JPH098199A - Lead frame for semiconductor device - Google Patents

Lead frame for semiconductor device

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JPH098199A
JPH098199A JP15024495A JP15024495A JPH098199A JP H098199 A JPH098199 A JP H098199A JP 15024495 A JP15024495 A JP 15024495A JP 15024495 A JP15024495 A JP 15024495A JP H098199 A JPH098199 A JP H098199A
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JP
Japan
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lead frame
metal plate
semiconductor device
adhesive
frame
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Application number
JP15024495A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tatsuya Otaka
達也 大高
Takaharu Yonemoto
隆治 米本
Osamu Yoshioka
修 吉岡
Isao Yamagishi
功 山岸
Shigeji Takahagi
茂治 高萩
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Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication date
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Publication of JPH098199A publication Critical patent/JPH098199A/en
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Abstract

PURPOSE: To prevent the short-circuit between the outer periphery of a radiating metal plate mounted at the frame and the lead frame by increasing the insulating distance between the lead frame and the outer periphery of the plate. CONSTITUTION: The lead frame for the semiconductor device is formed by preparing a metal plate previously coated with adhesive 2 and laminating to the frame 1 while punching the plate 3 of a predetermined shape from it. A coining part 4 for increasing the insulating distance between the outer periphery 3a of the plate 3 and the frame 1 is provided at the position opposed to the outer periphery 3a of the plate 3 to be laminated with the frame 1 at the frame 1. The depth of the part 4 is suitably substantially equal to the thickness of the adhesive 2. The outer periphery 3a of the plate 3 may be disposed substantially at the center of the part 4 in the lateral direction.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はリードフレームに絶縁層
を介して金属板を貼り合わせた半導体装置用リードフレ
ームに係り、特に金属板とリードフレーム間のショート
事故をなくすようにしたものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame for a semiconductor device in which a metal plate is attached to a lead frame via an insulating layer, and more particularly to a lead frame for preventing a short circuit between the metal plate and the lead frame.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、素子の高密度化、高速化にともな
って、放熱性を高めた半導体装置用リードフレームの開
発が盛んになっている。放熱性を高めるためにヒートス
プレッダとして機能する金属板をリードフレームの厚さ
方向に積層するが、特に最近になって、予め接着剤を塗
布した金属板を用意し、これを金型で所定の形状に打抜
きながらリードフレームに貼り合わせる方法が注目され
るようになってきた。これによれば、金属板を低コスト
でリードフレームに貼り合わせることができるという利
点がある。
2. Description of the Related Art In recent years, with the increase in the density and speed of elements, development of lead frames for semiconductor devices having improved heat dissipation has become active. A metal plate that functions as a heat spreader is laminated in the thickness direction of the lead frame in order to improve heat dissipation, but especially recently, a metal plate to which an adhesive has been applied in advance has been prepared, and the metal plate has a predetermined shape. Attention has been paid to the method of sticking to the lead frame while punching. This has the advantage that the metal plate can be attached to the lead frame at low cost.

【0003】図2は、そのようにして貼り合された半導
体装置用リードフレーム構造の代表例であり、中央にデ
バイスホール6を有するリードフレーム1のインナリー
ド部1aに、デバイスホール6を塞ぐように接着剤2を
塗布した金属板3が貼り合わされている。なお、半導体
チップは金属板3上のデバイスホール6内で接着され
る。
FIG. 2 is a typical example of the lead frame structure for a semiconductor device bonded in this way. The inner lead portion 1a of the lead frame 1 having the device hole 6 in the center is covered with the device hole 6. The metal plate 3 coated with the adhesive 2 is attached to the. The semiconductor chip is bonded inside the device hole 6 on the metal plate 3.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】リードフレームに放熱
用の金属板を貼り合わせた半導体装置用リードフレーム
で特に問題となるのは、金属板とリード間の電気的なシ
ョートである。図2のC部の拡大図である図3に示すよ
うに、リードフレーム1と接着剤付金属板3とが重なっ
た図中Aの部分については、介在させる接着剤2に電気
絶縁性の高い、たとえば熱可塑性ポリイミド系接着剤を
用いることで問題を解決できる。
A particular problem in a lead frame for a semiconductor device, in which a metal plate for heat dissipation is attached to a lead frame, is an electrical short circuit between the metal plate and the lead. As shown in FIG. 3, which is an enlarged view of the portion C in FIG. 2, the portion A in the drawing in which the lead frame 1 and the adhesive-attached metal plate 3 overlap each other has a high electrical insulation property with respect to the interposing adhesive 2. The problem can be solved by using, for example, a thermoplastic polyimide adhesive.

【0005】しかし、金属板3の外周部3aがリードフ
レーム1に対向する図中Bの箇所では、その両者の絶縁
最短距離は必然的に接着剤2の厚みだけとなるが、接着
剤2の厚みは一般に20μm程度とかなり薄いため、次
のような問題が発生する。
However, at the location B in the figure where the outer peripheral portion 3a of the metal plate 3 faces the lead frame 1, the shortest insulation distance between the two is inevitably the thickness of the adhesive 2, but Since the thickness is generally as thin as about 20 μm, the following problems occur.

【0006】(1)接着剤付金属板を打抜き加工した場
合に発生する金属の打抜きばりが離脱するなどして発生
した導電性異物が、金属板外周部とリードフレーム間に
載る等して、金属板とリードフレーム間をショートさせ
る。
(1) Conductive foreign matter generated by punching out a metal plate produced by punching a metal plate with an adhesive is placed between the outer peripheral portion of the metal plate and the lead frame. Short the metal plate and the lead frame.

【0007】(2)半導体装置用リードフレームは、半
導体素子を搭載後パッケージ化されるが、パッケージの
レジンの吸湿が大きくなると、特にリードフレームと金
属板が共に銅で構成されている場合、リードフレーム側
にかかる電位の関係で、マイグレーションが発生してリ
ードフレーム側から金属板側に向かって銅の樹枝状晶
(デンドライト)が析出し、金属板とリードフレーム間
をショートさせる。
(2) A lead frame for a semiconductor device is packaged after mounting a semiconductor element. However, when the moisture absorption of the resin of the package becomes large, especially when the lead frame and the metal plate are both made of copper, the lead is formed. Due to the potential applied to the frame side, migration occurs and copper dendrites (dendrites) are deposited from the lead frame side toward the metal plate side, causing a short circuit between the metal plate and the lead frame.

【0008】本発明の目的は、上述した従来技術の問題
点を解消して、金属板の外周部とリードフレーム間で起
こるショートを防止することが可能な半導体装置用リー
ドフレームを提供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art and provide a lead frame for a semiconductor device capable of preventing a short circuit between the outer peripheral portion of the metal plate and the lead frame. is there.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、リードフレー
ムに絶縁層を介して金属板を貼り合わせた半導体装置用
リードフレームにおいて、貼り合わせた金属板の外周部
と対向する箇所のリードフレームに、金属板の外周部と
リードフレーム間の絶縁距離を増大するコイニング部を
設けたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a lead frame for a semiconductor device in which a metal plate is bonded to a lead frame via an insulating layer, in a lead frame at a portion facing the outer peripheral portion of the bonded metal plate. A coining portion for increasing the insulation distance between the outer peripheral portion of the metal plate and the lead frame is provided.

【0010】また、本発明は、接着剤を予め塗布した金
属板を所定形状に打抜きながらリードフレームに貼り合
わせた半導体装置用リードフレームにおいて、貼り合わ
せた金属板の外周部と対向する箇所のリードフレーム
に、金属板の外周部とリードフレーム間の絶縁距離を増
大するコイニング部を設けたものである。
Further, according to the present invention, in a lead frame for a semiconductor device in which a metal plate coated with an adhesive in advance is punched into a predetermined shape and bonded to a lead frame, a lead at a position facing an outer peripheral portion of the bonded metal plate. The frame is provided with a coining portion for increasing the insulation distance between the outer peripheral portion of the metal plate and the lead frame.

【0011】これらの場合、コイニング部の深さは、絶
縁層または接着剤の厚さ位からリードフレームの厚さの
半分位の範囲とすることが好ましい。あまり浅いと金属
板とリードフレーム間のショートを有効に防止できず、
深すぎるとリードフレームの強度が弱くなり過ぎるから
である。
In these cases, the depth of the coining portion is preferably in the range of about the thickness of the insulating layer or adhesive to about half the thickness of the lead frame. If it is too shallow, a short circuit between the metal plate and the lead frame cannot be effectively prevented,
This is because the strength of the lead frame becomes too weak if it is too deep.

【0012】また、金属板の外周部はコイニング部の幅
方向のほぼ中央に位置させることが好ましい。コイニン
グ部の幅は、あまり狭いと接着剤とパッケージレジンと
の界面が長く取れず、広すぎるとリードフレーム強度が
不足することになるから、望ましくは0.1〜1.0mm
の範囲がよい。
Further, it is preferable that the outer peripheral portion of the metal plate is positioned substantially at the center in the width direction of the coining portion. If the width of the coining portion is too narrow, the interface between the adhesive and the package resin cannot be long, and if it is too wide, the lead frame strength will be insufficient.
The range is good.

【0013】[0013]

【作用】本発明のように、金属板の外周部と対向する箇
所のリードフレームにコイニング部を設けると、コイニ
ング部を設けなかった場合に、それまで絶縁層の厚さ分
だけであった金属板外周部とリードフレーム間の最短絶
縁距離が、コイニング部の深さ分だけ増大する。したが
って、金属板とリードフレームとがショートする危険性
が低減する。また、接着剤に沿った金属板外周部からリ
ードフレームへの絶縁距離がコイニング部幅に応じた分
だけ増加し、絶縁層とパッケージレジンとの界面の距離
が大幅に増大するので、この界面で発生の予想されるマ
イグレーション/デンドライトの発生を防止できる。
When a coining portion is provided on the lead frame at a position facing the outer peripheral portion of the metal plate as in the present invention, when the coining portion is not provided, only the thickness of the insulating layer has been used. The shortest insulation distance between the outer peripheral portion of the plate and the lead frame is increased by the depth of the coining portion. Therefore, the risk of a short circuit between the metal plate and the lead frame is reduced. In addition, the insulation distance from the outer peripheral portion of the metal plate along the adhesive to the lead frame increases by the amount corresponding to the coining portion width, and the distance between the insulating layer and the package resin increases significantly. It is possible to prevent migration / dendrite that is expected to occur.

【0014】また、本発明のように、接着剤付きの金属
板を打抜きながらリードフレームに貼り合わせる場合、
打抜き時に発生した打抜きばり等の導電性ばりが、その
まま貼り合わせ時に持ち込まれるが、金属板外周部の対
向箇所のリードフレームにコイニング部を設けてあるの
で、導電性ばりによる金属板とリードフレーム間のショ
ートを有効に回避できる。
Further, as in the present invention, when a metal plate with an adhesive is punched and bonded to a lead frame,
Conductive burrs such as punching burs that are generated during punching are brought in as they are, but since the coin frame is provided on the lead frame at the opposite location on the outer periphery of the metal plate, there is a gap between the metal plate and the lead frame due to the conductive burrs. The short circuit of can be effectively avoided.

【0015】ここで、コイニング部の深さは絶縁層また
は接着剤の厚さとほぼ等しくすることが好ましい。コイ
ニング部の深さがこれらの厚さよりも浅いと絶縁距離が
稼げず、深いとリードフレームの強度が保てないからで
ある。
Here, the depth of the coining portion is preferably substantially equal to the thickness of the insulating layer or the adhesive. This is because if the depth of the coining portion is shallower than these thicknesses, the insulation distance cannot be obtained, and if it is deeper, the strength of the lead frame cannot be maintained.

【0016】また、金属板の外周部をコイニング部の幅
方向のほぼ真ん中に位置させることが好ましい。金属板
の外周部がコイニング部の真ん中よりずれると、デンド
ライト/マイグレーションによるショートを有効に回避
できない場合が生じるからである。
Further, it is preferable that the outer peripheral portion of the metal plate is positioned substantially in the center of the coining portion in the width direction. This is because if the outer peripheral portion of the metal plate deviates from the center of the coining portion, a short circuit due to dendrite / migration may not be effectively avoided.

【0017】[0017]

【実施例】図1は、本発明の実施例による半導体装置用
リードフレームの金属板の貼り合わせ状況を示す断面図
である。これは、絶縁層である接着剤2を片面に予め塗
布した金属板3を用意する。接着剤2としては例えば電
気絶縁性の高い熱可塑性ポリイミド系接着剤を使用す
る。また、ヒートスプレッダとしての金属板3には熱伝
導性の高い銅を用いる。この金属板3を金型で打抜いて
所定の形状の金属板3を形成し、その打抜いて形成した
金属板3を、そのまま連続してリードフレーム1に貼り
合わせたものである。金属板3の貼り合わせ位置は、デ
バイスホール6に隣接したインナリード部1aである。
なお、リードフレーム1にも金属板3と同じ銅を用い
る。
1 is a cross-sectional view showing a bonding state of metal plates of a lead frame for a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. In this case, a metal plate 3 having an adhesive layer 2 as an insulating layer applied on one side in advance is prepared. As the adhesive 2, for example, a thermoplastic polyimide adhesive having high electric insulation is used. Further, copper having high thermal conductivity is used for the metal plate 3 as the heat spreader. This metal plate 3 is punched with a die to form a metal plate 3 having a predetermined shape, and the punched metal plate 3 is continuously bonded to the lead frame 1 as it is. The bonding position of the metal plate 3 is the inner lead portion 1 a adjacent to the device hole 6.
The same copper as the metal plate 3 is also used for the lead frame 1.

【0018】図示するように、貼り合わされる金属板3
の外周部3aと対向する箇所のリードフレーム1に、金
属板3の外周部3aとリードフレーム1間の絶縁距離を
増大するコイニング部4をリードを横切る方向に設けて
ある。150μmのリードフレーム厚に対して、コイニ
ング部4の深さは接着剤2の厚さと等しい20μmとす
る。また、コイニング部4の幅は0.5mmとする。金属
板3の外周部3aはこの幅の中央に位置するように貼り
合わせる。
As shown, the metal plates 3 to be bonded together
A coining portion 4 for increasing the insulating distance between the outer peripheral portion 3a of the metal plate 3 and the lead frame 1 is provided on the lead frame 1 at a position facing the outer peripheral portion 3a in the direction crossing the leads. For a lead frame thickness of 150 μm, the depth of the coining portion 4 is 20 μm, which is equal to the thickness of the adhesive 2. The width of the coining portion 4 is 0.5 mm. The outer peripheral portion 3a of the metal plate 3 is attached so as to be located at the center of this width.

【0019】したがって、コイニング部4を持たない従
来のものでは、その最短絶縁距離が接着剤2の厚みに対
応した20μmであるのに対し、本実施例のものでは、
2倍の40μmと大幅に増大する。これにより、金属板
を打抜くときに通常発生する打抜きばりなどの導電性ば
りが、貼り合わせ時に、リードフレーム1と金属板3の
外周部3aとに接触してショートするのを有効に回避す
ることができる。
Therefore, the shortest insulation distance of the conventional one having no coining portion 4 is 20 μm corresponding to the thickness of the adhesive 2, whereas the shortest insulating distance is 20 μm in this embodiment.
Doubled to 40 μm, which is a large increase. This effectively prevents a conductive flash such as a punching flash that normally occurs when punching a metal plate from coming into contact with the lead frame 1 and the outer peripheral portion 3a of the metal plate 3 and short-circuiting during bonding. be able to.

【0020】また、本実施例のようにリードフレーム1
と金属板3とが共に銅で構成されている場合には、特
に、パッケージレジンの吸湿に起因して接着剤2とパッ
ケージレジンの界面に沿ってマイグレーションやデンド
ライトが発生しやすくなるが、本実施例では金属板3の
外周部3aがコイニング部4の幅方向のほぼ中央に位置
しており、リードフレーム1から金属板3までの界面絶
縁距離5は、接着剤2の厚さに加えて0.25mmもある
ため、ショートの原因となるマイグレーションやデンド
ライトが発生しないといえる。また、万一発生したとし
ても、外周部3aから左右のリードフレーム部までの水
平距離は従来の約13.5倍、すなわち寿命が13.5
倍となることから実用上はほぼ問題のないものといえ
る。これによりリードフレーム1と金属板3とのショー
トを有効に防止することができる。
Further, as in this embodiment, the lead frame 1
When both the metal plate 3 and the metal plate 3 are made of copper, migration and dendrites are likely to occur along the interface between the adhesive 2 and the package resin due to moisture absorption of the package resin. In the example, the outer peripheral portion 3a of the metal plate 3 is located substantially in the center of the coining portion 4 in the width direction, and the interface insulation distance 5 from the lead frame 1 to the metal plate 3 is 0 in addition to the thickness of the adhesive 2. Since it is 0.25 mm, it can be said that migration or dendrite that causes a short circuit does not occur. Further, even if it should occur, the horizontal distance from the outer peripheral portion 3a to the left and right lead frame portions is about 13.5 times that of the conventional one, that is, the life is 13.5.
Since it doubles, it can be said that there is almost no problem in practical use. This can effectively prevent a short circuit between the lead frame 1 and the metal plate 3.

【0021】ところで、上記コイニング部の加工は、リ
ードフレームを打抜きで成形する場合には、インナリー
ドの打抜き金型内で、打抜きと同時に圧印加工すること
により行えるから、コストアップとはならない。
By the way, when the lead frame is formed by punching, the coining portion can be processed by coining simultaneously with the punching in the die for punching the inner leads, so that the cost does not increase.

【0022】なお、上記実施例では、金属板を打抜きな
がらリードフレームに貼り合わせる半導体装置用リード
フレームについて説明したが、本発明は、金属板の打抜
きと、金属板の貼り合わせを別工程で行う方法で製造す
る半導体装置用リードフレームについても適用できる。
また、リードフレームおよび金属板を共に銅で構成した
場合について説明したが、リードフレームは42合金、
銅合金等他の金属材料であってもよく、また金属板もア
ルミニウム、鉄など他の金属材料でよい。
In the above embodiment, the lead frame for a semiconductor device, which is attached to the lead frame while punching the metal plate, has been described. However, in the present invention, the punching of the metal plate and the attaching of the metal plate are performed in separate steps. It can also be applied to a lead frame for a semiconductor device manufactured by the method.
Also, the case where both the lead frame and the metal plate are made of copper has been described.
Other metal material such as copper alloy may be used, and the metal plate may be other metal material such as aluminum and iron.

【0023】[0023]

【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、リード
フレームにコイニング部を設けて金属板の外周部とリー
ドフレーム間の絶縁距離を増大するようにしたので、金
属板とリードフレームとがショートする危険性を低減で
きる。また、コイニングを設けたことにより、接着剤と
パッケージレジンとの界面が延び、ショート原因となる
デンドライトの発生を防止できる。
According to the invention described in claim 1, since the lead frame is provided with the coining portion to increase the insulation distance between the outer peripheral portion of the metal plate and the lead frame, the metal plate and the lead frame are separated from each other. The risk of short circuiting can be reduced. Further, by providing the coining, the interface between the adhesive and the package resin is extended, and it is possible to prevent the generation of dendrite which causes a short circuit.

【0024】請求項2に記載の発明によれば、接着剤付
金属板を打抜きながらリードフレームに貼り合わせる構
造のリードフレームに適用したので、打抜き時に発生し
て貼り合わせ時にそのまま持込まれる導電性異物による
金属板とリードフレーム間のショートを有効に回避する
ことができる。
According to the second aspect of the present invention, since the metal plate with the adhesive is applied to the lead frame while being punched, it is applied to the lead frame. It is possible to effectively avoid a short circuit between the metal plate and the lead frame.

【0025】請求項3に記載の発明によれば、コイニン
グ部の深さを絶縁層または接着剤の厚さ位からリードフ
レームの厚さの半分位までの範囲としたので、絶縁距離
の確保とリードフレーム強度を両立することができる。
According to the third aspect of the present invention, the depth of the coining portion is in the range from the thickness of the insulating layer or the adhesive to about half of the thickness of the lead frame. The lead frame strength can be compatible.

【0026】請求項4に記載の発明によれば、金属板の
外周部をコイニング部の幅方向のほぼ中央に位置させる
ようにしたので、デンドライト/マイグレーションによ
るショートをより有効に回避することができる。
According to the fourth aspect of the invention, since the outer peripheral portion of the metal plate is positioned substantially at the center in the width direction of the coining portion, a short circuit due to dendrite / migration can be more effectively avoided. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の半導体装置用リードフレームの実施例
を説明するための接着剤付金属板の貼り合わせ状況を示
す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a bonding state of a metal plate with an adhesive for explaining an embodiment of a lead frame for a semiconductor device of the present invention.

【図2】従来例の半導体装置用リードフレームの接着剤
付金属板の貼り合わせ状況を示す断面図の断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a cross-sectional view showing a bonding state of an adhesive-attached metal plate of a semiconductor device lead frame of a conventional example.

【図3】図2のC部拡大図。FIG. 3 is an enlarged view of a portion C in FIG. 2;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 リードフレーム 2 接着剤(絶縁層) 3 金属板 3a 外周部 4 コイニング部 5 界面絶縁距離 1 Lead Frame 2 Adhesive (Insulating Layer) 3 Metal Plate 3a Outer Part 4 Coining Part 5 Interface Insulation Distance

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山岸 功 茨城県土浦市木田余町3550番地 日立電線 株式会社システムマテリアル研究所内 (72)発明者 高萩 茂治 茨城県土浦市木田余町3550番地 日立電線 株式会社システムマテリアル研究所内 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Isao Yamagishi 3550 Kida Yomachi, Tsuchiura City, Ibaraki Prefecture Within Hitachi Cable, Ltd.System Materials Research Laboratories (72) Inventor Shigeharu Takahagi 3550 Kida Yomachi, Tsuchiura City, Ibaraki Prefecture Hitachi Cable Co., Ltd. Company System Materials Laboratory

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】リードフレームに絶縁層を介して金属板を
貼り合わせた半導体装置用リードフレームにおいて、貼
り合わせた金属板の外周部と対向する箇所のリードフレ
ームに、金属板の外周部とリードフレーム間の絶縁距離
を増大するコイニング部を設けたことを特徴とする半導
体装置用リードフレーム。
1. A lead frame for a semiconductor device in which a metal plate is bonded to a lead frame with an insulating layer interposed therebetween. In the lead frame facing the outer circumference of the bonded metal plate, the outer circumference of the metal plate and the leads are provided. A lead frame for a semiconductor device, comprising a coining portion for increasing an insulation distance between the frames.
【請求項2】接着剤を予め塗布した金属板を所定形状に
打抜きながらリードフレームに貼り合わせた半導体装置
用リードフレームにおいて、貼り合わせた金属板の外周
部と対向する箇所のリードフレームに、金属板の外周部
とリードフレーム間の絶縁距離を増大するコイニング部
を設けたことを特徴とする半導体装置用リードフレー
ム。
2. A lead frame for a semiconductor device, wherein a metal plate coated with an adhesive in advance is punched into a predetermined shape and is bonded to a lead frame. In a lead frame at a portion facing the outer peripheral portion of the bonded metal plate, a metal is formed. A lead frame for a semiconductor device, comprising a coining portion for increasing an insulation distance between the outer peripheral portion of the plate and the lead frame.
【請求項3】上記コイニング部の深さが絶縁層または接
着剤の厚さ位からリードフレームの厚さの半分位までの
範囲にある請求項1または2に記載の半導体装置用リー
ドフレーム。
3. The lead frame for a semiconductor device according to claim 1, wherein the coining portion has a depth ranging from the thickness of the insulating layer or the adhesive to about half the thickness of the lead frame.
【請求項4】上記金属板の外周部がコイニング部の幅方
向のほぼ中央に位置する請求項1ないし3のいずれかに
記載の半導体装置用リードフレーム。
4. The lead frame for a semiconductor device according to claim 1, wherein an outer peripheral portion of the metal plate is located substantially at a center in a width direction of the coining portion.
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