
【図1】(a)乃至(h)は本発明の実施の形態の一例
を示す断面図である。FIGS. 1A to 1H are cross-sectional views illustrating an example of an embodiment of the present invention.
【図2】(a)は本発明の他の実施の形態の一例を平面
図、(b)は(a)におけるA−A断面図、(c)は
(a)におけるB−B断面図である。2A is a plan view of another embodiment of the present invention, FIG. 2B is a sectional view taken along line AA in FIG. 2A, and FIG. 2C is a sectional view taken along line BB in FIG. is there.
【図3】(a)は本発明で製造されるランドレススルー
ホールを有するプリント配線板の平面図、(b)は
(a)のC−C断面図、(c)は従来例で製造されたプ
リント配線板の断面図である。3A is a plan view of a printed wiring board having a landless through hole manufactured by the present invention, FIG. 3B is a cross-sectional view taken along line CC of FIG. 3A, and FIG. 3C is a conventional example. It is sectional drawing of a printed wiring board.
2 スルーホール 4 孔埋めインク 4h 孔埋めインク硬化物 6h エッチングレジスト層 10 プリント配線板製造用パネル Reference Signs List 2 through hole 4 hole filling ink 4h hole filling ink cured product 6h etching resist layer 10 panel for manufacturing printed wiring board
Claims (6)
0以下の無色ロジン誘導体と分子中に1個のみのエポキ
シ基を有するエチレン性不飽和単量体とを反応させて得
られた反応生成物と、光重合触媒と、不活性固体粉末と
を含有させて紫外線硬化型の孔埋めインクを調製し、こ
の孔埋めインクをプリント配線板製造用パネルのスルー
ホールに充填して硬化させるスルーホール充填工程と、
スルーホール充填工程でプリント配線板製造用パネルの
表面に付着した余分の孔埋めインク及びその硬化物を研
磨により除去する研磨工程と、研磨工程の後のプリント
配線板製造用パネルの表面に現像可能な液状エッチング
レジストインクを塗布し、次に露光、現像してエッチン
グレジスト層を形成するレジスト形成工程と、レジスト
形成工程の後にエッチングによりプリント配線板製造用
パネルの表面に導体パターンを形成するエッチング工程
と、エッチング工程の後にプリント配線板製造用パネル
の表面のエッチングレジスト層とスルーホール内の孔埋
めインク硬化物を除去する剥離工程とから成ることを特
徴とするスルーホール付きプリント配線板の製造方法。1. An acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 30 or more.
Contains a reaction product obtained by reacting a colorless rosin derivative of 0 or less with an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in a molecule, a photopolymerization catalyst, and an inert solid powder. To prepare a UV-curable filling ink, and fill the through-hole of the printed wiring board manufacturing panel with the filling ink and harden the through-hole filling step,
Polishing process to remove excess hole filling ink and its hardened material attached to the surface of printed wiring board manufacturing panel by polishing in through hole filling process, and developable on printed wiring board manufacturing panel surface after polishing process Forming a resist pattern by applying an appropriate liquid etching resist ink, and then exposing and developing to form an etching resist layer; and an etching step of forming a conductor pattern on the surface of a printed wiring board manufacturing panel by etching after the resist forming step. And a stripping step of removing an etched resist layer on the surface of the panel for manufacturing a printed wiring board and a cured ink filling the through-holes in the through-holes after the etching step. .
0以下の無色ロジン誘導体と分子中に1個のみのエポキ
シ基を有するエチレン性不飽和単量体とを反応させて得
られた反応生成物を1〜79.99重量%と、光重合触
媒を0.01〜20重量%と、不活性固体粉末を20〜
90重量%とを含有させて紫外線硬化型の孔埋めインク
を調製することを特徴とする請求項1に記載のスルーホ
ール付きプリント配線板の製造方法。2. An acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 30 or more.
0 to 99.99% by weight of a reaction product obtained by reacting a colorless rosin derivative of 0 or less with an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule, 0.01 to 20% by weight and 20 to 20% of the inert solid powder
The method for producing a printed wiring board with through-holes according to claim 1, wherein an ultraviolet-curable ink for filling holes is prepared by adding 90% by weight.
0以下の無色ロジン誘導体と分子中に1個のみのエポキ
シ基を有するエチレン性不飽和単量体とを反応させて得
られる反応生成物にさらに多塩基酸無水物を反応させて
得られる反応生成物と、光重合触媒と、不活性固体粉末
とを含有させて紫外線硬化型の孔埋めインクを調製し、
この孔埋めインクをプリント配線板製造用パネルのスル
ーホールに充填して硬化させるスルーホール充填工程
と、スルーホール充填工程でプリント配線板製造用パネ
ルの表面に付着した余分の孔埋めインク及びその硬化物
を研磨により除去する研磨工程と、研磨工程の後のプリ
ント配線板製造用パネルの表面に現像可能な液状エッチ
ングレジストインクを塗布し、次に露光、現像してエッ
チングレジスト層を形成するレジスト形成工程と、レジ
スト形成工程の後にエッチングによりプリント配線板製
造用パネルの表面に導体パターンを形成するエッチング
工程と、エッチング工程の後にプリント配線板製造用パ
ネルの表面のエッチングレジスト層とスルーホール内の
孔埋めインク硬化物を除去する剥離工程とから成ること
を特徴とするスルーホール付きプリント配線板の製造方
法。3. An acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 30
A reaction product obtained by reacting a polybasic acid anhydride with a reaction product obtained by reacting a colorless rosin derivative of 0 or less with an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule Product, a photopolymerization catalyst, and an inert solid powder to prepare an ultraviolet-curable ink for filling the pores,
A through-hole filling step of filling and curing the through-hole filling ink into the through-holes of the panel for manufacturing a printed wiring board, and excess filling ink adhered to the surface of the panel for manufacturing a printed wiring board in the through-hole filling step and curing the same. A polishing step of removing the object by polishing, and applying a developable liquid etching resist ink on the surface of the printed wiring board manufacturing panel after the polishing step, and then exposing and developing to form a resist forming an etching resist layer An etching step of forming a conductive pattern on the surface of the printed wiring board manufacturing panel by etching after the resist forming step, and an etching resist layer on the surface of the printed wiring board manufacturing panel and a hole in the through hole after the etching step. A peeling step of removing a cured ink filling material. Method for producing Lumpur with the printed wiring board.
0以下の無色ロジン誘導体と分子中に1個のみのエポキ
シ基を有するエチレン性不飽和単量体とを反応させて得
られる反応生成物にさらに多塩基酸無水物を反応させて
得られる反応生成物を1〜79.99重量%と、光重合
触媒を0.01〜20重量%と、不活性固体粉末を20
〜90重量%とを含有させて紫外線硬化型の孔埋めイン
クを調製することを特徴とする請求項3に記載のスルー
ホール付きプリント配線板の製造方法。4. An acid value of 150 or more and a Hazen color tone of 30
A reaction product obtained by reacting a polybasic acid anhydride with a reaction product obtained by reacting a colorless rosin derivative of 0 or less with an ethylenically unsaturated monomer having only one epoxy group in the molecule 1 to 79.99% by weight, a photopolymerization catalyst in an amount of 0.01 to 20% by weight,
The method for producing a printed wiring board with through holes according to claim 3, wherein an ultraviolet-curable ink for filling the hole is prepared by adding about 90% by weight.
ンを水素化反応させて得られる酸価160〜185の無
色ロジン誘導体と、α,β−不飽和モノカルボン酸及び
/又はα,β−不飽和ジカルボン酸と精製ロジンとの付
加反応物を水素化反応させて得られる酸価150〜40
0の無色ロジン誘導体との少なくとも一方を用いること
を特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のスルー
ホール付きプリント配線板の製造方法。5. A colorless rosin derivative having an acid value of 160 to 185 obtained by subjecting purified rosin to a hydrogenation reaction, and an α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or α, β-unsaturated. An acid value of 150 to 40 obtained by hydrogenating an addition reaction product of dicarboxylic acid and purified rosin.
5. The method for producing a printed wiring board with through holes according to claim 1, wherein at least one of the colorless rosin derivative of No. 0 is used.
ールであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか
に記載のスルーホール付きプリント配線板の製造方法。6. The method according to claim 1, wherein the through hole is a landless through hole.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28270796A JP3811233B2 (en) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | Method for manufacturing printed wiring board with through hole |
Applications Claiming Priority (1)
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