JPH0976245A - Manufacture of mold for microlens array and matrix for the microlens array - Google Patents
Manufacture of mold for microlens array and matrix for the microlens arrayInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明が属する技術分野】本発明は、液晶表示素子や固
体撮像素子等に用いるマイクロレンズアレーの製造方法
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a microlens array used for a liquid crystal display device, a solid-state image pickup device and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】マイクロレンズアレーは、直径数μｍ〜
数１００μｍの微小な半球状のレンズを分布させたもの
であり、液晶表示等のブラックマトリックスによる影響
をなくして明るさを増すためなどに使用されている。2. Description of the Related Art A microlens array has a diameter of several .mu.m.
It is a distribution of minute hemispherical lenses of several hundred μm, and is used for increasing the brightness by eliminating the influence of a black matrix such as a liquid crystal display.
【０００３】微小な半球状のレンズが一次元的あるいは
二次元的に配列されたマイクロレンズアレーは、形状が
複雑であり、大きさが微細なため、機械的な加工によっ
てその金型を得ることは困難である。Since a microlens array in which minute hemispherical lenses are arranged one-dimensionally or two-dimensionally has a complicated shape and a minute size, its mold can be obtained by mechanical processing. It is difficult.
【０００４】そのため、従来は、シリコン等の基板上に
開口部が形成されたマスクを設置し、真空装置内でドラ
イエッチングを施すことにより、基板上に半球状のパタ
ーンを形成して原盤を作製し、この原盤から金型を作製
して樹脂を成形しマイクロレンズアレーを得るドライエ
ッチング法が用いられている。Therefore, conventionally, a mask having an opening is formed on a substrate made of silicon or the like, and dry etching is performed in a vacuum device to form a hemispherical pattern on the substrate to produce a master. Then, a dry etching method is used in which a mold is produced from this master and a resin is molded to obtain a microlens array.
【０００５】また、金属等の基板上にフォトレジスト等
の感光性樹脂を形成した樹脂原盤に、光ビームを照射す
ることにより感光性樹脂を感光させた後、現像液を塗布
して、感光した部分を除去し、感光性樹脂が除去された
部分の基板を所定の時間エッチング液に接触させてウエ
ットエッチングを行うことにより、基板に半球状の孔を
形成して原盤を作製し、この原盤から金型を作製して樹
脂を成形してマイクロレンズアレーを成形するウエット
エッチング法が用いられている。[0005] Further, a resin master having a photosensitive resin such as a photoresist formed on a substrate made of metal or the like is exposed to a light beam to expose the photosensitive resin, and then a developing solution is applied and exposed. By removing the portion, the substrate of the portion where the photosensitive resin has been removed is brought into contact with an etching solution for a predetermined time and wet etching is performed to form a hemispherical hole in the substrate to prepare a master, and from this master A wet etching method is used in which a mold is prepared, a resin is molded, and a microlens array is molded.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ドライ
エッチング法を用いて基板をエッチングするためには、
長時間のエッチング時間が必要であり、また、大面積に
渡り均一なパターンを形成することが困難であった。さ
らに、エッチングガスとして人体に有害な塩素系ガスを
用いる場合があった。However, in order to etch the substrate using the dry etching method,
It requires a long etching time, and it is difficult to form a uniform pattern over a large area. Furthermore, chlorine-based gas, which is harmful to the human body, may be used as the etching gas.
【０００７】また、ウエットエッチング法を用いて基板
をエッチングするためには、エッチング液としてフッ酸
等の非常に危険な溶剤を用いなくてはならなかった。ま
た、ドライエッチング法と同様に、長時間のエッチング
時間が必要であった。Further, in order to etch the substrate using the wet etching method, a very dangerous solvent such as hydrofluoric acid has to be used as an etching solution. Further, as in the dry etching method, a long etching time is required.
【０００８】さらに、一度あるパターンを形成した原盤
を再利用する場合は、パターンが形成された表面を研磨
しなくてはならず、研磨する時間に長時間を費やしてい
た。また、板厚が薄い基板を用いた場合は、研磨による
再利用はできなかった。Further, in the case of reusing a master disc on which a pattern is once formed, the surface on which the pattern is formed must be polished, and a long polishing time is spent. Further, when a substrate having a small plate thickness was used, it could not be reused by polishing.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
発明においては、マイクロレンズアレー用金型の製造方
法において、基板上に光吸収材を含有させた形状記憶樹
脂膜を形成し樹脂原盤を得る工程と、樹脂原盤に光ビー
ムを選択的に照射し形状記憶樹脂膜の表面に半球状のパ
ターンを形成する工程と、パターンが形成された表面に
金属を成膜することによってパターンを転写した金型を
得る工程とを具備することを特徴とするものである。According to a first aspect of the present invention, in a method for manufacturing a mold for a microlens array, a resin having a shape memory resin film containing a light absorbing material is formed on a substrate. A step of obtaining a master, a step of selectively irradiating a resin master with a light beam to form a hemispherical pattern on the surface of the shape memory resin film, and a pattern is formed by depositing a metal on the surface on which the pattern is formed. And a step of obtaining a transferred mold.
【００１０】本発明の請求項２記載の発明においては、
マイクロレンズアレー用原盤において、表面が平滑な基
板と、加熱により半球状のパターンが形成された形状記
憶樹脂層とを具備することを特徴とするものである。In the invention according to claim 2 of the present invention,
A master for a microlens array is characterized by including a substrate having a smooth surface and a shape memory resin layer on which a hemispherical pattern is formed by heating.
【００１１】本発明の請求項３記載の発明においては、
請求項２に記載のマイクロレンズアレー用原盤であっ
て、前記形状記憶樹脂層は光ビームを吸収する光吸収材
を含有することを特徴とするものである。In the invention according to claim 3 of the present invention,
The microlens array master according to claim 2, wherein the shape memory resin layer contains a light absorbing material that absorbs a light beam.
【００１２】本発明の請求項４記載の発明においては、
請求項２乃至請求項３記載のマイクロレンズアレー用原
盤であって、形状記憶樹脂が熱硬化性ポリウレタン樹脂
であることを特徴とするものである。In the invention according to claim 4 of the present invention,
The microlens array master according to any one of claims 2 to 3, wherein the shape memory resin is a thermosetting polyurethane resin.
【００１３】本発明では、マイクロレンズアレー用金型
の製造方法に用いるマイクロレンズアレー用原盤とし
て、基板上に有機色素等の光吸収材を含有させた熱硬化
性ポリウレタン樹脂、スチレンーブタジエン共重合体樹
脂、ポリノルボルネン樹脂等から成る形状記憶樹脂層を
形成した樹脂原盤を用いる。In the present invention, as a master for a microlens array used in a method for manufacturing a mold for a microlens array, a thermosetting polyurethane resin containing a light absorbing material such as an organic dye on a substrate, a styrene-butadiene copolymer A resin master having a shape memory resin layer made of a united resin, a polynorbornene resin, or the like is used.
【００１４】光吸収材を含有させた形状記憶樹脂層に光
ビームを所定のパターンで照射すると、光ビームが照射
された部分に存在する光吸収材が光ビームを吸収し、形
状記憶樹脂が加熱され半球面状に熱膨張し、所望のマイ
クロレンズアレーと同じパターンを有する樹脂原盤を得
ることができる。When the shape-memory resin layer containing the light-absorbing material is irradiated with a light beam in a predetermined pattern, the light-absorbing material existing in the part irradiated with the light beam absorbs the light beam, and the shape-memory resin is heated. Then, it is thermally expanded into a hemispherical shape, and a resin master having the same pattern as the desired microlens array can be obtained.
【００１５】そして、この樹脂原盤の表面に、ニッケル
（Ｎｉ）等の金属を電鋳することにより、マイクロレン
ズアレーのパターンを転写した金型を作製し、この金型
を用いて、所望の光学特性を有する樹脂を成型しマイク
ロレンズアレーを作製することができる。Then, by electroforming a metal such as nickel (Ni) on the surface of the resin master, a mold on which the pattern of the microlens array is transferred is produced, and the desired optical is produced using this mold. A microlens array can be produced by molding a resin having characteristics.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】本発明のマイクロレンズアレー用
金型の製造方法は、基板上に有機色素等の光吸収材を含
有させた熱硬化性ポリウレタン樹脂、スチレンーブタジ
エン共重合体樹脂、ポリノルボルネン樹脂等の形状記憶
樹脂層を形成した樹脂原盤を、マイクロレンズアレー用
原盤として用いる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A method for producing a mold for a microlens array according to the present invention comprises a thermosetting polyurethane resin containing a light absorbing material such as an organic dye on a substrate, a styrene-butadiene copolymer resin, a poly-styrene resin. A resin master on which a shape memory resin layer such as norbornene resin is formed is used as a master for a microlens array.
【００１７】熱硬化性ポリウレタン樹脂、スチレンーブ
タジエン共重合体樹脂、ポリノルボルネン樹脂等の形状
記憶樹脂は、光ビームの波長に対し透明であり、可逆相
と固体相を有するものである。この形状記憶樹脂中に
は、光ビームを吸収して樹脂の温度を高める光吸収材が
含有されている。Shape memory resins such as thermosetting polyurethane resin, styrene-butadiene copolymer resin and polynorbornene resin are transparent to the wavelength of the light beam and have a reversible phase and a solid phase. The shape memory resin contains a light absorbing material that absorbs a light beam and raises the temperature of the resin.
【００１８】光吸収材は、使用する光ビームの波長域に
おいて光ビームを吸収する能力を有し、かつ、形状記憶
樹脂中に分散あるいは溶解する材料、例えばシアニン
類、フタロシアニン類、ジチオール類、ジアミン類等の
有機色素の中から選択して使用される。The light absorbing material has the ability to absorb the light beam in the wavelength range of the light beam to be used, and is a material that disperses or dissolves in the shape memory resin, such as cyanines, phthalocyanines, dithiols and diamines. It is used by selecting it from organic dyes such as a class.
【００１９】熱硬化性ポリウレタン樹脂、スチレンーブ
タジエン共重合体樹脂、ポリノルボルネン樹脂等の形状
記憶樹脂は、高分子鎖中に可逆的に硬化と軟化を繰り返
す状態変化機能をもった可逆相と、高分子の位置関係を
固定する固定点を持った固定相からなるものである。Shape memory resins such as thermosetting polyurethane resin, styrene-butadiene copolymer resin, and polynorbornene resin have a reversible phase having a state change function in the polymer chain, which has a state-changing function of reversibly repeating curing and softening. It is composed of a stationary phase having fixed points that fix the positional relationship of the polymer.
【００２０】可逆相は、温度変化に対して弾性率が大き
く変化する転移温度Ｔ１を有し、一方、固定相は、高分
子鎖の架橋、絡み合い等の固定点である転移温度Ｔ２
（Ｔ２＞Ｔ１）を有している。The reversible phase has a transition temperature T1 at which the elastic modulus greatly changes with temperature change, while the stationary phase has a transition temperature T2 which is a fixed point such as crosslinking and entanglement of polymer chains.
(T2> T1).
【００２１】次に、本発明のマイクロレンズアレー用金
型の製造方法について図面を用いて詳細に説明する。図
１は、本発明のマイクロレンズアレー用金型の製造方法
の製造工程を示した模式図である。図１（ａ）は、樹脂
原盤を作製する工程、図１（ｂ）は、マイクロレンズア
レーのパターンを形成する工程、図１（ｃ）は、金型を
作製する工程、図１（ｄ）は、金型を剥離する工程を示
している。また、図２は、本発明の製造方法によって得
られたマイクロレンズアレー用金型を用いてマイクロレ
ンズアレーを成形する製造工程を示した模式図である。
図２（ａ）は、マイクロレンズアレーを成形する工程、
図２（ｂ）は、マイクロレンズアレーを金型から剥離す
る工程を示している。Next, a method of manufacturing the mold for the microlens array of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing a manufacturing process of a method for manufacturing a mold for a microlens array of the present invention. 1 (a) is a step of producing a resin master, FIG. 1 (b) is a step of forming a pattern of a microlens array, FIG. 1 (c) is a step of producing a mold, and FIG. 1 (d). Shows the step of peeling the mold. Further, FIG. 2 is a schematic diagram showing a manufacturing process of molding a microlens array using the mold for microlens array obtained by the manufacturing method of the present invention.
FIG. 2A shows a step of forming a microlens array,
FIG. 2B shows a step of peeling the microlens array from the mold.
【００２２】まず、ガラスやシリコン等の基板１上に、
光ビーム波長に吸収帯域を有する光吸収材と形状記憶樹
脂を溶剤に分散あるいは溶解させた溶液を塗布し、乾燥
させて形状記憶樹脂層２を形成し、形状記憶樹脂の固定
相の転移温度Ｔ２以上に加熱し、冷却することにより最
初の形状を固定し記憶させ、樹脂原盤３を得る（図１
（ａ））。First, on a substrate 1 such as glass or silicon,
A light-absorbing material having an absorption band at the wavelength of the light beam and a shape-memory resin are dispersed or dissolved in a solvent and applied, and dried to form the shape-memory resin layer 2. The transition temperature T2 of the stationary phase of the shape-memory resin. By heating and cooling as described above, the initial shape is fixed and memorized, and the resin master 3 is obtained (see FIG. 1).
(A)).
【００２３】次に、形状記憶樹脂層２に所定の波長の光
ビーム４を照射し、可逆相の転移温度Ｔ１以上で固定相
の転移温度Ｔ２以下の温度に加熱し、変形を与える。光
吸収材は光ビーム４を吸収して熱を発生し、可逆相が加
熱され軟化するとともに膨張する。光ビーム４を遮断す
ると形状記憶樹脂層２はすぐに冷却し、熱膨張によって
できた半球状の隆起は急冷され、変形が保持されたまま
室温に戻る。Next, the shape-memory resin layer 2 is irradiated with a light beam 4 having a predetermined wavelength and heated to a temperature not lower than the reversible phase transition temperature T1 and not higher than the stationary phase transition temperature T2 to deform it. The light absorbing material absorbs the light beam 4 to generate heat, and the reversible phase is heated and softened and expanded. When the light beam 4 is shut off, the shape memory resin layer 2 is immediately cooled, the hemispherical ridge formed by thermal expansion is rapidly cooled, and the temperature returns to room temperature while maintaining the deformation.
【００２４】この動作を、所望のパターンを形成するよ
うに光ビーム４または樹脂原盤３を移動させて繰り返す
ことによって、所望のパターンが形成された樹脂原盤３
が得られる（図１（ｂ））。By repeating this operation by moving the light beam 4 or the resin master 3 so as to form a desired pattern, the resin master 3 having the desired pattern is formed.
Is obtained (FIG. 1 (b)).
【００２５】続いて、所望のパターンが形成された樹脂
原盤３のパターン表面に、スパッタリング等によりニッ
ケル（Ｎｉ）等の導電膜を形成し、その後、Ｎｉ電鋳を
行い、パターンを転写した金型５を得る（図１
（ｃ））。Subsequently, a conductive film of nickel (Ni) or the like is formed on the pattern surface of the resin master 3 on which a desired pattern is formed by sputtering or the like, and then Ni electroforming is performed to transfer the pattern to the mold. 5 (Figure 1
(C)).
【００２６】そして、樹脂原盤３から金型５を剥離し
（図１（ｄ））、金型５を用いて射出成形法及び２Ｐ
（Photo Polymer）法等の方法により、所望の屈折率を
有する樹脂またはガラスを成形し（図２（ａ））、金型
５から取り外すことによりマイクロレンズアレー６を得
ることができる（図２（ｂ））。Then, the mold 5 is peeled from the resin master 3 (FIG. 1 (d)), and the mold 5 is used for injection molding and 2P.
A microlens array 6 can be obtained by molding a resin or glass having a desired refractive index by a method such as (Photo Polymer) method (FIG. 2A) and removing it from the mold 5 (FIG. 2 ( b)).
【００２７】最後に、金型５を取り外した樹脂原盤３
を、オーブン等に設置し、可逆相の転移温度Ｔ１以上で
固定相の転移温度Ｔ２以下の温度に加熱し、徐冷する
と、残留内部応力を消すために変形が開放され、固定相
が記憶した元の平滑な形状に回復し、再利用することが
できる。Finally, the resin master 3 with the mold 5 removed
Was placed in an oven or the like, heated to a temperature not lower than the transition temperature T1 of the reversible phase and not higher than the transition temperature T2 of the stationary phase, and gradually cooled, the deformation was released to eliminate the residual internal stress, and the stationary phase was memorized. It can be restored to its original smooth shape and reused.
【００２８】[0028]
【実施例】以下に、本発明のマイクロレンズアレー用金
型の製造方法の実施例を詳細に示す。本実施例では、形
状記憶樹脂の具体例として熱硬化性ポリウレタン樹脂を
用いた場合について示すが、スチレンーブタジエン共重
合体樹脂、ポリノルボルネン樹脂等のその他の形状記憶
樹脂を用いた場合も本質的に以下に示す実施例と同様で
ある。洗浄された厚さ６ｍｍのガラス基板表面に、０．
５μｍのフィルターで濾過した熱硬化性ポリウレタン樹
脂溶液を、スピンコーティング法で３０００ｒｐｍで塗
布し、厚さ７μｍの熱硬化性ポリウレタン樹脂層を形成
し、樹脂原盤を作製した。EXAMPLES Examples of the method for producing a mold for a microlens array of the present invention will be described in detail below. Although a thermosetting polyurethane resin is used as a specific example of the shape memory resin in this example, it is also essential to use other shape memory resins such as styrene-butadiene copolymer resin and polynorbornene resin. The same as the embodiment described below. On the surface of the washed glass substrate having a thickness of 6 mm, 0.
A thermosetting polyurethane resin solution filtered with a 5 μm filter was applied at 3000 rpm by a spin coating method to form a thermosetting polyurethane resin layer having a thickness of 7 μm, to prepare a resin master.
【００２９】ここで、熱硬化性ポリウレタン樹脂溶液は
以下に示す物質を混合して作製した。また、波長７８０
ｎｍのレーザ光を吸収させるために、この波長域に吸収
帯を有する有機色素を光吸収材として混合した。 熱硬化性ポリウレタン樹脂 （三洋化成工業製：サンプレン、樹脂濃度３０％溶液） ３６．９ｗｔ％ 硬化剤 （三洋化成工業製：ＣＡ０７５Ｎ、イソシアネート系架橋剤） １．２ｗｔ％ 有機色素 （日本化成製：ＩＲＧー００３） １．２ｗｔ％ テトラクロロエタン ６０．７ｗｔ％Here, the thermosetting polyurethane resin solution was prepared by mixing the following substances. In addition, the wavelength 780
In order to absorb the laser light of nm, an organic dye having an absorption band in this wavelength range was mixed as a light absorbing material. Thermosetting polyurethane resin (Sanyo Kasei: Sanprene, resin concentration 30% solution) 36.9 wt% Curing agent (Sanyo Kasei: CA075N, isocyanate cross-linking agent) 1.2 wt% Organic dye (Nippon Kasei: IRG -003) 1.2wt% Tetrachloroethane 60.7wt%
【００３０】以上の組成からなる樹脂原盤上に、波長７
８０ｎｍのレーザ光をビーム径１５μｍに絞り込み、樹
脂原盤表面での出力が３０ｍＷとなるように調整し、１
ｍｓの時間照射したところ、直径約１０μｍ、高さ約３
μｍの半球状のマイクロレンズパターンが形成された。
そして、レーザ光を移動し、上述の動作を繰り返し、樹
脂原盤上にマイクロレンズアレーのパターンを形成し
た。On the resin master having the above composition, a wavelength of 7
The laser beam of 80 nm is narrowed down to a beam diameter of 15 μm and adjusted so that the output on the resin master surface becomes 30 mW.
When irradiated for ms, the diameter is about 10 μm and the height is about 3
A μm hemispherical microlens pattern was formed.
Then, the laser beam was moved, and the above-described operation was repeated to form a pattern of the microlens array on the resin master.
【００３１】上記パターンを形成した樹脂原盤の表面
に、Ｎｉ膜を０．１μｍの膜厚に形成し、続いて、Ｎｉ
電鋳を行って、上記パターンを転写した厚さ約５ｍｍの
金型を作製した。A Ni film having a film thickness of 0.1 μm is formed on the surface of the resin master on which the above pattern is formed.
Electroforming was performed to produce a mold having a thickness of about 5 mm, to which the above pattern was transferred.
【００３２】次に、得られた金型を用いて２Ｐ法により
マイクロレンズアレーを作製した。金型にフォトポリマ
ーを滴下してソーダガラス基板を設置し、フォトポリマ
ーを均一に広げた後、紫外線を照射しフォトポリマーを
硬化させた。その後、金型から剥離したところ、ソーダ
ガラス基板上に均一なマイクロレンズアレーが形成でき
た。Next, a microlens array was manufactured by the 2P method using the obtained mold. The photopolymer was dropped onto the mold, a soda glass substrate was placed on the mold, and the photopolymer was uniformly spread, and then the photopolymer was cured by irradiation with ultraviolet rays. Then, when peeled from the mold, a uniform microlens array could be formed on the soda glass substrate.
【００３３】得られたマイクロレンズアレーのマイクロ
レンズの大きさを原子力間顕微鏡で測定したところ、直
径約１０μｍ、高さ約３μｍであり、金型から忠実に転
写されていた。このマイクロレンズアレーを液晶パネル
に設置したところ、画面の明るさが１．３倍になった。The size of the microlenses of the obtained microlens array was measured by an atomic force microscope to find that the diameter was about 10 μm and the height was about 3 μm, and they were faithfully transferred from the mold. When this microlens array was installed on a liquid crystal panel, the screen brightness was increased by 1.3 times.
【００３４】また、金型を取り外した後の樹脂原盤を、
オーブン内に設置し、８０℃で１分間加熱したところ、
マイクロレンズアレーのパターンが消滅し、元の平滑な
状態に回復した。Further, the resin master after removing the mold is
When placed in an oven and heated at 80 ° C for 1 minute,
The pattern of the microlens array disappeared and the original smooth state was restored.
【００３５】[0035]
【発明の効果】以上のように、本発明のマイクロレンズ
アレー用金型の製造方法では、従来の製造方法のよう
に、ドライエッチング工程やウエットエッチング工程等
の工程が不必要であるため、短時間でマイクロレンズを
作製することができ、また、危険なガスや溶剤を使用す
る必要がない。As described above, in the method for manufacturing a mold for a microlens array of the present invention, unlike the conventional manufacturing method, the steps such as the dry etching step and the wet etching step are unnecessary, and therefore, it is short. Microlenses can be made in time, and there is no need to use dangerous gases or solvents.
【００３６】さらに、本発明のマイクロレンズアレー用
金型の製造方法では、基板上に有機色素等の光吸収材を
含有させた熱硬化性ポリウレタン樹脂等の形状記憶樹脂
層を形成した樹脂原盤をマイクロレンズアレー用原盤と
して用いており、一度パターンが形成された原盤を、短
時間、加熱するだけで、パターンを消去することがで
き、さらに別のパターンを形成することができるため、
１つのマイクロレンズアレー用原盤から複数のマイクロ
レンズアレー用金型を作製することができる。Further, in the method for producing a mold for a microlens array of the present invention, a resin master having a shape memory resin layer such as a thermosetting polyurethane resin containing a light absorbing material such as an organic dye is formed on a substrate. Since it is used as a master for microlens array, the master once the pattern is formed can be erased by simply heating the master for a short time, and another pattern can be formed.
A plurality of molds for microlens array can be produced from one master for microlens array.
【図１】本発明のマイクロレンズアレー用金型の製造方
法の製造工程を示した模式図。 （ａ）樹脂原盤を作製する工程、 （ｂ）マイクロレンズアレーのパターンを形成する工程 （ｃ）金型を作製する工程 （ｄ）金型を剥離する工程FIG. 1 is a schematic diagram showing manufacturing steps of a method for manufacturing a mold for a microlens array of the present invention. (A) a step of producing a resin master, (b) a step of forming a pattern of a microlens array (c) a step of producing a mold (d) a step of peeling the mold
【図２】本発明の製造方法によって得られたマイクロレ
ンズアレー用金型を用いてマイクロレンズアレーを成形
する製造工程を示した模式図。 （ａ）マイクロレンズアレーを成形する工程 （ｂ）マイクロレンズアレーを金型から剥離する工程FIG. 2 is a schematic diagram showing a manufacturing process of molding a microlens array using a mold for a microlens array obtained by the manufacturing method of the present invention. (A) Step of molding the microlens array (b) Step of peeling the microlens array from the mold
１ 基板 ２ 形状記憶樹脂層 ３ 樹脂原盤 ４ 光ビーム ５ 金型 ６ マイクロレンズアレー 1 substrate 2 shape memory resin layer 3 resin master 4 light beam 5 mold 6 microlens array
Claims (4)
脂膜を形成し樹脂原盤を得る工程と、前記樹脂原盤に光
ビームを選択的に照射し前記形状記憶樹脂膜の表面に半
球状のパターンを形成する工程と、前記パターンが形成
された表面に金属を成膜することによって前記パターン
を転写した金型を得る工程とから成ることを特徴とする
マイクロレンズアレー用金型の製造方法。1. A step of forming a shape memory resin film containing a light absorbing material on a substrate to obtain a resin master, and a step of selectively irradiating the resin master with a light beam to form a hemisphere on the surface of the shape memory resin film. Of a mold for a microlens array, which comprises the steps of forming a pattern in a pattern and a step of forming a metal film on the surface on which the pattern is formed to obtain a mold to which the pattern is transferred. Method.
パターンが形成された形状記憶樹脂層とを具備すること
を特徴とするマイクロレンズアレー用原盤。2. A master plate for a microlens array, comprising a substrate having a smooth surface and a shape memory resin layer on which a hemispherical pattern is formed by heating.
原盤であって、前記形状記憶樹脂層は光ビームを吸収す
る光吸収材を含有することを特徴とするマイクロレンズ
アレー用原盤。3. The master for microlens array according to claim 2, wherein the shape memory resin layer contains a light absorbing material for absorbing a light beam.
ズアレー用原盤であって、前記形状記憶樹脂が熱硬化性
ポリウレタン樹脂であることを特徴とするマイクロレン
ズアレー用原盤。4. The microlens array master according to claim 2, wherein the shape memory resin is a thermosetting polyurethane resin.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25682395A JPH0976245A (en) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | Manufacture of mold for microlens array and matrix for the microlens array |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25682395A JPH0976245A (en) | 1995-09-08 | 1995-09-08 | Manufacture of mold for microlens array and matrix for the microlens array |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0976245A true JPH0976245A (en) | 1997-03-25 |
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ID=17297935
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1995
- 1995-09-08 JP JP25682395A patent/JPH0976245A/en not_active Withdrawn
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