JPH1010719A - Photopolymerizable composition for photosensitive planographic printing plate and photosensitive planographic printing plate using that - Google Patents

Photopolymerizable composition for photosensitive planographic printing plate and photosensitive planographic printing plate using that

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JPH1010719A
JPH1010719A JP26594796A JP26594796A JPH1010719A JP H1010719 A JPH1010719 A JP H1010719A JP 26594796 A JP26594796 A JP 26594796A JP 26594796 A JP26594796 A JP 26594796A JP H1010719 A JPH1010719 A JP H1010719A
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JP
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printing plate
compound
group
lithographic printing
photosensitive lithographic
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成夫 辻
Hideaki Okamoto
英明 岡本
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photopolymerizable compsn. having excellent adhesion property with a base body, sensitivity and developing property and to provide a photosensitive planographic printing plate which uses this compsn. SOLUTION: This photopolymerizable compsn. contains monomers A having ethylene-type unsatd. bonds which enable addition polymn., a photopolymn. initiator B, and a polymer binder C having carboxyl groups in the molecule. The monomers A contain a specified monomer of a phosphate compd. having at least one (meth)acryloyl group and/or a compd. expressed by formula. The binder C is a compd. prepared by the reaction of at least a part of carboxyl groups with an alicyclic unsatd. compd. containing epoxy groups. In formula, R<1> is a hydrogen atom or methyl group, X is an alkylene group having 1 to 6C which may have halogens as substituents, and m is an integer >2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性平版印刷版
用光重合性組成物及びこれを用いた感光性平版印刷版に
関する。詳しくは、可視光領域の光線に対して非常に高
感度であり、かつ現像性、支持体との接着力に優れた感
光性平版印刷版用光重合性組成物およびこれを用いた感
光性平版印刷版に関する。
The present invention relates to a photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate and a photosensitive lithographic printing plate using the same. More specifically, a photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate, which has extremely high sensitivity to light rays in the visible light region, and has excellent developability and adhesion to a support, and a photosensitive lithographic plate using the same. Regarding the printing plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光重合性感光材料を用いた高感度
感材が種々の応用分野において検討されている。これら
のうち、実用化が近いとみられるシステムとしてレーザ
ー直接製版があり、レーザーの発振波長、例えばアルゴ
ンイオンレーザーの488nm、YAGレーザーの53
2nmの光での露光に対応した高感度フォトポリマー系
の開発が望まれ種々提案されている。
2. Description of the Related Art Recently, high-sensitivity photosensitive materials using a photopolymerizable photosensitive material have been studied in various fields of application. Among these, there is a laser direct plate making as a system which is expected to be practically used.
Development of a high-sensitivity photopolymer system corresponding to exposure with 2 nm light has been desired and various proposals have been made.

【0003】しかし、これらフォトポリマーはアルミニ
ウム支持体に対する接着性に乏しいため現像時画像が剥
離したり、印刷における耐刷力が極端に低くなるなどの
問題があった。この接着性不良を改善するために、支持
体および感光層の側からさまざまな試みがなされてい
る。
However, these photopolymers have poor adhesion to an aluminum support, causing problems such as peeling of an image during development and extremely low printing durability in printing. Various attempts have been made from the side of the support and the photosensitive layer to improve the poor adhesion.

【0004】支持体側の接着力を高める方法としては、
例えば特公昭46−26521号明細書に記載されてい
るアルミニウム支持体を燐酸アノダイズする方法があ
る。しかしながら、この方法では支持体上の酸化皮膜
(アノダイズ)のポア径が大きくポア密度が高くなるた
めに、支持体の耐摩耗性が低く、印刷時非画線部が摩耗
するなどの問題が発生する。また、特開昭49−842
8号、特開昭46−12903号、特開昭50−138
903号、特開昭49−93101号明細書には硫酸ア
ノダイズ後燐酸やポリ燐酸またはアルカリ液を用いてエ
ッチング処理して、感光層の接着性を高める技術が開示
されているが、この方法ではアノダイズのポア径が十分
でないため満足する接着力を得ることはできない。
[0004] As a method of increasing the adhesive strength on the support side,
For example, there is a method of phosphoric acid anodizing an aluminum support described in JP-B-46-26521. However, in this method, since the pore diameter of the oxide film (anodized) on the support is large and the pore density is high, problems such as abrasion resistance of the support and wear of the non-image area during printing occur. I do. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 49-842
No. 8, JP-A-46-12903, JP-A-50-138
No. 903 and JP-A-49-93101 disclose a technique for improving the adhesiveness of a photosensitive layer by anodizing a sulfuric acid and then performing an etching treatment using phosphoric acid, polyphosphoric acid or an alkali solution. Sufficient adhesive strength cannot be obtained because the pore diameter of anodized is not sufficient.

【0005】感光層側から接着性を改善する試みとし
て、特開昭50−100120号公報に、2−メタクリ
ロイルオキシエチルヒドロジエンホスフェートのような
付加重合可能な不飽和結合含有リン酸エステルが、金
属、例えばアルミニウム、鉄、アンチモン等によく接着
することが記載されている。しかし、上記リン酸エステ
ルモノマー単独では、硬化膜の密度が比較的小さいた
め、アルカリ水等に容易に侵されやすく、水性現像を前
提とした感材には不向きである。
As an attempt to improve the adhesion from the photosensitive layer side, Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-100120 discloses an addition-polymerizable unsaturated bond-containing phosphate ester such as 2-methacryloyloxyethylhydrodiene phosphate. For example, it describes that it adheres well to aluminum, iron, antimony and the like. However, the phosphoric acid ester monomer alone has a relatively low cured film density, so that it is easily susceptible to alkaline water or the like, and is not suitable for a photosensitive material premised on aqueous development.

【0006】特開平1−289820号公報には、高分
子結合剤のカルボキシル基の一部を脂環式エポキシ基含
有不飽和化合物と反応させた重合体を含有した活性エネ
ルギー線硬化型樹脂組成物が記載されている。この種の
樹脂は硬化膜の密度が比較的高く、アルミニウムなどの
支持体との密着性があがるという利点を有するが、該公
報に記載の組成物を感光性平版印刷版用光重合性組成物
として使用した場合、現像性、耐刷力ともに充分とは言
えない。
JP-A-1-289820 discloses an active energy ray-curable resin composition containing a polymer obtained by reacting a part of a carboxyl group of a polymer binder with an alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound. Is described. This type of resin has the advantage that the density of the cured film is relatively high and the adhesion to a support such as aluminum is increased, but the composition described in the publication is a photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate. When used as such, both developability and printing durability are not sufficient.

【0007】また、特開平5−25232号公報には、
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートのリン酸エス
テル化合物と、高分子結合材のカルボキシル基の一部を
グリシジルメタクリレートと反応させた化合物とを併用
した光重合組成物が記載されているが、この場合におい
ても、平版印刷版用としての耐刷性、現像性が未だ十分
とは言えない。
[0007] Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. H5-25232 discloses that
A photopolymerization composition using a phosphate compound of a hydroxyalkyl (meth) acrylate and a compound obtained by reacting a part of the carboxyl group of a polymer binder with glycidyl methacrylate is described. However, the printing durability and developability for lithographic printing plates are not yet satisfactory.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、アルミニウ
ム支持体に対する接着性、感度、現像性のいずれにも均
衡して優れた感光性平版印刷版用光重合性組成物及び、
これを用いた各種印刷適性に優れた感光性平版印刷版を
提供せんとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate, which is excellent in all of adhesiveness, sensitivity and developability to an aluminum support, and
It is an object of the present invention to provide a photosensitive lithographic printing plate having excellent printing suitability using this.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記従来
技術の問題点を解決すべく鋭意検討した結果、少なくと
も一つの(メタ)アクリロイル基を持つリン酸エステル
化合物及び/又は下記一般式(I)で表される化合物
と、カルボキシル基の一部を脂環式エポキシ基含有不飽
和化合物と反応させた高分子結合材とを併用することに
より、アルミニウム支持体、特に硫酸酸化皮膜を有する
アルミニウム支持体に対する接着性と非画線部の抜け性
が大幅に改善されることを見いだし本発明に到った。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems of the prior art, and as a result, a phosphate compound having at least one (meth) acryloyl group and / or a compound represented by the following general formula: By using a compound represented by (I) in combination with a polymer binder obtained by reacting a part of carboxyl groups with an alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound, an aluminum support, particularly a sulfated oxide film is obtained. The present inventors have found that the adhesion to the aluminum support and the removability of the non-image area are greatly improved, and the present invention has been accomplished.

【0010】即ち、本発明の要旨は、(A)付加重合可
能なエチレン性不飽和結合含有単量体、(B)光重合開
始系、及び(C)分子内にカルボキシル基を有する高分
子結合材、を含有する光重合性組成物において、該付加
重合可能なエチレン性不飽和結合含有単量体(A)が、
少なくとも一つの(メタ)アクリロイル基を持つリン酸
エステル化合物(A−1)及び/又は下記一般式(I)
で表される化合物(A−2)である特定単量体を含有
し、分子内にカルボキシル基を有する高分子結合材
(C)が、カルボキシル基の一部を脂環式エポキシ基含
有不飽和化合物と反応させた化合物であることを特徴と
する感光性平版印刷版用光重合性組成物に存する。
That is, the gist of the present invention is to provide (A) an ethylenically unsaturated bond-containing monomer capable of addition polymerization, (B) a photopolymerization initiation system, and (C) a polymer bond having a carboxyl group in the molecule. The photopolymerizable composition containing the material, wherein the addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer (A) is
A phosphate compound (A-1) having at least one (meth) acryloyl group and / or the following general formula (I)
The polymer binder (C) containing a specific monomer which is the compound (A-2) represented by the formula (1) and having a carboxyl group in the molecule is partially unsaturated with an alicyclic epoxy group-containing unsaturated carboxyl group. A photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate characterized by being a compound reacted with a compound.

【0011】[0011]

【化5】 Embedded image

【0012】(一般式(I)中、R1 は水素原子または
メチル基を示し、Xはハロゲンで置換されていても良い
炭素数1〜6の分岐していても良いアルキレン基を示
し、mは2以上の整数を示す。) 本発明の他の要旨は、アルミニウム基板上に感光性樹脂
層を有する感光性平版印刷版において、感光性樹脂層が
上記の感光性平版印刷版用光重合性組成物から成るもの
であることを特徴とする感光性平版印刷版に存する。
(In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents an alkylene group which may be substituted by halogen and may have 1 to 6 carbon atoms and may be branched. Represents an integer of 2 or more.) Another gist of the present invention is that in a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive resin layer on an aluminum substrate, the photosensitive resin layer is formed of the above-described photopolymerizable polymer for a photosensitive lithographic printing plate. The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate characterized by comprising a composition.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下本発明について詳細に説明す
る。本発明の光重合性組成物において第一の必須成分と
して含まれる付加重合可能なエチレン性不飽和結合含有
単量体(A)(以下「エチレン性単量体」と略す)と
は、光重合性組成物が活性光線の照射を受けた場合、第
二の必須成分である光重合開始系の作用により付加重合
し、硬化するようなエチレン性不飽和結合を有する単量
体である。なお、本発明における単量体の意味するとこ
ろは、いわゆる高分子体に相対する概念であって、従っ
て、狭義の単量体以外にも二量体、三量体、オリゴマー
をも包含するものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer (A) (hereinafter abbreviated as “ethylenic monomer”) contained as a first essential component in the photopolymerizable composition of the present invention is a photopolymerizable composition. It is a monomer having an ethylenically unsaturated bond that undergoes addition polymerization and cures by the action of a photopolymerization initiation system, which is the second essential component, when the active composition is irradiated with actinic rays. In the present invention, the meaning of the monomer is a concept corresponding to a so-called polymer, and therefore includes not only a monomer in a narrow sense but also a dimer, a trimer, and an oligomer. It is.

【0014】特に、本発明で使用されるエチレン性単量
体は、少なくとも一つの(メタ)アクリロイル基を持つ
リン酸エステル化合物(A−1)及び/又は下記一般式
(I)で表される化合物(A−2)を含むことを特徴と
する。
In particular, the ethylenic monomer used in the present invention is represented by a phosphoric ester compound (A-1) having at least one (meth) acryloyl group and / or the following general formula (I): It is characterized by containing the compound (A-2).

【化6】 Embedded image

【0015】(一般式(I)中、R1 は水素原子または
メチル基を示し、Xはハロゲンで置換されていてもよい
炭素数1〜6の分岐していても良いアルキレン基を示
し、mは2以上の整数を示す。) なお本明細書において前記化合物(A−1)及び/又は
(A−2)を、以下特定単量体と称する。
(In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group; X represents an optionally branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted by halogen; Represents an integer of 2 or more.) In the present specification, the compound (A-1) and / or (A-2) is hereinafter referred to as a specific monomer.

【0016】本発明に用いられる特定単量体のうち少な
くとも一つの(メタ)アクリロイル基を持つリン酸エス
テル化合物(A−1)としては、リン酸と、(メタ)ア
クリロイル基含有化合物のエステル化物であれば特に限
定されないが、具体的には例えば、下記一般式(II)で
表される化合物が挙げられる。
The phosphoric acid ester compound (A-1) having at least one (meth) acryloyl group among the specific monomers used in the present invention includes an esterified product of phosphoric acid and a (meth) acryloyl group-containing compound. Is not particularly limited as long as it is, specifically, for example, a compound represented by the following general formula (II) is exemplified.

【0017】[0017]

【化7】 Embedded image

【0018】(一般式(II)中、R2 は水素原子または
メチル基を示し、nは1〜25の整数を示し、rは1ま
たは2を示す。) 一般式(II)で表される化合物のうち、nが1〜10で
あるのが好ましく、1〜4であるのが特に好ましい。ま
た、特に好ましい化合物の具体例としては、メタクリロ
キシエチルホスフェート、ビス(メタクリロキシエチ
ル)ホスフェート等が挙げられる。
(In the general formula (II), R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, n represents an integer of 1 to 25, and r represents 1 or 2.) Represented by the general formula (II) Among the compounds, n is preferably 1 to 10, and particularly preferably 1 to 4. Specific examples of particularly preferred compounds include methacryloxyethyl phosphate, bis (methacryloxyethyl) phosphate, and the like.

【0019】また、本発明に用いられるもう一つの特定
単量体である一般式(I)で表される化合物(A−2)
において、Xは炭素数2〜4の分岐していてもよいアル
キレン基であることが好ましく、該アルキレン基がハロ
ゲンで置換されている場合は置換基は塩素原子であるこ
とが好ましい。
The compound (A-2) represented by the general formula (I), which is another specific monomer used in the present invention.
In the above, X is preferably an optionally branched alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and when the alkylene group is substituted with halogen, the substituent is preferably a chlorine atom.

【0020】化合物(A−2)の内、ポリエチレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリ
コールモノ(メタ)アクリレート等の、Xが非置換で炭
素数2又は3の分岐していても良いアルキレン基である
化合物が特に好ましい。また、一般式(I)中のmとし
ては、2以上の整数であれば問題ないが、mが5以上5
0以下のものが支持体に対する接着性、感度、現像性の
点で最もバランスがとれている。
In the compound (A-2), X is an unsubstituted and optionally branched alkylene group having 2 or 3 carbon atoms, such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate and polypropylene glycol mono (meth) acrylate. Certain compounds are particularly preferred. Further, there is no problem if m in the general formula (I) is an integer of 2 or more, but m is 5 or more and 5 or more.
Those having a value of 0 or less are most balanced in terms of adhesion to a support, sensitivity, and developability.

【0021】本発明における特定単量体の含有量は、特
に限定されないが、通常、全エチレン性単量体中1〜6
0重量%であり、好ましくは2〜50重量%、より好ま
しくは3〜40重量%である。1重量%より少ないと、
支持体に対する接着性、現像性に劣り、60重量%より
多くなると感度が悪くなる傾向がある。また、上記範囲
であれば感度、耐刷力が向上すると共に特に現像性が改
善される。尚、本発明の組成物中に含有される化合物
(I)及び、少なくとも一つの(メタ)アクリロイル基
を持つリン酸エステル化合物は、単独でも、複数の化合
物の混合物でも良い。
The content of the specific monomer in the present invention is not particularly limited.
0% by weight, preferably 2 to 50% by weight, more preferably 3 to 40% by weight. If less than 1% by weight,
Adhesion to the support and developability are inferior, and if it exceeds 60% by weight, sensitivity tends to deteriorate. Further, within the above range, the sensitivity and the printing durability are improved, and the developability is particularly improved. The compound (I) and the phosphate compound having at least one (meth) acryloyl group contained in the composition of the present invention may be used alone or as a mixture of a plurality of compounds.

【0022】本発明の組成物は、エチレン性単量体とし
て、特定単量体以外のエチレン性不飽和結合を一個有す
る化合物を含んでいても良い。具体的には、(メタ)ア
クリル酸、(メタ)アクリル酸のアルキルエステル、ア
クリロニトリル、スチレン、エチレン性不飽和結合を一
個有するカルボン酸と多(単)価アルコールのモノエス
テル等が挙げられる。
The composition of the present invention may contain, as the ethylenic monomer, a compound having one ethylenically unsaturated bond other than the specific monomer. Specific examples include (meth) acrylic acid, an alkyl ester of (meth) acrylic acid, acrylonitrile, styrene, and a monoester of a carboxylic acid having one ethylenically unsaturated bond and a poly (mono) hydric alcohol.

【0023】本発明においては、特定単量体と共に、1
分子中にエチレン性不飽和結合を二個以上有する多官能
エチレン性単量体を併用することが望ましい。かかる多
官能エチレン性化合物の例としては、例えば脂肪族ポリ
ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;芳
香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエス
テル;脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロ
キシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と不飽和カルボン
酸及び多価カルボン酸とのエステル化反応により得られ
るエステルなどが挙げられる。
In the present invention, together with the specific monomer, 1
It is desirable to use a polyfunctional ethylenic monomer having two or more ethylenically unsaturated bonds in the molecule. Examples of such polyfunctional ethylenic compounds include, for example, esters of aliphatic polyhydroxy compounds with unsaturated carboxylic acids; esters of aromatic polyhydroxy compounds with unsaturated carboxylic acids; aliphatic polyhydroxy compounds, aromatic polyhydroxy compounds. Esters obtained by an esterification reaction of a polyhydroxy compound such as a compound with an unsaturated carboxylic acid and a polycarboxylic acid are exemplified.

【0024】前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和
カルボン酸とのエステルは限定されないが、エチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエ
リスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリ
レート等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エ
ステル、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレ
ートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイタコネー
トに代えたイタコン酸エステル、クロネートに代えたク
ロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイン
酸エステル等が挙げられる。
The ester of the aliphatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid is not limited, but ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, Acrylic esters of aliphatic polyhydroxy compounds such as pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, glycerol acrylate, and acrylates of these exemplified compounds as methacrylates Methacrylic acid ester replaced with itacone also replaced with itaconate Esters, maleic acid esters, and the like was replaced with crotonic acid ester or maleate was replaced Kuroneto.

【0025】芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリ
レート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシン
ジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガ
ロールトリアクリレート等の芳香族ポリヒドロキシ化合
物のアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル等が
挙げられる。
Examples of the ester of an aromatic polyhydroxy compound with an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters of aromatic polyhydroxy compounds such as hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, and pyrogallol triacrylate. And methacrylic acid esters.

【0026】不飽和カルボン酸及び多価カルボン酸なら
びに多価ヒドロキシ化合物のエステル化反応により得ら
れるエステルとしては必ずしも単一物ではないが代表的
な具体例を挙げれば、アクリル酸、フタル酸、及びエチ
レングリコールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸、及
びジエチレングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレ
フタル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、アクリル
酸、アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合
物等がある。
The ester obtained by the esterification reaction of the unsaturated carboxylic acid, polycarboxylic acid and polyhydroxy compound is not necessarily a single substance, but typical examples include acrylic acid, phthalic acid and There are condensates of ethylene glycol, condensates of acrylic acid, maleic acid, and diethylene glycol, condensates of methacrylic acid, terephthalic acid, and pentaerythritol, and condensates of acrylic acid, adipic acid, butanediol, and glycerin.

【0027】その他、本発明に用いられる多官能エチレ
ン性単量体の例としては、ポリイソシアネート化合物と
水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルまたはポリイソ
シアネート化合物とポリオールおよび水酸基含有(メ
タ)アクリル酸エステルを反応させて得られる様なウレ
タン(メタ)アクリレート類;ジエポキシ化合物とヒド
ロキシエチルアクリレートとの付加反応物のようなエポ
キシアクリレート類;エチレンビスアクリルアミド等の
アクリルアミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステ
ル類;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が
有用である。
Other examples of the polyfunctional ethylenic monomer used in the present invention include a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate or a polyisocyanate compound with a polyol and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate. Urethane (meth) acrylates obtained by reaction; epoxy acrylates such as addition products of diepoxy compounds with hydroxyethyl acrylate; acrylamides such as ethylenebisacrylamide; allyl esters such as diallyl phthalate; divinyl Vinyl group-containing compounds such as phthalate are useful.

【0028】これら多官能エチレン性単量体のうち、ポ
リイソシアネート化合物と水酸基含有(メタ)アクリル
酸エステルを反応させて得られるウレタン(メタ)アク
リル酸エステル化合物及び/又はビスフェノールAから
変成誘導された(メタ)アクリル酸エステル、特にビス
フェノールAのアルキレンオキシド付加体である下記一
般式(III)で表される(メタ)アクリル酸エステル化合
物が好ましい。
Of these polyfunctional ethylenic monomers, a polyisocyanate compound and a urethane (meth) acrylate compound obtained by reacting a hydroxyl group-containing (meth) acrylate ester and / or bisphenol A are modified and derived. (Meth) acrylic acid esters, particularly (meth) acrylic acid ester compounds represented by the following general formula (III), which are alkylene oxide adducts of bisphenol A, are preferred.

【0029】[0029]

【化8】 Embedded image

【0030】(式(III) 中、Aはアクリロイル基又はメ
タクリロイル基を示し、R3 及びR4はそれぞれ分岐し
ていても良いアルキレン基を示し、R5 及びR6 はそれ
ぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、
置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を
有していてもよいフェニル基を示し、Phはフェニレン
基を示し、p及びqはp+q=2〜30を満たす正の整
数を示す。) 上記一般式(III)で表される化合物の内、より好適なも
のはR5 及びR6 が共にメチル基であり、p+q=2〜
4である化合物であり、具体的には2,2−ビス〔4−
(アクリロキシジエトキシ)フェニル〕プロパン(A−
BPE−4;新中村化学工業製商品名)、2,2−ビス
〔4−(メタクリロキシエトキシ)フェニル〕プロパン
(BPE−100;新中村化学工業製商品名)、2,2
−ビス〔4−(メタクリロキシジエトキシ)フェニル〕
プロパン(BPE−200;新中村化学工業製商品名)
等が挙げられる。
(In the formula (III), A represents an acryloyl group or a methacryloyl group, R 3 and R 4 each represent an optionally branched alkylene group, and R 5 and R 6 represent a hydrogen atom and a substituent, respectively. An alkyl group optionally having
A cycloalkyl group which may have a substituent, a phenyl group which may have a substituent, Ph represents a phenylene group, and p and q each represent a positive integer satisfying p + q = 2 to 30 . Among the compounds represented by the general formula (III), more preferred are those in which both R 5 and R 6 are methyl groups, and p + q = 2.
4, specifically 2,2-bis [4-
(Acryloxydiethoxy) phenyl] propane (A-
BPE-4: trade name of Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 2,2-bis [4- (methacryloxyethoxy) phenyl] propane (BPE-100; trade name of Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 2,2
-Bis [4- (methacryloxydiethoxy) phenyl]
Propane (BPE-200; trade name, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
And the like.

【0031】また、前記ウレタン(メタ)アクリル酸エ
ステル化合物の合成に用いられるポリイソシアネート化
合物としては、ポリウレタンの原料として公知の種々の
ポリイソシアネート化合物が使用可能であり、芳香族ジ
イソシアネート、脂環式ジイソシアネート、脂肪族ジイ
ソシアネート化合物およびそれらの3量体等の誘導体が
挙げられる。より好適にはジフェニルメタンジイソシア
ネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソ
シアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメ
チルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネートおよび
イソシアヌレート化合物等が挙げられる。
As the polyisocyanate compound used for synthesizing the urethane (meth) acrylate compound, various polyisocyanate compounds known as raw materials for polyurethane can be used, and aromatic diisocyanate and alicyclic diisocyanate can be used. And aliphatic diisocyanate compounds and derivatives thereof such as trimers. More preferred are diphenylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, cyclohexane diisocyanate, and isocyanurate compounds.

【0032】ポリイソシアネート化合物と反応させる水
酸基含有(メタ)アクリル酸エステルとしては複数のア
クリロイル基又はメタクリロイル基を有し、1個のヒド
ロキシ基を有する化合物である事が好ましい。具体的に
はグリシジル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル
酸との反応生成物、ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート等が挙げられる。
The hydroxyl group-containing (meth) acrylate to be reacted with the polyisocyanate compound is preferably a compound having a plurality of acryloyl groups or methacryloyl groups and having one hydroxy group. Specifically, a reaction product of glycidyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid, pentaerythritol tri (meth)
Acrylate and the like.

【0033】次に本発明の光重合性組成物の第二の必須
成分である光重合開始系(B)について説明する。光重
合開始系としては、前記エチレン性単量体の重合を開始
させうるものは全て使用できる。特にその内でも可視領
域の光線に対して活性を有するものであれば、いずれも
好適に使用し得る。このうち、光励起された増感剤と何
らかの作用を及ぼしあうことにより活性ラジカルを生成
する活性剤としては、例えば、チタノセン類、ヘキサア
リールビイミダゾール類、ハロゲン化炭化水素誘導体、
ジアリールヨードニウム塩、有機過酸化物等を挙げるこ
とができる。この内、チタノセン類あるいは、ヘキサア
リールビイミダゾール類を用いた組成物が、感度、保存
性、塗膜の基板への密着性等が良好で好ましい。
Next, the photopolymerization initiation system (B), which is the second essential component of the photopolymerizable composition of the present invention, will be described. As the photopolymerization initiation system, any system capable of initiating the polymerization of the ethylenic monomer can be used. In particular, any of them can be suitably used as long as they have activity with respect to light in the visible region. Among them, examples of the activator that generates an active radical by interacting with the photo-excited sensitizer, such as titanocenes, hexaarylbiimidazoles, halogenated hydrocarbon derivatives,
Examples include diaryliodonium salts and organic peroxides. Among them, a composition using titanocenes or hexaarylbiimidazoles is preferable because of good sensitivity, storage stability, adhesion of a coating film to a substrate, and the like.

【0034】チタノセン類としては、チタノセン構造を
有する種々のものを用いることができるが、例えば特開
昭59−152396号、特開昭61−151197号
各公報に記載されている各種チタノセン類から適宜選ん
で用いることができる。更に具体的には、ジ−シクロペ
ンタジエニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタ
ジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフ
ルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−
Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジシクロ
ペンタジエニル−Ti−2,6−ジ−フルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシ
クロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6
−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェ
ニ−1−イル、ジ−シクロシクロペンタジエニル−Ti
−ビス−2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イル)
−フェニ−1−イル等を挙げることができる。
As the titanocenes, various ones having a titanocene structure can be used. For example, various titanocenes described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197 can be used. You can use it selectively. More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5 , 6-Pentafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-
Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl
1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-
2,4,6-trifluorophenyl-1-yl, dicyclopentadienyl-Ti-2,6-di-fluorophenyl
1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-
2,4-di-fluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6
-Pentafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclocyclopentadienyl-Ti
-Bis-2,6-difluoro-3- (pyr-1-yl)
-Phenyl-1-yl and the like.

【0035】ヘキサアリールビイミダゾール類として
は、ヘキサアリールビイミダゾール構造を有する種々の
ものを用いることができるが、例えば、2,2′−ビス
(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ
(p−フルオロフェニル)ビイミダゾール、2,2′−
ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テ
トラ(p−ヨードフェニル)ビイミダゾール、2,2′
−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,5′−
テトラ(p−クロロナフチル)ビイミダゾール、2,
2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラ(p−クロロフェニル)ビイミダゾール、
2,2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,
5,5′−テトラ(p−クロロ−p−メトキシフェニ
ル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラ(o,p−ジクロ
ロフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ク
ロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(o,p
−ジブロモフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス
(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ
(o,p−ジクロロフェニル)ビイミダゾール、2,
2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,
5,5′−テトラ(o,p−ジクロロフェニル)ビイミ
ダゾール類等のベンゼン環上にハロゲン置換基を有する
ヘキサアリールビイミダゾール類が好ましい。
As the hexaarylbiimidazoles, various compounds having a hexaarylbiimidazole structure can be used. For example, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5 '-Tetra (p-fluorophenyl) biimidazole, 2,2'-
Bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-iodophenyl) biimidazole, 2,2'
-Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-
Tetra (p-chloronaphthyl) biimidazole, 2,
2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5
5'-tetra (p-chlorophenyl) biimidazole,
2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ',
5,5'-tetra (p-chloro-p-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p-dichlorophenyl) bi Imidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p
-Dibromophenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p-dichlorophenyl) biimidazole,
2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ',
Hexaarylbiimidazoles having a halogen substituent on the benzene ring such as 5,5'-tetra (o, p-dichlorophenyl) biimidazole are preferred.

【0036】これらのヘキサアリールビイミダゾール類
は、必要に応じ、多種のビイミダゾールと併用して使用
することもできる。ビイミダゾール類は例えばBul
l.Chem.Soc.Japan.33,565(1
960)及びJ.Org.Chem.36〔16〕22
62(1971)に開示されている方法により容易に合
成することができる。次に、光重合開始系の内の増感剤
について説明する。本発明における増感剤とは、前述の
活性剤と共存した場合、可視光線照射により、効果的に
活性ラジカルを発生しうる化合物を意味している。
These hexaarylbiimidazoles can be used in combination with various kinds of biimidazoles, if necessary. Biimidazoles are, for example, Bul
l. Chem. Soc. Japan. 33,565 (1
960) and J.M. Org. Chem. 36 [16] 22
62 (1971). Next, the sensitizer in the photopolymerization initiation system will be described. The sensitizer in the present invention means a compound capable of effectively generating an active radical upon irradiation with visible light when coexisting with the above-mentioned activator.

【0037】代表的な増感剤の例としては、例えば、米
国特許第3,479,185号明細書に開示されている
ロイコクリスタルバイオレットやロイコマラカイトグリ
ーンの様なトリフェニルメタン系ロイコ色素、エリスロ
シンやエオシンYのような光還元性染料、米国特許第
3,549,367号明細書、米国特許第3,652,
275号明細書等に開示されているミヒラーズケトンや
アミノスチリルケトンの様なアミノフェニルケトン類、
米国特許第3,844,790号明細書に示されるβ−
ジケトン類、米国特許第4,162,162号明細書に
見られるインダノン類、特開昭52−112681号公
報に示されるケトクマリン類、特開昭59−56403
号公報で開示されているアミノスチレン誘導体やアミノ
フェニルブタジエン誘導体、米国特許第4,594,3
10号明細書に見られるアミノフェニル複素環類、米国
特許第4,966,830号明細書に示されるジュロリ
ジン複素環類、特開平5−241338号公報に示され
るピロメテン系色素等が挙げられる。
Examples of typical sensitizers include, for example, triphenylmethane leuco dyes such as leuco crystal violet and leucomalachite green disclosed in US Pat. No. 3,479,185, and erythrosine. Photoreducing dyes such as Eosin Y and US Pat. No. 3,549,367; US Pat.
Aminophenyl ketones such as Michler's ketone and aminostyryl ketone disclosed in US Pat.
The β-type disclosed in U.S. Pat. No. 3,844,790 is disclosed.
Diketones, indanones described in U.S. Pat. No. 4,162,162, ketocoumarins described in JP-A-52-112681, and JP-A-59-56403.
No. 4,594,3, disclosed in US Pat. No. 4,594,311.
No. 10, aminophenyl heterocycles described in U.S. Pat. No. 4,966,830, and pyrromethene dyes described in JP-A-5-241338.

【0038】更に、本発明で用いる光重合開始系には必
要に応じて2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メル
カプトベンズイミダゾール、2−メルカプトベンズオキ
サゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾー
ル、N−フェニルグリシン、N,N−ジアルキル安息香
酸アルキルエステル等の水素供与性化合物を加えること
によって更に光重合開始能力を高めることができる。こ
のうち特に好ましいのは、2−メルカプトベンゾチアゾ
ール、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカ
プトベンズオキサゾール、3−メルカプト−1,2,4
−トリアゾール等のメルカプト基を有する化合物や、
N,N−ジアルキル安息香酸アルキルエステルである。
Further, the photopolymerization initiation system used in the present invention may contain 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, N By adding a hydrogen-donating compound such as -phenylglycine or an alkyl N, N-dialkylbenzoate, the photopolymerization initiation ability can be further enhanced. Of these, particularly preferred are 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 3-mercapto-1,2,4
-A compound having a mercapto group such as triazole,
N, N-dialkyl benzoic acid alkyl ester.

【0039】次に、本発明の第3の必須成分である分子
内にカルボキシル基を有し、カルボキシル基の一部を脂
環式エポキシ基含有不飽和化合物と反応させた高分子結
合材(C)(以下「エチレン性高分子結合材」と略
す。)について説明する。このエチレン性高分子結合材
の製造は、分子内にカルボキシル基を有する高分子結合
材の不活性有機溶剤溶液(例えばアルコール系、エステ
ル系、芳香族炭化水素系、脂肪族炭化水素系等が挙げら
れる。)と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物とを約8
0〜120℃、約1〜50時間の反応条件で反応させる
ことにより行うことができる。脂環式エポキシ基含有不
飽和化合物と反応させるカルボキシル基の割合は本発明
の効果を達成しうる範囲であれば特に限定されないが、
全カルボキシル基に対して5〜90mol%を反応させ
るのが好ましく、より好ましくは20〜80モル%、更
に好ましくは30〜70モル%である。上記範囲である
現像性が良好であると共に接着性が良好である。
Next, a polymer binder (C) having a carboxyl group in the molecule, which is the third essential component of the present invention, and having a part of the carboxyl group reacted with an alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound. ) (Hereinafter abbreviated as “ethylenic polymer binder”). In the production of the ethylenic polymer binder, an inert organic solvent solution of a polymer binder having a carboxyl group in a molecule (for example, alcohol, ester, aromatic hydrocarbon, aliphatic hydrocarbon, etc.) ) And an unsaturated compound having an alicyclic epoxy group.
The reaction can be carried out under a reaction condition of 0 to 120 ° C. for about 1 to 50 hours. The ratio of the carboxyl group to be reacted with the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound is not particularly limited as long as the effects of the present invention can be achieved.
It is preferable to react 5 to 90 mol% with respect to all carboxyl groups, more preferably 20 to 80 mol%, and still more preferably 30 to 70 mol%. The developability in the above range is good and the adhesiveness is good.

【0040】エチレン性高分子結合材の製造に用いる分
子内にカルボキシル基を有する高分子結合材の具体例と
しては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリ
ル酸エステル、(メタ)アクリルアミド、マレイン酸、
(メタ)アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、塩
化ビニリデン、マレイミド等の単独もしくは共重合体、
その他、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルピロリド
ン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエ
ーテル、ポリエチレンテレフタレート、アセチルセルロ
ース、またはポリビニルブチラール等が挙げられる。中
でも(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも一種と
(メタ)アクリル酸を共重合成分として含有する共重合
体が好ましい。分子内にカルボキシル基を有する高分子
結合材の好ましい酸価の値は10〜250であり、好ま
しい重量平均分子量(以下Mwと略す)は5千から20
万である。
Specific examples of the polymer binder having a carboxyl group in the molecule used for the production of the ethylenic polymer binder include (meth) acrylic acid, (meth) acrylate, (meth) acrylamide, Maleic acid,
Homo- or copolymers such as (meth) acrylonitrile, styrene, vinyl acetate, vinylidene chloride and maleimide;
Other examples include polyethylene oxide, polyvinylpyrrolidone, polyamide, polyurethane, polyester, polyether, polyethylene terephthalate, acetylcellulose, and polyvinyl butyral. Among them, a copolymer containing (meth) acrylic acid ester and at least one (meth) acrylic acid as a copolymer component is preferable. The preferred acid value of the polymer binder having a carboxyl group in the molecule is 10 to 250, and the preferred weight average molecular weight (hereinafter abbreviated as Mw) is 5,000 to 20.
It is ten thousand.

【0041】本発明に用いられるエチレン性高分子結合
材の製造に用いる脂環式エポキシ基含有不飽和化合物
は、一分子中に少なくとも一つの付加重合可能な不飽和
結合と、脂環式エポキシ基とを有する化合物である。こ
こで脂環式エポキシ基とは、非芳香族環とオキシラン骨
格が縮環した構造を有する基であり、これらのうち、シ
クアルカン骨格とオキシラン骨格が縮環した構造を有す
る基が好ましい。本発明に用いられる脂環式エポキシ基
含有不飽和化合物の好ましい具体例としては、例えば下
記一般式(IV)〜(XVII) で表される化合物等を挙げる
ことができる。
The alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound used for producing the ethylenic polymer binder used in the present invention comprises at least one addition-polymerizable unsaturated bond in one molecule and an alicyclic epoxy group. And a compound having: Here, the alicyclic epoxy group is a group having a structure in which a non-aromatic ring and an oxirane skeleton are fused, and among these, a group having a structure in which a cyclalkane skeleton and an oxirane skeleton are fused is preferable. Preferred specific examples of the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound used in the present invention include, for example, compounds represented by the following general formulas (IV) to (XVII).

【0042】[0042]

【化9】 Embedded image

【0043】[0043]

【化10】 Embedded image

【0044】(各一般式中、R7 は水素原子又はメチル
基を示し、R8 は炭素数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化
水素基を示し、R9 は炭素数1〜10の2価の炭化水素
基を示す。tは0〜10の整数を示す。) 上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物の一般式におい
て、R7 が水素原子又はメチル基であり、R8 はメチレ
ン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、
エチルエチレン基、ペンタメチレン基、またはヘキサメ
チレン基であり、R9 がメチレン基、エチレン基、プロ
ピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペン
タメチレン基、ヘキサメチレン基、又はフェニレン基で
あるものが好ましい。中でも、式(IV)、式(VI)又は
式(VII)の化合物であり、R7 が水素原子又はメチル基
であり、R8 が炭素数1〜4のアルキレン基であるもの
が特に好ましい。上記脂環式エポキシ基含有不飽和化合
物の特に好ましい化合物の具体例としては、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、2,3−エ
ポキシシクロペンチルメチルアクリレート等が挙げられ
る。
(In each formula, R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group; R 8 represents a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms; and R 9 represents a C 1 to 10 carbon atom. Represents a divalent hydrocarbon group, and t represents an integer of 0 to 10.) In the general formula of the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound, R 7 is a hydrogen atom or a methyl group, and R 8 is methylene. Group, ethylene group, propylene group, tetramethylene group,
An ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group, wherein R 9 is a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, or a phenylene group; preferable. Among them, compounds of the formula (IV), (VI) or (VII), wherein R 7 is a hydrogen atom or a methyl group and R 8 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, are particularly preferred. Specific examples of particularly preferable compounds of the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound include 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate and 2,3-epoxycyclopentylmethyl acrylate.

【0045】上記エチレン性高分子結合材と共に、他の
高分子結合材として以下の化合物を併用しても良い。例
えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステ
ル、(メタ)アクリルアミド、マレイン酸、(メタ)ア
クリロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニリデ
ン、マレイミド等の単独もしくは共重合体、その他、ポ
リエチレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリア
ミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテル、ポ
リエチレンテレフタレート、アセチルセルロース、また
はポリビニルブチラール等が挙げられる。中でも(メ
タ)アクリル酸エステルの共重合体が好ましい。また、
これら共重合体の好ましいMwは5千から20万であ
る。
The following compounds may be used in combination with the above-mentioned ethylenic polymer binder as another polymer binder. For example, homo- or copolymers of (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylamide, maleic acid, (meth) acrylonitrile, styrene, vinyl acetate, vinylidene chloride, maleimide, etc., polyethylene oxide, Examples include polyvinylpyrrolidone, polyamide, polyurethane, polyester, polyether, polyethylene terephthalate, acetylcellulose, and polyvinyl butyral. Among them, a copolymer of (meth) acrylate is preferred. Also,
The preferred Mw of these copolymers is from 5,000 to 200,000.

【0046】以上、本発明の感光性平版印刷版用光重合
性組成物の主要構成成分について詳述してきたが、それ
等の好適な使用比率は重合可能なエチレン性化合物10
0重量部に対して光重合開始系の内増感剤が好ましくは
0.01〜20重量部、特に好ましいのは0.05〜1
0重量部、活性剤が好ましくは0.1〜80重量部、特
に好ましいのは0.5〜60重量部、また高分子結合材
が、好ましくは10〜400重量部、特に好ましくは2
0〜200重量部の範囲である。
The main constituents of the photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate according to the present invention have been described in detail above.
The photosensitizer-based internal sensitizer is preferably 0.01 to 20 parts by weight, particularly preferably 0.05 to 1 part by weight, based on 0 parts by weight.
0 parts by weight, preferably 0.1 to 80 parts by weight, more preferably 0.5 to 60 parts by weight of the activator, and preferably 10 to 400 parts by weight, particularly preferably 2 to 400 parts by weight of the polymer binder.
It is in the range of 0 to 200 parts by weight.

【0047】本発明の感光性平版印刷版用光重合性組成
物は前記の各必須成分の他に、その目的に応じて更に他
の物質を含有することができる。例えば、ハイドロキノ
ン、p−メトキシフェノール、2,6−ジ−t−ブチル
−p−クレゾール等の熱重合防止剤;有機又は無機の染
顔料からなる着色剤;ジオクチルフタレート、ジドデシ
ルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤、
三級アミンやチオールのような感度特性改善剤、その他
色素前駆体等の添加剤も加えることができる。
The photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate of the present invention may further contain other substances depending on the purpose in addition to the above essential components. For example, thermal polymerization inhibitors such as hydroquinone, p-methoxyphenol, 2,6-di-t-butyl-p-cresol; coloring agents composed of organic or inorganic dyes and pigments; dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, tricresyl Plasticizers such as phosphates,
An additive such as a sensitizing agent such as a tertiary amine or a thiol, and other additives such as a dye precursor can also be added.

【0048】該添加剤の好ましい添加量は、エチレン性
化合物100重量部に対して熱重合防止剤2重量部以
下、着色剤20重量部以下、可塑剤40重量部以下、色
素前駆体30重量部以下の範囲である。以上述べた感光
性平版印刷版用光重合性組成物は、適当な溶媒で希釈し
て、支持体上に塗布・乾燥し感光層として形成される。
感光性平版印刷版として使用する場合は、支持体として
通常アルミニウム板が使用され、特に表面を粗面化した
後陽極酸化処理したアルミニウム支持体が好適に使用し
得る。粗面化の方法としては、一般に公知のブラシ研磨
法、ボール研磨法、電解エッチング、化学エッチング、
液体ホーニング、サンドブラスト法等の方法及びこれら
の組み合わせが挙げられ、好ましくはブラシ研磨法、ボ
ール研磨法、電解エッチング、化学エッチング、液体ホ
ーニングが挙げられる。更に粗面化処理が施されたアル
ミニウム版は必要に応じて酸またはアルカリ水溶液にて
デスマット処理される。こうして得られたアルミニウム
板は、通常、陽極酸化処理されるが、特に好ましくは、
硫酸を含む電解液で処理する方法が挙げられる。硫酸を
含む電解液で陽極酸化する方法は、従来公知の方法、例
えば特開昭58−213894号公報に記載の方法等に
準じて行われる。具体的には、例えば硫酸5〜50重量
%、好ましくは15〜30%が用いられ、温度は5〜5
0℃程度、好ましくは15〜35℃であり、電流密度1
〜60A/dm2 で5秒〜60秒間程度で行なわれる。
また、更に必要に応じて珪酸ソーダ処理等の珪酸アルカ
リや熱水による処理、その他カチオン性4級アンモニウ
ム基を有する樹脂やポリビニルホスホン酸等の水性高分
子化合物を含有する水溶液への浸漬等による親水化処理
を行うこともできる。
The preferred amounts of the additives are 2 parts by weight or less of a thermal polymerization inhibitor, 20 parts by weight or less of a colorant, 40 parts by weight or less of a plasticizer, and 30 parts by weight of a dye precursor per 100 parts by weight of the ethylenic compound. The range is as follows. The photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate described above is diluted with an appropriate solvent, coated on a support and dried to form a photosensitive layer.
When used as a photosensitive lithographic printing plate, an aluminum plate is usually used as a support. In particular, an aluminum support which has been roughened and then anodized may be suitably used. As a method of roughening, generally known brush polishing method, ball polishing method, electrolytic etching, chemical etching,
Examples thereof include methods such as liquid honing and sandblasting, and combinations thereof, and preferably include brush polishing, ball polishing, electrolytic etching, chemical etching, and liquid honing. Further, the surface-roughened aluminum plate is desmutted with an acid or alkali aqueous solution as required. The aluminum plate thus obtained is usually subjected to anodizing treatment, and particularly preferably,
There is a method of treating with an electrolytic solution containing sulfuric acid. The method of anodizing with an electrolytic solution containing sulfuric acid is performed according to a conventionally known method, for example, a method described in JP-A-58-21894. Specifically, for example, sulfuric acid 5 to 50% by weight, preferably 15 to 30% is used, and the temperature is 5 to 5%.
0 ° C., preferably 15-35 ° C.
で 60 A / dm 2 for about 5 seconds to 60 seconds.
Further, if necessary, a treatment with an alkali silicate such as sodium silicate treatment or hot water, or a hydrophilic treatment such as immersion in an aqueous solution containing an aqueous polymer compound such as a resin having a cationic quaternary ammonium group or polyvinylphosphonic acid. A conversion process can also be performed.

【0049】感光性組成物の塗布方法としては、ディッ
プコート、コーティングロッド、スピナーコート、スプ
レーコート、ロールコート等の周知の方法により塗布す
ることが可能である。更に、前述の感光層の上には、酸
素による重合禁止作用を防止するために、酸素遮断層を
設けることができる。その具体例としては、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキ
サイド、セルロース等の水溶性高分子が挙げられる。こ
の内、特に酸素ガスバリア性の高いポリビニルアルコー
ルを含むものが好ましい。
The photosensitive composition can be applied by a known method such as dip coating, coating rod, spinner coating, spray coating, roll coating and the like. Further, an oxygen blocking layer can be provided on the above-mentioned photosensitive layer in order to prevent a polymerization inhibition effect by oxygen. Specific examples thereof include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, and cellulose. Among them, those containing polyvinyl alcohol having particularly high oxygen gas barrier properties are preferable.

【0050】本発明の組成物に適用し得る露光光源とし
ては、特に限定されないが例えば、カーボンアーク、高
圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍
光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、ヘリ
ウムカドミウムレーザー、アルゴンイオンレーザー、Y
AGレーザー、ヘリウムネオンレーザーらが特に好適に
使用し得る。
The exposure light source applicable to the composition of the present invention is not particularly limited. Examples thereof include a carbon arc, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, a tungsten lamp, a halogen lamp, a helium cadmium laser, and an argon ion. Laser, Y
AG laser, helium neon laser and the like can be particularly preferably used.

【0051】本発明の光重合性組成物は、かかる光源に
て画像露光を行った後、界面活性剤とアルカリを含有す
る水溶液を用いて現像すれば支持体上に画像を形成する
ことができる。この水溶液には、更に有機溶剤、緩衝
剤、染料または顔料を含有することができる。適当なア
ルカリ剤としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第
三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等の無機アル
カリ剤、及びトリメチルアミン、ジエチルアミン、イソ
プロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールア
ミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン類な
どの有機アミン化合物などが挙げられ、これらは単独も
しくは組み合わせて使用できる。界面活性剤としては、
例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリ
オキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキ
シエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエ
ステル類、モノグリセリドアルキルエステル類等のノニ
オン系界面活性剤;アルキルベンゼンスルホン酸塩類、
アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩
類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル
塩類等のアニオン界面活性剤;アルキルベタイン類、ア
ミノ酸類等の両性界面活性剤が使用可能である。また、
有機溶剤としては例えば、イソプロピルアルコール、ベ
ンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジア
セトンアルコール等を必要により含有させることが可能
である。
The photopolymerizable composition of the present invention can form an image on a support by performing image exposure with such a light source and developing with an aqueous solution containing a surfactant and an alkali. . The aqueous solution may further contain an organic solvent, a buffer, a dye or a pigment. Suitable alkali agents include inorganic alkalis such as sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, and sodium bicarbonate. And organic amine compounds such as trimethylamine, diethylamine, isopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. These can be used alone or in combination. As a surfactant,
For example, nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, monoglyceride alkyl esters; alkylbenzene sulfonates;
Anionic surfactants such as alkyl naphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl sulfonates, sulfosuccinate salts and the like; amphoteric surfactants such as alkyl betaines and amino acids can be used. Also,
As the organic solvent, for example, isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol, and the like can be contained as necessary.

【0052】[0052]

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例により更に
具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定
されるものではない。結合剤の合成(1) メチルメタクリレート/イソブチルメタクリレート/イ
ソブチルアクリレート/メタアクリル酸=35/20/
10/35mol%(仕込み比)の共重合体、Mw=7
万(以下「結合材−1」と略す。)を200重量部、下
記脂環式エポキシ含有不飽和化合物75重量部、
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Synthesis of binder (1) Methyl methacrylate / isobutyl methacrylate / isobutyl acrylate / methacrylic acid = 35/20 /
10/35 mol% (charge ratio) copolymer, Mw = 7
200 parts by weight (hereinafter abbreviated as “binder-1”), 75 parts by weight of the following alicyclic epoxy-containing unsaturated compound,

【0053】[0053]

【化11】 Embedded image

【0054】p−メトキシフェノール2.5重量部、テ
トラブチルアンモニウムクロライド8重量部、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート800重量
部を反応容器中に加え、110℃、24時間空気中で撹
拌反応させてエチレン性高分子結合材(酸価60、結合
材−1のメタアクリル酸成分全体の6割に不飽和基が反
応。以下「結合材−2」と略す。)溶液を得た。
2.5 parts by weight of p-methoxyphenol, 8 parts by weight of tetrabutylammonium chloride and 800 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate were added to the reaction vessel, and the mixture was stirred at 110 ° C. for 24 hours in the air for ethylenic reaction. A solution of a polymer binder (acid value 60, 60% of the entire methacrylic acid component of the binder-1 was reacted with an unsaturated group, hereinafter abbreviated as “binder-2”) was obtained.

【0055】結合剤の合成(2) α−メチルスチレン/アクリル酸の共重合体(商品名
“SCX−690”Johnson社製、酸価240、
Mw=1万5千)(以下「結合材−3」と略す。)を8
55重量部、下記脂環式エポキシ含有不飽和化合物49
0重量部、
Synthesis of Binder (2) Copolymer of α-methylstyrene / acrylic acid (trade name “SCX-690” manufactured by Johnson, acid number 240,
Mw = 15,000) (hereinafter abbreviated as “binder-3”) to 8
55 parts by weight of the following alicyclic epoxy-containing unsaturated compound 49
0 parts by weight,

【0056】[0056]

【化12】 Embedded image

【0057】p−メトキシフェノール1.3重量部、テ
トラエチルアンモニウムクロライド4.3重量部、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート180
0重量部を反応容器中に加え、120℃、15時間空気
中で撹拌反応させてエチレン性高分子結合材(酸価約1
70、結合材−2のメタアクリル酸成分全体の5割に不
飽和基が反応。以下「結合材−4」と略す。)溶液を得
た。
1.3 parts by weight of p-methoxyphenol, 4.3 parts by weight of tetraethylammonium chloride, 180 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate
0 parts by weight was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred and reacted in air at 120 ° C. for 15 hours to form an ethylenic polymer binder (acid value of about 1
70, 50% of the total methacrylic acid component of binder-2 reacted with unsaturated groups. Hereinafter, it is abbreviated as “binding material-4”. ) A solution was obtained.

【0058】結合剤の合成(3) 結合材−1を196重量部、グリシジルメタクリレート
52重量部、p−メトキシフェノール2.4重量部、テ
トラエチルアンモニウムクロライド8重量部、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート490重量
部を反応容器中に加え、120℃、15時間空気中で撹
拌反応させて、酸価約60、結合材−1のメタアクリル
酸成分全体の約6割にグリシジルメタクリレートが反応
した「結合材−5」溶液を得た。
Synthesis of binder (3) 196 parts by weight of binder-1, 52 parts by weight of glycidyl methacrylate, 2.4 parts by weight of p-methoxyphenol, 8 parts by weight of tetraethylammonium chloride, 490 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate Was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred and reacted in air at 120 ° C. for 15 hours. As a result, the glycidyl methacrylate reacted with about 60% of the total methacrylic acid component of the binder -1 at an acid value of about 60. A solution was obtained.

【0059】結合剤の合成(4) 結合材−1を428重量部、グリシジルメタクリレート
137重量部、p−メトキシフェノール6.5重量部、
テトラエチルアンモニウムクロライド2.2重量部、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート90
0重量部を反応容器中に加え、120℃、15時間空気
中で撹拌反応させて、酸価170、結合材−1のメタア
クリル酸成分全体の5割にグリシジルメタクリレートが
反応した「結合材−6」溶液を得た。
Synthesis of binder (4) 428 parts by weight of binder-1, 137 parts by weight of glycidyl methacrylate, 6.5 parts by weight of p-methoxyphenol,
2.2 parts by weight of tetraethylammonium chloride, propylene glycol monomethyl ether acetate 90
0 parts by weight was added to the reaction vessel, and the mixture was stirred and reacted in air at 120 ° C. for 15 hours. The acid value was 170, and glycidyl methacrylate reacted to 50% of the entire methacrylic acid component of the binder-1. 6 "solution was obtained.

【0060】アルミニウム支持体の製造(1) アルミニウム板を3%水酸化ナトリウムにて脱脂し、こ
れを11.5g/l塩酸浴中で25℃、80A/dm2
の電流密度で11秒電解エッチングし、水洗後30%硫
酸浴中で30℃、11.5A/dm2 の条件で15秒間
陽極酸化した後水洗し、乾燥して、平版印刷版用アルミ
ニウム板(以下「支持体−1」と略す。)を得た。
Production of Aluminum Support (1) An aluminum plate was degreased with 3% sodium hydroxide, and this was washed in a 11.5 g / l hydrochloric acid bath at 25 ° C. and 80 A / dm 2.
Electrolytic etching at a current density of 11 seconds, washing with water, anodizing at 30 ° C. in a 30% sulfuric acid bath at 11.5 A / dm 2 for 15 seconds, washing with water, drying, and drying the aluminum plate for lithographic printing plate ( Hereinafter, abbreviated as “support-1”).

【0061】アルミニウム支持体の製造(2) 支持体−1を更に1%オルト珪酸ナトリウム水溶液を用
い85℃で30秒間親水化処理し、水洗、乾燥して平版
印刷版用アルミニウム板(以下「支持体−2」と略
す。)を得た。
Production of Aluminum Support (2) Support-1 was further hydrophilized at 85 ° C. for 30 seconds using a 1% aqueous sodium orthosilicate solution, washed with water and dried to obtain an aluminum plate for a lithographic printing plate (hereinafter referred to as “support”). Abbreviated as "body-2").

【0062】実施例1〜3、比較例1〜4 上記支持体−1上に、下記の光重合性組成物塗布液−1
をバーコーターを用いて乾燥膜厚2g/m2 となるよう
に塗布乾燥した。更にこの上に、ポリビニルアルコール
水溶液をバーコーターを用いて乾燥膜厚3g/m2 とな
るように塗布乾燥し感光性平版印刷版を作製した。得ら
れた感光性平版印刷版について下記の項目について評価
した。結果を第1表に示す。
Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 The following photopolymerizable composition coating solution-1 was coated on the support-1.
Was applied and dried using a bar coater to a dry film thickness of 2 g / m 2 . Further, a photosensitive lithographic printing plate was prepared by applying and drying an aqueous solution of polyvinyl alcohol using a bar coater to a dry film thickness of 3 g / m 2 . The following items were evaluated for the obtained photosensitive lithographic printing plate. The results are shown in Table 1.

【0063】 〔光重合性組成物塗布液−1〕 第1表に示すエチレン性単量体 合計 55 重量部 第1表に示す高分子結合材 45 重量部 下記構造(S−1)の化合物 2.0重量部 下記構造(T−1)のチタノセン化合物 10 重量部 2−メルカプトベンゾチアゾール 5.0重量部 N,N−ジメチル安息香酸エチルエステル 10 重量部 銅フタルシアニン顔料 3.0重量部 シクロヘキサノン 1090 重量部[Photopolymerizable Composition Coating Solution-1] Ethylene monomer shown in Table 1 Total 55 parts by weight Polymer binder shown in Table 1 45 parts by weight Compound 2 having the following structure (S-1) 0.0 parts by weight Titanocene compound having the following structure (T-1) 10 parts by weight 2-mercaptobenzothiazole 5.0 parts by weight N, N-dimethylbenzoic acid ethyl ester 10 parts by weight Copper phthalocyanine pigment 3.0 parts by weight Cyclohexanone 1090 Parts by weight

【0064】[0064]

【化13】 Embedded image

【0065】評価項目 <感 度>感光性平版印刷版を回析分光照射装置(ナル
ミ社製、RM−23)を用いて露光した後、無水炭酸ナ
トリウム0.8重量%、ペレックスNBL(花王(株)
社製)3重量%を含む水溶液中に、25℃で30秒浸漬
後スポンジで7回擦ることにより現像を行い、得られた
硬化画像の高さより、532nmの光線による光硬化に
要する光エネルギー量を求めた。
Evaluation items <Sensitivity> After exposing the photosensitive lithographic printing plate using a diffraction spectral irradiation apparatus (RM-23, manufactured by Narumi), 0.8% by weight of anhydrous sodium carbonate and Perex NBL (Kao (Kao) stock)
After immersion in an aqueous solution containing 3% by weight at 25 ° C. for 30 seconds, development was performed by rubbing with a sponge seven times, and based on the height of the obtained cured image, the amount of light energy required for photocuring with 532 nm light rays I asked.

【0066】<現像性>感光性平版印刷版を未露光のま
ま感度の評価の場合と同様にして現像を行う。得られた
サンプルにメチルセロソルブ一滴を落とし乾燥させ、最
後に現像インク(商品名“SPO−1”コニカ(株)社
製)でインク盛りをする。このとき、全くインクが載ら
ないレベルを○、メチルセロソルブ滴下跡にフリンジが
発生するレベルを△、全体にインクが着肉するレベルを
×とした。
<Developability> The photosensitive lithographic printing plate is developed without exposure as in the case of the evaluation of sensitivity. One drop of methyl cellosolve is dropped on the obtained sample and dried, and finally, ink is filled with a developing ink (trade name “SPO-1” manufactured by Konica Corporation). At this time, the level at which the ink was not applied at all was represented by ○, the level at which fringe was generated at the methylcellosolve drop mark was represented by Δ, and the level at which the ink was entirely deposited was represented by ×.

【0067】<耐刷力>感光性平版印刷版を空冷アルゴ
ンレーザー(商品名“PI−R”大日本スクリーン
(株)社製)で100μj/cm2 の露光量で走査露光
し感度の評価と同様にして現像を行う。得られた印刷版
を“DAIYA−1F−2型”(三菱重工(株)社製)
にて印刷し、画線部(120線、4%の小点)が跳ぶま
での印刷枚数を耐刷力として示した。
<Printing durability> The photosensitive lithographic printing plate was scanned and exposed with an air-cooled argon laser (trade name "PI-R" manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.) at an exposure of 100 μj / cm 2 to evaluate the sensitivity. Development is performed in the same manner. The obtained printing plate is referred to as “DAIYA-1F-2 type” (manufactured by Mitsubishi Heavy Industries, Ltd.).
, And the number of printed sheets until the image area (120 lines, 4% small point) jumps is shown as the printing durability.

【0068】実施例4〜6、比較例5〜6 上記支持体−2上に、下記の光重合性組成物塗布液−2
をバーコーターを用いて乾燥膜厚2g/m2 となるよう
に塗布乾燥した。更にこの上に、ポリビニルアルコール
水溶液をバーコーターを用いて乾燥膜厚3g/m2 とな
るように塗布乾燥し感光性平版印刷版を作製した。得ら
れた感光性平版印刷版について前記の項目について評価
した。結果を第2表に示す。
Examples 4 and 6, Comparative Examples 5 and 6 The following photopolymerizable composition coating solution-2 was coated on the support-2.
Was applied and dried using a bar coater to a dry film thickness of 2 g / m 2 . Further, a photosensitive lithographic printing plate was prepared by applying and drying an aqueous solution of polyvinyl alcohol using a bar coater to a dry film thickness of 3 g / m 2 . The above-mentioned items were evaluated for the obtained photosensitive lithographic printing plate. The results are shown in Table 2.

【0069】 〔光重合性組成物塗布液−2〕 第2表に示すエチレン性単量体 合計 55 重量部 第2表に示す高分子結合材 45 重量部 前記構造(S−1)の化合物 2.0重量部 前記構造(T−1)のチタノセン化合物 10 重量部 2−メルカプトベンゾチアゾール 5.0重量部 N,N−ジメチル安息香酸エチルエステル 10 重量部 銅フタルシアニン顔料 3.0重量部 シクロヘキサノン 1090 重量部[Photopolymerizable Composition Coating Solution-2] Ethylene monomer shown in Table 2 55 parts by weight Polymer binder shown in Table 2 45 parts by weight Compound 2 of the above-mentioned structure (S-1) 0.0 parts by weight Titanocene compound of the structure (T-1) 10 parts by weight 2-mercaptobenzothiazole 5.0 parts by weight N, N-dimethylbenzoic acid ethyl ester 10 parts by weight Copper phthalocyanine pigment 3.0 parts by weight Cyclohexanone 1090 Parts by weight

【0070】実施例7〜10、比較例7〜9 上記支持体−2上に、下記塗布液−3を用いた他は、前
述の実施例1〜3及び比較例1〜4と同様の操作を行い
評価を行った。結果を第3表に示す。
Examples 7 to 10 and Comparative Examples 7 to 9 The same operation as in the above Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4 except that the following coating solution-3 was used on the above-mentioned support-2. And evaluated. The results are shown in Table 3.

【0071】 〔光重合性組成物塗布液−3〕 第3表に示すエチレン性単量体 合計 55 重量部 第3表に示す高分子結合材 45 重量部 下記構造(S−2)の化合物 2.0重量部 下記構造(T−2)の化合物 10 重量部 2−メルカプトベンゾチアゾール 5.0重量部 N,N−ジメチル安息香酸エチルエステル 10 重量部 銅フタルシアニン顔料 3.0重量部 シクロヘキサノン 1090 重量部[Photopolymerizable Composition Coating Solution-3] Ethylene monomer shown in Table 3 Total 55 parts by weight Polymer binder shown in Table 3 45 parts by weight Compound 2 having the following structure (S-2) 0.0 parts by weight Compound of the following structure (T-2) 10 parts by weight 2-mercaptobenzothiazole 5.0 parts by weight N, N-dimethylbenzoic acid ethyl ester 10 parts by weight Copper phthalocyanine pigment 3.0 parts by weight Cyclohexanone 1090 parts by weight Department

【0072】[0072]

【化14】 Embedded image

【0073】[0073]

【表1】 [Table 1]

【0074】[0074]

【表2】 [Table 2]

【0075】[0075]

【表3】 [Table 3]

【0076】尚、第1〜3表中、エチレン性単量体の欄
の略号(化合物−1〜化合物−6)は、それぞれ下記の
化合物を表す。
In Tables 1 to 3, the abbreviations (compound-1 to compound-6) in the column of the ethylenic monomer represent the following compounds, respectively.

【0077】化合物−1Compound-1

【0078】[0078]

【化15】 Embedded image

【0079】化合物−2Compound-2

【0080】[0080]

【化16】 Embedded image

【0081】化合物−3Compound-3

【0082】[0082]

【化17】 Embedded image

【0083】化合物−4Compound-4

【0084】[0084]

【化18】 Embedded image

【0085】化合物−5Compound-5

【0086】[0086]

【化19】 Embedded image

【0087】化合物−6Compound-6

【0088】[0088]

【化20】 Embedded image

【0089】[0089]

【発明の効果】本発明により、アルミニウム支持体に対
する接着性、感度、現像性のいずれにも均衡して優れた
感光性平版印刷版用光重合性組成物及び、これを用いた
感光性平版印刷版を提供することができる。
Industrial Applicability According to the present invention, a photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate excellent in all of adhesiveness, sensitivity and developability to an aluminum support, and photosensitive lithographic printing using the same. Version can be provided.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 4/02 PDR C09D 4/02 PDR PDS PDS G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/032 501 7/032 501 7/035 7/035 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical indication location C09D 4/02 PDR C09D 4/02 PDR PDS PDS G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/032 501 7/032 501 7/035 7/035

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)付加重合可能なエチレン性不飽和
結合含有単量体、(B)光重合開始系、及び(C)分子
内にカルボキシル基を有する高分子結合材、を含有する
光重合性組成物において、該付加重合可能なエチレン性
不飽和結合含有単量体(A)が、少なくとも一つの(メ
タ)アクリロイル基を持つリン酸エステル化合物(A−
1)及び/又は、下記一般式(I)で表される化合物
(A−2)である特定単量体を含有し、分子内にカルボ
キシル基を有する高分子結合材(C)が、カルボキシル
基の少なくとも一部を脂環式エポキシ基含有不飽和化合
物と反応させた化合物であることを特徴とする感光性平
版印刷版用光重合性組成物。 【化1】 (一般式(I)中、R1 は水素原子またはメチル基を示
し、Xはハロゲンで置換されていてもよい炭素数1〜6
の分岐していても良いアルキレン基を示し、mは2以上
の整数を示す。)
1. A light comprising (A) an ethylenically unsaturated bond-containing monomer capable of addition polymerization, (B) a photopolymerization initiation system, and (C) a polymer binder having a carboxyl group in the molecule. In the polymerizable composition, the addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer (A) is a phosphate compound having at least one (meth) acryloyl group (A-
1) and / or a polymer binder (C) containing a specific monomer which is a compound (A-2) represented by the following general formula (I) and having a carboxyl group in the molecule, A photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate, characterized in that the compound is obtained by reacting at least a part of the compound with an alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound. Embedded image (In the general formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and X represents a carbon number of 1 to 6 which may be substituted with halogen.
And m represents an integer of 2 or more. )
【請求項2】 前記特定単量体が、少なくとも一つの
(メタ)アクリロイル基を持つリン酸エステル化合物
(A−1)及び、一般式(I)で表される化合物(A−
2)であって、かつ、全付加重合可能なエチレン性不飽
和結合含有単量体(A)の1〜60重量%を占めること
を特徴とする請求項1に記載の感光性平版印刷版用光重
合性組成物。
2. The phosphoric ester compound (A-1) wherein the specific monomer has at least one (meth) acryloyl group and the compound (A-) represented by the general formula (I)
2. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, which is 2) and accounts for 1 to 60% by weight of the monomer (A) containing all ethylenically unsaturated bonds capable of addition polymerization. Photopolymerizable composition.
【請求項3】 前記特定単量体が、少なくとも一つの
(メタ)アクリロイル基を持つリン酸エステル化合物
(A−1)であって、かつ、全付加重合可能なエチレン
性不飽和結合含有単量体(A)の1〜60重量%を占め
ることを特徴とする請求項1に記載の感光性平版印刷版
用光重合性組成物。
3. The monomeric compound according to claim 1, wherein the specific monomer is a phosphate compound (A-1) having at least one (meth) acryloyl group, and the addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond-containing monomer. The photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the photopolymerizable composition accounts for 1 to 60% by weight of the body (A).
【請求項4】 前記特定単量体が、一般式(I)で表さ
れる化合物(A−2)であって、かつ、全付加重合可能
なエチレン性不飽和結合含有単量体(A)の1〜60重
量%を占めることを特徴とする請求項1に記載の感光性
平版印刷版用光重合性組成物。
4. The specific monomer is a compound (A-2) represented by the general formula (I), and a monomer (A) containing an addition-polymerizable ethylenically unsaturated bond. The photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the photopolymerizable composition accounts for 1 to 60% by weight of the composition.
【請求項5】 少なくとも一つの(メタ)アクリロイル
基を持つリン酸エステル化合物(A−1)が、下記一般
式(II)で表される化合物であることを特徴とする請求
項1に記載の感光性平版印刷版用光重合性組成物。 【化2】 (一般式(II)中、R2 は水素原子またはメチル基を示
し、nは1〜25の整数を示し、rは1または2を示
す。)
5. The method according to claim 1, wherein the phosphate compound (A-1) having at least one (meth) acryloyl group is a compound represented by the following general formula (II). A photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate. Embedded image (In the general formula (II), R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, n represents an integer of 1 to 25, and r represents 1 or 2.)
【請求項6】 分子内にカルボキシル基を有する高分子
結合材(C)が、カルボキシル基の5〜90mol%を
脂環式エポキシ基含有不飽和化合物と反応させた化合物
であることを特徴とする請求項1乃至5に記載の感光性
平版印刷版用光重合性組成物。
6. The polymer binder (C) having a carboxyl group in the molecule is a compound obtained by reacting 5 to 90 mol% of a carboxyl group with an alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound. The photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate according to claim 1.
【請求項7】 組成物中に、さらに下記一般式(III) で
表される化合物を含むことを特徴とする請求項1乃至6
に記載の感光性平版印刷版用光重合性組成物。 【化3】 (一般式(III) 中、Aはアクリロイル基又はメタクリロ
イル基を示し、R3 、R 4 はそれぞれ分岐していても良
いアルキレン基を示し、R5 、R6 はそれぞれ水素原
子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有
していても良いシクロアルキル基、置換基を有していて
も良いフェニル基を示し、Phはフェニレン基を示し、
p及びqはp+q=2〜30を満たす正の整数を示
す。)
7. The composition further comprises a compound represented by the following general formula (III):
A compound represented by the formula (1) to (6).
3. The photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate according to item 1. Embedded image(In the general formula (III), A represents an acryloyl group or a methacryloyl group.
Represents an yl group;Three, R FourMay be branched
Represents an alkylene group;Five, R6Are hydrogen sources
A substituent, an alkyl group which may have a substituent,
Optionally having a cycloalkyl group, a substituent
Represents a good phenyl group, Ph represents a phenylene group,
p and q are positive integers satisfying p + q = 2 to 30
You. )
【請求項8】 組成物中に、さらにウレタン(メタ)ア
クリル酸エステル化合物を含むことを特徴とする請求項
1乃至7に記載の感光性平版印刷版用光重合性組成物。
8. The photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, further comprising a urethane (meth) acrylate compound in the composition.
【請求項9】 前記脂環式エポキシ基含有不飽和化合物
が、シクロアルカン骨格とオキシラン骨格とが縮環した
構造を有するものである請求項1乃至8に記載の感光性
平版印刷版用光重合性組成物。
9. The photopolymerization for a photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound has a structure in which a cycloalkane skeleton and an oxirane skeleton are condensed. Composition.
【請求項10】 前記脂環式エポキシ基含有不飽和化合
物が、下記一般式(IV)、(V)、または(VI)で表さ
れる化合物の少なくとも一つであることを特徴とする請
求項9に記載の感光性平版印刷版用光重合性組成物。 【化4】 (各一般式中、R7 は水素原子又はメチル基を示し、R
8 は炭素数1〜6の2価の脂肪族炭化水素基を示す。)
10. The alicyclic epoxy group-containing unsaturated compound is at least one of compounds represented by the following general formulas (IV), (V) or (VI). 10. The photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate according to item 9. Embedded image (In each formula, R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group;
8 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. )
【請求項11】 光重合開始系が、可視光領域に吸収を
持つ増感剤を含有することを特徴とする請求項1乃至1
0に記載の感光性平版印刷版用光重合性組成物。
11. The photopolymerization initiation system according to claim 1, further comprising a sensitizer having absorption in a visible light region.
0. The photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate according to 0.
【請求項12】 光重合開始系が、チタノセン類を含む
ことを特徴とする請求項1乃至11に記載の感光性平版
印刷版用光重合性組成物。
12. The photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, wherein the photopolymerization initiation system contains titanocenes.
【請求項13】 光重合開始系が、ヘキサアリールビイ
ミダゾール類を含むことを特徴とする請求項1乃至11
に記載の感光性平版印刷版用光重合性組成物。
13. The photopolymerization initiation system according to claim 1, wherein the photopolymerization initiation system contains hexaarylbiimidazoles.
3. The photopolymerizable composition for a photosensitive lithographic printing plate according to item 1.
【請求項14】 アルミニウム支持体上に感光性樹脂層
が形成されてなる感光性平版印刷版において、感光性樹
脂層が請求項1乃至13に記載の光重合性組成物から成
るものであることを特徴とする感光性平版印刷版。
14. A photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive resin layer formed on an aluminum support, wherein the photosensitive resin layer is made of the photopolymerizable composition according to claim 1. A photosensitive lithographic printing plate characterized by the following.
【請求項15】 粗面化及び陽極酸化処理が施されたア
ルミニウム支持体上に感光性樹脂層が形成されてなる感
光性平版印刷版において、陽極酸化処理が硫酸を含む電
解液中で行われたものである請求項14に記載の感光性
平版印刷版。
15. In a photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive resin layer formed on an aluminum support having been subjected to surface roughening and anodizing, the anodizing is performed in an electrolytic solution containing sulfuric acid. The photosensitive lithographic printing plate according to claim 14, which is a lithographic printing plate.
【請求項16】 粗面化及び陽極酸化処理が施され、さ
らに親水化処理が施されたアルミニウム支持体上に感光
性樹脂層が形成されてなる感光性平版印刷版において、
陽極酸化処理が硫酸を含む電解液中で行われたものであ
る請求項14に記載の感光性平版印刷版。
16. A photosensitive lithographic printing plate comprising a photosensitive resin layer formed on an aluminum support which has been subjected to a surface roughening treatment and an anodic oxidation treatment and further subjected to a hydrophilic treatment.
The photosensitive lithographic printing plate according to claim 14, wherein the anodizing treatment is performed in an electrolytic solution containing sulfuric acid.
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