JPH0987830A - Sliding member for compressor - Google Patents

Sliding member for compressor

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JPH0987830A
JPH0987830A JP7251595A JP25159595A JPH0987830A JP H0987830 A JPH0987830 A JP H0987830A JP 7251595 A JP7251595 A JP 7251595A JP 25159595 A JP25159595 A JP 25159595A JP H0987830 A JPH0987830 A JP H0987830A
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Japan
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ion plating
plating film
compressor
crn
sliding member
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Yasukichi Egami
保吉 江上
Takeshi Aizawa
健 相沢
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Nippon Piston Ring Co Ltd
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Nippon Piston Ring Co Ltd
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    • F01CROTARY-PISTON OR OSCILLATING-PISTON MACHINES OR ENGINES
    • F01C21/00Component parts, details or accessories not provided for in groups F01C1/00 - F01C20/00
    • F01C21/08Rotary pistons
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a sliding member for compressor, excellent in impact resistance as well as in wear resistance, minimal in chipping, peeling, etc., of surface, and further minimal in wear of mating member. SOLUTION: A mixed ion plating film, consisting of CrN and Cr2 N or CrN, Cr2 N and metallic Cr, is formed on the surface of a sliding member for compressor. This film has a composition consisting of 45.0-98.0wt.% CrN and the balance Cr2 N in the case of binary system or consisting of 45.0-98.0wt.% CrN, 0.5-15.5wt.% Cr, and the balance Cr2 N in the case of ternary system. It is preferable that the film is formed after the surface of the base material is nitrided or the porosity of the film is regulated to 0.5-20.0%.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は圧縮機用摺動部材に
関し、特に、圧縮機内で相対的に摺動運動を行うベーン
やローラ等の摺動部品に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sliding member for a compressor, and more particularly to a sliding component such as a vane or a roller that relatively slides in the compressor.

【0002】[0002]

【従来の技術】エアコンディショナーや冷蔵庫等におい
て熱交換を行うために、各種の圧縮機が使用されてい
る。圧縮機には、例えばロータリー式の密閉型圧縮機、
レシプロ式の密閉型圧縮機、或いはカーエアコン用の半
密閉型圧縮機等があるが、どの圧縮機の内部にもいくつ
かの摺動部品が組み込まれている。例えばロータリー式
圧縮機においては、そのローラハウジング内にローラが
偏心回転可能に支持されており、一方、ローラハウジン
グに形成されたベーン溝内にはスプリング等の弾性体を
介してベーンが保持されており、ベーン溝から突出した
ベーンの先端部(ノーズ部)はローラの外周面に摺接し
ている。このようなロータリー式圧縮機において、ベー
ンのノーズ部とローラの外周面は、ローラが回転するこ
とによって相対的に摺動運動を行う。またベーンはロー
ラの偏心回転に合わせてローラハウジングの半径方向に
沿ってベーン溝内を往復運動するので、ベーンの側面部
とベーン溝の内壁も相対的に摺動運動を行う。さらに、
ローラはクランクを介して又は介さずにシャフトに支持
されているが、このシャフトは、ローラを介してベーン
溝中のスプリングやシリンダ内壁から圧力を受け、この
圧力によってシャフトを支える軸受に押し付けられるの
で、若干湾曲した形状のまま高速回転する。従って、シ
ャフトの外面と軸受の内面とも、やはり相対的に摺動運
動を行う。
2. Description of the Related Art Various compressors are used for heat exchange in air conditioners, refrigerators and the like. The compressor includes, for example, a rotary hermetic compressor,
There are reciprocating hermetic compressors, semi-hermetic compressors for car air conditioners, etc., and some sliding parts are incorporated inside any compressor. For example, in a rotary compressor, a roller is eccentrically supported in its roller housing, while a vane is held in a vane groove formed in the roller housing via an elastic body such as a spring. The tip (nose) of the vane protruding from the vane groove is in sliding contact with the outer peripheral surface of the roller. In such a rotary compressor, the nose portion of the vane and the outer peripheral surface of the roller relatively slide as the roller rotates. Further, since the vane reciprocates in the vane groove along the radial direction of the roller housing in accordance with the eccentric rotation of the roller, the side surface portion of the vane and the inner wall of the vane groove also relatively slide. further,
The roller is supported by the shaft with or without a crank, and the shaft receives pressure from the spring in the vane groove and the inner wall of the cylinder via the roller, and is pressed against the bearing that supports the shaft by this pressure. , Rotates at high speed with a slightly curved shape. Therefore, the outer surface of the shaft and the inner surface of the bearing also relatively slide.

【0003】上記のように圧縮機内で相対的に摺動運動
を行う摺動部材には、優れた耐摩耗性が望まれる。例え
ば特開昭64−63692号公報には、摺動時の耐摩耗
性の向上を図ることを目的として、母材上に被覆層が形
成されたベーン等の圧縮機用摺動部材が開示されてい
る。この被覆層は、処理温度を比較的低温(150〜4
00℃程度)とすることができ、例えばアルミニウム合
金や鉄系合金からなる母材の劣化を防止しつつ緻密且つ
平滑な被覆層を形成できるという理由から、主にイオン
プレーティング法により形成されている。
As described above, the sliding member that relatively slides in the compressor is required to have excellent wear resistance. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 64-63692 discloses a sliding member for a compressor such as a vane in which a coating layer is formed on a base material for the purpose of improving wear resistance during sliding. ing. This coating layer has a relatively low processing temperature (150 to 4).
It is possible to form a dense and smooth coating layer while preventing deterioration of a base material made of, for example, an aluminum alloy or an iron-based alloy, and is therefore formed mainly by an ion plating method. There is.

【0004】しかしながらイオンプレーティング法によ
る場合には、母材と被覆膜との硬度差が大きいために耐
衝撃性が劣り、被覆膜が剥離し易いという問題があっ
た。具体的には、母材材料として広く用いられている高
速度工具鋼(SKH51)の硬度はHv750程度であ
るのに対し、イオンプレーティング法による窒化チタン
被覆膜の硬度はHv2500程度であり、両者間にはか
なりの硬度差がある。
However, in the case of the ion plating method, there was a problem that the impact resistance was poor because the hardness difference between the base material and the coating film was large and the coating film was easily peeled off. Specifically, the hardness of high speed tool steel (SKH51) widely used as a base material is about Hv750, whereas the hardness of the titanium nitride coating film by the ion plating method is about Hv2500. There is a considerable hardness difference between the two.

【0005】一方、焼結合金等の母材に窒化処理を施し
てなるベーン(特開昭60−228794号公報)にお
いては、例えば母材のひとつである高速度工具鋼(SK
H51)の硬度は上記のようにHv750程度であるの
に対し、これに窒化処理を施すとその硬度はHv125
0程度になる。よって母材の硬度が上がって耐摩耗性は
かなり向上するものの、過酷な環境条件下での耐摩耗性
については必ずしも充分でないという問題があった。
On the other hand, in a vane (Japanese Patent Laid-Open No. 60-228794) in which a base material such as a sintered alloy is subjected to a nitriding treatment, for example, a high speed tool steel (SK) is one of the base materials.
The hardness of H51) is about Hv750 as described above, whereas when it is subjected to a nitriding treatment, the hardness is Hv125.
It is about 0. Therefore, although the hardness of the base material is increased and the wear resistance is considerably improved, there is a problem that the wear resistance under severe environmental conditions is not always sufficient.

【0006】さらに、イオンプレーティング法及び窒化
処理のいずれの場合においても、ローラやベーン溝に対
するベーンの摩耗上の相性は必ずしも理想的ではないの
で、相手攻撃性をできるだけ低くすることが望まれてい
る。
Further, in both cases of the ion plating method and the nitriding treatment, the compatibility of the vanes with the rollers and the vane grooves in terms of wear is not necessarily ideal, so it is desired to reduce the opponent attack property as much as possible. There is.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記実情に鑑
みて成し遂げられたものであり、その目的は、耐摩耗性
に優れているだけでなく、被覆膜の剥離や亀裂を防止す
るのに充分な耐衝撃性、及び相手部材の摩耗量を減らす
ことができる優れた摩耗上の相性をも併せ持つ圧縮機用
摺動部材を提供することにある。
The present invention has been accomplished in view of the above circumstances, and an object thereof is not only excellent in wear resistance but also prevention of peeling and cracking of a coating film. Another object of the present invention is to provide a sliding member for a compressor having both sufficient impact resistance and excellent wear compatibility capable of reducing the amount of wear of a mating member.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明においては上記目
的を達成するために、圧縮機用摺動部材の表面に、Cr
N型窒化クロムとCr2 N型窒化クロムとの混合物又は
CrN型窒化クロムとCr2 N型窒化クロムと金属Cr
との特定組成の混合物からなるイオンプレーティング皮
膜を形成した。そして好適には、これらの皮膜を、母材
に予め窒化処理を施した後に形成することとし、また、
イオンプレーティング皮膜の気孔率を特定した。
In the present invention, in order to achieve the above object, Cr is formed on the surface of a sliding member for a compressor.
Mixtures or CrN type chromium nitride and Cr 2 N-type chromium nitride and metallic Cr and N-type chromium nitride and Cr 2 N-type chromium nitride
And an ion plating film made of a mixture having a specific composition. Then, preferably, these films are formed after the base material is subjected to a nitriding treatment in advance, and
The porosity of the ion plating film was specified.

【0009】すなわち本発明は、先ず第1に、圧縮機内
で相対的に摺動運動を行う圧縮機用摺動部材であって、
少なくともその一摺動面領域にCrN型窒化クロムとC
2N型窒化クロムとの混合物からなるイオンプレーテ
ィング皮膜が形成されており、該イオンプレーティング
皮膜の混合組成比率はCrN型窒化クロム:45.0〜
98.0重量%、及びCr2 N型窒化クロム:残部であ
ることを特徴とする圧縮機用摺動部材を提供するもので
ある。
That is, first of all, the present invention relates to a sliding member for a compressor, which relatively slides in the compressor.
CrN-type chromium nitride and C in at least one sliding surface area
An ion plating film made of a mixture with r 2 N-type chromium nitride is formed, and the mixing composition ratio of the ion plating film is CrN-type chromium nitride: 45.0 to
The present invention provides a sliding member for a compressor, characterized in that 98.0% by weight and Cr 2 N-type chromium nitride: balance.

【0010】また、第2に、圧縮機内で相対的に摺動運
動を行う圧縮機用摺動部材であって、少なくともその一
摺動面領域にCrN型窒化クロムとCr2 N型窒化クロ
ムと金属Crとの混合物からなるイオンプレーティング
皮膜が形成されており、該イオンプレーティング皮膜の
混合組成比率はCrN型窒化クロム:45.0〜98.
0重量%、Cr:0.5〜15.5重量%、及びCr2
N型窒化クロム:残部であることを特徴とする圧縮機用
摺動部材を提供するものである。
Secondly, a sliding member for a compressor which relatively slides in the compressor, wherein CrN-type chromium nitride and Cr 2 N-type chromium nitride are provided in at least one sliding surface area thereof. An ion plating film made of a mixture with metallic Cr is formed, and the mixing composition ratio of the ion plating film is CrN-type chromium nitride: 45.0 to 98.
0 wt%, Cr: 0.5-15.5 wt%, and Cr 2
Provided is a sliding member for a compressor, characterized by N-type chromium nitride: the rest.

【0011】そして好適な態様として、圧縮機用摺動部
材の少なくとも一摺動面領域において母材上に窒化層が
形成されており、且つ該窒化層上に前記イオンプレーテ
ィング皮膜が形成されていることを特徴とする前記第1
及び第2の圧縮機用摺動部材を提供する。
In a preferred embodiment, a nitride layer is formed on the base material in at least one sliding surface region of the compressor sliding member, and the ion plating film is formed on the nitride layer. The first characterized in that
And a second sliding member for a compressor.

【0012】さらに別の好適な態様として、前記イオン
プレーティング皮膜の気孔率が0.5〜20.0%であ
ることを特徴とする前記第1及び第2の圧縮機用摺動部
材を提供する。なお、上記2つの好適な態様は、前記第
1及び第2の圧縮機用摺動部材に対して単独に付加する
だけでなく、当然ながら両者を組み合わせて付加しても
よい。
As still another preferred aspect, the first and second compressor sliding members are characterized in that the ion plating film has a porosity of 0.5 to 20.0%. To do. Note that the above two preferable modes may be added not only to the first and second compressor sliding members, but also to a combination of both.

【0013】本発明の摺動部材は、その摺動面にCrN
型窒化クロムとCr2 N型窒化クロムとの特定組成の混
合物からなる2元系のイオンプレーティング皮膜、又は
CrN型窒化クロムとCr2 N型窒化クロムと金属Cr
との特定組成の混合物からなる3元系のイオンプレーテ
ィング皮膜が形成されている。これらの皮膜中では、性
質及び晶系が異なるCrNの結晶(立方晶)とCr2
の結晶(六方晶)とが、一定の混合組成比率の下、相互
に複雑に絡み合っている。このため、これらの皮膜は、
イオンプレーティング皮膜本来の優れた耐摩耗性と耐ス
カッフィング性を備えているだけでなく、優れた耐衝撃
性と靭性、さらには高い緻密性と平滑性を兼ね備えてい
る。従って、本発明の摺動部材は、皮膜の優れた耐衝撃
性と靭性によって表面の欠け、剥離、折損等が極めて少
なく、また皮膜の高い緻密性と平滑性によって相手部材
との摩耗上の相性も非常によい。
The sliding member of the present invention has CrN on its sliding surface.
Binary ion plating coating consisting of a mixture of a specific composition of the type chromium nitride and Cr 2 N-type chromium nitride, or CrN type chromium nitride and Cr 2 N-type chromium nitride and the metal Cr
And a ternary ion-plating film made of a mixture having a specific composition In these films, CrN crystals (cubic) and Cr 2 N, which have different properties and crystal systems, are used.
And hexagonal crystals are intricately intertwined with each other under a certain mixed composition ratio. Therefore, these coatings
Not only does it have the excellent abrasion resistance and scuffing resistance inherent to ion plating coatings, but it also has excellent impact resistance and toughness, as well as high compactness and smoothness. Therefore, the sliding member of the present invention has very little surface chipping, peeling, breakage, etc. due to the excellent impact resistance and toughness of the coating, and the compatibility with the mating member due to wear due to the high density and smoothness of the coating. Is also very good.

【0014】また、上記の3元系のイオンプレーティン
グ皮膜の場合には、窒化クロム含有セラミックスの結晶
粒界に金属Crが介在し、これによって結晶粒相互間の
粘着力が強化されているので、イオンプレーティング皮
膜の靭性がより高められている。従って、この3元系の
場合には、2元系の場合よりも、さらに表面の欠け、剥
離、折損等が少ない。
Further, in the case of the above-mentioned ternary system ion plating film, metal Cr intervenes in the crystal grain boundary of the chromium nitride-containing ceramics, whereby the adhesive force between the crystal grains is strengthened. , The toughness of the ion plating film is further enhanced. Therefore, in the case of this ternary system, the number of surface defects, peeling, breakage, etc. is smaller than in the case of a binary system.

【0015】本発明においては、摺動部材の母材表面を
窒化した後でイオンプレーティングを行うのが好まし
い。この場合、イオンプレーティング皮膜は母材上に直
接形成されるのではなく、母材表面を覆う硬い窒化層上
に形成されることになり、イオンプレーティング皮膜と
該皮膜によって被覆される表面の硬度差が減少する。こ
のため、イオンプレーティング皮膜の耐衝撃性がさらに
向上して、表面の欠け、剥離、折損等が少なくなる。
In the present invention, it is preferable to perform ion plating after nitriding the surface of the base material of the sliding member. In this case, the ion plating film is not directly formed on the base material, but is formed on the hard nitride layer covering the surface of the base material, and the ion plating film and the surface covered by the film are formed. The hardness difference is reduced. Therefore, the impact resistance of the ion plating film is further improved, and the chipping, peeling, breakage, etc. of the surface are reduced.

【0016】本発明においてイオンプレーティング皮膜
の気孔率を0.5〜20.0%とした場合には、皮膜の
強度や耐摩耗性を損なわずに靭性を高めることができる
ので、欠け、剥離、折損等の克服にさらなる効果を発揮
できる。
In the present invention, when the porosity of the ion plating film is set to 0.5 to 20.0%, the toughness can be increased without impairing the strength and wear resistance of the film, so that chipping and peeling are caused. Further, it is possible to exert a further effect in overcoming breakage and the like.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】次に、ロータリー式圧縮機用ベー
ンを例にして本発明をさらに詳しく説明するが、本発明
の実施形態はこれに限定されるわけではなく、圧縮機用
の摺動部材全般に応用可能である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, the present invention will be described in more detail by taking a vane for a rotary compressor as an example. However, the embodiment of the present invention is not limited to this, and sliding for a compressor is not limited thereto. It can be applied to all members.

【0018】図1〜図4は、本発明の摺動部材に該当す
るロータリー式圧縮機用ベーン1(1a〜1d)を示し
たものである。図5に示すように、これらのベーン1
は、ロータリー圧縮機のローラハウジング10に形成さ
れたベーン溝5内にスプリング7等の弾性体を介して保
持されている。そして、ローラ8がローラハウジング1
0内で偏心回転するのに伴って、ベーン1のノーズ部と
ローラ8の外周面とが、そしてベーン1の側面部とベー
ン溝の内壁6とが、それぞれ摺動する。
1 to 4 show vanes 1 (1a to 1d) for a rotary compressor corresponding to the sliding member of the present invention. As shown in FIG. 5, these vanes 1
Are held in the vane groove 5 formed in the roller housing 10 of the rotary compressor via an elastic body such as a spring 7. And the roller 8 is the roller housing 1
With the eccentric rotation in 0, the nose portion of the vane 1 and the outer peripheral surface of the roller 8 slide, and the side surface portion of the vane 1 and the inner wall 6 of the vane groove slide.

【0019】従って、ベーン1には、ノーズ部及び側面
部の2つの摺動面領域があるが、図1(ベーン1a)の
場合はノーズ部と側面部の母材2上にイオンプレーティ
ング皮膜4が直接形成されており、図2(ベーン1b)
の場合はノーズ部の母材2上にのみイオンプレーティン
グ皮膜4が直接形成されており、図3(ベーン1c)の
場合はノーズ部と側面部の母材2上に窒化層3とイオン
プレーティング皮膜4が順次形成されており、図4(ベ
ーン1d)の場合はノーズ部と側面部の母材2上に窒化
層3が形成されていると共にノーズ部の窒化層3上のみ
にイオンプレーティング皮膜4が形成されている。
Therefore, the vane 1 has two sliding surface regions, the nose portion and the side surface portion. In the case of FIG. 1 (vane 1a), the ion plating film is formed on the base material 2 at the nose portion and the side surface portion. 4 is directly formed and is shown in FIG. 2 (vane 1b).
In the case of, the ion plating film 4 was directly formed only on the base material 2 of the nose portion, and in the case of FIG. 3 (vane 1c), the nitride layer 3 and the ion plating were formed on the base material 2 of the nose portion and the side surface portion. 4 (vanes 1d), the nitride layer 3 is formed on the base material 2 in the nose portion and the side surface portion, and the ion plating is performed only on the nitride layer 3 in the nose portion. The coating film 4 is formed.

【0020】本発明において母材の形成材料は特に限定
されず、従来から用いられている摺動部材用の形成材料
を全般的に使用できる。図示したベーン1の母材2の場
合も同様であり、従来からベーンの形成材料として用い
られている鉄系材料、黒鉛系材料、鉄系焼結材料、アル
ミニウム系材料、チタン系材料等を使用できる。これら
の中でも鉄系材料が好ましく、高速度工具鋼(例えばS
KH51等)は特に好ましい。
In the present invention, the forming material of the base material is not particularly limited, and conventionally used forming materials for sliding members can be generally used. The same applies to the case of the base material 2 of the vane 1 shown in the drawing, and an iron-based material, a graphite-based material, an iron-based sintered material, an aluminum-based material, a titanium-based material, or the like, which has been conventionally used as a material for forming a vane, is used. it can. Among these, iron-based materials are preferable, and high speed tool steel (for example, S
KH51) is particularly preferable.

【0021】ベーン1の摺動面上には、母材に直接的に
又は窒化層を間に介して、CrNとCr2 Nからなるか
又はさらに金属Crを含む2元系又は3元系の混合イオ
ンプレーティング皮膜4が形成されている。この皮膜4
の混合組成比率は、 (1)2元系の場合には CrN型窒化クロム :45.0〜98.0重量%、 Cr2 N型窒化クロム:残部 (2)3元系の場合には CrN型窒化クロム :45.0〜98.0重量%、 金属Cr :0.5〜15.5重量%、 Cr2 N型窒化クロム:残部 とする必要がある。
On the sliding surface of the vane 1, a binary system or a ternary system consisting of CrN and Cr 2 N or further containing metallic Cr is formed directly on the base material or via the nitride layer. A mixed ion plating film 4 is formed. This film 4
The mixed composition ratios of (1) CrN type chromium nitride in the case of binary system: 45.0 to 98.0 wt%, Cr 2 N type chromium nitride: balance (2) CrN in the case of ternary system Type chromium nitride: 45.0 to 98.0% by weight, metallic Cr: 0.5 to 15.5% by weight, Cr 2 N type chromium nitride: balance.

【0022】第1表にCrN型窒化クロムとCr2 N型
窒化クロムの諸物性を示す。CrN及びCr2 Nは優れ
た耐摩耗性と耐スカッフィング性を有しているが、この
表からも理解できるように、いずれも単独では硬くて脆
い。従って、CrN又はCr 2 Nのみからなる単一成分
のイオンプレーティング皮膜を用いた場合には、いずれ
の場合も研削・研磨時における加工性等が悪く、そのた
めに欠けや剥離が多く発生し、良品率が著しく低下す
る。また、得られた完成品は、圧縮機に組み込んで使用
するに際し運転中の動的衝撃及び熱的衝撃に対して極め
て弱いので、折損等を引き起こし易く、イオンプレーテ
ィング皮膜によって本来的にもたらされる耐摩耗性や耐
スカッフィング性を充分に活用することができない。
Table 1 shows CrN type chromium nitride and Cr.2N type
The physical properties of chromium nitride are shown below. CrN and Cr2N is excellent
It has abrasion resistance and scuffing resistance.
As you can see from the table, both are hard and brittle by themselves.
Yes. Therefore, CrN or Cr 2Single component consisting of only N
When using the ion plating film of
Also, in the case of
Chipping and peeling often occur, resulting in a significant decrease in the yield rate.
You. In addition, the obtained finished product is used by incorporating it in the compressor.
Extremely strong against dynamic and thermal shocks during operation
Since it is weak, it is easy to cause breakage etc.
Wear resistance and
The scuffing property cannot be fully utilized.

【0023】[0023]

【表1】 これに対して本発明で用いられる混合イオンプレーティ
ング皮膜は、性質の異なる2つの窒化クロムが、両者の
晶系が異なる(CrNは立方晶でありCr2 Nは六方晶
である)ことも効果的に作用して複雑に絡み合いながら
生成したものであり、優れた耐衝撃性と靭性を有すると
共に、極めて緻密且つ平滑である。しかも、この皮膜
は、2つの窒化クロムの間では相対的に硬度と弾性率が
低いCrNと、相対的に耐摩耗性と皮膜密着性が悪いC
2 Nとの混合物ではあるが、両窒化クロムの混合組成
比率が適切に調節されているため、Cr2 Nに起因する
耐摩耗性と皮膜密着性の悪化を招くことなく耐衝撃性、
靭性、緻密性、及び平滑性の向上が図られている。
[Table 1] On the other hand, in the mixed ion plating film used in the present invention, two chromium nitrides having different properties have different crystal systems (CrN is cubic crystal and Cr 2 N is hexagonal crystal). It has been produced by being entangled in a complicated manner and is entangled in a complicated manner, and has excellent impact resistance and toughness, and is extremely dense and smooth. Moreover, this coating has a relatively low hardness and elastic modulus between the two chromium nitrides, and a C having relatively poor wear resistance and coating adhesion.
Although it is a mixture with r 2 N, since the mixture composition ratio of both chromium nitrides is appropriately adjusted, impact resistance without causing deterioration of wear resistance and coating adhesion due to Cr 2 N,
The toughness, denseness, and smoothness are improved.

【0024】従って、本発明によれば、耐摩耗性、耐ス
カッフィング性に優れているだけでなく、耐衝撃性及び
相手部材との摩耗上の相性の点でも優れた摺動部材を得
ることができる。すなわち本発明によれば、CrN及び
Cr2 Nのうちでも特に優れた耐摩耗性と耐スカッフィ
ング性を有するCrN単独からなるイオンプレーティン
グ皮膜と同等又はそれ以上の耐摩耗性と耐スカッフィン
グを維持したまま耐衝撃性と靭性を向上させることがで
き、これによって摺動部材の欠け、剥離、折損等を克服
できる。それと同時に、緻密性と平滑性を向上させるこ
とによって摺動部材の相手部材攻撃性を弱め、相手部材
の摩耗量を極めて少なくすることもできる。例えば図5
中のベーン1であれば、ローラ8の外周面やベーン溝の
内壁6のような相手部材の摩耗を抑えることが可能とな
る。
Therefore, according to the present invention, it is possible to obtain a sliding member which is excellent not only in abrasion resistance and scuffing resistance but also in impact resistance and compatibility with the mating member. it can. That is, according to the present invention, among CrN and Cr 2 N, the wear resistance and scuffing resistance equal to or higher than those of the ion plating film made of CrN alone, which has particularly excellent wear resistance and scuffing resistance, are maintained. It is possible to improve impact resistance and toughness as it is, and by doing so, it is possible to overcome chipping, peeling, breakage and the like of the sliding member. At the same time, by improving the compactness and the smoothness, it is possible to weaken the mating member aggression of the sliding member and significantly reduce the amount of wear of the mating member. For example, FIG.
With the vane 1 inside, it is possible to suppress the wear of the mating member such as the outer peripheral surface of the roller 8 and the inner wall 6 of the vane groove.

【0025】本発明においてイオンプレーティング皮膜
中に占めるCrN型窒化クロムの割合は、その下限値を
45.0重量%、好ましくは55重量%とし、その上限
値を98.0重量%、好ましくは88重量%とする。こ
こで、CrNの混合組成比率が45.0重量%未満の場
合には、CrNよりも相対的に耐摩耗性と皮膜密着性の
低いCr2 Nが多くなり過ぎてしまうので、混合イオン
プレーティング皮膜の耐摩耗性と皮膜密着性が急激に低
下する。一方、CrNの比率が98.0重量%を超えて
も、耐摩耗性或いは皮膜密着性の急激な増加は見込めな
い。
In the present invention, the proportion of CrN-type chromium nitride in the ion plating film has a lower limit value of 45.0% by weight, preferably 55% by weight, and an upper limit value of 98.0% by weight, preferably 88% by weight. Here, when the composition ratio of CrN is less than 45.0% by weight, Cr 2 N, which has relatively lower wear resistance and film adhesion than CrN, becomes too much. The wear resistance and coating adhesion of the coating drop sharply. On the other hand, even if the CrN ratio exceeds 98.0% by weight, a sharp increase in wear resistance or film adhesion cannot be expected.

【0026】本発明の摺動部材には、CrNとCr2
に加えてさらに金属Crを含む3元系の混合イオンプレ
ーティング皮膜を形成してもよい。この3元系の混合皮
膜の場合には、CrNとCr2 Nの2種類の窒化クロム
を含有するセラミックスの結晶粒界に金属Crが介在
し、これによって結晶粒相互間の粘着力が強化されてい
るので、イオンプレーティング皮膜の靭性がより高めら
れている。従って、この3元系の場合には、2元系の場
合よりも、さらに摺動部材の欠け、剥離、折損等が少な
くなる。金属Crの混合組成比率は、その下限値を0.
5重量%、好ましくは5重量%とし、その上限値を1
5.5重量%、好ましくは10重量%とする。金属Cr
の比率が0.5重量%未満の場合には効果がなく、一
方、その比率が15.5重量%を超える場合にはかえっ
て耐スカッフィング性を低下させる。
The sliding member of the present invention includes CrN and Cr 2 N.
In addition to the above, a ternary mixed ion plating film containing metal Cr may be further formed. In the case of this ternary mixed coating, metal Cr intervenes in the crystal grain boundary of the ceramic containing two types of chromium nitrides, CrN and Cr 2 N, which strengthens the adhesive force between the crystal grains. Therefore, the toughness of the ion plating film is further enhanced. Therefore, in the case of this ternary system, chipping, peeling, breakage, etc. of the sliding member are further reduced as compared with the case of the binary system. The lower limit of the mixed composition ratio of metallic Cr is 0.
5% by weight, preferably 5% by weight, the upper limit of which is 1
It is set to 5.5% by weight, preferably 10% by weight. Metal Cr
If the ratio is less than 0.5% by weight, there is no effect. On the other hand, if the ratio exceeds 15.5% by weight, the scuffing resistance is rather lowered.

【0027】イオンプレーティング皮膜の靭性は皮膜の
気孔率によっても変化するので、気孔率を適切に調節し
て靭性を高めることによって、欠け、剥離、折損等をさ
らに減らすことができる。かかる観点から、本発明にお
いてはイオンプレーティング皮膜の気孔率の下限値を、
好ましくは0.5%、特に好ましくは5%とし、その上
限値を、好ましくは20.0%、特に好ましくは15%
とする。この気孔率が0.5%未満の場合には、皮膜の
緻密度が高くて脆いので、欠けや剥離等が発生しやすく
なる。一方、気孔率が20.0%を超える場合には、イ
オンプレーティング皮膜自体の強度が低下しコラプショ
ン気味となるので、耐摩耗性が低下しやすい。
Since the toughness of the ion plating film also changes depending on the porosity of the film, it is possible to further reduce chipping, peeling, breakage and the like by appropriately adjusting the porosity to increase the toughness. From this point of view, in the present invention, the lower limit of the porosity of the ion plating film,
It is preferably 0.5%, particularly preferably 5%, and its upper limit value is preferably 20.0%, particularly preferably 15%.
And When the porosity is less than 0.5%, the denseness of the film is high and the film is brittle, so that chipping, peeling and the like are likely to occur. On the other hand, when the porosity is more than 20.0%, the strength of the ion plating film itself is reduced and it tends to be corroded, so that the wear resistance is likely to be reduced.

【0028】本発明においてイオンプレーティング皮膜
の形成方法は特に限定されない。一例として、例えば、
次のような方法でイオンプレーティング皮膜を形成する
ことができる。すなわち、先ず、窒化層が形成されてい
るか叉は形成されていない母材を真空槽内に置く。ここ
で窒化層がある場合には、イオンプレーティング皮膜を
形成するに先だって、窒化層最上部の化合物層を除去し
てもよい。次に、母材温度を通常200〜600℃程度
に制御し、反応ガスとして窒素ガスを導入し、該反応ガ
ス雰囲気中にCrを蒸発させ次いでイオン化させる。そ
して、マイナスにバイアスされた母材表面に、反応ガス
とイオン化したCrとの反応生成物(すなわちCrN、
Cr2 N)を形成させることによって、イオンプレーテ
ィング皮膜を形成することができる。この場合、皮膜中
に存在するCrNとCr2 N、或いはCrNとCr2
とCrの混合組成比率は、反応ガスである窒素ガスのガ
ス圧を変えることによって調節できる。
In the present invention, the method for forming the ion plating film is not particularly limited. As an example, for example,
The ion plating film can be formed by the following method. That is, first, the base material with or without the nitride layer is placed in a vacuum chamber. If there is a nitride layer, the compound layer on the top of the nitride layer may be removed prior to forming the ion plating film. Next, the base material temperature is usually controlled to about 200 to 600 ° C., nitrogen gas is introduced as a reaction gas, Cr is evaporated in the reaction gas atmosphere, and then ionized. Then, on the negatively biased surface of the base material, a reaction product of the reaction gas and ionized Cr (that is, CrN,
By forming Cr 2 N), an ion plating film can be formed. In this case, CrN and Cr 2 N or CrN and Cr 2 N present in the film
The mixed composition ratio of Cr and Cr can be adjusted by changing the gas pressure of nitrogen gas which is a reaction gas.

【0029】このようにして形成されるイオンプレーテ
ィング皮膜4の硬さは、ビッカース硬度Hv1800以
上である。また、該皮膜4の厚さは、通常2μm以上、
好ましくは5μm以上である。
The hardness of the ion plating film 4 thus formed is Vickers hardness Hv1800 or more. The thickness of the film 4 is usually 2 μm or more,
It is preferably at least 5 μm.

【0030】本発明においては、母材上に直接イオンプ
レーティング皮膜を形成してもよいが、図示したベーン
1c(図3)及びベーン1d(図4)のように、母材表
面を窒化した後、窒化層3を介してイオンプレーティン
グ皮膜を形成するのが好ましい。母材2よりも硬度が高
い窒化層3上にイオンプレーティング皮膜4を形成する
場合には、イオンプレーティング皮膜と該皮膜による被
覆面の硬度差が減少する。そのため、イオンプレーティ
ング皮膜の耐衝撃性がさらに向上して、表面の欠け、剥
離、折損、亀裂等の発生が少なくなる。
In the present invention, the ion plating film may be formed directly on the base material, but the surface of the base material is nitrided like the illustrated vane 1c (FIG. 3) and vane 1d (FIG. 4). After that, it is preferable to form an ion plating film through the nitride layer 3. When the ion plating film 4 is formed on the nitride layer 3 having a hardness higher than that of the base material 2, the difference in hardness between the ion plating film and the surface covered by the film is reduced. Therefore, the impact resistance of the ion plating film is further improved, and the occurrence of chipping, peeling, breakage, cracks, etc. on the surface is reduced.

【0031】窒化層3を形成するための方法は特に限定
されず、イオン純窒化やイオン軟窒化のようなイオン窒
化法、或いはガス窒化法等を適宜採用できる。例えばイ
オン純窒化処理の場合には、母材2を脱脂、洗浄した
後、予備加熱し、加熱した母材2を圧力0.5〜10to
rr程度の(H2 +N2 )ガス雰囲気或いはNH3 ガス雰
囲気を有する密閉容器に入れる。そして、母材2を陰
極、密閉容器を陽極として100〜500Vの電圧を印
加し、この時に生じるグロー放電により発生したイオン
化窒素と母材2とを加熱反応させるによって窒化を行
う。
The method for forming the nitride layer 3 is not particularly limited, and an ion nitriding method such as ion pure nitriding or ion soft nitriding, or a gas nitriding method can be appropriately adopted. For example, in the case of the ion pure nitriding treatment, the base material 2 is degreased and washed, and then preheated, and the heated base material 2 is pressed at a pressure of 0.5 to 10 to.
Place in a closed container having a (H 2 + N 2 ) gas atmosphere or NH 3 gas atmosphere of about rr. Then, a voltage of 100 to 500 V is applied using the base material 2 as a cathode and the closed container as an anode, and ionized nitrogen generated by glow discharge generated at this time and the base material 2 are heated to cause nitriding.

【0032】また、イオン軟窒化処理の場合には、上記
のイオン純窒化処理における(H2+N2 )ガス雰囲気
又はNH3 ガス雰囲気を、(N2 +C3 8 )ガス雰囲
気、又は(C4 10、C2 2 、CH4 等の炭化水素系
ガス)雰囲気に代えればよい。
In the case of the ion soft nitriding treatment, the (H 2 + N 2 ) gas atmosphere or the NH 3 gas atmosphere in the above-mentioned ion pure nitriding treatment is changed to the (N 2 + C 3 H 8 ) gas atmosphere or (C The atmosphere may be replaced by a hydrocarbon-based gas such as 4 H 10 , C 2 H 2 and CH 4 .

【0033】このようにして形成される窒化層3の表面
硬さは、ビッカース硬度Hv1200以上である。ま
た、窒化層3の厚さは、化合物層の厚さが通常1μm以
上、好ましくは5μm以上であり、拡散層の厚さは通常
40μm以上、好ましくは50μm以上である。
The surface hardness of the nitride layer 3 thus formed is Vickers hardness Hv1200 or more. Regarding the thickness of the nitride layer 3, the thickness of the compound layer is usually 1 μm or more, preferably 5 μm or more, and the thickness of the diffusion layer is usually 40 μm or more, preferably 50 μm or more.

【0034】本発明においてイオンプレーティング皮膜
は、摺動部材の表面全体に形成する必要はなく、摺動面
の領域にだけ形成すれば充分であり、また、摺動部材上
に摺動面が複数ある場合には、特にイオンプレーティン
グ皮膜を必要とする摺動面だけに限定して形成してもよ
い。母材表面とイオンプレーティング皮膜の間に介在す
る窒化層も同様であり、摺動部材の表面全体に形成する
必要はない。このように、イオンプレーティング皮膜や
窒化層を限局的に形成する場合には、これらを全面的に
形成する場合と比べて生産効率が向上するので、コスト
低減を図ることができる。
In the present invention, it is not necessary to form the ion plating film on the entire surface of the sliding member, it is sufficient to form the ion plating film only on the area of the sliding surface, and the sliding surface is formed on the sliding member. In the case of a plurality of layers, the ion plating film may be formed only on the sliding surface that requires it. The same applies to the nitride layer interposed between the surface of the base material and the ion plating film, and it is not necessary to form it on the entire surface of the sliding member. As described above, when the ion plating film or the nitride layer is locally formed, the production efficiency is improved as compared with the case where the ion plating film and the nitride layer are entirely formed, and thus the cost can be reduced.

【0035】例えば、図示したベーン1a(図1)の場
合には、摺動面ではない基部側の先端部には皮膜がな
く、ノーズ部と側面部という2つの摺動面にイオンプレ
ーティング皮膜4が形成されている。これに対してベー
ン1b(図2)の場合には、上記2つの摺動面のうちの
ノーズ部にだけイオンプレーティング皮膜4が形成され
ている。図3、図4は窒化層がある場合を示している
が、ベーン1c(図3)の場合には、ノーズ部と側面部
に窒化層3とイオンプレーティング皮膜4が順次形成さ
れている。これに対してベーン1d(図4)の場合に
は、窒化層3は上記2つの摺動面に形成されているが、
イオンプレーティング皮膜4の方は、2つの摺動面のう
ちでも特に過酷な摺動条件に晒されるノーズ部にだけ形
成されている。
For example, in the case of the vane 1a shown in FIG. 1 (FIG. 1), there is no coating on the tip of the base side, which is not the sliding surface, and there is an ion plating coating on the two sliding surfaces, the nose and the side. 4 are formed. On the other hand, in the case of the vane 1b (FIG. 2), the ion plating film 4 is formed only on the nose portion of the two sliding surfaces. Although FIGS. 3 and 4 show the case where there is a nitride layer, in the case of the vane 1c (FIG. 3), the nitride layer 3 and the ion plating film 4 are sequentially formed on the nose portion and the side surface portion. On the other hand, in the case of the vane 1d (FIG. 4), the nitride layer 3 is formed on the two sliding surfaces,
The ion plating film 4 is formed only on the nose portion of the two sliding surfaces which is exposed to particularly severe sliding conditions.

【0036】[0036]

【実施例】【Example】

次に、本発明の実験例を示す。実験例1 アムスラー型試験機を用いて圧縮機用摺動部材の耐摩耗
性と相手攻撃性を試験した。母材としてドーナツ状(外
径40mm、内径16mm、厚さ10mm)の高速度工
具鋼(SKH51)を用い、その外周面に後述する種々
の表面処理を施してベーンに相当するテスト片(サンプ
ル、比較サンプル1〜2)を作製した。一方、テスト片
に対する相手材として、ローラに相当する平板状(18
mm×15mm×厚さ5mm)のモニクロ(モリブデ
ン、ニッケル、クロムを含有する鋳鉄)を用いた。そし
て図6に示すように、ドーナツ状のテスト片を平面接触
滑り摩耗試験における回転片23として使用し、これを
容器21に貯留されている潤滑油22に浸す一方、平板
状の相手材を固定片24として使用し、これを回転片
(試験片)上に荷重Pをかけて圧接し、回転片23を回
転させた。その試験条件とテスト片の詳細は次の通りで
ある。
Next, an experimental example of the present invention will be shown. Experimental Example 1 A sliding member for a compressor was tested for wear resistance and opponent attack using an Amsler type tester. A doughnut-shaped (outer diameter 40 mm, inner diameter 16 mm, thickness 10 mm) high-speed tool steel (SKH51) was used as the base material, and various surface treatments described below were applied to the outer peripheral surface of the test piece (sample, Comparative samples 1-2) were prepared. On the other hand, as a mating material for the test piece, a flat plate (18
mm × 15 mm × thickness 5 mm) monichrome (cast iron containing molybdenum, nickel and chromium) was used. Then, as shown in FIG. 6, a doughnut-shaped test piece was used as a rotating piece 23 in a plane contact sliding wear test, and this was dipped in the lubricating oil 22 stored in the container 21, while the flat plate-shaped mating member was fixed. It was used as a piece 24, and this was pressed against a rotating piece (test piece) by applying a load P to rotate the rotating piece 23. Details of the test conditions and test pieces are as follows.

【0037】[試験条件] 試験機:アムスラー型試験機 回転片:ドーナツ状(外径40mm、内径16mm、厚
さ10mm)のサンプル及び比較サンプル1〜2 固定片:平板状(18mm×15mm×厚さ5mm)の
モニクロ 回転速度:1m/秒(478r.p.m.) 潤滑油:エステル油 油 温:75℃ 荷 重:100kg 時 間:7時間 [テスト片の詳細] テスト片(サンプル及び比較1〜2)は次のように作製
した。
[Test Conditions] Tester: Amsler type tester Rotating piece: donut-shaped (outer diameter 40 mm, inner diameter 16 mm, thickness 10 mm) and comparative samples 1-2 Fixed piece: flat plate (18 mm × 15 mm × thickness) 5 mm) rotation speed: 1 m / sec (478 rpm) Lubricating oil: Ester oil Oil temperature: 75 ° C Load: 100 kg Hour: 7 hours [Details of test piece] Test piece (sample and comparison 1-2) were produced as follows.

【0038】(1)サンプル ドーナツ状の高速度工具鋼(SKH51)を430℃で
2時間予備加熱した後、ガス圧4torr、N2 ガスとH2
ガスとの混合比率がN2 :H2 =7:3、温度520℃
の条件下で30分間イオン純窒化処理を行い、母材表面
に窒化層を形成した。この窒化層は、厚さ5μmの化合
物層と、その下にある厚さ80μmの拡散層を有し、表
面硬さがHv1200であった。
(1) Sample After high-speed doughnut-shaped high speed tool steel (SKH51) was preheated at 430 ° C. for 2 hours, gas pressure was 4 torr, N 2 gas and H 2 were added.
Mixing ratio with gas N 2 : H 2 = 7: 3, temperature 520 ° C.
Ion pure nitriding treatment was performed for 30 minutes under the conditions described above to form a nitride layer on the surface of the base material. This nitrided layer had a compound layer with a thickness of 5 μm and a diffusion layer with a thickness of 80 μm below it, and had a surface hardness of Hv1200.

【0039】そして、ドーナツ形状を有する母材の外周
面の窒化層上に、反応イオンプレーティング法によって
イオンプレーティング皮膜を形成した。すなわち、窒素
等の反応ガス中にCrを蒸発させ、気相状態でイオン化
して、マイナスにバイアスされた母材表面に反応ガスと
蒸発物質イオンとの反応生成物であるCrN型窒化クロ
ムとCr2 N型窒化クロムとの混合物からなるイオンプ
レーティング皮膜を形成した。
Then, an ion plating film was formed by a reactive ion plating method on the nitride layer on the outer peripheral surface of the doughnut-shaped base material. That is, Cr is vaporized in a reaction gas such as nitrogen, ionized in a vapor phase state, and CrN-type chromium nitride and Cr, which are reaction products of the reaction gas and vaporized material ions, are formed on the surface of the base material that is negatively biased. 2 An ion plating film made of a mixture with N-type chromium nitride was formed.

【0040】このようにして作製されたサンプルは、母
材であるSKH51上に、窒化層と、厚さ4μmのCr
N型窒化クロムとCr2 N型窒化クロムの混合イオンプ
レーティング皮膜(混合組成比率はCrN:Cr2 N=
50:50)が順次形成されたものであった。
The sample manufactured in this manner was obtained by forming a nitride layer and a Cr film having a thickness of 4 μm on the base material SKH51.
Mixed ion plating film of N type chromium nitride and Cr 2 N type chromium nitride (mixed composition ratio is CrN: Cr 2 N =
50:50) were sequentially formed.

【0041】(2)比較1 サンプルの場合と同様にして窒化を行い、次いで、ドー
ナツ形状を有する母材の外周面の窒化層上に反応イオン
プレーティング法を施すことによって、CrN型窒化ク
ロムのみからなるイオンプレーティング皮膜を形成し
た。
(2) Comparative 1 Nitriding was performed in the same manner as in the case of the sample, and then the reactive ion plating method was applied on the nitride layer on the outer peripheral surface of the base material having a donut shape to obtain only CrN-type chromium nitride. An ion plating film of was formed.

【0042】このようにして作製された比較1は、母材
であるSKH51上に、窒化層と、厚さ4μmのCrN
型窒化クロムのみからなるイオンプレーティング皮膜が
順次形成されたものであった。
In Comparative Example 1 produced in this way, a nitride layer and a 4 μm thick CrN film were formed on the base material SKH51.
The ion plating film consisting of only chromium nitride was sequentially formed.

【0043】(3)比較2 比較1の場合と同様にして窒化を行い、次いで、ドーナ
ツ形状を有する母材の外周面の窒化層上に反応イオンプ
レーティング法を施すことによって、Cr2 N型窒化ク
ロムのみからなるイオンプレーティング皮膜を形成し
た。
(3) Comparative 2 Nitriding was performed in the same manner as in Comparative 1, and then the reactive ion plating method was applied to the nitride layer on the outer peripheral surface of the base material having a donut shape to form Cr 2 N type. An ion plating film made of only chromium nitride was formed.

【0044】このようにして作製された比較2は、母材
であるSKH51上に、窒化層と、厚さ4μmのCr2
N型窒化クロムのみからなるイオンプレーティング皮膜
が順次形成されたものであった。
In Comparative Example 2 thus produced, a nitride layer and a Cr 2 film having a thickness of 4 μm were formed on the base material SKH51.
The ion plating film consisting only of N-type chromium nitride was sequentially formed.

【0045】[結果]試験結果を図7に示す。Cr2
単独のイオンプレーティング皮膜を有する比較2の場合
には、自己の摩耗量が1.5μm、相手材の摩耗量が
1.1μmであり、充分な耐摩耗性を具備せず、相手攻
撃性も高い。また、CrN単独のイオンプレーティング
皮膜を有する比較1の場合には、自己の摩耗量が0.4
μm、相手材の摩耗量が0μmであり、Cr2 N単独に
比べれば耐摩耗性が幾分か向上し、相手攻撃性も低下し
ている。これらと比較してCrNとCr2 Nとの混合イ
オンプレーティング皮膜を有するサンプル(本発明品)
は、自己の摩耗量が0.2μm、相手材の摩耗量が0μ
mであり、耐摩耗性が著しく向上していることが判る。
[Results] The test results are shown in FIG. Cr 2 N
In the case of Comparative 2 having a single ion plating film, the wear amount of self is 1.5 μm and the wear amount of the mating material is 1.1 μm, which does not have sufficient wear resistance and also has aggression property against the mating material. high. Further, in the case of Comparative 1 having the ion plating film of CrN alone, the wear amount of self is 0.4.
[mu] m, the wear amount of the mating member is 0 .mu.m, the abrasion resistance is somewhat improved if compared to the Cr 2 N alone, has fallen counterpart material. A sample having a mixed ion plating film of CrN and Cr 2 N as compared with these (invention product)
Indicates that the wear amount of self is 0.2 μm and the wear amount of the mating material is 0 μm.
It is found that the abrasion resistance is remarkably improved.

【0046】実験例2 次に、本発明の摺動部材の優秀性を確認するために、母
材である高速度工具鋼(SKH51)上に様々な表面処
理を行ってテスト片(サンプル1〜6、比較サンプル1
〜3)を作製し、その耐摩耗性、耐スカッフィング性及
び密着性(剥離性)を試験した。
Experimental Example 2 Next, in order to confirm the superiority of the sliding member of the present invention, various surface treatments were performed on a high-speed tool steel (SKH51) which is a base material, and test pieces (Sample 1 to Sample 1). 6, comparative sample 1
To 3) were prepared and tested for abrasion resistance, scuffing resistance and adhesion (peelability).

【0047】実験例2のテスト片は、実験例1と同様の
ドーナツ状の高速度工具鋼(形状、サイズも同一)を用
い、実験例1と同様の方法で窒化とイオンプレーティン
グを施すことによって作製したものである。
For the test piece of Experimental Example 2, the same doughnut-shaped high-speed tool steel as that of Experimental Example 1 (having the same shape and size) was used, and nitriding and ion plating were performed in the same manner as in Experimental Example 1. It was made by.

【0048】このようにして作製された各テスト片は、
第2表に示すように、母材であるSKH51上に、窒化
層と、厚さ4μmの混合又は単一のイオンプレーティン
グ皮膜が順次形成されたものであった。
Each test piece produced in this way is
As shown in Table 2, a nitride layer and a mixed or single ion plating film having a thickness of 4 μm were sequentially formed on the base material SKH51.

【0049】[0049]

【表2】 *1 組 成:X線解析図形の各組成の反射強度比によ
り決定 *2 気孔率:断面方向の切断された検鏡試料面の画像
処理から算定 (1)耐摩耗性試験 実験例1と同様に操作して、各テスト片(回転片)と相
手材(固定片)の摩耗量を測定した。結果を図8に示
す。従来のCrN単独のイオンプレーティング皮膜を有
するテスト片(比較サンプル3)の摩耗量を100とし
た場合、サンプル1〜5自体の摩耗指数は50であり耐
摩耗性に優れており、一方、相手材の摩耗指数は40で
あり相手攻撃性も低いことが判る。
[Table 2] * 1 Composition: Determined by the reflection intensity ratio of each composition in the X-ray analysis pattern * 2 Porosity: Calculated from image processing of the cross-section cut microscopic sample surface (1) Wear resistance test Same as Experimental Example 1 The abrasion amount of each test piece (rotating piece) and the mating material (fixed piece) was measured by operating the above. The results are shown in Fig. 8. When the wear amount of the conventional test piece having the ion plating film of CrN alone (Comparative Sample 3) is 100, the wear index of Samples 1 to 5 itself is 50, which is excellent in wear resistance. The wear index of the material is 40, which shows that the opponent's aggressiveness is also low.

【0050】本発明品よりもCrNの含有率が低い(4
0重量%)比較サンプル1と、本発明品ではあるが気孔
率が大きい(25%)サンプル6は、自己の摩耗指数が
それぞれ95、85、相手材の摩耗指数がそれぞれ8
0、70であり、CrN単独の場合よりも若干良い程度
であった。Crが多すぎる(20重量%)比較サンプル
2は、自己の摩耗指数が80、相手材の摩耗指数が70
であり、改善が少なかった。
The content of CrN is lower than that of the product of the present invention (4
0% by weight) Comparative sample 1 and sample 6 of the present invention, which has a large porosity (25%), have a wear index of 95 and 85, respectively, and a wear index of the mating material of 8 respectively.
The values were 0 and 70, which were slightly better than those of CrN alone. Comparative sample 2 containing too much Cr (20% by weight) had a wear index of 80 and a wear index of the mating material of 70.
And there was little improvement.

【0051】(2)耐スカッフィング性試験 本試験は、基本的に実験例1の耐摩耗性と同様に操作し
て行った。すなわち、アムスラー型試験機を用い、テス
ト片(回転片)としてドーナツ状(外径40mm、内径
16mm、厚さ10mm)のサンプル1〜6及び比較サ
ンプル1〜3を用い、相手材として平板状(18mm×
15mm×厚さ5mm)のモニクロを用いた。そして、
先ず始めに回転片と固定片の摺動面を馴染ませるため
に、荷重25kg/cm2 をかけて固定片を回転片に圧
接し、潤滑油を供給しながら20分間、回転させた。次
に面圧を30kg/cm2 に上げ、引き続き2分毎に5
kg/cm2 ずつ上昇させて最終的にスカッフィングを
起こさせ、スカッフィングが生じたときの荷重を限界面
圧として測定した。試験条件を以下に示す。
(2) Scuffing resistance test This test was conducted basically in the same manner as the wear resistance of Experimental Example 1. That is, using an Amsler type tester, doughnut-shaped (outer diameter 40 mm, inner diameter 16 mm, thickness 10 mm) samples 1 to 6 and comparative samples 1 to 3 were used as test pieces (rotating pieces), and flat plates ( 18 mm x
A 15 mm × 5 mm thick monichrome was used. And
First, in order to adjust the sliding surfaces of the rotary piece and the fixed piece to each other, a load of 25 kg / cm 2 was applied to press the fixed piece against the rotary piece, and the lubricating piece was rotated for 20 minutes while supplying the lubricating oil. Next, the surface pressure was increased to 30 kg / cm 2 , and then 5 minutes every 2 minutes.
The scuffing was finally caused by increasing in kg / cm 2 , and the load when the scuffing occurred was measured as the limit surface pressure. The test conditions are shown below.

【0052】[試験条件] 試験機:アムスラー型試験機 回転片:ドーナツ状(外径40mm、内径16mm、厚
さ10mm)のサンプル1〜6及び比較サンプル1〜3 固定片:平板状(18mm×15mm×厚さ5mm)の
モニクロ 回転速度:5m/秒 潤滑油:SAE30+白灯油(1:1) 油 温:50℃ 油 量:0.2リットル/分 荷 重:25kg/cm2 で20分経過後、30kg/
cm2 とし、以後、2分毎に5kg/cm2 ずつスカッ
フィング発生まで順次上昇 試験結果は、CrN単独(比較サンプル3)の場合の限
界面圧を指数100として図9に示した。図9に示すよ
うに、従来のCrN単独のイオンプレーティング皮膜を
有するテスト片(比較サンプル3)の限界面圧を指数1
00とした場合、サンプル1〜5の指数は300であ
り、耐スカッフィング性に優れていることがわかる。
[Test Conditions] Testing machine: Amsler type testing machine Rotating piece: Donut-shaped (outer diameter 40 mm, inner diameter 16 mm, thickness 10 mm) Samples 1 to 6 and comparative samples 1 to 3 Fixed piece: flat plate (18 mm x 15mm x 5mm thick) Monikuro Rotational speed: 5m / sec Lubricating oil: SAE30 + white kerosene (1: 1) Oil temperature: 50 ° C Oil amount: 0.2 liter / min Load: 25kg / cm 2 for 20 minutes After that, 30 kg /
cm 2 and thereafter successively increases by 5 kg / cm 2 every 2 minutes until scuffing occurs. The test results are shown in FIG. 9 with the critical surface pressure of CrN alone (Comparative Sample 3) set to 100. As shown in FIG. 9, the limit surface pressure of the test piece (comparative sample 3) having the conventional ion plating film of CrN alone is set to be 1
When set to 00, the indices of Samples 1 to 5 are 300, which shows that the scuffing resistance is excellent.

【0053】比較サンプル1、比較サンプル2、及びサ
ンプル6の指数は、それぞれ150、135、及び12
5であり、サンプル1〜5の約半分であった。 (3)密着性試験(スクラッチ試験) スクラッチ試験により、イオンプレーティング皮膜の密
着力や耐久性に関連する臨界荷重を測定した。試験結果
は、CrN単独(比較サンプル3)の臨界荷重を指数1
00として図10に示した。図10に示すように、従来
のCrN単独のイオンプレーティング皮膜を有するテス
ト片(比較サンプル3)の剥離指数を100とした場
合、サンプル1〜6の指数は100〜130であり、C
rN単独と同等か又はそれよりも優れていた。
The indices of Comparative Sample 1, Comparative Sample 2, and Sample 6 are 150, 135, and 12, respectively.
5 was about half of Samples 1-5. (3) Adhesion test (scratch test) A critical load related to the adhesion and durability of the ion plating film was measured by a scratch test. The test result shows that the critical load of CrN alone (Comparative sample 3) is 1
00 is shown in FIG. As shown in FIG. 10, when the peeling index of the test piece (comparative sample 3) having the conventional ion plating film of CrN alone is 100, the indexes of Samples 1 to 6 are 100 to 130, and C is
It was equal to or better than rN alone.

【0054】比較サンプル1は、CrN単独よりも剥離
性が劣っていた。なお、比較サンプル2の指数は120
であり剥離性は優れているが、既に述べたように図8の
耐摩耗性、図9の耐スカッフィング性を同時に具備して
いないので、使用に適さない。
Comparative Sample 1 was inferior in peelability to CrN alone. The index of comparative sample 2 is 120
Although it is excellent in peeling property, it is not suitable for use because it does not have the abrasion resistance of FIG. 8 and the scuffing resistance of FIG. 9 at the same time as described above.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の圧縮機用
摺動部材は、従来のイオンプレーティング皮膜を用いた
場合と同等又はそれ以上の耐摩耗性、耐スカッフィング
性を保持しているにとどまらず、欠け、剥離、折損、亀
裂等が非常に少ないことから製造時の加工性や運転時の
耐久性に優れ、しかも、相手部材攻撃性も低いので相手
部材の摩耗量を非常に少なくすることができる。
As described above, the sliding member for a compressor of the present invention retains the wear resistance and scuffing resistance equivalent to or higher than those when the conventional ion plating film is used. In addition to excellent chipping, peeling, breakage, cracks, etc., it has excellent processability during manufacturing and durability during operation. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るロータリー圧縮機用ベーンの一例
(1a)の縦断面図である。
FIG. 1 is a vertical sectional view of an example (1a) of a vane for a rotary compressor according to the present invention.

【図2】本発明に係るロータリー圧縮機用ベーンの一例
(1b)の縦断面図である。
FIG. 2 is a vertical sectional view of an example (1b) of a vane for a rotary compressor according to the present invention.

【図3】本発明に係るロータリー圧縮機用ベーンの一例
(1c)の縦断面図である。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view of an example (1c) of a vane for a rotary compressor according to the present invention.

【図4】本発明に係るロータリー圧縮機用ベーンの一例
(1d)の縦断面図である。
FIG. 4 is a vertical sectional view of an example (1d) of a vane for a rotary compressor according to the present invention.

【図5】本発明に係るロータリー圧縮機用ベーンを用い
たロータリー圧縮機を示す説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a rotary compressor using a vane for a rotary compressor according to the present invention.

【図6】アムスラー型試験機の概略を示す説明図であ
る。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing an outline of an Amsler type testing machine.

【図7】実験例1で行った耐摩耗性試験の結果である。FIG. 7 shows the results of the abrasion resistance test conducted in Experimental Example 1.

【図8】実験例2で行った耐摩耗性試験の結果である。FIG. 8 is a result of an abrasion resistance test conducted in Experimental Example 2.

【図9】実験例2で行った耐スカッフィング性試験の結
果である。
9 is a result of a scuffing resistance test conducted in Experimental Example 2. FIG.

【図10】実験例2で行ったスクラッチ試験の結果であ
る。
FIG. 10 is a result of a scratch test performed in Experimental Example 2.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1(1a〜1d)…ベーン 2…母材 3…窒化層 4…イオンプレーティング皮膜 5…ベーン溝 6…ベーン溝の内壁 7…スプリング 8…ローラ 9…シャフト 10…ローラハウジング 21…容器 22…潤滑油 23…回転片(テスト片) 24…固定片(相手部材) P…荷重 1 (1a-1d) ... Vane 2 ... Base material 3 ... Nitride layer 4 ... Ion plating film 5 ... Vane groove 6 ... Vane groove inner wall 7 ... Spring 8 ... Roller 9 ... Shaft 10 ... Roller housing 21 ... Container 22 ... Lubricating oil 23 ... Rotating piece (test piece) 24 ... Fixed piece (counterpart) P ... Load

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 圧縮機内で相対的に摺動運動を行う圧縮
機用摺動部材であって、少なくともその一摺動面領域に
CrN型窒化クロムとCr2 N型窒化クロムとの混合物
からなるイオンプレーティング皮膜が形成されており、
該イオンプレーティング皮膜の混合組成比率はCrN型
窒化クロム:45.0〜98.0重量%、及びCr2
型窒化クロム:残部であることを特徴とする圧縮機用摺
動部材。
1. A sliding member for a compressor, which relatively slides in a compressor, comprising a mixture of CrN-type chromium nitride and Cr 2 N-type chromium nitride in at least one sliding surface region thereof. Ion plating film is formed,
The mixed composition ratio of the ion plating film is CrN-type chromium nitride: 45.0 to 98.0% by weight, and Cr 2 N
Type Chromium Nitride: A sliding member for a compressor, characterized by the balance.
【請求項2】 圧縮機用摺動部材の少なくとも一摺動面
領域において母材上に窒化層が形成されており、且つ該
窒化層上に前記イオンプレーティング皮膜が形成されて
いることを特徴とする請求項1記載の圧縮機用摺動部
材。
2. A nitride layer is formed on a base material in at least one sliding surface region of a compressor sliding member, and the ion plating film is formed on the nitride layer. The sliding member for a compressor according to claim 1.
【請求項3】 圧縮機内で相対的に摺動運動を行う圧縮
機用摺動部材であって、少なくともその一摺動面領域に
CrN型窒化クロムとCr2 N型窒化クロムと金属Cr
との混合物からなるイオンプレーティング皮膜が形成さ
れており、該イオンプレーティング皮膜の混合組成比率
はCrN型窒化クロム:45.0〜98.0重量%、C
r:0.5〜15.5重量%、及びCr2 N型窒化クロ
ム:残部であることを特徴とする圧縮機用摺動部材。
3. A sliding member for a compressor which relatively slides in a compressor, wherein CrN-type chromium nitride, Cr 2 N-type chromium nitride and metallic Cr are present in at least one sliding surface region thereof.
And an ion plating film made of a mixture thereof with a mixed composition ratio of CrN-type chromium nitride: 45.0 to 98.0% by weight, C
r: 0.5 to 15.5% by weight, and Cr 2 N-type chromium nitride: the balance, a sliding member for a compressor.
【請求項4】 圧縮機用摺動部材の少なくとも一摺動面
領域において母材上に窒化層が形成されており、且つ該
窒化層上に前記イオンプレーティング皮膜が形成されて
いることを特徴とする請求項3記載の圧縮機用摺動部
材。
4. A nitride layer is formed on a base material in at least one sliding surface region of a compressor sliding member, and the ion plating film is formed on the nitride layer. The sliding member for a compressor according to claim 3.
【請求項5】 前記イオンプレーティング皮膜の気孔率
が0.5〜20.0%であることを特徴とする請求項1
乃至4のいずれかに記載の圧縮機用摺動部材。
5. The porosity of the ion plating film is 0.5 to 20.0%.
5. The sliding member for a compressor according to any one of 4 to 4.
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