JP2004179170A - Manufacturing method of ac type plasma display - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an alternating current type plasma display in which a protective layer has superior membrane characteristics such as membrane strength, adhesiveness, transparency, and protective action, and furthermore in which reduction of a discharge start voltage and a drive power voltage (power consumption) are achieved in the case of using the membrane. <P>SOLUTION: In a manufacturing method of this alternating current type plasma display, opposite arrangement of a rear face substrate and a front face substrate is carried out by having a gas discharge space in between, a mutually paired electrodes covered by a dielectric layer are formed at one substrate or both substrates, and the protective layer is formed on the dielectric layer. In the protective layer, a sol solution in which aggregates of magnesium hydroxide particulates are dispersed in an organic solvent containing at least one kind of hydroxyl group containing organic compound is coated on the dielectric layer, dried and calcined. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

本発明は、交流型プラズマディスプレイの製造方法に関し、特に誘電体層の表面に形成する保護層の形成技術に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an AC plasma display, and more particularly to a technique for forming a protective layer formed on a surface of a dielectric layer.

近年、CRTに代わるフラットパネルディスプレイの研究開発が活発に行われている。その中で、放電に伴う発光現象をディスプレイに利用する、いわゆるプラズマディスプレイは、電極(主としてITO)の構造から、放電空間に金属電極が露出している直流型と、金属電極が誘電体層で覆われている交流型とに大別され、後者の交流型プラズマディスプレイでは、真空系を用いた薄膜プロセスとスクリーン印刷法による厚膜プロセスの両方を用いることにより、一部実用化も始まっている。   In recent years, research and development of flat panel displays replacing CRTs have been actively conducted. Among them, the so-called plasma display, which utilizes the light emission phenomenon accompanying the discharge for the display, is a direct current type in which the metal electrode is exposed in the discharge space due to the structure of the electrode (mainly ITO), and the metal electrode is a dielectric layer. The AC type plasma display is roughly divided into the AC type that is covered, and the latter type of AC type plasma display has started to be partially commercialized by using both a thin film process using a vacuum system and a thick film process using a screen printing method. .

このプラズマディスプレイを大画面のカラーテレビに用いる場合には、高輝度化を図るうえでメモリー機能を有することが必要であり、その点においては交流型プラズマディスプレイは、誘電体層上の保護層に蓄積された電荷に起因するメモリー機能を本質的に有するため、大型化に対応可能な方式と考えられている。保護層材料としては、2次電子放出効率が高く、耐スパッタ性に優れた酸化マグネシウムが用いられており、現在ではフルカラーの交流型プラズマディスプレイにおいて1.5万時間の寿命を達成し、対角21インチのパネルが市販されるに至っている。   When this plasma display is used for a large-screen color television, it is necessary to have a memory function in order to achieve high luminance. In that respect, an AC type plasma display is used as a protective layer on a dielectric layer. It is considered to be a method that can cope with an increase in size because it has a memory function inherently due to the accumulated charges. As a material for the protective layer, magnesium oxide having high secondary electron emission efficiency and excellent sputter resistance is used. At present, a life of 15,000 hours has been achieved in a full-color AC plasma display, 21-inch panels have become commercially available.

この保護層の形成方法は、薄膜法としてEB蒸着法、スパッタ法、CVD法等(特許文献1、特許文献2)があり、厚膜法として、酸化マグネシウム原料である塩基性炭酸マグネシウムをスプレーコート法により基板上に厚膜を形成した後、焼成して金属酸化物とする方法(特許文献3)や、酸化マグネシウム微粉末を、焼成後に酸化物となる液体バインダーに分散させ、酸化マグネシウム含有膜とする方法(特許文献4)も考えられていた。
特公昭60−42579号公報 特公昭63−59221号公報 特公昭57−13983号公報 特公平6−283020号公報
As a method for forming the protective layer, there are EB evaporation method, sputtering method, CVD method and the like as a thin film method (Patent Document 1 and Patent Document 2), and as a thick film method, a basic magnesium carbonate as a magnesium oxide raw material is spray-coated. A method of forming a thick film on a substrate by a method and firing it to obtain a metal oxide (Patent Document 3), or dispersing a magnesium oxide fine powder in a liquid binder that becomes an oxide after firing, and forming a magnesium oxide-containing film. (Patent Document 4) was also considered.
Japanese Patent Publication No. 60-42579 JP-B-63-59221 Japanese Patent Publication No. 57-13983 Japanese Patent Publication No. 6-283020

上記各方法のうち、EB蒸着法やスパッタ法、CVD法等の真空プロセスを用いた方法は、プラズマディスプレイのような大きなパネル基板を真空チャンバー内に収容するのは困難であり、大画面化を想定した場合、設備費や生産性の点で問題があった。   Among the above methods, methods using a vacuum process such as the EB vapor deposition method, the sputtering method, and the CVD method are difficult to accommodate a large panel substrate such as a plasma display in a vacuum chamber. Assuming that there was a problem in terms of equipment costs and productivity.

又、厚膜法は、手軽な方法であることから鋭意検討がなされてきたが、満足できる性能を達成するには至っていなかった。その理由としては、市販された酸化マグネシウム微粒子は凝集性が高く、有機溶媒中への分散が困難であり、均一性の高い保護層が得られないこと、そのために通常の熱処理プロセスでは、形成される酸化マグネシウム膜が、膜強度、密着性、透明性等において不十分であること、又、膜の焼成時に膜に亀裂が生じること等である。従って、このような保護層を用いた場合、本来の誘電体層の保護膜としての機能を十分に発揮することができない。   Further, the thick film method has been intensively studied because it is a simple method, but has not yet achieved satisfactory performance. The reason is that commercially available magnesium oxide fine particles have high cohesiveness, are difficult to disperse in an organic solvent, and cannot provide a protective layer with high uniformity. The magnesium oxide film is insufficient in film strength, adhesion, transparency, and the like, and the film cracks when the film is fired. Therefore, when such a protective layer is used, the function as the protective film of the original dielectric layer cannot be sufficiently exhibited.

又、ペースト中に分散している酸化マグネシウム微粒子自体の粒子径が大きく、ペースト自体の粘度も大きいため、保護層の薄膜化が困難となり、これに伴って放電開始電圧や駆動電圧の低電圧化を充分に達成できないという問題も生じた。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、従来技術が有していた前述の欠点を解消し、真空系プロセスに見られるような高価な設備を必要とせずに大面積のパネル上に成膜することができ、又、その膜は膜強度、密着性、透明性、保護作用等の優れた膜特性を有し、更にその膜を使用した場合に放電開始電圧や駆動電圧(消費電力)の低下が図られる交流型プラズマディスプレイの製造方法を提供することを目的とする。
In addition, since the particle diameter of the magnesium oxide fine particles dispersed in the paste itself is large and the viscosity of the paste itself is large, it is difficult to make the protective layer thinner, and accordingly, the discharge starting voltage and the driving voltage are reduced. Has not been achieved sufficiently.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and solves the above-mentioned disadvantages of the prior art, and requires a large-area panel without requiring expensive equipment as seen in a vacuum process. The film has excellent film properties such as film strength, adhesion, transparency, and protective action. Further, when the film is used, a discharge starting voltage or a driving voltage ( It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing an AC plasma display in which power consumption is reduced.

上記目的は以下の本発明によって達成される。即ち、本発明は、ガス放電空間を挟んで背面基板と前面基板とを対向配置し、一方の基板又は両方の基板に、誘電体層に覆われた互いに対となる電極を形成し、上記誘電体層の上に保護層を形成する交流型プラズマディスプレイの製造方法において、上記保護層を、水酸化マグネシウム微粒子の凝集物を、水酸基含有有機化合物を少なくとも1種含む有機溶媒中に分散させたゾル溶液を、前記誘電体層上に塗布し、乾燥及び焼成して形成することを特徴とする交流型プラズマディスプレイの製造方法である。   The above object is achieved by the present invention described below. That is, in the present invention, the rear substrate and the front substrate are arranged to face each other with the gas discharge space interposed therebetween, and one or both substrates are provided with electrodes that are paired with each other and are covered with a dielectric layer. In the method for producing an AC type plasma display in which a protective layer is formed on a body layer, the protective layer is formed by dispersing an aggregate of magnesium hydroxide fine particles in an organic solvent containing at least one hydroxyl group-containing organic compound. A method for manufacturing an AC type plasma display, comprising applying a solution on the dielectric layer, drying and baking the solution.

上記本発明によれば、交流型プラズマディスプレイにおける保護層を特定の粒子径の酸化マグネシウム微粒子から形成することによって、真空系プロセスに見られるような高価な設備を必要とせずに大面積のパネル上に成膜することができ、又、その膜は膜強度、密着性、透明性、保護作用等の優れた膜特性を有し、更にその膜を使用した場合に放電開始電圧や駆動電圧(消費電力)の低下が図られる交流型プラズマディスプレイが提供される。   According to the present invention, by forming the protective layer in the AC type plasma display from magnesium oxide fine particles having a specific particle size, a large-area panel can be formed without requiring expensive equipment as seen in a vacuum system process. The film has excellent film properties such as film strength, adhesion, transparency, and protective action. Further, when the film is used, the discharge starting voltage and the driving voltage (consumption) The present invention provides an AC type plasma display in which power consumption is reduced.

次に図面に示す実施の形態を挙げて本発明を更に詳しく説明する。
図1は、本発明を適用した好ましい実施形態の面放電方式の交流型プラズマディスプレイの概略構造を示す図である。
図1において、符号1、2は、それぞれガス放電空間3を挟んで互いに平行に対向配置された前面基板及び背面基板である。これらの前面基板1と背面基板2とは所定厚さのガラスから構成されている。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to embodiments shown in the drawings.
FIG. 1 is a diagram showing a schematic structure of a surface discharge type AC plasma display according to a preferred embodiment to which the present invention is applied.
In FIG. 1, reference numerals 1 and 2 respectively denote a front substrate and a rear substrate which are arranged to face each other in parallel with the gas discharge space 3 interposed therebetween. The front substrate 1 and the rear substrate 2 are made of glass having a predetermined thickness.

背面基板2に対向する前面基板1の面には、X電極4a及びY電極4bからなる電極対が形成されている。これら電極対はガラス製の誘電体層5で被覆されており、更にこの誘電体層5は、後に詳述する水酸化マグネシウム微粒子の凝集物を有機溶媒中に分散させたゾル溶液を塗布し、乾燥及び焼成して形成された酸化マグネシウム膜からなる保護層6で被覆されている。
又、前面基板1に対向する背面基板2の面には、アドレス電極7、障壁8及び蛍光体層9が形成されている。更に、必要に応じて前面基板1上には反射防止層として、例えば、二酸化チタン膜(高屈折率層)10、及び二酸化ケイ素膜(低屈折率層)11が形成されている。
On the surface of the front substrate 1 facing the rear substrate 2, an electrode pair including an X electrode 4a and a Y electrode 4b is formed. These electrode pairs are covered with a dielectric layer 5 made of glass. Further, the dielectric layer 5 is coated with a sol solution in which an aggregate of magnesium hydroxide fine particles described later is dispersed in an organic solvent, It is covered with a protective layer 6 made of a magnesium oxide film formed by drying and baking.
On the surface of the rear substrate 2 facing the front substrate 1, an address electrode 7, a barrier 8 and a phosphor layer 9 are formed. Further, a titanium dioxide film (high-refractive-index layer) 10 and a silicon dioxide film (low-refractive-index layer) 11, for example, are formed on the front substrate 1 as antireflection layers as required.

図2は、本発明を適用した対向放電方式の交流型プラズマディスプレイの概略構造を示す図である。図2において、背面基板2に対向する前面基板1の面には、X電極4aが形成され、該X電極4aはガラス製の誘電体層5で被覆されており、更にこの誘電体層5は、後述するゾル溶液から形成された酸化マグネシウムからなる保護層6で被覆されている。
又、前面基板1に対向する背面基板2の面には、Y電極4b、誘電体層5、前記と同様にして形成された保護層6、及び障壁8と蛍光体層9が形成されている。
更に、必要に応じて前面基板1上には反射防止膜層として、例えば、二酸化チタン膜(高屈折率層)10、及び二酸化ケイ素膜(低屈折率層)11が形成されている。
FIG. 2 is a diagram showing a schematic structure of a facing discharge type AC plasma display to which the present invention is applied. In FIG. 2, an X electrode 4a is formed on the surface of the front substrate 1 facing the back substrate 2, and the X electrode 4a is covered with a dielectric layer 5 made of glass. And a protective layer 6 made of magnesium oxide formed from a sol solution described later.
On the surface of the rear substrate 2 facing the front substrate 1, a Y electrode 4b, a dielectric layer 5, a protective layer 6 formed in the same manner as described above, and a barrier 8 and a phosphor layer 9 are formed. .
Further, a titanium dioxide film (high-refractive-index layer) 10 and a silicon dioxide film (low-refractive-index layer) 11, for example, are formed on the front substrate 1 as anti-reflection film layers, if necessary.

次に本発明を主として特徴づけ、本発明のプラズマディスプレイの保護層を形成するためのゾル溶液について説明する。
本発明で使用するゾル溶液は、水酸化マグネシウムの微粒子の凝集物を、水酸基含有有機化合物を少なくとも1種含む有機溶媒中に分散させたゾル溶液である。上記水酸化マグネシウム微粒子の凝集物は、水の存在下において水酸化マグネシウムとなるマグネシウム化合物を、適当な触媒によって水酸化マグネシウムに加水分解することによって生じ、これを生成媒体から取り出すことによって得られる。
Next, the present invention is mainly characterized, and a sol solution for forming a protective layer of the plasma display of the present invention will be described.
The sol solution used in the present invention is a sol solution in which an aggregate of fine particles of magnesium hydroxide is dispersed in an organic solvent containing at least one kind of a hydroxyl-containing organic compound. The aggregates of the magnesium hydroxide fine particles are produced by hydrolyzing a magnesium compound which becomes magnesium hydroxide in the presence of water into magnesium hydroxide with an appropriate catalyst, and are obtained by removing the magnesium compound from the production medium.

水酸化マグネシウム微粒子の凝集物の調製例の1例を以下に示す。
表1:水酸化マグネシウム微粒子の凝集物の調製例
純水 200質量部
酢酸マグネシウム(四水和物) 21質量部
アンモニア水(28容量%) 6質量部
上記表1に示すような組成物を含む混合溶液を1時間、常温で撹拌することにより水酸化マグネシウム微粒子が凝集した沈殿物が生成する。これを適当な方法でその生成媒体である水から分離して水酸化マグネシウム微粒子の凝集物が得られる。
One example of a preparation example of an aggregate of magnesium hydroxide fine particles is shown below.
Table 1: Preparation Example of Aggregate of Magnesium Hydroxide Fine Particles Pure Water 200 parts by mass Magnesium acetate (tetrahydrate) 21 parts by mass Ammonia water (28% by volume) 6 parts by mass Contains the composition as shown in Table 1 above By stirring the mixed solution at room temperature for 1 hour, a precipitate in which the magnesium hydroxide fine particles are aggregated is formed. This is separated from water, which is the production medium, by an appropriate method to obtain an aggregate of magnesium hydroxide fine particles.

以上の例は1例であり、一般的には、使用するマグネシウム化合物は、水の存在下に水酸化マグネシウムを生じるマグネシウム化合物であればいかなるマグネシウム化合物でもよく、又、触媒は、これらのマグネシウム化合物を加水分解を促進するものであればいかなるものでもよい。触媒については、マグネシウム化合物がマグネシウム塩である場合、塩基性化合物が用いられ、マグネシウム化合物1当量に対して等量以上、好ましくは1〜5当量程度使用する。この触媒が上記例のようにアンモニア水の如く水溶液である場合には、アンモニア水溶液中の水分は上記表における水分として使用することができる。   The above example is one example. Generally, the magnesium compound to be used may be any magnesium compound as long as it generates magnesium hydroxide in the presence of water, and the catalyst may be any of these magnesium compounds. May be any as long as it promotes hydrolysis. When the magnesium compound is a magnesium salt, a basic compound is used, and the catalyst is used in an amount equal to or more than one equivalent, preferably about 1 to 5 equivalents, per equivalent of the magnesium compound. When the catalyst is an aqueous solution such as aqueous ammonia as in the above example, the water in the aqueous ammonia can be used as the water in the above table.

マグネシウム化合物については、表中の酢酸マグネシウムの代わりに、例えば、塩化マグネシウム、硝酸マグネシウム、硫酸マグネシウムに代表される強酸マグネシウム塩、又は燐酸マグネシウム、燐酸水素マグネシウム、燐酸二水素マグネシウム、炭酸マグネシウム、クエン酸マグネシウム、クエン酸水素マグネシウム、ギ酸マグネシウムに代表される弱酸マグネシウム塩、或いはステアリン酸マグネシウム、ミリスチン酸マグネシウムに代表されるような脂肪族カルボン酸マグネシウム塩を用いてもよい。   As for the magnesium compound, instead of magnesium acetate in the table, for example, magnesium chloride, magnesium nitrate, a strong acid magnesium salt represented by magnesium sulfate, or magnesium phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium dihydrogen phosphate, magnesium carbonate, citric acid A weak acid magnesium salt such as magnesium, magnesium hydrogen citrate, and magnesium formate, or a magnesium salt of an aliphatic carboxylic acid such as magnesium stearate and magnesium myristate may be used.

又、上記アンモニア水中のアンモニアは、水酸化マグネシウムの生成を促進させる触媒としての機能を担うが、このアンモニアの代わりに、酢酸アンモニウム、アミド硫酸アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸アンモニウム、クエン酸二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸水素二アンモニウム、燐酸三アンモニウム、ギ酸アンモニウム、酒石酸アンモニウムに代表される各種アンモニウム塩、又はヒドロキシルアミン、エタノールアミン、メタノールアミンに代表されるアミン類を用いてもよい。   Ammonia in the ammonia water serves as a catalyst for accelerating the production of magnesium hydroxide. Instead of this ammonia, ammonium acetate, ammonium amidosulfate, ammonium carbonate, ammonium hydrogen carbonate, ammonium borate, ammonium citrate Various ammonium salts such as ammonium, ammonium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, triammonium phosphate, ammonium formate and ammonium tartrate, or amines such as hydroxylamine, ethanolamine and methanolamine may be used.

前述のようにして生成した水酸化マグネシウム微粒子が凝集した沈殿物を含む混合溶液から、水酸化マグネシウム微粒子の凝集物を分離する方法は特に限定されず、例えば、濾過、デカンテーション、遠心分離等、任意の方法でよい。尚、前記表1において生成した水酸化マグネシウム微粒子の凝集物の分離には、冷却遠心分離装置((株)久保田製作所製 モデル7930)を用いた。   From the mixed solution containing the precipitate formed by aggregation of the magnesium hydroxide fine particles generated as described above, the method of separating the aggregate of the magnesium hydroxide fine particles is not particularly limited, for example, filtration, decantation, centrifugation, etc. Any method may be used. In addition, a cooling centrifugal separator (Model 7930, manufactured by Kubota Seisakusho) was used to separate the aggregates of the magnesium hydroxide fine particles generated in Table 1 above.

以上の如くして得られた水酸化マグネシウム微粒子の凝集物は、水酸基含有有機化合物を少なくとも1種含む有機溶媒中に分散させて本発明で使用するゾル溶液を得る。水酸化マグネシウム微粒子の凝集物を分散させる上記有機溶媒の量は任意に設定可能であるが、このパラメーター設定値により塗布膜厚が制御されるので注意を要する。例えば、得られるゾル溶液の塗布適性を考慮して、分散媒体である有機溶媒は水酸化マグネシウム微粒子100質量部当たり500〜1500質量部の割合で使用することが好ましい。固形分が低過ぎると、緻密で且つ連続した保護層が形成されにくく、又、固形分比が高過ぎると、微粒子の凝集沈澱が生じたり、形成される保護層の均一性が低下する傾向にあるので好ましくない。ゾル溶液の1例を下記表2に示す。   The aggregate of magnesium hydroxide fine particles obtained as described above is dispersed in an organic solvent containing at least one kind of hydroxyl group-containing organic compound to obtain a sol solution used in the present invention. The amount of the organic solvent for dispersing the aggregates of the magnesium hydroxide fine particles can be arbitrarily set, but care must be taken since the coating film thickness is controlled by the parameter setting value. For example, in consideration of the suitability for coating the obtained sol solution, it is preferable to use the organic solvent as the dispersion medium at a ratio of 500 to 1500 parts by mass per 100 parts by mass of the magnesium hydroxide fine particles. If the solid content is too low, it is difficult to form a dense and continuous protective layer, and if the solid content ratio is too high, fine particles tend to aggregate and precipitate, or the uniformity of the formed protective layer tends to decrease. Is not preferred. One example of the sol solution is shown in Table 2 below.

表2:ゾル溶液の調製例
水酸化マグネシウム微粒子の凝集物 1質量部
エタノール 10質量部
凝集物の分散方法は、単なる撹拌、強制撹拌、ボールミル、サンドミル、超音波分散等の慣用の分散手段でよく、これらの分散手段によって容易に均一なゾル溶液が得られる。尚、表2における組成物の分散は、超音波装置(日本精機(株)製 MODEL US-300T)を用いた。
Table 2: Preparation example of sol solution Aggregates of magnesium hydroxide fine particles 1 part by mass Ethanol 10 parts by mass The method of dispersing the aggregates may be a simple dispersing method such as simple stirring, forced stirring, a ball mill, a sand mill, and ultrasonic dispersion. A uniform sol solution can be easily obtained by these dispersing means. The dispersion of the composition in Table 2 was performed using an ultrasonic apparatus (MODEL US-300T manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.).

ゾル溶液の分散媒体としての上記エタノールは、一例であって、少なくとも1個の水酸基を有する有機化合物、又は、これを少なくとも1種含有する有機溶媒であればよい。例えば、上記エタノールに代えて、メタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノールに代表される1価のアルコール、又はエチレングリコール、ジエチレングリコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、トリエチレングリコールに代表される2価のアルコール及びその誘導体、或いはグリセリンに代表されるような3価以上の多価アルコール、フェノール、クレゾール等の芳香族化合物、そして更にこれらの混合溶媒、或いはこれらの水酸基含有有機溶媒の少なくとも1種を含む有機溶媒を用いてもよい。   The above-mentioned ethanol as a dispersion medium of the sol solution is an example, and may be an organic compound having at least one hydroxyl group or an organic solvent containing at least one kind thereof. For example, in place of the above ethanol, monohydric alcohols represented by methanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, 1-butanol and 2-butanol, or ethylene glycol, diethylene glycol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxy Ethanol, dihydric alcohols represented by triethylene glycol and derivatives thereof, or trihydric or higher polyhydric alcohols represented by glycerin, aromatic compounds such as phenol and cresol, and further, a mixed solvent thereof, or An organic solvent containing at least one of these hydroxyl group-containing organic solvents may be used.

本発明においては、簡単な分散手段によって前記水酸化マグネシウム微粒子の凝集物が、前述の如き有機溶媒中に容易に分散する理由としては次の如く考えられる。
即ち、水酸化マグネシウム微粒子の凝集物を、水酸基含有有機溶媒中に分散させると、水酸基含有有機溶媒が、その水酸基によって、例えば、水素結合等の如き状態で個々の水酸化マグネシウム微粒子凝集物(二次凝集体)に結合、配位或いは吸着し、個々の水酸化マグネシウムの微粒子は、その微粒子表面に前記の水酸基含有有機溶媒からなる一種の保護膜が形成された微粒子となり、この保護膜の存在により、ゾル溶液の分散媒体である有機溶媒との親和性が向上し、且つ有機溶媒中における微粒子同士の凝集が抑制され、微粒子が容易に安定に有機溶媒中に分散するものと考えられる。この効果だけで考えれば、水酸基を有する有機化合物ならば全て適用性があるが、ゾル溶液塗布後の乾燥及び焼成工程において有機溶媒を除去して純粋な酸化マグネシウム膜を作製するためには、ゾル溶液の有機溶媒としては比較的低沸点の水酸基含有有機溶媒を用いるのが好ましい。
In the present invention, the reason why the aggregate of the magnesium hydroxide fine particles is easily dispersed in the organic solvent as described above by a simple dispersing means is considered as follows.
That is, when the aggregates of the magnesium hydroxide fine particles are dispersed in the hydroxyl group-containing organic solvent, the hydroxyl group-containing organic solvent is separated into individual magnesium hydroxide fine particle aggregates (2 The fine particles of the individual magnesium hydroxide are bonded to, coordinated with, or adsorbed to the (secondary aggregate), and become fine particles in which a kind of protective film composed of the above-mentioned hydroxyl group-containing organic solvent is formed on the surface of the fine particles. Accordingly, it is considered that the affinity of the sol solution with the organic solvent as the dispersion medium is improved, the aggregation of the fine particles in the organic solvent is suppressed, and the fine particles are easily and stably dispersed in the organic solvent. Considering only this effect, any organic compound having a hydroxyl group is applicable.However, in order to remove the organic solvent in the drying and baking steps after applying the sol solution, it is necessary to use a sol to form a pure magnesium oxide film. As the organic solvent of the solution, it is preferable to use a hydroxyl group-containing organic solvent having a relatively low boiling point.

又、前述のゾル溶液の溶媒としては、前述のアルコール系有機溶媒の代わりに、水の使用、或いは水酸基を有しない溶媒、例えば、トルエン、ヘキサン等を使用すると、水酸化マグネシウム微粒子は溶媒中に安定して分散することが困難となり、凝集沈殿が生じ易くなるので、ゾル溶液の溶媒としては、前記の如き水酸基を有する有機溶媒、又はこれを少なくとも1種含有する有機溶媒の使用が好ましい。   As the solvent for the sol solution, use of water or a solvent having no hydroxyl group, such as toluene or hexane, in place of the alcoholic organic solvent described above, the magnesium hydroxide fine particles are contained in the solvent. Since it is difficult to stably disperse and agglomeration and precipitation are likely to occur, it is preferable to use the organic solvent having a hydroxyl group as described above or an organic solvent containing at least one of the above as a solvent for the sol solution.

以上の考察を裏付ける実験結果として、本発明及び後述の比較例1で使用する各ゾル溶液の特性結果を表3に示す。
表3:各種ゾル溶液の特性結果
試 料 平均粒度 固形分比 経時安定性
実施例1 873nm 0.9質量% 良好
比較例1 測定不可 2.0質量% 不良
比較例1のゾル溶液は、表1の水酸化マグネシウム微粒子の凝集物を、エタノールの代わりに純水中に分散させて調製したゾル溶液である。
As experimental results supporting the above considerations, Table 3 shows characteristic results of each sol solution used in the present invention and Comparative Example 1 described later.
Table 3: Characteristic results of various sol solutions
Sample Average particle size Solid content ratio Stability over time Example 1 873 nm 0.9 mass% good
Comparative Example 1 Unmeasurable 2.0 mass% defective
The sol solution of Comparative Example 1 was a sol solution prepared by dispersing aggregates of magnesium hydroxide fine particles of Table 1 in pure water instead of ethanol.

特性評価方法として、ゾル溶液中の微粒子の平均粒度は、レーザーパーティクルアナライザー(大塚電子(株)製 PAR−III)を用い、ピンホールφ0.2の条件で測定評価した。又、固形分比については、各ゾル溶液の一定質量をサンプル管に入れ、これを120℃、3時間で乾燥した後の残物の質量濃度で評価した。更に、経時安定性については、各ゾル溶液調製後、1日静置して沈殿物生成が起こるかどうかで評価した。   As a characteristic evaluation method, the average particle size of the fine particles in the sol solution was measured and evaluated using a laser particle analyzer (PAR-III manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) under the condition of pinhole φ0.2. Further, the solid content ratio was evaluated by putting a constant mass of each sol solution into a sample tube and drying it at 120 ° C. for 3 hours, and measuring the mass concentration of the residue. Further, with respect to the stability with time, after each sol solution was prepared, it was allowed to stand for one day and evaluated whether or not a precipitate was formed.

本発明の交流型プラズマディスプレイの製造方法は、以上の如きゾル溶液を、前記誘電体層上に塗布し、乾燥及び焼成することにより、前記保護層を形成することを特徴とする。
ゾル溶液の前記誘電体層上への塗布方法は、任意の方法でよく、例えば、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、ロールコート法、メニスカスコート法、バーコート法、カーテンフローコート法、ビードコート法、流延法等の種々の塗布法を適用することができる。
The method of manufacturing an AC plasma display according to the present invention is characterized in that the sol solution as described above is applied on the dielectric layer, dried and fired to form the protective layer.
The method of applying the sol solution on the dielectric layer may be any method, for example, spin coating, dip coating, spray coating, roll coating, meniscus coating, bar coating, curtain flow coating. Various coating methods, such as a bead coating method and a casting method, can be applied.

塗布によって形成された湿潤塗膜を乾燥及び焼成を施すことによって、保護層である透明な酸化マグネシウム膜が形成され、該膜は誘電体層5に対して強い密着性を示す。上記乾燥は湿潤被膜中の有機溶媒成分が実質的に揮散する温度及び時間で行えばよく、例えば、約200〜300℃程度の温度で約1〜3時間程度行えば十分である。又、焼成は約350〜550℃程度の温度で約1〜5時間程度行うことが好ましい。焼成条件が厳しすぎると、誘電体層の軟化に起因する該保護層の剥離又はクラック等の問題があり、一方、焼成が不十分であると所望の特性を有する保護層が形成されない。又、乾燥と焼成は連続的に行うことが好ましいが、別途分けて行ってもよい。尚、後記の実施例においては、乾燥及び焼成を300℃で1時間、更に400℃で1時間と連続して行った。   By drying and baking the wet coating film formed by the application, a transparent magnesium oxide film as a protective layer is formed, and the film has strong adhesion to the dielectric layer 5. The drying may be performed at a temperature and for a time at which the organic solvent component in the wet film substantially evaporates. For example, it is sufficient to perform the drying at a temperature of about 200 to 300 ° C. for about 1 to 3 hours. The firing is preferably performed at a temperature of about 350 to 550 ° C. for about 1 to 5 hours. If the firing conditions are too severe, there is a problem such as peeling or cracking of the protective layer due to softening of the dielectric layer. On the other hand, if the firing is insufficient, a protective layer having desired characteristics cannot be formed. Further, drying and firing are preferably performed continuously, but may be performed separately. In the examples described below, drying and firing were performed continuously at 300 ° C. for 1 hour, and further at 400 ° C. for 1 hour.

本発明において、以上の如く形成された酸化マグネシウム膜からなる保護層の表面の微粒子構造を示す走査型電子顕微鏡写真(倍率5万倍、使用機器:日本電子(株)製S−800)を図3に示す。比較として、真空蒸着法により作製した、後述の比較例3の場合の保護層表面の写真を図4に示す。測定条件は、加速電圧5kV、試料間距離5mm、ビームモニター絞り2番、対物可動絞り3番とした。図3によれば、本発明における酸化マグネシウム膜からなる保護層は、その表面の微粒子が粒状の微粒子形状を有し、平均粒子径30nmの緻密な連続膜である。微粒子形状がフレーク状で、平均粒子径200nmの真空蒸着法による酸化マグネシウムの場合(図4参照)と比較して、膜の表面形態は明らかに異なるものである。   In the present invention, a scanning electron microscope photograph (magnification: 50,000 times, equipment used: J-Electronic Co., Ltd., S-800) showing the fine particle structure on the surface of the protective layer composed of the magnesium oxide film formed as described above is shown. 3 is shown. For comparison, FIG. 4 shows a photograph of the surface of the protective layer in the case of Comparative Example 3 described below, which was produced by a vacuum evaporation method. The measurement conditions were an acceleration voltage of 5 kV, a distance between samples of 5 mm, a beam monitor aperture No. 2, and an objective movable aperture No. 3. According to FIG. 3, the protective layer made of a magnesium oxide film according to the present invention is a dense continuous film having a fine particle shape with fine particles on its surface and an average particle diameter of 30 nm. The surface morphology of the film is distinctly different from that of the case of magnesium oxide formed by a vacuum evaporation method having a flake shape and an average particle diameter of 200 nm (see FIG. 4).

本発明において交流型プラズマディスプレイにおける2次電子放出比を上げる観点からは、保護層を形成している酸化マグネシウム微粒子の表面積を大きくすることが必要であり、酸化マグネシウム微粒子の粒子径は、3〜100nmの範囲、好ましくは5〜30nmの範囲であることが望ましい。粒子径を100nm以下にして微粒子間の隙間をなくすことにより表面積を大きくし、通常の熱処理プロセスでも効率よく酸化マグネシウム膜が形成される。形成される酸化マグネシウム膜の厚さは特に限定されないが、透明性の点から10μm以下で、特に1μm以下のものが好ましい。   From the viewpoint of increasing the secondary electron emission ratio in the AC plasma display in the present invention, it is necessary to increase the surface area of the magnesium oxide fine particles forming the protective layer, and the particle diameter of the magnesium oxide fine particles is 3 to It is desirably in the range of 100 nm, preferably in the range of 5 to 30 nm. The surface area is increased by reducing the particle diameter to 100 nm or less to eliminate gaps between the fine particles, and a magnesium oxide film can be formed efficiently even by a normal heat treatment process. The thickness of the formed magnesium oxide film is not particularly limited, but is preferably 10 μm or less, particularly preferably 1 μm or less from the viewpoint of transparency.

以上の如く得られる本発明の交流型プラズマディスプレイにおける保護層は、その膜厚が1μm以下の薄膜が実現でき、このような膜厚は従来のバインダーを用いたペーストでは実現不可能なものである。   As a protective layer in the AC plasma display of the present invention obtained as described above, a thin film having a film thickness of 1 μm or less can be realized, and such a film thickness cannot be realized by a paste using a conventional binder. .

実施例1
図2に示される対向放電交流型プラズマディスプレイを次のようにして作製した。ガラス製の前面基板1上に真空蒸着法によりクロム電極として厚さ0.2μmのX電極4aを形成し、次いで真空蒸着法により厚さ0.8μmの誘電体層5を形成し、その誘電体層5上に前記表2のゾル溶液を使用して酸化マグネシウム膜からなる厚さ0.2μmの保護層6を形成した。次いでこの保護層6上にスクリーン印刷で厚さ150μmの障壁8を形成した後、蛍光性物質を該障壁8に塗布して厚さ10μmの蛍光体層9を形成した。
Example 1
The opposed discharge AC type plasma display shown in FIG. 2 was manufactured as follows. An X electrode 4a having a thickness of 0.2 μm is formed as a chromium electrode on a front substrate 1 made of glass by a vacuum evaporation method, and then a dielectric layer 5 having a thickness of 0.8 μm is formed by a vacuum evaporation method. Using the sol solution shown in Table 2 above, a protective layer 6 having a thickness of 0.2 μm and made of a magnesium oxide film was formed on the layer 5. Next, a barrier 8 having a thickness of 150 μm was formed on the protective layer 6 by screen printing, and a fluorescent substance was applied to the barrier 8 to form a phosphor layer 9 having a thickness of 10 μm.

一方、ガラス製の背面基板2上に真空蒸着法により形成したクロム電極をパターニングしてY電極4bを形成した後、同じく真空蒸着法で該Y電極4b上に誘電体層5を形成した。その後、前記酸化マグネシウム膜の形成方法により、酸化マグネシウム膜からなる厚さ0.2μmの保護層6を形成した。前記背面基板2上のクロム電極(Y電極4b)の膜厚は0.2μm、誘電体層5の膜厚は0.8μmであった。
前記各工程で得られた両者の基板を保護層を内側にして貼り合わせ、障壁8に囲まれた空間部に、He−Xe(1.1%)ペニングガスを500Torr封入して、本発明の対向放電交流型プラズマディスプレイを作製した。
On the other hand, the Y electrode 4b was formed by patterning a chromium electrode formed on the rear substrate 2 made of glass by a vacuum evaporation method, and then the dielectric layer 5 was formed on the Y electrode 4b by the same vacuum evaporation method. Thereafter, a protective layer 6 having a thickness of 0.2 μm made of a magnesium oxide film was formed by the method of forming a magnesium oxide film. The thickness of the chromium electrode (Y electrode 4b) on the back substrate 2 was 0.2 μm, and the thickness of the dielectric layer 5 was 0.8 μm.
The two substrates obtained in each of the above steps are bonded together with the protective layer inside, and a space surrounded by the barrier 8 is filled with a He—Xe (1.1%) penning gas at 500 Torr. A discharge AC type plasma display was manufactured.

比較例1
前述の実施例において、ゾル溶液調製の際に水酸化マグネシウム微粒子の凝集物を、エタノールの代わりに純水中に分散させて調製したゾル溶液を使用した点を除き、他は実施例と同様にして対向放電交流型プラズマディスプレイの作製を試みた。
Comparative Example 1
In the above-described example, the same operation as in the example was performed, except that the sol solution prepared by dispersing the aggregates of the magnesium hydroxide fine particles in pure water instead of ethanol in preparing the sol solution was used. An attempt was made to fabricate a counter discharge AC plasma display.

比較例2
前述の実施例において、酸化マグネシウム膜からなる保護層6について、酸化マグネシウムのペーストをスクリーン印刷法で塗布した点を除き、他は実施例と同様にして対向放電交流型プラズマディスプレイを作製した。使用した酸化マグネシウムのペーストは、平均一次粒子径が0.18〜0.25μmの酸化マグネシウム粉末(宇部興産(株)製 UBE2000A)をSi系バインダー(SiO2 10質量部)中に26質量%の割合で分散させ、粘度7,000cps/25℃に調製したものを使用した。
又、印刷条件は、版ギャップ2.3mm、スキージ押込み量1mm、スクレッパー押込み量1μmとし、スクリーン版のメッシュは400、乳剤厚は10μmとした。尚、焼成条件は、大気圧下において焼成温度580℃で1時間とした。
Comparative Example 2
In the above-described embodiment, a facing discharge AC type plasma display was manufactured in the same manner as in the above-described embodiment, except that a paste of magnesium oxide was applied to the protective layer 6 made of a magnesium oxide film by a screen printing method. The used magnesium oxide paste was prepared by mixing magnesium oxide powder (UBE2000A manufactured by Ube Industries, Ltd.) having an average primary particle diameter of 0.18 to 0.25 μm in a Si-based binder (SiO 2 10 parts by mass) in an amount of 26% by mass. A dispersion prepared at a ratio of 7,000 cps / 25 ° C. was used.
The printing conditions were a plate gap of 2.3 mm, a squeegee pushing amount of 1 mm, a scraper pushing amount of 1 μm, a screen plate mesh of 400, and an emulsion thickness of 10 μm. The firing was performed at a firing temperature of 580 ° C. under atmospheric pressure for 1 hour.

比較例3
前述の実施例において、酸化マグネシウム膜からなる保護層6を真空蒸着法により形成した点を除き、他は実施例と同様にして対向放電交流型プラズマディスプレイを作製した。真空蒸着機は、電子ビーム蒸着機(日本真空技術(株)製 EX-900-C16)を用いて、基板温度300℃、成膜速度0.5nm/sの条件で成膜し、膜厚0.5μmとした。
前述のようにして作製した実施例及び比較例の対向放電交流型プラズマディスプレイ(以下パネルという)について、パネル化する前に、酸化マグネシウムからなる保護層の膜特性を評価した結果を表4に示す。表中に示された密着性と膜強度は、スクラッチテスター及び鉛筆硬度試験法により評価した。又、透明性、クラック発生の有無については、目視判断に依った。膜厚は触針型膜厚計((株)テンコール製 αステップ300)により評価した。
Comparative Example 3
A facing discharge AC type plasma display was manufactured in the same manner as in the above example except that the protective layer 6 made of a magnesium oxide film was formed by a vacuum deposition method. The vacuum deposition machine used an electron beam deposition machine (EX-900-C16, manufactured by Japan Vacuum Engineering Co., Ltd.) to form a film at a substrate temperature of 300 ° C. and a film formation rate of 0.5 nm / s. 0.5 μm.
Table 4 shows the results of evaluating the film characteristics of the protective layer made of magnesium oxide on the facing discharge AC type plasma displays (hereinafter, referred to as panels) of the examples and the comparative examples manufactured as described above before paneling. . The adhesion and film strength shown in the table were evaluated by a scratch tester and a pencil hardness test method. The transparency and the presence or absence of cracks depended on visual judgment. The film thickness was evaluated using a stylus type film thickness meter (α step 300 manufactured by Tencor Corporation).

表4:各種酸化マグネシウム膜の膜特性
Table 4: Film properties of various magnesium oxide films

比較例1では、ゾル溶液の濡れ性が悪く、塗布速度を変える等の条件変更したが、結局誘電体層5上に均一に湿潤塗膜を形成することができなかった。従って、表4に示すような評価結果となった。比較例2については、膜厚は3μmと他例よりも厚くなり、又、白色を呈して透明性は悪かった。比較例3については、特に大きな問題はなかった。
次に、保護層を形成できなかった比較例1を除いた対向放電交流型プラズマディスプレイに対して、駆動波形が駆動周波数15kHz、デューティ比が23%の交流パルスにより、放電開始電圧Vfと最小維持電圧Vsmを測定した。
In Comparative Example 1, although the wettability of the sol solution was poor and the conditions were changed such as changing the application speed, a wet coating film could not be formed uniformly on the dielectric layer 5 after all. Therefore, evaluation results as shown in Table 4 were obtained. In Comparative Example 2, the film thickness was 3 μm, which was thicker than the other examples, and it was white and poor in transparency. For Comparative Example 3, there was no particular problem.
Next, with respect to the counter discharge AC type plasma display excluding Comparative Example 1 in which the protective layer could not be formed, the discharge start voltage Vf and the minimum maintenance were maintained by an AC pulse having a drive waveform of 15 kHz and a duty ratio of 23%. The voltage Vsm was measured.

又、放電開始電圧に設定した後に60分間連続点灯させ、その後に最小維持電圧を測定し、初期の最小維持電圧との比較より電圧の経時変化を調べ、パネルの寿命特性評価を行った。その結果を表5に示す。
表5:各種酸化マグネシウム膜のPDP特性
After the discharge start voltage was set, continuous lighting was performed for 60 minutes. Thereafter, the minimum sustaining voltage was measured, and a change with time in the voltage was examined by comparison with the initial minimum sustaining voltage to evaluate the life characteristics of the panel. Table 5 shows the results.
Table 5: PDP characteristics of various magnesium oxide films

表5に示すように、本実施例において作製したパネルについては、放電開始電圧155V、最小維持電圧110Vであり、寿命特性は最小維持電圧の変動もなく問題なかった。比較例において作製したパネルについては、比較例2の場合は、放電開始電圧240V、最小維持電圧175Vであり、本実施例と比べて高い測定値となり、高いパネル駆動電圧が必要である結果となった。又、この時の寿命特性においては、放電開始電圧に設定後30分間経過したところで、最小維持電圧の上昇が確認された。比較例3の場合では、放電開始電圧160V、最小維持電圧105Vであり、寿命特性は最小維持電圧の変動もなく問題なかった。   As shown in Table 5, with respect to the panel manufactured in this example, the discharge starting voltage was 155 V and the minimum sustain voltage was 110 V, and there was no problem in the life characteristics without fluctuation of the minimum sustain voltage. In the case of the panel manufactured in the comparative example, in the case of the comparative example 2, the discharge starting voltage was 240 V and the minimum sustaining voltage was 175 V, which was a higher measured value than that of the present example, and a result that a high panel driving voltage was required. Was. In the life characteristics at this time, an increase in the minimum sustaining voltage was confirmed 30 minutes after the discharge start voltage was set. In the case of Comparative Example 3, the discharge start voltage was 160 V and the minimum sustain voltage was 105 V, and there was no problem in the life characteristics without a change in the minimum sustain voltage.

本実施例の結果は、他の比較例、とりわけ従来法として実績のある真空蒸着法による場合の比較例3と比べてみても、酸化マグネシウム膜の本来の機能を発現している良好なパネルが得られたことを示している。
以上の結果から、本実施例で得られた対向放電交流型プラズマディスプレイにおける酸化マグネシウム膜からなる保護層は、対向放電交流型プラズマディスプレイにおいて十分な特性を発揮することがわかる。
The results of the present example show that a good panel exhibiting the original function of the magnesium oxide film is obtained even when compared with the other comparative examples, especially the comparative example 3 in the case of using a vacuum deposition method which has been proven as a conventional method. It shows that it was obtained.
From the above results, it is understood that the protective layer made of the magnesium oxide film in the opposed discharge AC plasma display obtained in the present example exhibits sufficient characteristics in the opposed discharge AC plasma display.

本発明の交流型プラズマディスプレイによれば、粒子径100nm以下の粒状微粒子から構成された酸化マグネシウム膜の連続膜を保護層として用いているため、透明性が高く、保護層の膜厚を薄くすることができ、又、膜強度が高いので亀裂により誘電体層が露出する恐れがない。従って、駆動電圧の低下を促進することができることにより、駆動回路の低コスト化が可能となり、その結果としてプラズマディスプレイ本体のコスト低下を達成することができる。
又、前記保護層は、ゾル溶液を塗工方法により塗布して形成することが可能であるので、薄膜法による成膜法と比較すると大面積に対し低コストで成膜が可能であるから、例えば、大面積(例えば、対角40インチ程度)のプラズマディスプレイを低コストで製造することができる。
According to the AC type plasma display of the present invention, since the continuous film of the magnesium oxide film composed of the fine particles having a particle diameter of 100 nm or less is used as the protective layer, the transparency is high and the thickness of the protective layer is reduced. In addition, since the film strength is high, there is no possibility that the dielectric layer is exposed due to cracks. Therefore, since the drive voltage can be reduced, the cost of the drive circuit can be reduced, and as a result, the cost of the plasma display body can be reduced.
Further, since the protective layer can be formed by applying a sol solution by a coating method, it can be formed at a low cost for a large area as compared with a film forming method by a thin film method, For example, a plasma display having a large area (for example, a diagonal of about 40 inches) can be manufactured at low cost.

又、本発明の製造方法によれば、前記ゾル溶液は、溶媒として少なくとも1個の水酸基を有する有機化合物、又は該化合物の少なくとも1種を含む有機溶媒を用いるため、水酸化マグネシウム微粒子が凝集しにくくなり、長期に渡り安定して分散したゾル溶液となり、従って該ゾル溶液を用いて塗布及び焼成することにより作製した酸化マグネシウム膜の構成微粒子は微細化することになり、形成される保護層の透明性の向上が可能となる。
又、本発明の製造方法によれば、前記ゾル溶液の溶媒として有機溶媒を用いているため、焼成工程において酸化マグネシウム膜中に有機物が残渣として残ることがなく、純粋な酸化マグネシウムからなる保護層の作製が可能となる。
According to the production method of the present invention, since the sol solution uses an organic compound having at least one hydroxyl group as a solvent or an organic solvent containing at least one of the compounds, the magnesium hydroxide fine particles aggregate. It becomes a sol solution dispersed stably for a long period of time, so that the constituent fine particles of the magnesium oxide film produced by applying and baking using the sol solution are finely divided, and the protective layer formed is Transparency can be improved.
According to the production method of the present invention, since an organic solvent is used as a solvent for the sol solution, no organic matter remains as a residue in the magnesium oxide film in the firing step, and the protective layer is made of pure magnesium oxide. Can be manufactured.

一般に交流型プラズマディスプレイの保護層は、例えば、10μm程度と厚いと、交流型プラズマディスプレイの重要な特性の一つであるメモリ機能の発生源である壁電荷の効果を弱めることになって駆動電圧を高くする必要が生じ、その結果として、駆動回路に用いるトランジスタの電圧を高耐圧仕様にしなければならない。従って2μm以下の膜厚で保護層を形成することが実用上、最も必要十分な条件とされているが、本発明によればこの2μm以下の膜厚の保護層を十分に形成することができる。   In general, when the protective layer of an AC plasma display is thick, for example, about 10 μm, the effect of wall charge, which is a source of a memory function, which is one of the important characteristics of the AC plasma display, is weakened, and the driving voltage is reduced. Must be increased, and as a result, the voltage of the transistor used in the drive circuit must be set to a high withstand voltage specification. Therefore, forming a protective layer with a thickness of 2 μm or less is the most necessary and sufficient condition in practical use. However, according to the present invention, a protective layer with a thickness of 2 μm or less can be sufficiently formed. .

本発明の面放電方式の交流型プラズマディスプレイの概略を示す断面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Sectional drawing which shows the outline of the surface discharge type alternating current type plasma display of this invention. 本発明の対向放電方式の交流型プラズマディスプレイの概略を示す断面図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Sectional drawing which shows the outline of the alternating current type plasma display of the opposed discharge system of this invention. 実施例の酸化マグネシウム膜からなる保護層の表面の微粒子構造を示す走査型電子顕微鏡写真(倍率5万倍)。5 is a scanning electron micrograph (magnification: 50,000 times) showing the fine particle structure on the surface of the protective layer made of the magnesium oxide film of the example. 比較例3の真空蒸着法による酸化マグネシウム膜からなる保護層の表面の微粒子構造を示す走査型電子顕微鏡写真(倍率5万倍)。9 is a scanning electron micrograph (magnification: 50,000 times) showing the fine particle structure on the surface of a protective layer formed of a magnesium oxide film by a vacuum evaporation method in Comparative Example 3.

符号の説明Explanation of reference numerals

1 前面基板
2 背面基板
3 ガス放電空間
4a X電極
4b Y電極
5 誘電体層
6 保護層
7 アドレス電極
8 障壁
9 蛍光体層
10 二酸化チタン膜(高屈折率層)
11 二酸化ケイ素膜(低屈折率層)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front substrate 2 Back substrate 3 Gas discharge space 4a X electrode 4b Y electrode 5 Dielectric layer 6 Protective layer 7 Address electrode 8 Barrier 9 Phosphor layer 10 Titanium dioxide film (high refractive index layer)
11 silicon dioxide film (low refractive index layer)

Claims (4)

ガス放電空間を挟んで背面基板と前面基板とを対向配置し、一方の基板又は両方の基板に、誘電体層に覆われた互いに対となる電極を形成し、上記誘電体層の上に保護層を形成する交流型プラズマディスプレイの製造方法において、上記保護層を、水酸化マグネシウム微粒子の凝集物を、水酸基含有有機化合物を少なくとも1種含む有機溶媒中に分散させたゾル溶液を、前記誘電体層上に塗布し、乾燥及び焼成して形成することを特徴とする交流型プラズマディスプレイの製造方法。   The rear substrate and the front substrate are arranged to face each other with the gas discharge space interposed therebetween, and a pair of electrodes covered with a dielectric layer is formed on one or both substrates, and protection is performed on the dielectric layer. In the method for manufacturing an AC type plasma display for forming a layer, the protective layer is formed by dispersing an aggregate of magnesium hydroxide fine particles in an organic solvent containing at least one kind of a hydroxyl group-containing organic compound. A method for producing an AC type plasma display, wherein the method is applied on a layer, dried and fired. ゾル溶液が、水中で生成させた水酸化マグネシウム微粒子の凝集物を、水酸基含有有機化合物を少なくとも1種含む有機溶媒中に分散させたものである請求項1に記載の交流型プラズマディスプレイの製造方法。   The method for producing an AC type plasma display according to claim 1, wherein the sol solution is obtained by dispersing an aggregate of magnesium hydroxide fine particles generated in water in an organic solvent containing at least one kind of a hydroxyl group-containing organic compound. . 水酸化マグネシウムの微粒子が、マグネシウム塩をアンモニアを触媒として形成したものである請求項1又は2に記載の交流型プラズマディスプレイの製造方法。   3. The method for producing an AC plasma display according to claim 1, wherein the fine particles of magnesium hydroxide are formed by forming a magnesium salt using ammonia as a catalyst. 有機溶媒中における水酸化マグネシウム微粒子の凝集物の分散を、超音波分散法により行う請求項1〜3のいずれか1項に記載の交流型プラズマディスプレイの製造方法。   The method for producing an AC type plasma display according to any one of claims 1 to 3, wherein the aggregate of the magnesium hydroxide fine particles in the organic solvent is dispersed by an ultrasonic dispersion method.
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