JPH0985738A - Cutting method - Google Patents

Cutting method

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JPH0985738A
JPH0985738A JP7248058A JP24805895A JPH0985738A JP H0985738 A JPH0985738 A JP H0985738A JP 7248058 A JP7248058 A JP 7248058A JP 24805895 A JP24805895 A JP 24805895A JP H0985738 A JPH0985738 A JP H0985738A
Authority
JP
Japan
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adhesive
magnetic
block
wax
jig
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP7248058A
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Japanese (ja)
Inventor
Keitaro Endo
敬太郎 遠藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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  • Magnetic Heads (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate the removing work of an adherent wax remaining in respective grooves which are provided on the affixing surface of a jig, and in addition, surely prevent chippings on a block from generating when each chip is cut out by applying a cutting process on each block being cut out from a wafer. SOLUTION: A solid adherent wax is dissolved with a volatile organic solvent to make a liquid adhesive, and after applying the liquid adhesive on an affixing surface 34a of a jig 34, a low bar 42 is mounted on the applicable affixing surface 34a. At the same time, the applied liquid adhesive is heated, and the low bar 42 is bonded and fixed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ウェハーから切り
出された各ブロックに所定幅毎に切断加工を施して各チ
ップを切り出す切断加工方法に関し、特に複数の薄膜磁
気ヘッド部が真空薄膜形成技術により成膜形成された非
磁性ブロックから各スライダ単品毎に切り出す切断加工
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cutting method in which each block cut out from a wafer is cut into a predetermined width and each chip is cut out. The present invention relates to a cutting method for cutting each slider individually from a non-magnetic block formed into a film.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ハードディスク装置における小型
大容量化が進行する中で、特にノート型パーソナルコン
ピュータに代表されるような可搬型コンピュータへの適
用が考慮される用途では、例えば2.5インチ程度の小
型ハードディスク装置に対する要求が高まっている。
2. Description of the Related Art In recent years, as hard disk drives have become smaller and larger in capacity, in particular, for applications that are considered to be applied to portable computers typified by notebook personal computers, for example, about 2.5 inches. There is a growing demand for smaller hard disk drives.

【0003】このような小型ハードディスクでは、ディ
スク径に依存して媒体速度が遅くなるため、再生出力が
媒体速度に依存する従来の誘導型磁気ヘッドでは、再生
出力が低下し、大容量化の妨げとなっている。
[0003] In such a small hard disk, the medium speed becomes slow depending on the disk diameter. Therefore, in the conventional inductive magnetic head in which the reproduction output depends on the medium speed, the reproduction output is reduced and the increase in capacity is hindered. It has become.

【0004】これに対して、磁界によって抵抗率が変化
する磁気抵抗効果を有する磁性層(以下、単にMR素子
と称する。)の抵抗変化を再生出力電圧として検出する
磁気抵抗効果型磁気ヘッド(以下、単にMRヘッドと称
する。)は、その再生出力が媒体速度に依存せず、低媒
体速度でも高再生出力が得られるという特徴を有するた
め、小型ハードディスクにおいて大容量化を実現する磁
気ヘッドとして注目されている。
On the other hand, a magnetoresistive head (hereinafter referred to as a magnetoresistive head) which detects a change in resistance of a magnetic layer (hereinafter, simply referred to as an MR element) having a magnetoresistive effect whose resistivity changes according to a magnetic field as a reproduction output voltage. , Which is simply referred to as an MR head.) Has a feature that its reproduction output does not depend on the medium speed and that a high reproduction output can be obtained even at a low medium speed. Therefore, it is noted as a magnetic head that realizes a large capacity in a small hard disk. Has been done.

【0005】このMRヘッドは、遷移金属に見られる磁
化の向きとその内部を流れる電流の向きのなす角によっ
て電気抵抗値が変化する、いわゆる磁気抵抗効果現象を
利用した再生用磁気ヘッドである。すなわち、磁気記録
媒体からの漏洩磁束を上記MR素子が受けると、その磁
束により上記MR素子の磁化の向きが反転し、上記MR
素子内部に流れる電流の向きに対して磁性量に応じた角
度をもつようになる。それ故に上記MR素子の電気抵抗
値が変化し、この変化量に応じた電圧変化が電流が流れ
ているMR素子の両端の電極に現れる。したがって、こ
の電圧変化を電圧信号として磁気記録信号を読みだせる
ことになる。
[0005] This MR head is a reproducing magnetic head utilizing a so-called magnetoresistance effect phenomenon, in which the electric resistance changes depending on the angle between the direction of the magnetization observed in the transition metal and the direction of the current flowing inside the transition metal. That is, when the MR element receives the leakage magnetic flux from the magnetic recording medium, the direction of the magnetization of the MR element is reversed by the magnetic flux, and the MR element
It has an angle corresponding to the magnetic amount with respect to the direction of the current flowing inside the element. Therefore, the electric resistance value of the MR element changes, and a voltage change corresponding to the change amount appears on the electrodes at both ends of the MR element through which the current flows. Therefore, a magnetic recording signal can be read using this voltage change as a voltage signal.

【0006】上記MRヘッドは、基板上に薄膜技術によ
り上記MR素子や電極膜、絶縁層等を成膜し、フォトリ
ソグラフィー技術によってこれらを所定形状にエッチン
グすることにより形成され、再生時のギャップ長を規定
して不要な磁束の上記MR素子への浸入を防止するため
に、シールド材となる下部磁性層及び上部磁性層を上下
に配したシールド構造を採用している。
The MR head is formed by forming the MR element, the electrode film, the insulating layer, etc. on a substrate by a thin film technique and etching them into a predetermined shape by a photolithography technique. In order to prevent unwanted magnetic flux from entering the MR element by defining the above, a shield structure in which a lower magnetic layer and an upper magnetic layer, which serve as shield materials, are arranged vertically is adopted.

【0007】具体的に、例えば、センス電流がトラック
幅方向と直交する方向に流れる、いわゆる縦型のMRヘ
ッド装置においては、非磁性基板上に軟磁性膜である下
部磁性層、及びAl2 3 或はSiO2 等を材料とする
絶縁層が順次積層され、この絶縁層上に、MR素子が、
その長手方向が磁気記録媒体との対向面(磁気記録媒体
走行面)と垂直となるように配され、且つその一方の端
面が磁気記録媒体走行面aに露出するかたちに形成され
ている。さらに、上記MR素子の両端部上に、このMR
素子にセンス電流を提供するための前端電極及び後端電
極が設けられ、MR素子上にAl2 3 或はSiO2
材料とする絶縁層が形成されている。この絶縁層上には
MR素子と対向してバイアス導体が配されて、さらにこ
の上に絶縁層が形成され、当該絶縁層上に軟磁性膜であ
る上部磁性層が積層されてMRヘッド部が構成されてい
る。ここで、MR素子は前端電極と後端電極との間の領
域が有効感磁部となる。
Specifically, for example, in a so-called vertical MR head device in which a sense current flows in a direction orthogonal to the track width direction, a lower magnetic layer which is a soft magnetic film on a non-magnetic substrate, and Al 2 O. Insulating layers made of 3 or SiO 2 etc. are sequentially laminated, and the MR element is formed on the insulating layer.
It is arranged such that its longitudinal direction is perpendicular to the surface facing the magnetic recording medium (the magnetic recording medium running surface), and one end face of the magnetic recording medium is exposed to the magnetic recording medium running surface a. Further, on the both ends of the MR element, the MR
A front electrode and a rear electrode for providing a sense current to the element are provided, and an insulating layer made of Al 2 O 3 or SiO 2 is formed on the MR element. A bias conductor is arranged on the insulating layer so as to face the MR element, an insulating layer is further formed on the bias conductor, and an upper magnetic layer, which is a soft magnetic film, is stacked on the insulating layer to form an MR head portion. It is configured. Here, in the MR element, a region between the front end electrode and the rear end electrode serves as an effective magnetic sensing part.

【0008】そして、上記非磁性基板のMRヘッド部形
成面と略々直交する面であるスライダ面に所定の溝部が
削設されスライダレールが形成されて上記MRヘッド装
置が構成されている。
Then, a predetermined groove is formed in the slider surface, which is a surface substantially orthogonal to the MR head forming surface of the non-magnetic substrate, and a slider rail is formed to constitute the MR head device.

【0009】この縦型のMRヘッド部とともに、センス
電流がトラック幅方向と平行な方向に流れる、いわゆる
横型のMRヘッド部もまた利用されている。この横型の
MRヘッドにおいては、MR素子がその長手方向が磁気
記録媒体との磁気記録媒体走行面と平行となるように配
されている。
Along with this vertical type MR head part, a so-called horizontal type MR head part in which a sense current flows in a direction parallel to the track width direction is also used. In this horizontal MR head, the MR element is arranged such that its longitudinal direction is parallel to the magnetic recording medium running surface with the magnetic recording medium.

【0010】上記MRヘッド部は、上記MR素子を上部
磁性層及び下部磁性層で挟む構造としているため、分解
能が向上し、これら上部,下部磁性層のないものと比較
して、再生出力のS/N及び記録密度を向上させること
ができる。
Since the MR head part has a structure in which the MR element is sandwiched between the upper magnetic layer and the lower magnetic layer, the resolution is improved, and the reproduction output S is higher than that without the upper and lower magnetic layers. / N and recording density can be improved.

【0011】ここで、上記MRヘッド装置の製造方法に
ついて説明する。
Now, a method of manufacturing the MR head device will be described.

【0012】先ず、Al2 3 −TiC等の非磁性材料
よりなるウェハー上に所定間隔をもって複数の上記MR
ヘッド部をスパッタリング等の薄膜形成技術により成膜
形成する。
First, a plurality of the above-mentioned MRs are formed at predetermined intervals on a wafer made of a non-magnetic material such as Al 2 O 3 —TiC.
The head portion is formed into a film by a thin film forming technique such as sputtering.

【0013】次いで、ウェハー・トリミングを施して上
記ウェハーの外周部の不要な部分を切り落とした後に、
当該ウェハーの切断ライン上に成膜された薄膜(保護
膜)部分を切除する。
Then, after trimming the wafer to cut off unnecessary portions of the outer peripheral portion of the wafer,
The thin film (protective film) portion formed on the cutting line of the wafer is cut off.

【0014】続いて、上記ウェハーを切断して、各MR
ヘッド部が1列に形成された複数の非磁性ブロック(ロ
ー・バー)を作製する。このロー・バーは直方体形状で
あり、その一主面がMRヘッド部形成面とされている。
そして、このMRヘッド部形成面と略々直交する一面が
スライダレールが形成されるスライダ面となる。
Then, the above-mentioned wafer is cut into individual MRs.
A plurality of non-magnetic blocks (row bars) having head portions formed in one row are manufactured. This row bar has a rectangular parallelepiped shape, and one main surface thereof is the MR head portion forming surface.
One surface that is substantially orthogonal to the MR head portion forming surface becomes the slider surface on which the slider rail is formed.

【0015】次に、固形の接着性ワックスを高温に加熱
して軟化させ、所定の治具の貼付面に塗布する。そし
て、この貼付面上に上記ロー・バーを載置して当該接着
性ワックスにより接着固定する。
Next, the solid adhesive wax is heated to a high temperature to be softened, and the wax is applied to the attachment surface of a predetermined jig. Then, the row bar is placed on the sticking surface and fixed by adhesion with the adhesive wax.

【0016】続いて、ダイヤモンドカップホイールを用
いて上記スライダ面に深さ数μmまで荒研削を施した後
に、当該スライダ面に溝加工を施してスライダレールを
削設する。
Subsequently, a diamond cup wheel is used to roughly grind the slider surface to a depth of several .mu.m, and then the slider surface is grooved to form a slider rail.

【0017】そして、上記治具の貼付面に削設されてい
る各溝に対応させて、回転砥石を用いて上記ロー・バー
に研削を施して各ヘッドチップ毎に切断し、スライダ面
にデプス研磨を施して規定のヘッドデプス値として、テ
ーパ加工及び空気流入溝加工を施す。
Then, the row bar is ground by using a rotary grindstone so as to correspond to the grooves formed on the attachment surface of the jig, and each head chip is cut, and the depth is set on the slider surface. After polishing, taper processing and air inflow groove processing are performed to a specified head depth value.

【0018】その後、当該ヘッドチップを上記治具から
取り外すことにより、上記MRヘッド装置が完成する。
Thereafter, the head chip is removed from the jig to complete the MR head device.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記ロー・
バーに研削を施して各ヘッドチップ毎に切断するに際し
て、具体的には、図18に示すように、ロー・バー10
1を治具102の貼付面102a上に当該貼付面102
aに塗布された接着性ワックスより接着固定する。この
とき、接着性ワックスは高温により軟化させた状態でも
粘性が高いために、図示の如く当該接着性ワックスが治
具102の貼付面102aに削設されている各溝102
b内に残留することになる。
[Problems to be Solved by the Invention]
When the bar is ground and cut into each head chip, specifically, as shown in FIG.
1 on the attachment surface 102a of the jig 102
The adhesive wax applied to a is fixed by adhesion. At this time, since the adhesive wax has a high viscosity even when it is softened by high temperature, the adhesive wax is cut on the attaching surface 102a of the jig 102 as shown in the drawing.
It will remain in b.

【0020】この状態で図19に示すように、各溝10
2bに対応させて回転砥石103によりロー・バー10
1に研削を施すので、ロー・バー101を切断した回転
砥石103が上記溝102b内を通過するときに当該回
転砥石103は溝102b内で固化した接着性ワックス
内を通過することとなる。したがって、回転砥石103
に目詰まりが生じて研削精度の低下を来すとともに、ロ
ー・バー101の特にMRヘッド部形成面にチッピング
(チップ欠け)tが発生する。
In this state, as shown in FIG. 19, each groove 10
The low bar 10 by the rotating grindstone 103 corresponding to 2b
Since 1 is ground, when the rotary grindstone 103 that cuts the row bar 101 passes through the groove 102b, the rotary grindstone 103 passes through the adhesive wax solidified in the groove 102b. Therefore, the rotary grindstone 103
In addition to clogging, the grinding accuracy is deteriorated, and chipping (chip chipping) t occurs especially on the surface of the row bar 101 where the MR head is formed.

【0021】このチップングtの発生を防止するには、
接着性ワックスを貼付面102aに塗布した後に各溝1
02b内に残留した接着性ワックスを除去することが必
要であり、したがって加工効率の低下が引き起こされ
る。
To prevent the chipping t from occurring,
After applying the adhesive wax to the application surface 102a, each groove 1
It is necessary to remove the residual adhesive wax in 02b, thus causing a reduction in processing efficiency.

【0022】そこで本発明は、上述の課題に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、ウェハーか
ら切り出された各ブロックに切断加工を施して各チップ
を切り出すに際して、治具の貼付面に削設された各溝内
に残留した接着性ワックスを除去する作業が不要であ
り、しかも当該ブロックにおけるチッピングの発生を確
実に抑止することを可能とする切断加工方法を提供する
ことにある。
Therefore, the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object thereof is to attach a jig when cutting each block cut out from a wafer to cut out each chip. An object of the present invention is to provide a cutting method that does not require the work of removing the adhesive wax remaining in each groove formed in the surface and can reliably suppress the occurrence of chipping in the block. .

【0023】[0023]

【課題を解決するための手段】本発明の対象となるもの
は、ウェハーから切り出された各ブロックに所定幅毎に
切断加工を施して各チップを切り出す切断加工方法であ
る。
The object of the present invention is a cutting method in which each block cut out from a wafer is cut to a predetermined width to cut out each chip.

【0024】本発明は、揮発性有機溶剤に固形の接着性
ワックスを溶解させて液状接着剤とし、この液状接着剤
を治具の貼付面に塗布した後に、当該貼付面上に上記ブ
ロックを載置するとともに塗布された液状接着剤に含ま
れる揮発性有機溶剤を揮発させて接着固定する工程と、
上記治具の貼付面に削設されている各溝に対応させて、
回転砥石を用いて上記ブロックに研削を施して各チップ
毎に切断する工程とを有する。
According to the present invention, a solid adhesive wax is dissolved in a volatile organic solvent to form a liquid adhesive, the liquid adhesive is applied to the sticking surface of the jig, and then the block is mounted on the sticking surface. Placing and placing a volatile organic solvent contained in the applied liquid adhesive to volatilize and adhere and fix,
Corresponding to each groove cut on the pasting surface of the jig,
A step of grinding the above block using a rotary grindstone and cutting each chip.

【0025】この場合、上記ブロックとしては、を複数
の薄膜磁気ヘッド部が真空薄膜形成技術により成膜形成
されてなる非磁性ブロックを主な対象とし、上述のよう
に治具の貼付面に接着固定された非磁性ブロックの当該
薄膜磁気ヘッド部形成面に略々直交するスライダ面に所
定の溝加工を施した後に、当該非磁性ブロックに切断加
工を施して各ヘッドチップを切り出す。
In this case, the block is mainly a non-magnetic block formed by forming a plurality of thin film magnetic head portions by a vacuum thin film forming technique, and adheres to the attaching surface of the jig as described above. After a predetermined groove is formed on a slider surface of the fixed non-magnetic block that is substantially orthogonal to the thin-film magnetic head portion forming surface, the non-magnetic block is cut to cut out each head chip.

【0026】さらに、薄膜磁気ヘッド部として、磁気記
録媒体からの信号磁界によって抵抗率が変化する磁気抵
抗効果を奏する磁気抵抗効果素子を有する磁気抵抗効果
型磁気ヘッド部に本発明を適用して好適である。
Furthermore, the present invention is preferably applied to a magnetoresistive effect type magnetic head part having a magnetoresistive effect element having a magnetoresistive effect in which the resistivity changes according to a signal magnetic field from a magnetic recording medium, as the thin film magnetic head part. Is.

【0027】本発明においては、上記液状接着剤中にお
ける接着性ワックスの濃度を10重量%以上70重量%
以下とすることが好適であり、更に好ましくは、このワ
ックス濃度を30重量%以上50重量%以下に設定す
る。ここで、上記ワックス濃度を10重量%より小とす
ると接着強度が劣化し、ワックス濃度を70重量%より
大とすると、加熱後の上記治具の貼付面に削設された各
溝内における接着性ワックスの充填率が高くなって不都
合である。
In the present invention, the concentration of the adhesive wax in the liquid adhesive is 10% by weight or more and 70% by weight or more.
The wax concentration is preferably the following, and more preferably, the wax concentration is set to 30% by weight or more and 50% by weight or less. Here, when the wax concentration is less than 10% by weight, the adhesive strength is deteriorated, and when the wax concentration is more than 70% by weight, the adhesion in each groove cut on the sticking surface of the jig after heating. This is inconvenient because the filling rate of the wax is high.

【0028】上述のように、本発明においては、揮発性
有機溶剤に固形の接着性ワックスを溶解させた液状接着
剤を治具の貼付面に塗布し、上記ブロックを載置すると
ともに塗布された液状接着剤に含まれる揮発性有機溶剤
を加熱等により揮発させて接着固定する。この場合、液
状接着剤は上記ブロックを治具の貼付面に載置したとき
には揮発性有機溶剤により希釈された状態にあるが、当
該液状接着剤を加熱することにより溶媒である揮発性有
機溶剤が完全に揮発し、通常の固形の接着性ワックスと
同等のワックス濃度となる。したがって、上記治具の貼
付面に削設されている各溝内に溜った液状接着剤も加熱
により揮発性有機溶剤が完全に揮発するため、当該溝内
に残存する接着性ワックスの充填率は小さく、上記ブロ
ックの切断加工時に回転砥石が当該ブロックを切断して
上記溝内に進入しても、接着性ワックスが殆ど残存して
いないために、回転砥石の目詰まりが防止されるととも
に、当該ブロックに発生しがちなチッピングが抑止され
ることになる。
As described above, in the present invention, the liquid adhesive prepared by dissolving the solid adhesive wax in the volatile organic solvent is applied to the attachment surface of the jig, and the block is placed and applied. The volatile organic solvent contained in the liquid adhesive is volatilized by heating or the like to bond and fix. In this case, the liquid adhesive is in a state of being diluted with the volatile organic solvent when the block is placed on the attachment surface of the jig, but by heating the liquid adhesive, the volatile organic solvent which is the solvent It completely volatilizes and has a wax concentration equivalent to that of a normal solid adhesive wax. Therefore, since the volatile organic solvent is completely volatilized by heating the liquid adhesive accumulated in each groove cut on the attachment surface of the jig, the filling rate of the adhesive wax remaining in the groove is Small, even when the rotating grindstone cuts the block and enters the groove during cutting of the block, since the adhesive wax hardly remains, clogging of the rotating grindstone is prevented, and The chipping that tends to occur in blocks is suppressed.

【0029】また、上記液状接着剤は、溶媒である揮発
性有機溶剤と溶質である接着性ワックスとの混合比率を
自在に変えることができるので、各諸条件に適したワッ
クス濃度の調整することが可能である。
In the liquid adhesive, the mixing ratio of the volatile organic solvent which is a solvent and the adhesive wax which is a solute can be freely changed. Therefore, the wax concentration should be adjusted according to various conditions. Is possible.

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る切断加工方法
を磁気抵抗効果型磁気ヘッド装置(MRヘッド装置)に
適用した具体的な実施の形態について図面を参照しなが
ら詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments in which the cutting method according to the present invention is applied to a magnetoresistive effect magnetic head device (MR head device) will be described in detail below with reference to the drawings.

【0031】このMRヘッド装置においては、図1に示
すように、その構成要素である磁気抵抗効果ヘッド部A
(MRヘッド部A)が、長手方向が磁気記録媒体走行面
aと直交するように形成された磁気抵抗効果を奏するM
R素子1が下部磁性層2と上部磁性層3とで挟持された
構造とされており、いわゆる縦型のMR磁気ヘッド部と
して構成されている。
In this MR head device, as shown in FIG. 1, a magnetoresistive effect head portion A which is a constituent element of the MR head device.
The (MR head portion A) is formed so that its longitudinal direction is orthogonal to the magnetic recording medium running surface a and exhibits a magnetoresistive effect M.
The R element 1 is structured so as to be sandwiched between the lower magnetic layer 2 and the upper magnetic layer 3, and is configured as a so-called vertical MR magnetic head portion.

【0032】具体的には、Al2 3 −TiC等の非磁
性材料よりなる非磁性基板11の一主面上にNi−Fe
等よりなるシールド磁性膜である下部磁性層2が設けら
れ、この下部磁性磁極2上に二酸化珪素(SiO2 )等
よりなる絶縁層12が積層されている。
Specifically, Ni--Fe is formed on one main surface of the nonmagnetic substrate 11 made of a nonmagnetic material such as Al 2 O 3 --TiC.
A lower magnetic layer 2 which is a shield magnetic film made of, for example, is provided, and an insulating layer 12 made of silicon dioxide (SiO 2 ) or the like is laminated on the lower magnetic pole 2.

【0033】さらに、上記絶縁層12上にMR素子1が
形成され、さらにこのMR素子1上にSiO2 等よりな
る絶縁層13が成膜されている。すなわち、当該MRヘ
ッドにおいては、MR素子1を、その長手方向が磁気記
録媒体との対向面、即ち磁気記録媒体走行面aと垂直に
なるように配置し、その前端面を当該磁気記録媒体走行
面aに露出させる。
Further, the MR element 1 is formed on the insulating layer 12, and the insulating layer 13 made of SiO 2 or the like is formed on the MR element 1. That is, in the MR head, the MR element 1 is arranged such that its longitudinal direction is perpendicular to the surface facing the magnetic recording medium, that is, the running surface a of the magnetic recording medium, and the front end surface of the MR element 1 runs. It is exposed on the surface a.

【0034】そして、この絶縁層13上にはMR素子1
に所定のバイアス磁界を印加するためのバイアス導体1
5が成膜され、このバイアス導体15上に絶縁層16が
成膜されている。ここで、このバイアス導体15は絶縁
層16内に埋め込まれたかたちに成膜されていることに
なる。
The MR element 1 is provided on the insulating layer 13.
Bias conductor 1 for applying a predetermined bias magnetic field to the
5 is formed, and the insulating layer 16 is formed on the bias conductor 15. Here, the bias conductor 15 is formed so as to be embedded in the insulating layer 16.

【0035】ここで、MR素子1の磁気記録媒体走行面
a側の一端部と、この一端部から所定距離隔てた他端部
に、それぞれ導電膜による電極(前端電極14a及び後
端電極14b)が形成されている。これら前端電極14
a及び後端電極14bは、MR素子1の長手方向に沿っ
て(即ち、上記磁気記録媒体走行面aと直交する方向
に)センス電流を流す目的で形成される。すなわち、前
端電極14a及び後端電極14bによりMR素子1が狭
持されたかたちとなっており、当該MR素子1のうち、
前端,後端電極14a,14b間の領域が磁気抵抗効果
を示す有効感磁部となる。このとき、磁気記録媒体走行
面aから前端電極14aを介して当該有効感磁部に至る
までの距離がデプス長となる。
Here, one end of the MR element 1 on the side of the magnetic recording medium running surface a and the other end separated by a predetermined distance from the one end are electrodes made of a conductive film (front end electrode 14a and rear end electrode 14b). Are formed. These front end electrodes 14
The a and the rear end electrode 14b are formed for the purpose of flowing a sense current along the longitudinal direction of the MR element 1 (that is, in the direction orthogonal to the magnetic recording medium running surface a). That is, the MR element 1 is sandwiched by the front-end electrode 14a and the rear-end electrode 14b.
The area between the front and rear electrodes 14a and 14b serves as an effective magnetic sensing section exhibiting a magnetoresistive effect. At this time, the distance from the running surface a of the magnetic recording medium to the effective magnetic sensing portion via the front end electrode 14a is the depth length.

【0036】そして、前端電極14a上にMR素子1を
挟み込むようにNi−Fe等の磁性膜による上部磁性層
3が積層されて上記MRヘッド部Aが構成されている。
The MR head portion A is constructed by laminating the upper magnetic layer 3 of a magnetic film such as Ni--Fe so as to sandwich the MR element 1 on the front end electrode 14a.

【0037】ここで、非磁性基板11は、図2に示すよ
うに、例えば一対のMRヘッド部A及びその配線接続部
21が形成されているMRヘッド部形成面22と略々直
交する面であるスライダ面23を有している。このスラ
イダ面23の略々中央部に当該非磁性基板11の長手方
向と平行に空気流入溝となる溝部24が削設され一対の
スライダレール25,26が形成されて上記MRヘッド
装置が構成されている。
Here, as shown in FIG. 2, the nonmagnetic substrate 11 is, for example, a surface which is substantially orthogonal to the MR head portion forming surface 22 on which the pair of MR head portions A and the wiring connecting portions 21 are formed. It has a certain slider surface 23. The MR head device is constructed by forming a groove portion 24, which is an air inflow groove, in a substantially central portion of the slider surface 23 in parallel with the longitudinal direction of the non-magnetic substrate 11 to form a pair of slider rails 25 and 26. ing.

【0038】以下、上記MRヘッド装置の製造方法につ
いて説明する。
The method of manufacturing the MR head device will be described below.

【0039】先ず、Al2 3 −TiC等の非磁性材料
よりなるウェハー上に所定間隔をもって複数の上記MR
ヘッド部Aをスパッタリング等の薄膜形成技術により成
膜形成する。
First, a plurality of the above-mentioned MRs are formed at predetermined intervals on a wafer made of a non-magnetic material such as Al 2 O 3 —TiC.
The head portion A is formed into a film by a thin film forming technique such as sputtering.

【0040】すなわち、先ず上記ウェハーの一主面上に
軟磁性材料よりなる下部磁性層2,磁気ギャップを形成
するSiO2 等を材料とする絶縁層12,及びNi−Z
n等を材料とするMR膜を順次成膜する。その後、当該
MR膜にフォトリソグラフィー技術により所定のパター
ニングを施しエッチングを行って複数のMR素子1を形
成する。
That is, first, a lower magnetic layer made of a soft magnetic material, an insulating layer 12 made of SiO 2 or the like for forming a magnetic gap, and Ni--Z are formed on one main surface of the wafer.
An MR film made of n or the like is sequentially formed. Then, the MR film is subjected to predetermined patterning by photolithography and etched to form a plurality of MR elements 1.

【0041】次いで、MR素子1上に絶縁層13を成膜
した後に、絶縁層13にMR素子1の後端部へ通じる接
続孔を形成して、この後端部上にこのMR素子1にセン
ス電流を提供するための後端電極14bを形成する。
Next, after forming the insulating layer 13 on the MR element 1, a connection hole leading to the rear end of the MR element 1 is formed in the insulating layer 13, and the MR element 1 is formed on the rear end. A back electrode 14b is formed to provide a sense current.

【0042】その後、上記絶縁層13を介して当該MR
素子1にバイアス磁界を印加するためのバイアス導体1
5を形成し、後端電極14b及びバイアス導体15上に
絶縁層16を積層する。
Then, the MR is inserted through the insulating layer 13.
Bias conductor 1 for applying a bias magnetic field to the element 1
5 is formed, and the insulating layer 16 is laminated on the rear end electrode 14b and the bias conductor 15.

【0043】そして、絶縁層13にMR素子1の前端部
へ通じる接続孔を形成した後、この前端部上にこのMR
素子1にセンス電流を提供するための前端電極14aを
形成し、この前端電極14a上に上部磁性層3を形成し
て、MRヘッド部Aが完成する。
After forming a connection hole in the insulating layer 13 to the front end of the MR element 1, the MR is formed on the front end.
The front end electrode 14a for providing a sense current to the element 1 is formed, and the upper magnetic layer 3 is formed on the front end electrode 14a, whereby the MR head portion A is completed.

【0044】次いで、図3に示すように、回転研削盤3
1を用いて、ウェハー・トリミングを施してウェハー4
1の外周部の不要な部分41aを切り落とした後に、図
4に示すように、回転研削盤32を用いて、ロー・スク
ライブ工程において当該ウェハー41の切断ライン上に
成膜された薄膜(保護膜)部分を切除する。
Then, as shown in FIG. 3, the rotary grinding machine 3 is used.
Wafer trimming using 1 to wafer 4
After cutting off the unnecessary portion 41a of the outer peripheral portion of 1, the thin film (protective film) formed on the cutting line of the wafer 41 in the low scribing step by using the rotary grinding machine 32 as shown in FIG. ) Cut off the part.

【0045】続いて、図5に示すように、回転研削盤3
3を用いてウェハー41を切断し、各MRヘッド部Aが
1列に形成された複数の非磁性ブロック(ロー・バー4
2)を作製する。このロー・バー42は直方体形状であ
り、その一主面がMRヘッド部形成面22とされてい
る。そして、このMRヘッド部形成面22と略々直交す
る一面がスライダレール25,26が形成されるスライ
ダ面となる。
Then, as shown in FIG. 5, the rotary grinding machine 3 is used.
3, the wafer 41 is cut, and a plurality of non-magnetic blocks (row bar 4) in which each MR head part A is formed in one row
2) is prepared. The row bar 42 has a rectangular parallelepiped shape, and one main surface thereof is the MR head portion formation surface 22. One surface that is substantially orthogonal to the MR head portion forming surface 22 is the slider surface on which the slider rails 25 and 26 are formed.

【0046】次に、図6に示すように、揮発性有機溶剤
に固形の接着性ワックスを溶解させて液状接着剤とし、
この液状接着剤を治具34の貼付面34aに塗布した後
に、当該貼付面34a上にロー・バー42を載置すると
ともに塗布された液状接着剤を加熱して接着固定する。
Next, as shown in FIG. 6, a solid adhesive wax is dissolved in a volatile organic solvent to form a liquid adhesive,
After the liquid adhesive is applied to the sticking surface 34a of the jig 34, the row bar 42 is placed on the sticking surface 34a, and the applied liquid adhesive is heated and bonded and fixed.

【0047】ここで、上記液状接着剤中における接着性
ワックスの濃度を10重量%以上70重量%以下とする
ことが好適であり、更に好ましくは、このワックス濃度
を30重量%以上50重量%以下に設定するとよい。こ
こで、上記ワックス濃度を10重量%より小とすると接
着強度が劣化し、ワックス濃度を70重量%より大とす
ると、加熱後の治具34の貼付面34aに削設された各
溝34b内における接着性ワックスの充填率が高くなっ
て不都合である。
The concentration of the adhesive wax in the liquid adhesive is preferably 10% by weight or more and 70% by weight or less, more preferably 30% by weight or more and 50% by weight or less. Set to. Here, when the wax concentration is less than 10% by weight, the adhesive strength is deteriorated, and when the wax concentration is more than 70% by weight, the inside of each groove 34b cut on the attachment surface 34a of the jig 34 after heating. However, the filling rate of the adhesive wax is high, which is inconvenient.

【0048】続いて、図7に示すように、ロー・バー4
2が接着固定された治具34を複数まとめて固定し、ダ
イヤモンドカップホイール35を用いて上記スライダ面
23に深さ数μmまで荒研削を施した後に、図8に示す
ように、当該スライダ面23に溝加工を施してスライダ
レール25,26を削設する。
Then, as shown in FIG. 7, the row bar 4
Two jigs 34 to which the adhesive 2 is fixed are collectively fixed, and after the slider surface 23 is roughly ground to a depth of several μm using a diamond cup wheel 35, as shown in FIG. 23 is grooved and the slider rails 25 and 26 are cut.

【0049】そして、図9及び図10に示すように、治
具34の貼付面34aに削設されている各溝34bに対
応させて、回転砥石36を用いてロー・バー42に研削
を施して各ヘッドチップ51毎に切断する。
Then, as shown in FIGS. 9 and 10, the row bar 42 is ground by using a rotary grindstone 36 in correspondence with the grooves 34b formed in the attachment surface 34a of the jig 34. And each head chip 51 is cut.

【0050】このとき、液状接着剤はロー・バー42を
治具34の貼付面34aに載置したときには揮発性有機
溶剤により希釈された状態にあるが、当該液状接着剤を
加熱することにより溶媒である揮発性有機溶剤が完全に
揮発し、通常の固形の接着性ワックスと同等のワックス
濃度となる。したがって、図11に示すように、治具3
4の貼付面34aに削設されている各溝34b内に溜っ
た液状接着剤も加熱により揮発性有機溶剤が完全に揮発
するために当該溝34b内に残存する接着性ワックスの
充填率は小さく、図12に示すように、ロー・バー42
の切断加工時に回転砥石36が当該ロー・バー42を切
断して上記溝34b内に進入しても、接着性ワックスが
殆ど残存していないために、回転砥石36の目詰まりが
防止されるとともに、当該ロー・バー42に発生しがち
なチッピングが抑止されることになる。
At this time, the liquid adhesive is in a state of being diluted with the volatile organic solvent when the row bar 42 is placed on the attaching surface 34a of the jig 34, but the solvent is heated by heating the liquid adhesive. The volatile organic solvent is completely vaporized, and the wax concentration becomes equivalent to that of a normal solid adhesive wax. Therefore, as shown in FIG.
The liquid adhesive accumulated in each groove 34b formed in the attachment surface 34a of No. 4 completely volatilizes the volatile organic solvent by heating, so that the filling rate of the adhesive wax remaining in the groove 34b is small. , The row bar 42, as shown in FIG.
Even if the rotary grindstone 36 cuts the row bar 42 and enters into the groove 34b during the cutting process, the clogging of the rotary grindstone 36 is prevented because almost no adhesive wax remains. Therefore, chipping that tends to occur in the row bar 42 is suppressed.

【0051】その後、図13に示すように、研磨機37
にロー・バー42をそのスライダ面23が鋳定盤37と
接触するように固定し、研磨機37を揺動させるととも
に当該鋳定盤37を回転させて鋳定盤38上でスライダ
面23にデプス研磨を施して規定のヘッドデプス値とす
る。
Then, as shown in FIG.
The row bar 42 is fixed so that the slider surface 23 thereof comes into contact with the casting surface plate 37, and the polishing machine 37 is swung and the casting surface plate 37 is rotated to move the slider surface 23 onto the slider surface 23. Depth polishing is performed to obtain a specified head depth value.

【0052】そして、図14に示すように、当該スライ
ダ面23に鋳定盤38上で所定角(ここでは50゜)の
テーパ加工を施し、図15に示すように、回転研削盤3
9を用いて空気流入溝加工を施した後に、図16に示す
ように、当該ヘッドチップ51を治具34から取り外
し、所定の後工程を経て上記MRヘッド装置が完成す
る。
Then, as shown in FIG. 14, the slider surface 23 is tapered at a predetermined angle (here, 50 °) on the casting surface plate 38, and as shown in FIG.
After performing the air inflow groove processing using No. 9, the head chip 51 is removed from the jig 34 as shown in FIG. 16, and the MR head device is completed through a predetermined post process.

【0053】上述のように、本実施の形態の切断加工方
法によれば、ウェハー41から切り出された各ロー・バ
ー42に切断加工を施して各ヘッドチップ51を切り出
すに際して、治具34の貼付面34aに削設された各溝
34b内に残留した接着性ワックスを除去する作業が不
要であり、しかも当該ロー・バー42におけるチッピン
グの発生を確実に抑止することが可能となる。
As described above, according to the cutting method of this embodiment, when the row bars 42 cut out from the wafer 41 are cut and the head chips 51 are cut out, the jig 34 is attached. It is not necessary to remove the adhesive wax remaining in the grooves 34b formed in the surface 34a, and it is possible to reliably prevent the row bar 42 from chipping.

【0054】また、回転砥石36のドレッシング(目立
て)の回数を減少させることが可能となるため、ドレッ
シングによる回転砥石36の形状劣化を抑制することが
でき、回転砥石36の寿命を向上させることが可能とな
る。
Further, since it is possible to reduce the number of times of dressing (dressing) the rotary grindstone 36, it is possible to suppress the deterioration of the shape of the rotary grindstone 36 due to the dressing and improve the life of the rotary grindstone 36. It will be possible.

【0055】さらに、上記液状接着剤は流動性に優れて
おり、極めて狭い場所にも気泡を生ぜしめることなく塗
布することが可能であり、塗布時に発生しがちな塗布ム
ラを防止することができる。
Further, the above liquid adhesive has excellent fluidity, and can be applied to an extremely narrow place without causing bubbles, and it is possible to prevent uneven application which tends to occur during application. .

【0056】ここで、1つの実験例について説明する。
この実験は、上記実施の形態において示した液状接着剤
中における接着性ワックスの濃度(ワックス濃度)を変
えたときに、治具34の貼付面34aに削設された各溝
34b内に残留する接着性ワックスの充填率と、このと
きの当該液状接着剤のもつ接着強度の双方について調べ
たものである。
Here, one experimental example will be described.
In this experiment, when the concentration of the adhesive wax (wax concentration) in the liquid adhesive shown in the above-mentioned embodiment is changed, the adhesive wax remains in each groove 34b cut on the attachment surface 34a of the jig 34. Both the filling rate of the adhesive wax and the adhesive strength of the liquid adhesive at this time were examined.

【0057】ここで、充填率及び接着強度を定量的に測
定するために、治具34のサンプルとして、図17に示
すように、溝34bに対応する溝52と、貼付面34a
のロー・バー42が接着される箇所の状態を調べるため
の溝52より浅い溝53とが形成されてなる治具54を
用いた。
Here, in order to quantitatively measure the filling rate and the adhesive strength, as a sample of the jig 34, as shown in FIG. 17, the groove 52 corresponding to the groove 34b and the attaching surface 34a.
The jig 54 formed with a groove 53 shallower than the groove 52 for checking the state of the portion to which the row bar 42 of FIG.

【0058】先ず、上記充填率を調べた結果を以下の表
1に示す。ここでは、溝52及び溝53の充填率につい
てそれぞれ測定した。なお、溝52及び溝53の数はそ
れぞれ14及び13であり、これらのうち、接着性ワッ
クスが残存する溝内の充填率が記してある。
First, the results of examining the above-mentioned filling rate are shown in Table 1 below. Here, the filling rates of the groove 52 and the groove 53 were measured. The numbers of the grooves 52 and the grooves 53 are 14 and 13, respectively, and of these, the filling rate in the groove in which the adhesive wax remains is shown.

【0059】[0059]

【表1】 [Table 1]

【0060】この表1から、ワックス濃度が70重量%
を越えると溝52のうち接着性ワックスの残存するもの
が過半数を越え、ロー・バー42の切断加工時に回転砥
石36が溝34内で固化した接着性ワックスに接触して
チッピングが発生し易くなることが予想され、安全性を
考えて50重量%以下とすることがよいと思われる。ま
た、溝53の状態を考慮すると、ワックス濃度が30重
量%を下回ると溝53のうち接着性ワックスが残存する
ものの数が0となるため、当該ワックス濃度は30重量
%以上とすることが好ましい。
From Table 1, the wax concentration is 70% by weight.
More than half of the grooves 52 remain with the adhesive wax, and the rotating grindstone 36 comes into contact with the solidified adhesive wax in the grooves 34 during the cutting process of the row bar 42 to easily cause chipping. In consideration of safety, it is considered preferable to set the content to 50% by weight or less. Further, in consideration of the state of the groove 53, when the wax concentration is less than 30% by weight, the number of the adhesive wax remaining in the groove 53 becomes 0. Therefore, the wax concentration is preferably 30% by weight or more. .

【0061】続いて、上記接着強度を調べた結果を以下
の表2に示す。ここでは、5つのサンプルについて接着
強度(Kg)を測定し、これらの平均値Mを算出した。
Next, the results of examining the above-mentioned adhesive strength are shown in Table 2 below. Here, the adhesive strength (Kg) was measured about five samples, and the average value M of these was calculated.

【0062】[0062]

【表2】 [Table 2]

【0063】この表2から、ワックス濃度が10重量%
を下回ると接着強度が30重量%のときの半値まで低下
する。したがって、2Kgを越える比較的安定した接着
強度を得るには、ワックス濃度を10重量%の値とする
必要がある。
From this Table 2, the wax concentration is 10% by weight.
When it is below the range, the adhesive strength is reduced to the half value at 30% by weight. Therefore, in order to obtain a relatively stable adhesive strength exceeding 2 kg, it is necessary to set the wax concentration to a value of 10% by weight.

【0064】以上の結果から、液状接着剤中におけるワ
ックス濃度は10〜70重量%の範囲内の値であること
が望ましく、更には30〜50重量%の範囲内の値に設
定することがより好ましい。
From the above results, the wax concentration in the liquid adhesive is preferably in the range of 10 to 70% by weight, and more preferably in the range of 30 to 50% by weight. preferable.

【0065】[0065]

【発明の効果】本発明の切断加工方法によれば、ウェハ
ーから切り出された各ブロックに切断加工を施して各チ
ップを切り出すに際して、治具の貼付面に削設された各
溝内に残留した接着性ワックスを除去する作業が不要と
なり、しかも当該ブロックにおけるチッピングの発生を
確実に抑止することが可能となる。
According to the cutting method of the present invention, when each block cut out from a wafer is cut and each chip is cut out, it remains in each groove cut on the attachment surface of the jig. The work of removing the adhesive wax becomes unnecessary, and furthermore, the occurrence of chipping in the block can be surely suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本実施の形態において作製されるMRヘッド装
置の構成要素であるMRヘッド部を模式的に示す縦断面
図である。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view schematically showing an MR head part which is a component of an MR head device manufactured in this embodiment.

【図2】本実施の形態において作製されるMRヘッド装
置を模式的に示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view schematically showing an MR head device manufactured in this embodiment.

【図3】ウェハーにウェハー・トリミング工程の様子を
模式的に示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view schematically showing a wafer trimming process on a wafer.

【図4】ロー・スクライブ工程の様子を模式的に示す斜
視図である。
FIG. 4 is a perspective view schematically showing a state of a low scribing process.

【図5】ウェハーからロー・バーを切断する様子を模式
的に示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view schematically showing how a row bar is cut from a wafer.

【図6】液状接着剤を用いてロー・バーを治具に接着固
定する様子を模式的に示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view schematically showing how a row bar is bonded and fixed to a jig using a liquid adhesive.

【図7】フロント研削工程の様子を模式的に示す斜視図
である。
FIG. 7 is a perspective view schematically showing a front grinding step.

【図8】スライダレール加工工程の様子を模式的に示す
斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view schematically showing a slider rail processing step.

【図9】ヘッドチップ切断工程の様子を模式的に示す斜
視図である。
FIG. 9 is a perspective view schematically showing a state of a head chip cutting step.

【図10】各々分離された非磁性基板を拡大して模式的
に示す斜視図である。
FIG. 10 is an enlarged schematic perspective view of each separated non-magnetic substrate.

【図11】治具の貼付面に削設されている溝内の様子を
模式的に示す断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing a state in a groove cut on the attachment surface of the jig.

【図12】上記治具の貼付面に削設されている溝内にロ
ー・バーを切断した回転砥石が進入した様子を模式的に
示す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view schematically showing a state where a rotary grindstone obtained by cutting a row bar has entered a groove formed in the attachment surface of the jig.

【図13】デプス研磨工程の様子を模式的に示す側面図
である。
FIG. 13 is a side view schematically showing a state of a depth polishing process.

【図14】テーパ加工工程の様子を模式的に示す側面図
である。
FIG. 14 is a side view schematically showing a state of a taper processing step.

【図15】空気流入溝加工工程の様子を模式的に示す斜
視図である。
FIG. 15 is a perspective view schematically showing a state of an air inflow groove processing step.

【図16】ヘッドチップが治具から取り外された様子を
模式的に示す斜視図である。
FIG. 16 is a perspective view schematically showing a state where the head chip is removed from the jig.

【図17】2種の溝が削設されてなる治具を模式的に示
す断面図である。
FIG. 17 is a cross-sectional view schematically showing a jig in which two types of grooves are cut.

【図18】従来の切断加工方法を施すに際して、治具の
貼付面に削設されている溝内の様子を模式的に示す断面
図である。
FIG. 18 is a cross-sectional view schematically showing a state in a groove cut on a bonding surface of a jig when performing a conventional cutting method.

【図19】上記治具の貼付面に削設されている溝内にロ
ー・バーを切断した回転砥石が進入し、当該ロー・バー
にチッピングが発生した様子を模式的に示す断面図であ
る。
FIG. 19 is a cross-sectional view schematically showing a state in which a rotary grindstone that has cut a row bar enters a groove formed in the attachment surface of the jig and chipping occurs in the row bar. .

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A MRヘッド部 1 MR素子 2 下部磁性層 3 上部磁性層 11 非磁性基板 12,13,16 絶縁層 15 バイアス導体 14a 前端電極 14b 後端電極 21 配線接続部 22 MRヘッド部形成面 23 スライダ面 24 溝部 25,26 スライダレール 34 治具 34a 貼付面 34b 溝 36 回転砥石 41 ウェハー 42 ロー・バー 51 ヘッドチップ A MR head part 1 MR element 2 Lower magnetic layer 3 Upper magnetic layer 11 Nonmagnetic substrate 12, 13, 16 Insulating layer 15 Bias conductor 14a Front end electrode 14b Rear end electrode 21 Wiring connection part 22 MR head part forming surface 23 Slider surface 24 Grooves 25, 26 Slider rail 34 Jig 34a Attachment surface 34b Groove 36 Rotating whetstone 41 Wafer 42 Low bar 51 Head chip

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウェハーから切り出された各ブロックに
所定幅毎に切断加工を施して各チップを切り出すに際し
て、 揮発性有機溶剤に固形の接着性ワックスを溶解させて液
状接着剤とし、この液状接着剤を治具の貼付面に塗布し
た後に、当該貼付面上に上記ブロックを載置するととも
に塗布された液状接着剤に含まれる揮発性有機溶剤を揮
発させて接着固定する工程と、 上記治具の貼付面に削設されている各溝に対応させて、
回転砥石を用いて上記ブロックに研削を施して各チップ
毎に切断する工程とを有することを特徴とする切断加工
方法。
1. When each block cut out from a wafer is cut to a predetermined width and each chip is cut out, a solid adhesive wax is dissolved in a volatile organic solvent to form a liquid adhesive, and this liquid adhesion is performed. Applying the agent to the sticking surface of the jig, placing the block on the sticking surface, and volatilizing the volatile organic solvent contained in the applied liquid adhesive to bond and fix the adhesive; Corresponding to each groove cut on the sticking surface of
And a step of cutting the above blocks by using a rotating grindstone and cutting each block into chips.
【請求項2】 液状接着剤中における接着性ワックスの
濃度を10重量%以上70重量%以下とすることを特徴
とする請求項1記載の切断加工方法。
2. The cutting method according to claim 1, wherein the concentration of the adhesive wax in the liquid adhesive is 10% by weight or more and 70% by weight or less.
【請求項3】 液状接着剤中における接着性ワックスの
濃度を30重量%以上50重量%以下とすることを特徴
とする請求項2記載の切断加工方法。
3. The cutting method according to claim 2, wherein the concentration of the adhesive wax in the liquid adhesive is 30% by weight or more and 50% by weight or less.
【請求項4】 各ブロックを複数の薄膜磁気ヘッド部が
真空薄膜形成技術により成膜形成されてなる非磁性ブロ
ックとし、 治具の貼付面に接着固定された非磁性ブロックの当該薄
膜磁気ヘッド部形成面に略々直交するスライダ面に所定
の溝加工を施した後に、当該非磁性ブロックに切断加工
を施して各ヘッドチップを切り出すことを特徴とする請
求項1記載の切断加工方法。
4. Each block is a non-magnetic block formed by forming a plurality of thin-film magnetic head parts by a vacuum thin-film forming technique, and the thin-film magnetic head part of the non-magnetic block adhered and fixed to a sticking surface of a jig. 2. The cutting method according to claim 1, wherein each head chip is cut by cutting the non-magnetic block after performing a predetermined groove processing on the slider surface substantially orthogonal to the formation surface.
【請求項5】 薄膜磁気ヘッド部が、磁気記録媒体から
の信号磁界によって抵抗率が変化する磁気抵抗効果を奏
する磁気抵抗効果素子を有する磁気抵抗効果型磁気ヘッ
ド部であることを特徴とする請求項4記載の切断加工方
法。
5. The thin-film magnetic head portion is a magnetoresistive effect magnetic head portion having a magnetoresistive effect element that exhibits a magnetoresistive effect in which a resistivity changes according to a signal magnetic field from a magnetic recording medium. Item 4. The cutting method according to item 4.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007090465A (en) * 2005-09-28 2007-04-12 Hitachi Computer Peripherals Co Ltd Minute component handling method and minute component handling device
JP2008018483A (en) * 2006-07-11 2008-01-31 Read Co Ltd Fixing method for workpiece

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