JPH10114824A - Production of polyimide, composition, and its product - Google Patents

Production of polyimide, composition, and its product

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JPH10114824A
JPH10114824A JP20868197A JP20868197A JPH10114824A JP H10114824 A JPH10114824 A JP H10114824A JP 20868197 A JP20868197 A JP 20868197A JP 20868197 A JP20868197 A JP 20868197A JP H10114824 A JPH10114824 A JP H10114824A
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JP
Japan
Prior art keywords
polyimide
polyimides
insulating layer
acid
producing
Prior art date
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Application number
JP20868197A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Suzuki
篤 鈴木
Takashi Kubota
隆 久保田
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REITETSUKU KK
Original Assignee
REITETSUKU KK
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Publication date
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Publication of JPH10114824A publication Critical patent/JPH10114824A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a polyimide excellent in physical properties without conducting purification by subjecting a tetracarboxylic acid and a diamine to polycondensation and direct imidizing by using a γ-lactone and a basic org. compd. SOLUTION: A pref. imidizing agent is γ-valerolactone or γ-hexanolactone, and it is used in an amt. of 0.5wt.% of the mixture of a tetracarboxylic acid and a diamine. Together with the imidizing agent, a basic org. compd. (e.g. pyridine) in an equivalent ratio to the imidizing agent of 0.2-2 is used. A tetracarboxylic acid (e.g. 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid) and a diamine e.g. bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] sulfone} are homogeneously mixed in a polar org. solvent at normal temp. and reacted at 80-200 deg.C to simultaneously conduct the polycondensation and imidizing, thus giving a polyimide by a one- stage method. The resultant product has a mol.wt. of 50,000-100,000.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はテトラカルボン酸類
とジアミンからなる混合物を加熱反応せしめて縮重合と
同時にイミド化するものであり、効率的な一段法によ
る、耐熱性に優れたポリイミド類を経済的な製造方法に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process comprising heating a mixture of a tetracarboxylic acid and a diamine to cause imidization at the same time as polycondensation. It relates to a typical manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】ポリイミドは高度の耐熱性、機械的性
質、耐薬品性、電気絶縁性等を有しており、電気、機
械、航空、電子等の工業分野で幅広く使用されている。
2. Description of the Related Art Polyimide has high heat resistance, mechanical properties, chemical resistance, electrical insulation and the like, and is widely used in industrial fields such as electric, mechanical, aviation, and electronic.

【0003】ポリイミド特に芳香族ポリイミドの一般的
な製造法としては、(1)テトラカルボン酸二無水物と
芳香族ジアミンとを当モル量加え、N−メチル−2−ピ
ロリドンやN,N−ジメチルアセトアミドのような有機
極性溶媒中で、室温乃至50℃で反応させ高分子量のポ
リアミド酸とした後、アルコール等の貧溶媒を添加して
ポリアミド酸を析出させ、濾別、洗浄、乾燥後、得られ
たポリアミド酸を無酸素雰囲気中で250℃以上の高い
温度で加熱して閉環脱水反応(イミド化)せしめること
によって粉末成形等に用いられるポリイミド粉末が製造
されている。この製造法によって高分子量のポリイミド
粉末を得るには、高分子量のポリアミド酸を経る必要が
あるが、そのためには、用いるテトラカルボン酸が完全
に無水物となっている必要があり、保存時に加水分解等
によって一部カルボン酸となっている原料を用いると高
分子量のポリアミド酸は得られなくなると云う欠点があ
る。また、このようにしてポリアミド酸の微粉末を濾別
・乾燥したのち、無酸素の雰囲気中で高温熱処理するな
ど、作業性面で面倒であり、高コストとなる問題点があ
る。
As a general method for producing polyimides, particularly aromatic polyimides, (1) tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine are added in equimolar amounts, and N-methyl-2-pyrrolidone and N, N-dimethyl are added. After reacting in an organic polar solvent such as acetamide at room temperature to 50 ° C. to obtain a high molecular weight polyamic acid, a poor solvent such as an alcohol is added to precipitate the polyamic acid, and the resultant is filtered, washed, dried, and then obtained. Polyimide powder used for powder molding and the like is produced by heating the obtained polyamic acid at a high temperature of 250 ° C. or more in an oxygen-free atmosphere to cause a ring-closing dehydration reaction (imidization). In order to obtain a high-molecular-weight polyimide powder by this production method, it is necessary to go through a high-molecular-weight polyamic acid. The use of a raw material partially converted into a carboxylic acid by decomposition or the like has a drawback that a high molecular weight polyamic acid cannot be obtained. In addition, there is a problem in that the workability is troublesome and the cost is high, for example, after the polyamic acid fine powder is separated by filtration and dried in this manner, it is subjected to a high-temperature heat treatment in an oxygen-free atmosphere.

【0004】(2)フェノール系やナフトール系溶剤中
で水を共沸によって系外に除去しながら、高分子量のポ
リアミド酸のイミド化反応もしくは1段法でテトラカル
ボン酸二無水物とジアミンとの縮重合反応を行い、ポリ
イミド粉末を析出、回収したのち、再度同系溶剤に溶解
しポリイミド溶液を製造する方法が提案されているが
(特公昭47ー23191号、特開昭60ー19775
9号等)、フェノール系やナフトール系溶剤は悪臭を持
つと共に、皮膚に対する強い刺激性を有するためコーテ
ィング剤、接着剤などに使用する一般的用途には適して
いない。
(2) While removing water by azeotropic distillation in a phenol or naphthol solvent, an imidization reaction of a high molecular weight polyamic acid or a one-step method is used to form a reaction between tetracarboxylic dianhydride and diamine. A method has been proposed in which a polycondensation reaction is carried out to precipitate and recover a polyimide powder, which is then dissolved again in the same solvent to produce a polyimide solution (Japanese Patent Publication No. 47-23191, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-19775).
No. 9, etc.) and phenol-based and naphthol-based solvents have an unpleasant odor and have strong irritation to the skin, so that they are not suitable for general use for coating agents and adhesives.

【0005】(3)有機極性溶媒中のポリアミド酸を無
水酢酸等の無水脂肪酸およびピリジンなどの塩基性化合
物の存在下で化学的にイミド化を行いポリイミドを析出
させることが提案されている(特公昭37−97号)。
これらのポリイミドの製造方法では、使用する有機極性
溶媒量の20%以上の大過剰の無水酢酸を必要とし、副
生する酢酸による設備の腐食や回収並びに処理が問題と
なる等の点から、一旦、ポリイミド粉末として析出し、
酢酸、ピリジン等を除去して回収することが行われてい
る(特開昭61−95029号、特開平1ー96220
号)。有機溶媒可溶型ポリイミドについては、pートル
エンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、クロトン酸等の
有機酸の存在下、有機溶媒中で加熱し、副生する水を共
沸によって系外に除去することによって、ポリアミド酸
をイミド化し、得られたポリイミド溶液を電線被覆剤や
接着剤として使用することが提案されている(特開平1
ー96220号、特開平7ー15750号)。このよう
にして得られるポリイミド溶液中には有機酸が存在する
ため、ポリイミドの分子量低下や、特に、接着剤として
用いる場合、耐湿性に問題を生じるため、ポリイミド粉
末として析出分離、精製して有機酸を除去することが必
要となる。このような精製を行って初めて、得られたポ
リイミド粉末は成形用途に利用するとか再びN−メチル
−2−ピロリドンやその他有機極性溶媒に再溶解して、
フィルムに成形加工したり或いは電線被覆剤や接着剤と
して使用することが可能となっている。
(3) It has been proposed to chemically imidize polyamic acid in an organic polar solvent in the presence of a fatty acid such as acetic anhydride and a basic compound such as pyridine to deposit polyimide. No. 37-97).
In these polyimide production methods, a large excess of acetic anhydride of 20% or more of the amount of the organic polar solvent used is required. , Precipitated as polyimide powder,
Acetic acid, pyridine and the like have been removed and recovered (JP-A-61-95029, JP-A-1-96220).
issue). For organic solvent-soluble polyimide, heat in an organic solvent in the presence of an organic acid such as p-toluenesulfonic acid, benzenesulfonic acid, crotonic acid, and remove water by-produced from the system by azeotropic distillation. It has been proposed to imidize polyamic acid and use the obtained polyimide solution as an electric wire coating agent or an adhesive (Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 1-1990).
-96220, JP-A-7-15750). Since an organic acid is present in the polyimide solution obtained in this manner, the molecular weight of the polyimide is reduced, and in particular, when used as an adhesive, a problem occurs in moisture resistance. It is necessary to remove the acid. For the first time after such purification, the obtained polyimide powder is redissolved in N-methyl-2-pyrrolidone or other organic polar solvents for use in molding,
It can be formed into a film or used as an electric wire coating agent or an adhesive.

【0006】(4)有機極性溶媒中のポリアミド酸を支
持体にキャストもしくはコーティングを行い、加熱によ
って有機溶媒を除去したのち、250℃以上の高い温度
で加熱してイミド化を行うことが最も広く採用されてい
るポリイミドフィルムやポリイミド接着加工物の製造法
である。この製造法によって希望する分子量を持つポリ
イミドを得ることは可能であるが、イミド化にあたって
は無酸素の雰囲気中で高温処理することが必要であり作
業上またコスト的に不利である。また、ポリアミド酸を
キャストしフィルム化を行う際には、まず支持体上で、
ポリアミド酸フィルムが自己支持性を持つまで有機極性
溶媒を加熱除去する必要があるが、この段階でポリアミ
ド酸の分子量低下が起こり、強度が著しく低下し場合に
よっては、フィルムが破れることが多々起こる。このよ
うなトラブルを防止するため、ポリアミド酸は十分な分
子量を持ったものを用いる必要があり、そのためには、
加水分解して生じたカルボン酸成分を含まないテトラカ
ルボン酸二無水物を用いる必要があった。また、ポリイ
ミド接着加工物においては、イミド化反応時の脱水反応
により体積収縮歪を生じるため接着強度低下が問題とな
る。
(4) Polyamide acid in an organic polar solvent is cast or coated on a support, the organic solvent is removed by heating, and then the imidization is carried out by heating at a high temperature of 250 ° C. or more. This is a method for producing a polyimide film or a polyimide bonded product that has been adopted. Although it is possible to obtain a polyimide having a desired molecular weight by this production method, imidization requires high-temperature treatment in an oxygen-free atmosphere, which is disadvantageous in terms of work and cost. When casting a polyamic acid to form a film, first, on a support,
It is necessary to remove the organic polar solvent by heating until the polyamic acid film has a self-supporting property. At this stage, the molecular weight of the polyamic acid is reduced, the strength is remarkably reduced, and in some cases, the film is often broken. In order to prevent such troubles, it is necessary to use polyamic acid having a sufficient molecular weight.
It was necessary to use a tetracarboxylic dianhydride containing no carboxylic acid component produced by hydrolysis. Further, in a polyimide bonded product, a volume shrinkage strain is caused by a dehydration reaction at the time of an imidization reaction, so that a decrease in bonding strength becomes a problem.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、実質的に精
製なしに使用可能な耐熱性に優れたポリイミド類の製造
方法を提供するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for producing polyimides having excellent heat resistance and usable without substantial purification.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者らの鋭意検討の
結果、上記目的は、下記の本発明によって工業的に有利
に達成された。すなわち、イミド化剤としてγ−ラクト
ン類および塩基性有機化合物を用いて、重縮合と同時に
イミド化させることを特徴とするポリイミド類の製法で
ある。本発明の最大の特徴は、イミド化剤として、γ−
ラクトン類および塩基性有機化合物を用いることによっ
て、テトラカルボン酸類とジアミンの混合物を縮重合さ
せると同時にイミド化させることによって、精製するこ
となしに諸物性の優れたポリイミド類を製造する方法を
見出したことにある。本発明者らの検討によると、δ−
ラクトン類もイミド化剤として有用であるが、γ−ラク
トン類の方が閉環速度が早く経済的に有利であることが
判明し、本発明に到達した。本発明のもう一つの特徴
は、イミド化剤として作用するγ−ラクトン類および塩
基性有機化合物の存在下に反応させると、出発原料とし
てテトラカルボン酸二無水物の加水分解物であるテトラ
カルボン酸や、そのエステルを用いても十分な分子量を
持ったポリイミド類が得られることにある。更に、本発
明は上記混合物が、低分子量のポリイミドオリゴマーと
テトラカルボン酸類の少なくとも1種および(又は)2
個以上の炭素を有するジアミンの少なくとも1種を反応
せしめて、得られたブロック共重合ポリイミドを含むも
のである。
As a result of intensive studies by the present inventors, the above object has been industrially advantageously achieved by the present invention described below. That is, this is a method for producing polyimides, which comprises imidizing simultaneously with polycondensation using a γ-lactone and a basic organic compound as an imidizing agent. The greatest feature of the present invention is that γ-
By using a lactone and a basic organic compound, a mixture of tetracarboxylic acids and a diamine is polycondensed and simultaneously imidized, thereby finding a method for producing polyimides having excellent physical properties without purification. It is in. According to the study of the present inventors, δ−
Lactones are also useful as imidating agents, but it has been found that γ-lactones are faster and more economically advantageous than ring-closing speeds, and have reached the present invention. Another feature of the present invention is that when reacted in the presence of a γ-lactone acting as an imidizing agent and a basic organic compound, tetracarboxylic acid which is a hydrolyzate of tetracarboxylic dianhydride as a starting material Another advantage is that polyimides having a sufficient molecular weight can be obtained even when the ester is used. Further, the present invention provides a method wherein the mixture comprises a low molecular weight polyimide oligomer and at least one of tetracarboxylic acids and / or
At least one kind of diamine having at least two carbon atoms is reacted to contain the obtained block copolymerized polyimide.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
本発明は、テトラカルボン酸類とジアミンとの混合物を
直接ポリイミドを得るに際し生じる種々の問題点を解決
し、効率的な製造方法を確立すべく鋭意研究を重ねた結
果、イミド化剤としてラクトン類および塩基性有機化合
物の存在下で、水を共沸によって系外に除去しながら、
混合物の縮重合と同時にイミド化反応を行うものであ
る。本発明のポリイミド製造法においては、少量のイミ
ド化剤の存在下に用いられる反応温度は、80℃からそ
のとき使用する非溶媒が環流する温度、または、使用す
る有機極性溶媒の沸点以下の温度であり、好ましくは1
20℃から200℃の範囲であり、反応時間は30分か
ら10時間、好ましくは30分から5時間で充分であ
る。このようにして、使用時に、接着性や強度等の機械
的特性や耐電圧などの電気的特性などの種々の特性に悪
影響を及ぼす恐れのある物質を含まないため、精製する
ことなく使用することが出来るポリイミド溶液が得られ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail.
The present invention solves various problems that occur when directly obtaining a mixture of a tetracarboxylic acid and a diamine to obtain a polyimide, and as a result of intensive studies to establish an efficient production method, lactones and lactones as imidating agents. In the presence of a basic organic compound, while removing water out of the system by azeotropic distillation,
The imidization reaction is carried out simultaneously with the condensation polymerization of the mixture. In the polyimide production method of the present invention, the reaction temperature used in the presence of a small amount of the imidizing agent is from 80 ° C. to the temperature at which the non-solvent used is refluxed, or the temperature below the boiling point of the organic polar solvent used. And preferably 1
It is in the range from 20 ° C. to 200 ° C., and the reaction time is from 30 minutes to 10 hours, preferably from 30 minutes to 5 hours. In this way, when used, they do not contain substances that may adversely affect various properties such as mechanical properties such as adhesion and strength, and electrical properties such as withstand voltage. Is obtained.

【0010】従来、イミド化剤として第一級脂肪酸無水
物が有効であり、特に、無水酢酸が好適であるとされて
きたが、前記のように使用する無水酢酸は刺激性や腐食
性が著しく、また、極性有機溶媒量の20%以上と大量
に使用する必要があり、残存する無水酢酸及び副生する
酢酸の処理も問題であった。本発明のイミド化剤は、γ
−ラクトン類もしくは反応条件下でγ−ラクトン生成可
能な前駆体であって、ラクトン類が、γ−バレロラクト
ン、γ−ヘキサノラクトン、γ−ヘプタノラクトン、γ
−オクタノラクトン、γ−ノナラクトン及びγ−デカラ
クトンの少なくとも1種であり、もしくは反応条件下に
上記ラクトンを生成するラクトン前駆体が、γ−オキシ
吉草酸などのγ−オキシカルボン酸やそれらの塩などの
少なくとも1種であることが好ましい。その使用量は重
合に使用するのテトラカルボン酸類とジアミンの混合物
の0.5重量%以上であればよい。これらのラクトン類
は本発明のポリイミド類の溶解を妨げないので、過剰に
用いてもよい。このようにしてイミド化率95%以上の
ポリイミド類を容易に得ることが出来ることを見出し本
発明に到達したものである。特に望ましいイミド化剤
は、γ−バレロラクトン及びγ−ヘキサノラクトンであ
り、例えば、γ−バレロラクトンは下記塩基性有機化合
物の存在下でポリアミド酸の脱水に寄与し、イミド化を
行うと共に自身はγ−オキシ吉草酸に変化するが、副生
する水が共沸によって系外に除去されると再びγ−オキ
シ吉草酸はγ−バレロラクトンに戻るため、イミド化剤
の必要量は少なく済むと共に、従来方法のようにイミド
化剤に由来する、ポリイミドの安定を損なうフリーの酸
がポリイミド溶液中に存在しないため精製工程を必要と
しない利点がある。更に、イミド化剤と共に、ピリジ
ン、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ピコリ
ン、N−メチルモルホリンまたはキノリン等の塩基性有
機化合物をイミド化剤の0.2〜2倍当量程度、好まし
くは当量併用することが望ましい。これらは単独であっ
ても混合して用いてもよい。
Hitherto, primary fatty acid anhydrides have been effective as imidizing agents, and acetic anhydride has been particularly preferred. However, the acetic anhydride used as described above has remarkable irritation and corrosiveness. Further, it is necessary to use a large amount of the organic solvent, that is, 20% or more of the amount of the polar organic solvent. The imidizing agent of the present invention has γ
A lactone or a precursor capable of producing γ-lactone under the reaction conditions, wherein the lactone is γ-valerolactone, γ-hexanolactone, γ-heptanolactone, γ
A lactone precursor which is at least one of octanolactone, γ-nonalactone and γ-decalactone, or which forms the lactone under the reaction conditions, is a γ-oxycarboxylic acid such as γ-oxyvaleric acid or a salt thereof; It is preferable to use at least one of these. The amount used may be 0.5% by weight or more of the mixture of the tetracarboxylic acid and the diamine used in the polymerization. Since these lactones do not prevent the dissolution of the polyimides of the present invention, they may be used in excess. The inventors have found that polyimides having an imidation ratio of 95% or more can be easily obtained in this manner, and have reached the present invention. Particularly desirable imidizing agents are γ-valerolactone and γ-hexanolactone.For example, γ-valerolactone contributes to the dehydration of polyamic acid in the presence of the following basic organic compound, and performs imidization and Changes to γ-oxyvaleric acid, but when the by-produced water is removed out of the system by azeotropic distillation, γ-oxyvaleric acid returns to γ-valerolactone again, so that the required amount of imidizing agent is reduced. In addition, there is an advantage that a purification step is not required because a free acid derived from an imidizing agent and impairing the stability of the polyimide is not present in the polyimide solution as in the conventional method. Further, it is desirable to use a basic organic compound such as pyridine, triethylamine, triethylenediamine, picoline, N-methylmorpholine or quinoline together with the imidizing agent in an amount of about 0.2 to 2 equivalents, preferably an equivalent amount, of the imidizing agent. . These may be used alone or as a mixture.

【0011】本発明に用いられるテトラカルボン酸類は
特に限定されないが、テトラカルボン酸及びそのエステ
ル類が用いられる。なお、テトラカルボン酸を加熱乾燥
した際に副生するテトラカルボン酸のモノ無水物やジ無
水物を含んでいても差し支えない。従来、ポリアミド酸
を経由する2段法で、高分子量又はコントロールされた
分子量を持つポリアミド酸を再現性よく得るには、高純
度のテトラカルボン酸二無水物類を用いる必要があり、
下記のように細心の注意をはらって反応させる必要があ
った。まず、ジアミン類を溶解した極性有機溶媒中に低
温で撹拌下に、カルボン酸を含んでいない高純度の二無
水物を粉末状で添加するか、または、完全に脱水乾燥し
た溶媒にテトラカルボン酸二無水物類を溶解し、完全な
吸湿防止対策をとりながらジアミンを添加するとか、ジ
アミン溶液中に完全に脱水乾燥したテトラカルボン酸二
無水物類を溶解した溶液を加えて反応させるなどであ
る。また、用いるテトラカルボン酸二無水物類は、無水
酢酸中で再結晶するとか、加熱下に昇華精製するなどし
て、加水分解したカルボン酸を含まないものを用いる必
要があった。
The tetracarboxylic acids used in the present invention are not particularly limited, but tetracarboxylic acids and esters thereof are used. It should be noted that tetracarboxylic acid may contain a monoanhydride or a dianhydride of by-product when the tetracarboxylic acid is dried by heating. Conventionally, to obtain a polyamic acid having a high molecular weight or a controlled molecular weight with good reproducibility by a two-stage method via a polyamic acid, it is necessary to use high-purity tetracarboxylic dianhydrides,
It was necessary to react with great care as described below. First, a high-purity dianhydride containing no carboxylic acid is added in the form of a powder in a polar organic solvent in which diamines are dissolved at low temperature under stirring, or tetracarboxylic acid is completely added to a solvent that is dehydrated and dried. Dissolve dianhydrides and add diamine while taking complete measures to prevent moisture absorption, or react by adding a solution of completely dehydrated and dried tetracarboxylic dianhydrides in diamine solution . Further, the tetracarboxylic dianhydride to be used must not contain a hydrolyzed carboxylic acid by recrystallization in acetic anhydride or sublimation purification under heating.

【0012】これに対し、本方法では、水溶液から精製
して得られたテトラカルボン酸類や、テトラカルボン酸
二無水物を一部含んでいるテトラカルボン酸類であって
もよい。滴定やガスクロマトグラフなどの分析などによ
って含有されているテトラカルボン酸になり得る基の含
有量を正確に測定しておけば、テトラカルボン酸二無水
物を一部含むテトラカルボン酸類を用いても、また、ジ
アミン及びテトラカルボン酸の添加順序や添加方法に一
切関係なく、目的とした分子量を持ったポリイミド類を
再現性よく得ることが出来るのが本法の優れた特長の1
つである。またエステルとしてはテトラカルボン酸類を
C1〜C3のアルコールと反応させて得られる低級アル
キルエステル類およびフェノールやクレゾール類と反応
させて得られるアリールエステル類が好ましく用いられ
る。こようなテトラカルボン酸類として、 ピロメリット酸 3、3’、4、4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸 3、3’、4、4’−ビフェニルテトラカルボン酸 2,2−ビス(3,4−カルボキシフェニル)プロパン 4、4’−(ヘキサフルオロイソプロビリデン)ジフタ
ル酸 3、3’、4、4’−ジフェニルエーテルテトラカルボ
ン酸 3、3’、4、4’−ジフェニルスルフォンテトラカル
ボン酸 1,2,3,4−ブテンテトラカルボン酸 ビシクロ[2,2,2]オクト−7−エン−2、3、
5、6−テトラカルボン酸 等のテトラカルボン酸が挙げられ、これらは単独でも混
合して用いてもよい。
On the other hand, in the present method, a tetracarboxylic acid obtained by purifying from an aqueous solution or a tetracarboxylic acid partially containing tetracarboxylic dianhydride may be used. By accurately measuring the content of the group that can be a tetracarboxylic acid contained by titration or analysis such as gas chromatography, even if a tetracarboxylic acid partially containing tetracarboxylic dianhydride is used, One of the outstanding features of the present method is that polyimides having a target molecular weight can be obtained with good reproducibility regardless of the order and method of addition of diamine and tetracarboxylic acid.
One. As the ester, a lower alkyl ester obtained by reacting a tetracarboxylic acid with a C1 to C3 alcohol and an aryl ester obtained by reacting with a phenol or cresol are preferably used. Such tetracarboxylic acids include pyromellitic acid 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid 2,2-bis (3,4-carboxy) Phenyl) propane 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid 3,3 ′, 4,4′-diphenylethertetracarboxylic acid 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic acid 1,2,2 3,4-butenetetracarboxylic acid bicyclo [2,2,2] oct-7-ene-2,3,
Examples thereof include tetracarboxylic acids such as 5,6-tetracarboxylic acid, which may be used alone or as a mixture.

【0013】本発明に用いられるジアミンとしては特に
限定されないが、 3、3’−ジアミノジフェニルエーテル 4、4’−ジアミノジフェニルエーテル 3、3’−ジアミノジフェニルメタン 4、4’−ジアミノジフェニルメタン 3、3’−ジアミノジフェニルプロパン 4、4’−ジアミノジフェニルプロパン 3、3’−ジアミノジフェニルスルフォン 4、4’−ジアミノジフェニルスルフォン 3、3’−ジアミノジフェニルスルファイド 4、4’−ジアミノジフェニルスルファイド 3、3’−ジアミノベンゾフェノン 4、4’−ジアミノベンゾフェノン 1−スルフォ−2、4−ジアミノベンゼン 2、4−ジアミノフェノール 1−メトキシ−2、4−ジアミノベンゼン 3、3’−ジメチル−4、4’−ジアミノジフェニルエ
ーテル 3、3’−ジメトキシ−4、4’−ジアミノジフェニル
メタン 4,4’−ジアミノ−3、3’5、5’−テトラメチル
ビフェニル パラフェニレンジアミン メタフェニレンジアミン 2,4−ジアミノトルエン 2、4−ジアミノ安息香酸 2,6−ジアミノ安息香酸 2、5−ジアミノ安息香酸 4,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル 1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン 1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン 2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]プロパン ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルフ
ォン ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルフ
ォン 2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]ヘキサフルオロプロパン 2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン 9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン 2,6−ジアミノ−4−トリフルオロメチルピリジン 1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1、1、3、3
−テトラメチルジシロキサン 1,3−ビス(3−アミノフェノキシメチル)−1、
1、3、3−テトラメチルジシロキサン 1,3−ビス(アミノフェニル)−1,1,3,3−テ
トラメチルジシロキサンα、ω−ビス(3−アミノプロ
ピル)ポリジメチルシロキサン 等のジアミンが挙げられ、これらは単独でも混合して用
いてもよい。
The diamine used in the present invention is not particularly limited, but 3,3'-diaminodiphenyl ether 4,4'-diaminodiphenyl ether 3,3'-diaminodiphenylmethane 4,4'-diaminodiphenylmethane 3,3'-diamino Diphenylpropane 4,4'-diaminodiphenylpropane 3,3'-diaminodiphenylsulfone 4,4'-diaminodiphenylsulfone 3,3'-diaminodiphenylsulfide 4,4'-diaminodiphenylsulfide 3,3'-diamino Benzophenone 4,4'-diaminobenzophenone 1-sulfo-2,4-diaminobenzene 2,4-diaminophenol 1-methoxy-2,4-diaminobenzene 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminodiphenyl ether 3, 3'-Dimethyme -4,4'-diaminodiphenylmethane 4,4'-diamino-3,3'5,5'-tetramethylbiphenyl paraphenylenediamine metaphenylenediamine 2,4-diaminotoluene 2,4-diaminobenzoic acid 2,6- Diaminobenzoic acid 2,5-diaminobenzoic acid 4,4-bis (4-aminophenoxy) biphenyl 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene 2,2- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone 2,2-bis [4- (4- Aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoro Propane 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene 2,6-diamino-4-trifluoromethylpyridine 1,3-bis (3-aminopropyl) -1,1,3,3
-Tetramethyldisiloxane 1,3-bis (3-aminophenoxymethyl) -1,
Diamines such as 1,3,3-tetramethyldisiloxane 1,3-bis (aminophenyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane These may be used alone or as a mixture.

【0014】また、好ましい有機極性溶媒として、N−
メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチル
ホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド(DMA
c)、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N,−ジメ
チルメトキシアセトアミド、イミダゾール、γ−ブチロ
ラクトン、ジメチルスルホキシドまたはジメチルスルホ
ン等が単独または混合して用いられる。用途によてはフ
ェノール類やナフトール類を単独又は混合して用いても
よい。副生する水を共沸によって系外に除去しながらイ
ミド化反応を行うために、これらの有機極性溶媒に、ベ
ンゼン、ニトロベンゼン、トルエン、キシレン、シクロ
ヘキサン、ジオキサンまたはテトラリンなどを加えると
よい。
As a preferred organic polar solvent, N-
Methyl-2-pyrrolidone (NMP), N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide (DMA
c), N, N-diethylacetamide, N, N, -dimethylmethoxyacetamide, imidazole, γ-butyrolactone, dimethylsulfoxide, dimethylsulfone, or the like is used alone or in combination. Depending on the use, phenols or naphthols may be used alone or in combination. In order to carry out the imidization reaction while removing by-product water out of the system by azeotropic distillation, benzene, nitrobenzene, toluene, xylene, cyclohexane, dioxane, tetralin or the like may be added to these organic polar solvents.

【0015】本発明方法により製造されるポリイミド類
は、ジアミンおよびテトラカルボン酸類からなるイミド
単位を有し、各1種類のジアミンおよびテトラカルボン
酸類からなる2成分系ホモポリマの構造を持つポリイミ
ドのみならずさらに、他の成分を加ることで、希望する
用途に適した多成分系ポリイミドを、ランダム共重合
体、ブロック共重合体等の構造で得ることができる。
The polyimides produced by the method of the present invention have not only polyimides having an imide unit composed of a diamine and a tetracarboxylic acid, but having a two-component homopolymer structure composed of one kind of a diamine and a tetracarboxylic acid. Further, by adding other components, a multi-component polyimide suitable for a desired use can be obtained with a structure such as a random copolymer or a block copolymer.

【0016】本発明のポリイミドは以下のようにしての
製造される。ジアミンとテトラカルボン酸類とを極性有
機溶媒中で、常温で均一混合したのち、80〜200
℃、好ましくは120〜180℃の温度で反応させるこ
とによって、縮重合とイミド化を同時に進め、一段法で
ポリイミドを得ることが可能である。従来の一段法では
得られたポリイミドの分子量分布が広くなり易く、ま
た、分子量の制御が難しく、粘度上昇を起こしやすい問
題点があった。このような問題点は、本発明のラクトン
類と塩基性有機化合物を用いる方法によって改善され、
このことによって、反応時間がポリアミド酸経由法に比
較し短時間ですむことなどの利点が生きてくるものであ
る。本発明では、分子量の制御する目的で反応時に末端
停止剤を使用し、ポリマ分子末端をジカルボン酸無水物
で封止する方法が用いることによって反応時の粘度管理
を厳密に行ない希望分子量のポリイミドを製造すること
が出来る。末端停止剤の添加方法としては、分子量が1
万以上ポリイミドを製造する場合は、原料混合物と末端
停止剤を一括添加して反応を行うのが好ましい。分子量
が1万以下のポリイミドを製造する場合は、反応途中で
一旦反応温度を下げ、末端停止剤を添加した後、反応温
度を上げてイミド化反応を行うことが望ましい。ブロッ
ク共重合体を得るときは、低分子量ポリイミドオリゴマ
ーにテトラカルボン酸と計算量のジアミンを一括添加
し、生成するブロック共重合体の分子量を調製する方法
が有効である。末端停止剤としては、無水フタール酸、
ベンゾフェノンジカルボン酸無水物類、マレイン酸無水
物、ナジック酸無水物、ビシクロ[2,2,1]ヘプト
−5−エン−2、3−ジカルボン酸無水物等のジカルボ
ン酸無水物から選ばれた少なくとも1種が好ましい。
The polyimide of the present invention is produced as follows. After uniformly mixing the diamine and the tetracarboxylic acid at room temperature in a polar organic solvent,
By conducting the reaction at a temperature of 120 ° C., preferably 120 to 180 ° C., polycondensation and imidization can proceed simultaneously, and a polyimide can be obtained by a one-step method. In the conventional one-step method, there is a problem that the molecular weight distribution of the obtained polyimide tends to be widened, the control of the molecular weight is difficult, and the viscosity tends to increase. Such problems are improved by the method of the present invention using lactones and a basic organic compound,
This has the advantage that the reaction time is shorter than that of the method via the polyamic acid. In the present invention, using a terminal stopper during the reaction for the purpose of controlling the molecular weight, the viscosity of the reaction during the reaction is strictly controlled by using a method of sealing the polymer molecular ends with dicarboxylic acid anhydride polyimide of the desired molecular weight Can be manufactured. As a method for adding a terminal stopper, a molecular weight of 1
When producing 10,000 or more polyimides, it is preferable to carry out the reaction by adding the raw material mixture and the terminal terminator all at once. When producing a polyimide having a molecular weight of 10,000 or less, it is desirable to lower the reaction temperature once during the reaction, add a terminal stopper, and then raise the reaction temperature to perform the imidization reaction. When obtaining a block copolymer, it is effective to add a tetracarboxylic acid and a calculated amount of a diamine to a low-molecular-weight polyimide oligomer at a time to adjust the molecular weight of the resulting block copolymer. Examples of the terminal stopper include phthalic anhydride,
At least one selected from dicarboxylic anhydrides such as benzophenone dicarboxylic anhydrides, maleic anhydride, nadic anhydride, and bicyclo [2,2,1] hept-5-ene-2,3-dicarboxylic anhydride; One is preferred.

【0017】成形用ポリイミド粉末を製造する場合は、
ジメチルアセトミド等の有機極性溶媒中にテトラカルボ
ン酸と計算量のジアミン及びジカルボン酸類を一括添加
し、さらに、イミド化剤としてγ−バレロラクトンと塩
基性化合物としてピリジンと共沸で水を除去するためト
ルエン等を添加し、常温で均一混合したのち温度を上げ
て120℃〜200℃で副生する水を共沸で系外に除去
しながら反応を行うと、微粉末状のポリイミドが析出す
るので、このポリイミドを濾別・乾燥することで、容易
に分子量数万から30万程度でイミド化率95%以上の
粉末状ポリイミド樹脂を得ることができる。
In the case of producing a polyimide powder for molding,
A tetracarboxylic acid and a calculated amount of a diamine and a dicarboxylic acid are collectively added to an organic polar solvent such as dimethylacetamide, and water is removed azeotropically with γ-valerolactone as an imidizing agent and pyridine as a basic compound. For this purpose, toluene and the like are added, and after uniform mixing at room temperature, the temperature is increased and the reaction is performed at 120 ° C. to 200 ° C. while removing by-produced water out of the system by azeotropic distillation. Therefore, by filtering and drying the polyimide, a powdery polyimide resin having a molecular weight of about tens of thousands to 300,000 and an imidization ratio of 95% or more can be easily obtained.

【0018】上記ポリイミドの優れた耐熱性、電気的性
能を出来るだけ満足させながら、寸法安定性、耐衝撃
性、加工性等の向上や接着性などを付与するには、テト
ラカルボン酸類1種とジアミン1種から成る2成分系ポ
リイミドの他に、多成分系ポリイミドも用いられる。
In order to improve the dimensional stability, impact resistance, workability, etc., and to provide adhesion, etc. while satisfying the excellent heat resistance and electrical performance of the polyimide as much as possible, it is necessary to use one kind of tetracarboxylic acid. In addition to the two-component polyimide composed of one kind of diamine, a multi-component polyimide is also used.

【0019】ランダム共重合体は各成分の優れた特性を
有するよりも、各成分の内で低い特性に収斂する傾向を
有するため、ランダム共重合体よりもブロック共重合体
の方が、希望する特性を設計する点から好ましい。本発
明のブロック共重合ポリイミド類は以下のようにして製
造出来る。分子量が5000以下の、好ましくは分子量
が2000以下の低分子量のポリイミドオリゴマーを溶
解しているNMPのような極性有機溶媒中に、更にテト
ラカルボン酸類の少なくとも1種および(又は)ジアミ
ンの少なくとも1種を添加して、イミド化剤であるラク
トン類と塩基性有機化合物の存在下に、副生する水を共
沸によって系外に除去しながら、縮重合と共にイミド化
反応を行うことで、NMPのような極性溶媒に溶解して
いるブロック共重合ポリイミド類を得ることができる。
このような方法を用いると、反応中に交換反応によっ
て、部分的にランダム共重合化することが防止されるた
め完全なブロック共重合ポリイミド類が得られる。
Since the random copolymer has a tendency to converge on the low properties of each component rather than the excellent properties of each component, the block copolymer is more desirable than the random copolymer. This is preferable from the viewpoint of designing characteristics. The block copolymerized polyimide of the present invention can be produced as follows. In a polar organic solvent such as NMP in which a low molecular weight polyimide oligomer having a molecular weight of 5,000 or less, preferably 2,000 or less is dissolved, at least one kind of tetracarboxylic acids and / or at least one kind of diamine Is added, and in the presence of a lactone as an imidizing agent and a basic organic compound, an imidization reaction is carried out together with polycondensation while removing by-product water by azeotropic distillation, thereby producing NMP. Block copolymerized polyimides dissolved in such a polar solvent can be obtained.
When such a method is used, partial block copolymerization polyimides are obtained because partial random copolymerization is prevented by an exchange reaction during the reaction.

【0020】接着性が要求される用途のポリイミドにつ
いては、接着性および加工性を付与するする為、ジアミ
ン成分として、ジアミノシロキサン化合物、ジアミノフ
ルオロ化合物、ジアミノ含サルファイド化合物等を共重
合すると共に、末端停止剤を用いて、ポリマ末端を封鎖
し、分子量を5万〜10万程度に調整すると共に、接着
加工時または接着後の熱処理によって部分的に架橋し高
分子量化する物である事が好ましい。
For polyimides for applications requiring adhesiveness, diaminosiloxane compounds, diaminofluoro compounds, diamino-containing sulfide compounds and the like are copolymerized as diamine components in order to impart adhesiveness and processability. It is preferable to use a terminator to block the polymer end, adjust the molecular weight to about 50,000 to 100,000, and partially crosslink by a heat treatment during or after bonding to increase the molecular weight.

【0021】本発明のポリイミドに架橋性を付与させる
ような目的の為には、テトラカルボン酸成分として、ビ
シクロ〔2,2,2〕オクト−7−エン−2,3,5,
6−テトラカルボン酸二無水物を共重合させるとか、末
端停止剤としてマレイン酸無水物や、ナジック酸無水物
または3−エチニルアニリン等を用いたり、ジアミン類
とマレイン酸無水物やナジック酸無水物を反応させて得
られるビスイミドをブレンドしても良い。これらのポリ
イミドはN−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド
などの極性溶媒に溶解して用いられる。必要に応じ粘度
を下げるなどの目的で混合キシレンなど、一般の接着剤
に用いられている溶媒を加えても良い。
For the purpose of imparting crosslinking property to the polyimide of the present invention, bicyclo [2,2,2] oct-7-ene-2,3,5,
Copolymerization of 6-tetracarboxylic dianhydride, use of maleic anhydride, nadic anhydride or 3-ethynylaniline as a terminal stopper, diamines and maleic anhydride or nadic anhydride May be blended with a bisimide obtained by reacting These polyimides are used after being dissolved in a polar solvent such as N-methylpyrrolidone and dimethylacetamide. If necessary, a solvent used in general adhesives such as mixed xylene may be added for the purpose of lowering the viscosity.

【0022】本発明のポリイミドに電着性を付与するた
め、ジアミン成分としてカルボキシル基を有する芳香族
ジアミンを10乃至20モル%含有するブロック共重合
ポリイミド組成物溶液に、トリエチルアミンのような塩
基性化合物を加え、約40℃1時間加熱して、カルボン
酸を中和した後、水を添加して電着塗料を作ることが出
来る。本電着塗料はアニオン電着が可能であり、得られ
た塗膜は優れた密着性、耐熱性を備えている。
In order to impart electrodeposition property to the polyimide of the present invention, a basic compound such as triethylamine is added to a block copolymer polyimide composition solution containing 10 to 20 mol% of an aromatic diamine having a carboxyl group as a diamine component. After heating at about 40 ° C. for 1 hour to neutralize the carboxylic acid, water can be added to prepare an electrodeposition paint. The electrodeposition paint can be subjected to anion electrodeposition, and the resulting coating film has excellent adhesion and heat resistance.

【0023】カルボキシル基を有する芳香族ジアミンと
しては、ベンゼン、ナフタレン、ジフェニルやジフェニ
ルエーテルなどの芳香族環にアミノ基2基と1〜2個の
カルボキシル基とを有する化合物が用いられ、例えば、
2、4−ジアミノ安息香酸、2、6−ジアミノ安息香
酸、3、5−ジアミノ安息香酸等が挙げられるが、この
化合物に特に限定するものではない。
As the aromatic diamine having a carboxyl group, a compound having two amino groups and one or two carboxyl groups on an aromatic ring such as benzene, naphthalene, diphenyl and diphenyl ether is used.
Examples thereof include 2,4-diaminobenzoic acid, 2,6-diaminobenzoic acid, and 3,5-diaminobenzoic acid, but are not particularly limited to these compounds.

【0024】銅箔、ステンレスシート、42ニッケルシ
ートなどの金属箔やシート、およびポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレン−2、6−ナフタレート、ポリ
フェニレンスルフィドや、ポリエーテルスルホンのフイ
ルムやシートなどに代表される素材フイルムの耐薬品
性、耐酸化性、耐摩耗性や機械的特性等を改善する為、
基材フイルムの片面または両面に本発明のポリイミド類
を被覆・配設すると特性が改善されたフイルム積層体が
得られる。このようにして得られるフイルム積層体は、
基材フイルム本来の特性より改善される為、従来の使用
限界を超えて使用することができる。このような用途の
例として、プリント基板に微細な半田ペーストをスクリ
ーン印刷する為のスクリーン印刷版用の版材やフレキシ
ブルプリント基板などがある。
Metal foils and sheets such as copper foils, stainless steel sheets and 42 nickel sheets, and material films represented by polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polyphenylene sulfide, polyethersulfone films and sheets, etc. To improve chemical resistance, oxidation resistance, abrasion resistance, mechanical properties, etc.
By coating and disposing the polyimide of the present invention on one or both surfaces of the base film, a film laminate having improved properties can be obtained. The film laminate obtained in this way is
Since the properties of the base film are improved, it can be used beyond the conventional usage limits. Examples of such uses include a plate material for a screen printing plate for screen-printing a fine solder paste on a printed board, a flexible printed board, and the like.

【0025】フイルム積層体の表層に配設された本発明
のポリイミド被覆層は同種もしくは他の基材フイルム材
料との張り合わせる際の接着層として利用することが出
来る。その用途の一例として、熱接着性フイルム、フレ
キシブルプリント配線回路板やリードフレームに張り合
わせるカバーフイルムなどがある。
The polyimide coating layer of the present invention provided on the surface layer of the film laminate can be used as an adhesive layer when laminating with the same or another base film material. Examples of the application include a heat-adhesive film, a cover film to be bonded to a flexible printed circuit board and a lead frame, and the like.

【0026】これらの用途の中で特に有用な物は、市販
のポリイミドフイルムの表面に本発明のポリイミドを塗
布したフイルム積層体である。ポリイミドフイルムをプ
リント配線板に用いる場合、ケミカルエッチングなどの
方法によって、ポリイミドフイルムの所定の場所に一定
のピッチに従って微細な貫通孔を設ける必要がある。こ
のような場合、感光性のドライフイルムがレジスト材料
として用いられるが、一般に、ドライフイルムは、ポリ
イミドフイルムに対して接着性が劣る為、ケミカルエッ
チング時に、ポリイミドフイルムとドライフイルムレジ
ストとの間にエッチング液が浸入し、所定の形状をもっ
た貫通孔が得られにくいという問題点がある。本発明の
ポリイミドを市販ポリイミドフイルムに塗布して得られ
るフイルム積層体はドライフイルムに対しても馴染みが
良く、良好な接着性を示す為、ケミカルエッチング時の
問題点を解消することが出来る。
A particularly useful one among these uses is a film laminate obtained by applying the polyimide of the present invention to the surface of a commercially available polyimide film. When a polyimide film is used for a printed wiring board, it is necessary to provide fine through holes at predetermined positions of the polyimide film at a predetermined pitch by a method such as chemical etching. In such a case, photosensitive dry film is used as a resist material, but generally, dry film has poor adhesion to a polyimide film, and therefore, during chemical etching, etching is performed between the polyimide film and the dry film resist. There is a problem that the liquid penetrates and it is difficult to obtain a through hole having a predetermined shape. The film laminate obtained by applying the polyimide of the present invention to a commercially available polyimide film is well-adapted to dry film and exhibits good adhesiveness, so that problems during chemical etching can be solved.

【0027】更に、本発明のポリイミド類の用途例とし
て、プリント配線回路板や金属ベースの半導体パッケー
ジの絶縁層、本発明のポリイミドとシリカ粒子のような
フィラーとを組み合わせた半導体封止剤、本発明のポリ
イミドに導電性カーボン及び銀、銅やニッケルなどの金
属微粒子ならびに銀やニッケルなどの金属をメッキした
プラスチック微粒子などのような導電性微粒子を配合し
た導電性接着剤等がある。
Further, examples of uses of the polyimides of the present invention include insulating layers of printed wiring circuit boards and metal-based semiconductor packages, semiconductor encapsulants combining the polyimide of the present invention with fillers such as silica particles, and the like. There is a conductive adhesive and the like in which the polyimide of the present invention is blended with conductive carbon and metal fine particles such as silver, copper and nickel, and conductive fine particles such as plastic fine particles plated with a metal such as silver and nickel.

【0028】接着性を付与する為には、両末端ジアミン
のシロキサン化合物をジアミン成分として3から50モ
ル%含有するブロック共重合ポリイミド類を使用するこ
とが好ましい。
In order to impart adhesiveness, it is preferable to use block copolymer polyimides containing 3 to 50 mol% of a siloxane compound having a diamine at both ends as a diamine component.

【0029】金属ベースの半導体パッケージは、電磁波
シールドを施し、放熱性の良い実装を行うことが出来る
ため、高密度実装の用途に適しているが、金属ベースの
基板に要求される絶縁層として、本発明のポリイミド類
は耐熱性および接着性の性能面から好ましい。その半導
体パッケージの構造として、搭載された半導体チップ、
導体回路、複数の外部接続端子および必要箇所を絶縁層
で被覆された金属基板で構成されており、ポリイミド類
からなる絶縁層が1層もしくは2層以上からなり、各絶
縁層上に導体回路が形成されるとともに、各絶縁層を貫
通して導体回路間で複数の電気接続されている構造体
が、高密度実装用として特に好ましい。
A metal-based semiconductor package is suitable for high-density mounting because it can be mounted with good heat radiation by applying an electromagnetic wave shield. However, as an insulating layer required for a metal-based substrate, The polyimides of the present invention are preferable from the viewpoint of heat resistance and adhesive performance. The structure of the semiconductor package includes a mounted semiconductor chip,
It is composed of a conductor circuit, a plurality of external connection terminals, and a metal substrate whose necessary parts are covered with an insulation layer. The insulation layer made of polyimides is composed of one or more layers, and the conductor circuit is formed on each insulation layer. A structure that is formed and penetrates each insulating layer and is electrically connected between a plurality of conductor circuits is particularly preferable for high-density mounting.

【0030】金属ベースのプリント配線回路板の絶縁層
についても、本発明のポリイミド類は耐熱性および接着
性の良好な性能を有するので、上記電磁波シールド特性
・放熱特性を生かしたプリント配線回路板を得ることが
出来る。
As for the insulating layer of the metal-based printed circuit board, the polyimides of the present invention have good heat resistance and good adhesive properties. Can be obtained.

【0031】特に、高密度実装用のプリント配線回路板
につては、導体基板上に電解メッキ法で微細配線パター
ンを形成したものを、金属シート上に被覆形成されたポ
リイミド絶縁層上に上記導体基板から熱転写するとか、
金属シート上に形成された絶縁層に銅箔を張り合わせた
基板について、銅箔をフォトエッチング法で配線パター
ンを形成するとか、金属シート上に形成された絶縁層に
スパッタリング法で銅薄膜を形成した上にフォトメッキ
法で配線パターンを形成する等の方法によりポリイミド
絶縁層が単層もしくは多層プリント配線回路板を作るこ
とが出来る。
In particular, for a printed wiring circuit board for high-density mounting, a circuit board in which a fine wiring pattern is formed by electrolytic plating on a conductive substrate is coated on a polyimide insulating layer formed on a metal sheet. Thermal transfer from the substrate,
For a substrate in which a copper foil is bonded to an insulating layer formed on a metal sheet, a wiring pattern is formed on the copper foil by a photoetching method, or a copper thin film is formed on the insulating layer formed on the metal sheet by a sputtering method. A single-layer or multi-layer printed circuit board having a polyimide insulating layer can be formed by a method such as forming a wiring pattern thereon by photoplating.

【0032】本発明の分子量約5万〜約10万のブロッ
ク共重合ポリイミド類からなるポリイミド接着剤、コー
ティング剤、電着塗料、熱接着フィルム等は、現在広く
使用されているポリアミド酸溶液の製品に比較し、長期
保存してもゲル化せず保存安定性に優れ、無酸素の雰囲
気中で高温熱処理する必要もないため取り扱いが大変便
利である。特に、接着性に関与する成分に規則性のある
配列を与えることが可能なため、ポリマー設計の自由度
を拡大することが出来るものである。
The polyimide adhesives, coating agents, electrodeposition paints, heat-adhesive films and the like comprising the block copolymerized polyimide having a molecular weight of about 50,000 to about 100,000 according to the present invention are products of polyamic acid solutions which are currently widely used. Compared with the above, it is not gelled even when stored for a long period of time, has excellent storage stability, and does not require high-temperature heat treatment in an oxygen-free atmosphere, so that handling is very convenient. In particular, since it is possible to give a regular arrangement to the components involved in the adhesiveness, the degree of freedom in polymer design can be expanded.

【0033】[0033]

【実施例】以下に本発明を実施例等によって詳細に説明
する。なお、本発明は以下の実施例には限定されない。
The present invention will be described below in detail with reference to examples. Note that the present invention is not limited to the following embodiments.

【0034】実施例1 温度計、撹拌装置、水分定量受
器付きの還流コンデンサ及び窒素ガス吹込口を備えた5
00mlの4口セパラブルフラスコに、N、N−ジメチ
ルアセトアミド195gとα、ω−ビス(3−アミノプ
ロピル)ポリジメチルシロキサン(平均分子量802)
8.57g、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル]スルフォン21.07g、3、3’、水から再結
晶したのち100℃で乾燥し水5%を含有する4、4’
−ビフェニルテトラカルボン酸20.80g、ピリジン
1.03g、トルエン50g、γ−バレロラクトン1.
3gを加える。室温で20分撹拌し、昇温して160℃
で1時間還流下に水を留出しながら加熱撹拌したのち、
温度を180℃に上げ更に2時間加熱撹拌する。空冷し
て、無水フタル酸0.71gを加え、室温で1時間撹拌
した後、180℃で1時間還流下に加熱撹拌したのち、
トルエンを留出しながら更に2時間反応させ、粘凋なポ
リイミド溶液を得た。
Example 1 A thermometer, a stirrer, a reflux condenser equipped with a water content receiver, and a nitrogen gas inlet 5
In a 00 ml four-neck separable flask, 195 g of N, N-dimethylacetamide and α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane (average molecular weight 802)
8.57 g, 21.07 g of bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 3,3 ′, recrystallized from water, dried at 100 ° C., 4,4 ′ containing 5% of water
-Biphenyltetracarboxylic acid 20.80 g, pyridine 1.03 g, toluene 50 g, γ-valerolactone 1.
Add 3 g. Stir at room temperature for 20 minutes, raise temperature to 160 ° C
After heating and stirring while distilling water under reflux for 1 hour,
The temperature is raised to 180 ° C., and the mixture is further heated and stirred for 2 hours. After air cooling, 0.71 g of phthalic anhydride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and then heated and stirred under reflux at 180 ° C. for 1 hour.
The reaction was further continued for 2 hours while distilling off toluene to obtain a viscous polyimide solution.

【0035】厚み18μmの銅箔上(三井金属製 3E
C−HTE)に上記ポリイミド溶液をキャストして、2
40℃で1時間乾燥しポリイミド層の厚み25μmのフ
レキシブルプリント基板を得た。180度ピール剥離強
度(測定法JIS C 6471)は1.6kg/cm
であり、熱水中85℃、30分間処理後のピール剥離強
度は1.1kg/cmであった。
On a copper foil having a thickness of 18 μm (Mitsui Metals 3E
C-HTE) and cast the above polyimide solution into 2
After drying at 40 ° C. for one hour, a flexible printed board having a polyimide layer thickness of 25 μm was obtained. 180 degree peel peel strength (measurement method JIS C 6471) is 1.6 kg / cm
The peel strength after hot water treatment at 85 ° C. for 30 minutes was 1.1 kg / cm.

【0036】実施例2 実施例1と同様な反応装置を用
い、N、N−ジメチルアセトアミド180g、水から再
結晶したのち100℃で乾燥し水5%を含有する3、
3’、4、4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸1
8.60g、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−
1、1、3、3−テトラメチルジシロキサン0.51
g、γ−ヘキサノラクトン1.48g、ピリジン1.0
3gを加え、実施例1と同様にして反応させたのち、冷
却する。上記溶液に、N、N−ジメチルアセトアミド4
0g、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]プロパン19.5g、ピリジン1.03g、ト
ルエン50g、無水フタル酸0.71gを加える。実施
例1と同様にして反応させ、粘凋なポリイミド溶液を得
た。
Example 2 Using the same reactor as in Example 1, 180 g of N, N-dimethylacetamide was recrystallized from water, dried at 100 ° C., containing 5% of water.
3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid 1
8.60 g, 1,3-bis (3-aminopropyl)-
1,1,3,3-tetramethyldisiloxane 0.51
g, γ-hexanolactone 1.48 g, pyridine 1.0
After adding 3 g and reacting in the same manner as in Example 1, the mixture is cooled. In the above solution, N, N-dimethylacetamide 4
0 g, 19.5 g of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 1.03 g of pyridine, 50 g of toluene and 0.71 g of phthalic anhydride are added. The reaction was carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a viscous polyimide solution.

【0037】厚み18μmの銅箔(三井金属製 3EC
−HTE)上にポリイミド溶液をキャストして、240
℃1時間乾燥しポリイミド層の厚み25μmのフレキシ
ブルプリント基板を得た。180度ピール剥離強度(測
定法JIS C 6471)は1.5kg/cmであ
り、85℃熱水30分間処理後のピール剥離強度は1.
0kg/cmであった。
18 μm thick copper foil (Mitsui Metals 3EC)
-HTE), cast the polyimide solution onto 240
After drying at 1 ° C. for 1 hour, a flexible printed board having a polyimide layer thickness of 25 μm was obtained. The 180 ° peel strength (measurement method JIS C 6471) is 1.5 kg / cm, and the peel strength after treatment at 85 ° C. with hot water for 30 minutes is 1.
It was 0 kg / cm.

【0038】また、上記フレキシブルプリント基板のポ
リイミド面と200μmの厚みの42ニッケルシートと
を重ね合わせ、真空ポンプの減圧下で圧力20kg/c
m2、温度270℃で1時間プレスを行い銅/42ニッ
ケルの張合せ材料(金属ベースプリント基板用)を得
た。銅/ポリイミド界面および42ニッケル/ポリイミ
ド界面の接着は充分であり、85℃の熱水中で30分処
理しても剥離しなかった。
Further, the polyimide surface of the above-mentioned flexible printed circuit board was superimposed on a 42 μm thick nickel sheet having a thickness of 200 μm, and a pressure of 20 kg / c was applied under reduced pressure of a vacuum pump.
Pressing was performed at 270 ° C. for 1 hour at a temperature of 270 ° C. to obtain a copper / 42 nickel bonding material (for metal-based printed circuit boards). The adhesion at the copper / polyimide interface and the 42 nickel / polyimide interface was sufficient, and did not peel even after treatment in hot water at 85 ° C. for 30 minutes.

【0039】比較例1 実施例1に使用したイミド化剤
γ−ヘキサノラクトンの代わりにP−トルエンスルホン
酸を使用した以外は実施例1の条件に従いポリイミド溶
液を得た。実施例1と同様にして、厚み18μmの銅箔
(三井金属製 3EC−HTE)上にポリイミド溶液を
キャストして、ポリイミド層の厚み25μmのフレキシ
ブルプリント基板を得た。180度ピール剥離強度(測
定法JIS C 6471)は0.7kg/cmであ
り、85℃熱水中30分間処理後のピール剥離強度は
0.25kg/cmであり、実用に供することの出来な
い水準であった。
Comparative Example 1 A polyimide solution was obtained under the same conditions as in Example 1 except that P-toluenesulfonic acid was used instead of the imidizing agent γ-hexanolactone used in Example 1. In the same manner as in Example 1, a polyimide solution was cast on a copper foil having a thickness of 18 μm (3EC-HTE made by Mitsui Kinzoku) to obtain a flexible printed board having a polyimide layer having a thickness of 25 μm. The 180 degree peel peel strength (measurement method JIS C 6471) is 0.7 kg / cm, and the peel peel strength after treatment for 30 minutes at 85 ° C. hot water is 0.25 kg / cm, which cannot be put to practical use. It was standard.

【0040】比較例2 実施例2に使用したイミド化剤
γ−ヘキサノラクトンの代わりに、当モル量のクロトン
酸を使用した以外は実施例2と同様の条件に従いポリイ
ミド溶液を得た。厚み18μmの銅箔(三井金属製 3
EC−HTE)上にポリイミド溶液をキャストして、ポ
リイミド層の厚み25μmのフレキシブルプリント基板
を得た。180度ピール剥離強度(測定法JIS C
6471)は0.8kg/cmであり、85℃熱水中3
0分間処理後のピール剥離強度は0.3kg/cmであ
って、実用に供することの出来ない水準であった。
Comparative Example 2 A polyimide solution was obtained under the same conditions as in Example 2 except that an equimolar amount of crotonic acid was used instead of the imidizing agent γ-hexanolactone used in Example 2. 18μm thick copper foil (Mitsui Metals 3
A polyimide solution was cast on EC-HTE) to obtain a flexible printed board having a polyimide layer thickness of 25 μm. 180 degree peel peel strength (Measurement method JIS C
6471) is 0.8 kg / cm.
The peel strength after the treatment for 0 minutes was 0.3 kg / cm, which was a level that could not be put to practical use.

【0041】実施例3 実施例1で得られたポリイミド
溶液20gに粒子径3〜8μmのニッケルおよび金メッ
キを施したポリスチレン粒子2.3gをサンドグライン
ドミルを使用して30分間分散させた後、更に分散液中
に上記ポリイミド溶液80gを加え、引き続きサンドグ
ラインドミルで30分間分散させて、異方導電性塗料を
得た。この異方導電性塗料を100μmピッチのフレキ
シブル回路基板の導通端子部に膜厚が20μm得られる
ようにコーティングした後、真空乾燥機で110℃20
分間乾燥した。得られたフレキシブル回路基板の導通端
子部を同一ピッチのITO回路ガラス板と重ねあわせ、
クッション材のポリイミドフイルムを介して、260
℃、20kg/cm2の圧力で20秒間圧着した。得ら
れた熱圧着された回路間の導通抵抗は0.5Ω以下であ
り、60℃90%RH1000時間の高温高湿テスト後
の接着強度も0.5kg/cm以上を示し、良好な性能
を示した。
EXAMPLE 3 2.3 g of nickel- and gold-plated polystyrene particles having a particle diameter of 3 to 8 μm were dispersed in 20 g of the polyimide solution obtained in Example 1 for 30 minutes using a sand grind mill. 80 g of the above polyimide solution was added to the dispersion, which was subsequently dispersed by a sand grind mill for 30 minutes to obtain an anisotropic conductive paint. This anisotropic conductive paint is coated on a conductive terminal portion of a flexible circuit board having a pitch of 100 μm so that a film thickness of 20 μm can be obtained.
Dried for minutes. The conductive terminal portion of the obtained flexible circuit board is overlapped with an ITO circuit glass plate having the same pitch,
260 through the cushioning polyimide film
Pressure bonding was performed at 20 ° C. and a pressure of 20 kg / cm 2 for 20 seconds. The conduction resistance between the obtained thermocompression-bonded circuits is 0.5Ω or less, and the adhesive strength after a high-temperature and high-humidity test at 60 ° C. and 90% RH for 1000 hours also shows 0.5 kg / cm or more, showing good performance. Was.

【0042】実施例4 実施例2で得られたポリイミド
溶液を厚み50μmの2軸延伸したポリフェニレンスル
フィドフイルム(東レ製 商品名トレリナ)を基材フイ
ルムとして、フイルム表面に膜厚が20μm得られるよ
うにコーティングした後、真空乾燥機で110℃20分
間乾燥した。得られたフイルム積層体と厚さ30μmの
ステンレス鋼SUS301の金属層とを熱プレス機を用
いて張り合わせ、この得られた金属積層体をYAGレー
ザー加工機の加工ステージの枠に固定し、この枠を穴あ
け加工すべき複数のパターンに応じて移動させ金属層側
からレーザー光として、YAGレーザーの第2高調波
(波長532nm)を第4高調波発生ユニット(非線形
光学結晶素子から構成)に入射して得られた第4高調波
(波長266nm)を用いて加工した物である。このス
テンレス鋼からなる金属層に電極を付け、リン酸および
硫酸からなる電解水溶液中に50℃で噴流を当てながら
電解研磨して金属層の貫通孔内壁の凹凸を平滑化した。
基材フイルムとの金属積層体の外周がアルミ角パイプの
印刷枠に接着剤によって支持し、その金属積層体には印
刷版の主要構成部である金属層が基材フイルムの表面に
配設され、複数の開口貫通孔が形成されている構造体を
スクリーン法の印刷用印刷版として使用できる。この版
は基材フイルムの接着剤として耐熱性の高いポリイミド
樹脂を使用しているので、被印刷体との密着性は良好で
あり、レーザー加工の際接着剤の発泡現象が見られず、
300回連続印刷後も被印刷体に印刷インキのニジミは
見られなかった。
Example 4 A polyimide film obtained in Example 2 was biaxially stretched with a thickness of 50 μm and a polyphenylene sulfide film (trade name: Torelina, manufactured by Toray Industries Ltd.) was used as a base film so that a film thickness of 20 μm could be obtained on the film surface. After coating, it was dried at 110 ° C. for 20 minutes using a vacuum dryer. The obtained film laminate and a metal layer of stainless steel SUS301 having a thickness of 30 μm are adhered to each other using a hot press machine, and the obtained metal laminate is fixed to a frame of a processing stage of a YAG laser beam machine. Is moved in accordance with a plurality of patterns to be drilled, and the second harmonic (wavelength: 532 nm) of the YAG laser is incident on the fourth harmonic generation unit (comprising a nonlinear optical crystal element) as laser light from the metal layer side. This is a product processed using the fourth harmonic (wavelength 266 nm) obtained as described above. An electrode was attached to the metal layer made of stainless steel, and electrolytic polishing was performed while applying a jet at 50 ° C. to an electrolytic aqueous solution consisting of phosphoric acid and sulfuric acid to smooth the unevenness of the inner wall of the through hole of the metal layer.
The outer periphery of the metal laminate with the substrate film is supported by an adhesive on a printing frame of an aluminum square pipe, and the metal layer, which is a main component of the printing plate, is disposed on the surface of the substrate film in the metal laminate. The structure having a plurality of opening through-holes can be used as a printing plate for screen printing. Since this plate uses a polyimide resin with high heat resistance as an adhesive for the base film, it has good adhesion to the printing substrate and does not show any foaming of the adhesive during laser processing.
No bleeding of the printing ink was observed on the printing medium even after 300 continuous printings.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明は上述のとおりであり、イミド化
剤として、γ−ラクトン類および塩基性有機化合物を用
いて、テトラカルボン酸類とジアミンとを縮重合直接イ
ミド化させることにより、精製なしに諸物性の優れたポ
リイミド類の製造方法を見出したことにある。さらに、
得られたポリイミド類は、長期保存してもゲル化せず保
存安定性に優れ、無酸素の雰囲気中で高温熱処理する必
要もないため取り扱いが大変便利であり、粉末成形、フ
ィルムのみならず、熱接着性フィルム、フレキシブルプ
リント配線回路板やリードフレームに貼合わせるカバー
フィルムの接着層、プリント配線回路板や半導体パッケ
ージの絶縁層、半導体封止剤、導電性接着剤、電着塗料
等の幅広い用途に利用出来る。
The present invention is as described above, and is not purified by directly imidizing a tetracarboxylic acid and a diamine using a γ-lactone and a basic organic compound as an imidizing agent. And a method for producing polyimides having excellent physical properties. further,
The obtained polyimides are not gelled even when stored for a long time, have excellent storage stability, and do not require high-temperature heat treatment in an oxygen-free atmosphere. Wide range of applications such as thermal adhesive film, adhesive layer of cover film to be bonded to flexible printed circuit board and lead frame, insulating layer of printed circuit board and semiconductor package, semiconductor encapsulant, conductive adhesive, electrodeposition paint, etc. Available to

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09J 9/02 C09J 9/02 179/08 179/08 Z H01L 23/29 H05K 1/03 610N 23/31 1/05 A H05K 1/03 610 3/46 T 1/05 N 3/46 H01L 23/30 R ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C09J 9/02 C09J 9/02 179/08 179/08 Z H01L 23/29 H05K 1/03 610N 23/31 1/05 A H05K 1/03 610 3/46 T 1/05 N 3/46 H01L 23/30 R

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 テトラカルボン酸類(そのテトラカルボ
ン酸のエステルを含む。以下同じ。)の少なくとも1種
と2個以上の炭素を有するジアミンの少なくとも1種と
からなる混合物を、γ−ラクトン類および塩基性有機化
合物の存在下に、有機極性溶媒中で加熱反応せしめて、
直接ポリイミド類を製造することを特徴とするポリイミ
ド類の製造方法。
1. A mixture comprising at least one tetracarboxylic acid (including the ester of the tetracarboxylic acid; the same applies hereinafter) and at least one diamine having two or more carbon atoms, a γ-lactone and In the presence of a basic organic compound, heat and react in an organic polar solvent,
A method for producing polyimides, comprising directly producing polyimides.
【請求項2】 上記混合物が、低級ポリイミドオリゴマ
ーとテトラカルボン酸類の少なくとも1種および(又
は)2個以上の炭素を有するジアミンの少なくとも1種
からなり、得られるポリイミド類がブロック共重合ポリ
イミドであることを特徴とする請求項1記載のポリイミ
ド類の製造方法。
2. The mixture comprises a lower polyimide oligomer, at least one of tetracarboxylic acids and / or at least one of diamines having two or more carbon atoms, and the obtained polyimide is a block copolymerized polyimide. The method for producing polyimides according to claim 1, wherein
【請求項3】 上記γ−ラクトン類が、下記構造のラク
トン類の少なくとも1種である請求項1または請求項2
のポリイミド類の製造方法。 【化1】
3. The γ-lactone according to claim 1, wherein the γ-lactone is at least one lactone having the following structure.
Production method of polyimides. Embedded image
【請求項4】 上記塩基性有機化合物が、ピリジン、ト
リエチルアミン、テトラメチレンジアミン、トリエチレ
ンジアミン、ピコリン、N−メチルモルホリンおよびキ
ノリンから選ばれた少くとも1種である請求項1から請
求項3のいずれかのポリイミド類の製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the basic organic compound is at least one selected from pyridine, triethylamine, tetramethylenediamine, triethylenediamine, picoline, N-methylmorpholine and quinoline. A method for producing such polyimides.
【請求項5】 上記混合物が、ジアミノシロキサン化合
物を1成分として含有することを特徴とする請求項1か
ら請求項4のいずれかのポリイミド類の製造方法。
5. The method for producing polyimides according to claim 1, wherein said mixture contains a diaminosiloxane compound as one component.
【請求項6】 上記混合物が、芳香族ジアミノカルボン
酸を1成分として含有することを特徴とする請求項1か
ら請求項5のいずれかのポリイミド類の製造方法。
6. The method for producing a polyimide according to claim 1, wherein the mixture contains an aromatic diaminocarboxylic acid as one component.
【請求項7】 請求項6のポリイミド類、有機極性溶
媒、アミン類及び水を主成分とすることを特徴とするア
ニオン電着塗料組成物。
7. An anionic electrodeposition coating composition comprising the polyimides, organic polar solvent, amines and water of claim 6 as main components.
【請求項8】 請求項1から7のいずれかのポリイミド
類を主成分とする組成物からなるポリイミドフィルム。
8. A polyimide film comprising a composition containing the polyimides according to claim 1 as a main component.
【請求項9】 基材フィルムに請求項1から6のいずれ
かのポリイミド類を配設してなるフィルム積層体。
9. A film laminate comprising the substrate film on which the polyimides according to claim 1 is disposed.
【請求項10】 請求項1から6のいずれかのポリイミ
ド類と有機極性溶媒とを主成分とすることを特徴とする
接着用組成物。
10. An adhesive composition comprising the polyimides according to claim 1 and an organic polar solvent as main components.
【請求項11】 請求項1から7のいずれかのポリイミ
ド類を絶縁層とすることを特徴とするプリント配線回路
板。
11. A printed circuit board comprising the polyimide of any one of claims 1 to 7 as an insulating layer.
【請求項12】 導体回路、複数の外部接続端子および
必要箇所を絶縁層で被覆された金属基板で構成されたプ
リント配線回路板において、請求項1から7のいずれか
のポリイミド類の絶縁層が1層もしくは2層以上からな
り、各絶縁層上に導体回路が形成されるとともに、各絶
縁層を貫通して導体回路間で複数の電気接続されている
ことを特徴とするプリント配線回路板。
12. A printed wiring circuit board comprising a conductor circuit, a plurality of external connection terminals, and a metal substrate having a necessary portion covered with an insulating layer, wherein the polyimide insulating layer according to claim 1 is used. A printed wiring circuit board comprising one or two or more layers, wherein a conductive circuit is formed on each insulating layer, and a plurality of electrical connections are made between the conductive circuits through each insulating layer.
【請求項13】 搭載された半導体チップ、導体回路、
複数の外部接続端子および必要箇所を絶縁層で被覆され
た金属基板で構成された半導体パッケージにおいて、請
求項1から7のいずれかのポリイミド類の絶縁層が1層
もしくは2層以上からなり、各絶縁層上に導体回路が形
成されるとともに、各絶縁層を貫通して導体回路間で複
数の電気接続されていることを特徴とする半導体パッケ
ージ
13. A mounted semiconductor chip, a conductor circuit,
8. A semiconductor package comprising a plurality of external connection terminals and a metal substrate having a required portion covered with an insulating layer, wherein the polyimide insulating layer according to any one of claims 1 to 7 comprises one or more layers. A semiconductor package, wherein a conductor circuit is formed on an insulating layer, and a plurality of electrical connections are made between the conductor circuits through each insulating layer.
【請求項14】 請求項1から6のいずれかのポリイミ
ド類とフィラーを必須成分とすることを特徴とする半導
体封止剤。
14. A semiconductor encapsulant comprising the polyimides according to claim 1 and a filler as essential components.
【請求項15】 請求項1から6のいずれかのポリイミ
ド類と導電性微粒子とからなる導電性接着剤。
15. A conductive adhesive comprising the polyimide according to claim 1 and conductive fine particles.
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