JPH0968775A - Silver halide photographic sensitive material and its production - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material and its production

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JPH0968775A
JPH0968775A JP7221998A JP22199895A JPH0968775A JP H0968775 A JPH0968775 A JP H0968775A JP 7221998 A JP7221998 A JP 7221998A JP 22199895 A JP22199895 A JP 22199895A JP H0968775 A JPH0968775 A JP H0968775A
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JP
Japan
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acid
substrate
silver halide
sensitive material
film
Prior art date
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Application number
JP7221998A
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Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Shiozaki
茂 塩崎
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure superior optical characteristics and dimensional stability, satisfactory adhesion of a film and superior productivity by using a syndiotactic polystyrene substrate and specifying the angle of contact of the substrate with water after the substrate is surface-treated before imparting an undercoat layer. SOLUTION: The substrate of this sensitive material is a syndiotactic polystyrene substrate and the angle of contact of the substrate with water is 39-65 deg. after the substrate is surface-treated before imparting an undercoat layer. The substrate is a film based on syndiotactic polystyrene and its stereoregular structure (tacticity) chiefly has a syndiotactic structure, that is, a steric structure in which phenyl groups or substd. phenyl groups as side chains are alternately positioned in the opposite directions to the principal chain consisting of carbon - carbon bonds. The angle of contact of the substrate with water is 39-65 deg., preferably 39-55 deg.. In the case of <39 deg., effects on wettability and adhesiveness are not enhanced and severe conditions in surface treatment are required.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ハロゲン化銀写真感光
材料、およびその製造方法に関するものである。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a silver halide photographic light-sensitive material and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】ハロゲン化銀写真感光材料(以下、写真
感光材料とも称す。)は一般的に、トリアセチルセルロ
ース(以下『TAC』と称す。)に代表されるセルロー
ス繊維素系ポリマーや、ポリエチレンテレフタレート
(以下『PET』と称す。)に代表されるポリエステル
系ポリマーからなるプラスチックフィルム支持体上に、
少なくとも1層の写真感光性層を塗布することによって
製造されている。一般に写真感光材料としては、代表的
なものとしては、35mm幅又はそれ以下の幅でパトロ
ーネ内に収められ、一般にカメラに装填して撮影に用い
るカラー又は白黒ネガフィルムや、明室、スキャナー、
ファクシミリ用等の白黒感材フィルムを挙げることが出
来る。ロールフィルム用支持体としては、主にTACが
用いられているが、この最大の特徴は、光学的に異方性
がなく、透明性が高いことである。しかしながら、TA
Cフィルムは機械的強度に劣り、その分子構造からくる
特徴として、プラスチックフィルムとしては吸水性が高
く、湿度による寸度安定性に劣る。これは、例えば、現
像処理時の吸水で分子鎖が動き、寸法変化が大きくなる
ためと考えられている。
2. Description of the Related Art A silver halide photographic light-sensitive material (hereinafter also referred to as a photographic light-sensitive material) is generally a cellulose fibrin polymer such as triacetyl cellulose (hereinafter referred to as "TAC") or polyethylene. On a plastic film support made of polyester polymer represented by terephthalate (hereinafter referred to as "PET"),
It is manufactured by coating at least one photographic photosensitive layer. Generally, as a typical photographic light-sensitive material, a color or black-and-white negative film, which is stored in a cartridge with a width of 35 mm or less and is generally loaded in a camera for photographing, a bright room, a scanner,
An example is a black-and-white film for facsimiles. TAC is mainly used as a support for a roll film, and the greatest feature of this is that it has no optical anisotropy and high transparency. However, TA
The C film is inferior in mechanical strength, and is characterized by its molecular structure. As a plastic film, it has high water absorption and inferior dimensional stability due to humidity. It is considered that this is because, for example, water absorption during the development process causes the molecular chains to move, resulting in a large dimensional change.

【0003】一方PETフィルムは、優れた機械的性
質、寸度安定性、および高い生産性を持っている為、T
ACに替わりうるものと考えられてきたが、なお現像処
理時の吸水等で、寸法安定性は不十分と考えられ、写真
感光材料として改良がもとめられている。
On the other hand, PET film has excellent mechanical properties, dimensional stability, and high productivity, so that
It has been considered that AC could be substituted, but it is still considered to have insufficient dimensional stability due to water absorption during development processing, and improvements have been sought for photographic light-sensitive materials.

【0004】すなわち、PETフィルムは写真感光材料
用支持体として用いられるが、現像処理を経て、乾燥し
て常温で使用される。従って、ことさら寸法安定性を要
求される印刷感材用途では、湿度膨張係数が小さいこと
が要求される。常温での使用では、温度による伸びは発
現しないが、現像による吸湿で寸法変化(吸湿による伸
び)が大きい。現像時の支持体吸湿を抑えて、現像後の
限られた短時間内での作業をこなすために、塩化ビニリ
デン下引を支持体両面に施す等の工夫が行われている
が、塩化ビニリデンの公害問題等もあり、塩化ビニリデ
ン下引等を実施しなくとも、吸湿による寸法変化の低い
支持体の開発が求められている。
That is, a PET film is used as a support for a photographic light-sensitive material, but it is used after being subjected to a development treatment and then dried at room temperature. Therefore, a small humidity expansion coefficient is required for a printing photosensitive material application that requires particularly dimensional stability. When used at room temperature, elongation due to temperature does not occur, but dimensional change (elongation due to moisture absorption) is large due to moisture absorption due to development. In order to suppress the moisture absorption of the support during development and to perform the work within a limited short time after development, measures such as applying vinylidene chloride undercoat to both sides of the support have been made. Due to pollution problems and the like, there is a demand for the development of a support having a small dimensional change due to moisture absorption even without carrying out vinylidene chloride subbing or the like.

【0005】ところで、シンジオタクティックポリスチ
レン(以下『SPS』と称す。)支持体は、PET支持
体の有する、熱的、機械的、物理的、化学的、光学的特
性を併せ持ち、ことさら、光学的特性(光線透過率、ヘ
ーズ等)、寸法安定性に優れ、吸湿膨張係数がPETの
約1/10以下と、高湿度下での寸法安定性に極めて優
れている。従って、SPS支持体は、上述の用途に有用
に用いられ、特に寸法安定性の要求される印刷感材用途
に適している。
By the way, a syndiotactic polystyrene (hereinafter referred to as "SPS") support has all the thermal, mechanical, physical, chemical and optical properties of a PET support, and especially optical. It has excellent characteristics (light transmittance, haze, etc.) and dimensional stability, and its coefficient of hygroscopic expansion is about 1/10 or less that of PET, which is extremely excellent in dimensional stability under high humidity. Therefore, the SPS support is usefully used in the above-mentioned applications, and is particularly suitable for a printing photosensitive material application where dimensional stability is required.

【0006】さて、一般に支持体を写真感光材料とする
には、片側に乳剤層を、その反対側にはバックコート層
を塗布することが行われている。乳剤層あるいはバック
コート層を支持体と良く接着するには、両者の層間に下
引層を設けることが行われる。しかしながらSPS支持
体の場合、膜付きが悪く、かつ下引層塗布時の濡れ性も
悪く、生産スピードが上がらないという、品質面、生産
面両面で問題がある。
Generally, in order to use a support as a photographic light-sensitive material, one side is coated with an emulsion layer and the other side is coated with a back coat layer. In order to adhere the emulsion layer or back coat layer to the support well, an undercoat layer is provided between the two layers. However, in the case of an SPS support, there is a problem in both quality and production that the film is not attached well and the wettability at the time of applying the undercoat layer is poor, and the production speed does not increase.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、優れた熱的、機械的、物理的、化学的、光学的
特性を有し、特に光学的特性(光線透過率、ヘーズ
等)、寸法安定性(吸湿膨張係数が小さい)に優れた、
膜付き良好な、生産性に優れたハロゲン化銀写真感光材
料を提供することにある。
Therefore, the object of the present invention is to have excellent thermal, mechanical, physical, chemical and optical properties, and in particular optical properties (light transmittance, haze, etc.). , Excellent in dimensional stability (small coefficient of hygroscopic expansion),
An object of the present invention is to provide a silver halide photographic light-sensitive material excellent in productivity with a film.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は下記
構成により達成された。
The above object of the present invention has been achieved by the following constitution.

【0009】(1).支持体上に、少なくとも1層のハ
ロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料において、該支
持体がシンジオタクティックポリスチレン系支持体であ
り、かつ下引き層付与前に施した表面処理後の水との接
触角が、39〜65゜であることを特徴とするハロゲン
化銀写真感光材料。
(1). A photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support, wherein the support is a syndiotactic polystyrene support, and water after surface treatment applied before applying an undercoat layer And a contact angle of 39 to 65 °.

【0010】(2).前記支持体の表面処理後の水との
接触角が、39〜55゜であることを特徴とする(1)
に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
(2). The contact angle with water after the surface treatment of the support is 39 to 55 ° (1)
The silver halide photographic light-sensitive material described in.

【0011】(3).前記支持体の表面処理後の下引層
塗布速度が、80m/分以上であることを特徴とする
(1)または(2)に記載のハロゲン化銀写真感光材
料。
(3). The silver halide photographic light-sensitive material as described in (1) or (2), wherein the coating rate of the undercoat layer after the surface treatment of the support is 80 m / min or more.

【0012】(4).前記支持体の表面処理後の下引層
塗布速度が、100m/分以上であることを特徴とする
(1)または(2)に記載のハロゲン化銀写真感光材
料。
(4). The silver halide photographic light-sensitive material as described in (1) or (2), wherein the coating rate of the undercoat layer after the surface treatment of the support is 100 m / min or more.

【0013】(5).上記(1)〜(4)のいずれか一
項に記載のハロゲン化銀写真感光材料の製造方法。
(5). The method for producing a silver halide photographic light-sensitive material according to any one of (1) to (4) above.

【0014】以下、本発明を詳細に説明する。The present invention will be described in detail below.

【0015】本発明は、支持体上に、少なくとも1層の
ハロゲン化銀乳剤層を有する写真感光材料において、該
支持体がSPS系支持体で、下引き層付与前に、表面処
理を施すことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料お
よびその製造法によって達成されたものであり、膜付き
良好な、下引層塗布時の濡れ性が良好で、生産性に優れ
たハロゲン化銀写真感光材料およびその製造法は、下引
き層付与前に、SPS系支持体に表面処理を施すことに
よって達成された。すなわちSPS支持体表面をエッチ
ングすることによって、その理由はあきらかではない
が、SPS高分子結晶鎖を切断し、生成された高分子結
晶末端非晶鎖およびカルボキシル基が、濡れ性を良化せ
しめて、下引層の塗布性能を向上し、生産性を上げると
ともに、下引層への高分子非晶鎖の取り込み、下引層と
の化学結合により接着性を大幅に改良するものと推定で
きる。
The present invention relates to a photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support, wherein the support is an SPS type support, and a surface treatment is carried out before applying an undercoat layer. A silver halide photographic light-sensitive material which has been achieved by a silver halide photographic light-sensitive material and a method for producing the same, which has good film formation, good wettability when applied to an undercoat layer, and excellent productivity. And the manufacturing method thereof was achieved by subjecting the SPS-based support to a surface treatment before applying the undercoat layer. That is, although the reason is not clear by etching the surface of the SPS support, the SPS polymer crystal chain is cleaved, and the generated polymer crystal terminal amorphous chain and the carboxyl group improve the wettability. It can be presumed that the coating performance of the undercoat layer is improved, the productivity is increased, and the adhesive property is significantly improved by incorporating a polymer amorphous chain into the undercoat layer and chemically bonding with the undercoat layer.

【0016】このような表面処理を施すことによって、
支持体表面が活性化され、その濡れ性や、接着性は、該
支持体の表面処理後の水との接触角を測定することで、
容易に定量的に評価する事が出来る。
By applying such a surface treatment,
The support surface is activated, and its wettability and adhesiveness are measured by measuring the contact angle with water after the surface treatment of the support,
It can be easily quantitatively evaluated.

【0017】ところで、下引き層付与前に、SPS系支
持体に表面処理を施すことによって、水との接触角を小
さくすることができる。接触角が小さい程濡れ性が良好
であることを示している。同時に又、接触角が小さい
程、接着性が良好であることを示している。勿論、表面
処理条件を厳しく(強く、激しく)することで、接触角
は小さくなるが、自ずから限界があることは明かであ
る。
By the way, the contact angle with water can be reduced by subjecting the SPS-based support to a surface treatment before applying the undercoat layer. The smaller the contact angle, the better the wettability. At the same time, it also shows that the smaller the contact angle, the better the adhesion. Of course, by making the surface treatment conditions strict (stronger and harder), the contact angle becomes smaller, but it is obvious that there is a limit.

【0018】SPS系支持体と、水との接触角は、39
〜65゜であることが好ましい。更に好ましくは39〜
55゜であることが良い。接触角の下限は39゜であ
る。39゜未満では、濡れ性、接着性への効果は頭打ち
となり、非常に強い表面処理条件を要することになる。
The contact angle between the SPS-based support and water is 39.
It is preferably ˜65 °. More preferably 39-
It is good that it is 55 °. The lower limit of the contact angle is 39 °. If it is less than 39 °, the effect on wettability and adhesiveness will reach a ceiling and extremely strong surface treatment conditions will be required.

【0019】本発明において、シンジオタクティックポ
リスチレン系支持体とは、シンジオタクティックポリス
チレン(SPS)を主成分とするフィルムのことであ
り、立体規則性構造(タクティシティー)が主としてシ
ンジオタクティック構造、即ち炭素−炭素結合で形成さ
れる主鎖に対して側鎖であるフェニル基や置換フェニル
基が交互に反対方向に位置する立体構造を有するもので
あり、主鎖の主たる連鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン
系重合体あるいは、それを含む組成物であり、スチレン
の単独重合体であれば、特開昭62−117708号記
載の方法で重合することが可能であり、またその他の重
合体については、特開平1−46912号、同1−17
8505号等に記載された方法により重合することによ
り得ることができる。
In the present invention, the syndiotactic polystyrene support means a film containing syndiotactic polystyrene (SPS) as a main component, and its stereoregular structure (tacticity) is mainly a syndiotactic structure. That is, it has a three-dimensional structure in which phenyl groups and substituted phenyl groups, which are side chains, are alternately located in opposite directions with respect to the main chain formed by carbon-carbon bonds, and the main chain of the main chain is a racemo chain. A styrene-based polymer or a composition containing the styrene-based polymer, and a styrene homopolymer can be polymerized by the method described in JP-A-62-117708. JP-A-1-46912 and 1-17.
It can be obtained by polymerization according to the method described in No. 8505.

【0020】そのタクティシティーは同位体炭素によ
る、核磁気共鳴法(13C−NMR法)により定量され
る。13C−NMR法により測定されるタクティシティー
は、連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば2個
の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッド、5個の
場合はペンタッドによって示すことができるが、本発明
に言う主としてシンジオタクティック構造を有するスチ
レン系重合体とは、通常ラセミダイアッドで75%以
上、好ましくは85%以上、若しくはラセミトリアッド
60%以上、好ましくは75%以上、若しくはラセミペ
ンタッド30%以上、好ましくは50%以上であること
が好ましい。
The tacticity is quantified by a nuclear magnetic resonance method ( 13 C-NMR method) using isotope carbon. The tacticity measured by the 13 C-NMR method can be indicated by the abundance ratio of a plurality of continuous constitutional units, for example, diad in the case of 2 units, triad in the case of 3 units, and pentad in the case of 5 units. However, the styrene-based polymer having a predominantly syndiotactic structure as used in the present invention is usually a racemic diad of 75% or more, preferably 85% or more, or racemic triad 60% or more, preferably 75% or more, or a racemic pen. It is preferable that the tod is 30% or more, preferably 50% or more.

【0021】シンジオタクティックポリスチレン系組成
物を構成する重合体の具体的なモノマーとしては、スチ
レン、メチルスチレン等のアルキルスチレン、クロロメ
チルスチレン、クロロスチレン等のハロゲン化(アルキ
ル)スチレン、アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エ
ステル等を主成分とする単独もしくは混合物である。
Specific monomers of the polymer constituting the syndiotactic polystyrene-based composition include styrene, alkylstyrene such as methylstyrene, halogenated (alkyl) styrene such as chloromethylstyrene and chlorostyrene, alkoxystyrene, A single or a mixture containing vinyl benzoate as a main component.

【0022】本発明のシンジオタクティック構造を有す
るポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを
重合用の触媒として、特開平5−320448号、4頁
〜10頁に記載の(イ)(a)遷移金属化合物及び
(b)アルミノキサンを主成分とするもの、又は(ロ)
(a)遷移金属化合物及び(c)遷移金属化合物と反応
してイオン性錯体を形成しうる化合物を主成分とするも
のを用いて重合して製造することができる。
The polystyrene-based resin having a syndiotactic structure of the present invention uses (a) (a) (a) described in JP-A-5-320448, pages 4 to 10 as a catalyst for polymerization using the above raw material monomers. ) Those containing a transition metal compound and (b) aluminoxane as main components, or (b)
It can be produced by polymerization using a compound containing as a main component a compound capable of reacting with (a) a transition metal compound and (c) a transition metal compound to form an ionic complex.

【0023】本発明フィルムに用いられるスチレン系重
合体を製造するには、まず、前記スチレン系単量体を十
分に精製してから上記触媒のいずれかの存在下に重合さ
せる。この際、重合方法、重合条件(重合温度,重合時
間)、溶媒などは適宜選定すればよい。通常は−50〜
200℃、好ましくは30〜100℃の温度において、
1秒〜10時間、好ましくは1分〜6時間程度重合が行
われる。また、重合方法としては、スラリー重合法、溶
液重合法、塊状重合法、気相重合法など、いずれも用い
ることができるし、連続重合,非連続重合のいずれであ
ってもよい。ここで、溶液重合にあっては、溶媒とし
て、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼンなどの芳香族炭化水素、シクロペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素などを一
種又は二種以上を組合わせて使用することができる。こ
の場合、単量体/溶媒(体積比)は任意に選択すること
ができる。また、重合体の分子量制御や組成制御は、通
常用いられている方法によって行えばよい。分子量制御
は例えば水素、温度、モノマー濃度などで行うことがで
きる。
To produce the styrenic polymer used in the film of the present invention, first, the styrenic monomer is sufficiently purified and then polymerized in the presence of any of the above catalysts. At this time, the polymerization method, polymerization conditions (polymerization temperature, polymerization time), solvent, etc. may be appropriately selected. Usually from -50
At a temperature of 200 ° C, preferably 30-100 ° C,
Polymerization is carried out for 1 second to 10 hours, preferably 1 minute to 6 hours. As the polymerization method, any of a slurry polymerization method, a solution polymerization method, a bulk polymerization method, a gas phase polymerization method and the like can be used, and either continuous polymerization or discontinuous polymerization may be used. Here, in solution polymerization, as a solvent, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and ethylbenzene, and aliphatic hydrocarbons such as cyclopentane, hexane, heptane, and octane are used alone or in combination of two or more. It can be used in combination. In this case, the monomer / solvent (volume ratio) can be arbitrarily selected. The molecular weight and composition of the polymer may be controlled by a commonly used method. The molecular weight can be controlled by, for example, hydrogen, temperature, monomer concentration and the like.

【0024】本発明のSPSフィルムの分子量は、製膜
される限りにおいては制限がないが、重量平均分子量
で、10,000〜3,000,000であることが好
ましく、特には30,000〜1,500,000のも
のが好ましい。またこの時の分子量分布(数平均分子量
/重量平均分子量)は、1.5〜8が好ましい。この分
子量分布については、異なる分子量のものを混合するこ
とにより調整することも可能である。また、本発明の効
果を損なわない程度に、これらと共重合可能な他のモノ
マーを共重合することはかまわない。
The molecular weight of the SPS film of the present invention is not limited as long as it is formed, but the weight average molecular weight is preferably 10,000 to 3,000,000, and particularly preferably 30,000 to. It is preferably 1,500,000. The molecular weight distribution (number average molecular weight / weight average molecular weight) at this time is preferably 1.5 to 8. This molecular weight distribution can be adjusted by mixing different molecular weights. In addition, other monomers copolymerizable with these may be copolymerized to the extent that the effects of the present invention are not impaired.

【0025】本発明のSPSフィルムとしては、スチレ
ンから作られるSPS単独であることが好ましいが、さ
らにSPSを含むフィルムとして、SPSに、主鎖がメ
ソ連鎖であるアイソタクティック構造を有するスチレン
系重合体(IPS)を混合することにより結晶化速度の
コントロールが可能であり、より強固なフィルムとする
ことが可能である。SPSとIPSとを混合する際に
は、その比はお互いの立体規則性の高さに依存するが、
30:70〜99:1好ましくは、50:50〜98:
2である。
The SPS film of the present invention is preferably SPS made alone from styrene, but as a film further containing SPS, SPS has a styrene-based heavy chain having an isotactic structure in which the main chain is a meso chain. The crystallization rate can be controlled by mixing the coalescence (IPS), and a stronger film can be obtained. When SPS and IPS are mixed, the ratio depends on their stereoregularity,
30:70 to 99: 1, preferably 50:50 to 98:
2.

【0026】支持体中には、本発明の目的を妨げない範
囲において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防止
剤、UV吸収剤、帯電防止剤、染料、顔料、色素等を含
有させることが可能である。
The support may contain inorganic fine particles, an antioxidant, a UV absorber, an antistatic agent, a dye, a pigment, a dye, etc., in order to impart functionality, within a range not impeding the object of the present invention. Is possible.

【0027】SPSを製膜するに用いる重合体は、重量
平均分子量が10,000以上、更に好ましくは30,
000以上である。重量平均分子量が10,000未満
のものでは、強度特性や耐熱性に優れたフィルムを得る
ことができない。重量平均分子量の上限については、特
に限定されるものではないが、1,500,000以上
では延伸張力の増加に伴う破断の発生などが生じるため
余り好ましくない。更に本発明のSPS系フィルムは、
SPS系ペレットを120〜180℃で、1〜24時
間、真空下或いは、常圧下で、空気又は窒素等の不活性
気体雰囲気下で乾燥する。目的とする含有水分率は、特
に限定されないが加水分解による機械的強度等の低下を
防ぐ観点から、0.05%以下、好ましくは0.01%
以下、更に好ましくは0.005%以下が良い。しかし
ながら目的を達成すれば、これらの方法に特に限定され
るものではない。
The polymer used to form the SPS has a weight average molecular weight of 10,000 or more, more preferably 30,
It is more than 000. If the weight average molecular weight is less than 10,000, a film having excellent strength characteristics and heat resistance cannot be obtained. The upper limit of the weight average molecular weight is not particularly limited, but if the weight average molecular weight is 1,500,000 or more, rupture may occur due to an increase in stretching tension, which is not preferable. Furthermore, the SPS film of the present invention is
The SPS-based pellets are dried at 120 to 180 ° C. for 1 to 24 hours under vacuum or normal pressure under an atmosphere of inert gas such as air or nitrogen. The target moisture content is not particularly limited, but is 0.05% or less, preferably 0.01% or less from the viewpoint of preventing reduction in mechanical strength and the like due to hydrolysis.
Hereafter, 0.005% or less is more preferable. However, these methods are not particularly limited as long as the purpose is achieved.

【0028】製膜時に押し出す方法は、公知の方法が適
用出来るが、例えばTダイで押し出すことが好ましい。
SPSペレットを280〜350℃で溶融、押出して、
キャスティングロール上で静電印加しながら冷却固化さ
せて未延伸フィルムを作製する。
A known method can be applied to the method of extrusion during film formation, but it is preferable to extrude using a T die, for example.
Melt and extrude SPS pellets at 280-350 ° C,
An unstretched film is prepared by cooling and solidifying while applying static electricity on a casting roll.

【0029】次にこの未延伸フィルムを2軸延伸し、2
軸配向させる。延伸方法としては、公知の方法、例え
ば、縦延伸及び横延伸を順に行う逐次2軸延伸法のほ
か、横延伸・縦延伸の逐次2軸延伸法、横・縦・縦延伸
法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法、または同時
2軸延伸法等を採用することができ、要求される機械的
強度や寸法安定性等の諸特性に応じて適宜選択すること
ができる。一般に、最初に長手方向に、次に幅手方向に
延伸を行う逐次2軸延伸方法が好ましく、この場合、縦
横の延伸倍率としては、1.5〜6倍で、縦延伸温度
は、ポリマーのガラス転移温度(Tg)に依存するが、
通常(Tg+10)℃〜(Tg+50)℃の温度範囲で
延伸する。SPS系フィルムの場合は、110〜150
℃で行うことが好ましい。幅手方向の延伸温度として
は、長手方向より若干高くして115〜160℃で行う
ことが好ましい。
Next, this unstretched film is biaxially stretched to obtain 2
Orient the axis. As a stretching method, a known method, for example, a sequential biaxial stretching method in which longitudinal stretching and transverse stretching are sequentially performed, a sequential biaxial stretching method of transverse stretching / longitudinal stretching, a transverse / longitudinal / longitudinal stretching method, a longitudinal / transverse stretching method. -A longitudinal stretching method, a longitudinal-longitudinal-transverse stretching method, a simultaneous biaxial stretching method or the like can be adopted and can be appropriately selected according to various characteristics such as required mechanical strength and dimensional stability. . In general, a sequential biaxial stretching method in which stretching is first performed in the longitudinal direction and then in the width direction is preferable. In this case, the stretching ratio in the longitudinal and transverse directions is 1.5 to 6 times, and the longitudinal stretching temperature is Depending on the glass transition temperature (Tg),
Stretching is usually performed in a temperature range of (Tg + 10) ° C. to (Tg + 50) ° C. 110-150 for SPS film
It is preferably carried out at a temperature of ° C. The stretching temperature in the width direction is preferably slightly higher than that in the longitudinal direction and is preferably 115 to 160 ° C.

【0030】つぎに、この延伸フィルムを熱処理する。
この場合の熱処理温度としては、用途に応じて適宜変更
出来る。高い収縮率を要求される収縮包装用用途には1
15℃以上175℃以下、寸法安定性を要求される写
真、印刷、医用用途には、目的に応じて適宜175℃〜
270℃の温度が採用される。熱処理時間は、特に限定
されないが通常3秒から100秒程度が採用される。必
要に応じて、縦熱弛緩、横熱弛緩処理等を施してもよい
ことは言うまでもない。
Next, this stretched film is heat-treated.
The heat treatment temperature in this case can be appropriately changed depending on the application. 1 for shrink wrapping applications that require high shrinkage
15 ° C or higher and 175 ° C or lower, 175 ° C to 175 ° C depending on the purpose for photography, printing, and medical applications requiring dimensional stability.
A temperature of 270 ° C is adopted. The heat treatment time is not particularly limited, but is usually 3 seconds to 100 seconds. It goes without saying that vertical heat relaxation, horizontal heat relaxation treatment and the like may be performed as necessary.

【0031】この後にフィルムを、急冷して巻き取って
も良いが、Tg〜熱処理温度の間で0.1分〜1500
時間かけて徐冷し、大きな径のコアに巻取り40℃〜T
g℃間でさらに−0.01〜−50℃/分の間の平均冷
却速度で冷却すると、支持体に巻ぐせを付けにくくする
効果がある点で好ましい。もちろん40℃〜Tg℃間で
の熱処理は、支持体を巻とってから乳剤塗布後までに
0.1〜1500時間恒温槽に入れて行ってもかまわな
い。
After this, the film may be rapidly cooled and wound, but it is 0.1 minute to 1500 at a temperature between Tg and the heat treatment temperature.
Slowly cool over time and wind on a large diameter core 40 ℃ ~ T
It is preferable to cool at an average cooling rate of −0.01 to −50 ° C./min between g ° C. because it has an effect of making it difficult to wind the support. Of course, the heat treatment between 40 ° C. and Tg ° C. may be carried out by putting the support in a constant temperature bath for 0.1 to 1500 hours after the emulsion is coated and after the emulsion is coated.

【0032】このような熱処理は、SPS支持体製膜
直後、支持体の表面処理工程の後、下引層塗布後、
乳剤層塗布後実施することも可能である。熱処理によ
る巻きぐせ改良方策は、Tg以上の温度にさらされると
その効果を失うのでTg以上の温度にならないようにす
ることが必要である。併せて、熱処理を実施すること
で、ブロッキング現象が発生したり、乳剤層が劣化がし
たりすることは写真感光材料としては致命的であり、熱
処理温度を極力低めに設定する等の手段を講じて、避け
なければならない。熱処理温度は、40℃以上Tg℃以
下である。SPS支持体のTgは共重合成分の割合によ
っては変化するが、本質的にSPSホモポリマー支持体
と機械的、物理的、化学的諸特性に有意の差を見いだせ
ない。しかし若干の共重合成分を含む、SPS支持体の
Tgは95〜100℃程度である。従って、SPS支持
体そのものに巻きぐせ軽減のための熱処理を実施する場
合の温度は、40℃以上Tg以下、言い替えれば95〜
100℃以下が好ましい。下引処理後熱処理する場合
は、ブロッキング現象を避ける観点からも70℃以下4
0℃以上が好ましい。乳剤塗布後に熱処理する場合も同
様に、65℃以下40℃以上が好ましい。
Such heat treatment is carried out immediately after film formation on the SPS support, after the surface treatment step of the support, after coating the undercoat layer,
It is also possible to carry out after coating the emulsion layer. The method of improving the curling due to heat treatment loses its effect when exposed to a temperature of Tg or higher, so it is necessary to prevent the temperature from becoming higher than Tg. At the same time, it is fatal for a photographic light-sensitive material that a blocking phenomenon occurs or the emulsion layer deteriorates by performing heat treatment, and measures such as setting the heat treatment temperature as low as possible are taken. You must avoid it. The heat treatment temperature is 40 ° C. or higher and Tg ° C. or lower. Although the Tg of the SPS support varies depending on the proportion of the copolymerization component, essentially no significant difference can be found in mechanical, physical and chemical properties from the SPS homopolymer support. However, the Tg of the SPS support containing some copolymerization components is about 95 to 100 ° C. Therefore, the temperature when the heat treatment for reducing the winding around the SPS support itself is performed is 40 ° C. or higher and Tg or lower, in other words, 95 to
It is preferably 100 ° C or lower. When heat-treating after the subbing treatment, 70 ° C. or less from the viewpoint of avoiding the blocking phenomenon 4
It is preferably 0 ° C or higher. Similarly, when heat treatment is performed after coating the emulsion, the temperature is preferably 65 ° C. or lower and 40 ° C. or higher.

【0033】上述の製膜法に加えて、易滑性、接着性、
帯電防止性能等の諸特性を付与するため、SPS支持体
の少なくとも片面に、前述の特性等を付与したSPS支
持体を積層した、SPS積層フィルムを作製することも
出来る。積層の方法は、樹脂が溶融された状態で層流で
積層した後、ダイより押し出すとか、冷却、固化したS
PS未延伸支持体又はSPS一軸延伸支持体に、溶融S
PSを押出ラミネートし、しかる後縦・横両方向に又
は、一軸延伸方向と直角方向に延伸、熱固定して得られ
る。SPS樹脂の押出条件、延伸温度、延伸倍率、熱固
定温度等は、SPS積層支持体の組み合わせによっては
若干異なるが、最適条件を選ぶよう微調整すれば良く、
大幅な変更にはならない。勿論、積層は2層以上の組み
合わせからなり、同種ポリマーの組み合わせ(共重合ポ
リマーの組み合わせを含む)であっても良いし、異種ポ
リマーの組み合わせであっても良いことは言うまでもな
い。
In addition to the above film forming method, slipperiness, adhesiveness,
In order to impart various properties such as antistatic performance, it is also possible to produce an SPS laminated film in which an SPS support having the above-mentioned properties is laminated on at least one surface of the SPS support. The lamination method is such that the resin is melted in a laminar flow and then extruded from a die or cooled and solidified S.
Molten S is added to PS unstretched support or SPS uniaxially stretched support.
It is obtained by extrusion-laminating PS, then stretching in both the longitudinal and transverse directions or in the direction perpendicular to the uniaxial stretching direction and heat setting. Extrusion conditions, stretching temperature, stretching ratio, heat setting temperature, etc. of the SPS resin are slightly different depending on the combination of the SPS laminated support, but may be finely adjusted to select the optimum conditions.
Not a major change. Needless to say, the lamination is composed of a combination of two or more layers, and may be a combination of the same kind of polymers (including a combination of copolymerization polymers) or a combination of different kinds of polymers.

【0034】上記に加えて、同様な方法で表面塗布(塩
化ビニリデン塗布によるガスバリヤー性付与、インライ
ン塗布による易滑性、易接着性付与等)を行っても良
い。すなわち、SPS未延伸フィルムに、又はSPS一
軸延伸後に、或いは又SPS二軸延伸後に、インライン
コーティングすることによって作製する事ができる。
In addition to the above, surface coating (giving a gas barrier property by coating vinylidene chloride, imparting slipperiness and adhesiveness by in-line coating, etc.) may be carried out in the same manner. That is, it can be produced by in-line coating on an SPS unstretched film, after SPS uniaxial stretching, or after SPS biaxial stretching.

【0035】上述の製膜法は、その用途、目的に応じて
適宜変えられるもので、本発明はいかなる理由でも、こ
れらの方法に限定されるものではない。
The above-mentioned film forming method can be appropriately changed according to its use and purpose, and the present invention is not limited to these methods for any reason.

【0036】このようにして得られるSPS系延伸フィ
ルムの厚さは、写真感光材料用途に応じて異なるが、カ
ラー感材用の60〜122μm、医用、印刷感材用の1
00μm、Xレイ用の175μm厚さと、多岐に亘る
が、前述の製膜条件は、50〜250μmの厚さのもの
に有効である。
The thickness of the SPS-based stretched film thus obtained varies depending on the application of the photographic light-sensitive material, but is 60 to 122 μm for color light-sensitive materials, and 1 for medical and printing light-sensitive materials.
The thickness is 00 μm, the thickness is 175 μm for X rays, and the film forming conditions described above are effective for the thickness of 50 to 250 μm.

【0037】つぎにハロゲン化銀写真感光材料用親水性
コロイド層塗布前の支持体の下引処理に付いて述べる。
下引層を塗設する際には、薬品処理、機械的粗面化処
理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処
理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処
理、混酸処理、オゾン酸化処理などの表面処理を施すこ
とが必須である。表面処理、下引層塗布は、連続して実
施しても良いし、別べつであっても良い。これらの表面
処理により、SPS支持体表面の水との接触角は65゜
以下39゜以上、好ましくは55゜以下39゜以上にす
る事が良い。39゜未満にしようとすると処理条件を相
当厳しく(強く、激しく)する必要があり、大体39゜
で飽和し、これ以下にする意味があまりない。この条件
を満たせば、下引層塗布時の濡れ性、接着性は共に良好
である。
Next, the subbing treatment of the support before coating the hydrophilic colloid layer for silver halide photographic light-sensitive materials will be described.
When applying the undercoat layer, chemical treatment, mechanical surface roughening treatment, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment, mixed acid treatment, ozone oxidation It is essential to apply surface treatment such as treatment. The surface treatment and coating of the undercoat layer may be carried out continuously or separately. By these surface treatments, the contact angle of water on the surface of the SPS support should be 65 ° or less and 39 ° or more, preferably 55 ° or less and 39 ° or more. If it is set to less than 39 °, it is necessary to make the treatment conditions considerably severe (strong and violent), and it is saturated at about 39 °, and there is not much point in setting it below this. If this condition is satisfied, both wettability and adhesiveness when applying the undercoat layer are good.

【0038】コロナ処理は、放電周波数は、50Hz〜
5000KHz、好ましくは5KHz〜数100KHz
が適当である。放電周波数が小さすぎると、安定な放電
がえられず、かつ被処理物にピンホールが生じ、好まし
くない。また周波数が高すぎると、インピーダンスマッ
チングのための特別な装置が必要となり、装置の価格が
高くなり、好ましくない。被処理物の処理強度は、SP
S支持体に対しては、5〜20Watt・分/m2、好
ましくは6〜15Watt・分/m2が適当である。装
置の種類(電極と誘電体ロールのギャップクリアラン
ス、放電形状、放電周波数、波形等)により処理強度は
厳密に規定されないので、支持体処理表面と水との接触
角が、特許請求項に規定の範囲を満足すれば、これらの
数値に限定されるものではない。
In the corona treatment, the discharge frequency is 50 Hz to
5000 KHz, preferably 5 KHz to several 100 KHz
Is appropriate. If the discharge frequency is too low, stable discharge cannot be obtained, and pinholes are generated in the object to be treated, which is not preferable. On the other hand, if the frequency is too high, a special device for impedance matching is required, which increases the cost of the device, which is not preferable. The processing strength of the object is SP
For the S support, 5 to 20 Watt · min / m 2 , preferably 6 to 15 Watt · min / m 2 are suitable. The treatment strength is not strictly defined depending on the type of device (gap clearance between electrode and dielectric roll, discharge shape, discharge frequency, waveform, etc.), so the contact angle between the treated surface of the support and water is specified in the claims. If the range is satisfied, it is not limited to these numerical values.

【0039】紫外線処理は、石英管からなる高圧水銀
灯、低圧水銀灯で、180〜380nmのスペクトルを
有するものが好ましい。紫外線処理は、フィルム製膜工
程(延伸プロセス、熱固定時、熱固定後)で行うことが
好ましく、とりわけ延伸工程の後半、あるいは熱固定時
に行うことが好ましい。紫外線照射の方法は、高圧水銀
ランプ(365nmを主波長とするスペクトルを発生)
であれば、照射光量100〜1500(mJ/m2)が
良い。低圧水銀ランプ(254nmを主波長とするスペ
クトルを発生)の場合には、照射光量200〜1500
(mJ/m2)が良く、好ましくは、400〜1300
(mJ/m2)が良い。1300(mJ/m2)を越える
と、効果が飽和する。装置の種類により処理強度は厳密
に規定されないので、支持体処理表面と水との接触角
が、本発明の請求項に規定の範囲を満足すれば、これら
の数値に限定されるものではない。
The ultraviolet treatment is preferably performed with a high-pressure mercury lamp or a low-pressure mercury lamp composed of a quartz tube and having a spectrum of 180 to 380 nm. The ultraviolet treatment is preferably performed in a film forming step (stretching process, heat setting, after heat setting), and particularly preferably in the latter half of the stretching step or heat setting. The method of UV irradiation is a high-pressure mercury lamp (generates a spectrum whose main wavelength is 365 nm)
If so, the irradiation light amount of 100 to 1500 (mJ / m 2 ) is preferable. In the case of a low-pressure mercury lamp (generating a spectrum whose main wavelength is 254 nm), the irradiation light amount is 200 to 1500
(MJ / m 2 ) is good, preferably 400 to 1300
(MJ / m 2 ) is good. When it exceeds 1300 (mJ / m 2 ), the effect is saturated. The treatment strength is not strictly defined depending on the type of the apparatus, so that the treatment angle is not limited to these values as long as the contact angle between the treated surface of the support and water satisfies the range defined in the claims of the present invention.

【0040】下引層に付いては、当業界で用いられてい
るものならいずれを用いても構わない。また下引層は、
単層でも構わないが、より機能性を求め、接着力を高め
るためには、重層であることが望ましい。以下に下引の
重層法について説明する。重層法においては、下引第1
層は、支持体に良く接着することが好ましく、素材とし
ては、メタクリル酸、アクリル酸、等の不飽和カルボン
酸もしくはそのエステル、スチレン、塩化ビニリデン、
塩化ビニル、等の単量体から得られる重合体もしくは、
共重合体、水分散系のポリエステル、ポリウレタン、ポ
リエチレンイミン、エポキシ樹脂などが挙げられる。こ
の中で好ましいものは、水分散性ポリエステルとスチレ
ン系重合体を構成要素とする共重合体である。この水分
散性ポリエステルとスチレン系重合体を構成要素とする
共重合体または、組成物について説明する。
The subbing layer may be any of those used in the art. The undercoat layer is
Although it may be a single layer, it is preferably a multi-layer in order to obtain more functionality and increase the adhesive strength. The subbing multilayer method will be described below. In the multi-layer method, the first subbing
The layer preferably adheres well to the support, and as the material, unsaturated carboxylic acid such as methacrylic acid, acrylic acid or its ester, styrene, vinylidene chloride,
Polymer obtained from monomers such as vinyl chloride, or
Examples thereof include copolymers, water-dispersed polyesters, polyurethanes, polyethyleneimines, and epoxy resins. Of these, preferred are copolymers having a water-dispersible polyester and a styrene polymer as constituent elements. The copolymer or composition containing the water-dispersible polyester and the styrene polymer as constituent elements will be described.

【0041】水分散性ポリエステルとは、多塩基酸また
はそのエステル形成性誘導体とポリオールまたはそのエ
ステル形成性誘導体との縮重合反応により得られる実質
的に線状のポリマーである。このポリマーの多塩基酸成
分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、
無水フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,
4−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシ
ン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸な
どを例示することができる。これら成分と共にマレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などの不飽和多塩基酸やp
−ヒドロキシ安息香酸、p−(β−ヒドロキシエトキ
シ)安息香酸などのヒドロキシカルボン酸を小割合用い
ることができる。
The water-dispersible polyester is a substantially linear polymer obtained by a polycondensation reaction between a polybasic acid or its ester-forming derivative and a polyol or its ester-forming derivative. The polybasic acid component of this polymer includes terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid,
Phthalic anhydride, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,
Examples thereof include 4-cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid and dimer acid. Unsaturated polybasic acids such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and p
A small proportion of hydroxycarboxylic acids such as -hydroxybenzoic acid and p- (β-hydroxyethoxy) benzoic acid can be used.

【0042】また、ポリオール成分としては、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、キシリレングリコール、トリメチロ
ールプロパン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、
ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールなどを例示
することができる。
As the polyol component, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, xylylene glycol, triglyceride, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triglyceride, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol, triethylene glycol. Methylolpropane, poly (ethylene oxide) glycol,
Examples thereof include poly (tetramethylene oxide) glycol.

【0043】該水分散性ポリエステルに水分散性及び水
溶性を付与するために、スルホン酸塩、ジエチレングリ
コール、ポリアルキレンエーテルグリコールなどの導入
が有効な手段である。特にスルホン酸塩を有するジカル
ボン酸成分(スルホン酸塩を有するジカルボン酸及び/
又はそのエステル形成性誘導体)を水分散性ポリエステ
ル中の全ジカルボン酸成分に対して5〜15モル%含有
することが好ましい。
In order to impart water dispersibility and water solubility to the water-dispersible polyester, introduction of a sulfonate, diethylene glycol, polyalkylene ether glycol or the like is an effective means. In particular, a dicarboxylic acid component having a sulfonic acid salt (a dicarboxylic acid having a sulfonic acid salt and / or
Or an ester-forming derivative thereof) in an amount of from 5 to 15 mol% based on all dicarboxylic acid components in the water-dispersible polyester.

【0044】本発明において、下引層に用いられるスル
ホン酸塩を有するジカルボン酸及び/又はそのエステル
形成性誘導体としてはスルホン酸アルカリ金属塩の基を
有するものが特に好ましく、例えば4−スルホイソフタ
ル酸、5−スルホイソフタル酸、スルホテレフタル酸、
4−スルホフタル酸、4−スルホナフタレン−2,7−
ジカルボン酸、5−(4−スルホフェノキシ)イソフタ
ル酸などのアルカリ金属塩またはそのエステル形成性誘
導体が用いられるが、5−スルホイソフタル酸ナトリウ
ム塩又はそのエステル形成性誘導体が特に好ましい。こ
れらのスルホン酸塩を有するジカルボン酸及び/又はそ
のエステル形成性誘導体は、水溶性及び耐水性の点から
全ジカルボン酸成分に対し6〜10モル%で用いられる
ことが特に好ましい。
In the present invention, the sulfonic acid salt-containing dicarboxylic acid and / or its ester-forming derivative used in the undercoat layer is particularly preferably one having a sulfonic acid alkali metal salt group, such as 4-sulfoisophthalic acid. , 5-sulfoisophthalic acid, sulfoterephthalic acid,
4-sulfophthalic acid, 4-sulfonaphthalene-2,7-
An alkali metal salt such as dicarboxylic acid or 5- (4-sulfophenoxy) isophthalic acid or an ester-forming derivative thereof is used, and 5-sulfoisophthalic acid sodium salt or an ester-forming derivative thereof is particularly preferable. The dicarboxylic acid having a sulfonic acid salt and / or an ester-forming derivative thereof is particularly preferably used in an amount of from 6 to 10 mol% based on all dicarboxylic acid components from the viewpoint of water solubility and water resistance.

【0045】本発明において、下引層に用いるスチレン
系重合体のモノマーとしては、スチレン単独でかまわな
いし又共重合する際には、例えばアルキルアクリレー
ト、アルキルメタクリレート(アルキル基としてはメチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、2−エチルヘ
キシル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル
基、フェニルエチル基等);2−ヒドロキシエチルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー;アク
リルアミド、メタクリルアミド、N−メチルメタクリル
アミド、N−メチルアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N,
N−ジメチロールアクリルアミド、N−メトキシメチル
アクリルアミド等のアミド基含有モノマー;N,N−ジ
エチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジエチルア
ミノメタクリレートのアミノ基含有モノマー;グリシジ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレート等のエポキ
シ基含有モノマー;アクリル酸、メタクリル酸及びそれ
らの塩(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)
等のカルボキシル基またはその塩を含有するモノマー;
スチレンスルホン酸、ビニルスルホン酸及びそれらの塩
(ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等のス
ルホン酸基叉はその塩を含有するモノマー;イタコン
酸、マレイン酸、フマール酸及びそれらの塩(ナトリウ
ム塩、カリウム塩、アンモニウム塩)等のカルボキシル
基またはその塩を含有するモノマー;無水マレイン酸、
無水イタコン酸等の酸無水物を含有するモノマー;ビニ
ルイソシアネート、アリルイソシアネート、ビニルメチ
ルエーテル、ビニルエチルエーテル、アクリロニトリ
ル、塩化ビニル、酢酸ビニル、塩化ビニリデン等が挙げ
られる。上述のモノマーは、1種もしくは2種以上を用
いて共重合させることができる。
In the present invention, the monomer of the styrene polymer used in the undercoat layer may be styrene alone or when it is copolymerized, for example, alkyl acrylate or alkyl methacrylate (wherein the alkyl group is a methyl group or an ethyl group). , N-propyl group, isopropyl group, n
-Butyl group, isobutyl group, t-butyl group, 2-ethylhexyl group, cyclohexyl group, phenyl group, benzyl group, phenylethyl group, etc.); 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-
Hydroxy-containing monomers such as hydroxypropyl acrylate and 2-hydroxypropyl methacrylate; acrylamide, methacrylamide, N-methylmethacrylamide, N-methylacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-methylolacrylamide, N,
Amide group-containing monomers such as N-dimethylolacrylamide and N-methoxymethylacrylamide; amino group-containing monomers such as N, N-diethylaminoethyl acrylate and N, N-diethylaminomethacrylate; epoxy group-containing monomers such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; Acrylic acid, methacrylic acid and their salts (sodium salt, potassium salt, ammonium salt)
Monomers containing carboxyl groups or salts thereof such as;
Monomers containing sulfonic acid groups such as styrenesulfonic acid, vinylsulfonic acid and salts thereof (sodium salt, potassium salt, ammonium salt) or salts thereof; itaconic acid, maleic acid, fumaric acid and salts thereof (sodium salt) , A potassium salt, an ammonium salt) or the like, or a monomer containing a carboxyl group or a salt thereof; maleic anhydride,
Monomers containing acid anhydrides such as itaconic anhydride; vinyl isocyanate, allyl isocyanate, vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, acrylonitrile, vinyl chloride, vinyl acetate, vinylidene chloride and the like can be mentioned. The above-mentioned monomers can be copolymerized using one kind or two or more kinds.

【0046】水分散性ポリエステルをビニル系重合体に
変性するには、水分散性ポリエステルの末端に付加重合
可能な基を導入してビニル系共重合体のモノマーと共重
合することによりグラフト化する方法、ビニル系共重合
体を重合しモノマーとしてカルボン酸、グリシジル基も
しくはアミノ基等水分散性ポリエステルを縮重合する際
に反応可能基を導入しグラフト化する方法等がある。
In order to modify the water-dispersible polyester into a vinyl polymer, an addition-polymerizable group is introduced at the terminal of the water-dispersible polyester and copolymerized with a monomer of the vinyl copolymer for grafting. There are methods such as a method of polymerizing a vinyl-based copolymer and introducing a reactive group at the time of condensation polymerization of a water-dispersible polyester such as a carboxylic acid, a glycidyl group or an amino group as a monomer, and grafting.

【0047】また、重合開始剤には、過硫酸アンモニウ
ム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウムなどがあり、好
ましくは過硫酸アンモニウムが使用される。
The polymerization initiator includes ammonium persulfate, potassium persulfate, sodium persulfate, etc., and ammonium persulfate is preferably used.

【0048】更に、重合については、特に界面活性剤を
必要とせず、ソープフリーで反応可能である。しかし、
重合安定性を改良する目的で、系内に界面活性剤を乳化
剤として用いることができ、一般のノニオン・アニオン
いずれの界面活性剤も使用できる。
Further, regarding the polymerization, a soap is not particularly required, and the reaction can be carried out soap-free. But,
For the purpose of improving the polymerization stability, a surfactant can be used as an emulsifier in the system, and any general nonionic and anionic surfactant can be used.

【0049】上記の水分散性ポリエステルとスチレン系
共重合体の変性する割合は、99/1〜5/95、好ま
しくは97/3〜50/50、更に好ましくは95/5
〜80/20がよい。
The modifying ratio of the above water-dispersible polyester and styrene copolymer is 99/1 to 5/95, preferably 97/3 to 50/50, and more preferably 95/5.
~ 80/20 is good.

【0050】下引第1層中には、塗布性を向上させるた
めに活性剤の添加やメチルセルロース等のセルロース化
合物を含有させることが好ましい。
In order to improve the coating property, it is preferable to add an activator or a cellulose compound such as methyl cellulose in the first subbing layer.

【0051】下引処理は、前記フィルム製膜後に行って
も構わないが、下引組成物が延伸可能であるならば、製
膜途中である縦延伸の前、縦延伸と横延伸の間、横延伸
後熱処理の前など任意の場所で行うことが可能である。
延伸ができない場合例えば、親水性基を有するポリマー
を用いるには、親水性高分子間での相互作用が強く、延
伸できないことがあるが、スチーム下で延伸したり、延
伸助剤としてポリグリセリンなどを添加することにより
延伸が可能となる。
The subbing treatment may be carried out after the film formation, but if the subbing composition can be stretched, before the longitudinal stretching which is in the midst of the film formation, between the longitudinal stretching and the transverse stretching, It can be performed at any place such as after transverse stretching and before heat treatment.
When stretching is not possible For example, when a polymer having a hydrophilic group is used, it may not be possible to stretch due to strong interaction between hydrophilic polymers, but stretching under steam, polyglycerin as a stretching aid, etc. It becomes possible to stretch by adding.

【0052】親水基を有するモノマーの中で好ましい物
としては、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸
等の不飽和カルボン酸が挙げられる。この含有量として
は、耐水性の点からみて、1〜10重量%が好ましく、
更に好ましくは1〜8重量%、より好ましくは、1〜6
重量%、最も好ましくは、1〜4重量%である。またこ
の共重合体の第4成分として、その他の共重合可能な単
量体を0〜15重量%、好ましくは、0〜10重量%の
範囲で、必要に応じて共重合させる事ができる。この例
としては、メチルスチレン等のアルキル置換スチレン、
クロロスチレン、クロルメチルスチレン等のハロゲン化
スチレン、アクリロニトリル等の不飽和ニトリル化合
物、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸t−ブチル等の脂肪族、メタクリル酸シクロヘキシル
等の脂環族、アクリル酸ベンジル等の芳香族(メタ)ア
クリル酸エステル化合物、更にはゴム変性化合物であ
る、ブタジエン、イソプレン等を挙げることができる。
Preferred among the monomers having a hydrophilic group are unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid and maleic anhydride. From the viewpoint of water resistance, the content is preferably 1 to 10% by weight,
More preferably 1 to 8% by weight, more preferably 1 to 6
%, Most preferably 1 to 4% by weight. Further, as the fourth component of this copolymer, other copolymerizable monomers may be copolymerized in the range of 0 to 15% by weight, preferably 0 to 10% by weight, if necessary. Examples of this include alkyl-substituted styrenes such as methylstyrene,
Chlorostyrene, chloromethyl styrene and other halogenated styrenes, acrylonitrile and other unsaturated nitrile compounds, methyl acrylate, methyl methacrylate, t-butyl acrylate and other aliphatic compounds, cyclohexyl methacrylate and other alicyclic compounds, and benzyl acrylate. And aromatic (meth) acrylic acid ester compounds, such as butadiene and isoprene, which are rubber-modified compounds.

【0053】これらの共重合体の製法は、特に制限がな
く、通常は一般公知のラジカル開始剤を用いて、ラジカ
ル重合により得る事ができる。
The method for producing these copolymers is not particularly limited, and can be usually obtained by radical polymerization using a generally known radical initiator.

【0054】これらの単量体からなる共重合体の、GP
C法により測定される標準ポリスチレン換算の重量平均
分子量としては、1500〜700000であることが
好ましく、2000〜500000であることが更に好
ましい。
GP of a copolymer composed of these monomers
The weight average molecular weight in terms of standard polystyrene measured by the C method is preferably 1500 to 700,000, and more preferably 2000 to 500000.

【0055】下引第2層は、写真乳剤層と良く接着する
親水性樹脂層であることが好ましい。親水性樹脂層を構
成するバインダーとして、ゼラチン、ゼラチン誘導体、
ガゼイン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビ
ニルアルコール、ポリアクリル酸共重合体、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース等の水
溶性ポリマー類、ポリスチレンスルホン酸ソーダ共重合
体と疎水性ラテックスの組み合わせなどが挙げられる
が、ゼラチンが好ましい。
The second subbing layer is preferably a hydrophilic resin layer which adheres well to the photographic emulsion layer. As a binder that constitutes the hydrophilic resin layer, gelatin, a gelatin derivative,
Casein, agar, sodium alginate, starch, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid copolymer, carboxymethyl cellulose, water-soluble polymers such as hydroxyethyl cellulose, a combination of a polystyrene sulfonate sodium copolymer and a hydrophobic latex, and the like, Gelatin is preferred.

【0056】これら下引第2層中には、硬膜剤を用いて
膜強度を高めることが好ましく、このような硬膜剤とし
ては、例えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドの
ようなアルデヒド化合物、米国特許2,732,303
号、同3,288,775号、英国特許974,723
号、同1,167,207号等に記載されている反応性
ハロゲンを有する化合物、ジアセチル、シクロペンタン
ジオンの如きケトン化合物、ビス(2−クロロエチル)
尿素、2−ヒドロキシ−4,6−ジクロロ−1,3,5
−トリアジン、ジビニルスルホン、5−アセチル−1,
3−ジアクリロイルヘキサヒドロ−1,3,5−トリア
ジン、米国特許3,232,763号、同3,635,
718号、英国特許994,809号等に記載の反応性
オレフィンを有する化合物、米国特許3,539,64
4号、同3,642,486号、特公昭49−1356
8号、同53−47271号、同56−48860号、
特開昭53−57257号、同61−128240号、
同62−4275号、同63−53541号、同63−
264572号等に記載のビニルスルホン化合物、N−
ヒドロキシメチルフタルイミド、米国特許2,732,
316号、同2,586,168号等に記載のN−メチ
ロール化合物、米国特許3,103,437号等に記載
のイソシアネート化合物、米国特許2,983,611
号、同3,107,280号等に記載のアジリジン化合
物、米国特許2,725,294号、同2,725,2
95号等に記載の酸誘導体類、米国特許3,100,7
04号等に記載のカルボジイミド系化合物、米国特許
3,091,537号等に記載のエポキシ系化合物、米
国特許3,321,313号、同3,543,292号
等に記載のイソオキサゾール系化合物、ムコクロル酸の
ようなハロゲノカルボキシアルデヒド類、ジヒドロキシ
ジオキサン、ジクロロジオキサン等のジオキサン誘導体
等の有機硬膜剤及びクロムミョウバン、硫酸ジルコニウ
ム、三塩化クロム等の無機硬膜剤である。またゼラチン
に対して硬膜作用が比較的速い硬膜剤としては、特開昭
50−38540号に記載のジヒドロキノリン骨格を有
する化合物、特開昭51−59625号、同62−26
2854号、同62−264044号、同63−184
741号に記載のN−カルバモイルピリジニウム塩類、
特公昭55−38655号に記載のアシルイミダゾール
類、特公昭53−22089号に記載のN−アシルオキ
シイミダゾール類、特公昭53−22089号に記載の
N−アシルオキシイミノ基を分子内に2個以上有する化
合物、特開昭52−93470号に記載のN−スルホニ
ルオキシイミド基を有する化合物、特開昭58−113
929号に記載のリン−ハロゲン結合を有する化合物、
特開昭60−225148号、同61−240236
号、同63−41580号に記載のクロロホルムアミジ
ニウム化合物等が知られている。
A hardener is preferably used in the undercoating second layer to increase the film strength. Examples of such hardener include aldehyde compounds such as formaldehyde and glutaraldehyde, and US Pat. , 732, 303
No. 3,288,775, British Patent 974,723.
No. 1,167,207, etc., compounds having a reactive halogen, ketone compounds such as diacetyl and cyclopentanedione, bis (2-chloroethyl)
Urea, 2-hydroxy-4,6-dichloro-1,3,5
-Triazine, divinyl sulfone, 5-acetyl-1,
3-Diacryloylhexahydro-1,3,5-triazine, U.S. Pat. Nos. 3,232,763 and 3,635.
718, compounds having reactive olefins described in British Patent 994,809, etc., US Pat. No. 3,539,64
No. 4, No. 3,642, 486, Japanese Patent Publication No. 49-1356
No. 8, No. 53-47271, No. 56-48860,
JP-A-53-57257, JP-A-61-128240,
No. 62-4275, No. 63-53541, No. 63-
Vinylsulfone compounds described in No. 264572, N-
Hydroxymethylphthalimide, US Patent 2,732
No. 316, 2,586,168, etc., N-methylol compounds, US Pat. No. 3,103,437, etc., isocyanate compounds, US Pat. No. 2,983,611.
And the aziridine compounds described in U.S. Pat. Nos. 2,725,294 and 2,725,2.
Acid derivatives described in US Pat. No. 3,100,7
No. 04, etc., carbodiimide compounds, U.S. Pat. No. 3,091,537, etc. epoxy compounds, U.S. Pat. Nos. 3,321,313, 3,543,292, etc. isoxazole compounds. , Organic hardeners such as halogenocarboxaldehydes such as mucochloric acid, dioxane derivatives such as dihydroxydioxane and dichlorodioxane, and inorganic hardeners such as chromium alum, zirconium sulfate and chromium trichloride. Further, as a hardener having a relatively fast hardening effect on gelatin, compounds having a dihydroquinoline skeleton described in JP-A-50-38540, JP-A-51-59625 and JP-A-62-26 are mentioned.
No. 2854, No. 62-264044, No. 63-184.
No. 741 N-carbamoylpyridinium salts,
It has two or more acyl-imidazoles described in JP-B-55-38655, N-acyloxyimidazoles described in JP-B-53-22089, and two or more N-acyloxyimino groups described in JP-B-53-22089. Compounds, compounds having an N-sulfonyloxyimide group described in JP-A-52-93470, JP-A-58-113
A compound having a phosphorus-halogen bond described in No. 929,
JP-A-60-225148 and 61-240236.
Nos. 63-41580 and chloroformamidinium compounds are known.

【0057】この下引第2層には、滑り剤として2酸化
珪素、2酸化チタン等の無機微粒子や、ポリメタクリル
酸メチル等の有機系マット材(1〜10μm)を含有す
ることが好ましい。これ以外にも必要に応じて、各種の
添加剤例えば、帯電防止剤、ハレーション防止剤、着色
用染料、顔料、塗布助剤を含有することができる。
The second subbing layer preferably contains, as a slip agent, inorganic fine particles such as silicon dioxide and titanium oxide, and an organic matting material (1 to 10 μm) such as polymethylmethacrylate. In addition to these, various additives such as an antistatic agent, an antihalation agent, a coloring dye, a pigment, and a coating aid may be contained, if necessary.

【0058】この中でも帯電防止剤を含有させることが
好ましい。好ましい帯電防止剤としては、非感光性の導
電体および/もしくは半導体微粒子を挙げられる。
Among these, it is preferable to include an antistatic agent. Preferred antistatic agents include non-photosensitive conductors and / or semiconductor fine particles.

【0059】本発明において下引層に用いられる非感光
性の導電体および/もしくは半導体微粒子としては、粒
子中に存在する電荷担体、例えば陽イオン、陰イオン、
電子、正孔等によって導電性を示すもので、有機材料、
無機材料あるいは両者の複合材料でもよい。好ましくは
電子伝導性を示す化合物であり、有機材料であればポリ
アニリン、ポリピロール、ポリアセチレン等の高分子微
粒子等を挙げることができる。無機材料であれば酸素不
足酸化物、金属過剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰
酸化物等の不定比化合物を形成し易い金属酸化物微粒子
等が挙げられる。また電荷移動錯体もしくは有機−無機
複合材料であればホスファゼン金属錯体等を挙げること
ができる。この中で本発明の下引層に最も好ましい化合
物は製造方法などが多様な方式をとることが可能な金属
酸化物微粒子である。また、本発明においては下引層中
における導電体としては体積固有抵抗が103Ω・cm
以下のものを、半導体については1012Ω・cm以下の
ものをそれぞれ導電体、半導体として定義する。
The non-photosensitive conductor and / or semiconductor fine particles used for the undercoat layer in the present invention include charge carriers existing in the particles, such as cations and anions.
It shows conductivity by electrons, holes, etc., organic materials,
It may be an inorganic material or a composite material of both. It is preferably a compound having electron conductivity, and examples of organic materials include polymer fine particles such as polyaniline, polypyrrole, and polyacetylene. Examples of inorganic materials include fine particles of metal oxides that easily form nonstoichiometric compounds such as oxygen-deficient oxides, metal-excess oxides, metal-deficient oxides, and oxygen-excess oxides. If it is a charge transfer complex or an organic-inorganic composite material, a phosphazene metal complex or the like can be mentioned. Among these, the most preferable compound for the undercoat layer of the present invention is metal oxide fine particles which can be manufactured by various methods. In the present invention, the volume resistivity of the conductor in the undercoat layer is 10 3 Ω · cm.
The following are defined as a conductor and a semiconductor with respect to the semiconductor as 10 12 Ω · cm or less.

【0060】以下に好ましい導電性微粒子の作成方法を
例示する。
A preferred method for producing conductive fine particles will be described below.

【0061】《半導体微粒子溶液の調製》塩化第二スズ
水和物65gを水/エタノール混合溶液2000ccに
溶解し、均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物
を得た。生成した沈澱物をデカンテーションにより取り
出し、蒸留水にて沈澱物を何度も水洗する。沈澱物を洗
浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応がな
いことを確認後、蒸留水1000ccを添加し全量を2
000ccとする。さらに30%アンモニア水を40c
c加え、水浴中で加温し、コロイド状ゲル分散液を得
た。
<< Preparation of Semiconductor Fine Particle Solution >> 65 g of stannic chloride hydrate was dissolved in 2000 cc of a water / ethanol mixed solution to obtain a uniform solution. Then, this was boiled to obtain a coprecipitate. The formed precipitate is taken out by decantation, and the precipitate is washed with distilled water many times. Silver nitrate was dropped into distilled water in which the precipitate was washed, and after confirming that there was no reaction of chlorine ions, 1000 cc of distilled water was added to bring the total amount to 2
000 cc. 40c of 30% ammonia water
c, and heated in a water bath to obtain a colloidal gel dispersion.

【0062】《半導体微粒子粉末の調製》塩化第二スズ
水和物65gと三塩化アンチモン1.5gをエタノール
1000gに溶解し均一溶液を得た。この溶液に1N−
水酸化ナトリウム水溶液を前記溶液のpHが3になるま
で滴下してコロイド状酸化第二スズと酸化アンチモンの
共沈殿物を得た。得られた共沈澱物を50℃に、24時
間放置し、赤褐色のコロイド状沈澱を得た。赤褐色のコ
ロイド状沈澱物を遠心分離により分離した。過剰なイオ
ンを除くため沈澱物に水を加え遠心分離によって水洗し
た。この操作を3回繰り返し、過剰イオンを除去した。
過剰イオンを除去したコロイド状沈澱物100gを平均
粒径0.3μmの硫酸バリウム50gおよび水1000
gに混合し900℃に加熱された焼成炉中に噴霧し青み
がかった平均粒径0.1μmの酸化第二スズと硫酸バリ
ウムからなる粉末混合物を得た。
<< Preparation of Semiconductor Fine Particle Powder >> 65 g of stannic chloride hydrate and 1.5 g of antimony trichloride were dissolved in 1000 g of ethanol to obtain a uniform solution. 1N- in this solution
A sodium hydroxide aqueous solution was added dropwise until the pH of the solution became 3, to obtain a coprecipitate of colloidal stannic oxide and antimony oxide. The obtained coprecipitate was left at 50 ° C. for 24 hours to obtain a reddish brown colloidal precipitate. The reddish brown colloidal precipitate was separated by centrifugation. To remove excess ions, water was added to the precipitate and washed by centrifugation. This operation was repeated three times to remove excess ions.
100 g of colloidal precipitate from which excess ions were removed was added with 50 g of barium sulfate having an average particle size of 0.3 μm and 1000 g of water.
It was mixed with g and sprayed in a firing furnace heated to 900 ° C. to obtain a bluish powder mixture of stannic oxide and barium sulfate having an average particle size of 0.1 μm.

【0063】下引層組成物の塗布液濃度は、通常20重
量%以下であり、好ましくは15重量%以下である。塗
布量は、フィルム1m2あたり塗布液重量で1〜30g
さらには5〜20gであることが好ましい。
The coating liquid concentration of the undercoat layer composition is usually 20% by weight or less, preferably 15% by weight or less. The coating amount is 1 to 30 g by weight of the coating liquid per 1 m 2 of the film.
More preferably, it is 5 to 20 g.

【0064】塗布方法としては、公知の種々の方法が適
用できる。例えば、ロールコート法グラビアロールコー
ト法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、バー
コート法、含浸法及びカーテンコート法等を、単独もし
くは組み合わせて、適用することができる。本発明の特
許請求の範囲記載の表面処理後の水との接触角を満足す
れば、塗布スピードは、80m/分以上、好ましくは1
00m/分以上で問題なく塗布できる。上限は、水との
接触角55〜39゜で145m/分である。
As a coating method, various known methods can be applied. For example, a roll coating method, a gravure roll coating method, a spray coating method, an air knife coating method, a bar coating method, an impregnation method, a curtain coating method, or the like can be applied alone or in combination. When the contact angle with water after the surface treatment described in the claims of the present invention is satisfied, the coating speed is 80 m / min or more, preferably 1
It can be applied without problems at a rate of 00 m / min or more. The upper limit is 145 m / min when the contact angle with water is 55 to 39 °.

【0065】本発明によるハロゲン化銀写真感光材料
は、露光後、現像、定着、水洗(または安定化浴)及び
乾燥の少なくとも4プロセスを持つ自動現像機で写真処
理されることが好ましい。
The silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention is preferably subjected to photographic processing after exposure by an automatic processor having at least four processes of development, fixing, washing (or stabilizing bath) and drying.

【0066】本発明に用いられる現像液は、公知の現像
主薬を用いることができる。具体的には、ジヒドロキシ
ベンゼン類(例えば、ハイドロキノン、ハイドロキノン
モノスルホネートなど)、3−ピラゾリドン類(例えば
1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−
メチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジ
メチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−エチル
−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−
ピラゾリドン等)、アミノフェノール類(例えばo−ア
ミノフェノール、p−アミノフェノール、N−メチル−
o−アミノフェノール、N−メチル−p−アミノフェノ
ール、2,4−ジアミノフェノール等)、アスコルビン
酸類(アスコルビン酸、アスコルビン酸ナトリウム、エ
リソルビン酸等)や金属錯塩(EDTA鉄塩、DTPA
鉄塩、DTPAニッケル塩等)を、単独あるいは組み合
わせて用いることができる。その中でも、アスコルビン
酸及びその誘導体を含有する現像液を用いることが好ま
しい。アスコルビン酸及びその誘導体は、現像主薬とし
ては公知であり、例えば、米国特許2688548号、
2688549号、3022168号、3512981
号、4975354号および5326816号等に記載
のものを使用することができる。
As the developing solution used in the present invention, known developing agents can be used. Specifically, dihydroxybenzenes (e.g., hydroquinone, hydroquinone monosulfonate, etc.), 3-pyrazolidones (e.g., 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-)
Methyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-ethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-5-methyl-3-
Pyrazolidone, etc.), aminophenols (eg, o-aminophenol, p-aminophenol, N-methyl-
o-aminophenol, N-methyl-p-aminophenol, 2,4-diaminophenol, etc.), ascorbic acids (ascorbic acid, sodium ascorbate, erythorbic acid, etc.) and metal complex salts (EDTA iron salt, DTPA)
(Iron salt, DTPA nickel salt, etc.) can be used alone or in combination. Among them, it is preferable to use a developer containing ascorbic acid and its derivative. Ascorbic acid and its derivatives are known as a developing agent, for example, US Pat. No. 2,688,548,
2688549, 3022168, 3512981
Nos. 4,975,354 and 5,326,816 can be used.

【0067】更に、アスコルビン酸およびその誘導体の
現像主薬と3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル−
3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−3−ピ
ラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピ
ラゾリドン、1−フェニル−4−エチル−3−ピラゾリ
ドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピラゾリドン
等)やアミノフェノール類(例えばo−アミノフェノー
ル、p−アミノフェノール、N−メチル−o−アミノフ
ェノール、N−メチル−p−アミノフェノール、2,4
−ジアミノフェノール等)や親水性基で置換されたジヒ
ドロキシベンゼン類(例えばハイドロキノンモノスルホ
ネート、ハイドロキノンモノスルホン酸ナトリウム塩、
2,5−ハイドロキノンジスルホン酸カリウム塩等)の
現像主薬を組み合わせて使用することが好ましい。組み
合わせて使用する場合、3−ピラゾリドン類やアミノフ
ェノール類や親水性基で置換されたジヒドロキシベンゼ
ン類の現像主薬は、通常現像液1リットルあたり0.0
1以上0.2モル未満の量で用いられるのが好ましい。
特に、アスコルビン酸およびその誘導体と3−ピラゾリ
ドン類の組み合わせ、及び、アスコルビン酸およびその
誘導体と3−ピラゾリドン類と親水性基で置換されたジ
ヒドロキシベンゼン類の組み合わせが好ましく用いられ
る。
Further, a developing agent for ascorbic acid and its derivatives and 3-pyrazolidones (for example, 1-phenyl-
3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-ethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-5-methyl- 3-pyrazolidone) and aminophenols (for example, o-aminophenol, p-aminophenol, N-methyl-o-aminophenol, N-methyl-p-aminophenol, 2,4)
-Diaminophenol, etc.) or dihydroxybenzenes substituted with a hydrophilic group (for example, hydroquinone monosulfonate, hydroquinone monosulfonic acid sodium salt,
It is preferable to use a developing agent such as 2,5-hydroquinone disulfonic acid potassium salt) in combination. When used in combination, the developing agent for 3-pyrazolidones, aminophenols and dihydroxybenzenes substituted with a hydrophilic group is usually 0.0
It is preferably used in an amount of 1 or more and less than 0.2 mol.
In particular, a combination of ascorbic acid and its derivative with 3-pyrazolidones, and a combination of ascorbic acid and its derivative with 3-pyrazolidones and dihydroxybenzenes substituted with a hydrophilic group are preferably used.

【0068】現像液には、アルカリ剤(水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等)及びpH緩衝剤(例えば炭酸
塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸櫞酸、アルカノー
ルアミン等)が添加されることが好ましい。pH緩衝剤
としては、炭酸塩が好ましく、その添加量は1リットル
当たり0.5モル以上2.5モル以下が好ましく、更に
好ましくは、0.75モル以上1.5モル以下の範囲で
ある。また、必要により溶解助剤(例えばポリエチレン
グリコール類、それらのエステル、アルカノールアミン
等)、増感剤(例えばポリオキシエチレン類を含む非イ
オン界面活性剤、四級アンモニウム化合物等)、界面活
性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば臭化カリウム、臭
化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニトロベンズインダ
ゾール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリアゾー
ル、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾール類
等)、キレート化剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又
はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩
等)、現像促進剤(例えば米国特許2,304,025
号、特公昭47−45541号に記載の化合物等)、硬
膜剤(例えばグルタルアルデヒド又は、その重亜硫酸塩
付加物等)、あるいは消泡剤などを添加することができ
る。現像液のpHは7.5以上10.5未満に調整され
ることが好ましい。更に好ましくは、pH8.5以上1
0.4以下である。
An alkaline agent (sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) and a pH buffering agent (eg carbonate, phosphate, borate, boric acid, acetic acid, oxalic acid, alkanolamine, etc.) are added to the developer. Preferably. As the pH buffering agent, carbonate is preferable, and the addition amount thereof is preferably 0.5 mol or more and 2.5 mol or less, and more preferably 0.75 mol or more and 1.5 mol or less, per liter. If necessary, a solubilizing agent (for example, polyethylene glycols, their esters, alkanolamines, etc.), a sensitizer (for example, nonionic surfactants containing polyoxyethylenes, quaternary ammonium compounds, etc.), surfactants, Antifoaming agents, antifoggants (for example, halides such as potassium bromide and sodium bromide, nitrobenzindazole, nitrobenzimidazole, benzotriazole, benzothiazole, tetrazoles, thiazoles, etc.), chelating agents (for example ethylenediamine tetrachloride). Acetic acid or its alkali metal salts, nitrilotriacetic acid salts, polyphosphate salts, etc., development accelerators (eg US Pat. No. 2,304,025)
No. 1, No. 47-45541), a hardener (for example, glutaraldehyde or its bisulfite adduct), or a defoaming agent. The pH of the developer is preferably adjusted to 7.5 or more and less than 10.5. More preferably, the pH is 8.5 or more 1
It is 0.4 or less.

【0069】定着液としては、一般に用いられる組成の
ものを用いることができる。定着液は一般に通常pHは
3〜8である。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、
チオ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸
塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、
チオシアン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可
溶性安定銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤と
して知られているものを用いることができる。
As the fixing liquid, those having a generally used composition can be used. The fixing solution generally has a pH of 3-8. As a fixing agent, sodium thiosulfate,
Potassium thiosulfate, thiosulfates such as ammonium thiosulfate, sodium thiocyanate, potassium thiocyanate,
In addition to thiocyanates such as ammonium thiocyanate, organic sulfur compounds capable of forming a soluble stable silver complex salt and known as a fixing agent can be used.

【0070】定着液には、硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬、アルデヒド化合物(例えば、グルタ
ルアルデヒドやグルタルアルデヒドの亜硫酸付加物等)
などを加えることができる。
The fixer contains a water-soluble aluminum salt that acts as a hardening agent, such as aluminum chloride, aluminum sulfate, potassium alum, and aldehyde compounds (eg, glutaraldehyde and a sulfite adduct of glutaraldehyde).
Etc. can be added.

【0071】定着液には、所望により、保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸、ク
エン酸)、pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあ
るキレート剤等の化合物を含むことができる。
If desired, the fixer may include preservatives (eg, sulfite, bisulfite), pH buffers (eg, acetic acid, citric acid), pH adjusters (eg, sulfuric acid), and chelates having a water softening ability. Compounds such as agents may be included.

【0072】定着処理後、水洗及び/または安定化浴で
処理される。安定化浴としては、画像を安定化させる目
的で、膜pHを調整(処理後の膜面pHを3〜8に)す
るための無機及び有機の酸及びその塩、またはアルカリ
剤及びその塩(例えばほう酸塩、メタほう酸塩、ホウ
砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、アンモニア水、モノカルボン酸、ジカルボン酸、
ポリカルボン酸、くえん酸、蓚酸、リンゴ酸、酢酸等を
組み合わせて使用)、アルデヒド類(例えばホルマリ
ン、グリオキザール、グルタルアルデヒド等)、キレー
ト剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又はそのアルカリ
金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩等)、防バイ剤
(例えばフェノール、4−クロロフェノール、クレゾー
ル、O−フェニルフェノール、クロロフェン、ジクロロ
フェン、ホルムアルデヒド、P−ヒドロキシ安息香酸エ
ステル、2−(4−チアゾリン)−ベンゾイミダゾー
ル、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ドデシル−ベン
ジル−メチルアンモニウム−クロライド、N−(フルオ
ロジクロロメチルチオ)フタルイミド、2,4,4′−
トリクロロ−2′−ハイドロオキシジフェニルエーテル
等)、色調調整剤及び/または残色改良剤(例えばメル
カプト基を置換基として有する含窒素ヘテロ環化合物;
具体的には2−メルカプト−5−スルホン酸ナトリウム
−ベンズイミダゾール、1−フェニル−5−メルカプト
テトラゾール、2−メルカプトベンズチアゾール、2−
メルカプト−5−プロピル−1,3,4−トリアゾー
ル、2−メルカプトヒポキサンチン等)を含有させる。
その中でも安定化浴中には防バイ剤が含まれることが好
ましい。これらは、液状でも固体状で補充されてもよ
い。
After fixing treatment, washing and / or stabilizing bath treatment is carried out. As a stabilizing bath, for the purpose of stabilizing an image, inorganic and organic acids and salts thereof, or alkali agents and salts thereof for adjusting the film pH (to adjust the film surface pH after treatment to 3 to 8) ( For example, borate, metaborate, borax, phosphate, carbonate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, aqueous ammonia, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid,
Used in combination with polycarboxylic acid, citric acid, oxalic acid, malic acid, acetic acid, etc.), aldehydes (eg formalin, glyoxal, glutaraldehyde etc.), chelating agents (eg ethylenediaminetetraacetic acid or its alkali metal salts, nitrilotriacetic acid salts) , Polyphosphate, etc., antifungal agent (eg phenol, 4-chlorophenol, cresol, O-phenylphenol, chlorophene, dichlorophene, formaldehyde, P-hydroxybenzoic acid ester, 2- (4-thiazoline) -benzo. Imidazole, benzisothiazolin-3-one, dodecyl-benzyl-methylammonium chloride, N- (fluorodichloromethylthio) phthalimide, 2,4,4'-
Trichloro-2'-hydroxydiphenyl ether, etc.), color tone adjuster and / or residual color improver (for example, a nitrogen-containing heterocyclic compound having a mercapto group as a substituent;
Specifically, sodium 2-mercapto-5-sulfonate-benzimidazole, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 2-mercaptobenzthiazole,
Mercapto-5-propyl-1,3,4-triazole, 2-mercaptohypoxanthine, etc.).
Among them, it is preferable that the stabilizing bath contains an anti-binder. These may be replenished in liquid or solid form.

【0073】現像、定着、水洗及び/または安定化浴の
温度は10〜45℃の間であることが好ましく、それぞ
れが別々に温度調整されていてもよい。
The temperature of the developing, fixing, washing and / or stabilizing bath is preferably between 10 and 45 ° C., and the temperature of each may be adjusted separately.

【0074】現像時間短縮の要望から自動現像機を用い
て処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿入されて
から乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間(Dry
to Dry)が60秒以下10秒以上であることが
好ましい。
Due to the demand for shortening the developing time, the total processing time (Dry) from when the leading edge of the film is inserted into the automatic developing machine to when it comes out of the drying zone when processing using the automatic developing machine
to Dry) is preferably 60 seconds or less and 10 seconds or more.

【0075】ハロゲン化銀乳剤中のハロゲン化銀のハロ
ゲン組成は特に制限はないが、補充量を少なくして処理
する場合や迅速処理を行う場合は、塩化銀、60モル%
以上の塩化銀を含む塩臭化銀、60モル%以上の塩化銀
を含む塩沃臭化銀の組成からなるハロゲン化銀乳剤を用
いるのが好ましい。
The halogen composition of silver halide in the silver halide emulsion is not particularly limited, but silver chloride, 60 mol% is used when processing is performed with a small replenishing amount or when rapid processing is performed.
It is preferable to use a silver halide emulsion having the above composition of silver chlorobromide containing silver chloride and silver chloroiodobromide containing 60 mol% or more of silver chloride.

【0076】ハロゲン化銀の平均粒子サイズは1.2μ
m以下であることが好ましく、特に0.8〜0.1μm
が好ましい。平均粒径とは、写真科学の分野の専門家に
は常用されており、容易に理解される用語である。粒径
とは、粒子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒
子直径を意味する。粒子が立方体である場合には球に換
算し、その球の直径を粒径とする。平均粒径を求める方
法の詳細については、ミース,ジェームス:ザ・セオリ
ー・オブ・ザ・フォトグラフィックプロセス(C.E.
Mees&T.H.James著:The theor
y of the photographic pro
cess),第3版,36〜43頁(1966年(マク
ミラン「Mcmillan」社刊))を参照すればよ
い。
The average grain size of silver halide is 1.2 μm.
m or less, and particularly 0.8 to 0.1 μm
Is preferred. The average particle size is a term that is commonly used by experts in the field of photographic science and is easily understood. The particle size means a particle diameter when the particles are spherical or spherical particles. If the particles are cubic, they are converted into spheres, and the diameter of the sphere is defined as the particle size. For details of the method for determining the average particle size, see Mies, James: The Theory of the Photographic Process (CE.
Mees & T. H. By James: The theor
y of the photographic pro
ccs), 3rd edition, pp. 36-43 (1966 (published by Macmillan "Mcmilllan")).

【0077】ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく、
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよい。又、粒子サイズ分布は狭い方
が好ましく、特に平均粒子サイズの±40%の粒子サイ
ズ域内に全粒子数の90%、望ましくは95%が入るよ
うな、いわゆる単分散乳剤が好ましい。
The shape of the silver halide grains is not limited,
The shape may be flat, spherical, cubic, tetrahedral, octahedral, or any other shape. Further, it is preferable that the particle size distribution is narrower, and in particular, a so-called monodisperse emulsion in which 90%, preferably 95% of the total number of particles falls within a particle size range of ± 40% of the average particle size is preferable.

【0078】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(Res
earch Disclosure)176号1764
3,22〜23頁(1978年12月)に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
For details of the silver halide emulsion and its preparation method, see Research Disclosure (Res).
(Earth Disclosure) 176 No. 1764
3, pages 22 to 23 (December 1978).

【0079】ハロゲン化銀乳剤は化学増感されても、さ
れなくともよい。化学増感の方法としては硫黄増感、セ
レン増感、テルル増感、還元増感及び貴金属増感法が知
られており、これらの何れをも単独で用いても又併用し
てもよい。
The silver halide emulsion may or may not be chemically sensitized. As chemical sensitization methods, sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, reduction sensitization and noble metal sensitization are known, and any of these may be used alone or in combination.

【0080】本発明の感光材料には、感光材料の製造工
程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、ある
いは写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含
有させることができる。即ちアゾール類、メルカプトピ
リミジン類、メルカプトトリアジン類、アザインデン
類、ベンゼンチオスルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、
ベンゼンスルホン酸アミド等のようなカブリ防止剤又は
安定剤として知られた多くの化合物を加えることができ
る。
The light-sensitive material of the present invention may contain various compounds for the purpose of preventing fog during the production process of the light-sensitive material, storage or photographic processing, or stabilizing photographic performance. That is, azoles, mercaptopyrimidines, mercaptotriazines, azaindenes, benzenethiosulfonic acid, benzenesulfinic acid,
Many compounds known as antifoggants or stabilizers, such as benzene sulfonic acid amide, can be added.

【0081】写真乳剤の結合剤または、保護コロイドと
しては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外
の親水性コロイドも用いることができる。
As the binder or protective colloid of the photographic emulsion, it is advantageous to use gelatin, but other hydrophilic colloids can also be used.

【0082】ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酵素分解物も用いることができる。
Examples of gelatin include lime-processed gelatin,
Acid-treated gelatin may be used, gelatin hydrolyzate,
Enzymatic degradation products of gelatin can also be used.

【0083】写真乳剤及び非感光性の親水性コロイド層
には、無機又は有機の硬膜剤が、ゼラチン等の親水性コ
ロイドの架橋剤として添加される。これらの硬膜剤はリ
サーチ・ディスクロージャー(Research Di
sclosure)176巻17643(1978年1
2月発行)第26頁のA〜C項に記載されている。
Inorganic or organic hardeners are added to the photographic emulsion and the non-photosensitive hydrophilic colloid layer as a crosslinking agent for hydrophilic colloids such as gelatin. These hardeners are available from Research Disclosure (Research Di
176) 17643 (July 1978)
Issued in February) P. 26, A to C.

【0084】感光材料には、その他の種々の添加剤が用
いられる。例えば、減感剤、可塑剤、滑り剤、現像促進
剤、オイルなどが挙げられる。
Various other additives are used in the light-sensitive material. For example, a desensitizer, a plasticizer, a slipping agent, a development accelerator, an oil and the like can be mentioned.

【0085】前述の添加剤およびその他の公知の添加剤
については、例えばリサーチ・ディスクロージャーN
o.17643(1978年12月)、同No.187
16(1979年11月)及び同No.308119
(1989年12月)に記載された化合物が挙げられ
る。
For the above-mentioned additives and other known additives, see Research Disclosure N.
o. No. 17643 (December 1978); 187
16 (November 1979) and No. 16 308119
(December 1989).

【0086】本発明の感光材料は、レントゲン撮影用、
印刷製版用、カラー又は黒白ネガフィルム等の一般撮影
用、直接観賞用等の各種の用途に用いることができる。
The light-sensitive material of the present invention is for radiography.
It can be used for various purposes such as printing plate making, general photography such as color or black and white negative film, and direct viewing.

【0087】[0087]

【実施例】以下に、本発明の具体的実施例を述べるが、
本発明の実施態様はこれに限定されるものではない。
Hereinafter, specific examples of the present invention will be described.
The embodiment of the present invention is not limited to this.

【0088】実施例1 《支持体の作製》 (1)SPSの重合 特開平3−131843号に準じてSPSペレットを作
製した。即ち、触媒の調整から重合反応までは、全て乾
燥アルゴン気流下で行った。内容積500mlのガラス
性容器に硫酸銅5水塩(CuSO4・5H2O)17.8
g(71mmol)精製ベンゼン200mlおよびトリ
メチルアルミニウム24mlをいれ、40℃で8時間撹
拌して触媒の調整を行った。これをアルゴン気流下N
o.3ガラスフィルターで濾過して、濾液を凍結乾燥さ
せた。これを取り出し、2lのステンレス製容器にい
れ、この中にさらにトリブチルアルミニウム、ペンタシ
クロペンタジエチルチタンメトキシドを混合し90℃に
加熱した。この中に、精製したスチレンを1l入れ、こ
の温度中で8時間重合反応を続けた。この後室温まで冷
却し、1lの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しながら
ナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒を
失活させた。内容物を20lのメタノール中に徐々に滴
下して、更にガラスフィルターで濾過して3回メタノー
ルで洗浄した後、乾燥させた。1,2,4−トリクロル
ベンゼンを溶媒として、135℃で標準ポリスチレンで
検量したGPCの測定結果から求めたこの重合体の重量
平均分子量は280,000であった。またこの重合体
の融点は、245℃で13C−NMRの測定からも得られ
た重合体は、シンジオタクティック構造を有することを
確認した後、これを押出機でペレット化した。
Example 1 << Preparation of Support >> (1) Polymerization of SPS SPS pellets were prepared according to JP-A-3-131843. That is, everything from the preparation of the catalyst to the polymerization reaction was carried out under a stream of dry argon. Glassy container copper sulfate having an inner volume of 500 ml 5-hydrate (CuSO 4 · 5H 2 O) 17.8
g (71 mmol) of purified benzene (200 ml) and trimethylaluminum (24 ml) were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 8 hours to adjust the catalyst. N under an argon stream
o. After filtering through 3 glass filters, the filtrate was freeze-dried. This was taken out, put in a 2 l stainless steel container, and tributylaluminum and pentacyclopentadiethyl titanium methoxide were further mixed therein, and heated to 90 ° C. 1 liter of purified styrene was put in this, and the polymerization reaction was continued at this temperature for 8 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, 1 l of methylene chloride was added, and a methanol solution of sodium methylate was added to the catalyst to deactivate the catalyst while further stirring. The contents were gradually dropped into 20 l of methanol, filtered through a glass filter, washed with methanol three times, and then dried. The weight average molecular weight of this polymer was 280,000, which was determined from the measurement results of GPC measured with standard polystyrene at 135 ° C. using 1,2,4-trichlorobenzene as a solvent. The melting point of this polymer was 245 ° C., and it was confirmed from the 13 C-NMR measurement that the polymer had a syndiotactic structure, which was then pelletized with an extruder.

【0089】(2)SPSフィルムの作製 得られたSPSポリマーペレットを150℃で3時間、
窒素雰囲気下で乾燥し、330℃で、Tダイからフィル
ム状に溶融押出しを行い、シートを静電印荷法により4
0℃の冷却ドラム上で急冷固化して、未延伸フィルムを
作製し、厚さが1090μmの未延伸フィルムを得た。
この未延伸フィルムを130℃で、縦方向に3.3倍延
伸し、引き続き135℃で横方向に3.3倍逐次二軸延
伸し、245℃で30秒間熱固定し、巻きとって、SP
Sロールフィルムを得た。
(2) Preparation of SPS Film The obtained SPS polymer pellets were heated at 150 ° C. for 3 hours,
Dry in a nitrogen atmosphere, melt extrude into a film form from a T-die at 330 ° C., and make the sheet 4 by electrostatic loading.
An unstretched film was prepared by rapid cooling and solidification on a 0 ° C. cooling drum to obtain an unstretched film having a thickness of 1090 μm.
This unstretched film was stretched 3.3 times in the longitudinal direction at 130 ° C., then successively biaxially stretched 3.3 times in the transverse direction at 135 ° C., heat set at 245 ° C. for 30 seconds, wound, and spun.
An S roll film was obtained.

【0090】(1)表面処理 上記のようにして得られた二軸配向SPSロールフィル
ム(これは、接触角90゜のSPSフィルムであっ
た。)の両表面を、表1に記載のようにしてコロナ放電
処理を施して、それぞれ接触角の異なったSPSフィル
ム(支持体)F−1〜F−7を得た。
(1) Surface Treatment Both surfaces of the biaxially oriented SPS roll film (which was an SPS film having a contact angle of 90 °) obtained as described above were as shown in Table 1. And subjected to corona discharge treatment to obtain SPS films (supports) F-1 to F-7 having different contact angles.

【0091】(2)SPSフィルムの下塗 上記(1)の表面処理をしたSPSフィルムの上に、ス
チレン−グリシジルアクリレートおよび酸化スズ微粒子
を含む帯電防止加工を施した下塗層を形成した。
(2) Undercoat of SPS film On the surface-treated SPS film of (1) above, an antistatic undercoat layer containing styrene-glycidyl acrylate and tin oxide fine particles was formed.

【0092】《ハロゲン化銀乳剤Aの調製》同時混合法
を用いて塩化銀70モル%、残りは臭化銀からなる平均
厚み0.05μm、平均直径0.15μmの塩臭化銀コ
ア粒子を調製した。コア粒子混合時にK3RuCl6を銀
1モルあたり8×10-8モル添加した。このコア粒子
に、同時混合法を用いてシェルを付けた。その際K2
rCl6を銀1モルあたり3×10-7モル添加した。得
られた乳剤は平均厚み0.10μm、平均直径0.25
μmのコア/シェル型単分散(変動係数10%)の(1
00)面を主平面として有する塩沃臭化銀(塩化銀90
モル%、沃臭化銀0.2モル%、残りは臭化銀からな
る)平板粒子の乳剤であった。ついで特開平2−280
139号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基
をフェニルカルバミルで置換したもので例えば特開平2
−280139号287(3)頁の例示化合物G−8)
を使い脱塩した。脱塩後のEAgは50℃で190mv
であった。
<< Preparation of Silver Halide Emulsion A >> Silver chlorobromide core particles having an average thickness of 0.05 μm and an average diameter of 0.15 μm, which are composed of 70 mol% of silver chloride and the balance is silver bromide, are prepared by the simultaneous mixing method. Prepared. At the time of mixing the core particles, 8 × 10 −8 mol of K 3 RuCl 6 was added per mol of silver. The core particles were shelled using a double jet method. At that time, K 2 I
3 × 10 −7 mol of rCl 6 was added per mol of silver. The obtained emulsion has an average thickness of 0.10 μm and an average diameter of 0.25.
μm core / shell monodisperse (variation coefficient 10%) (1
Chloroiodobromide (silver chloride 90
Mol%, silver iodobromide 0.2 mol% and the rest silver bromide). Then, JP-A-2-280
Modified gelatin described in JP-A-139 (a gelatin in which an amino group in gelatin is substituted with phenylcarbamyl, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2-53967).
-280139, Exemplified compound G-8 on page 287 (3))
It was desalted using. EAg after desalting is 190 mv at 50 ° C
Met.

【0093】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあた
り1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸
を添加してpH5.6、EAg123mvに調整して、
塩化金酸を2×10-5モル添加した後に無機硫黄を3×
10-6モル添加して温度60℃で最高感度がでるまで化
学熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあた
り2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテト
ラゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
To the obtained emulsion, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a7-tetrazaindene was added at 1 × 10 -3 mol per mol of silver, and potassium bromide and citric acid were further added to adjust the pH to 5. .6, adjust to EAg123mv,
After adding 2 × 10 -5 mol of chloroauric acid, add 3 × of inorganic sulfur
Chemical ripening was performed at a temperature of 60 ° C. until the maximum sensitivity was obtained by adding 10 −6 mol. After completion of ripening, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a7-tetrazaindene was used in an amount of 2 × 10 -3 mol, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole and 3 × 10 -4 mol per mol of silver and gelatin. Was added.

【0094】《ハロゲン化銀乳剤Bの調製》同時混合法
を用いて塩化銀60モル%、沃化銀2.5モル%、残り
は臭化銀からなる平均厚み0.05μm、平均直径0.
15μmの塩沃臭化銀コア粒子を調製した。コア粒子混
合時にK3Rh(H2O)Br5を銀1モルあたり2×1
-8モル添加した。このコア粒子に、同時混合法を用い
てシェルを付けた。その際K2IrCl6を銀1モルあた
り3×10-7モル添加した。得られた乳剤は平均厚み
0.10μm、平均直径0.42μmのコア/シェル型
単分散(変動係数10%)の塩沃臭化銀(塩化銀90モ
ル%、沃臭化銀0.5モル%、残りは臭化銀からなる)
平板粒子の乳剤であった。ついで特開平2−28013
9号に記載の変性ゼラチン(ゼラチン中のアミノ基をフ
ェニルカルバミルで置換したもので例えば特開平2−2
80139号287(3)頁の例示化合物G−8)を使
い脱塩した。脱塩後のEAgは50℃で180mvであ
った。
<< Preparation of Silver Halide Emulsion B >> Using the simultaneous mixing method, 60 mol% of silver chloride, 2.5 mol% of silver iodide and the rest of silver bromide having an average thickness of 0.05 μm and an average diameter of 0.
15 μm silver chloroiodobromide core grains were prepared. At the time of mixing the core particles, K 3 Rh (H 2 O) Br 5 was added in an amount of 2 × 1 per mole of silver.
0-8 moles were added. The core particles were shelled using a double jet method. At that time, K 2 IrCl 6 was added in an amount of 3 × 10 −7 mol per mol of silver. The resulting emulsion was a core / shell type monodisperse (coefficient of variation: 10%) silver chloroiodobromide (90 mol% silver chloride, 0.5 mol silver iodobromide) having an average thickness of 0.10 μm and an average diameter of 0.42 μm. %, The rest consisting of silver bromide)
The emulsion was a tabular grain emulsion. Then, JP-A-2-28013
No. 9 described in Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 2-2 (the modified gelatin wherein the amino group in the gelatin is substituted with phenylcarbamyl).
Desalting was carried out using the exemplified compound G-8) of No. 80139, page 287 (3). The EAg after desalting was 180 mv at 50 ° C.

【0095】得られた乳剤に4−ヒドロキシ−6−メチ
ル−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあた
り1×10-3モル添加し更に臭化カリウム及びクエン酸
を添加してpH5.6、EAg123mvに調整して、
塩化金酸を2×10-5モル添加した後にN,N,N′−
トリメチル−N′−ヘプタフルオロセレノ尿素を3×1
-5モル添加して温度60℃で最高感度がでるまで化学
熟成を行った。熟成終了後4−ヒドロキシ−6−メチル
−1,3,3a7−テトラザインデンを銀1モルあたり
2×10-3モル、1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾールを3×10-4モル及びゼラチンを添加した。
4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a7-tetrazaindene was added to the resulting emulsion at 1 × 10 -3 mol per mol of silver, and potassium bromide and citric acid were further added to adjust the pH to 5. .6, adjust to EAg123mv,
After adding 2 × 10 −5 mol of chloroauric acid, N, N, N′-
3 × 1 of trimethyl-N′-heptafluoroselenourea
0 -5 mol added to up sensitivity out at a temperature 60 ° C. chemically ripened. After completion of ripening, 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a7-tetrazaindene was used in an amount of 2 × 10 -3 mol, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole and 3 × 10 -4 mol per mol of silver and gelatin. Was added.

【0096】(3)HeNeレーザー光源用印刷製版ス
キャナー用ハロゲン化銀写真感光材料の調製 上記(2)で得た7種類の支持体それぞれについて、一
方の下塗層上に、下記の処方1のゼラチン下塗層をゼラ
チン量が0.5g/m2になるように、その上に処方2
のハロゲン化銀乳剤層1を銀量1.5g/m2、ゼラチ
ン量が0.5g/m2になるように、さらにその上層に
中間保護層として下記処方3の塗布液をゼラチン量が
0.3g/m2になるように、さらにその上層に処方4
のハロゲン化銀乳剤層2を銀量1.4g/m2、ゼラチ
ン量が0.4g/m2になるように、さらに下記処方5
の塗布液をゼラチン量が0.6g/m2になるよう同時
重層塗布した。また反対側の下塗層上には下記処方6の
バッキング層をゼラチン量が0.6g/m2になるよう
に、その上に下記処方7の疎水性ポリマー層を、さらに
その上に下記処方8のバッキング保護層をゼラチン量が
0.4g/m2になるように乳剤層側と同時重層塗布す
ることで7種類の感光材料を作製する。
(3) Preparation of silver halide photographic light-sensitive material for printing plate making scanner for HeNe laser light source For each of the seven types of supports obtained in the above (2), one of the following prescription 1 was prepared on one undercoat layer. Formulate a gelatin subbing layer so that the amount of gelatin is 0.5 g / m 2 and formula 2
The silver halide emulsion layer 1 was prepared so that the silver amount was 1.5 g / m 2 and the gelatin amount was 0.5 g / m 2. 0.3 g / m 2 , and further the formulation 4
The silver halide emulsion layer 2 was prepared so that the silver amount was 1.4 g / m 2 and the gelatin amount was 0.4 g / m 2 , and the following formulation 5 was further added.
Was applied simultaneously so that the amount of gelatin became 0.6 g / m 2 . On the other side of the undercoat layer, a backing layer of the following formulation 6 was formed so that the amount of gelatin was 0.6 g / m 2, and a hydrophobic polymer layer of the following formulation 7 was formed on the backing layer, and the following formulation Seven kinds of light-sensitive materials are prepared by simultaneously coating the backing protective layer of No. 8 with the emulsion layer side so that the amount of gelatin is 0.4 g / m 2 .

【0097】 処方1(ゼラチン下塗層組成) ゼラチン 0.5g/m2 染料AD−1の固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 25mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10mg/m2 S−1(ソジウム−イソ−アミル−n−デシルスルホ サクシネート) 0.4mg/m2 処方2(ハロゲン化銀乳剤層1組成) ハロゲン化銀乳剤A 銀量1.5g/m2になるように 染料AD−8の固体分散微粒子(平均粒径0.1μm) 20mg/m2 シクロデキストリン(親水性ポリマー) 0.5g/m2 増感色素d−1 5mg/m2 増感色素d−2 5mg/m2 ヒドラジン誘導体H−7 20mg/m2 レドックス化合物:RE−1 20mg/m2 化合物e 100mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 硬膜剤g 5mg/m2 S−1 0.7mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 EDTA 30mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 処方3(中間層組成) ゼラチン 0.3g/m2 S−1 2mg/m2 処方4(ハロゲン化銀乳剤層2組成) ハロゲン化銀乳剤B 銀量1.4g/m2になるように 増感色素d−1 3mg/m2 増感色素d−2 3mg/m ヒドラジン誘導体H−20 20mg/m 造核促進剤:例示化合物Nb−12 40mg/m2 レドックス化合物:RE−2 20mg/m2 2−メルカプト−6−ヒドロキシプリン 5mg/m2 EDTA 20mg/m2 ラテックスポリマーf 0.5g/m2 S−1 1.7mg/m2 処方5(乳剤保護層組成) ゼラチン 0.6g/m2 染料AD−5の固体分散体(平均粒径0.1μm) 40mg/m2 S−1 12mg/m2 マット剤:平均粒径3.5μmの単分散シリカ 25mg/m2 造核促進剤:例示化合物Na−3 40mg/m2 1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノール 40mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 10mg/m2 硬膜剤:K−1 30mg/m2 処方6(バッキング層組成) ゼラチン 0.6g/m2 S−1 5mg/m2 ラテックスポリマーf 0.3g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径0.05μm) 70mg/m2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 20mg/m2 化合物i 100mg/m2 処方7(疎水性ポリマー層組成) ラテックス(メチルメタクリレート:アクリル酸=97:3)1.0g/m2 硬膜剤g 6mg/m2 処方8(バッキング保護層) ゼラチン 0.4g/m マット剤:平均粒径5μmの単分散ポリメチルメタクリレート50mg/m ソジウム−ジ−(2−エチルヘキシル)−スルホサクシネート10mg/m2 界面活性剤h 1mg/m2 染料k 20mg/m2 H−(OCH2CH268−OH 50mg/m2 硬膜剤:K−1 20mg/m Formulation 1 (Composition of gelatin subbing layer) Gelatin 0.5 g / m 2 Solid dispersion fine particles of dye AD-1 (average particle size 0.1 μm) 25 mg / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 10 mg / m 2 S-1 (Sodium-iso-amyl-n-decylsulfosuccinate) 0.4 mg / m 2 Formulation 2 (composition of silver halide emulsion layer 1) Silver halide emulsion A Dye AD-8 so that the amount of silver is 1.5 g / m 2. Solid dispersion fine particles (average particle diameter 0.1 μm) 20 mg / m 2 cyclodextrin (hydrophilic polymer) 0.5 g / m 2 sensitizing dye d-1 5 mg / m 2 sensitizing dye d-2 5 mg / m 2 hydrazine derivative H-7 20mg / m 2 redox compound: RE-1 20mg / m 2 compound e 100 mg / m 2 latex polymer f 0.5 g / m 2 hardener g 5mg / m 2 S-1 0. mg / m 2 2-mercapto-6-hydroxy purine 5mg / m 2 EDTA 30mg / m 2 Colloidal silica (average particle size 0.05 .mu.m) 10 mg / m 2 Formulation 3 (intermediate layer composition) Gelatin 0.3 g / m 2 S -1 2 mg / m 2 formulation 4 (composition of silver halide emulsion layer 2) silver halide emulsion B so that the amount of silver becomes 1.4 g / m 2 sensitizing dye d-1 3 mg / m 2 sensitizing dye d-2 3 mg / m 2 hydrazine derivative H-20 20 mg / m 2 Nucleation accelerator: Exemplified compound Nb-12 40 mg / m 2 Redox compound: RE-2 20 mg / m 2 2-mercapto-6-hydroxypurine 5 mg / m 2 EDTA 20 mg / m 2 latex polymer f 0.5g / m 2 S-1 1.7mg / m 2 formulation 5 (emulsion protective layer composition) solid dispersion of gelatin 0.6 g / m 2 dye AD-5 (average particle 0.1μm) 40mg / m 2 S- 1 12mg / m 2 Matting agent: average particle size 3.5μm monodisperse silica 25 mg / m 2 nucleation accelerator: Example Compound Na-3 40mg / m 2 1,3- Vinylsulfonyl-2-propanol 40 mg / m 2 Surfactant h 1 mg / m 2 Colloidal silica (average particle size 0.05 μm) 10 mg / m 2 Hardener: K-1 30 mg / m 2 Formulation 6 (backing layer composition) Gelatin 0.6 g / m 2 S-1 5 mg / m 2 Latex polymer f 0.3 g / m 2 Colloidal silica (average particle size 0.05 μm) 70 mg / m 2 Sodium polystyrene sulfonate 20 mg / m 2 Compound i 100 mg / m 2 prescription 7 (hydrophobic polymer layer composition) latex (methyl methacrylate: acrylic acid = 97: 3) 1.0 g / m 2 hardening agent g 6 mg / m 2 prescription 8 (backing) Protective layer) Gelatin 0.4 g / m 2 Matting agent: Monodisperse polymethylmethacrylate having an average particle size of 5 μm 50 mg / m 2 Sodium-di- (2-ethylhexyl) -sulfosuccinate 10 mg / m 2 Surfactant h 1 mg / M 2 Dye k 20 mg / m 2 H- (OCH 2 CH 2 ) 68 -OH 50 mg / m 2 Hardener: K-1 20 mg / m 2

【0098】[0098]

【化1】 Embedded image

【0099】[0099]

【化2】 Embedded image

【0100】[0100]

【化3】 Embedded image

【0101】[0101]

【化4】 Embedded image

【0102】なお塗布乾燥後のバッキング側の表面比抵
抗値は23℃20%RHで6×1011で、乳剤側の表面の
膜面pHは5.5、膨潤度は175であった。
The surface resistivity of the backing side after coating and drying was 6 × 10 11 at 23 ° C. and 20% RH, and the film surface pH of the emulsion side surface was 5.5 and the swelling degree was 175.

【0103】《評価》以下のようにして、下引層の濡れ
性、塗布膜の接着性について評価した。
<Evaluation> The wettability of the undercoat layer and the adhesiveness of the coating film were evaluated as follows.

【0104】《下引層の濡れ性》下引層の濡れ性は、以
下の基準に従って5段階評価した。
<< Wettability of Undercoat Layer >> The wettability of the undercoat layer was evaluated on a scale of 5 according to the following criteria.

【0105】ワイヤーバーコート法で、塗布スピードは
80m/分で下引層を塗布し、肉眼にて、下記評価基準
に従って評価した。
An undercoat layer was applied at a coating speed of 80 m / min by the wire bar coating method, and evaluated with the naked eye according to the following evaluation criteria.

【0106】(評価基準) 1.濡れ性が非常に悪く、下引層塗布の縦筋、横筋も非
常に目立ち、実用に耐えない。塗布スピードを下げて
も、筋解消の目処が立たなかったもの 2.濡れ性が悪く、下引層塗布の縦筋、横筋が目立ち、
実用に耐えない。塗布スピードを50m/分に下げて、
ようやく筋解消の目処を得たが、生産性を著しく損な
い、実用的でない 3.濡れ性がやや悪く、下引層塗布の縦筋、横筋も薄く
みえる。上層に乳剤層塗布しても解消されない。塗布ス
ピードを65m/分に下げて、筋解消の目処を得たが、
生産性を著しく損ない、実用的でない 4.濡れ性が良く、下引層塗布の縦筋、横筋もみえな
い。30日間の連続塗布が可能であった。塗布スピード
を100m/分まで上げて、下引層塗布の縦筋、横筋も
発生せず、30日間の連続塗布が可能であった 5.濡れ性が非常に良く、下引層塗布の縦筋、横筋も全
くみえない。100m/分で、30日間の連続塗布が可
能であった。塗布スピードを145m/分まで上げて、
同様に30日間の連続塗布が可能であった。
(Evaluation Criteria) 1. The wettability is very poor, and the vertical and horizontal stripes of the undercoat layer coating are very noticeable and cannot be put to practical use. Even if the application speed was reduced, there was no prospect of streaking. The wettability is poor, and the vertical and horizontal stripes of the undercoat layer coating stand out,
Not practical. Lower the coating speed to 50m / min,
I finally got the aim of eliminating the streaks, but it markedly impairs productivity and is not practical. The wettability is slightly poor, and the vertical and horizontal stripes of the undercoat layer coating appear thin. Even if the emulsion layer is coated on the upper layer, the problem cannot be solved. By lowering the coating speed to 65 m / min, I got the aim of eliminating streaks,
3. It impairs productivity significantly and is not practical 4. It has good wettability and no vertical stripes or horizontal stripes of undercoat layer are visible. Continuous application for 30 days was possible. 4. The coating speed was increased to 100 m / min, and vertical stripes and horizontal stripes of the undercoat layer were not generated, and continuous coating for 30 days was possible. It has very good wettability and no vertical or horizontal streaks of the undercoat layer are visible. At 100 m / min, continuous application for 30 days was possible. Increase coating speed to 145m / min,
Similarly, continuous application for 30 days was possible.

【0107】《塗布膜の接着性》上記で得られたハロゲ
ン化銀写真感光材料の乳剤側に、格子状に切り傷をカミ
ソリにて入れて、セロテープを圧着し、急激に引き剥
し、下塗層(プライマー層)の剥離面積を5段階で評価
した。
<< Adhesiveness of Coating Film >> On the emulsion side of the silver halide photographic light-sensitive material obtained above, cuts are made in a lattice pattern with a razor, a cellophane tape is pressure-bonded, and rapidly peeled off to form an undercoat layer. The peeled area of the (primer layer) was evaluated on a 5-point scale.

【0108】(接着性評価基準) 1.接着力は非常に弱く、完全に100%の面積が剥離
する。
(Adhesiveness Evaluation Criteria) 1. The adhesive strength is very weak, and 100% of the area is completely peeled off.

【0109】2.50%以上100%未満の面積が剥離
する。
Areas of 2.50% or more and less than 100% are peeled off.

【0110】3.10%以上50%未満の面積が剥離す
る。
3. Areas of 10% or more and less than 50% are peeled off.

【0111】4.接着力は強く、5%以上10%未満の
面積が剥離する。
4. The adhesive strength is strong, and an area of 5% or more and less than 10% peels off.

【0112】5.接着力は非常に強く、剥離面積は5%
未満で殆ど剥離しない。
5. Adhesive strength is very strong, peeling area is 5%
Almost no peeling occurs when less than.

【0113】(接着性)なお、 1〜3は、実用に耐えないレベル ; × 4 は、十分実用に耐えるレベル ; ○ 5 は、非常に優れたレベル ; ◎ で表した。(Adhesiveness) In addition, 1 to 3 are levels that cannot be practically used; x 4 is a level that can be sufficiently practically used; o 5 is a very excellent level;

【0114】以上の結果を表1に示す。The above results are shown in Table 1.

【0115】[0115]

【表1】 [Table 1]

【0116】表1から明らかなように、実験No.1〜
1〜1〜4(本発明)と、実験No.1〜5〜1〜7
(比較)との比較から、濡れ性、接着性の好ましい範囲
を満足する水との接触角は、65゜以下39゜以上、好
ましくは、55゜以下39゜以上であることが理解され
る。
As is apparent from Table 1, the experiment No. 1 to
1 to 4 (invention) and Experiment No. 1 to 5 to 1 to 7
From comparison with (Comparison), it is understood that the contact angle with water satisfying the preferable ranges of wettability and adhesiveness is 65 ° or less and 39 ° or more, preferably 55 ° or less and 39 ° or more.

【0117】実施例2 コロナ処理を、表2に示すような低圧水銀ランプの紫外
線処理に変えた以外は、実施例1と同様にして、濡れ
性、接着性を評価した。
Example 2 Wettability and adhesiveness were evaluated in the same manner as in Example 1 except that the corona treatment was changed to the ultraviolet treatment of a low pressure mercury lamp as shown in Table 2.

【0118】結果を表2に示す。Table 2 shows the results.

【0119】[0119]

【表2】 [Table 2]

【0120】表2から明らかなように、実験No.2〜
1〜2〜4(本発明)と、実験No.2〜5〜2〜7
(比較)との比較から、表面処理する方法をコロナ処理
から低圧水銀ランプに変えても、濡れ性、接着性の好ま
しい範囲を満足する水との接触角は、65゜以下39゜
以上、好ましくは55゜以下39゜以上であることが理
解される。
As is apparent from Table 2, the experiment No. Two
1 to 2 to 4 (invention) and Experiment No. 2-5-2-7
From the comparison with (Comparison), even when the surface treatment method is changed from corona treatment to low-pressure mercury lamp, the contact angle with water satisfying the preferable ranges of wettability and adhesiveness is 65 ° or less and 39 ° or more, preferably It is understood that is less than 55 ° and greater than 39 °.

【0121】以上の結果から、本発明のハロゲン化銀写
真感光材料の下引層の濡れ性、ハロゲン化銀写真感光材
料の接着性は、表面処理方法に関係なく、表面処理後の
水との接触角が特定の角度、すなわち65゜以下39゜
以上、好ましくは55゜以下39゜以上を満足すれば、
達成できることが理解できる。また、塗布スピードは、
80m/分以上、好ましくは、100m/分以上を併せ
て、達成できることが理解できる。
From the above results, the wettability of the undercoat layer of the silver halide photographic light-sensitive material of the present invention and the adhesiveness of the silver halide photographic light-sensitive material are not related to the surface treatment method, If the contact angle satisfies a specific angle, namely 65 ° or less and 39 ° or more, preferably 55 ° or less and 39 ° or more,
Understand what can be achieved. The coating speed is
It can be understood that a combination of 80 m / min or more, preferably 100 m / min or more can be achieved.

【0122】[0122]

【発明の効果】本発明により、優れた熱的、機械的、物
理的、化学的、光学的特性を有し、特に光学的特性(光
線透過率、ヘーズ等)、寸法安定性(吸湿膨張係数が小
さい)に優れた、膜付き良好な、生産性に優れたハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供することができた。
According to the present invention, it has excellent thermal, mechanical, physical, chemical, and optical properties, especially optical properties (light transmittance, haze, etc.), dimensional stability (hygroscopic expansion coefficient). It was possible to provide a silver halide photographic light-sensitive material excellent in productivity and excellent in film productivity.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03C 1/81 G03C 1/81 1/91 1/91 // B29K 25:00 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number within the agency FI Technical display location G03C 1/81 G03C 1/81 1/91 1/91 // B29K 25:00

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体上に、少なくとも1層のハロゲン
化銀乳剤層を有する写真感光材料において、該支持体が
シンジオタクティックポリスチレン系支持体であり、か
つ下引き層付与前に施した表面処理後の水との接触角
が、39〜65゜であることを特徴とするハロゲン化銀
写真感光材料。
1. A photographic light-sensitive material having at least one silver halide emulsion layer on a support, the support being a syndiotactic polystyrene support, and a surface applied before applying an undercoat layer. A silver halide photographic light-sensitive material having a contact angle with water after processing of 39 to 65 °.
【請求項2】 前記支持体の表面処理後の水との接触角
が、39〜55゜であることを特徴とする請求項1に記
載のハロゲン化銀写真感光材料。
2. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the contact angle of the support with water after the surface treatment is 39 to 55 °.
【請求項3】 前記支持体の表面処理後の下引層塗布速
度が、80m/分以上であることを特徴とする請求項1
または2に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
3. The undercoat layer coating speed after the surface treatment of the support is 80 m / min or more.
Or the silver halide photographic light-sensitive material described in 2.
【請求項4】 前記支持体の表面処理後の下引層塗布速
度が、100m/分以上であることを特徴とする請求項
1または2に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
4. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, wherein the coating speed of the undercoat layer after the surface treatment of the support is 100 m / min or more.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれか一項に記載のハ
ロゲン化銀写真感光材料の製造方法。
5. A method for producing a silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1.
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