JPH0991650A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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Publication number
JPH0991650A
JPH0991650A JP24813995A JP24813995A JPH0991650A JP H0991650 A JPH0991650 A JP H0991650A JP 24813995 A JP24813995 A JP 24813995A JP 24813995 A JP24813995 A JP 24813995A JP H0991650 A JPH0991650 A JP H0991650A
Authority
JP
Japan
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magnetic
column
curvature
film
magnetic film
Prior art date
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Pending
Application number
JP24813995A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hirohide Mizunoya
博英 水野谷
Akira Shiga
章 志賀
Hideki Imamura
秀樹 今村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
Priority to JP24813995A priority Critical patent/JPH0991650A/en
Publication of JPH0991650A publication Critical patent/JPH0991650A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a magnetic recording medium excellent in overwriting characteristics by regulating the curvature of the columns of each of magnetic films to <=20% and increasing the curvature toward the top one of the magnetic films. SOLUTION: A material such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate or other polyester is used as the material of the substrate 1 of a magnetic recording medium. Plural magnetic films, especially metallic thin film type magnetic films 21 , 22 ∼each consisting of diagonally grown columns are laminated on the substrate 1 by PVD such as oblique vapor deposition using a metal such as Fe or Co or an alloy such as Co-Ni. The thickness of each of the metallic magnetic films 21 , 22 ∼is regulated to about 300-2,500Å, the curvature of the columns of each of the magnetic films 21 , 22 ∼is regulated to 5-20% and the curvature is increased toward the top one of the magnetic films. In the case of two magnetic films, the curvature of the columns of the lower magnetic film 21 and that of the upper magnetic film 22 are preferably regulated to 5-15% and 8-20%, respectively. The objective magnetic recording medium excellent in overwriting characteristics is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
する。
[0001] The present invention relates to a magnetic recording medium.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】近年、高記録密度用磁
気テープとして、所謂、蒸着テープ、特に多層蒸着テー
プが有望視されている。この蒸着テープにおいて、高記
録密度を実現する一つの手段として、保磁力Hcや残留
磁束密度Brで代表される静磁気特性を高くすることが
採られている。
In recent years, so-called vapor-deposited tapes, particularly multi-layer vapor-deposited tapes, have been considered promising as magnetic tapes for high recording density. In this vapor-deposited tape, as one means for achieving a high recording density, it has been adopted to increase the magnetostatic characteristics represented by the coercive force Hc and the residual magnetic flux density Br.

【0003】しかし、Hcを高くすると、繰り返し記録
の特性(O.W.特性)が低下する。ところで、情報信
号の永久保存を考えるならば、O.W.特性の低下は余
り問題にならないかもしれない。しかし、磁気記録媒体
の使用は、一度書き込んだ後、その上に、再度、書き込
むと言った形態が多い。従って、O.W.特性の向上は
必要不可欠なことである。
However, when Hc is increased, the repetitive recording characteristic (OW characteristic) is deteriorated. By the way, if the permanent preservation of the information signal is considered, the O.D. W. Degradation of properties may not be a problem. However, in many cases, the magnetic recording medium is used by writing once and then writing again. Therefore, O. W. Improvement of characteristics is indispensable.

【0004】しかるに、これまで、O.W.特性に対す
る検討は余り進められてなかった。このO.W.特性の
向上に対する検討が本発明者によって鋭意押し進められ
て行った結果、磁性膜のコラム構造の湾曲率を制御する
ことにより、長手方向の保磁力Hc‖と垂直方向の保磁
力Hc⊥とのバランスを制御でき、出力の低下をみるこ
となくO.W.特性の向上を得ることが出来ることを見
出した。
However, until now, the O. W. The study on the characteristics has not been advanced so much. This O. W. As a result of intensive studies by the present inventor to improve the characteristics, the balance between the coercive force Hc‖ in the longitudinal direction and the coercive force Hc⊥ in the vertical direction is controlled by controlling the curvature of the column structure of the magnetic film. Can be controlled, and O. W. It has been found that an improvement in characteristics can be obtained.

【0005】従って、本発明は、出力が高く、かつ、
O.W.特性に優れた磁気記録媒体を提供することを目
的とする。
Therefore, the present invention has a high output and
O. W. It is an object to provide a magnetic recording medium having excellent characteristics.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、コ
ラムが斜めに成長した金属薄膜型の磁性膜が支持体上に
複数層積層された磁気記録媒体であって、各磁性膜のコ
ラムの湾曲率は20%以下であり、かつ、上側にある磁
性膜程湾曲率が大きいことを特徴とする磁気記録媒体に
よって達成される。
The object of the present invention is to provide a magnetic recording medium in which a plurality of metal thin film type magnetic films in which columns are grown obliquely are laminated on a support, and the columns of each magnetic film are formed. Is less than 20%, and the higher the magnetic film is, the larger the curvature rate is.

【0007】特に、コラムが斜めに成長した金属薄膜型
の磁性膜が支持体上に複数層積層された磁気記録媒体で
あって、各磁性膜のコラムの湾曲率は5〜20%、中で
も、最上層にある磁性膜のコラムの湾曲率が8〜20
%、最下層にある磁性膜のコラムの湾曲率が5〜15%
であり、かつ、上側にある磁性膜程湾曲率が大きいこと
を特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
In particular, in a magnetic recording medium in which a plurality of magnetic thin film type magnetic films in which columns are grown obliquely are laminated on a support, the curvature ratio of each magnetic film column is 5 to 20%, among which, The curvature of the column of the magnetic film in the uppermost layer is 8 to 20.
%, The curvature rate of the column of the magnetic film in the lowermost layer is 5 to 15%
And the higher the magnetic film is, the higher the curvature rate is.

【0008】尚、隣接する磁性膜のコラムの湾曲率を比
べた場合、上側にある磁性膜のコラムの湾曲率が下側に
ある磁性膜のコラムの湾曲率の1.3〜2倍であるもの
が好ましい。又、上層にある磁性膜ほど厚さが薄い方が
好ましい。又、最上層にある磁性膜のコラムの傾斜角は
35〜60°(特に、45〜60°)、最下層にある磁
性膜のコラムの傾斜角が30〜55°(特に、45〜5
5°)のものが好ましい。
When the curvature ratios of the adjacent magnetic film columns are compared, the curvature ratio of the upper magnetic film column is 1.3 to 2 times the curvature ratio of the lower magnetic film column. Those are preferable. Further, it is preferable that the upper magnetic layer has a smaller thickness. The tilt angle of the column of the magnetic film in the uppermost layer is 35 to 60 ° (particularly 45 to 60 °), and the tilt angle of the column of the magnetic film in the lowermost layer is 30 to 55 ° (particularly 45 to 5 °).
5 °) is preferable.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】本発明は、コラムが斜めに成長し
た金属薄膜型の磁性膜が支持体上に複数層積層された磁
気記録媒体であって、各磁性膜のコラムの湾曲率は20
%以下であり、かつ、上側にある磁性膜程湾曲率が大き
いものである。特に、コラムが斜めに成長した金属薄膜
型の磁性膜が支持体上に複数層積層された磁気記録媒体
であって、各磁性膜のコラムの湾曲率は5〜20%、中
でも最上層にある磁性膜のコラムの湾曲率が8〜20
%、最下層にある磁性膜のコラムの湾曲率が5〜15%
であり、かつ、上側にある磁性膜程湾曲率が大きいもの
である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention is a magnetic recording medium in which a plurality of metal thin film type magnetic films in which columns are grown obliquely are laminated on a support, and the curvature ratio of each magnetic film column is 20.
%, And the magnetic film on the upper side has a larger curvature rate. In particular, in a magnetic recording medium in which a plurality of layers of metal thin film type magnetic films in which columns are grown obliquely are laminated on a support, the curvature rate of each magnetic film column is 5 to 20%, among which the uppermost layer. Curvature of column of magnetic film is 8 to 20
%, The curvature rate of the column of the magnetic film in the lowermost layer is 5 to 15%
In addition, the higher the magnetic film is, the higher the curvature rate is.

【0010】そして、隣接する磁性膜の湾曲率を比べた
場合、上側にある磁性膜のコラムの湾曲率が下側にある
磁性膜のコラムの湾曲率の1.3〜2倍である。又、上
層にある磁性膜ほど厚さは薄い。又、最上層にある磁性
膜のコラムの傾斜角は35〜60°、最下層にある磁性
膜のコラムの傾斜角が30〜55°である。
When comparing the curving rates of the adjacent magnetic films, the curving rate of the column of the upper magnetic film is 1.3 to 2 times that of the column of the lower magnetic film. Further, the thickness of the upper magnetic film is smaller. Moreover, the tilt angle of the column of the magnetic film in the uppermost layer is 35 to 60 °, and the tilt angle of the column of the magnetic film in the lowermost layer is 30 to 55 °.

【0011】以下、更に詳しく説明する。図1は、本発
明に係る磁気記録媒体の概略図である。本発明における
磁気記録媒体の支持体1としては、磁性を有するもので
も、非磁性のものでも良い。代表的なものとして、ポリ
エチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリシクロヘ
キシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンビス
フェノキシカルボキシレート等のポリエステル類、ポリ
エチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セル
ロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプ
ロピオネート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、
ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリアミド、ポ
リカーボネート等の非磁性のプラスチック材料が挙げら
れる。勿論、これらに限定されるものではない。又、各
種の処理が行われることが有る。例えば、コロナ放電、
あるいはその他適宜な手段による表面処理がなされる。
又、接着性向上の為のポリエステルやポリウレタンある
いはオリゴマー等が塗布されても良い。
The details will be described below. FIG. 1 is a schematic diagram of a magnetic recording medium according to the present invention. The magnetic recording medium support 1 of the present invention may be magnetic or non-magnetic. Typical examples include polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycyclohexylene dimethylene terephthalate, polyesters such as polyethylene bisphenoxycarboxylate, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, cellulose acetate butyrate, Cellulose derivatives such as cellulose acetate propionate, polyvinyl chloride,
Examples thereof include vinyl resins such as polyvinylidene chloride and non-magnetic plastic materials such as polyamide and polycarbonate. Of course, it is not limited to these. Also, various kinds of processing may be performed. For example, corona discharge,
Alternatively, surface treatment is performed by other appropriate means.
Further, polyester, polyurethane, oligomer or the like may be applied for improving the adhesiveness.

【0012】この支持体1上に斜め蒸着等のPVD(フ
ィジカルベーパーデポジション)法により磁性膜、特に
コラムが斜めに成長した金属薄膜型の磁性膜21 ,22
…が複数層積層される。この金属磁性膜を構成する材料
としては、例えばFe,Co,Ni等の金属の他に、C
o−Ni合金、Co−Pt合金、Co−Ni−Pt合
金、Fe−Co合金、Fe−Ni合金、Fe−Co−N
i合金、Fe−Co−B合金、Co−Ni−Fe−B合
金、Co−Cr合金等が用いられる。尚、金属磁性膜と
しては、前記材料の窒化膜(例えば、Fe−N,Fe−
N−O)や炭化膜(例えば、Fe−C−O)等も挙げら
れる。そして、具体的には、二層あるいは三層の金属薄
膜型の磁性膜が積層される。勿論、四層以上あっても良
い。しかし、四層以上になると、生産性が低下し、又、
実際にあっては磁性膜の全厚が規定されていることか
ら、一層あたりの厚さを薄くせざるを得ないが、薄くし
過ぎると飽和磁束密度Bsが低下することから、二層あ
るいは三層が好ましい。
Magnetic films, particularly metal thin film type magnetic films 2 1 and 2 2 having columns grown obliquely on the support 1 by PVD (Physical Vapor Deposition) method such as oblique deposition.
... are laminated in plural layers. Examples of the material forming the metal magnetic film include C, in addition to metals such as Fe, Co, and Ni.
o-Ni alloy, Co-Pt alloy, Co-Ni-Pt alloy, Fe-Co alloy, Fe-Ni alloy, Fe-Co-N
An i alloy, a Fe-Co-B alloy, a Co-Ni-Fe-B alloy, a Co-Cr alloy, or the like is used. As the metal magnetic film, a nitride film (for example, Fe-N, Fe-
N—O), a carbonized film (for example, Fe—C—O), and the like are also included. Then, specifically, two or three layers of metal thin film type magnetic films are laminated. Of course, there may be four or more layers. However, if the number of layers is four or more, productivity will decrease, and
In reality, the total thickness of the magnetic film is regulated, so the thickness per layer must be reduced. However, if the thickness is made too thin, the saturation magnetic flux density Bs will decrease. Layers are preferred.

【0013】各金属磁性膜21 ,22 …の厚さは、厚み
損失を少なくし、高域での出力特性を高める為、薄い方
が好ましい。しかし、低域での出力は金属磁性膜の厚さ
に影響されることから、300〜2500Å程度である
ことが好ましい。金属磁性膜の厚さは上層にある磁性膜
ほど薄い方が、高域での出力特性の面から好ましい。よ
り具体的には、二層膜である場合、下層磁性膜21 の厚
さa1 が1000〜2000Å、上層磁性膜22 の厚さ
2 が500〜1500Å、a1 +a2 が1500〜3
000Å(特に、1800〜3000Å)、a1 >a2
が好ましい。三層膜である場合、下層磁性膜21 の厚さ
1 が1000〜1500Å、中層磁性膜22 の厚さa
2 が500〜1000Å、上層磁性膜23 の厚さa3
300〜700Å、a1 +a2 +a3 が1500〜35
00Å(特に、1800〜3000Å)、a1 >a2
3 が好ましい。これによって、短波長成分の信号を上
層磁性膜の側に、長波長成分の信号を下層磁性膜の側に
記録させることが出来、低域から高域にわたって高い出
力が得られ、周波数特性が良いものになる。又、O.
W.特性も向上する。
The thickness of each of the metal magnetic films 2 1 , 2 2 ... Is preferably thin in order to reduce thickness loss and improve output characteristics in a high frequency range. However, since the output in the low range is affected by the thickness of the metal magnetic film, it is preferably about 300 to 2500 Å. It is preferable that the thickness of the metal magnetic film is thinner as it is the upper magnetic film from the viewpoint of output characteristics in a high range. More specifically, in the case of a two-layer film, the lower magnetic film 2 1 has a thickness a 1 of 1000 to 2000Å, the upper magnetic film 2 2 has a thickness a 2 of 500 to 1500Å, and a 1 + a 2 of 1500 to 2000Å. Three
000Å (especially 1800-3000Å), a 1 > a 2
Is preferred. If a three-layered film, thickness a 1 of the lower magnetic layer 2 1 1000~1500A, thickness a of the intermediate magnetic film 2 2
2 is 500-1000, thickness a 3 of the upper magnetic film 2 3 300~700Å, a 1 + a 2 + a 3 is 1500-35
00Å (especially 1800-3000Å), a 1 > a 2 >
a 3 is preferable. As a result, it is possible to record a short-wavelength component signal on the upper magnetic film side and a long-wavelength component signal on the lower magnetic film side, and obtain a high output from a low range to a high range and a good frequency characteristic. It becomes a thing. Also, O.
W. The characteristics are also improved.

【0014】各金属磁性膜21 ,22 …は、そのコラム
の湾曲率が5〜20%、かつ、上側にある磁性膜ほど湾
曲率が大きい。二層膜である場合、下層磁性膜21 のコ
ラムの湾曲率b1 が5〜15%、上層磁性膜22 のコラ
ムの湾曲率b2 が8〜20%、b2 >b1 (特に、b2
>1.3×b1 )が好ましい。三層膜である場合、下層
磁性膜21 のコラムの湾曲率b1 が5〜10%、中層磁
性膜22 のコラムの湾曲率b2 が10〜15%、上層磁
性膜23 のコラムの湾曲率b3 が15〜20%、b3
2 >b1 (特に、b3 >1.3×b2 ,b2 >1.3
×b1 )が好ましい。このようなコラム構造とすること
によって、上層磁性膜の側に短波長成分の信号を、下層
磁性膜の側に長波長成分の信号を記録でき、周波数特性
が向上するのみでなく、O.W.特性も向上する。
Each of the metallic magnetic films 2 1 , 2 2, ... Has a column curvature rate of 5 to 20%, and the higher the magnetic film is, the higher the curvature rate is. If double-layered film, the curvature of the lower magnetic layer 2 1 of the column b 1 is 5-15%, curvature b 2 of the upper magnetic film 2 2 of column 8 to 20% b 2> b 1 (especially , B 2
> 1.3 × b 1 ) is preferred. If a three-layered film, a lower magnetic film 2 curvature b 1 of 1 column is 5-10%, curvature b 2 of the intermediate magnetic film 2 2 of column 10-15%, the upper magnetic film 2 3 columns Has a bending rate b 3 of 15 to 20%, b 3 >.
b 2 > b 1 (particularly b 3 > 1.3 × b 2 , b 2 > 1.3
× b 1 ) is preferable. With such a column structure, a short wavelength component signal can be recorded on the upper magnetic film side and a long wavelength component signal can be recorded on the lower magnetic film side. W. The characteristics are also improved.

【0015】本明細書において、コラムの湾曲率とは、
図2に示す如く、コラムの両端間を結ぶ直線の長さB
と、該直線と直交する直線であって、その直交線がコラ
ムと交差する長さの最大の長さAとから計算され、(A
/B)×100で表される値(%)のことを言う。尚、
この湾曲率を求める為の図2のような金属磁性膜のコラ
ムの図は、長手方向に平行にカットしたものの透過型電
子顕微鏡(TEM)像によって得られる。
In the present specification, the curvature of the column means
As shown in Fig. 2, the length B of the straight line connecting both ends of the column
And a straight line that is orthogonal to the straight line, and the orthogonal line is the maximum length A that intersects the column, and (A
/ B) means a value (%) represented by 100. still,
The diagram of the column of the metal magnetic film as shown in FIG. 2 for obtaining this curvature can be obtained by a transmission electron microscope (TEM) image of one cut parallel to the longitudinal direction.

【0016】金属磁性膜は、最上層にある磁性膜のコラ
ムの傾斜角(図2のθ)が35〜60°、最下層にある
磁性膜のコラムの傾斜角が30〜55°が好ましい。二
層膜である場合、下層磁性膜21 のコラムの傾斜角θ1
が30〜55°(特に、45〜55°)、上層磁性膜2
2 のコラムの傾斜角θ2 が35〜60°(特に、45〜
60°)、θ2 >θ1 が好ましい。三層膜である場合、
下層磁性膜21 のコラムの傾斜角θ1 が30〜55°、
中層磁性膜22 のコラムの傾斜角θ2 が33〜57°、
上層磁性膜23 のコラムの傾斜角θ3 が35〜60°、
θ3 >θ2 >θ 1 が好ましい。このようなコラム構造と
することによって、上層磁性膜の側に短波長成分の信号
を、下層磁性膜の側に長波長成分の信号を記録でき、周
波数特性が向上するのみでなく、O.W.特性も向上す
る。
The metallic magnetic film is a colloid of the uppermost magnetic film.
Inclination angle (θ in Fig. 2) is 35 to 60 °, which is in the bottom layer
The tilt angle of the column of the magnetic film is preferably 30 to 55 °. two
When it is a layer film, the lower magnetic film 21Column tilt angle θ1
Of 30 to 55 ° (particularly 45 to 55 °), the upper magnetic film 2
2Column tilt angle θ2Is 35 to 60 ° (especially 45 to
60 °), θ2> Θ1Is preferred. If it is a three-layer film,
Lower magnetic film 21Column tilt angle θ1Is 30-55 °,
Middle magnetic film 22Column tilt angle θ2Is 33-57 °,
Upper magnetic film 2ThreeColumn tilt angle θThreeIs 35-60 °,
θThree> Θ2> Θ 1Is preferred. With such a column structure
Signal of the short wavelength component on the side of the upper magnetic film by
The signal of long wavelength component can be recorded on the side of the lower magnetic film.
Not only is the wave number characteristic improved, but the O.D. W. Improves characteristics
You.

【0017】又、上記のように構成された磁性膜は、そ
の長手方向の保磁力Hc‖が1000〜2500Oe
(特に、1500〜2000Oe)、垂直方向の保磁力
Hc⊥が1500〜3000Oe(特に、2000〜2
500Oe)とするのが好ましい。そして、磁性膜のコ
ラムの湾曲率を20%以下、かつ、上側にある磁性膜程
湾曲率を大きなものとするだけでなく、保磁力を前記の
ように構成させることにより、長手方向と垂直方向のバ
ランスが取れ、高域での出力が高くなり、かつ、O.
W.特性も向上する。
The magnetic film having the above-described structure has a coercive force Hc.parallel. In the longitudinal direction of 1000 to 2500 Oe.
(Especially 1500 to 2000 Oe), and coercive force Hc⊥ in the vertical direction is 1500 to 3000 Oe (especially 2000 to 2).
It is preferably 500 Oe). Further, not only the curvature rate of the column of the magnetic film is 20% or less and the curvature rate of the magnetic film on the upper side is increased, but also the coercive force is configured as described above, whereby the direction perpendicular to the longitudinal direction. Is balanced, the output in the high range is high, and O.
W. The characteristics are also improved.

【0018】斜め蒸着等で設けられた最上層の金属薄膜
型の磁性膜の上には保護膜3が設けられる。この保護膜
3を構成する材料として、例えばAl,Si,Ti,C
r,Zr,Nb,Mo,Ta,W等の金属の酸化物、窒
化物、炭化物あるいはダイヤモンドライクカーボンやボ
ロンナイトライド等が用いられる。成膜方法としてCV
D(ケミカルベーパーデポジション)やPVDが用いら
れる。保護膜の厚さは10〜500Å、特に30〜20
0Å程度である。
A protective film 3 is provided on the uppermost metal thin film type magnetic film provided by oblique vapor deposition or the like. As a material for forming the protective film 3, for example, Al, Si, Ti, C
Oxides, nitrides and carbides of metals such as r, Zr, Nb, Mo, Ta and W, diamond-like carbon and boron nitride are used. CV as film forming method
D (chemical vapor deposition) or PVD is used. The thickness of the protective film is 10 ~ 500Å, especially 30 ~ 20
It is about 0Å.

【0019】保護膜3の上には潤滑剤の膜4が設けられ
る。例えば、フッ素系潤滑剤の膜が浸漬あるいは超音波
噴霧などの手段により20〜70Å程度の厚さ設けられ
る。潤滑剤としては、例えば-(C(R)F-CF2-O)p - (但
し、RはF,CF3 ,CH3 などの基)、特にHOOC-CF2
(O-C2F4)p (OCF2) q -OCF2-COOH ,F-(CF2CF2CF2O)n -C
F2CF2COOH と言ったようなカルボキシル基変性パーフロ
オロポリエーテル、HOCH 2-CF2(O-C2F4) p (OCF2) q -OC
F2-CH2OH,HO-(C2H4-O) m -CH2-(O-C2F4) p (OCF 2) q -
OCH2-(OCH2CH2)n -OH ,F-(CF2CF2CF2O)n -CF2CF2CH2OH
と言ったようなアルコール変性パーフロオロポリエーテ
ル、又、分子の一方に、又は、一部にアルキル基などの
飽和炭化水素基、あるいは不飽和炭化水素基、若しくは
芳香族炭化水素基、その他の官能基が付いたもの等が挙
げられる。具体的には、モンテカチーニ社のFOMBL
IN Z DIACやFOMBLIN Z DOL、ダ
イキン工業社のデムナムSA等がある。
A lubricant film 4 is provided on the protective film 3.
You. For example, the fluorine lubricant film is dipped or
It is provided with a thickness of about 20 to 70Å by means such as spraying.
You. As the lubricant, for example,-(C (R) F-CF2-O)p-(However
And R is F, CFThree, CHThreeSuch as HOOC-CF)2
(O-C2FFour)p(OCF2)q -OCF2-COOH, F- (CF2CF2CF2O)n-C
F2CF2Carboxyl group-modified perfluoro such as COOH
Oropolyether, HOCH 2-CF2(O-C2FFour)p(OCF2)q -OC
F2-CH2OH, HO- (C2HFour-O)m-CH2-(O-C2FFour)p(OCF 2)q -
OCH2-(OCH2CH2)n-OH, F- (CF2CF2CF2O)n-CF2CF2CH2OH
Alcohol-modified perfluoropolyate
Or an alkyl group or the like on one or a part of the molecule.
Saturated hydrocarbon group, or unsaturated hydrocarbon group, or
Examples include aromatic hydrocarbon groups and those with other functional groups.
You can Specifically, FOMBL of Montecatini
IN Z DIAC, FOMBLIN Z DOL,
Demnum SA of Ikin Industries Co., Ltd. and the like.

【0020】支持体1の他面側にはバックコート膜5が
設けられる。バックコート膜を塗布により構成する場合
は、粒径10〜100nmのカーボンブラックを塩ビ
系、ウレタン系等のバインダ樹脂中に分散させ、グラビ
ア方式、リバース方式あるいはダイ塗工方式等で乾燥後
の厚さが0.4〜1μmとなるよう塗布する。バックコ
ート膜を蒸着などのPVD手段で構成する場合は、Al
−Cu合金などの金属材料を蒸発源に置き、蒸発金属粒
子を0.05〜1μmの厚さ堆積させる。そして、この
ようなバックコート膜の上には、走行性や耐久性を向上
させる為に、トップコート層を設けても良い。
A back coat film 5 is provided on the other surface side of the support 1. When the back coat film is formed by coating, carbon black having a particle size of 10 to 100 nm is dispersed in a binder resin such as a PVC-based resin or a urethane-based resin, and is dried by a gravure method, a reverse method, a die coating method, or the like. Is applied so as to be 0.4 to 1 μm. When the back coat film is formed by PVD means such as vapor deposition, Al
Place a metallic material such as a Cu alloy in the evaporation source and deposit evaporated metal particles to a thickness of 0.05-1 μm. Then, a top coat layer may be provided on such a back coat film in order to improve running properties and durability.

【0021】次に、図1の磁気記録媒体の製造方法につ
いて、簡単に説明する。本発明の磁気記録媒体は、従来
から知られている方法を採用できるが、図3に示す連続
斜め蒸着装置を用いるのが好ましい。尚、図3は二層の
金属磁性膜からなる磁気記録媒体を製造する場合のもの
である。10aは支持体1の供給側ロール、10bは支
持体1の巻取側ロール、11はクーリングドラムであ
り、支持体1は供給側ロール10aからクーリングドラ
ム11を経て巻取側ロール10bに巻き取られて行く。
12a,12bはルツボ、13a,13bはルツボ12
a,12bに充填された磁性金属であり、この磁性金属
13a,13bは電子銃14a,14bからの電子ビー
ムを受けて蒸発し、走行する支持体1上に堆積する。本
発明では、ルツボ12a,12bの位置をコントロール
することによって、コラムの湾曲率や傾斜角を所望のも
のに出来る。従って、ルツボ12a,12bの位置を適
宜な位置に置き、これを実行することによって得られる
情報からルツボ12a,12bの位置を決めれば良い。
そして、10-4〜10-6Torrに排気されたチャンバ
ー15内を走行する支持体1上に、先ず、所定の位置に
セットされたルツボ12aからの磁性金属粒子が堆積
し、厚さa1 、コラムの湾曲率b1、コラムの傾斜角θ
1 の下層磁性膜21 が形成される。尚、この下層磁性膜
1の形成に際して、酸素ガス供給ノズル16aから酸
素が供給されており、表面酸化がなされる。この後、下
層磁性膜21 上に、所定の位置にセットされたルツボ1
2bからの磁性金属粒子が堆積し、厚さa2 、コラムの
湾曲率b2 、コラムの傾斜角θ2 の上層磁性膜22 が形
成される。尚、この上層磁性膜22 の形成に際して、酸
素ガス供給ノズル16bから酸素が供給されており、表
面酸化がなされる。このようにして、下層磁性膜21
び上層磁性膜22 が積層された後、必要に応じて保護
膜、潤滑剤膜、バックコート膜が設けられ、本発明にな
る磁気記録媒体が得られる。
Next, a method of manufacturing the magnetic recording medium of FIG. 1 will be briefly described. For the magnetic recording medium of the present invention, a conventionally known method can be adopted, but it is preferable to use the continuous oblique vapor deposition apparatus shown in FIG. Incidentally, FIG. 3 shows a case where a magnetic recording medium composed of two layers of metal magnetic films is manufactured. Reference numeral 10a denotes a supply side roll of the support body 1, 10b denotes a winding side roll of the support body 1, 11 denotes a cooling drum, and the support body 1 is wound from the supply side roll 10a through the cooling drum 11 to the winding side roll 10b. Go away.
12a and 12b are crucibles, 13a and 13b are crucibles 12
The magnetic metals 13a and 13b are filled in a and 12b. The magnetic metals 13a and 13b receive an electron beam from the electron guns 14a and 14b, evaporate, and deposit on the traveling support 1. In the present invention, by controlling the positions of the crucibles 12a and 12b, it is possible to make the column curvature and inclination angle desired. Therefore, the positions of the crucibles 12a and 12b may be set at appropriate positions, and the positions of the crucibles 12a and 12b may be determined from the information obtained by executing this.
Then, first, magnetic metal particles from the crucible 12a set at a predetermined position are deposited on the support 1 running in the chamber 15 evacuated to 10 −4 to 10 −6 Torr to have a thickness a 1 , Column curvature b 1 , column tilt angle θ
The lower magnetic layer 2 1 of 1 is formed. Incidentally, the time of the lower magnetic film 2 1 formation, oxygen gas supply and the nozzle 16a and oxygen is supplied, the surface oxidation is carried out. Thereafter, on the lower magnetic film 2 1, a crucible 1 which is set in a predetermined position
Magnetic metal particles from 2b are deposited to form an upper magnetic film 2 2 having a thickness a 2 , a column curvature rate b 2 , and a column inclination angle θ 2 . Note that when the upper magnetic film 2 2 formation, and oxygen is supplied from oxygen gas supply nozzle 16b, the surface oxidation is carried out. Thus, after the lower magnetic film 2 1 and the upper magnetic film 2 2 are laminated, a protective film, a lubricant film, and a back coat film are provided, if necessary, to obtain the magnetic recording medium of the present invention. .

【0022】[0022]

【実施例1】本実施例の磁気記録媒体は、図3に示した
斜め蒸着装置により得られる。すなわち、非磁性の支持
体(9.8μm厚さのPETフィルム)1を供給側ロー
ル10aからクーリングドラム11を経て巻取側ロール
10bに導かれるように掛け渡し、チャンバー15内を
1×10-5Torrの真空度に排気する。そして、1m
/minの速度で走行するPETフィルム1に対して電
子銃14aからの電子ビーム加熱によりルツボ12a内
の磁性金属(Co)を溶融、蒸発させ、厚さa 1 =15
00Å、コラムの湾曲率b1 =5.5%、コラムの傾斜
角θ1 =49°の下層磁性膜21 を形成した。尚、下層
磁性膜21 の形成に際して酸素ガス供給ノズル16aか
ら30sccmの割合で下層磁性膜21 に向けて酸素を
供給している。電子銃14bからの電子ビーム加熱によ
りルツボ12b内の磁性金属(Co)も溶融、蒸発して
いることから、下層磁性膜21 が形成された次の段階
で、厚さa2 =1000Å、コラムの湾曲率b2 =8.
5%、コラムの傾斜角θ2 =55°の上層磁性膜22
形成される。尚、上層磁性膜22 の形成に際して酸素ガ
ス供給ノズル16bから30sccmの割合で上層磁性
膜22 に向けて酸素を供給している 上記のようにして下層磁性膜21 及び上層磁性膜22
形成した後、ECRプラズマCVD法により保護膜(ダ
イヤモンドライクカーボン膜)3を50Å厚さ形成し、
この後パーフルオロポリエーテル等のフッ素系の潤滑剤
(商品名FOMBLIN AM2001)4を12Å厚
さ形成した。
Example 1 The magnetic recording medium of this example is shown in FIG.
Obtained by an oblique vapor deposition device. Ie non-magnetic support
Body (9.8 μm thick PET film) 1 on the supply side
Roll 10a, the cooling drum 11, the winding side roll
10b so as to be guided to the inside of the chamber 15
1 × 10-FiveEvacuate to Torr vacuum. And 1m
Electric power is applied to the PET film 1 running at a speed of / min.
Inside the crucible 12a due to electron beam heating from the child gun 14a
Of magnetic metal (Co) of 1= 15
00Å, column curvature b1= 5.5%, column tilt
Angle θ1= 49 ° lower magnetic film 21Was formed. The lower layer
Magnetic film 21The oxygen gas supply nozzle 16a when forming
Lower magnetic film 2 at a rate of 30 sccm1Oxygen towards
We are supplying. By electron beam heating from the electron gun 14b
The magnetic metal (Co) in the crucible 12b also melts and evaporates.
Therefore, the lower magnetic film 21The next stage when
And the thickness a2= 1000Å, column curvature b2= 8.
5%, column tilt angle θ2= 55 ° upper magnetic film 22But
It is formed. The upper magnetic film 22When forming
Upper layer magnetism at a rate of 30 sccm from the gas supply nozzle 16b
Membrane 22Oxygen is being supplied to the lower magnetic film 2 as described above.1And the upper magnetic film 22To
After formation, a protective film (d
Earmon like carbon film 3 is formed with a thickness of 50Å,
After this, a fluorine-based lubricant such as perfluoropolyether
(Product name FOMBLIN AM2001) 4 12Å thickness
Formed.

【0023】又、PETフィルム1の磁性膜形成面側と
は反対側の面にAl蒸着膜(バックコート膜)5を0.
2μm厚さ設け、8mm幅に裁断して8mmVTR用磁
気テープを作製した。
On the surface of the PET film 1 opposite to the surface on which the magnetic film is formed, an Al vapor deposition film (back coat film) 5 is formed.
A magnetic tape for VTR having a thickness of 2 μm and cut into a width of 8 mm was manufactured.

【0024】[0024]

【実施例2】実施例1において、ルツボ12a,12b
の位置を変更すると共に、酸素ガス供給ノズル16a,
16bからの酸素供給量を50sccmとした外は実施
例1に準じて行い、下層磁性膜21 (厚さa1 =160
0Å、コラムの湾曲率b1 =7%、コラムの傾斜角θ1
=52°)、及び上層磁性膜22 (厚さa2 =1400
Å、コラムの湾曲率b2 =12%、コラムの傾斜角θ2
=55°)を有する8mmVTR用磁気テープを作製し
た。
Second Embodiment In the first embodiment, the crucibles 12a and 12b are used.
The position of the oxygen gas supply nozzle 16a,
The procedure of Example 1 was repeated except that the oxygen supply amount from 16b was 50 sccm, and the lower magnetic film 2 1 (thickness a 1 = 160
0Å, column curvature b 1 = 7%, column tilt angle θ 1
= 52 °), and the upper magnetic film 2 2 (thickness a 2 = 1400
Å, column curvature b 2 = 12%, column tilt angle θ 2
A magnetic tape for 8 mm VTR having an angle of 55 ° was manufactured.

【0025】[0025]

【実施例3】実施例1において、ルツボ12a,12b
の位置を変更すると共に、酸素ガス供給ノズル16a,
16bからの酸素供給量を35sccmとした外は実施
例1に準じて行い、下層磁性膜21 (厚さa1 =200
0Å、コラムの湾曲率b1 =15%、コラムの傾斜角θ
1 =46°)、及び上層磁性膜22 (厚さa2 =500
Å、コラムの湾曲率b2 =20%、コラムの傾斜角θ2
=52°)を有する8mmVTR用磁気テープを作製し
た。
[Third Embodiment] The crucibles 12a and 12b in the first embodiment.
The position of the oxygen gas supply nozzle 16a,
The lower magnetic film 2 1 (thickness a 1 = 200) was performed according to Example 1 except that the oxygen supply amount from 16b was 35 sccm.
0Å, column curvature b 1 = 15%, column tilt angle θ
1 = 46 °) and the upper magnetic film 2 2 (thickness a 2 = 500)
Å, column curvature b 2 = 20%, column tilt angle θ 2
A magnetic tape for VTR having an angle of 52 ° was manufactured.

【0026】[0026]

【実施例4】実施例1において、ルツボ12a,12b
の位置を変更すると共に、酸素ガス供給ノズル16a,
16bからの酸素供給量を40sccmとした外は実施
例1に準じて行い、下層磁性膜21 (厚さa1 =150
0Å、コラムの湾曲率b1 =5%、コラムの傾斜角θ1
=55°)、及び上層磁性膜22 (厚さa2 =1000
Å、コラムの湾曲率b2 =10%、コラムの傾斜角θ2
=60°)を有する8mmVTR用磁気テープを作製し
た。
[Fourth Embodiment] In the first embodiment, the crucibles 12a and 12b are used.
The position of the oxygen gas supply nozzle 16a,
The lower magnetic film 2 1 (thickness a 1 = 150) was performed according to Example 1 except that the oxygen supply amount from 16b was set to 40 sccm.
0Å, column curvature b 1 = 5%, column tilt angle θ 1
= 55 °), and the upper magnetic film 2 2 (thickness a 2 = 1000)
Å, column curvature b 2 = 10%, column tilt angle θ 2
A magnetic tape for VTR having an angle of 60 ° was manufactured.

【0027】[0027]

【実施例5】図3の装置を更に発展させ、ルツボ、クー
リングドラム及び酸素ガス供給ノズル等を更に1個増設
した連続斜め蒸着装置を用い、ルツボの位置を変更する
と共に、酸素ガス供給ノズルからの酸素供給量を36s
ccmとした外は実施例1に準じて行い、下層磁性膜2
1 (厚さa1 =1500Å、コラムの湾曲率b1 =8
%、コラムの傾斜角θ1 =51°)、中層磁性膜2
2 (厚さa2 =1000Å、コラムの湾曲率b2 =13
%、コラムの傾斜角θ2 =55°)、及び上層磁性膜2
3 (厚さa3 =500Å、コラムの湾曲率b3 =20
%、コラムの傾斜角θ3=57°)を有する8mmVT
R用磁気テープを作製した。
[Embodiment 5] By further developing the apparatus shown in FIG. 3, a crucible, a cooling drum, an oxygen gas supply nozzle, and the like are additionally installed in a continuous oblique vapor deposition apparatus, and the crucible position is changed. Oxygen supply of 36s
The lower magnetic film 2 was formed in the same manner as in Example 1 except that the thickness was changed to ccm.
1 (thickness a 1 = 1500Å, column curvature b 1 = 8
%, Column tilt angle θ 1 = 51 °), middle magnetic film 2
2 (thickness a 2 = 1000Å, column curvature b 2 = 13
%, Column tilt angle θ 2 = 55 °), and upper magnetic film 2
3 (thickness a 3 = 500Å, column curvature b 3 = 20)
%, Column tilt angle θ 3 = 57 °) 8 mm VT
An R magnetic tape was produced.

【0028】[0028]

【比較例1】実施例1において、ルツボ12a,12b
の位置を変更すると共に、酸素ガス供給ノズル16a,
16bからの酸素供給量を35sccmとした外は実施
例1に準じて行い、下層磁性膜21 (厚さa1 =100
0Å、コラムの湾曲率b1 =15%、コラムの傾斜角θ
1 =55°)、及び上層磁性膜22 (厚さa2 =100
0Å、コラムの湾曲率b2 =15%、コラムの傾斜角θ
2 =55°)を有する8mmVTR用磁気テープを作製
した。
[Comparative Example 1] In Example 1, crucibles 12a, 12b.
The position of the oxygen gas supply nozzle 16a,
The lower magnetic film 2 1 (thickness a 1 = 100 is performed according to Example 1 except that the oxygen supply amount from 16b is 35 sccm.
0Å, column curvature b 1 = 15%, column tilt angle θ
1 = 55 °) and the upper magnetic film 2 2 (thickness a 2 = 100)
0Å, column curvature b 2 = 15%, column tilt angle θ
An 8 mm magnetic tape for VTR having 2 = 55 °) was produced.

【0029】[0029]

【比較例2】実施例1において、ルツボ12a,12b
の位置を変更すると共に、酸素ガス供給ノズル16a,
16bからの酸素供給量を35sccmとした外は実施
例1に準じて行い、下層磁性膜21 (厚さa1 =950
Å、コラムの湾曲率b1 =23%、コラムの傾斜角θ1
=50°)、及び上層磁性膜22 (厚さa2 =950
Å、コラムの湾曲率b2 =23%、コラムの傾斜角θ2
=55°)を有する8mmVTR用磁気テープを作製し
た。
Comparative Example 2 In Example 1, the crucibles 12a and 12b
The position of the oxygen gas supply nozzle 16a,
The lower magnetic film 2 1 (thickness a 1 = 950 is carried out in the same manner as in Example 1 except that the oxygen supply amount from 16b is 35 sccm.
Å, column curvature b 1 = 23%, column tilt angle θ 1
= 50 °), and the upper magnetic film 2 2 (thickness a 2 = 950
Å, column curvature b 2 = 23%, column tilt angle θ 2
A magnetic tape for 8 mm VTR having an angle of 55 ° was manufactured.

【0030】[0030]

【比較例3】実施例1において、ルツボ12a,12b
の位置を変更すると共に、酸素ガス供給ノズル16a,
16bからの酸素供給量を15sccmとした外は実施
例1に準じて行い、下層磁性膜21 (厚さa1 =800
Å、コラムの湾曲率b1 =20%、コラムの傾斜角θ1
=51°)、及び上層磁性膜22 (厚さa2 =1000
Å、コラムの湾曲率b2 =10%、コラムの傾斜角θ2
=55°)を有する8mmVTR用磁気テープを作製し
た。
[Comparative Example 3] In Example 1, the crucibles 12a and 12b were used.
The position of the oxygen gas supply nozzle 16a,
The procedure was carried out in the same manner as in Example 1 except that the oxygen supply amount from 16b was 15 sccm, and the lower magnetic film 2 1 (thickness a 1 = 800
Å, column curvature b 1 = 20%, column tilt angle θ 1
= 51 °), and the upper magnetic film 2 2 (thickness a 2 = 1000)
Å, column curvature b 2 = 10%, column tilt angle θ 2
A magnetic tape for 8 mm VTR having an angle of 55 ° was manufactured.

【0031】[0031]

【比較例4】実施例1において、ルツボ12a,12b
の位置を変更すると共に、酸素ガス供給ノズル16a,
16bからの酸素供給量を25sccmとした外は実施
例1に準じて行い、下層磁性膜21 (厚さa1 =120
0Å、コラムの湾曲率b1 =20%、コラムの傾斜角θ
1 =48°)、及び上層磁性膜22 (厚さa2 =900
Å、コラムの湾曲率b2 =13%、コラムの傾斜角θ2
=51°)を有する8mmVTR用磁気テープを作製し
た。
[Comparative Example 4] In Example 1, the crucibles 12a and 12b were used.
The position of the oxygen gas supply nozzle 16a,
The same procedure as in Example 1 was performed except that the oxygen supply amount from 16b was 25 sccm, and the lower magnetic film 2 1 (thickness a 1 = 120
0Å, column curvature b 1 = 20%, column tilt angle θ
1 = 48 °), and the upper magnetic film 2 2 (thickness a 2 = 900)
Å, column curvature b 2 = 13%, column tilt angle θ 2
A magnetic tape for VTR having an angle of = 51 ° was manufactured.

【0032】[0032]

【比較例5】実施例1において、ルツボ12aの部分の
みを用い、酸素ガス供給ノズル16aからの酸素供給量
を40sccmとした外は実施例1に準じて行い、単層
磁性膜(厚さ1800Å、コラムの湾曲率15%、コラ
ムの傾斜角55°)を有する8mmVTR用磁気テープ
を作製した。
[Comparative Example 5] The procedure of Example 1 was repeated except that only the crucible 12a was used and the amount of oxygen supplied from the oxygen gas supply nozzle 16a was 40 sccm. An 8 mm VTR magnetic tape having a column curvature of 15% and a column inclination angle of 55 ° was manufactured.

【0033】[0033]

【比較例6】実施例1において、ルツボ12aの部分の
みを用い、酸素ガス供給ノズル16aからの酸素供給量
を25sccmとした外は実施例1に準じて行い、単層
磁性膜(厚さ2000Å、コラムの湾曲率21%、コラ
ムの傾斜角57°)を有する8mmVTR用磁気テープ
を作製した。
[Comparative Example 6] The procedure of Example 1 was repeated except that only the crucible 12a was used and the amount of oxygen supplied from the oxygen gas supply nozzle 16a was 25 sccm. An 8 mm VTR magnetic tape having a column curvature rate of 21% and a column inclination angle of 57 ° was produced.

【0034】[0034]

【特性】上記各例の8mmVTR用磁気テープについ
て、その特徴を表−1に示す。 表−1 湾曲率(%) 磁性膜膜厚(Å) 傾斜角(°) 表面粗さ 上層 中層 下層 上層 中層 下層 上層 中層 下層 Ra(nm) 実施例1 8.5 5.5 1000 1500 55 49 1.6 実施例2 12 7 1400 1600 55 52 1.7 実施例3 20 15 500 2000 52 46 1.6 実施例4 10 5 1000 1500 60 55 1.4 実施例5 20 13 8 500 1000 1500 57 55 51 1.6 比較例1 15 15 1000 1000 55 55 1.7 比較例2 23 23 950 950 55 50 1.5 比較例3 10 20 1000 800 55 51 1.6 比較例4 13 20 900 1200 51 48 1.6 比較例5 15 1800 55 1.6 比較例6 21 2000 57 1.6 又、静磁気特性(Hc‖,Hc⊥)及びO.W.特性を
調べたので、その結果を表−2に示す。尚、O.W.特
性は、最初に長波長(1.0μm,23μm)の信号を
記録し、続いて短波長(0.5μm)の信号を記録し、
この後長波長(1.0μm,23μm)の信号を読み取
り、消え残り分を調べたものである。
[Characteristics] Table-1 shows the characteristics of the magnetic tape for 8 mm VTR of each of the above examples. Table-1 Curvature (%) Magnetic film thickness (Å) Inclination angle (°) Surface roughness Upper layer Middle layer Lower layer Upper layer Middle layer Lower layer Upper layer Middle layer Lower layer Ra (nm) Example 1 8.5 5.5 1000 1500 55 49 1.6 Example 2 12 7 1400 1600 55 52 1.7 Example 3 20 15 500 2000 52 46 1.6 Example 4 10 5 1000 1500 60 55 1.4 Example 5 20 13 8 500 1000 1500 57 55 51 1.6 Comparative Example 1 15 15 1000 1000 55 55 1.7 Comparative Example 2 23 23 950 950 55 50 1.5 Comparative Example 3 10 20 1000 800 55 51 1.6 Comparative Example 4 13 20 900 1200 51 48 1.6 Comparative Example 5 15 1800 55 1.6 Comparative Example 6 21 2000 57 1.6 Further, static magnetic characteristics (Hc ‖, Hc⊥) and O. W. The characteristics were investigated, and the results are shown in Table 2. In addition, O. W. The characteristics are that long wavelength (1.0 μm, 23 μm) signals are recorded first, and then short wavelength (0.5 μm) signals are recorded.
After that, signals of long wavelength (1.0 μm, 23 μm) were read and the remaining portion was examined.

【0035】 表−2 Hc‖(Oe) Hc⊥(Oe) O.W.特性(dB) 1.0μ→ 0.5μ 23μ→ 0.5μ 実施例1 1590 1980 −1.9 −1.7 実施例2 1540 1730 −1.6 −1.5 実施例3 1720 2360 −2.6 −2.3 実施例4 1630 1890 −3.4 −2.8 実施例5 1570 1890 −2.9 −2.6 比較例1 1570 1870 +0.7 +0.3 比較例2 1530 1890 0 0 比較例3 1320 1860 +0.2 +0.3 比較例4 1340 1720 −0.1 −0.3 比較例5 1500 1960 +0.4 +0.1 比較例6 1480 1960 +0.7 +0.5 これから判る通り、本発明のものは、O.W.特性に優
れており、繰り返して使用しても間違いが少ないもので
ある。
Table-2 Hc‖ (Oe) Hc⊥ (Oe) O. W. Characteristic (dB) 1.0μ → 0.5μ 23μ → 0.5μ Example 1 1590 1980 −1.9 −1.7 Example 2 1540 1730 −1.6 −1.5 Example 3 1720 2360 −2.6 −2 .3 Example 4 1630 1890 -3.4 -2.8 Example 5 1570 1890 -2.9 -2.6 Comparative Example 1 1570 1870 +0.7 +0.3 Comparative Example 2 1530 1890 0 0 Comparative Example 3 1320 1860 +0.2 +0.3 Comparative Example 4 1340 1720 -0.1 -0.3 Comparative Example 5 1500 1960 +0.4 +0.1 Comparative Example 6 1480 1960 +0.7 +0.5 As can be seen from the present invention, Is O. W. It has excellent characteristics and is easy to use even after repeated use.

【0036】[0036]

【効果】O.W.特性に優れており、繰り返して使用し
ても間違いが少ない。
[Effect] O. W. It has excellent characteristics and there are few mistakes even if it is used repeatedly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁気記録媒体の概略図FIG. 1 is a schematic diagram of a magnetic recording medium of the present invention.

【図2】湾曲率の説明図FIG. 2 is an explanatory diagram of curvature rate.

【図3】本発明の磁気記録媒体を製造する為の斜め蒸着
装置の概略図
FIG. 3 is a schematic view of an oblique deposition apparatus for manufacturing the magnetic recording medium of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 支持体 21 ,22 ,23 磁性膜 3 保護膜 4 潤滑剤膜 5 バックコート膜1 Support 2 1 , 2 2 , 2 3 Magnetic film 3 Protective film 4 Lubricant film 5 Backcoat film

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 コラムが斜めに成長した金属薄膜型の磁
性膜が支持体上に複数層積層された磁気記録媒体であっ
て、 各磁性膜のコラムの湾曲率は20%以下であり、 かつ、上側にある磁性膜程湾曲率が大きいことを特徴と
する磁気記録媒体。
1. A magnetic recording medium in which a plurality of metal thin film type magnetic films in which columns are grown obliquely are laminated on a support, and the curvature ratio of each magnetic film column is 20% or less, and A magnetic recording medium characterized in that the upper magnetic film has a larger curvature rate.
【請求項2】 最上層にある磁性膜のコラムの湾曲率が
8〜20%、最下層にある磁性膜のコラムの湾曲率が5
〜15%であることを特徴とする請求項1の磁気記録媒
体。
2. The curvature ratio of the column of the magnetic film on the uppermost layer is 8 to 20%, and the curvature ratio of the column of the magnetic film on the lowermost layer is 5%.
The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the content is -15%.
【請求項3】 隣接する磁性膜の湾曲率を比べた場合、
上側にある磁性膜のコラムの湾曲率が下側にある磁性膜
のコラムの湾曲率の1.3〜2.0倍であることを特徴
とする請求項1又は請求項2の磁気記録媒体。
3. When comparing the curvature rates of adjacent magnetic films,
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the curvature rate of the column of the upper magnetic film is 1.3 to 2.0 times the curvature rate of the column of the lower magnetic film.
【請求項4】 上層にある磁性膜ほど厚さが薄いことを
特徴とする請求項1〜請求項3いずれかの磁気記録媒
体。
4. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the upper magnetic film has a smaller thickness.
【請求項5】 最上層にある磁性膜のコラムの傾斜角が
35〜60°、最下層にある磁性膜のコラムの傾斜角が
30〜55°であることを特徴とする請求項1〜請求項
4いずれかの磁気記録媒体。
5. The tilt angle of the column of the uppermost magnetic film is 35 to 60 °, and the tilt angle of the column of the lowermost magnetic film is 30 to 55 °. Item 4. The magnetic recording medium according to item 4.
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