JPH10116790A - Semiconductor growth device, emergency gas processing system, and emergency gas processing method - Google Patents

Semiconductor growth device, emergency gas processing system, and emergency gas processing method

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JPH10116790A
JPH10116790A JP27104796A JP27104796A JPH10116790A JP H10116790 A JPH10116790 A JP H10116790A JP 27104796 A JP27104796 A JP 27104796A JP 27104796 A JP27104796 A JP 27104796A JP H10116790 A JPH10116790 A JP H10116790A
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emergency
gas processing
growth apparatus
semiconductor growth
cylinder cabinet
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor growth device, an emergency gas processing system, and an emergency gas processing method which sufficiently ensure safety in case of emergency and enable simplification of facilities. SOLUTION: In a semiconductor growth device 1, a cylinder cabinet 2 provided with a specified high-pressure gas used as a material and adapted for controlling opening/closing is located in a chamber which is a gas supply/ exhaust system separated from a growing device body 3 of the semiconductor growing device 1 and independent of the growing device body 3. With respect to this semiconductor growth device, a casing exhaust gas of the cylinder cabinet 2 connected to an emergency gas processing device 21 is fed to a normal gas processing device in normal operation. In case of emergency, a pipe 23 of normal exhaust is shut down and switched to a pipe to the emergency gas processing device 21, thus carrying out gas processing.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば特定高圧ガ
スを原料ガスとして用いて半導体の成長を行う半導体成
長装置、及びその緊急ガス処理システム並びに緊急ガス
処理方法に係わる。
The present invention relates to a semiconductor growth apparatus for growing a semiconductor using, for example, a specified high-pressure gas as a source gas, and an emergency gas processing system and an emergency gas processing method therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】特定高圧ガスを用いる半導体成長装置、
例えばMOCVD(有機金属熱分解気相成長)装置等に
おいては、原料の供給系(例えばシリンダーキャビネッ
ト、有機金属)や、制御系(例えばマスフローコントロ
ーラ)、反応系(例えば反応管)、ガス排気及び処理系
(例えば減圧ポンプ、除害装置)等の各装置が半導体成
長装置本体と隣接一体化した装置を形成しているのが一
般的である。
2. Description of the Related Art A semiconductor growth apparatus using a specific high-pressure gas,
For example, in a MOCVD (organic metal pyrolysis vapor phase epitaxy) apparatus or the like, a raw material supply system (for example, a cylinder cabinet, an organic metal), a control system (for example, a mass flow controller), a reaction system (for example, a reaction tube), a gas exhaust and a processing. In general, each device such as a system (for example, a decompression pump and a detoxification device) forms a device integrated adjacent to the semiconductor growth device main body.

【0003】半導体成長装置の操作を行う箇所(操作ス
ペース)は、成長されるべき基板の導入等を行うことも
あり、作業者がいる時間が長いので、クリーンな環境を
保持する必要がある。一方、メンテナンスや、原料交換
等を行う箇所(メンテナンススペース)は、クリーン度
に関してはその限りではないが、ガスの漏洩などの緊急
時の安全対策上、操作スペースに比して気圧的に低い環
境にする必要がある。そして、各装置の内部は、筐体排
気により操作スペース、メンテナンススペースより圧力
の低い環境を保つようにしている。
[0003] A place (operation space) where an operation of the semiconductor growth apparatus is performed may involve introduction of a substrate to be grown or the like, and a long working time is required. Therefore, it is necessary to maintain a clean environment. On the other hand, places where maintenance and material exchange are performed (maintenance space) are not limited in terms of cleanliness, but due to safety measures in the event of emergency such as gas leakage, the atmosphere is lower than the operation space in terms of pressure. Need to be The interior of each device is maintained in an environment having a lower pressure than the operation space and the maintenance space by exhausting the housing.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】近年の半導体産業の繁
栄により、半導体成長装置も複数台有していることが一
般的であり、制御しなければならない環境が増大して、
決して小さい領域とは言えなくなってきている。そのよ
うな増大する環境下においても、高圧ガス取扱法に準拠
した緊急時の安全対策は十分に検討されなければならな
い事項である。しかしながら、制御を要する環境の増加
に従い、緊急時のための安全設備への投資も増大するこ
とになり、この緊急時のための投資をいかに適正なもの
とするかは大きな課題である。
With the prosperity of the semiconductor industry in recent years, it is common to have a plurality of semiconductor growth devices, and the environment that must be controlled has increased.
It is no longer a small area. Even in such an increasing environment, emergency safety measures in compliance with the High Pressure Gas Handling Law are matters that must be sufficiently considered. However, investment in safety equipment for emergencies will increase as the environment requiring control increases, and it is a major issue how to make investment for emergency situations appropriate.

【0005】上述した問題に鑑みて、本発明において
は、緊急時の安全を充分に確保し、かつ設備の簡略化が
可能である半導体成長装置、緊急ガス処理システム並び
に緊急ガス処理方法を提供するものである。
In view of the above-mentioned problems, the present invention provides a semiconductor growth apparatus, an emergency gas processing system, and an emergency gas processing method capable of ensuring sufficient safety in an emergency and simplifying equipment. Things.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
特定高圧ガスを原料に用いて、特定高圧ガスを配置し開
閉の制御をするシリンダーキャビネットを、半導体成長
装置の成長装置本体より分離して、独立した給排気シス
テムとされた部屋に配置してなるものである。
According to the present invention, there is provided a semiconductor device comprising:
Using a specific high-pressure gas as a raw material, a cylinder cabinet for arranging the specific high-pressure gas and controlling opening and closing is separated from the growth apparatus body of the semiconductor growth apparatus and arranged in an independent supply / exhaust system room. Things.

【0007】本発明の緊急ガス処理システムは、シリン
ダーキャビネットを半導体成長装置の成長装置本体より
分離し、独立した給排気システムとした半導体成長装置
に対して、シリンダーキャビネットの筐体排気を緊急ガ
ス処理装置に接続し、緊急時には、通常排気から緊急ガ
ス処理装置へ切り換え可能とする構成とする。
In the emergency gas processing system of the present invention, the cylinder cabinet is separated from the growth apparatus body of the semiconductor growth apparatus and the housing exhaust of the cylinder cabinet is subjected to the emergency gas processing for the semiconductor growth apparatus having an independent supply / exhaust system. The system is connected to a device so that, in an emergency, it is possible to switch from normal exhaust to an emergency gas processing device.

【0008】また、本発明の緊急ガス処理方法は、シリ
ンダーキャビネットを半導体成長装置の成長装置本体よ
り分離し、独立した給排気システムとした半導体成長装
置に対して、緊急ガス処理装置に接続されたシリンダー
キャビネットの筐体排気を、通常時は通常のガス処理装
置に導入し、緊急時には通常排気の配管を遮断し、緊急
ガス処理装置への配管へ切り換えてガス処理を行う。
In the emergency gas processing method of the present invention, the cylinder cabinet is separated from the growth apparatus main body of the semiconductor growth apparatus, and the semiconductor growth apparatus having an independent air supply / exhaust system is connected to the emergency gas processing apparatus. Normally, the casing exhaust of the cylinder cabinet is introduced into a normal gas processing device, and in an emergency, the normal exhaust pipe is shut off, and the pipe is switched to an emergency gas processing apparatus to perform gas processing.

【0009】上述の本発明の半導体成長装置によれば、
シリンダーキャビネットを半導体成長装置の成長装置本
体より分離して、独立した給排気システムとされた部屋
に配置することにより、シリンダーキャビネット室を独
立して制御できる環境とすることができる。
According to the above-described semiconductor growth apparatus of the present invention,
By separating the cylinder cabinet from the growth apparatus main body of the semiconductor growth apparatus and disposing the cylinder cabinet in an independent air supply / exhaust system room, an environment in which the cylinder cabinet chamber can be independently controlled can be provided.

【0010】上述の本発明の緊急ガス処理システムによ
れば、シリンダーキャビネットの筐体排気を緊急ガス処
理装置に接続し、通常排気から緊急ガス処理装置へ切り
換え可能とすることにより、必要な仕様が異なる通常排
気と緊急ガス処理装置とをそれぞれ機能を維持したまま
簡略化することができる。
According to the above-described emergency gas processing system of the present invention, necessary specifications are provided by connecting the casing exhaust of the cylinder cabinet to the emergency gas processing apparatus so that the normal exhaust can be switched to the emergency gas processing apparatus. Different normal exhaust and emergency gas treatment devices can be simplified while maintaining their functions.

【0011】上述の本発明の緊急ガス処理方法によれ
ば、緊急時にはシリンダーキャビネットの筐体排気を緊
急ガス処理装置へ切り替えることにより、緊急時にはシ
リンダーキャビネットを特に重点的にガス処理すること
ができる。
According to the above-described emergency gas processing method of the present invention, in the event of an emergency, the cylinder cabinet can be subjected to gas processing particularly in an emergency by switching the casing exhaust of the cylinder cabinet to the emergency gas processing apparatus.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明は、特定高圧ガスを原料に
用いる半導体成長装置であって、特定高圧ガスを配置し
開閉の制御をするシリンダーキャビネットを、半導体成
長装置の成長装置本体より分離して、この成長装置本体
から独立した給排気システムとされた部屋に配置してな
る半導体成長装置である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention relates to a semiconductor growth apparatus using a specified high-pressure gas as a raw material, wherein a cylinder cabinet for arranging a specified high-pressure gas and controlling opening and closing is separated from the growth apparatus body of the semiconductor growth apparatus. The semiconductor growth apparatus is arranged in a room having a supply / exhaust system independent of the growth apparatus body.

【0013】また本発明は、特定高圧ガスを配置し開閉
の制御をするシリンダーキャビネットを、半導体成長装
置の成長装置本体より分離して、この成長装置本体から
独立した給排気システムとされた部屋に配置してなる半
導体成長装置に対して、シリンダーキャビネットの筐体
排気を緊急ガス処理装置に接続し、緊急時には、通常排
気から緊急ガス処理装置へ切り換え可能とする緊急ガス
処理システムである。
Further, according to the present invention, a cylinder cabinet for arranging a specific high-pressure gas and controlling opening and closing is separated from a growth apparatus main body of a semiconductor growth apparatus and provided in a room having a supply / exhaust system independent of the growth apparatus main body. This is an emergency gas processing system in which the exhaust of the housing of the cylinder cabinet is connected to the emergency gas processing apparatus for the semiconductor growth apparatus to be arranged, and in the event of an emergency, the normal exhaust can be switched to the emergency gas processing apparatus.

【0014】また本発明は、上記緊急ガス処理システム
において、半導体成長装置が複数の装置に区分され、各
装置の筐体のうち少なくとも上記シリンダーキャビネッ
トが配される装置の筐体に緊急ガス処理装置以外の簡易
処理装置を有している構成とする。
Further, according to the present invention, in the above emergency gas processing system, the semiconductor growth apparatus is divided into a plurality of apparatuses, and at least the emergency gas processing apparatus is provided at least in the housing of the apparatus in which the cylinder cabinet is disposed among the housings of the respective apparatuses. It is configured to have a simple processing device other than the above.

【0015】また本発明は、特定高圧ガスを配置し開閉
の制御をするシリンダーキャビネットを、半導体成長装
置の成長装置本体より分離して、成長装置本体から独立
した給排気システムとされた部屋に配置してなる半導体
成長装置に対して、緊急ガス処理装置に接続されたシリ
ンダーキャビネットの筐体排気を、通常時は通常のガス
処理装置に導入し、緊急時には通常排気の配管を遮断
し、緊急ガス処理装置への配管へ切り換えてガス処理を
行う緊急ガス処理方法である。
Further, according to the present invention, a cylinder cabinet for arranging a specific high-pressure gas and controlling opening and closing is separated from a growth apparatus main body of a semiconductor growth apparatus and arranged in a room having a supply / exhaust system independent of the growth apparatus main body. For the semiconductor growth device that is made, the casing exhaust of the cylinder cabinet connected to the emergency gas processing device is normally introduced into the normal gas processing device, and in the event of an emergency, the piping for the normal exhaust is shut off. This is an emergency gas processing method for performing gas processing by switching to a pipe to a processing apparatus.

【0016】以下、図面を参照して本発明の半導体成長
装置、緊急ガス処理システム及び緊急ガス処理方法の実
施例を説明する。図1は、本発明の半導体成長装置の実
施例の概略構成図を示す。半導体成長装置1は、ガス容
器(ボンベ、シリンダー)を収納すると共に、これらガ
ス容器の開閉を制御するシリンダーキャビネット2と、
それ以外の部分、即ち成長装置本体3とに大別されてい
る。ただし、これは半導体成長装置を構成する複数の装
置のうち主要な装置に関してであり、周辺機器(真空ポ
ンプ等)に関してはこの限りではない。シリンダーキャ
ビネット2と成長装置本体3は、配管4を介して接続さ
れており、この配管4によりガスの供給が可能となって
いる。
An embodiment of a semiconductor growth apparatus, an emergency gas processing system and an emergency gas processing method according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an embodiment of a semiconductor growth apparatus according to the present invention. The semiconductor growth apparatus 1 contains a gas container (cylinder, cylinder) and a cylinder cabinet 2 for controlling opening and closing of these gas containers.
The other part, that is, the growth apparatus main body 3 is roughly classified. However, this is for a main device among a plurality of devices constituting the semiconductor growth device, and is not limited to peripheral devices (such as a vacuum pump). The cylinder cabinet 2 and the growth apparatus main body 3 are connected via a pipe 4, and the gas can be supplied through the pipe 4.

【0017】尚、この例では半導体成長装置1が配置さ
れている部屋が、シリンダーキャビネット室11、メン
テナンス室12、操作室13、作業室14に区分されて
おり、各部屋11,12,13,14がそれぞれ独立し
た給排気システムS1 ,S2,S3 ,S4 を有してい
る。
In this example, the room in which the semiconductor growth apparatus 1 is disposed is divided into a cylinder cabinet room 11, a maintenance room 12, an operation room 13, and a work room 14, and each of the rooms 11, 12, 13, and 14 have independent supply / exhaust systems S 1 , S 2 , S 3 , S 4 .

【0018】また、シリンダーキャビネット室11は、
万一ガスの漏洩があった場合に、比較的高濃度のガスが
漏洩することになるので、このガスが他の部屋12,1
3,14に出て行かないように最も低い圧力にしておく
必要がある。そして、望ましくは、シリンダーキャビネ
ット室11<メンテナンス室12<操作室13<作業室
14というように、各部屋の圧力を順に低圧から高圧に
して、万一ガスの漏洩があった場合においても、人間が
立ち入る部屋、即ち作業室14や操作室13にガスが入
り込まないようにする。
The cylinder cabinet 11 is
In the event that gas leaks, a relatively high concentration of gas will leak, and this gas will be leaked to the other rooms 12,1.
It is necessary to keep the pressure at the lowest so as not to go out to 3,14. Preferably, the pressure in each room is sequentially increased from a low pressure to a high pressure, such as the cylinder cabinet room 11 <the maintenance room 12 <the operation room 13 <the work room 14, so that even if gas leaks, To prevent the gas from entering the room in which the gas enters, that is, the work room 14 and the operation room 13.

【0019】このようなシリンダーキャビネット2を分
離した構成をとることにより、シリンダーキャビネット
室11はシリンダーキャビネット2に対応した大きさに
縮小することができる。シリンダーキャビネット2と成
長装置本体3とを一体化している場合には、部屋を半導
体成長装置1全体を覆うようにする必要が生じるが、シ
リンダーキャビネット2を分離することにより、各部屋
の大きさの総和は一体化した場合よりも小さくできる。
従って、部屋全体を必要最小限の大きさに設定できるた
め、換気する必要のある容積を小さくすることができ、
給排気システムを容易に設計することができる。
By adopting such a configuration in which the cylinder cabinet 2 is separated, the cylinder cabinet chamber 11 can be reduced to a size corresponding to the cylinder cabinet 2. When the cylinder cabinet 2 and the growth apparatus main body 3 are integrated, it is necessary to cover the room with the entire semiconductor growth apparatus 1. However, by separating the cylinder cabinet 2, the size of each room is reduced. The sum can be made smaller than when integrated.
Therefore, since the entire room can be set to the minimum necessary size, the volume that needs to be ventilated can be reduced,
The supply and exhaust system can be easily designed.

【0020】上述の例では、シリンダーキャビネット2
を成長装置本体3と分離して配置した半導体成長装置1
を構成したが、このような構成の半導体成長装置1に対
して、通常時と緊急時に切り替えを行う緊急ガスシステ
ム20を構成することにより、ガスの漏洩時のような緊
急時においてこれに対処することができる。その例を次
に示す。
In the above example, the cylinder cabinet 2
Semiconductor growth apparatus 1 in which is disposed separately from growth apparatus body 3
The emergency gas system 20 that switches between the normal state and the emergency state is configured for the semiconductor growth apparatus 1 having such a structure to cope with an emergency state such as a gas leak. be able to. An example is shown below.

【0021】図2は、図1の構成の半導体成長装置1に
対して、緊急ガス処理システム20を構成したものであ
る。尚、図1における作業室14は省略している。半導
体成長装置1例えばMOCVD装置からは、シリンダー
キャビネット2、成長装置本体3を含めて複数の筐体排
気がなされ、図示しないが例えばスクラバー等に導入さ
れている。スクラバーは、液体中にガスを通してバブリ
ングさせて、ガス中の成分を液体に取り込ませるもので
ある。また、シリンダーキャビネット2からの排気の配
管23には、途中に簡易処理装置22が配置されてい
る。
FIG. 2 shows an emergency gas processing system 20 configured for the semiconductor growth apparatus 1 having the configuration shown in FIG. The working chamber 14 in FIG. 1 is omitted. A plurality of housings including the cylinder cabinet 2 and the growth apparatus main body 3 are exhausted from the semiconductor growth apparatus 1 such as the MOCVD apparatus, and are introduced into a scrubber or the like (not shown). In the scrubber, a gas is bubbled through a liquid so that components in the gas are taken into the liquid. In addition, a simple processing device 22 is arranged in the exhaust pipe 23 from the cylinder cabinet 2.

【0022】シリンダーキャビネット室11の筐体排気
は、更に緊急ガス処理装置21に接続されている。これ
らの排気配管23には、それぞれダンパーD1 及びD2
が設けられて、これらダンパーD1 ,D2 が開閉するこ
とにより、緊急ガス処理装置22側(D1 )とスクラバ
ー側(D2 )との切り替えを可能としてなる。
The casing exhaust of the cylinder cabinet chamber 11 is further connected to an emergency gas processing device 21. These exhaust pipes 23 have dampers D 1 and D 2 respectively.
The dampers D 1 and D 2 are opened and closed, so that switching between the emergency gas processing device 22 (D 1 ) and the scrubber (D 2 ) is possible.

【0023】そして、通常はスクラバー側のダンパーD
2 がオープン(開)、緊急ガス処理装置22側のダンパ
ーD1 がクローズ(閉)となって、シリンダーキャビネ
ット2の筐体排気と成長装置本体3の筐体排気がいずれ
もスクラバーに流れる。
And usually, the damper D on the scrubber side
2 open (open), the damper D 1 of the emergency gas processing device 22 side becomes a closed (closed), both housing exhaust casing exhaust and growth apparatus main body 3 of the cylinder cabinet 2 flows to the scrubber.

【0024】一方、緊急ガス処理装置21を使用する必
要が生じたときには、スクラバー側のダンパーD2 がク
ローズ(閉)、緊急ガス処理装置21側のダンパーD1
がオープン(開)となることにより、シリンダーキャビ
ネット2からの筐体排気は、ダンパーD2 によりスクラ
バーには流れずに、緊急ガス処理装置21へ導入され
る。
On the other hand, when the need to use the emergency gas processing apparatus 21 occurs, closes damper D 2 of the scrubber side (closed), the emergency gas processing apparatus 21 side damper D 1
There by becoming open (open), housing the exhaust from the cylinder cabinet 2 does not flow in the scrubber by the damper D 2, is introduced into an emergency gas processing apparatus 21.

【0025】上述の切り替え動作を行う手段について
は、警報機の信号を利用して自動的に切り替える構成と
してもよく、釦を押すことにより手動で切り替える構成
としてもよく、また自動切り替えと手動切り替えを兼用
する構成としてもよい。
The means for performing the above-described switching operation may be configured to automatically switch using a signal from an alarm device, may be configured to switch manually by pressing a button, and may be configured to switch between automatic switching and manual switching. A configuration that is also used may be used.

【0026】尚、望ましくは、この例のようにシリンダ
ーキャビネット2の筐体排気の配管に、ある程度のガス
処理能力を有する簡易処理装置22を配置して、小規模
のガス漏洩については、この簡易処理装置22だけで充
分に対処することができる構成とする。また、シリンダ
ーキャビネット2以外の部分に簡易処理装置を設けても
よい。
Preferably, a simple processing device 22 having a certain gas processing capacity is disposed in the pipe for exhausting the housing of the cylinder cabinet 2 as in this example. The configuration is such that the processing device 22 alone can sufficiently cope with the problem. Further, a simple processing device may be provided in a portion other than the cylinder cabinet 2.

【0027】このように緊急ガス処理システム20を構
成して、緊急ガス処理を行うことにより、緊急時にシリ
ンダーキャビネットからの筐体排気をする緊急ガス処理
装置21と、スクラバー等の通常排気の処理設備を、そ
れぞれの用途に最適化してかつ簡略化されたシステムを
構成できる。
The emergency gas processing system 20 is constructed as described above, and performs an emergency gas processing, so that an emergency gas processing apparatus 21 for exhausting the housing from the cylinder cabinet in an emergency, and a normal exhaust processing facility such as a scrubber. Can be optimized for each application and a simplified system can be configured.

【0028】複雑なシステムになると、誤動作などの可
能性が維持されるよりもむしろ増加すると考えられ、こ
れに伴い実際の緊急時に本来の役割を果たさない可能性
も増加すると考えられる。システムの簡略化は、その意
味からも動作の確実性を向上させるために重要であると
考えられる。
In a complex system, it is considered that the possibility of malfunctioning or the like increases rather than maintained, and accordingly, the possibility that the system does not play its original role in an actual emergency is considered to increase. The simplification of the system is considered to be important in order to improve the reliability of the operation in that sense.

【0029】また、緊急時に、ダンパーD1 ,D2 をそ
れぞれ開閉することにより、シリンダーキャビネット2
からの筐体排気スクラバーへの通常排気から緊急ガス処
理装置21へ切り替えることから、濃度が高いガスが漏
洩する可能性がある原料ガス容器を含むシリンダーキャ
ビネット2に対して重点的にガス処理を行うことが出来
るので、より安全な処理を行うことができる。
In an emergency, the cylinder cabinet 2 is opened and closed by opening and closing the dampers D 1 and D 2 respectively.
From the normal exhaust to the casing exhaust scrubber to the emergency gas treatment device 21, the gas treatment is performed with emphasis on the cylinder cabinet 2 including the source gas container in which the gas having a high concentration may leak. Therefore, safer processing can be performed.

【0030】本発明の半導体成長装置、緊急ガス処理シ
ステム並びに緊急ガス処理方法は、上述の例に限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその
他様々な構成が取り得る。
The semiconductor growth apparatus, the emergency gas processing system and the emergency gas processing method of the present invention are not limited to the above-described examples, and may take various other configurations without departing from the gist of the present invention.

【0031】[0031]

【発明の効果】上述の本発明による半導体成長装置によ
れば、原料ガスのシリンダーの開閉などを制御するシリ
ンダーキャビネットを成長装置から分離し、専用の部屋
として、更にそのシリンダーキャビネット専用の部屋の
給排気システムを管理することにより、より安全性が向
上した環境を実現することができる。
According to the above-described semiconductor growth apparatus of the present invention, the cylinder cabinet for controlling the opening and closing of the cylinder of the raw material gas is separated from the growth apparatus, and a dedicated room is further provided. By managing the exhaust system, a more secure environment can be realized.

【0032】また、本発明の緊急ガス処理システムによ
り、シリンダーキャビネットの筐体排気を利用して、こ
れを緊急時の緊急ガスの処理装置に接続し、緊急時のみ
切り換えるシステムを構成することにより、緊急ガス処
理システムが機能を維持しながら簡略化できるので、緊
急時の安全を充分に確保すると共に安全設備の簡略化が
可能であるので、設備への投資効率も向上することがで
きる。従って本発明により、緊急処理システムが簡略化
されることにより、誤動作等の可能性が低くなるので、
動作の確実性を向上させることができる。
Further, by using the emergency gas processing system of the present invention, by utilizing the exhaust of the casing of the cylinder cabinet, this is connected to the emergency gas processing device in the event of an emergency, and a system for switching only during the emergency is constructed. Since the emergency gas treatment system can be simplified while maintaining its functions, safety in an emergency can be sufficiently ensured and safety equipment can be simplified, so that the investment efficiency for equipment can be improved. Therefore, the present invention simplifies the emergency processing system, and reduces the possibility of malfunction and the like.
The reliability of the operation can be improved.

【0033】また、本発明の緊急ガス処理方法により、
緊急時にはシリンダーキャビネットを特に重点的にガス
処理することができるので、濃度が高いガスが漏洩する
可能性があるシリンダーキャビネットに対して重点的に
ガス処理を行って、より安全な処理を行うことができ
る。
Further, according to the emergency gas treatment method of the present invention,
In case of emergency, the cylinder cabinet can be especially gas-treated, so it is possible to perform gas treatment intensively on cylinder cabinets where highly concentrated gas may leak, to perform safer treatment. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体成長装置の実施例の概略構成図
である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an embodiment of a semiconductor growth apparatus of the present invention.

【図2】図1の半導体成長装置に適用した本発明の緊急
ガス処理システムの実施例の概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an embodiment of an emergency gas processing system of the present invention applied to the semiconductor growth apparatus of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体成長装置、2 シリンダーキャビネット、3
成長装置本体、11シリンダーキャビネット室、12
メンテナンス室、13 操作室、14 作業室、20
緊急ガス処理システム、21 緊急ガス処理装置、2
2 簡易処理装置、23 排気配管、S1 ,S2
3 ,S4 給排気システム、D1 ,D2ダンパー
1 semiconductor growth equipment, 2 cylinder cabinet, 3
Growth device body, 11 cylinder cabinet room, 12
Maintenance room, 13 operation room, 14 work room, 20
Emergency gas treatment system, 21 emergency gas treatment device, 2
2 Simple processing equipment, 23 exhaust pipes, S 1 , S 2 ,
S 3, S 4 air supply and exhaust system, D 1, D 2 damper

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 浩通 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued from the front page (72) Inventor Hiromichi Sato 6-7-35 Kita Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Corporation

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 特定高圧ガスを原料に用いる半導体成長
装置であって、 上記特定高圧ガスを配置し開閉の制御をするシリンダー
キャビネットを、上記半導体成長装置の成長装置本体よ
り分離して、該成長装置本体から独立した給排気システ
ムとされた部屋に配置してなることを特徴とする半導体
成長装置。
1. A semiconductor growth apparatus using a specified high-pressure gas as a raw material, wherein a cylinder cabinet for arranging the specified high-pressure gas and controlling opening / closing is separated from a growth apparatus main body of the semiconductor growth apparatus. A semiconductor growth apparatus characterized by being arranged in a room having a supply / exhaust system independent of an apparatus main body.
【請求項2】 特定高圧ガスを配置し開閉の制御をする
シリンダーキャビネットを、半導体成長装置の成長装置
本体より分離して、該成長装置本体から独立した給排気
システムとされた部屋に配置してなる半導体成長装置に
対して、 上記シリンダーキャビネットの筐体排気を緊急ガス処理
装置に接続し、 緊急時には、通常排気から上記緊急ガス処理装置へ切り
換え可能とすることを特徴とする緊急ガス処理システ
ム。
2. A cylinder cabinet for arranging a specific high-pressure gas and controlling opening and closing thereof is separated from a growth apparatus main body of a semiconductor growth apparatus, and is disposed in a room provided with a supply / exhaust system independent of the growth apparatus main body. An emergency gas processing system comprising: connecting an exhaust gas from a casing of the cylinder cabinet to an emergency gas processing device; and switching from normal exhaust to the emergency gas processing device in an emergency.
【請求項3】 上記半導体成長装置が複数の装置に区分
され、各装置の筐体のうち少なくとも上記シリンダーキ
ャビネットが配される装置の筐体に緊急ガス処理装置以
外の簡易処理装置を有していることを特徴とする請求項
2に記載の緊急ガス処理システム。
3. The semiconductor growth apparatus is divided into a plurality of apparatuses, and a simple processing apparatus other than an emergency gas processing apparatus is provided in at least a housing of an apparatus in which the cylinder cabinet is disposed among housings of each apparatus. The emergency gas treatment system according to claim 2, wherein
【請求項4】 特定高圧ガスを配置し開閉の制御をする
シリンダーキャビネットを、半導体成長装置の成長装置
本体より分離して、該成長装置本体から独立した給排気
システムとされた部屋に配置してなる半導体成長装置に
対して、 上記緊急ガス処理装置に接続されたシリンダーキャビネ
ットの筐体排気を、通常時は通常のガス処理装置に導入
し、 緊急時には通常排気の配管を遮断し、緊急ガス処理装置
への配管へ切り換えてガス処理を行うことを特徴とする
緊急ガス処理方法。
4. A cylinder cabinet for arranging a specific high-pressure gas and controlling opening and closing thereof is separated from a growth apparatus main body of a semiconductor growth apparatus, and is disposed in a room provided with a supply / exhaust system independent of the growth apparatus main body. For semiconductor growth equipment, the exhaust of the casing of the cylinder cabinet connected to the above-mentioned emergency gas processing equipment is normally introduced into the normal gas processing equipment, and in the event of an emergency, the piping for the normal exhaust is shut off, and the emergency gas processing is performed. An emergency gas processing method, wherein gas processing is performed by switching to piping to an apparatus.
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