JPH1012150A - Ac plasma display panel and manufacture thereof - Google Patents

Ac plasma display panel and manufacture thereof

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Publication number
JPH1012150A
JPH1012150A JP8179837A JP17983796A JPH1012150A JP H1012150 A JPH1012150 A JP H1012150A JP 8179837 A JP8179837 A JP 8179837A JP 17983796 A JP17983796 A JP 17983796A JP H1012150 A JPH1012150 A JP H1012150A
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JP
Japan
Prior art keywords
forming
dielectric layer
coating
protective layer
coating liquid
Prior art date
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Pending
Application number
JP8179837A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshio Yoshihara
俊夫 吉原
Nobuko Takahashi
伸子 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP8179837A priority Critical patent/JPH1012150A/en
Publication of JPH1012150A publication Critical patent/JPH1012150A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an AC PDP(plasma display panel) and its manufacturing process, in which a baking process is eliminated to simplify the process, energy is saved, cost is reduced, traditional technical problems and solved, and a practically sufficient memory margin is obtained. SOLUTION: In a PDP in which a back substrate 2 and a front substrate 1 are faced so that a gas discharge space is interposed between them, electrode 4a, 4b covered with a dielectric layer 5 are formed at least one substrate, and a protection layer 6 is formed on the dielectric layer 5, the dielectric layer 5 and the protection layer 6 are formed at the same time by the heat treatment of a covering film comprising a dielectric layer forming coating solution and a covering film comprising a protection film forming coating solution formed on the covering film for forming the dielectric layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は交流型PDP及びそ
の製造方法に関し、更に詳しくは、交流型PDPの誘電
体層及び保護層の構成に特徴がある交流型PDP及びそ
の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an AC PDP and a method of manufacturing the same, and more particularly, to an AC PDP characterized by the structure of a dielectric layer and a protective layer of the AC PDP and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、放電に伴う発光現象をディスプレ
イに利用するいわゆるPDPは、その電極(主としてI
TO)の構造から、放電空間に金属電極が露出している
直流型と、金属電極が誘電体層で覆われている交流型と
に大別される。特に、薄型且つ大画面のカラーテレビ用
に用いる場合には、メモリ機能を有して大型化に対応可
能な交流型PDPが好適である。この交流型PDPは、
電極の構造から面放電方式と対向電極方式とに分けられ
るが、いずれの方式においても前記誘電体層表面には主
として酸化マグネシウムからなる保護層(膜)が形成さ
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a so-called PDP that uses a light emission phenomenon caused by discharge for a display has an electrode (mainly an I-type).
The TO) structure is roughly classified into a DC type in which a metal electrode is exposed in a discharge space and an AC type in which a metal electrode is covered with a dielectric layer. In particular, when used for a thin and large-screen color television, an AC PDP having a memory function and capable of responding to an increase in size is preferable. This AC type PDP is
The electrode structure is classified into a surface discharge method and a counter electrode method. In either method, a protective layer (film) mainly made of magnesium oxide is formed on the surface of the dielectric layer.

【0003】交流型PDPにおいては、誘電体層及びそ
の保護層は、例えば、(1)ガラス基板上に真空蒸着法
で形成したクロム電極上にガラスペーストを印刷し、乾
燥及び焼成(580℃)して誘電体層(膜)を形成し、
次いで、(2)誘電体層上に酸化マグネシウム含有印刷
ペーストを塗布し、乾燥及び焼成(400℃)して酸化
マグネシウム層(膜)を形成する方法等で形成されてい
る。
In an AC type PDP, a dielectric layer and its protective layer are formed, for example, by (1) printing a glass paste on a chromium electrode formed on a glass substrate by a vacuum evaporation method, and drying and firing (580 ° C.). To form a dielectric layer (film)
Next, (2) a magnesium oxide-containing printing paste is applied on the dielectric layer, dried and fired (400 ° C.) to form a magnesium oxide layer (film).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記の方法では、誘電
体層及びその保護層を形成するのに合計2回の焼成工程
が必要であり、そのために工程が煩雑となり、連続生産
の支障となっている。又、省エネルギーの観点からも好
ましいものではない。更に、この方法では、保護層と誘
電体層との密着性が不十分となったり、焼成の過程で保
護層に亀裂を生じることがあった。
In the above method, a total of two firing steps are required to form the dielectric layer and its protective layer, which complicates the process and hinders continuous production. ing. Further, it is not preferable from the viewpoint of energy saving. Further, in this method, the adhesion between the protective layer and the dielectric layer may be insufficient, or the protective layer may be cracked in the course of firing.

【0005】従って、本発明の目的は、従来技術におけ
る焼成工程を削減して工程を簡略化するとともに、省エ
ネルギー、コスト削減に寄与し、実用上十分なメモリー
マージン幅を有する交流型PDP及びその製造方法を提
供することである。
Accordingly, an object of the present invention is to reduce the number of firing steps in the prior art, simplify the steps, contribute to energy saving and cost reduction, and provide an AC type PDP having a practically sufficient memory margin width and its manufacturing. Is to provide a way.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的は以下の本発明
によって達成される。即ち、本発明は、ガス放電空間を
挟んで背面基板と前面基板とが対向配置され、少なくと
も一方の基板には誘電体層に覆われた電極が形成され、
誘電体層上には保護層が形成されてなる交流型PDPと
いうにおいて、上記誘電体層及び保護層が、誘電体層形
成用塗工液からなる被膜及びその上に形成した保護層形
成用塗工液からなる被膜を同時に加熱処理して形成され
たものであることを特徴とする交流型PDP、及びその
製造方法である。
The above object is achieved by the present invention described below. That is, according to the present invention, the back substrate and the front substrate are arranged to face each other with the gas discharge space interposed therebetween, and at least one of the substrates is provided with an electrode covered with a dielectric layer,
In an AC type PDP in which a protective layer is formed on a dielectric layer, the dielectric layer and the protective layer are formed of a coating composed of a dielectric layer forming coating solution and a protective layer forming coating formed thereon. An alternating current type PDP characterized by being formed by simultaneously heating a film made of a working liquid, and a method for producing the same.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】次に図面に示す実施形態に基づい
て本発明を更に詳細に説明する。図1は、本発明を適用
した好ましい実施例の面放電方式の交流型PDPの概略
構造を示す図である。図1において、交流型PDPはガ
ス放電空間3を挟んで互いに平行に対向配置された前面
基板1と背面基板2から構成され、基板1及び2は所定
の厚さのガラス板で形成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in further detail with reference to the embodiments shown in the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a schematic structure of a surface discharge type AC PDP according to a preferred embodiment of the present invention. In FIG. 1, an AC type PDP is composed of a front substrate 1 and a rear substrate 2 which are opposed to each other in parallel with a gas discharge space 3 interposed therebetween, and the substrates 1 and 2 are formed of glass plates having a predetermined thickness. .

【0008】背面基板2に対向する前面基板1の面に
は、X電極4aとY電極4bからなる電極対4が形成さ
れている。この電極対4は、例えば、ガラス製の誘電体
層5で被覆されている。更にこの誘電体層5は、例え
ば、酸化マグネシウムからなる保護層6で被覆されてい
る。又、前面基板1に対向する背面基板2の面には、ア
ドレス電極7、障壁8及び蛍光体層9が形成されてい
る。更に、必要に応じて前面基板1上には反射防止層と
して、例えば、二酸化チタン膜(高屈折率層)10、及
び二酸化ケイ素膜(低屈折率層)11が形成されてい
る。
On the surface of the front substrate 1 facing the rear substrate 2, an electrode pair 4 composed of an X electrode 4a and a Y electrode 4b is formed. The electrode pair 4 is covered with, for example, a dielectric layer 5 made of glass. Further, the dielectric layer 5 is covered with a protective layer 6 made of, for example, magnesium oxide. On the surface of the rear substrate 2 facing the front substrate 1, an address electrode 7, a barrier 8 and a phosphor layer 9 are formed. Further, a titanium dioxide film (high-refractive-index layer) 10 and a silicon dioxide film (low-refractive-index layer) 11, for example, are formed on the front substrate 1 as antireflection layers as required.

【0009】図2は、本発明を適用した好ましい実施例
の対向放電方式の交流型PDPの概略構造を示す図であ
る。図2においては背面基板2に対向する前面基板1の
面には、X電極4aが形成され、該X電極4aは、例え
ば、ガラス製の誘電体層5で被覆されており、更にこの
誘電体層は、例えば、酸化マグネシウムからなる保護層
6で被覆されている。又、前面基板1に対向する背面基
板2の面には、Y電極4b、前記と同様の誘電体層5、
保護層6及び障壁8及び蛍光体層9が形成されている。
更に、必要に応じて前面基板1上には反射防止層とし
て、例えば、二酸化チタン膜(高屈折率層)10、及び
二酸化ケイ素膜(低屈折率層)11が形成されている。
FIG. 2 is a diagram showing a schematic structure of an opposed-discharge type AC PDP according to a preferred embodiment of the present invention. In FIG. 2, an X electrode 4a is formed on the surface of the front substrate 1 facing the rear substrate 2, and the X electrode 4a is covered with, for example, a dielectric layer 5 made of glass. The layer is covered with a protective layer 6 made of, for example, magnesium oxide. On the surface of the back substrate 2 facing the front substrate 1, a Y electrode 4b, a dielectric layer 5 similar to the above,
The protective layer 6, the barrier 8, and the phosphor layer 9 are formed.
Further, a titanium dioxide film (high-refractive-index layer) 10 and a silicon dioxide film (low-refractive-index layer) 11, for example, are formed on the front substrate 1 as antireflection layers as required.

【0010】次に本発明を主として特徴付ける本発明の
交流型PDPの誘電体層及びその保護層の構成について
説明する。 (1)誘電体層形成用塗工液からなる被膜の形成 先ず、図1及び図2の前面基板1及び背面基板2の少な
くとも一方に形成された電極上に誘電体層形成用塗工液
を用いて被膜を形成する。誘電体層形成用塗工液は、低
融点ガラス、二酸化珪素、酸化鉛、窒化珪素等の誘電体
粒子を、例えば、バインダー、溶剤等と混合してペース
ト状のものとして使用される。勿論、その形態はペース
ト状以外であっても差し支えないことはいうまでもな
い。これらの誘電体粒子の好ましい粒径は、0.01〜
1.0μmであり、更に好ましくは0.05〜0.5μ
mである。
Next, the structure of the dielectric layer and the protective layer of the AC PDP of the present invention, which mainly characterizes the present invention, will be described. (1) Formation of Coating Film Made of Coating Solution for Forming Dielectric Layer First, a coating solution for forming a dielectric layer is formed on electrodes formed on at least one of the front substrate 1 and the rear substrate 2 shown in FIGS. To form a coating. The coating liquid for forming a dielectric layer is used as a paste by mixing dielectric particles such as low-melting glass, silicon dioxide, lead oxide, and silicon nitride with, for example, a binder and a solvent. Needless to say, the form may be other than paste. The preferred particle size of these dielectric particles is 0.01 to
1.0 μm, more preferably 0.05 to 0.5 μm
m.

【0011】誘電体層形成用塗工液からなる被膜は、例
えば、ペースト状の上記塗工液を使用する場合には、電
極の上に上記塗工液をスクリーン印刷及び乾燥すること
により形成される。乾燥後の被膜の厚さは、通常5〜5
0μm程度である。該塗工液が分散液等の液状である場
合には、スプレーコート法、ディップコート法、スピン
コート法、ロールコート法、バーコート法、メニスカス
コート法、カーテンフローコート法等の通常の塗布方法
が用いられる。
[0011] For example, when the paste-like coating liquid is used, the coating comprising the dielectric layer forming coating liquid is formed by screen-printing and drying the coating liquid on the electrode. You. The thickness of the coating after drying is usually 5 to 5
It is about 0 μm. When the coating liquid is a liquid such as a dispersion, a normal coating method such as spray coating, dip coating, spin coating, roll coating, bar coating, meniscus coating, curtain flow coating, etc. Is used.

【0012】(2)保護層形成用塗工液からなる被膜の
形成 次に、上記の誘電体層形成用塗工液からなる被膜の上
に、保護層形成用塗工液を用いて被膜を形成する。保護
層形成用塗工液は、アルカリ土類金属化合物単独を含有
するものでも、或いは酸化鉛、二酸化珪素、窒化珪素等
の粒子或いは誘電体層を形成する低融点ガラス粒子等の
表面を上記のアルカリ土類金属化合物で被覆した無機複
合粒子を含有するものであってもよい。それらの塗工液
の形態については、例えば、ペースト状、分散液(ゾル
溶液)等として使用されるが、どのような形態であって
も構わない。
(2) Formation of a coating composed of a coating liquid for forming a protective layer Next, a coating is formed on the coating composed of the coating liquid for forming a dielectric layer by using the coating liquid for forming a protective layer. Form. The coating liquid for forming the protective layer may be one containing an alkaline earth metal compound alone, or may be made of particles of lead oxide, silicon dioxide, silicon nitride, or the like, or the surface of a low-melting glass particle forming a dielectric layer. It may contain inorganic composite particles coated with an alkaline earth metal compound. With respect to the form of the coating liquid, for example, it is used as a paste, a dispersion liquid (sol solution) or the like, but any form may be used.

【0013】保護層形成用塗工液が、アルカリ土類金属
化合物単独を含有する場合において、アルカリ土類金属
化合物粒子の好ましい粒径は、0.01〜1.0μmで
あり、更に好ましくは0.05〜0.5μmである。粒
径が0.01μm未満では、形成される保護層が十分な
保護機能を発現することができず、一方、粒径が1.0
μmを越えると形成される保護層の透明性や視認性が損
われる。好ましいアルカリ土類金属はマグネシウムであ
り、好ましいマグネシウム化合物としては、例えば、酸
化マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウ
ム等の無機化合物、酢酸マグネシウム、マグネシウムモ
ノ又はジメトキシド,エトキシド等のマグネシウムアル
コキシド等の加水分解性基を有する有機マグネシウム化
合物等が挙げられる。加水分解性基を有する有機マグネ
シウム化合物を水或いは有機溶剤の分散液等として使用
する場合には、分散安定性を促進するジエタノールアミ
ン等のアルカノールアミン、カルボン酸類、グリコール
類等の添加剤を使用することが好ましい。
When the coating liquid for forming a protective layer contains only an alkaline earth metal compound, the alkaline earth metal compound particles preferably have a particle size of 0.01 to 1.0 μm, more preferably 0 to 1.0 μm. 0.05 to 0.5 μm. When the particle size is less than 0.01 μm, the formed protective layer cannot exhibit a sufficient protective function.
If it exceeds μm, the transparency and visibility of the formed protective layer will be impaired. A preferred alkaline earth metal is magnesium, and preferred magnesium compounds include, for example, inorganic compounds such as magnesium oxide, magnesium hydroxide, and magnesium carbonate; And organic magnesium compounds having a group. When using an organic magnesium compound having a hydrolyzable group as a dispersion of water or an organic solvent, use additives such as alkanolamines such as diethanolamine, carboxylic acids, and glycols that promote dispersion stability. Is preferred.

【0014】保護層形成用塗工液が、前記無機複合粒子
である場合には、無機粒子を被覆するアルカリ土類金属
化合物の粒径は、好ましくは0.001〜0.5μmで
あり、更に好ましくは0.01〜0.1μmである。粒
径が0.001μm未満では、アルカリ土類金属化合物
の超粒子が凝集体を形成してしまうために、複合粒子形
成時のアルカリ土類金属化合物による被覆処理が極めて
困難であり、均一な被覆が得られない。一方、粒径が
0.5μmを越えるとアルカリ土類金属化合物による無
機粒子の被覆処理が効率よく行えない。
When the coating liquid for forming a protective layer is the inorganic composite particles, the particle size of the alkaline earth metal compound covering the inorganic particles is preferably 0.001 to 0.5 μm. Preferably it is 0.01 to 0.1 μm. When the particle size is less than 0.001 μm, the super-particles of the alkaline earth metal compound form aggregates, so that the coating treatment with the alkaline earth metal compound at the time of forming the composite particles is extremely difficult, and uniform coating is performed. Can not be obtained. On the other hand, when the particle size exceeds 0.5 μm, the coating treatment of the inorganic particles with the alkaline earth metal compound cannot be performed efficiently.

【0015】上記の無機複合粒子は、粉体混合機等によ
る機械的方法;アルカリ土類金属化合物の溶液中に低融
点ガラス粒子等を分散させ、該粒子表面にアルカリ土類
金属化合物の誘導体を析出させる方法;それぞれ+と−
のゼータ電位を有する微粒子を媒体中で混合して一方の
粒子表面に他方の粒子を凝集させるヘテロ凝集を利用す
る方法(例えば、低融点ガラス粒子のゼータ電位は−1
5.76V、酸化マグネシウムのゼータ電位は+30.
18Vである);相互に反応する基を有する無機粒子と
アルカリ土類金属化合物(溶液状態)とを反応させて無
機粒子表面にアルカリ土類金属化合物の誘導体からなる
被覆を形成する表面装飾法(例えば、表面にOH基を有
する無機粒子の分散液に加水分解性基を有する有機アル
カリ土類金属化合物を溶解して反応させる)等によって
製造することができる。
The above-mentioned inorganic composite particles are prepared by a mechanical method using a powder mixer or the like; low-melting glass particles or the like are dispersed in a solution of an alkaline earth metal compound, and a derivative of the alkaline earth metal compound is dispersed on the surface of the particles. Precipitation method; + and-respectively
A method utilizing hetero-aggregation in which fine particles having a zeta potential of 1 are mixed in a medium to aggregate the other particles on the surface of one particle (for example, the zeta potential of low melting glass particles is -1
5.76V, the zeta potential of magnesium oxide is +30.
18V); a surface decoration method in which inorganic particles having mutually reactive groups and an alkaline earth metal compound (solution state) are reacted to form a coating of a derivative of an alkaline earth metal compound on the surface of the inorganic particles ( For example, an organic alkaline earth metal compound having a hydrolyzable group is dissolved and reacted in a dispersion of inorganic particles having an OH group on the surface).

【0016】保護層形成用塗工液からなる被膜を、前記
の(1)で形成した誘電体層形成用塗工液からなる被膜
上に形成する。保護層形成用塗工液からなる被膜の形成
方法は(1)の場合と全く同様である。乾燥後の被膜の
厚さは、通常0.01〜10μm程度である。特に上記
複合粒子を含む塗工液を用いる場合には、一度の塗工で
誘電体層と保護層の個々の機能を有する積層膜が形成さ
れるのでコスト的に有利である。又、最表層の保護層を
形成しようとする場合、保護層としての十分な機能を持
たせるためには、保護層は超微粒子(粒径0.1μm以
下)からなる緻密な膜であることが最も好ましいが、前
記のようにアルカリ土類金属化合物の超微粒子の均一分
散液を得るには、該超微粒子の凝集力が非常に強いため
に困難である。これに対して、比較的粒子径が大きい前
記の如き誘電体層形成用の無機粒子の表面に、上記アル
カリ土類金属化合物の超微粒子を被覆しておくことによ
り、該超微粒子の凝集という問題は起こらず、アルカリ
土類金属化合物が超微粒子の状態である均一な塗工液が
得られ、該塗工液によって均一且つ緻密構造の保護層を
形成することができる。
A coating composed of the coating liquid for forming a protective layer is formed on the coating composed of the coating liquid for forming a dielectric layer formed in the above (1). The method of forming the coating film composed of the coating liquid for forming the protective layer is exactly the same as in the case of (1). The thickness of the coating after drying is usually about 0.01 to 10 μm. In particular, when a coating liquid containing the above composite particles is used, a single coating forms a laminated film having the functions of the dielectric layer and the protective layer, which is advantageous in cost. In the case where the outermost protective layer is to be formed, the protective layer must be a dense film made of ultrafine particles (having a particle size of 0.1 μm or less) in order to have a sufficient function as the protective layer. Although most preferred, it is difficult to obtain a uniform dispersion of ultrafine particles of an alkaline earth metal compound as described above because the ultrafine particles have a very strong cohesive force. On the other hand, if the surface of the inorganic particles for forming the dielectric layer having a relatively large particle diameter is coated with the ultrafine particles of the alkaline earth metal compound, the problem of aggregation of the ultrafine particles is caused. Does not occur, and a uniform coating liquid in which the alkaline earth metal compound is in the form of ultrafine particles is obtained, and the coating liquid can form a protective layer having a uniform and dense structure.

【0017】本発明においては、誘電体層形成用塗工液
からなる被膜上に、保護層形成用塗工液を分散液等の液
状の状態で塗布して被膜を形成する場合には、保護層形
成用塗工液が誘電体層形成用塗工液からなる被膜の間隙
からその内部に浸入し、焼成後に保護層形成用塗工液が
誘電体層中に埋没してしまったり、保護層形成用塗工液
からなる被膜上で保護層形成用塗工液が凝集して均一な
被膜が得られないということが生じる場合がある。この
ような場合には、誘電体層形成用塗工液からなる被膜上
に、高分子材料からなる層を形成してから保護層形成用
塗工液からなる被膜を形成することによって、上記の問
題のない均一な保護層形成用塗工液からなる被膜を形成
することができる。高分子材料は特に限定されないが、
水溶性で、焼成により完全に分解し、膜中に有機物が残
留しない材料、例えば、セルロース類、アクリル樹脂、
アセタール樹脂等が好ましい材料として挙げられる。高
分子材料は、溶液として前記の塗布方法で誘電体層形成
用塗工液からなる被膜に塗布し、乾燥する。高分子材料
からなる層の厚さは上記の問題が防止される厚さであれ
ばよく、特に限定されないが、通常0.01〜10μm
程度である。
In the present invention, when a coating is formed by applying a coating liquid for forming a protective layer in a liquid state such as a dispersion liquid on a coating made of a coating liquid for forming a dielectric layer, a protective coating is formed. The coating liquid for forming a layer penetrates into the inside of the coating made of the coating liquid for forming a dielectric layer, and the coating liquid for forming a protective layer may be buried in the dielectric layer after firing, or may be buried in the dielectric layer. In some cases, the coating liquid for forming a protective layer aggregates on the coating made of the coating liquid for forming, so that a uniform coating cannot be obtained. In such a case, by forming a layer made of a polymer material and then forming a film made of a coating liquid for forming a protective layer on the film made of a coating liquid for forming a dielectric layer, It is possible to form a uniform coating of the protective layer forming coating solution without any problem. The polymer material is not particularly limited,
A material that is water-soluble and completely decomposed by firing and does not leave any organic matter in the film, for example, celluloses, acrylic resin,
Acetal resins are preferred materials. The polymer material is applied as a solution to the coating made of the coating liquid for forming a dielectric layer by the above-mentioned coating method, and dried. The thickness of the layer made of a polymer material is not particularly limited as long as the above problem is prevented, and is not particularly limited.
It is about.

【0018】(3)誘電体層及びその保護層の形成 上記の(1)及び(2)で誘電体層形成用塗工液からな
る被膜と、その上に生成された保護層形成用塗工液から
なる被膜が積層された前面及び/又は背面基板を加熱処
理(焼成)することによって、所定の膜厚を有する誘電
体層及びその保護層が形成される。焼成は、通常の誘電
体層を形成する場合の温度及び時間で行われる。例え
ば、400〜600℃で1〜4時間程度である。又、上
記手順で加熱することにより、誘電体層形成材料と保護
層形成材料とが混在した中間層が一部形成される。その
ために誘電体層と保護層との十分な密着が可能となり、
保護層の膜強度も十分に向上する。
(3) Formation of Dielectric Layer and Protective Layer Thereof The coating made of the coating liquid for forming a dielectric layer in the above (1) and (2), and the coating for forming a protective layer formed thereon. By heating (baking) the front and / or back substrate on which the liquid film is laminated, a dielectric layer having a predetermined thickness and a protective layer thereof are formed. The firing is performed at the temperature and time for forming a normal dielectric layer. For example, it is about 1 to 4 hours at 400 to 600 ° C. By heating in the above procedure, an intermediate layer in which the dielectric layer forming material and the protective layer forming material are mixed is partially formed. Therefore, sufficient adhesion between the dielectric layer and the protective layer becomes possible,
The film strength of the protective layer is sufficiently improved.

【0019】以上のようにして、少なくとも一方の基板
に誘電体層及びその保護層が形成された前面基板と背面
基板とを貼り合わせ、空間部にペニングガスを封入する
ことによって本発明の交流型PDPが製造される。
As described above, the AC-type PDP of the present invention is obtained by laminating the front substrate and the rear substrate each having the dielectric layer and the protective layer formed on at least one substrate and enclosing the penning gas in the space. Is manufactured.

【0020】[0020]

【実施例】次に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説
明する。尚、文中の部及び%は特に断りのない限り重量
基準である。 実施例1保護層形成用塗工液の作製 エタノール中に酸化マグネシウム(宇部興産製、UBE
2000A)を分散させ、2%濃度の酸化マグネシウム
分散液を作製した。
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The parts and percentages in the text are based on weight unless otherwise specified. Example 1 Preparation of Coating Solution for Protective Layer Formation Magnesium oxide (UBE Kosan, UBE
2000A) was dispersed to prepare a 2% concentration magnesium oxide dispersion.

【0021】図1に示す面放電交流PDPを次のように
して作製した。前面基板となるガラス基板上に真空蒸着
法により厚さ0.2μmのクロム電極(X電極4aとY
電極4b)を形成し、その上に誘電体層形成用塗工液と
してヒドロキシプロピルメチルセルロース水溶液中に低
融点ガラスを分散させたペーストを、乾燥膜厚が20μ
mとなるように塗工した。
The surface discharge AC PDP shown in FIG. 1 was produced as follows. A chromium electrode (X electrode 4a and Y electrode) having a thickness of 0.2 μm was formed on a glass substrate serving as a front substrate by a vacuum evaporation method.
An electrode 4b) is formed, and a paste obtained by dispersing a low-melting glass in an aqueous solution of hydroxypropylmethylcellulose as a coating liquid for forming a dielectric layer is coated thereon with a dry film thickness of 20 μm.
m.

【0022】次に、上記で形成した誘電体層形成用塗工
液からなる被膜の上に、上記の保護層形成用塗工液を乾
燥膜厚がほぼ0.2μmとなるようにディップコート法
により、引き上げ速度4mm/secの条件で塗布した
後120℃で0.5時間乾燥させた。その後、580℃
で2時間の焼成を行った。このようにして形成された誘
電体層5と保護層6の厚さは合わせて15μmであっ
た。
Next, the above-mentioned coating liquid for forming a protective layer is coated on the coating formed of the coating liquid for forming a dielectric layer by dip coating such that the dry film thickness becomes approximately 0.2 μm. , And dried at 120 ° C. for 0.5 hour. Then 580 ° C
For 2 hours. The total thickness of the dielectric layer 5 and the protective layer 6 thus formed was 15 μm.

【0023】一方、背面基板となるガラス基板上に真空
蒸着法により形成したクロム電極をパターニングして
0.2μm厚のアドレス電極7を形成した後、このアド
レス電極7上にスクリーン印刷で厚さ150μmの障壁
8を形成し、更に障壁8の内側に蛍光性物質を厚さ10
μmに塗布して蛍光体層9を形成した。
On the other hand, a 0.2 μm thick address electrode 7 is formed by patterning a chromium electrode formed on a glass substrate serving as a rear substrate by a vacuum evaporation method, and then a 150 μm thick screen electrode is formed on the address electrode 7 by screen printing. Barrier 8 is formed, and a fluorescent substance having a thickness of 10
The phosphor layer 9 was formed by coating to a thickness of μm.

【0024】上記で得られた2種の基板をそれぞれの処
理面を対向させて貼り合わせ、He−Xe(1.1%)
ペニングガスを500Torr封入して本発明の交流型
PDPを作製した。このPDPに対して駆動波形が駆動
周波数15KHz、デューティ比23%のパルスにより
放電開始電圧(Vf)及び最小維持電圧(Vsm)を測
定した。
The two substrates obtained above are bonded together with their processing surfaces facing each other, and He-Xe (1.1%)
The alternating current type PDP of the present invention was manufactured by enclosing Penning gas at 500 Torr. With respect to this PDP, a discharge starting voltage (Vf) and a minimum sustaining voltage (Vsm) were measured using a pulse having a driving waveform of a driving frequency of 15 KHz and a duty ratio of 23%.

【0025】測定結果は、Vf=190V、Vsm=1
60V、Vf−Vsm(メモリーマージン)=30Vで
あった。これらの値を酸化マグネシウム膜に代えて真空
蒸着膜を用いた同じ構造のパネルと比較すると、Vfは
30Vほど高く、Vsmは55Vほど高かった。しかし
ながら、実用的にはメモリーマージンは30Vと十分な
幅を有しており、上記の方法で形成した酸化マグネシウ
ム膜は保護層として十分な特性を発揮することが認めら
れた。
The measurement results are as follows: Vf = 190 V, Vsm = 1
60V, Vf-Vsm (memory margin) = 30V. When these values are compared with a panel having the same structure using a vacuum deposited film instead of the magnesium oxide film, Vf was higher by about 30 V and Vsm was higher by about 55 V. However, practically, the memory margin has a sufficient width of 30 V, and it has been confirmed that the magnesium oxide film formed by the above method exhibits sufficient characteristics as a protective layer.

【0026】実施例2 誘電体層形成用塗工液からなる被膜上に1%濃度のヒド
ロキシプロピルメチルセルロース水溶液をディップコー
ト法で塗布し、120℃で30分乾燥させた後に、保護
層形成用塗工液からなる被膜を形成させること以外は実
施例1と同様にして本発明の交流型PDPを作製した。
放電開始電圧(Vf)及び最小維持電圧(Vsm)を測
定したが実施例1と同じ結果が得られた。
Example 2 A 1% aqueous solution of hydroxypropylmethylcellulose was applied by dip coating on a coating made of a coating solution for forming a dielectric layer, and dried at 120 ° C. for 30 minutes. An AC-type PDP of the present invention was produced in the same manner as in Example 1 except that a film made of a working solution was formed.
The discharge start voltage (Vf) and the minimum sustain voltage (Vsm) were measured, and the same results as in Example 1 were obtained.

【0027】実施例3保護層形成用塗工液の作製 低融点ガラスの粉体(粒径2〜3μm)を特級エタノー
ル中に分散させた液(固形分1%)128.43部に酢
酸マグネシウム4水和物14.27部を溶解させた。こ
の溶液を80℃で1時間還流させ、酸化鉛の表面にマグ
ネシウム化合物を析出させた。この溶液から粉体を濾別
し、室温で12時間乾燥させた。得られた粉体(無機複
合粒子)1部を0.25%濃度のヒドロキシプロピルメ
チルセルロース水溶液49部中に分散させて保護層形成
用塗工液を得た。
Example 3 Preparation of Coating Liquid for Protective Layer Formation Magnesium acetate was added to 128.43 parts of a liquid (solid content: 1%) in which low-melting glass powder (particle diameter: 2 to 3 μm) was dispersed in special grade ethanol. 14.27 parts of tetrahydrate were dissolved. This solution was refluxed at 80 ° C. for 1 hour to precipitate a magnesium compound on the surface of the lead oxide. The powder was separated from this solution by filtration and dried at room temperature for 12 hours. One part of the obtained powder (inorganic composite particles) was dispersed in 49 parts of a 0.25% aqueous solution of hydroxypropylmethylcellulose to obtain a coating liquid for forming a protective layer.

【0028】保護層形成用塗工液として上記の塗工液を
使用する以外は実施例1と同様にして本発明の交流型P
DPを作製した。放電開始電圧(Vf)及び最小維持電
圧(Vsm)を測定したが実施例1と同じ結果が得られ
た。
The same procedure as in Example 1 was carried out except that the above coating liquid was used as the coating liquid for forming the protective layer.
DP was prepared. The discharge start voltage (Vf) and the minimum sustain voltage (Vsm) were measured, and the same results as in Example 1 were obtained.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上の本発明によれば、1回の焼成工程
で誘電体層とその保護層を形成することができるので、
PDPの製造コストの削減及び省エネルギーが可能とな
る。又、各層を形成するために塗布法を用いることがで
きるから、大画面のPDPを安価に製造することができ
る。又、誘電体層形成用被膜上に保護層形成用被膜を形
成し、同時に加熱処理を行うことによって、誘電体層形
成材料と保護層形成材料とが混在した中間層が一部形成
される。そのために誘電体層と保護層との密着性が十分
となり、保護層の膜強度も十分に向上する。更に、本発
明の交流型PDPは十分なメモリーマージン幅を有して
いるので、カラーテレビ用の大型PDPとして好適であ
る。
According to the present invention described above, the dielectric layer and its protective layer can be formed in one firing step.
It is possible to reduce the production cost of PDP and save energy. In addition, since a coating method can be used to form each layer, a large-screen PDP can be manufactured at low cost. Further, by forming a protective layer forming film on the dielectric layer forming film and performing heat treatment at the same time, an intermediate layer in which the dielectric layer forming material and the protective layer forming material are mixed is partially formed. Therefore, the adhesion between the dielectric layer and the protective layer is sufficient, and the film strength of the protective layer is sufficiently improved. Further, the AC type PDP of the present invention has a sufficient memory margin width, and thus is suitable as a large PDP for a color television.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の面放電方式の交流型PDPの概略構
造を示す断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic structure of a surface discharge type AC PDP of the present invention.

【図2】 本発明の対向放電方式の交流型PDPの概略
構造を示す断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a schematic structure of an AC-type PDP of the opposed discharge type according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:前面基板 2:背面基板 3:放電空間 4:対電極 4a:X電極 4b:Y電極 5:誘電体層 6:保護層 7:アドレス電極 8:蛍光体 9:障壁 10:二酸化チタン膜(高屈折率層) 11:二酸化ケイ素膜(低屈折率層) 1: Front substrate 2: Back substrate 3: Discharge space 4: Counter electrode 4a: X electrode 4b: Y electrode 5: Dielectric layer 6: Protective layer 7: Address electrode 8: Phosphor 9: Barrier 10: Titanium dioxide film ( High refractive index layer) 11: Silicon dioxide film (Low refractive index layer)

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガス放電空間を挟んで背面基板と前面基
板とが対向配置され、少なくとも一方の基板には誘電体
層に覆われた電極が形成され、誘電体層上には保護層が
形成されてなる交流型プラズマディスプレイパネル(以
下単にPDPという)において、上記誘電体層及び保護
層が、誘電体層形成用塗工液からなる被膜及びその上に
形成した保護層形成用塗工液からなる被膜を同時に加熱
処理して形成されたものであることを特徴とする交流型
PDP。
1. A back substrate and a front substrate are opposed to each other with a gas discharge space interposed therebetween. At least one of the substrates has an electrode covered with a dielectric layer, and a protective layer is formed on the dielectric layer. In the AC type plasma display panel (hereinafter simply referred to as PDP), the dielectric layer and the protective layer are formed from a coating composed of a dielectric layer forming coating liquid and a protective layer forming coating liquid formed thereon. An AC-type PDP characterized by being formed by heat-treating a coating film simultaneously.
【請求項2】 誘電体層形成用塗工液からなる被膜と保
護層形成用塗工液からなる被膜との間に高分子材料から
なる層を有し、これらを同時に加熱処理して誘電体層及
び保護層を形成した請求項1に記載の交流型PDP。
2. A layer comprising a polymer material between a coating comprising a coating liquid for forming a dielectric layer and a coating comprising a coating liquid for forming a protective layer. The AC PDP according to claim 1, wherein a layer and a protective layer are formed.
【請求項3】 保護層形成用塗工液が、アルカリ土類金
属化合物を含有する請求項1又は2に記載の交流型PD
P。
3. The alternating current type PD according to claim 1, wherein the coating liquid for forming a protective layer contains an alkaline earth metal compound.
P.
【請求項4】 保護層形成用塗工液が、アルカリ土類金
属化合物で被覆された無機複合粒子を含有する請求項1
又は2に記載の交流型PDP。
4. The coating solution for forming a protective layer contains inorganic composite particles coated with an alkaline earth metal compound.
Or the alternating-current PDP according to 2.
【請求項5】 アルカリ土類金属化合物が、アルカリ土
類金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩又は加水分解可能な
基を有する有機アルカリ土類金属化合物である請求項3
又は4に記載の交流型PDP。
5. The alkaline earth metal compound is an alkaline earth metal oxide, hydroxide, carbonate or an organic alkaline earth metal compound having a hydrolyzable group.
Or the AC type PDP according to 4.
【請求項6】 ガス放電空間を挟んで背面基板と前面基
板とが対向配置され、少なくとも一方の基板には誘電体
層に覆われた電極が形成され、誘電体層上には保護層が
形成されてなる交流型PDPの製造において、上記電極
上に誘電体層形成用塗工液を塗布して被膜を形成させ、
更にこの被膜上に保護層形成用塗工液を塗布して被膜を
形成させ、次いで両被膜を同時に加熱処理して誘電体層
及び保護層を形成させることを特徴とする交流型PDP
の製造方法。
6. A back substrate and a front substrate are arranged opposite to each other with a gas discharge space interposed therebetween, and at least one substrate is provided with an electrode covered with a dielectric layer, and a protective layer is formed on the dielectric layer. In the production of the AC type PDP to be formed, a coating liquid is formed by applying a coating liquid for forming a dielectric layer on the electrode,
Further, an alternating current type PDP is characterized in that a coating liquid for forming a protective layer is applied on this film to form a film, and then both films are heat-treated simultaneously to form a dielectric layer and a protective layer.
Manufacturing method.
【請求項7】 誘電体層形成用塗工液からなる被膜を形
成後、保護層形成用塗工液からなる被膜を形成させる前
に、誘電体層形成用塗工液からなる被膜の上に高分子材
料からなる層を形成させる請求項6に記載の交流型PD
Pの製造方法。
7. After forming a coating composed of a coating liquid for forming a dielectric layer, and before forming a coating composed of a coating liquid for forming a protective layer, on the coating formed of the coating liquid for forming a dielectric layer. 7. The AC type PD according to claim 6, wherein a layer made of a polymer material is formed.
Method for producing P.
【請求項8】 保護層形成用塗工液が請求項3〜5のい
ずれか1項に記載のものである請求項6又は7に記載の
交流型PDPの製造方法。
8. The method for producing an AC type PDP according to claim 6, wherein the coating liquid for forming a protective layer is the coating liquid according to any one of claims 3 to 5.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6541914B1 (en) 1998-11-18 2003-04-01 Lg Electronics Inc. Plasma display panel including grooves in phosphor

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US6541914B1 (en) 1998-11-18 2003-04-01 Lg Electronics Inc. Plasma display panel including grooves in phosphor

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