JPH10106855A - Low parasitic capacitance transformer - Google Patents

Low parasitic capacitance transformer

Info

Publication number
JPH10106855A
JPH10106855A JP8280305A JP28030596A JPH10106855A JP H10106855 A JPH10106855 A JP H10106855A JP 8280305 A JP8280305 A JP 8280305A JP 28030596 A JP28030596 A JP 28030596A JP H10106855 A JPH10106855 A JP H10106855A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coil
parasitic capacitance
layer
transformer
insulator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8280305A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahiko Matsumoto
匡彦 松本
Yoshihiro Matsumoto
義寛 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP8280305A priority Critical patent/JPH10106855A/en
Publication of JPH10106855A publication Critical patent/JPH10106855A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Insulating Of Coils (AREA)
  • Regulation Of General Use Transformers (AREA)
  • Dc-Dc Converters (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low parasitic capacitance transformer which can reduce the parasitic capacitance between its primary coil and secondary coil. SOLUTION: A transformer 3 is constructed by forming a first coil layer by winding a winding 14 around a core 10 and second soil layer by winding another winding 14 around an insulator 11 after coating the first coil layer with the insulator 11, and then, successively forming an insulator 12, a third coil layer, an insulator 13, and a fourth coil layer on the second coil layer. The primary coil N1 of the transformer is constituted of the second and fourth coil layers and the secondary coil N2 is constituted of the first and third coil layers. The thickness of the insulator 13 between the fourth coil layer of the primary coil N1 and the third coil layer of the secondary coil N2 across which the hourly fluctuation of the electric flux density becomes the largest is made thicker than. those of the insulators between the other coil layers. Therefore the interval between the third and fourth coil layers becomes larger and the parasitic capacitance between the primary and secondary coils N1 and N2 becomes smaller.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はスイッチング電源装
置等の装置に組み込まれる低寄生容量トランスに関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low parasitic capacitance transformer incorporated in a device such as a switching power supply.

【0002】[0002]

【従来の技術】トランスは一次コイルと二次コイルを有
して構成され、一次コイルに印加した電圧に一次コイル
の巻数N1に対する二次コイルの巻数N2の巻数比(N2
/N1)を乗算した電圧を二次コイルから出力するもの
である。このようなトランスには構造が異なる様々な種
類のトランスがある。
2. Description of the Related Art A transformer has a primary coil and a secondary coil. A voltage applied to the primary coil has a winding ratio (N2) of the number of turns of the secondary coil N2 to the number of turns N1 of the primary coil.
/ N1) is output from the secondary coil. Such transformers include various types of transformers having different structures.

【0003】例えば、コアの周りに一次コイルの巻線を
巻回し、その上側に絶縁体を介して二次コイルの巻線を
巻回した巻線タイプのトランスや、一次コイルのコイル
パターンを形成した基板と二次コイルのコイルパターン
を形成した基板を積層した空芯トランスや、一次コイル
のコイルパターンを形成した基板と二次コイルのコイル
パターンを形成した基板を積層しその積層体にコアを装
着したトランス等がある。
For example, a winding-type transformer in which a primary coil winding is wound around a core and a secondary coil winding is wound above the core via an insulator, or a coil pattern of the primary coil is formed. Core transformer, in which a substrate with a coil pattern of a secondary coil is formed, or a substrate in which a coil pattern of a secondary coil is formed with a substrate in which a coil pattern of a secondary coil is formed, and a core is formed in the laminate. There is a transformer mounted.

【0004】図9にはトランスの使用例が示されてい
る。このトランス3はスイッチング電源装置等に用いら
れる共振リセット一石フォワードコンバータに組み込ま
れたものであり、上記共振リセット一石フォワードコン
バータには上記複数種のトランス構造のうち、どの種の
構造のトランスも組み込むことができる。上記共振リセ
ット一石フォワードコンバータは、同図に示すように、
トランス3の一次コイルN1側に、直流電源1とスイッ
チ素子2と該スイッチ素子2のスイッチング制御を行う
制御回路4から成る入力回路が形成され、二次コイルN
2側には出力整流素子5と出力フライホイール素子6と
平滑用チョークコイル7と平滑コンデンサ8から成る出
力回路が形成されており、上記平滑コンデンサ8に負荷
抵抗体9が並列に接続される。
FIG. 9 shows an example of using a transformer. The transformer 3 is incorporated in a resonance reset single-stone forward converter used in a switching power supply device or the like, and the resonance reset single-stone forward converter incorporates a transformer having any of the above-described plural types of transformer structures. Can be. As shown in FIG.
On the primary coil N1 side of the transformer 3, an input circuit including a DC power supply 1, a switch element 2, and a control circuit 4 for performing switching control of the switch element 2 is formed.
On the second side, an output circuit including an output rectifying element 5, an output flywheel element 6, a choke coil 7 for smoothing, and a smoothing capacitor 8 is formed, and a load resistor 9 is connected to the smoothing capacitor 8 in parallel.

【0005】上記構成の共振リセット一石フォワードコ
ンバータは、制御回路4にスイッチング制御されてスイ
ッチ素子2がオンすると、直流電源1の正極側から一次
コイルN1とスイッチ素子2を順に通る経路で電流が通
電し、二次コイルN2のC端側からエネルギーが出力さ
れて平滑コンデンサ8を充電すると共に、平滑コンデン
サ8で平滑された直流電圧Vc8が負荷抵抗体9に供給さ
れる。
When the switching element 2 is turned on by the switching control of the control circuit 4, the current flows through the primary coil N1 and the switching element 2 in order from the positive electrode of the DC power supply 1. Then, energy is output from the C end side of the secondary coil N2 to charge the smoothing capacitor 8, and the DC voltage Vc8 smoothed by the smoothing capacitor 8 is supplied to the load resistor 9.

【0006】スイッチ素子2がオフすると、平滑コンデ
ンサ8に充電されたエネルギーが平滑用チョークコイル
7と出力フライホイール素子6を順に通る経路で通電
し、平滑コンデンサ8の電圧Vc8が負荷抵抗体9に供給
される。
When the switch element 2 is turned off, the energy charged in the smoothing capacitor 8 is conducted through a path passing through the smoothing choke coil 7 and the output flywheel element 6 in order, and the voltage Vc8 of the smoothing capacitor 8 is applied to the load resistor 9. Supplied.

【0007】制御回路4は、予め定められたスイッチン
グ周波数でスイッチ素子2をオンすると共に、平滑コン
デンサ8の電圧Vc8を検出し、この検出値に基づき予め
定めた出力電圧を負荷抵抗体9に供給することができる
ように、スイッチ素子2のオン期間を可変制御する構成
を有している。
The control circuit 4 turns on the switch element 2 at a predetermined switching frequency, detects the voltage Vc8 of the smoothing capacitor 8, and supplies a predetermined output voltage to the load resistor 9 based on the detected value. In this case, the ON period of the switch element 2 is variably controlled.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、トランス3
には、一次コイルN1単体の寄生容量に一次コイルN1
と二次コイルN2の間の寄生容量が加えられた寄生容量
Cpが一次コイルN1と並列に生じる。また、スイッチ
素子2のドレイン−ソース間に寄生容量Csが生じ、出
力整流素子5と出力フライホイール素子6等にも寄生容
量が生じる。図9の回路では、それら寄生容量は、スイ
ッチ素子2のオフ時に充電され、スイッチ素子2がオン
したときにその充電エネルギーを放電するという如く、
スイッチ素子2のオン・オフ動作に同期して充放電を繰
り返して行う。
By the way, the transformer 3
The primary coil N1 is connected to the parasitic capacitance of the primary coil N1 alone.
The parasitic capacitance Cp to which the parasitic capacitance between the secondary coil N2 and the secondary coil N2 is added is generated in parallel with the primary coil N1. The drain of the switching element 2 - the parasitic capacitance C s is generated between the source, the parasitic capacitance is generated in the output rectifier element 5 outputs the flywheel device 6 or the like. In the circuit of FIG. 9, the parasitic capacitances are charged when the switch element 2 is turned off, and the charge energy is discharged when the switch element 2 is turned on.
The charge and discharge are repeatedly performed in synchronization with the ON / OFF operation of the switch element 2.

【0009】上記各寄生容量がスイッチ素子2のオン時
に放電したエネルギーは損失され、次式(1)に示す短
絡損失Pshが発生する。
The energy discharged by each of the parasitic capacitances when the switching element 2 is turned on is lost, and a short-circuit loss Psh expressed by the following equation (1) occurs.

【0010】 Psh=(1/2)・C・(Vin)2・Fsw・・・・・(1)Psh = (1 /) · C · (Vin) 2 · Fsw (1)

【0011】ただし、上式(1)に示すCは上記図9の
回路に生じる各寄生容量を合計した合計容量を表し、そ
の合計寄生容量Cに対する上記トランス3の寄生容量C
pの占める割合(Cp/C)は大きいものである。また、
Vinは直流電源電圧を表し、Fswはスイッチ素子2のス
イッチング周波数である。
Here, C shown in the above equation (1) represents the total capacitance obtained by summing the respective parasitic capacitances generated in the circuit of FIG. 9, and the parasitic capacitance C of the transformer 3 with respect to the total parasitic capacitance C
The ratio occupied by p (Cp / C) is large. Also,
Vin represents the DC power supply voltage, and Fsw is the switching frequency of the switch element 2.

【0012】近年では、スイッチング電源装置の小型化
を図る観点から、スイッチ素子2のスイッチング周波数
が高周波化してきており、このスイッチ素子2のスイッ
チング周波数の高周波化に伴って上記短絡損失Pshが格
段に大きくなり、回路の電力損失が非常に多くなってし
まうという問題が生じてきた。
In recent years, the switching frequency of the switching element 2 has been increased from the viewpoint of reducing the size of the switching power supply device, and the short-circuit loss Psh has been markedly increased with the switching frequency of the switching element 2. As a result, the power loss of the circuit becomes very large.

【0013】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものであり、その目的は、トランスの寄生容量を低減
して該トランスが組み込まれる回路の電力損失の低減を
図ることができる低寄生容量トランスを提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to reduce the parasitic capacitance of a transformer and reduce the power loss of a circuit in which the transformer is incorporated. To provide a transformer.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は次のような構成をもって前記課題を解決
する手段としている。すなわち、第1の発明は、一次コ
イルと二次コイルを有し、それら各コイルはコイル導体
が1巻回以上形成されたコイル層を複数有したものから
成り、各コイル層の間に絶縁体を挟んで一次コイルと二
次コイルの各コイル層が予め定めた順に複数積層形成さ
れているトランスであって、時間的な電束密度変動が最
も大きい一次コイルのコイル層と二次コイルのコイル層
の対向領域に予め定めた低寄生容量手法が施されている
構成をもって前記課題を解決する手段としている。
Means for Solving the Problems In order to achieve the above object, the present invention has the following structure to solve the above problems. That is, the first invention has a primary coil and a secondary coil, each of which has a plurality of coil layers in which a coil conductor is formed in one or more turns, and an insulator between the coil layers. A transformer in which a plurality of coil layers of a primary coil and a secondary coil are laminated in a predetermined order with the coil layer of the primary coil and the coil of the secondary coil having the largest temporal flux density variation The above-mentioned problem is solved by a configuration in which a predetermined low-parasitic capacitance method is applied to a region facing the layer.

【0015】第2の発明は、上記第1の発明を構成する
低寄生容量手法は時間的な電束密度変動が最も大きい一
次コイルのコイル層と二次コイルのコイル層との間の絶
縁体の厚みをそれ以外のコイル層間の絶縁体の厚みより
も厚くする構成をもって前記課題を解決する手段として
いる。
According to a second aspect of the present invention, in the low parasitic capacitance method according to the first aspect of the present invention, an insulator between a coil layer of a primary coil and a coil layer of a secondary coil having the largest variation in electric flux density over time is provided. In order to solve the above-mentioned problem, the thickness is made larger than the thickness of the insulator between the other coil layers.

【0016】第3の発明は、上記第1の発明を構成する
低寄生容量手法は、時間的な電束密度変動が最も大きい
一次コイルのコイル層と二次コイルのコイル層との間の
絶縁体を、それ以外のコイル層間の絶縁体の誘電率より
も小さい誘電率の絶縁材料により形成する構成をもって
前記課題を解決する手段としている。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the low parasitic capacitance method according to the first aspect of the invention, wherein the insulation between the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil having the largest variation in electric flux density over time is provided. Means for solving the above-mentioned problem is that the body is formed of an insulating material having a dielectric constant smaller than that of the insulator between the other coil layers.

【0017】第4の発明は、上記第1の発明を構成する
低寄生容量手法は時間的な電束密度変動が最も大きい一
次コイルのコイル層と二次コイルのコイル層の対向領域
にある一次コイルのコイル導体と二次コイルのコイル導
体の対向面積を小さくする方向に各コイルのコイル導体
を互いにずらして形成する構成をもって前記課題を解決
する手段としている。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a low parasitic capacitance method according to the first aspect of the invention, wherein the primary parasitic coil located in a region opposed to the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil having the largest temporal flux density variation. Means for solving the above-mentioned problem is a configuration in which the coil conductors of the respective coils are formed so as to be shifted from each other in a direction in which the facing areas of the coil conductors of the coils and the secondary coil are reduced.

【0018】第5の発明は、上記第2と第3と第4の発
明に施されている低寄生容量手法のうち、2個以上の低
寄生容量手法を組み合わせた複合低寄生容量手法を時間
的な電束密度変動が最も大きい一次コイルのコイル層と
二次コイルのコイル層の対向領域に施す構成をもって前
記課題を解決する手段としている。
According to a fifth aspect of the present invention, a composite low parasitic capacitance method combining two or more low parasitic capacitance methods among the low parasitic capacitance methods implemented in the second, third, and fourth inventions is used. The above-mentioned problem is solved by a configuration in which the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil have the largest variation in electric flux density.

【0019】上記構成の発明において、例えば、低寄生
容量トランスは、時間的な電束密度変動が最も大きい一
次コイルのコイル層と二次コイルのコイル層との間の絶
縁体の厚みをそれ以外のコイル層間の絶縁体の厚みより
も厚くして形成される。
In the invention having the above-described structure, for example, the low parasitic capacitance transformer may be configured such that the thickness of the insulator between the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil, which has the largest fluctuation of the electric flux density over time, is other than that. Is formed thicker than the thickness of the insulator between the coil layers.

【0020】上記の如く、時間的な電束密度変動が最も
大きい一次コイルのコイル層と二次コイルのコイル層の
間の絶縁体の厚みをそれ以外のコイル層間の絶縁体の厚
みよりも厚くすることにより、時間的な電束密度変動が
最も大きい一次コイルのコイル層と二次コイルのコイル
層の間隔が広くなり、それらコイル層間の寄生容量が抑
制される。このことから、一次コイルと二次コイル間の
寄生容量が低減してトランスの総合的な寄生容量が減少
する。
As described above, the thickness of the insulator between the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil, which has the largest variation in the electric flux density over time, is greater than the thickness of the insulator between the other coil layers. By doing so, the distance between the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil, which has the largest fluctuation of the electric flux density over time, is increased, and the parasitic capacitance between the coil layers is suppressed. For this reason, the parasitic capacitance between the primary coil and the secondary coil is reduced, and the overall parasitic capacitance of the transformer is reduced.

【0021】この低寄生容量トランスを、例えば、従来
例に示した共振リセット一石フォワードコンバータに組
み込むことにより、上記低寄生容量トランスの寄生容量
の低減に起因して、スイッチ素子のオン時の短絡損失を
削減することが可能であり、共振リセット一石フォワー
ドコンバータの電力損失の低減が図れる。
By incorporating this low parasitic capacitance transformer into, for example, the resonant reset single-pole forward converter shown in the conventional example, short-circuit loss when the switch element is turned on due to the reduction of the parasitic capacitance of the low parasitic capacitance transformer is obtained. Can be reduced, and the power loss of the resonance reset one-stone forward converter can be reduced.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施形態例を
図面に基づき説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0023】図1には第1の実施形態例の低寄生容量ト
ランスの断面構造が共振リセット一石フォワードコンバ
ータに組み込まれた状態で示されている。なお、低寄生
容量トランス3以外の共振リセット一石フォワードコン
バータの構成は前記図9の構成と同様であり、図9の回
路構成と同一構成部分には同一符号を付しその重複説明
は省略する。
FIG. 1 shows a cross-sectional structure of the low parasitic capacitance transformer according to the first embodiment in a state where it is incorporated in a resonance reset monolithic forward converter. Note that the configuration of the resonance reset monolithic forward converter other than the low parasitic capacitance transformer 3 is the same as the configuration in FIG. 9 described above, and the same components as those in the circuit configuration in FIG.

【0024】図1に示されるトランス3は、一次コイル
N1と二次コイルN2とコア10と絶縁体11,12,
13を有して構成されている。同図に示すように、コア
10にコイル導体である巻線14が巻回され第1のコイ
ル層が形成され、そのコイル層の上に絶縁体である1−
2層間絶縁体11が設けられ、その1−2層間絶縁体1
1の上にさらに巻線14が巻回されて第2のコイル層が
形成され、さらにその上に絶縁体である2−3層間絶縁
体12と、巻線14が巻回された第3のコイル層と、絶
縁体である3−4層間絶縁体13と、巻線14が巻回さ
れた第4のコイル層とが上記同様に順に積層形成されて
いる。
The transformer 3 shown in FIG. 1 comprises a primary coil N1, a secondary coil N2, a core 10, insulators 11, 12,
13. As shown in FIG. 1, a winding 14 which is a coil conductor is wound around a core 10, a first coil layer is formed, and an insulator 1- is formed on the coil layer.
A two-layer insulator 11 is provided.
1, a winding 14 is further wound to form a second coil layer, a 2-3 interlayer insulator 12 as an insulator is further formed thereon, and a third coil A coil layer, a 3-4 interlayer insulator 13 which is an insulator, and a fourth coil layer around which the winding 14 is wound are sequentially formed in the same manner as described above.

【0025】上記第2のコイル層の巻線14の一端部b
と第4のコイル層の巻線14の一端部cが接続され、こ
れら第2と第4のコイル層の直列接続体により一次コイ
ルN1が形成されており、上記第2のコイル層の巻線1
4の他端部aが図1に示すA端部に接続され、つまり、
直流電源1の正極側に接続され、第4のコイル層の巻線
14の他端部dが図1に示すB端部に接続され、つま
り、スイッチ素子2のドレイン側に接続されている。
One end b of the winding 14 of the second coil layer
Is connected to one end c of the winding 14 of the fourth coil layer, and a primary coil N1 is formed by the series connection of the second and fourth coil layers. 1
4 is connected to the A end shown in FIG.
The other end d of the winding 14 of the fourth coil layer is connected to the end B shown in FIG. 1, that is, connected to the drain side of the switch element 2.

【0026】上記第1のコイル層の巻線14の一端部e
と第3のコイル層の巻線14の一端部gが接続され、ま
た、第1のコイル層の巻線14の他端部fと第3のコイ
ル層の巻線14の他端部hが接続され、これら第1と第
3のコイル層の並列接続体により二次コイルN2が形成
されており、上記第1のコイル層の巻線端部eと第3の
コイル層の巻線端部gの接続部が図1に示すC端部(出
力フライホイール素子6のカソード側)に接続され、前
記第1のコイル層の巻線端部fと第3のコイル層の巻線
端部hの接続部が図1に示すD端部(出力整流素子5の
カソード側)に接続されている。
One end e of the winding 14 of the first coil layer
Is connected to one end g of the winding 14 of the third coil layer, and the other end f of the winding 14 of the first coil layer and the other end h of the winding 14 of the third coil layer. The secondary coil N2 is formed by the parallel connection of the first and third coil layers, and the winding end e of the first coil layer and the winding end of the third coil layer are formed. g is connected to the end C (the cathode side of the output flywheel element 6) shown in FIG. 1 and the winding end f of the first coil layer and the winding end h of the third coil layer. Is connected to the D end (the cathode side of the output rectifying element 5) shown in FIG.

【0027】この実施形態例では、第1〜第4の各コイ
ル層には巻線がそれぞれ10巻回ずつ巻かれており、第
2と第4のコイル層は直列に接続されて一次コイルN1
を構成しているので、一次コイルN1の巻数は20巻回
(20T)となり、一方、第1と第3のコイル層は並列
に接続されて二次コイルN2を構成しているので、二次
コイルN2の巻数は10Tとなり、一次コイルN1と二
次コイルN2の巻数比は2:1となっている。
In this embodiment, ten windings are wound on each of the first to fourth coil layers, and the second and fourth coil layers are connected in series to form the primary coil N1.
, The number of turns of the primary coil N1 is 20 turns (20T). On the other hand, the first and third coil layers are connected in parallel to form the secondary coil N2. The number of turns of the coil N2 is 10T, and the ratio of the number of turns between the primary coil N1 and the secondary coil N2 is 2: 1.

【0028】この実施形態例では、巻数が多い方の一次
コイルN1のコイル層が最外層となるように形成され、
その最外層のコイル層の巻き終わり端dがスイッチ素子
2のドレイン側に接続されている。
In this embodiment, the coil layer of the primary coil N1 having the larger number of turns is formed so as to be the outermost layer.
The winding end d of the outermost coil layer is connected to the drain side of the switch element 2.

【0029】ところで、図2の(b)に示すように、一
次コイルN1のA端部側の電圧はスイッチ素子2がオン
・オフ動作しても変動しないが、一次コイルN1のA端
部側からB端部側に向かうにしたがって、スイッチ素子
2のオフ時に、図2の(c)や(d)に示すように、電
圧が変動し始め、その変動幅(スイッチ素子2のオン時
の電圧に対する変動幅)は一次コイルN1のA端部側か
らB端部側に向かうにしたがって大きくなる。
As shown in FIG. 2B, the voltage at the A end of the primary coil N1 does not fluctuate even when the switch element 2 is turned on and off, but the voltage at the A end of the primary coil N1 is not changed. When the switch element 2 is turned off, the voltage starts to fluctuate as shown in FIGS. 2C and 2D, and the fluctuation width (the voltage when the switch element 2 is on). Of the primary coil N1 increases from the end A to the end B of the primary coil N1.

【0030】また、他方の二次コイルN2側も、図2の
(e)に示すように、C端部側の電圧はスイッチ素子2
がオン・オフ動作しても変動しないが、二次コイルN2
のC端部側からD端部側に向かうにしたがって、スイッ
チ素子2のオフ時に、図2の(f)に示すように、電圧
が変動し始め、その変動幅は二次コイルN2のC端部側
からD端部側に向かうにしたがって大きくなる。
As shown in FIG. 2E, the voltage on the other end of the secondary coil N2 is also switched to the switch element 2 as shown in FIG.
Does not fluctuate even if the secondary coil N2
As the switch element 2 is turned off, the voltage starts to fluctuate as shown in FIG. 2 (f) from the C end to the D end of the secondary coil N2. It becomes larger as going from the part side to the D end part side.

【0031】上記一次コイルN1で最も電圧変動が大き
いB端部側の電圧変動幅は、一次コイルN1と二次コイ
ルN2の巻数比が2:1であることから、二次コイルN
2で最も電圧変動が大きいD端部側の電圧変動幅の2倍
となる。
The voltage fluctuation width of the primary coil N1 at the end B where the voltage fluctuation is the largest is the secondary coil N1 since the turn ratio between the primary coil N1 and the secondary coil N2 is 2: 1.
2 is twice as large as the voltage fluctuation width on the D end side where the voltage fluctuation is the largest.

【0032】上記のように、コイル巻線14に通電する
電圧が変動すると、その電圧変動に起因して巻線14か
ら発生している電束の密度が変動し、その時間的な電束
密度の変動量は巻線14に通電している電圧の時間的な
変動量が大きくなるにしたがって大きくなる。このこと
から、この実施形態例では、スイッチ素子2のオフ時の
電圧変動幅が最も大きい一次コイルN1のB端部側で最
も時間的な電束密度変動が大きくなる。
As described above, when the voltage applied to the coil winding 14 fluctuates, the density of the electric flux generated from the winding 14 fluctuates due to the voltage fluctuation. Becomes greater as the temporal variation of the voltage applied to the winding 14 increases. For this reason, in this embodiment, the temporal change in the electric flux density is the largest on the B end side of the primary coil N1 having the largest voltage fluctuation range when the switch element 2 is turned off.

【0033】すなわち、このトランス3において、時間
的な電束密度変動が最も大きい一次コイルN1のコイル
層と二次コイルN2のコイル層間の絶縁体は、3−4層
間絶縁体13となる。
That is, in the transformer 3, the insulator between the coil layer of the primary coil N 1 and the coil layer of the secondary coil N 2 having the largest variation of the electric flux density over time is the 3-4 interlayer insulator 13.

【0034】この実施形態例では、上記3−4層間絶縁
体13に次に示すような低寄生容量手法を施した。その
低寄生容量手法とは、3−4層間絶縁体13の厚みを他
の絶縁体11,12の厚みよりも厚くしたことである。
In this embodiment, the following low parasitic capacitance method is applied to the 3-4 interlayer insulator 13. The low parasitic capacitance method is that the thickness of the 3-4 interlayer insulator 13 is larger than the thicknesses of the other insulators 11 and 12.

【0035】このように、3−4層間絶縁体13の厚み
を厚くすることにより、第3のコイル層(二次コイルN
2)と第4のコイル層(一次コイルN1)の間隔が広く
なり、このことにより、第3と第4のコイル層間の寄生
容量が低減する。つまり、一次コイルN1と二次コイル
N2の間に生じる寄生容量が低減し、トランス3の総合
的な寄生容量Cpが低減できる。このことから、この実
施形態例の低容量トランスを図1に示す共振リセット一
石フォワードコンバータに組み込むことにより、上記ト
ランス3の寄生容量Cpの低減に起因して、共振リセッ
ト一石フォワードコンバータのスイッチ素子2のオン時
の短絡損失Pshを低減させることが可能である。
As described above, by increasing the thickness of the 3-4 interlayer insulator 13, the third coil layer (secondary coil N
The distance between 2) and the fourth coil layer (primary coil N1) is increased, which reduces the parasitic capacitance between the third and fourth coil layers. That is, the parasitic capacitance generated between the primary coil N1 and the secondary coil N2 is reduced, and the overall parasitic capacitance Cp of the transformer 3 can be reduced. For this reason, by incorporating the low-capacity transformer of this embodiment into the resonance reset single-switch forward converter shown in FIG. 1, the switching element 2 of the resonance reset single-switch forward converter is reduced due to the reduction of the parasitic capacitance Cp of the transformer 3. It is possible to reduce the short-circuit loss Psh at the time of ON.

【0036】この実施形態例によれば、時間的な電束密
度変動が最も大きい3−4層間絶縁体13の厚みをそれ
以外の絶縁体11,12の厚みよりも厚くしたので、一
次コイルN1の第4のコイル層と二次コイルN2の第3
のコイル層の間隔が広がり、上記第3と第4のコイル層
間の寄生容量を小さくすることができてトランス3の寄
生容量Cpを小さくすることができる。このことから、
この実施形態例の低寄生容量トランス3を用いることに
より、図1に示す共振リセット一石フォワードコンバー
タでは、スイッチ素子2のオン時に放電損失されるエネ
ルギーが低減し、すなわち、スイッチ素子2のオン時の
短絡損失Pshを削減することが可能となり、回路の電力
損失を低減することができる。
According to this embodiment, since the thickness of the 3-4 interlayer insulator 13 having the largest variation in the electric flux density over time is made larger than the thicknesses of the other insulators 11 and 12, the primary coil N1 And the third coil layer of the secondary coil N2
, The parasitic capacitance between the third and fourth coil layers can be reduced, and the parasitic capacitance Cp of the transformer 3 can be reduced. From this,
By using the low parasitic capacitance transformer 3 of this embodiment, in the resonance-reset one-switch forward converter shown in FIG. 1, the energy that is discharged and lost when the switch element 2 is turned on is reduced, that is, when the switch element 2 is turned on. Short-circuit loss Psh can be reduced, and power loss in the circuit can be reduced.

【0037】また、この実施形態例では、3−4層間絶
縁体13の厚みだけを厚くしているので、全ての絶縁体
11,12,13の厚みを厚くする場合よりもトランス
3の大型化を防止することができる。さらに、上記の如
く、全ての絶縁体11,12,13の厚みを厚くする
と、一次コイルN1と二次コイルN2の電磁結合度が低
下するという問題が生じてしまうが、この実施形態例の
ように、時間的な電束密度変動が最も大きい一次コイル
N1のコイル層と二次コイルN2のコイル層の間の絶縁
体(3−4層間絶縁体13)の厚みだけを厚くすること
により、一次コイルN1と二次コイルN2の電磁結合度
の低下を、全ての絶縁体11,12,13の厚みを厚く
する場合に比べて、回避することが可能である。
In this embodiment, since only the thickness of the 3-4 interlayer insulator 13 is increased, the size of the transformer 3 is increased as compared with the case where the thickness of all the insulators 11, 12, 13 is increased. Can be prevented. Further, as described above, when the thicknesses of all the insulators 11, 12, and 13 are increased, a problem that the degree of electromagnetic coupling between the primary coil N1 and the secondary coil N2 is reduced occurs, but as in this embodiment. In addition, by increasing only the thickness of the insulator (3-4 interlayer insulator 13) between the coil layer of the primary coil N1 and the coil layer of the secondary coil N2 having the largest variation in the electric flux density over time, the primary A decrease in the degree of electromagnetic coupling between the coil N1 and the secondary coil N2 can be avoided as compared with a case where the thicknesses of all the insulators 11, 12, 13 are increased.

【0038】さらに、この実施形態例では、3−4層間
絶縁体13の厚みだけを厚くしているので、絶縁体を形
成する絶縁材料の増加は僅かであり、材料コストの大幅
な増加はなく、低コストで前記のような優れた効果を示
す低寄生容量トランス3を提供することが可能である。
Further, in this embodiment, since only the thickness of the 3-4 interlayer insulator 13 is increased, the amount of insulating material forming the insulator is slightly increased, and the material cost is not greatly increased. It is possible to provide the low parasitic capacitance transformer 3 which exhibits the above-described excellent effects at low cost.

【0039】以下に、第2の実施形態例を説明する。図
3には第2の実施形態例の低寄生容量トランスの断面構
造が示されている。このトランス3はコイル導体である
コイルパターンが平面状に巻回形成された第1〜第4の
コイル層が各コイル層の間に絶縁体11,12,13を
挟んで積層形成されたものである。
Hereinafter, a second embodiment will be described. FIG. 3 shows a cross-sectional structure of a low parasitic capacitance transformer according to the second embodiment. The transformer 3 is formed by laminating first to fourth coil layers each formed by winding a coil pattern as a coil conductor in a planar shape with insulators 11, 12, and 13 interposed between the coil layers. is there.

【0040】この実施形態例では、第1のコイル層に1
巻回のコイルパターン15が形成され、第2のコイル層
に5巻回のコイルパターン15が形成され、第3のコイ
ル層には2巻回のコイルパターンが形成され、第4のコ
イル層に4巻回のコイルパターン15が形成されてい
る。
In this embodiment, the first coil layer has 1
A wound coil pattern 15 is formed, a five-turn coil pattern 15 is formed on the second coil layer, a two-turn coil pattern is formed on the third coil layer, and a fourth coil layer is formed on the fourth coil layer. Four turns of the coil pattern 15 are formed.

【0041】上記第1のコイル層のコイルパターン15
の一端部(中心側端部)と第3のコイル層のコイルパタ
ーン15の一端部(中心側端部)は接続され、これら第
1と第3のコイル層により二次コイルN2が構成されて
いる。また、第2のコイル層のコイルパターン15の一
端部(中心側端部)と第4のコイル層のコイルパターン
15の一端部(中心側端部)が接続され、これら第2と
第4のコイル層により一次コイルN1が構成されてお
り、一次コイルN1の巻数は9Tで、二次コイルN2の
巻数は3Tであり、一次コイルN1と二次コイルN2の
巻数比は3:1である。
The coil pattern 15 of the first coil layer
Is connected to one end (center end) of the coil pattern 15 of the third coil layer, and the first and third coil layers constitute a secondary coil N2. I have. One end (center end) of the coil pattern 15 of the second coil layer is connected to one end (center end) of the coil pattern 15 of the fourth coil layer. The primary coil N1 is constituted by the coil layers. The number of turns of the primary coil N1 is 9T, the number of turns of the secondary coil N2 is 3T, and the turn ratio of the primary coil N1 to the secondary coil N2 is 3: 1.

【0042】上記第1のコイル層のコイルパターンの端
部側端部を図1に示すC端部に接続し、第2のコイル層
のコイルパターンの端部側端部を図1に示すA端部に接
続し、第3のコイル層のコイルパターンの端部側端部を
図1に示すD端部に接続し、第4のコイル層のコイルパ
ターンの端部側端部を図1に示すB端部に接続すること
により、図3のトランスを図1に示す共振リセット一石
フォワードコンバータに組み込むことができる。
The end of the coil pattern of the first coil layer on the end side is connected to the C end shown in FIG. 1, and the end of the coil pattern of the second coil layer on the side of A shown in FIG. The end of the coil pattern of the third coil layer is connected to the D end shown in FIG. 1, and the end of the coil pattern of the fourth coil layer is shown in FIG. By connecting to the B end shown, the transformer of FIG. 3 can be incorporated into the resonant reset single-piece forward converter shown in FIG.

【0043】この実施形態例では、上記の如く、一次コ
イルN1が二次コイルN2よりも巻数が多く、巻数が多
い方の一次コイルN1のコイル層が最上層になるように
形成されており、その最上層になった一次コイルN1の
コイル層の端部側端部が図1のスイッチ素子2のドレイ
ン側に接続する構成になっている。
In this embodiment, as described above, the primary coil N1 has a larger number of turns than the secondary coil N2, and is formed such that the coil layer of the primary coil N1 having the larger number of turns is the uppermost layer. The end of the coil layer of the primary coil N1, which is the uppermost layer, is connected to the drain side of the switch element 2 in FIG.

【0044】また、前記第1の実施形態例で述べたよう
に、一次コイルN1のA端部側からB端部側に向かうに
したがって電圧の変動幅が大きくなり、また、二次コイ
ルN2のC端部側からD端部側に向かうにしたがって電
圧の変動幅が大きくなり、電圧変動に応じて電束密度が
変動することから、図3のトランスでは、時間的な電束
密度変動が最も大きい一次コイルN1のコイル層と二次
コイルN2のコイル層の間の絶縁体は3−4層間絶縁体
13となり、この実施形態例では、3−4層間絶縁体1
3に次に示すような低寄生容量手法が施されている。
Further, as described in the first embodiment, the fluctuation range of the voltage increases from the end A to the end B of the primary coil N1, and the voltage of the secondary coil N2 increases. Since the fluctuation range of the voltage increases from the C end side to the D end side, and the electric flux density fluctuates according to the voltage fluctuation, in the transformer shown in FIG. The insulator between the coil layer of the large primary coil N1 and the coil layer of the secondary coil N2 is the 3-4 interlayer insulator 13, and in this embodiment, the 3-4 interlayer insulator 1
No. 3 employs a low parasitic capacitance method as described below.

【0045】上記低寄生容量手法とは、3−4層間絶縁
体13の厚みを他の絶縁体11,12の厚みよりも厚く
したことである。このように、3−4層間絶縁体13の
厚みを厚くすることにより、第3と第4のコイル層間の
間隔が広くなり、第3と第4のコイル層間の寄生容量が
小さくなる。すなわち、一次コイルN1と二次コイルN
2の間の寄生容量が小さくなり、トランス3の寄生容量
Cpを低減することが可能である。
The above-mentioned low parasitic capacitance method is that the thickness of the 3-4 interlayer insulator 13 is made larger than the thicknesses of the other insulators 11 and 12. As described above, by increasing the thickness of the 3-4 interlayer insulator 13, the distance between the third and fourth coil layers is increased, and the parasitic capacitance between the third and fourth coil layers is reduced. That is, the primary coil N1 and the secondary coil N
The parasitic capacitance between the transformers 3 becomes smaller, and the parasitic capacitance Cp of the transformer 3 can be reduced.

【0046】この実施形態例によれば、3−4層間絶縁
体13の厚みを他の絶縁体11,12の厚みよりも厚く
したので、前記第1の実施形態例同様に、トランス3の
寄生容量Cpを低減することができる。このことから、
この実施形態例の低寄生容量トランス3を図1に示す回
路に組み込むことにより、前記第1の実施形態例に述べ
たように、スイッチ素子2のオン時に生じる短絡損失P
shを低減することができ、回路の電力損失を削減するこ
とが可能である。
According to this embodiment, since the thickness of the 3-4 interlayer insulator 13 is made larger than the thicknesses of the other insulators 11 and 12, the parasitic capacitance of the transformer 3 is the same as in the first embodiment. The capacitance Cp can be reduced. From this,
By incorporating the low parasitic capacitance transformer 3 of this embodiment in the circuit shown in FIG. 1, as described in the first embodiment, the short-circuit loss P
sh can be reduced, and power loss of the circuit can be reduced.

【0047】また、3−4層間絶縁体13の厚みだけを
厚くしているので、全ての絶縁体11,12,13の厚
みを厚くする場合よりも、トランス3の大型化を防止す
ることができる。さらに、上記の如く、3−4層間絶縁
体13の厚みだけを厚くしているので、全ての絶縁体1
1,12,13の厚みを厚くする場合よりも、一次コイ
ルN1と二次コイルN2の電磁結合度の低下を回避する
ことが可能である。
Also, since only the thickness of the 3-4 interlayer insulator 13 is increased, it is possible to prevent the transformer 3 from increasing in size as compared with the case where the thicknesses of all the insulators 11, 12, 13 are increased. it can. Furthermore, since only the thickness of the 3-4 interlayer insulator 13 is increased as described above, all the insulators 1
It is possible to avoid a decrease in the degree of electromagnetic coupling between the primary coil N1 and the secondary coil N2 as compared with a case where the thicknesses of the coils 1, 12, and 13 are increased.

【0048】以下に、第3の実施形態例を説明する。図
4には第3の実施形態例の低寄生容量トランスの断面構
造が示されている。このトランス3はコイルパターン1
5が平面状に巻回形成されている第1〜第8のコイル層
が各コイル層間に絶縁体16を挟んで積層形成され、そ
の積層体にコア10が装着されたものである。
Hereinafter, a third embodiment will be described. FIG. 4 shows a cross-sectional structure of a low parasitic capacitance transformer according to the third embodiment. This transformer 3 has a coil pattern 1
The first to eighth coil layers 5 are wound in a plane, and are laminated with an insulator 16 interposed between the coil layers, and a core 10 is mounted on the laminated body.

【0049】この実施形態例では、第1〜第8の各コイ
ル層に図4の下側から順に1巻回、1巻回、2巻回、2
巻回、1巻回、1巻回、2巻回、2巻回のコイルパター
ン15がそれぞれ形成されている。上記第1と第2の各
コイル層のコイルパターン15の中心側端部同士が接続
され、また、第1と第2の各コイル層のコイルパターン
15の端部側端部同士が接続され、同様に、第5と第6
の各コイル層のコイルパターン15の中心側端部同士が
接続され、第5と第6の各コイル層のコイルパターン1
5の端部側端部同士が接続されている。
In this embodiment, one turn, one turn, two turns, two turns,
The coil pattern 15 of one winding, one winding, one winding, two windings, and two windings is formed. The center-side ends of the coil patterns 15 of the first and second coil layers are connected to each other, and the end-side ends of the coil patterns 15 of the first and second coil layers are connected to each other. Similarly, the fifth and sixth
Of the coil patterns 15 of the respective coil layers are connected to each other, and the coil patterns 1 of the fifth and sixth coil layers are connected to each other.
5 are connected to each other.

【0050】さらに、上記第1と第2のコイル層のコイ
ルパターン15の中心側接続部と第5と第6のコイル層
のコイルパターン15の中心側接続部が接続されてお
り、上記第1と第2と第5と第6のコイル層により二次
コイルN2が構成され、この二次コイルN2の巻数は2
Tである。
Further, the center connection portions of the coil patterns 15 of the first and second coil layers and the center connection portions of the coil patterns 15 of the fifth and sixth coil layers are connected. , The second, the fifth and the sixth coil layers constitute a secondary coil N2, and the number of turns of the secondary coil N2 is 2
T.

【0051】また、第3と第4の各コイル層のコイルパ
ターン15の中心側端部同士が接続され、同様に、第7
と第8の各コイル層のコイルパターン15の中心側端部
同士が接続されており、第4のコイル層のコイルパター
ン15の端部側端部と第7のコイル層のコイルパターン
15の端部側端部が接続されている。上記第3と第4と
第7と第8のコイル層により一次コイルN1が構成さ
れ、一次コイルN1の巻数は8Tである。
The ends of the coil patterns 15 on the center side of the third and fourth coil layers are connected to each other.
And the end of the coil pattern 15 of the eighth coil layer on the center side is connected to the end of the coil pattern 15 of the fourth coil layer and the end of the coil pattern 15 of the seventh coil layer. The part side end is connected. The third, fourth, seventh and eighth coil layers constitute a primary coil N1, and the number of turns of the primary coil N1 is 8T.

【0052】上記第1と第2のコイル層(二次コイルN
2)のコイルパターン15の端部側接続部が図1に示す
C端部に接続され、第3のコイル層(一次コイルN1)
のコイルパターン15の端部側端部が図1に示すA端部
に接続され、第5と第6のコイル層(二次コイルN2)
のコイルパターン15の端部側接続部が図1に示すD端
部に接続され、第8のコイル層(一次コイルN1)のコ
イルパターン15の端部側端部が図1に示すB端部に接
続されて図1の共振リセット一石フォワードコンバータ
に図4のトランス3が組み込まれる。
The first and second coil layers (secondary coil N
The end side connection part of the coil pattern 15 of 2) is connected to the C end shown in FIG. 1, and the third coil layer (primary coil N1)
The end of the coil pattern 15 is connected to the end A shown in FIG. 1 and the fifth and sixth coil layers (secondary coil N2)
1 is connected to the D end shown in FIG. 1, and the end of the coil pattern 15 of the eighth coil layer (primary coil N1) is the B end shown in FIG. And the transformer 3 of FIG. 4 is incorporated in the resonance reset one-stone forward converter of FIG.

【0053】前記の如く、この実施形態例では、一次コ
イルN1の巻数は二次コイルN2の巻数よりも多く、巻
数が多い方の一次コイルN1のコイル層が最上層になる
ように構成され、その最上層になった一次コイルN1の
第8のコイル層の巻き終わり端が図1のスイッチ素子2
のドレイン側に接続される。
As described above, in this embodiment, the number of turns of the primary coil N1 is larger than the number of turns of the secondary coil N2, and the coil layer of the primary coil N1 having the larger number of turns is the uppermost layer. The winding end of the eighth coil layer of the primary coil N1 which is the uppermost layer is the switch element 2 of FIG.
Connected to the drain side.

【0054】また、前記第1の実施形態例で述べたよう
に、一次コイルN1のA端部側からB端部側に向かうに
したがって電圧の変動幅が大きくなり、また、二次コイ
ルN2のC端部側からD端部側に向かうにしたがって電
圧の変動幅が大きくなり、電圧変動幅に応じて電束密度
が変動することから、この実施形態例では、時間的な電
束密度変動が最も大きい一次コイルN1のコイル層と二
次コイルN2のコイル層間の絶縁体は、第6と第7のコ
イル層間の絶縁体である。この実施形態例では、上記第
6と第7のコイル層間の絶縁体16に前記各実施形態例
同様の低寄生容量手法を施した。
Further, as described in the first embodiment, the fluctuation range of the voltage increases from the end A to the end B of the primary coil N1. Since the fluctuation range of the voltage increases from the C end side to the D end side, and the electric flux density fluctuates according to the voltage fluctuation width, in this embodiment, the temporal electric flux density fluctuation The insulator between the coil layer of the largest primary coil N1 and the coil layer of the secondary coil N2 is the insulator between the sixth and seventh coil layers. In this embodiment, the same low-parasitic-capacity method as that of the above-described embodiments is applied to the insulator 16 between the sixth and seventh coil layers.

【0055】すなわち、第6と第7のコイル層間の絶縁
体16の厚みを他のコイル層間の絶縁体16の厚みより
も厚く形成した。このように、第6と第7のコイル層間
の絶縁体16の厚みを厚くすることにより、第6と第7
のコイル層間の間隔が広くなり、第6と第7のコイル層
間の寄生容量を低減できる。このことにより、一次コイ
ルN1と二次コイルN2の間の寄生容量が削減でき、ト
ランス3の寄生容量Cpを低減することが可能である。
That is, the thickness of the insulator 16 between the sixth and seventh coil layers was formed larger than the thickness of the insulator 16 between the other coil layers. As described above, by increasing the thickness of the insulator 16 between the sixth and seventh coil layers, the sixth and seventh coil layers are formed.
The distance between the coil layers is widened, and the parasitic capacitance between the sixth and seventh coil layers can be reduced. As a result, the parasitic capacitance between the primary coil N1 and the secondary coil N2 can be reduced, and the parasitic capacitance Cp of the transformer 3 can be reduced.

【0056】この実施形態例によれば、時間的な電束密
度変動が最も大きい一次コイルN1の第7のコイル層と
二次コイルN2の第6のコイル層の間の絶縁体16の厚
みをそれ以外のコイル層間の厚みよりも厚くしたので、
前記各実施形態例同様に、一次コイルN1と二次コイル
N2の間の寄生容量を低減でき、トランス3の寄生容量
Cpを削減することができる。このことから、この実施
形態例の低寄生容量トランス3を図1に示す回路に組み
込んだ場合に、スイッチ素子2のオン時に生じる短絡損
失Pshを削減することができ、回路の電力損失を削減で
きる。
According to this embodiment, the thickness of the insulator 16 between the seventh coil layer of the primary coil N1 and the sixth coil layer of the secondary coil N2 having the largest variation in the electric flux density over time is reduced. Since it was thicker than the other coil layers,
As in the above embodiments, the parasitic capacitance between the primary coil N1 and the secondary coil N2 can be reduced, and the parasitic capacitance Cp of the transformer 3 can be reduced. Accordingly, when the low parasitic capacitance transformer 3 of this embodiment is incorporated in the circuit shown in FIG. 1, the short-circuit loss Psh generated when the switch element 2 is turned on can be reduced, and the power loss of the circuit can be reduced. .

【0057】また、第6と第7のコイル層間の絶縁体1
6の厚みだけを厚くしたので、全てのコイル層間の絶縁
体16の厚みを厚くする場合に比べて、トランス3の大
型化を防止でき、また、一次コイルN1と二次コイルN
2間の電磁結合度の低下を防止することが可能である。
The insulator 1 between the sixth and seventh coil layers
6, the transformer 3 can be prevented from increasing in size as compared with a case where the thickness of the insulator 16 between all coil layers is increased, and the primary coil N1 and the secondary coil N
It is possible to prevent a decrease in the degree of electromagnetic coupling between the two.

【0058】以下に、第4の実施形態例を説明する。こ
の実施形態例が前記各実施形態例と異なる特徴的なこと
は、時間的な電束密度の変動が最も大きい一次コイルN
1のコイル層と二次コイルN2のコイル層間の絶縁体を
他の絶縁体の厚みよりも厚く形成するのではなく、時間
的な電束密度の変動が最も大きい一次コイルN1のコイ
ル層と二次コイルN2のコイル層間の絶縁体を他の絶縁
体の誘電率よりも小さい誘電率の絶縁材料で形成する低
寄生容量手法を施す構成にしたことである。それ以外の
構成は前記各実施形態例と同様であり、その重複説明は
省略する。
Hereinafter, a fourth embodiment will be described. This embodiment is different from the above-described embodiments in that the primary coil N having the largest variation in the electric flux density over time.
The insulator between the coil layer of the first coil N1 and the coil layer of the secondary coil N2 is not formed to be thicker than the other insulators. The configuration is such that the insulator between the coil layers of the next coil N2 is formed of an insulating material having a dielectric constant smaller than the dielectric constant of the other insulator and a low parasitic capacitance method is applied. The other configurations are the same as those of the above-described embodiments, and the description thereof will not be repeated.

【0059】この実施形態例によれば、時間的な電束密
度変動が最も大きい一次コイルN1のコイル層と二次コ
イルN2のコイル層の間の絶縁体をそれ以外のコイル層
間の絶縁体の誘電率よりも小さい誘電率の絶縁材料で形
成したので、その時間的な電束密度変動が最も大きい一
次コイルN1のコイル層と二次コイルN2のコイル層間
の寄生容量を小さくすることができる。このことから、
一次コイルN1と二次コイルN2間の寄生容量が低減
し、トランス3の寄生容量Cpを削減できる。
According to this embodiment, the insulator between the coil layer of the primary coil N1 and the coil layer of the secondary coil N2, which has the largest temporal change in the electric flux density, is used as the insulator between the other coil layers. Since it is formed of an insulating material having a dielectric constant smaller than the dielectric constant, it is possible to reduce the parasitic capacitance between the coil layers of the primary coil N1 and the secondary coil N2, which have the largest temporal flux density variation. From this,
The parasitic capacitance between the primary coil N1 and the secondary coil N2 is reduced, and the parasitic capacitance Cp of the transformer 3 can be reduced.

【0060】したがって、前記各実施形態例同様に、こ
の実施形態例の低寄生容量トランスを図1に示す回路に
組み込むことにより、スイッチ素子2のオン時に放電損
失されるエネルギーが低減し、スイッチ素子2のオン時
の短絡損失Pshを削減することが可能である。
Therefore, as in each of the above embodiments, by incorporating the low-parasitic capacitance transformer of this embodiment into the circuit shown in FIG. 1, the energy that is discharged and lost when the switch element 2 is turned on is reduced. 2 can reduce the short-circuit loss Psh at the time of ON.

【0061】以下に、第5の実施形態例を説明する。こ
の実施形態例において特徴的なことは、時間的な電束密
度の変動が最も大きい一次コイルN1のコイル層と二次
コイルN2のコイル層間の対向領域にある一次コイルN
1のコイル導体と二次コイルN2のコイル導体の対向面
積を小さくする方向に、図5のコイルパターン15aと
15bに示すように、一次コイルN1と二次コイルN2
の各コイル導体を互いにずらして形成する低寄生容量手
法を施す構成にしたことである。それ以外の構成は前記
各実施形態例同様であり、その重複説明は省略する。
Hereinafter, a fifth embodiment will be described. What is characteristic in this embodiment is that the primary coil N in the opposing region between the coil layer of the primary coil N1 and the coil layer of the secondary coil N2, which has the largest variation in the electric flux density over time.
As shown in the coil patterns 15a and 15b of FIG.
In this case, the configuration is such that a low parasitic capacitance method is employed in which the respective coil conductors are formed shifted from each other. Other configurations are the same as those of the above-described embodiments, and the description thereof will not be repeated.

【0062】この実施形態例によれば、時間的な電束密
度変動が最も大きい一次コイルN1のコイル層と二次コ
イルN2のコイル層間の対向領域にある一次コイルN1
のコイル導体と二次コイルN2のコイル導体の対向面積
を小さくする方向に各コイルのコイル導体を互いにずら
す構成にしたので、一次コイルN1と二次コイルN2の
コイル導体の対向面積が減少し、その形成位置をずらし
たコイル導体間の寄生容量を低減することができ、この
ことより、一次コイルN1と二次コイルN2間の寄生容
量を低減することができる。
According to this embodiment, the primary coil N1 located in the opposing area between the coil layer of the primary coil N1 and the coil layer of the secondary coil N2 having the largest variation in the electric flux density over time.
Since the coil conductors of the respective coils are shifted from each other in a direction to reduce the facing area of the coil conductor of the secondary coil N2 and the coil conductor of the secondary coil N2, the facing area of the coil conductors of the primary coil N1 and the secondary coil N2 is reduced, It is possible to reduce the parasitic capacitance between the coil conductors whose formation positions are shifted, thereby reducing the parasitic capacitance between the primary coil N1 and the secondary coil N2.

【0063】上記のことから、前記各実施形態例同様
に、トランス3の寄生容量Cpが削減でき、この実施形
態例の低寄生容量トランス3を図1の回路に組み込むこ
とにより、スイッチ素子2のオン時の短絡損失Pshを低
減することが可能である。
As described above, the parasitic capacitance Cp of the transformer 3 can be reduced in the same manner as in each of the above embodiments. By incorporating the low parasitic capacitance transformer 3 of this embodiment into the circuit of FIG. It is possible to reduce the short-circuit loss Psh at the time of ON.

【0064】なお、本発明は上記各実施形態例に限定さ
れるものではなく、様々な形態を採り得る。例えば、上
記各実施形態例では、一次コイルN1の巻数が二次コイ
ルN2の巻数よりも多かったが、本発明は、もちろん、
二次コイルN2の巻数が一次コイルN1の巻数よりも多
いトランスにも適用することができる。
The present invention is not limited to the above embodiments, but can take various forms. For example, in each of the above embodiments, the number of turns of the primary coil N1 is larger than the number of turns of the secondary coil N2.
The present invention can also be applied to a transformer in which the number of turns of the secondary coil N2 is larger than the number of turns of the primary coil N1.

【0065】また、上記各実施形態例では、図1に示す
出力整流素子5と出力フライホイール素子6のアノード
同士が接続されるアノードコモン接続タイプの共振リセ
ット一石フォワードコンバータにトランス3を組み込む
例を示したが、図6に示すように、出力整流素子5と出
力フライホイール素子6のカソード同士が接続されるカ
ソードコモン接続タイプの共振リセット一石フォワード
コンバータに組み込んでもよい。この場合にも、前記各
実施形態例同様に、トランス3を組み込むことにより、
スイッチ素子2のオン時の短絡損失Pshを削減すること
ができる。さらに、図7や図8に示すようなフライバッ
クコンバータに組み込んでもよく、上記同様に、優れた
効果を奏することができる。
In each of the above embodiments, the transformer 3 is incorporated in an anode common connection type resonance reset one-stone forward converter in which the anodes of the output rectifying element 5 and the output flywheel element 6 shown in FIG. 1 are connected to each other. Although shown, as shown in FIG. 6, the output rectifying element 5 and the output flywheel element 6 may be incorporated in a cathode common connection type resonance reset monolithic forward converter in which the cathodes are connected to each other. Also in this case, by incorporating the transformer 3 as in each of the above-described embodiments,
The short-circuit loss Psh when the switch element 2 is turned on can be reduced. Further, it may be incorporated in a flyback converter as shown in FIG. 7 or FIG. 8, and excellent effects can be obtained as described above.

【0066】さらに、上記各実施形態例で示した低寄生
容量手法を2個以上組み合わせた低寄生容量手法を、時
間的な電束密度変動が最も大きい一次コイルN1のコイ
ル層と二次コイルN2のコイル層の対向領域に施しても
よい。
Further, the low parasitic capacitance method combining two or more low parasitic capacitance methods described in the above embodiments is combined with the coil layer of the primary coil N1 and the secondary coil N2 having the largest temporal flux density variation. May be applied to the facing region of the coil layer.

【0067】例えば、時間的な電束密度変動が最も大き
い一次コイルN1のコイル層と二次コイルN2のコイル
層の間の絶縁体の厚みをそれ以外の絶縁体の厚みよりも
厚くすると共に、その時間的な電束密度変動が最も大き
い一次コイルN1のコイル層と二次コイルN2のコイル
層の間の絶縁体をそれ以外の絶縁体の誘電率よりも小さ
い誘電率の絶縁材料で形成するようにしてもよい。この
ように、複数の低寄生容量手法を組み合わせることによ
り、より一層一次コイルN1と二次コイルN2間の寄生
容量の低減を図ることができる。
For example, the thickness of the insulator between the coil layer of the primary coil N1 and the coil layer of the secondary coil N2 having the largest variation in the electric flux density with time is made larger than the thickness of the other insulators. An insulator between the coil layer of the primary coil N1 and the coil layer of the secondary coil N2, which has the largest variation in electric flux density over time, is formed of an insulating material having a dielectric constant smaller than that of the other insulators. You may do so. In this way, by combining a plurality of low parasitic capacitance methods, it is possible to further reduce the parasitic capacitance between the primary coil N1 and the secondary coil N2.

【0068】[0068]

【発明の効果】この発明によれば、時間的な電束密度変
動が最も大きい一次コイルのコイル層と二次コイルのコ
イル層の対向領域に予め定めた低寄生容量手法を施す構
成にしたので、上記低寄生容量手法が施された一次コイ
ルのコイル層と二次コイルのコイル層の間の寄生容量が
低減し、一次コイルと二次コイルの間の寄生容量を削減
することができる。このことから、トランスの総合的な
寄生容量が削減され、このトランスをスイッチング電源
装置等の回路に組み込むことにより、スイッチ素子のス
イッチング動作に起因して放電損失されるエネルギーを
低減でき、回路の電力損失の低減を図ることができる。
According to the present invention, a predetermined low-parasitic capacitance method is applied to a region where the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil have the greatest temporal flux density variation. In addition, the parasitic capacitance between the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil to which the low parasitic capacitance method has been applied can be reduced, and the parasitic capacitance between the primary coil and the secondary coil can be reduced. As a result, the overall parasitic capacitance of the transformer is reduced. By incorporating this transformer into a circuit such as a switching power supply, the energy that is discharged and lost due to the switching operation of the switching element can be reduced, and the power of the circuit can be reduced. Loss can be reduced.

【0069】時間的な電束密度変動が最も大きい一次コ
イルのコイル層と二次コイルのコイル層の間の絶縁体の
厚みをそれ以外のコイル層間の絶縁体の厚みよりも厚く
する低寄生容量手法を施す構成にあっては、時間的な電
束密度変動が最も大きい一次コイルのコイル層と二次コ
イルのコイル層の間隔が広がり、その一次コイルと二次
コイルのコイル層間の寄生容量を削減することができ
る。このことから、前記同様に、トランスの総合的な寄
生容量が削減できる。
A low parasitic capacitance in which the thickness of the insulator between the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil having the greatest temporal flux density variation is greater than the thickness of the insulator between the other coil layers. In the configuration that applies the method, the distance between the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil, which has the largest temporal flux density fluctuation, increases, and the parasitic capacitance between the coil layers of the primary coil and the secondary coil decreases. Can be reduced. Thus, the overall parasitic capacitance of the transformer can be reduced as described above.

【0070】また、上記の如く、時間的な電束密度変動
が最も大きい一次コイルのコイル層と二次コイルのコイ
ル層の間の絶縁体の厚みだけを厚くしているので、全て
のコイル層間の厚みを厚くする場合に比べて、一次コイ
ルと二次コイルの電磁結合度の低下や、トランスの大型
化や、コストの上昇を回避することができる。
As described above, since only the insulator between the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil, which has the largest variation in the electric flux density over time, is thickened, all the coil layers It is possible to avoid a decrease in the degree of electromagnetic coupling between the primary coil and the secondary coil, an increase in the size of the transformer, and an increase in cost, as compared with a case where the thickness of the transformer is increased.

【0071】時間的な電束密度変動が最も大きい一次コ
イルのコイル層と二次コイルのコイル層の間の絶縁体を
それ以外のコイル層間の絶縁体の誘電率よりも小さい誘
電率の絶縁材料で形成する低寄生容量手法を施す構成に
あっては、その低寄生容量手法が施された一次コイルと
二次コイルのコイル層間の絶縁体の誘電率が他のコイル
層間の絶縁体の誘電率よりも小さいことから、一次コイ
ルと二次コイルのコイル層間の寄生容量が低減し、トラ
ンスの総合的な寄生容量を削減することができる。誘電
率がより小さい絶縁材料は高価なものであるが、上記の
如く、時間的な電束密度変動が最も大きい一次コイルの
コイル層と二次コイルのコイル層間の絶縁体の材料だけ
をより誘電率が小さいもので形成するので、トランスの
コストの増加を抑えることが可能である。
The insulator between the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil, which has the largest variation in the electric flux density over time, is made of an insulating material having a dielectric constant smaller than that of the insulator between the other coil layers. In the configuration in which the low parasitic capacitance method is applied, the dielectric constant of the insulator between the coil layers of the primary coil and the secondary coil subjected to the low parasitic capacitance method is the dielectric constant of the insulator between the other coil layers. Since it is smaller than this, the parasitic capacitance between the coil layers of the primary coil and the secondary coil is reduced, and the overall parasitic capacitance of the transformer can be reduced. Although an insulating material having a smaller dielectric constant is expensive, as described above, only the insulating material between the coil layers of the primary coil and the coil layer of the secondary coil, which has the largest temporal flux density fluctuation, is more dielectric. Since the transformer is formed with a small ratio, it is possible to suppress an increase in the cost of the transformer.

【0072】時間的な電束密度変動が最も大きい一次コ
イルのコイル層と二次コイルのコイル層の対向領域にあ
る一次コイルのコイル導体と二次コイルのコイル導体の
対向面積を小さくする方向に各コイルのコイル導体を互
いにずらして形成する低寄生容量手法を施す構成にあっ
ては、一次コイルのコイル導体と二次コイルのコイル導
体の対向面積が減少し、一次コイルと二次コイルの間の
寄生容量を低減することができる。このことから、前記
同様に、トランスの総合的な寄生容量を削減することが
できる。
In the direction in which the opposing area of the coil conductor of the primary coil and the coil conductor of the secondary coil in the region where the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil have the largest temporal fluctuation of the electric flux density is reduced. In the configuration in which the low parasitic capacitance method of forming the coil conductors of the respective coils so as to be shifted from each other, the facing area between the coil conductor of the primary coil and the coil conductor of the secondary coil is reduced, and the distance between the primary coil and the secondary coil is reduced. Can be reduced. From this, it is possible to reduce the overall parasitic capacitance of the transformer, as described above.

【0073】上記低寄生容量手法のうち、2個以上の低
寄生容量手法を組み合わせた複合低寄生容量手法を時間
的な電束密度変動が最も大きい一次コイルのコイル層と
二次コイルのコイル層の対向領域に施す構成にあって
は、時間的な電束密度変動が最も大きい一次コイルのコ
イル層と二次コイルのコイル層間の寄生容量をさらに低
減することが可能であり、より一層のトランスの寄生容
量の削減を図ることができる。
Among the above low parasitic capacitance methods, a composite low parasitic capacitance method combining two or more low parasitic capacitance methods is applied to a coil layer of a primary coil and a coil layer of a secondary coil having the greatest temporal flux density variation. In this configuration, the parasitic capacitance between the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil, which has the largest variation in the electric flux density over time, can be further reduced. Can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】第1の実施形態例を示す説明図ある。FIG. 1 is an explanatory diagram showing a first embodiment example.

【図2】図1のトランスの各要所における電圧の時間的
な変化を示す波形図である。
FIG. 2 is a waveform diagram showing a temporal change of a voltage at each point in the transformer of FIG. 1;

【図3】第2の実施形態例を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing a second embodiment example.

【図4】第3の実施形態例を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a third embodiment.

【図5】第5の実施形態例を示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing a fifth embodiment.

【図6】この発明に係るトランスが組み込まれる回路の
その他の例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing another example of a circuit in which the transformer according to the present invention is incorporated.

【図7】この発明に係るトランスが組み込まれる回路の
さらにその他の例を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing still another example of a circuit in which the transformer according to the present invention is incorporated.

【図8】この発明に係るトランスが組み込まれる回路の
さらにその他の例を示す回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram showing still another example of a circuit in which the transformer according to the present invention is incorporated.

【図9】従来例を示す回路図である。FIG. 9 is a circuit diagram showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 トランス 13 3−4層間絶縁体 14 巻線 15 コイルパターン 16 絶縁体 3 Transformer 13 3-4 Interlayer insulator 14 Winding 15 Coil pattern 16 Insulator

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一次コイルと二次コイルを有し、それら
各コイルはコイル導体が1巻回以上形成されたコイル層
を複数有したものから成り、各コイル層の間に絶縁体を
挟んで一次コイルと二次コイルの各コイル層が予め定め
た順に複数積層形成されているトランスであって、時間
的な電束密度変動が最も大きい一次コイルのコイル層と
二次コイルのコイル層の対向領域に予め定めた低寄生容
量手法が施されている構成としたことを特徴とする低寄
生容量トランス。
1. A coil having a primary coil and a secondary coil, each of which has a plurality of coil layers in which a coil conductor is formed one or more turns, with an insulator interposed between the coil layers. A transformer in which a plurality of coil layers of a primary coil and a secondary coil are laminated in a predetermined order, and the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil having the largest temporal flux density variation are opposed to each other. A low parasitic capacitance transformer characterized in that a predetermined low parasitic capacitance method is applied to a region.
【請求項2】 低寄生容量手法は時間的な電束密度変動
が最も大きい一次コイルのコイル層と二次コイルのコイ
ル層との間の絶縁体の厚みをそれ以外のコイル層間の絶
縁体の厚みよりも厚くする構成としたことを特徴とする
請求項1記載の低寄生容量トランス。
2. The low parasitic capacitance method is to reduce the thickness of the insulator between the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil, which has the largest temporal flux density variation, by changing the thickness of the insulator between the other coil layers. 2. The low parasitic capacitance transformer according to claim 1, wherein the transformer is configured to be thicker than the thickness.
【請求項3】 低寄生容量手法は、時間的な電束密度変
動が最も大きい一次コイルのコイル層と二次コイルのコ
イル層との間の絶縁体を、それ以外のコイル層間の絶縁
体の誘電率よりも小さい誘電率の絶縁材料により形成す
る構成としたことを特徴とする請求項1記載の低寄生容
量トランス。
3. The low-parasitic-capacity method uses an insulator between a coil layer of a primary coil and a coil layer of a secondary coil, which has the largest variation in electric flux density with time, and an insulator between other coil layers. 2. The low parasitic capacitance transformer according to claim 1, wherein the low parasitic capacitance transformer is formed of an insulating material having a dielectric constant smaller than the dielectric constant.
【請求項4】 低寄生容量手法は時間的な電束密度変動
が最も大きい一次コイルのコイル層と二次コイルのコイ
ル層の対向領域にある一次コイルのコイル導体と二次コ
イルのコイル導体の対向面積を小さくする方向に各コイ
ルのコイル導体を互いにずらして形成する構成としたこ
とを特徴とする請求項1記載の低寄生容量トランス。
4. The low-parasitic-capacitance method uses a coil conductor of a primary coil and a coil conductor of a secondary coil in an area where the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil have the largest variation in electric flux density over time. 2. The low parasitic capacitance transformer according to claim 1, wherein the coil conductors of the respective coils are formed so as to be shifted from each other in a direction to reduce the facing area.
【請求項5】 請求項2と請求項3と請求項4記載の低
寄生容量トランスに施されている低寄生容量手法のう
ち、2個以上の低寄生容量手法を組み合わせた複合低寄
生容量手法を時間的な電束密度変動が最も大きい一次コ
イルのコイル層と二次コイルのコイル層の対向領域に施
す構成としたことを特徴とする請求項1記載の低寄生容
量トランス。
5. A composite low parasitic capacitance method combining two or more low parasitic capacitance methods among the low parasitic capacitance methods applied to the low parasitic capacitance transformer according to claim 2, 3, and 4. 2. The low parasitic capacitance transformer according to claim 1, wherein the step (c) is performed on a region where the coil layer of the primary coil and the coil layer of the secondary coil have the largest temporal change in electric flux density.
JP8280305A 1996-10-01 1996-10-01 Low parasitic capacitance transformer Pending JPH10106855A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8280305A JPH10106855A (en) 1996-10-01 1996-10-01 Low parasitic capacitance transformer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8280305A JPH10106855A (en) 1996-10-01 1996-10-01 Low parasitic capacitance transformer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10106855A true JPH10106855A (en) 1998-04-24

Family

ID=17623146

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8280305A Pending JPH10106855A (en) 1996-10-01 1996-10-01 Low parasitic capacitance transformer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10106855A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7050602B2 (en) * 2000-08-14 2006-05-23 Knowles Electronics Llc. Low capacitance receiver coil
JP2007295644A (en) * 2006-04-20 2007-11-08 Toyo Networks & System Integration Co Ltd Switching power supply
US9872109B2 (en) 2014-12-17 2018-01-16 Knowles Electronics, Llc Shared coil receiver
WO2020255662A1 (en) * 2019-06-20 2020-12-24 サンデン・アドバンストテクノロジー株式会社 Switched-mode power supply device and vehicle-mounted electric compressor equipped with same, and method for manufacturing switched-mode power supply device

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7050602B2 (en) * 2000-08-14 2006-05-23 Knowles Electronics Llc. Low capacitance receiver coil
JP2007295644A (en) * 2006-04-20 2007-11-08 Toyo Networks & System Integration Co Ltd Switching power supply
US9872109B2 (en) 2014-12-17 2018-01-16 Knowles Electronics, Llc Shared coil receiver
WO2020255662A1 (en) * 2019-06-20 2020-12-24 サンデン・アドバンストテクノロジー株式会社 Switched-mode power supply device and vehicle-mounted electric compressor equipped with same, and method for manufacturing switched-mode power supply device
JP2021002913A (en) * 2019-06-20 2021-01-07 サンデン・アドバンストテクノロジー株式会社 Switching power supply device, on-vehicle electric compressor equipped with the same, and method for manufacturing switching power supply device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2242067B1 (en) A transformer
US20210408919A1 (en) Low common mode noise transformers and switch-mode dc-dc power converters
US9224530B2 (en) Power supply apparatus
KR101065161B1 (en) Planar high voltage transformer device
US6529363B2 (en) Capacitor integrated into transformer by multi-layer foil winding
JP2000260639A (en) Coil device and switching power supply device
JP4760195B2 (en) Switching power supply
Zhang et al. Optimized design of LLC resonant converters incorporating planar magnetics
US20040042240A1 (en) Switching power supply device
US20030132825A1 (en) Planar coil and planar transformer
WO2005015725A1 (en) Switching power supply device
TWI747508B (en) Planar winding transformer
JPH10106855A (en) Low parasitic capacitance transformer
JP4343891B2 (en) Coils, transformers and switching power supplies
JP2000294433A (en) Converter transformer
JP4394557B2 (en) Transformers and multilayer boards
JP3019611B2 (en) One-chip switching power supply
KR102144616B1 (en) Isolation dc-dc converter using coupled-inductor
KR20210063707A (en) LLC resonant converter
JP4277485B2 (en) Trance
JP3207100B2 (en) DC-DC converter with transformer
JP2001326120A (en) Inductive device and dc-dc converter using the same
JPH09298115A (en) Multilayer inductor
JPH10149930A (en) Transformer
JPS61234513A (en) Reactance device

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040217