JPH0961964A - Silver halide photographic sensitive material - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material

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JPH0961964A
JPH0961964A JP7214695A JP21469595A JPH0961964A JP H0961964 A JPH0961964 A JP H0961964A JP 7214695 A JP7214695 A JP 7214695A JP 21469595 A JP21469595 A JP 21469595A JP H0961964 A JPH0961964 A JP H0961964A
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JP
Japan
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acid
silver halide
resin
sensitive material
solvent
Prior art date
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Pending
Application number
JP7214695A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masato Takada
昌人 高田
Akihisa Nakajima
彰久 中島
Takeshi Sanpei
武司 三瓶
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPH0961964A publication Critical patent/JPH0961964A/en
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  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance adhesiveness between a support and the photographic constituent layers and to restrain dimensional change before and after development processing by coating the film support composed essentially of a syndiotactic polystyrene with a coating fluid containing a solvent having a specified solubility parameter and a resin to form an undercoat layer. SOLUTION: The undercoat layer is formed on one side of the photographic film support composed essentially of the syndio-tactic polystyrene (SPC) by coating the support with the coating fluid containing the solvent having a solubility parameter (SP value) of 8.0-9.8, preferably, 8.5-9.7, embodied by cyclohexane or xylene or toluene, and the resin. The silver halide emulsion layer is formed on this undercoat layer, and resins to be used for the undercoat layer are not specified, but it is preferred to use a resin composed of at least one kind selected from acrylic, styrene, and polyester type resins as a copolymer component.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は湿度変化に対する寸法安
定性に非常に優れた支持体を用い、該支持体を用いる場
合の写真構成層との接着性、更には現像処理前後におけ
る寸法安定性に優れたハロゲン化銀写真感光材料に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention uses a support having excellent dimensional stability against changes in humidity. When the support is used, the adhesiveness with photographic constituent layers, and further the dimensional stability before and after development processing are used. Relates to a silver halide photographic light-sensitive material excellent in

【0002】[0002]

【従来の技術】ハロゲン化銀写真感光材料は一般にゼラ
チン等の親水性コロイドをバインダーとする層を有し、
かかる親水性コロイド層は、湿度変化に対して伸縮し易
い欠点を有し、湿度が低いときは縮み、高いときは伸び
る特性がある。
2. Description of the Related Art A silver halide photographic light-sensitive material generally has a layer containing a hydrophilic colloid such as gelatin as a binder,
Such a hydrophilic colloid layer has a defect that it easily expands and contracts in response to changes in humidity, and has a characteristic that it contracts when the humidity is low and expands when it is high.

【0003】また、この親水性コロイド層に起因して、
感光材料は現像処理の前後で寸法が変化する特性を有し
ている。これは露光時の感光材料及び感光材料上の画像
寸法と現像処理後の感光材料及び感光材料上の画像寸法
が異なる現象であり、露光時の温度条件と現像処理時の
乾燥温度及び湿度条件の影響により生ずるものである。
Further, due to this hydrophilic colloid layer,
The light-sensitive material has a characteristic that its dimensions change before and after development processing. This is a phenomenon in which the image size on the photosensitive material during exposure and the image size on the photosensitive material and the image size on the photosensitive material after development processing differ, and the temperature conditions during exposure and the drying temperature and humidity conditions during development It is caused by the influence.

【0004】この感光材料の寸法変化は、例えば多色印
刷のための網点画像や精密な線画の再現が要求される印
刷用感光材料においては極めて重要な欠点となる。
This dimensional change of the light-sensitive material is a very important defect in a light-sensitive material for printing which requires reproduction of a dot image or a precise line image for multicolor printing.

【0005】具体的にカラー印刷用のフィルム原版はシ
アン、マゼンタ、イェローの3原版ないしスミ版を加え
た4原版で構成されているため、1組の原版として寸法
安定性が要求される。したがってこの4原版の寸法精度
が厳密に合わないと色ずれの原因となる。また地図等に
ついても寸法精度が非常に要求される。
Specifically, the film original plate for color printing is composed of three original plates of cyan, magenta, and yellow or four original plates including a sumi plate, and therefore dimensional stability is required as one set of original plates. Therefore, if the dimensional accuracy of the four original plates does not match exactly, it causes color misregistration. In addition, dimensional accuracy is also extremely required for maps and the like.

【0006】このような寸法精度変化の少ない、いわゆ
る寸法安定性の優れた感光材料を得る方法としては親水
性コロイド層と支持体の厚み比を規定する技術が米国特
許第3,201,250号に、また親水性コロイド層中
にポリマーラテックスを含有させる技術が特公昭39−
4272号、同39−17702号、同43−1348
2号、米国特許2,376,005号、同2,763,
625号、同2,772,166号、同2,852,3
86号、同2,853,457号、同3,397,98
8号に記載されている。
As a method for obtaining a light-sensitive material excellent in so-called dimensional stability with little change in dimensional accuracy, a technique of defining the thickness ratio between the hydrophilic colloid layer and the support is disclosed in US Pat. No. 3,201,250. In addition, the technique of incorporating a polymer latex in the hydrophilic colloid layer is disclosed in Japanese Patent Publication No. 39-39.
No. 4272, No. 39-17702, No. 43-1348.
No. 2, US Pat. Nos. 2,376,005 and 2,763.
No. 625, No. 2,772,166, No. 2,852,3
86, 2,853,457, 3,397,98
No. 8.

【0007】感光材料の寸法変化の主原因のひとつとし
て、支持体自身の寸法変化が挙げられる。この問題を解
決するために、特開平3−131843号では、主鎖の
主たる連鎖がラセモ連鎖である、所謂シンジオタクチッ
クポリスチレン(以下「SPS」とも言う。)を写真用
支持体として用いることが提案されている。これは、従
来写真用支持体として広く用いられてきたポリエチレン
テレフタレートなどのポリエステルフィルムに比べ、湿
度に対する寸法変化が少ないフィルムである。ところ
が、SPSは結晶性が高く表面が疎水性であるために、
表面加工により写真構成層との接着性を付与するのがポ
リエステルより困難であるという欠点がある。
One of the main causes of the dimensional change of the photosensitive material is the dimensional change of the support itself. In order to solve this problem, in JP-A-3-131843, a so-called syndiotactic polystyrene (hereinafter also referred to as "SPS") in which the main chain of the main chain is a racemo chain is used as a photographic support. Proposed. This is a film having less dimensional change with respect to humidity as compared with a polyester film such as polyethylene terephthalate which has been widely used as a photographic support. However, since SPS has high crystallinity and its surface is hydrophobic,
It has a drawback that it is more difficult to impart adhesiveness to a photographic constituent layer by surface treatment than polyester.

【0008】また、SPS支持体を用いた場合において
も、湿度に対する寸法変化は解決されるものの、この現
像処理前後における寸法変化の解消は未だ不十分であっ
た。
Further, even when the SPS support is used, the dimensional change with respect to humidity can be solved, but the dimensional change before and after the development processing is not sufficiently resolved.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
し、本発明の目的は、湿度変化に対して寸法が安定なシ
ンジオタクチックポリスチレンを写真用支持体として用
いるにあたって、写真構成層との接着性を強固にし、現
像処理前後における寸法変化をも改良された写真感光材
料を提供することにある。
In order to solve the above problems, an object of the present invention is to use syndiotactic polystyrene, which is dimensionally stable against changes in humidity, as a photographic support when used as a photographic support. Another object of the present invention is to provide a photographic light-sensitive material having a strong adhesiveness and an improved dimensional change before and after the development processing.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成によって解決された。
The above object of the present invention has been attained by the following constitution.

【0011】1) シンジオタクチックポリスチレンを
主成分とする写真用フィルム支持体上の少なくとも一方
の側に、溶解度パラメーター(SP値)が8.0〜9.
8の溶剤と樹脂を含有する塗布液を塗設した下引層を有
し、該下引層の上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤
層を有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料。
1) A solubility parameter (SP value) of 8.0 to 9. is provided on at least one side of a photographic film support containing syndiotactic polystyrene as a main component.
No. 8 has a subbing layer coated with a coating liquid containing a solvent and a resin, and at least one silver halide emulsion layer is provided on the subbing layer. .

【0012】2) 前記溶剤の溶解度パラメータが8.
5〜9.7であることを特徴とする前記1記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
2) The solubility parameter of the solvent is 8.
5 to 9.7, The silver halide photographic light-sensitive material described in 1 above.

【0013】3) 前記溶剤を塗布液中の全溶剤に対し
て10体積%以上含有することを特徴とする前記1また
は2記載のハロゲン化銀写真感光材料。
3) The silver halide photographic light-sensitive material as described in 1 or 2 above, wherein the content of the solvent is 10% by volume or more based on all the solvents in the coating solution.

【0014】4) 前記下引層を構成する樹脂が、アク
リル系、スチレン系及びポリエステル系から選ばれる少
なくとも1種を共重合成分として含有することを特徴と
する前記1〜3のいずれか1項記載のハロゲン化銀写真
感光材料。
4) Any one of the above items 1 to 3, wherein the resin constituting the undercoat layer contains at least one selected from acrylic, styrene and polyester as a copolymerization component. The described silver halide photographic light-sensitive material.

【0015】5) 前記支持体の表面を表面張力45d
yne/cm以上に表面処理した後に、前記下引層を塗
設することを特徴とする前記1〜4のいずれか1項記載
のハロゲン化銀写真感光材料。
5) The surface tension of the surface of the support is 45d.
5. The silver halide photographic light-sensitive material as described in any one of 1 to 4 above, wherein the undercoat layer is coated after surface treatment to yne / cm or more.

【0016】即ち、本発明の目的に沿って検討を進めた
結果、SPS支持体における現像処理の前後における寸
法変化は、支持体と写真構成層との接着性に起因し、接
着をより強固にすることで改良されることがわかった。
That is, as a result of the examination in accordance with the object of the present invention, the dimensional change of the SPS support before and after the developing treatment is caused by the adhesiveness between the support and the photographic constituent layers, and the adhesion is further strengthened. It turned out that it can be improved by doing.

【0017】以下、本発明について具体的に説明する。Hereinafter, the present invention will be described specifically.

【0018】−シンジオタクチックポリスチレンフィル
ム支持体− 本発明において、シンジオタクチックポリスチレン(S
PS)を主成分とするフィルムとは、立体規則性構造
(タクティシティー)が主としてシンジオタクチック構
造、即ち炭素−炭素結合〜形成される主鎖に対して側鎖
であるフェニール基や置換フェニール基が交互に反対方
向に位置する立体構造を有するものであり、主鎖の主た
る連鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系重合体あるい
は、それを含む組成物であり、スチレンの単独重合体で
あれば、特開昭62−117708号記載の方法で重合
することが可能であり、またその他の重合体について
は、特開平1−46912号、同1−178505号等
に記載された方法により重合することにより得ることが
できる。
-Syndiotactic polystyrene film support-In the present invention, syndiotactic polystyrene (S
The film containing PS as a main component means that the stereoregular structure (tacticity) is mainly a syndiotactic structure, that is, a carbon-carbon bond or a phenyl group or a substituted phenyl group which is a side chain with respect to the formed main chain. Are those having a steric structure alternately located in the opposite direction, the main chain of the main chain is a styrene polymer that is a racemo chain, or a composition containing it, is a styrene homopolymer, It is possible to polymerize by the method described in JP-A No. 62-117708, and other polymers can be polymerized by the method described in JP-A Nos. 1-46912 and 1-178505. Obtainable.

【0019】そのタクティシティーは同位体炭素によ
る、核磁気共鳴法(13C−NMR法)により定量され
る。13C−NMR法により測定されるタクティシティ
ーは、連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば2
個の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッド、5個
の場合はペンタッドによって示すことができるが、本発
明に言う主としてシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系重合体とは、通常ラセミダイアッドで75%以
上、好ましくは85%以上、若しくはラセミトリアッド
60%以上、好ましくは75%以上、若しくはラセミペ
ンタッド30%以上、好ましくは50%以上であること
が好ましい。
The tacticity is quantified by a nuclear magnetic resonance method (13C-NMR method) using isotope carbon. The tacticity measured by 13 C-NMR method is the existence ratio of a plurality of continuous structural units, for example, 2
In the case of styrene-based polymer having a syndiotactic structure, the styrene-based polymer mainly having a syndiotactic structure can be represented by a diad in the case of three, a triad in the case of three, and a pentad in the case of five. % Or more, preferably 85% or more, or racemic triad 60% or more, preferably 75% or more, or racemic pentad 30% or more, preferably 50% or more.

【0020】シンジオタクチックポリスチレン系組成物
を構成する重合体の具体的なモノマーとしては、スチレ
ン、メチルスチレン等のアルキルスチレン、クロロメチ
ルスチレン、クロロスチレン等のハロゲン化(アルキ
ル)スチレン、アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エ
ステル等を主成分とする単独もしくは混合物である。特
に、アルキルスチレンとスチレンの共重合体は、50μ
m以上の膜厚を有するフィルムを得るためには、好まし
い組み合わせである。
Specific monomers of the polymer constituting the syndiotactic polystyrene-based composition include styrene, alkylstyrene such as methylstyrene, halogenated (alkyl) styrene such as chloromethylstyrene and chlorostyrene, alkoxystyrene, A single or a mixture containing vinyl benzoate as a main component. In particular, a copolymer of alkyl styrene and styrene has a
This is a preferable combination for obtaining a film having a thickness of at least m.

【0021】本発明のシンジオタクチック構造を有する
ポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを重
合用の触媒として、特開平5−320448号、4頁〜
10頁に記載の(イ)(a)遷移金属化合物及び(b)
アルミノキサンを主成分とするもの、又は(ロ)(a)
遷移金属化合物及び(c)遷移金属化合物と反応してイ
オン性錯体を形成しうる化合物を主成分とするものを用
いて重合して製造することができる。
The polystyrene-based resin having a syndiotactic structure of the present invention uses the above-mentioned raw material monomers as a catalyst for polymerization and is disclosed in JP-A-5-320448, p.
(A) Transition metal compound and (b) described on page 10
Those containing aluminoxane as a main component, or (b) (a)
It can be produced by polymerization using a compound containing, as a main component, a transition metal compound and a compound capable of reacting with the transition metal compound (c) to form an ionic complex.

【0022】本発明フィルムに用いられるスチレン系重
合体を製造するには、まず、前記スチレン系単量体を十
分に精製してから上記触媒のいずれかの存在下に重合さ
せる。この際、重合方法、重合条件(重合温度、重合時
間)、溶媒などは適宜選定すればよい。通常は−50〜
200℃、好ましくは30〜100℃の温度において、
1秒〜10時間、好ましくは1分〜6時間程度重合が行
われる。また、重合方法としては、スラリー重合法,溶
液重合法,塊状重合法,気相重合法など、いずれも用い
ることができるし、連続重合,非連続重合のいずれであ
ってもよい。ここで、溶液重合にあっては、溶媒とし
て、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベン
ゼンなどの芳香族炭化水素、シクロペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素などを一
種又は二種以上を組合わせて使用することができる。こ
の場合、単量体/溶媒(体積比)は任意に選択すること
ができる。また、重合体の分子量制御や組成制御は、通
常用いられている方法によって行えばよい。分子量制御
は例えば温度、モノマー濃度などで行うことができる。
In order to produce the styrenic polymer used in the film of the present invention, first, the styrenic monomer is sufficiently purified and then polymerized in the presence of any of the above catalysts. At this time, the polymerization method, the polymerization conditions (polymerization temperature, polymerization time), the solvent and the like may be appropriately selected. Usually from -50
At a temperature of 200 ° C, preferably 30-100 ° C,
Polymerization is carried out for 1 second to 10 hours, preferably 1 minute to 6 hours. As the polymerization method, any of a slurry polymerization method, a solution polymerization method, a bulk polymerization method, a gas phase polymerization method and the like can be used, and either continuous polymerization or discontinuous polymerization may be used. Here, in solution polymerization, as a solvent, for example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and ethylbenzene, and aliphatic hydrocarbons such as cyclopentane, hexane, heptane, and octane are used alone or in combination of two or more. It can be used in combination. In this case, the monomer / solvent (volume ratio) can be arbitrarily selected. The molecular weight and composition of the polymer may be controlled by a commonly used method. The molecular weight can be controlled, for example, by the temperature and the monomer concentration.

【0023】また、本発明の効果を損なわない程度に、
これらと共重合可能な他のモノマーを共重合すること
は、かまわない。
Further, to the extent that the effects of the present invention are not impaired,
It does not matter to copolymerize another monomer copolymerizable therewith.

【0024】本発明のSPSフィルムの分子量は、製膜
される限りにおいては制限がないが、重量平均分子量
で、10,000〜3,000,000であることが好
ましく、特には30,000〜1,500,000のも
のが好ましい。
The molecular weight of the SPS film of the present invention is not limited as long as it is formed, but the weight average molecular weight is preferably 10,000 to 3,000,000, and particularly preferably 30,000 to. It is preferably 1,500,000.

【0025】またこの時の分子量分布(数平均分子量/
重量平均分子量)は、1.5〜8が好ましい。この分子
量分布については、異なる分子量のものを混合すること
により調整することも可能である。更に本発明のシンジ
オタクチックポリスチレン系フイルムは、シンジオタク
チックポリスチレン系ペレットを120〜180℃で、
1〜24時間、真空下或いは、常圧下で空気又は窒素等
の不活性気体雰囲気下で乾燥する。目的とする含有水分
率は、特に限定されないが加水分解による機械的強度等
の低下を防ぐ観点から、0.05%以下、好ましくは
0.01%以下、更に好ましくは0.005%以下が良
い。しかしながら目的を達成すれば、これらの方法に特
に限定されるものではない。
The molecular weight distribution at this time (number average molecular weight /
The weight average molecular weight) is preferably 1.5 to 8. This molecular weight distribution can be adjusted by mixing different molecular weights. Further, the syndiotactic polystyrene-based film of the present invention contains syndiotactic polystyrene-based pellets at 120 to 180 ° C.
Dry for 1 to 24 hours under vacuum or under normal pressure in an atmosphere of inert gas such as air or nitrogen. The target moisture content is not particularly limited, but is 0.05% or less, preferably 0.01% or less, and more preferably 0.005% or less from the viewpoint of preventing reduction in mechanical strength and the like due to hydrolysis. . However, these methods are not particularly limited as long as the purpose is achieved.

【0026】本発明のSPSフィルムとしては、スチレ
ンから作られるSPS単独であることが好ましいが、さ
らにSPSを含むフィルムとして、SPSに、主鎖がメ
ソ連鎖であるアイソタクチック構造を有するスチレン系
重合体(IPS)を混合することにより結晶化速度のコ
ントロールが可能であり、より強固なフィルムとするこ
とが可能である。
The SPS film of the present invention is preferably SPS alone made from styrene, but as a film further containing SPS, a styrene-based polymer having an isotactic structure in which the main chain is meso chain is added to SPS. The crystallization rate can be controlled by mixing the coalescence (IPS), and a stronger film can be obtained.

【0027】SPSとIPSとを混合する際には、その
比はお互いの立体規則性の高さに依存するが、30:7
0〜99:1好ましくは、50:50〜98:2であ
る。
When SPS and IPS are mixed, the ratio depends on the stereoregularity of each other, but is 30: 7.
0 to 99: 1, preferably 50:50 to 98: 2.

【0028】支持体中には、本発明の目的を妨げない範
囲において、機能性付与のために無機微粒子、酸化防止
剤、UV吸収剤、帯電防止剤、染料、顔料、色素等を含
有させることが可能である。
The support may contain inorganic fine particles, an antioxidant, a UV absorber, an antistatic agent, a dye, a pigment, a dye, etc., in order to impart functionality, within a range not impeding the object of the present invention. Is possible.

【0029】製膜時に押し出す方法は、公知の方法が適
用出来るが、例えばTダイで押し出すことが好ましい。
シンジオタクチックポリスチレンペレットを280〜3
50℃で溶融、押出して、キャスティングロール上で静
電印加しながら冷却固化させて未延伸フィルムを作製す
る。
A known method can be applied as a method of extruding at the time of film formation, but it is preferable to extrude with a T die, for example.
Syndiotactic polystyrene pellets 280-3
An unstretched film is produced by melting and extruding at 50 ° C. and cooling and solidifying while applying static electricity on a casting roll.

【0030】次にこの未延伸フィルムを2軸延伸し、2
軸配向させる。延伸方法としては、公知の方法、例え
ば、縦延伸及び横延伸を順に行う逐次2軸延伸法のほ
か、横延伸・縦延伸の逐次2軸延伸法、横・縦・縦延伸
法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法、または同時
2軸延伸法等を採用することができ、要求される機械的
強度や寸法安定性等の諸特性に応じて適宜選択すること
ができる。
Next, this unstretched film was biaxially stretched to obtain 2
Orient the axis. As a stretching method, a known method, for example, a sequential biaxial stretching method in which longitudinal stretching and transverse stretching are sequentially performed, a sequential biaxial stretching method of transverse stretching / longitudinal stretching, a transverse / longitudinal / longitudinal stretching method, a longitudinal / transverse stretching method. -A longitudinal stretching method, a longitudinal-longitudinal-transverse stretching method, a simultaneous biaxial stretching method or the like can be adopted and can be appropriately selected according to various characteristics such as required mechanical strength and dimensional stability. .

【0031】一般に連続生産では、長手方向とは上述の
縦延伸、巾手方向とは上述した横延伸のことをいう。つ
まり連続生産では、最初に長手方向に、次に幅手方向に
延伸を行う逐次2軸延伸方法が好ましく、この場合、縦
横の延伸倍率としては、2.5〜6倍で、縦延伸温度
は、ポリマーのガラス転移温度(Tg)に依存するが、
通常(Tg+10)℃〜(Tg+50)℃の温度範囲で
延伸する。シンジオタクチックポリスチレン系フイルム
の場合は、110〜150℃で行うことが好ましい。幅
手方向の延伸温度としては、長手方向より若干高くして
115〜160℃で行うことが好ましい。つぎに、この
延伸フィルムを熱処理する。この場合の熱処理温度とし
ては、用途に応じて適宜変更出来る。高い収縮率を要求
される収縮包装用途には150℃以下、寸法安定性を要
求される写真、印刷、医用用途には、目的に応じて適宜
150〜270℃の温度が採用される。
Generally in continuous production, the longitudinal direction means the above-mentioned longitudinal stretching, and the width direction means the above-mentioned transverse stretching. That is, in continuous production, a sequential biaxial stretching method in which stretching is first performed in the longitudinal direction and then in the width direction is preferable, and in this case, the stretching ratio in the longitudinal and transverse directions is 2.5 to 6 times, and the longitudinal stretching temperature is , Depends on the glass transition temperature (Tg) of the polymer,
Stretching is usually performed in a temperature range of (Tg + 10) ° C. to (Tg + 50) ° C. In the case of a syndiotactic polystyrene film, it is preferably carried out at 110 to 150 ° C. The stretching temperature in the width direction is preferably slightly higher than that in the longitudinal direction and is preferably 115 to 160 ° C. Next, this stretched film is heat-treated. The heat treatment temperature in this case can be appropriately changed depending on the application. A temperature of 150 ° C. or lower is used for shrink-wrapping applications requiring a high shrinkage ratio, and a temperature of 150 to 270 ° C. is appropriately used for photographic, printing or medical applications requiring dimensional stability depending on the purpose.

【0032】熱処理時間は、特に限定されないが通常1
秒から2分程度が採用される。必要に応じて、縦熱弛
緩、横熱弛緩処理等を施してもよいことは言うまでもな
い。この後にフィルムを、急冷して巻き取っても良い
が、Tg〜熱処理温度の間で0.1分〜1500時間か
けて徐冷し大きな径のコアに巻取り40℃〜Tg間でさ
らに−0.01〜−20℃/分の間の平均冷却速度で冷
却すると、支持体に巻ぐせを付けにくくする効果がある
点で好ましい。もちろん40℃〜Tg間での熱処理は、
支持体を巻とってから乳剤塗布後製法品断裁までに0.
1分〜1500時間恒温槽に入れて行うことが好まし
い。
Although the heat treatment time is not particularly limited, it is usually 1 hour.
About 2 to 2 minutes are adopted. It goes without saying that vertical heat relaxation, horizontal heat relaxation treatment and the like may be performed as necessary. After that, the film may be rapidly cooled and wound, but it is gradually cooled between Tg and the heat treatment temperature for 0.1 minute to 1500 hours, and wound on a large-diameter core, and further -0 between 40 ° C. and Tg. Cooling at an average cooling rate of 0.01 to −20 ° C./min is preferable because it has the effect of making it difficult for the support to be wound. Of course, the heat treatment between 40 ° C and Tg
From the winding of the support to the cutting of the production method after coating the emulsion, 0.
It is preferably carried out by placing it in a constant temperature bath for 1 minute to 1500 hours.

【0033】上述の製膜法に加えて、易滑性、帯電防止
性能等の諸特性を付与するため、SPS支持体の少なく
とも片面に、前述の特性等を付与したSPS支持体を積
層した、SPS積層フイルムを作製することも出来る。
積層の方法は、樹脂が溶融された状態で層流で積層した
後、ダイより押し出すとか、冷却、固化したSPS未延
伸支持体又はSPS一軸延伸支持体に、溶融SPSを押
出ラミネートし、しかる後縦・横両方向に又は、一軸延
伸方向と直角方向に延伸、熱固定して得られる。SPS
樹脂の押出条件、延伸温度、延伸倍率、熱固定温度等
は、SPS積層支持体の組み合わせによっては若干異な
るが、最適条件を選ぶよう微調整すれば良く、大幅な変
更にはならない。
In addition to the above-mentioned film forming method, in order to impart various characteristics such as slipperiness and antistatic performance, an SPS support having the above-mentioned characteristics is laminated on at least one surface of the SPS support. It is also possible to produce an SPS laminated film.
The lamination method is such that the resin is melted in a laminar flow and then extruded from a die, or the molten SPS is extrusion-laminated on an SPS unstretched support or an SPS uniaxially stretched support that has been cooled and solidified. It is obtained by stretching in both the longitudinal and transverse directions or in the direction perpendicular to the uniaxial stretching direction and heat setting. SPS
The resin extrusion conditions, the stretching temperature, the stretching ratio, the heat setting temperature, and the like are slightly different depending on the combination of the SPS laminated supports, but they may be finely adjusted so as to select the optimum conditions and do not make a great change.

【0034】勿論、積層は2層以上の積層からなり、同
種ポリマーの組み合わせ(共重合ポリマーの組み合わせ
を含む)であっても良いし、異種ポリマーであっても良
いことは言うまでもない。
Needless to say, the laminate is composed of two or more layers, and may be a combination of the same kind of polymers (including a combination of the copolymers) or a different kind of polymers.

【0035】上述の製膜法は、その用途、目的に応じて
適宜変えられるもので、本発明はいかなる理由でも、こ
れらの方法に限定されるものではない。
The above-mentioned film forming method can be appropriately changed according to its use and purpose, and the present invention is not limited to these methods for any reason.

【0036】このようにして得られたシンジオタクチッ
ク・ポリスチレン系延伸フイルムの厚さは、用途に応じ
て異なるが、極薄コンデンサー用の0.3μm厚さのも
の、通常コンデンサー用の6μm、12μm厚み、医
用、印刷感材用の100μm、電気絶縁材料(スロット
ライナー等)用の250μm厚さと、多岐に亘るが、上
記製膜条件は、0.3〜500μmの厚さのものに有効
である。
The thickness of the thus obtained syndiotactic polystyrene-based stretched film varies depending on the application, but is 0.3 μm for ultra-thin capacitors, 6 μm and 12 μm for ordinary capacitors. There are various thicknesses such as 100 μm for medical and printing sensitive materials, and 250 μm for electrical insulating materials (slot liners, etc.), but the above film forming conditions are effective for those having a thickness of 0.3 to 500 μm. .

【0037】−下引き層− 本発明において、シンジオタクチックポリスチレン支持
体は、特定の溶解度パラメーター(SP値)の溶剤と樹
脂を少なくとも含有する塗布液を塗設してなる下引き層
を有する。
-Undercoat Layer- In the present invention, the syndiotactic polystyrene support has an undercoat layer formed by applying a coating solution containing at least a solvent having a specific solubility parameter (SP value) and a resin.

【0038】含有する溶剤の溶解度パラメーター(SP
値)は、8.0〜9.8であることが好ましく、より好
ましくは8.5〜9.7、更に好ましくは8.8〜9.
6である。上記で云う溶剤の溶解度パラメーター(SP
値)とは、分子凝集エネルギーの平方根で表される値
で、Polymer Hand Book(Secon
d Edition)第IV章 Solubility
Parameter Valuesに記載があり、その
値を用いる。単位は [cal/cm31/2 で表す。
なお、データの記載のないものについては、沸点から蒸
発熱を求めて算出することができる(Polymer
Hand Bookに記載あり)。
Solubility parameter of contained solvent (SP
Value) is preferably 8.0 to 9.8, more preferably 8.5 to 9.7, and further preferably 8.8 to 9.
It is 6. Solubility parameter of solvent mentioned above (SP
The value) is a value represented by the square root of the molecular cohesive energy, and is defined as Polymer Hand Book (Secon).
d Edition) Chapter IV Solubility
There is a description in Parameter Values, and that value is used. The unit is [cal / cm 3 ] 1/2 .
For those without data, the heat of vaporization can be calculated from the boiling point (Polymer).
(It is described in Hand Book).

【0039】溶剤の溶解度パラメーター(SP値)が、
8.0〜9.8である溶剤として、具体的には、シクロ
ヘキサン、キシレン、トルエン、エチルアセテート、イ
ソブチルアセテート、ノルマルブチルアセテート、イソ
プロピルアセテート、メチルイソブチルケトン、イソプ
ロピルアセテート、四塩化炭素、ノルマルプロピルベン
ゼン、ジエチルケトン、エチルベンゼン、ジメチルエー
テル、キシレン、メチルプロピルケトン、テトラヒドロ
フラン、ブチルアルデヒド、ベンゼン、クロロホルム、
メチルシクロヘキサン、メチルエチルケトン、トリクロ
ルエチレン、クロルベンゼン、メチルアセトン、メチル
アセテート、メチレンクロライド、エチレンジクロライ
ド、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン等が挙
げられる。
The solubility parameter (SP value) of the solvent is
Specific examples of the solvent having a pH of 8.0 to 9.8 include cyclohexane, xylene, toluene, ethyl acetate, isobutyl acetate, normal butyl acetate, isopropyl acetate, methyl isobutyl ketone, isopropyl acetate, carbon tetrachloride, and normal propylbenzene. , Diethyl ketone, ethylbenzene, dimethyl ether, xylene, methyl propyl ketone, tetrahydrofuran, butyraldehyde, benzene, chloroform,
Methyl cyclohexane, methyl ethyl ketone, trichloroethylene, chlorobenzene, methylacetone, methyl acetate, methylene chloride, ethylene dichloride, tetrachloroethane, tetrachloroethylene and the like can be mentioned.

【0040】本発明において、前記溶剤は、下引き塗布
液中に少なくとも含有されておればよく、好ましくは、
下引き塗布液中の全溶剤に対して10体積%以上、より
好ましくは、25%以上、更に好ましくは、40%以上
含有される場合である。
In the present invention, the solvent may be contained at least in the undercoating coating solution, and preferably,
It is the case where the content of the solvent is 10% by volume or more, more preferably 25% or more, still more preferably 40% or more with respect to the total solvent in the undercoating liquid.

【0041】下引き層を構成する樹脂としては特に限定
されないが、より好ましくはアクリル系、スチレン系及
びポリエステル系から選ばれる少なくとも1種を共重合
成分として含有するポリマーであることが好ましい。
The resin constituting the undercoat layer is not particularly limited, but a polymer containing at least one selected from an acrylic type, a styrene type and a polyester type as a copolymerization component is more preferable.

【0042】アクリル系成分としては、メタクリル酸、
アクリル酸、等の不飽和カルボン酸もしくはそのエステ
ルで、メチルメタクリレート、ヒドロキシメチルメタク
リレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート、プロピルメタクリレー
ト、イソプロピルメタクリレート、ヘキシルメタクリレ
ート、オクチルメタクリレート、メチルアクリレート、
エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ヒドロキシ
アクリレート、グリシジルアクリレート、プロピルアク
リレート、イソプロピルアクリレート、ヘキシルアクリ
レート、オクチルアクリレート等を例示することができ
る。
As the acrylic component, methacrylic acid,
Unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid or its ester, methyl methacrylate, hydroxymethyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, glycidyl methacrylate, propyl methacrylate, isopropyl methacrylate, hexyl methacrylate, octyl methacrylate, methyl acrylate,
Examples thereof include ethyl acrylate, butyl acrylate, hydroxy acrylate, glycidyl acrylate, propyl acrylate, isopropyl acrylate, hexyl acrylate and octyl acrylate.

【0043】スチレン系成分としては、スチレン、メチ
ルスチレン等のアルキルスチレン、クロロメチルスチレ
ン、クロロスチレン等のハロゲン化(アルキル)スチレ
ン、アルコキシスチレン類等が例示される。
Examples of the styrene-based component include alkylstyrenes such as styrene and methylstyrene, halogenated (alkyl) styrenes such as chloromethylstyrene and chlorostyrene, and alkoxystyrenes.

【0044】ポリエステル系成分としては、多塩基酸ま
たはそのエステル形成性誘導体とポリオールまたはその
エステル形成性誘導体との縮重合反応により得られるポ
リマーである。このポリマーの多塩基酸成分としては、
テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル
酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、1,4−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリ
メリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸などを例示す
ることができる。これら成分と共にマレイン酸、フマー
ル酸、イタコン酸などの不飽和多塩基酸やp−ヒドロキ
シ安息香酸、p−(β−ヒドロキシエトキシ)安息香酸
などのヒドロキシカルボン酸を小割合用いることができ
る。
The polyester component is a polymer obtained by a polycondensation reaction of a polybasic acid or its ester-forming derivative with a polyol or its ester-forming derivative. As the polybasic acid component of this polymer,
Examples include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, phthalic anhydride, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid and dimer acid. You can Along with these components, unsaturated polybasic acids such as maleic acid, fumaric acid and itaconic acid and hydroxycarboxylic acids such as p-hydroxybenzoic acid and p- (β-hydroxyethoxy) benzoic acid can be used in a small proportion.

【0045】また、ポリオール成分としては、エチレン
グリコール、ジエチレングリコール、1,4−ブタンジ
オール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、キシリレングリコール、トリメチロ
ールプロパン、ポリ(エチレンオキシド)グリコール、
ポリ(テトラメチレンオキシド)グリコールなどを例示
することができる。
Further, as the polyol component, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, xylylene glycol, triglycol Methylolpropane, poly (ethylene oxide) glycol,
Examples thereof include poly (tetramethylene oxide) glycol.

【0046】前記樹脂が、溶解度パラメーター(SP
値)が8.0〜9.8の溶剤に溶解しない場合は、各樹
脂の良溶解溶剤に溶解した後に、前記SP値の溶剤を混
合してもよい。
The resin has a solubility parameter (SP
When the value) does not dissolve in a solvent having a value of 8.0 to 9.8, the solvent having the SP value may be mixed after being dissolved in a good dissolving solvent for each resin.

【0047】本発明において、前記下引き層を塗設する
前のシンジオタクチックポリスチレンの表面は処理して
も、未処理状態でもかまわないが、より好ましくは表面
を表面張力が45dyne/cm(20℃)以上に表面
処理した後に前記下引き層を塗設することが好ましい。
In the present invention, the surface of the syndiotactic polystyrene before applying the undercoat layer may be treated or untreated, but more preferably the surface tension of the surface is 45 dyne / cm (20). It is preferable to apply the undercoat layer after surface treatment at a temperature of (° C.) or higher.

【0048】支持体の表面処理方法としては、支持体表
面を、薬品処理(特公昭34−11031号、特公昭3
8−22148号、特公昭40−2276号、特公昭4
1−16423号、特公昭44−5116号記載)化学
的機械的粗面化処理(特公昭47−19068号、特公
昭55−5104号記載)、コロナ放電処理(特公昭3
9−12838号、特開昭47−19824号、特開昭
48−28067号記載)、火炎処理(特公昭40−1
2384号、特開昭48−85126号記載)、紫外線
処理(特公昭36−18915号、特公昭37−144
93号、特公昭43−2603号、特公昭43−260
4号、特公昭52−25726号記載)高周波処理(特
公昭49−10687号記載)、グロー放電(特公昭3
7−17682号記載)、さらには、活性プラズマ処
理、レーザー処理などが挙げられる。これらの処理によ
り特公昭57−487号記載のように、支持体表面と水
との接触角を58゜以下にする事が好ましい。
As the surface treatment method of the support, the surface of the support is treated with a chemical (Japanese Patent Publication No. 34-11031, Japanese Examined Patent Publication No. 3).
8-22148, Japanese Patent Publication No. 40-2276, Japanese Patent Publication No. 4
1-16423, JP-B-44-5116) Chemical mechanical surface roughening treatment (JP-B-47-19068, JP-B 55-5104), corona discharge treatment (JP-B-3)
9-12838, JP-A-47-19824, JP-A-48-28067), flame treatment (JP-B-40-1)
No. 2384, JP-A No. 48-85126), UV treatment (JP-B-36-18915, JP-B-37-144).
No. 93, Japanese Patent Publication No. 43-2603, Japanese Patent Publication No. 43-260
No. 4, JP-B-52-25726) High frequency treatment (JP-B-49-10687), glow discharge (JP-B-Sho 3)
No. 7-17682), and further, active plasma treatment, laser treatment and the like. As described in JP-B-57-487, it is preferable that the contact angle between the surface of the support and water is 58 ° or less.

【0049】前記下引き層は、シンジオタクチックポリ
スチレン支持体の製膜後、製膜の途中のいずれにおいて
塗設してもかまわない。下引き中の疎水性ポリマーが延
伸可能であるならば、製膜途中である縦延伸の前、縦延
伸と横延伸の間、横延伸後熱処理の前など任意の場所で
行うことができる。
The subbing layer may be applied at any time after the syndiotactic polystyrene support is formed and during the film formation. If the hydrophobic polymer in the subbing can be stretched, it can be performed at any place such as before the longitudinal stretching during the film formation, between the longitudinal stretching and the lateral stretching, after the lateral stretching and before the heat treatment.

【0050】前記下引き層の塗布方法としては特に限定
されないが、公知の種々の方法が適用できる。例えば、
ロールコート法、グラビアロールコート法、スプレーコ
ート法、エアーナイフコート法、バーコート法、含浸法
及びカーテンコート法等を単独もしくは組合わせで適用
することができる。
The method of applying the undercoat layer is not particularly limited, but various known methods can be applied. For example,
The roll coating method, the gravure roll coating method, the spray coating method, the air knife coating method, the bar coating method, the impregnation method, the curtain coating method and the like can be applied alone or in combination.

【0051】前記下引き層をシンジオタクチックポリス
チレン支持体に塗設した後に写真感光層を塗設してもよ
いが、帯電防止性能、易滑性等の諸特性を付与するた
め、さらに1層もしくは2層以上の下引き層を塗設して
もよい。
The subbing layer may be coated on the syndiotactic polystyrene support, and then the photographic photosensitive layer may be coated, but one layer is further added to impart various properties such as antistatic performance and slipperiness. Alternatively, two or more undercoat layers may be provided by coating.

【0052】本発明の下引層中には、硬膜剤を混合する
ことが好ましい。
A hardener is preferably mixed in the undercoat layer of the present invention.

【0053】このような硬膜剤としては、例えばホルム
アルデヒド、グルタルアルデヒドのようなアルデヒド化
合物、米国特許2,732,303号、同3,288,
775号、英国特許974,723号、同1,167,
207号等に記載されている反応性ハロゲンを有する化
合物、ジアセチル、シクロペンタンジオンの如きケトン
化合物、ビス(2−クロロエチル)尿素、2−ヒドキシ
−4,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジン、ジビニ
ルスルホン、5−アセチル−1,3−ジアクリロイルヘ
キサヒドロ−1,3,5−トリアジン、米国特許3,2
32,763号、同3,635,718号、英国特許9
94,809号等に記載の反応性オレフィンを有する化
合物、米国特許3,539,644号、同3,642,
486号、特公昭49−13568号、同53−472
71号、同56−48860号、特開昭53−5725
7号、同61−128240号、同62−4275号、
同63−53541号、同63−264572号等に記
載のビニルスルホン化合物、N−ヒドロキシメチルフタ
ルイミド、米国特許2,732,316号、同2,58
6,168号等に記載のN−メチロール化合物、米国特
許3,103,437号等に記載のイソシアネート化合
物、米国特許2,983,611号、同3,107,2
80号等に記載のアジリジン化合物、米国特許2,72
5,294号、同2,725,295号等に記載の酸誘
導体類、米国特許3,100,704号等に記載のカル
ボジイミド系化合物、米国特許3,091,537号等
に記載のエポキシ系化合物、米国特許3,321,31
3号、同3,543,292号等に記載のイソオキサゾ
ール系化合物、ムコクロル酸のようなハロゲノカルボキ
シアルデヒド類、ジヒドロキシジオキサン、ジクロロジ
オキサン等のジオキサン誘導体等の有機硬膜剤及びクロ
ムミョウバン、硫酸ジルコニウム、三塩化クロム等の無
機硬膜剤である。またゼラチンに対して比較的硬膜作用
が比較的速い硬膜剤としては、特開昭50−38540
号に記載のジヒドロキノリン骨格を有する化合物、特開
昭51−59625号、同62−262854号、同6
2−264044号、同63−184741号に記載の
N−カルバモイルピリジニウム塩類、特公昭55−38
655号に記載のアシルイミダゾール類、特公昭53−
22089号に記載のN−アシルオキシイミダゾール
類、特公昭53−22089号に記載のN−アシルオキ
シイミノ基を分子内に2個以上有する化合物、特開昭5
2−93470号に記載のN−スルホニルオキシイミド
基を有する化合物、特開昭58−113929号に記載
のリン−ハロゲン結合を有する化合物、特開昭60−2
25148号、同61−240236号、同63−41
580号に記載のクロロホルムアミジニウム化合物等を
挙げることができる。これらの添加量は、下引加工液1
lあたり0.001〜10gであることが好ましい。
Examples of such hardeners include aldehyde compounds such as formaldehyde and glutaraldehyde, and US Pat. Nos. 2,732,303 and 3,288.
775, British Patents 974,723, 1,167,
Nos. 207 and the like, compounds having a reactive halogen, diacetyl, ketone compounds such as cyclopentanedione, bis (2-chloroethyl) urea, 2-hydroxy-4,6-dichloro-1,3,5-triazine. , Divinyl sulfone, 5-acetyl-1,3-diacryloylhexahydro-1,3,5-triazine, US Pat.
32,763, 3,635,718, British Patent 9
Compounds having a reactive olefin described in US Pat. Nos. 3,539,644 and 3,642.
No. 486, Japanese Patent Publication No. 49-13568, No. 53-472.
71, 56-48860, and JP-A-53-5725.
No. 7, No. 61-128240, No. 62-4275,
Vinyl sulfone compounds described in 63-53541 and 63-264572, N-hydroxymethylphthalimide, U.S. Pat. Nos. 2,732,316 and 2,58.
6,168, etc., N-methylol compounds, US Pat. No. 3,103,437, etc., isocyanate compounds, US Pat. Nos. 2,983,611, 3,107,2.
Aziridine compounds described in US Pat. No. 80, US Pat.
5,294, 2,725,295 and the like, acid derivatives, carbodiimide compounds described in US Pat. No. 3,100,704, epoxy compounds described in US Pat. No. 3,091,537, etc. Compound, US Pat. No. 3,321,31
No. 3, 3,543,292 and the like, organic hardeners such as isoxazole compounds, halogenocarboxaldehydes such as mucochloric acid, dioxane derivatives such as dihydroxydioxane and dichlorodioxane, and chromium alum, zirconium sulfate. , An inorganic hardener such as chromium trichloride. Further, as a hardener having a relatively fast hardening effect on gelatin, JP-A-50-38540 is known.
Compounds having a dihydroquinoline skeleton described in JP-A Nos. 51-59625, 62-262854 and 6
2-2644044 and 63-184741 N-carbamoylpyridinium salts, JP-B-55-38
No. 655, the acylimidazoles described in JP-B No. 53-
22089, N-acyloxyimidazoles, and compounds having two or more N-acyloxyimino groups in the molecule described in JP-B-53-22089.
2-93470-containing N-sulfonyloxyimide group-containing compounds, JP-A-58-113929, phosphorus-halogen bond-containing compounds, JP-A-60-2
25148, 61-240236, 63-41.
Examples thereof include chloroformamidinium compounds described in No. 580. The addition amount of these is 1
It is preferably 0.001 to 10 g per liter.

【0054】−ハロゲン化銀写真感光層− 本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤中のハロゲン化銀
のハロゲン組成は特に制限はないが、補充量を少なくし
て処理する場合や迅速処理を行う場合は、塩化銀、60
モル%以上の塩化銀を含む塩臭化銀、60モル%以上の
塩化銀を含む塩沃臭化銀の組成からなるハロゲン化銀乳
剤を用いるのが好ましい。
-Silver Halide Photosensitive Layer- The halogen composition of silver halide in the silver halide emulsion used in the present invention is not particularly limited, but in the case of processing with a small replenishment amount or in the case of performing rapid processing. Is silver chloride, 60
It is preferable to use a silver halide emulsion composed of silver chlorobromide containing silver chloride in an amount of mol% or more and silver chloroiodobromide containing silver chloride in an amount of 60 mol% or more.

【0055】ハロゲン化銀の平均粒子サイズは1.2μ
m以下であることが好ましく、特に0.8〜0.1μm
が好ましい。平均粒径とは、写真科学の分野の専門家に
は常用されており、容易に理解される用語である。粒径
とは、粒子が球状又は球に近似できる粒子の場合には粒
子直径を意味する。粒子が立方体である場合には球に換
算し、その球の直径を粒径とする。平均粒径を求める方
法の詳細については、ミース、ジェームス:ザ・セオリ
ー・オブ・ザ・フォトグラフィックプロセス(C.E.
Mees&T.H.James著:The theor
y of the photographic pro
cess)、第3版、36〜43頁(1966年(マク
ミラン「Mcmillan」社刊))を参照すればよ
い。
The average grain size of silver halide is 1.2 μm.
m or less, and particularly 0.8 to 0.1 μm
Is preferred. The average particle size is a term that is commonly used by experts in the field of photographic science and is easily understood. The particle size means a particle diameter when the particles are spherical or spherical particles. If the particles are cubic, they are converted into spheres, and the diameter of the sphere is defined as the particle size. For details of the method for determining the average particle size, see Mies, James: The Theory of the Photographic Process (CE.
Mees & T. H. By James: The theor
y of the photographic pro
ccs), 3rd edition, pp. 36-43 (1966 (published by Macmillan "Mcmillan")).

【0056】ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく、
平板状、球状、立方体状、14面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよい。又、粒子サイズ分布は狭い方
が好ましく、特に平均粒子サイズの±40%の粒子サイ
ズ域内に全粒子数の90%、望ましくは95%が入るよ
うな、いわゆる単分散乳剤が好ましい。
The shape of the silver halide grains is not limited,
The shape may be flat, spherical, cubic, tetrahedral, octahedral, or any other shape. Further, it is preferable that the particle size distribution is narrower, and in particular, a so-called monodisperse emulsion in which 90%, preferably 95% of the total number of particles falls within a particle size range of ± 40% of the average particle size is preferable.

【0057】本発明における可溶性銀塩と可溶性ハロゲ
ン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。粒子
を銀イオン過剰の下において形成させる方法(いわゆる
逆混合法)を用いることもできる。同時混合法の一つの
形式としてハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを
一定に保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブル
ジェット法を用いることができ、この方法によると、結
晶形が規則的で粒子サイズが均一に近いハロゲン化銀乳
剤が得られる。
As the method for reacting the soluble silver salt and the soluble halogen salt in the present invention, any of a one-sided mixing method, a simultaneous mixing method, a combination thereof and the like may be used. A method of forming grains in the presence of excess silver ions (so-called reverse mixing method) can also be used. As one form of the simultaneous mixing method, a method of keeping pAg constant in a liquid phase in which silver halide is produced, that is, a so-called controlled double jet method can be used. According to this method, the crystal form is regular. Gives a silver halide emulsion having a substantially uniform grain size.

【0058】本発明の効果を顕著に発現させるために
は、少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化
銀乳剤が、平板状粒子を含有し、平板状粒子が使用され
ている乳剤層の全粒子の投影面積の総和の50%以上が
アスペクト比2以上の平板状粒子であることが好まし
い。特に平板状粒子の割合が60%から70%、さらに
80%へと増大するほど好ましい結果が得られる。アス
ペクト比は平板状粒子の投影面積と同一の面積を有する
円の直径と2つの平行平面間距離の比を表す。
In order to bring out the effect of the present invention remarkably, the silver halide emulsion of at least one silver halide emulsion layer contains tabular grains, and all of the emulsion layers in which the tabular grains are used. It is preferable that 50% or more of the total projected area of the grains be tabular grains having an aspect ratio of 2 or more. Particularly, as the proportion of tabular grains increases from 60% to 70%, and more preferably to 80%, more favorable results are obtained. The aspect ratio represents the ratio of the diameter of a circle having the same area as the projected area of a tabular grain to the distance between two parallel planes.

【0059】これらの平板状粒子のうち、塩化銀50モ
ル%以上を有する(100)面を主平面とする平板状粒
子が好ましく用いられ、これらは米国特許第5,26
4,337号、第5,314,798号、第5,32
0,958号等に記載されており、容易に目的の平板状
粒子を得ることができる。平板状粒子は、特定表面部位
に組成の異なるハロゲン化銀をエピタキシャル成長させ
たり、シェリングさせたりすることができる。また感光
核を制御するために、平板状粒子の表面あるいは内部に
転移線を持たせることもできる。転移線を持たせるには
沃化銀の微粒子を化学増感時に存在させたり沃素イオン
を添加して形成することができる。粒子の調製は、酸性
法、中性法、アンモニア法等適宜選択する事ができる。
金属をドープする際には、特にpH1〜5の酸性下で粒
子形成をすることが好ましい。平板粒子の形成時に粒子
の成長を制御するためにハロゲン化銀溶剤として例えば
アンモニア、チオエーテル、チオ尿素化合物、チオン化
合物などを使用することができる。チオエーテル化合物
として、ドイツ特許第1,147,845号記載の3,
6,9,15,18,21−ヘキソキサ−12−チアト
リコサン;3,9,15−トリオキサ−6,12−ジチ
アヘプタデカン;1,17−ジオキシ−3,9−15−
トリオキサ−6,12−ジチアヘプタデカン−4,14
−ジオン;1,20−ジオキシ−3,9,12,18−
テトロキサ−6,15,−ジチアエイコサン−4,17
−ジオン;7,10−ジオキサ−4,13−ジチアヘキ
サデカン−2,15−ジカルボキサミド。特開昭56−
94347号、同特開平1−121847号記載のオキ
サチオエーテル化合物、特開昭63−259653号、
同63−301939号記載の環状オキサチオエーテル
化合物が挙げられる。特にチオ尿素としては特開昭53
−82408号に記載されているものが有用である。具
体的には、テトラメチルチオ尿素、テトラエチルチオ尿
素、ジメチルピペリジノチオ尿素、ジモルホリノチオ尿
素;1,3−ジメチルイミダゾール−2−チオン;1,
3−ジメチルイミダゾール−4−フェニル−2−チオ
ン;テトラプロピルチオ尿素などが挙げられる。
Among these tabular grains, tabular grains having a (100) plane as a main plane and having a silver chloride content of 50 mol% or more are preferably used, and these are described in US Pat. No. 5,26.
4,337, 5,314,798, 5,32
No. 0958, etc., and the desired tabular grains can be easily obtained. In the tabular grains, silver halides having different compositions can be epitaxially grown or shelled at specific surface portions. Further, in order to control the photosensitizing nucleus, a transition line can be provided on the surface or inside of the tabular grains. In order to have a transition line, fine grains of silver iodide can be present during chemical sensitization or can be formed by adding iodide ions. The preparation of the particles can be appropriately selected from an acid method, a neutral method, an ammonia method and the like.
When doping a metal, it is particularly preferable to form particles under acidic conditions of pH 1 to 5. Ammonia, thioethers, thiourea compounds, thione compounds and the like can be used as a silver halide solvent in order to control grain growth during formation of tabular grains. As a thioether compound, 3, described in German Patent 1,147,845
6,9,15,18,21-hexoxa-12-thiatricosane; 3,9,15-trioxa-6,12-dithiaheptadecane; 1,17-dioxy-3,9-15-
Trioxa-6,12-dithiaheptadecane-4,14
-Dione; 1,20-dioxy-3,9,12,18-
Tetroxa-6,15, -dithiaeicosan-4,17
-Dione; 7,10-dioxa-4,13-dithiahexadecane-2,15-dicarboxamide. JP-A-56-
94347, oxathioether compounds described in JP-A-1-121847, JP-A-63-259653,
Examples thereof include cyclic oxathioether compounds described in JP-A No. 63-301939. Especially as thiourea,
Those described in No. 82408 are useful. Specifically, tetramethylthiourea, tetraethylthiourea, dimethylpiperidinothiourea, dimorpholinothiourea; 1,3-dimethylimidazole-2-thione; 1,
3-dimethylimidazole-4-phenyl-2-thione; tetrapropylthiourea and the like.

【0060】物理熟成時や化学熟成時に亜鉛、鉛、タリ
ウム、イリジウム、ロジウム、ルテニウム、オスミウ
ム、パラジウム、プラチナ等の金属円等を共存させるこ
とができる。高照度特性を得るためにイリジウムを10
-9から10-3の範囲でドープさせることは、ハロゲン化
銀乳剤においてしばしば常用される。本発明において
は、硬調乳剤を得るためにはロジウム、ルテニウム、オ
スミウム及び/またはレニウムをハロゲン化銀1モルあ
たり10-9モルから10-3モルの範囲でドープさせるこ
とが好ましい。
At the time of physical aging or chemical aging, metal circles such as zinc, lead, thallium, iridium, rhodium, ruthenium, osmium, palladium and platinum can coexist. Iridium 10 to obtain high illuminance characteristics
Doping in the range -9 to 10 -3 is often conventional in silver halide emulsions. In the present invention, rhodium, ruthenium, osmium and / or rhenium are preferably doped in the range of 10 −9 to 10 −3 mol per mol of silver halide in order to obtain a high contrast emulsion.

【0061】金属化合物を粒子中に添加するときには、
金属にハロゲン、カルボニル、ニトロシル、チオニトロ
シル、アミン、シアン、チオシアン、アンモニア、テル
ロシアン、セレノシアン、ジピリジル、トリピリジル、
フェナンスロリンあるいはこれらの化合物を組み合わせ
て配位させることができる。金属の酸化状態は、最大の
酸化レベルから最低の酸化レベルまで任意に選択するこ
とができる。好ましい配位子としては、特開平2−20
82号、同2−20853号、同2−20854号、同
2−20855号に記載されている6座配位子、アルカ
リ錯塩としては一般的なナトリウム塩、カリウム塩、セ
シウム塩あるいは第1、第2、第3級のアミン塩があ
る。またアコ錯体の形で遷移金属錯塩を形成することが
できる。これらの例として、例えば、K2[RuC
6]、(NH42[RuCl6]、K2[Ru(NO)
Cl4(SCN)]、K2[RuCl5(H2O)]等のよ
うに表すことができる。Ruの部分をRh、Os、R
e、Ir、Pd及びPtに置き換えて表すことができ
る。
When the metal compound is added to the particles,
Metals include halogen, carbonyl, nitrosyl, thionitrosyl, amine, cyan, thiocyan, ammonia, tellurocyan, selenocyan, dipyridyl, tripyridyl,
Phenanthroline or a combination of these compounds can be coordinated. The oxidation state of the metal can be arbitrarily selected from the highest oxidation level to the lowest oxidation level. Preferred ligands are described in JP-A No. 2-20.
No. 82, No. 2-20853, No. 2-20854, No. 2-20855, and hexadentate ligands described as common alkali complex salts such as sodium salt, potassium salt, cesium salt or first, There are secondary and tertiary amine salts. Also, a transition metal complex salt can be formed in the form of an aquo complex. Examples of these are, for example, K 2 [RuC
l 6 ], (NH 4 ) 2 [RuCl 6 ], K 2 [Ru (NO)
Cl 4 (SCN)], K 2 [RuCl 5 (H 2 O)], and the like. Ru part is Rh, Os, R
e, Ir, Pd, and Pt can be used instead.

【0062】ロジウム、ルテニウム、オスミウム及び/
またはレニウム化合物は、ハロゲン化銀粒子形成中に添
加することが好ましい。添加位置としては粒子中に均一
に分布させる方法、コア・シェル構造にしてコア部にあ
るいはシェル部に多く局在させる方法がある。
Rhodium, ruthenium, osmium and /
Alternatively, the rhenium compound is preferably added during the formation of silver halide grains. As the addition position, there is a method of distributing uniformly in the particles, a method of forming a core-shell structure, and a method of localizing a large amount in the core portion or the shell portion.

【0063】シェル部に多く存在させるほうがしばしば
良い結果が得られる。また、不連続な層構成に局在させ
る以外に連続的に粒子の外側になるに従い、存在量を増
やす方法でもよい。添加量は、ハロゲン化銀1モル当た
り10-9モルから10-3モルの範囲を適宜選択できる。
It is often the case that better results are obtained when a large amount is present in the shell portion. In addition, a method of increasing the existing amount may be used as it is continuously outside the particles, in addition to localizing in a discontinuous layer structure. The addition amount can be appropriately selected within the range of 10 −9 mol to 10 −3 mol per mol of silver halide.

【0064】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー(Res
earch Disclosure)176号1764
3、22〜23頁(1978年12月)に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
For details of the silver halide emulsion and its preparation method, see Research Disclosure (Res).
(Earth Disclosure) 176 No. 1764
3, pages 22 to 23 (December 1978) or cited therein.

【0065】ハロゲン化銀乳剤は化学増感されても、さ
れなくともよい。化学増感の方法としては硫黄増感、セ
レン増感、テルル増感、還元増感及び貴金属増感法が知
られており、これらの何れをも単独で用いても又併用し
てもよい。硫黄増感剤としては、公知の硫黄増感剤が使
用できるが、好ましい硫黄増感剤としては、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えば
チオ硫酸塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィ
ド化合物等を用いることができる。セレン増感剤として
は、公知のセレン増感剤を用いることができる。例えば
米国特許1623499号、特開昭50−71325
号、特開昭60−150046号等に記載された化合物
を好ましく用いることができる。
The silver halide emulsion may or may not be chemically sensitized. As chemical sensitization methods, sulfur sensitization, selenium sensitization, tellurium sensitization, reduction sensitization and noble metal sensitization are known, and any of these may be used alone or in combination. As the sulfur sensitizer, known sulfur sensitizers can be used. Preferred sulfur sensitizers include, in addition to the sulfur compounds contained in gelatin, various sulfur compounds such as thiosulfates, thioureas, Rhodanins, polysulfide compounds and the like can be used. As the selenium sensitizer, a known selenium sensitizer can be used. For example, U.S. Pat. No. 1,623,499 and Japanese Patent Laid-Open No. 50-71325.
JP-A No. 60-150046 and the like can be preferably used.

【0066】本発明に用いられる感光材料には、感光材
料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防
止し、あるいは写真性能を安定化させる目的で、種々の
化合物を含有させることができる。即ちアゾール類、例
えばベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、ニ
トロベンズイミダゾール類、クロロベンズイミダゾール
類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾー
ル類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトベン
ズイミダゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミ
ノトリアゾール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベン
ゾトリアゾール類、メルカプトテトラゾール類(特に1
−フェニル−5−メルカプトテトラゾール)等;メルカ
プトピリミジン類、メルカプトトリアジン類;例えばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、例えばトリアザインデン類、テトラザインデン類
(特に4−ヒドロキシ置換−1,3,3a,7−テトラ
ザインデン類)、ペンタザインデン類等;ベンゼンチオ
スルホン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルホン
酸アミド等のようなカブリ防止剤又は安定剤として知ら
れた多くの化合物を加えることができる。
The light-sensitive material used in the present invention may contain various compounds for the purpose of preventing fog during the manufacturing process of the light-sensitive material, storage or photographic processing, or stabilizing photographic performance. . That is, azoles such as benzothiazolium salts, nitroindazoles, nitrobenzimidazoles, chlorobenzimidazoles, bromobenzimidazoles, mercaptothiazoles, mercaptobenzothiazoles, mercaptobenzimidazoles, mercaptothiadiazoles, aminotriazoles , Benzotriazoles, nitrobenzotriazoles, mercaptotetrazole (especially 1
-Phenyl-5-mercaptotetrazole) and the like; mercaptopyrimidines and mercaptotriazines; thioketo compounds such as oxazolinethione; azaindenes such as triazaindenes and tetrazaindenes (especially 4-hydroxy-substituted-1,3 , 3a, 7-tetrazaindenes), pentazaindenes and the like; adding many compounds known as antifoggants or stabilizers such as benzenethiosulfonic acid, benzenesulfinic acid, benzenesulfonic acid amide and the like. Can be.

【0067】本発明に係る写真乳剤の結合剤又は保護コ
ロイドとしてはゼラチンを用いるのが有利であるが、そ
れ以外の親水性コロイドも用いることができる。例えば
ゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポ
リマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシ
エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セル
ロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘導体、アル
ギン酸ナトリウム、澱粉誘導体などの糖誘導体;ポリビ
ニルアルコール、ポリビニルアルコール部分アセター
ル、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポ
リメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミ
ダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重
合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用いることが
できる。
Gelatin is advantageously used as the binder or protective colloid of the photographic emulsion according to the present invention, but other hydrophilic colloids can also be used. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein; cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose and cellulose sulfates; sugar derivatives such as sodium alginate and starch derivatives; polyvinyl alcohol Use of various kinds of synthetic hydrophilic high-molecular substances such as mono- or copolymers such as polyvinyl alcohol partial acetal, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylimidazole and polyvinylpyrazole Can be.

【0068】ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酵素分解物も用いることができる。
Examples of gelatin include lime-processed gelatin,
Acid-treated gelatin may be used, gelatin hydrolyzate,
Enzymatic degradation products of gelatin can also be used.

【0069】本発明の写真乳剤には、寸度安定性の改良
などの目的で水不溶又は難溶性合成ポリマーの分散物を
含むことができる。例えばアルキル(メタ)アクリレー
ト、アルコキシアクリル(メタ)アクリレート、グリシ
ジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、
ビニルエステル(例えば酢酸ビニル)、アクリロニトリ
ル、オレフィン、スチレンなどの単独もしくは組合せ、
又はこれらとアクリル酸、メタクリル酸、α,β−不飽
和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレ
ート、スルホアルキル(メタ)アクリレート、スチレン
スルホン酸等の組合せを単量体成分とするポリマーを用
いることができる。
The photographic emulsion of the present invention may contain a dispersion of a water-insoluble or sparingly soluble synthetic polymer for the purpose of improving dimensional stability. For example, alkyl (meth) acrylate, alkoxyacryl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide,
Vinyl ester (for example, vinyl acetate), acrylonitrile, olefin, styrene or the like alone or in combination;
Alternatively, it is possible to use a polymer having a monomer component of a combination of these with acrylic acid, methacrylic acid, α, β-unsaturated dicarboxylic acid, hydroxyalkyl (meth) acrylate, sulfoalkyl (meth) acrylate, styrenesulfonic acid, or the like. it can.

【0070】本発明の写真乳剤及び非感光性の親水性コ
ロイド層には無機又は有機の硬膜剤を、ゼラチン等の親
水性コロイドの架橋剤として添加される。例えばクロム
塩(クロム明礬、酢酸クロム等)、アルデヒド類(ホル
ムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド
等)、N−メチロール化合物(ジメチロール尿素、メチ
ロールジメチルヒダントイン等)、ジオキサン誘導体
(2,3−ジヒドロキシジオキサン等)、活性ビニル化
合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−
s−トリアジン、ビス(ビニルスルホニル)メチルエー
テル、N,N′−メチレンビス−〔β−(ビニルスルホ
ニル)プロピオンアミド〕等)、活性ハロゲン化合物
(2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン
等)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸、フェノキシム
コクロル酸等)イソオキサゾール類、ジアルデヒド澱
粉、2−クロロ−6−ヒドロキシトリアジニル化ゼラチ
ン、カルボキシル基活性化型硬膜剤等を、単独又は組み
合わせて用いることができる。これらの硬膜剤はリサー
チ・ディスクロージャー(Research Disc
losure)176巻17643(1978年12月
発行)第26頁のA〜C項に記載されている。
An inorganic or organic hardener is added to the photographic emulsion and the non-photosensitive hydrophilic colloid layer of the present invention as a crosslinking agent for the hydrophilic colloid such as gelatin. For example, chromium salts (chromium alum, chromium acetate, etc.), aldehydes (formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, etc.), N-methylol compounds (dimethylolurea, methyloldimethylhydantoin, etc.), dioxane derivatives (2,3-dihydroxydioxane, etc.), Active vinyl compound (1,3,5-triacryloyl-hexahydro-
s-triazine, bis (vinylsulfonyl) methyl ether, N, N'-methylenebis- [β- (vinylsulfonyl) propionamide], etc., active halogen compounds (2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine, etc.) ), Mucohalogen acids (mucochloric acid, phenoxymucochloric acid, etc.) isoxazoles, dialdehyde starch, 2-chloro-6-hydroxytriazinylated gelatin, carboxyl group-activating type hardener, etc., alone or in combination. Can be used. These hardeners are available from Research Disclosure.
loss) 176, 17643 (issued in December 1978), page 26, paragraphs A to C.

【0071】本発明の写真感光材料に含有せしめられる
ポリマーラテックスとしては例えば米国特許2,77
2,166号、同3,325,286号、同3,41
1,911号、同3,311,912号、同3,52
5,620号、リサーチ・ディスクロージャー(Res
earch Disclosure)誌No.195
19551(1980年7月)等に記載されているごと
き、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチ
レン等のビニル重合体の水和物がある。
Examples of the polymer latex contained in the photographic light-sensitive material of the present invention include US Pat.
No. 2,166, No. 3,325,286, No. 3,41
No. 1,911, No. 3,311,912, No. 3,52
No. 5,620, Research Disclosure (Res
search Disclosure No. 195
As described in 19551 (July 1980) and the like, there are hydrates of vinyl polymers such as acrylic acid ester, methacrylic acid ester and styrene.

【0072】本発明に好ましく用いられるポリマーラテ
ックスとしてはメチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート等のメタアルキルアクリレートの単独重合体、ス
チレンの単独重合体、又は、メタアルキルアクリレート
やスチレンとアクリル酸、N−メチロールアクリルアミ
ド、グリシドールメタクリレート等との共重合体、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレ
ート等のアルキルアクリレートの単独重合体もしくはア
ルキルアクリレートとアクリル酸、N−メチロールアク
リルアミド等との共重合体(好ましくはアクリル酸等の
共重合成分は30重量%まで)、ブタジエンの単独重合
体もしくはブタジエンとスチレン、ブトキシメチルアク
リルアミド、アクリル酸の1つ以上との共重合体、塩化
ビニリデン−メチルアクリレート−アクリル酸3元共重
合体等が挙げられる。
The polymer latex preferably used in the present invention is a homopolymer of a metaalkyl acrylate such as methyl methacrylate or ethyl methacrylate, a homopolymer of styrene, or a metaalkyl acrylate, styrene and acrylic acid, N-methylol acrylamide, Copolymers with glycidol methacrylate and the like, homopolymers of alkyl acrylates such as methyl acrylate, ethyl acrylate and butyl acrylate, or copolymers of alkyl acrylate and acrylic acid, N-methylol acrylamide and the like (preferably copolymers such as acrylic acid and the like. Polymerization component is up to 30% by weight), homopolymer of butadiene or copolymer of butadiene and one or more of styrene, butoxymethyl acrylamide, acrylic acid, vinylidene chloride-methyl chloride. Acrylate - like terpolymer acrylic acid.

【0073】本発明に用いることができるラテックスは
Tgが20℃以下であることが特に好ましいが、2成分
以上の共重合体からなるポリマーラテックスのTgはそ
の成分比を変えることにより容易に調整できる。
It is particularly preferable that the latex which can be used in the present invention has a Tg of 20 ° C. or lower, but the Tg of a polymer latex composed of a copolymer of two or more components can be easily adjusted by changing the component ratio. .

【0074】本発明で用いるポリマーラテックスの平均
粒径の好ましい範囲は0.005〜1μm特に0.02
〜0.2μmである。
The preferred range of the average particle size of the polymer latex used in the present invention is 0.005 to 1 μm, especially 0.02.
0.20.2 μm.

【0075】好ましい乳剤層のゼラチン量は、5.0g
/m2以下が好ましく、3.0g/m2以下が特に好まし
い。尚このゼラチン量は23℃,55%RHの環境下で
24時間調湿後の測定値で示す。
The preferable amount of gelatin in the emulsion layer is 5.0 g.
/ M 2 or less is preferable, and 3.0 g / m 2 or less is particularly preferable. The amount of gelatin is shown as the measured value after conditioning the humidity for 24 hours in the environment of 23 ° C. and 55% RH.

【0076】本発明に用いられるポリマーラテックスは
支持体に対し片面のみに含有されてもよいし、また両面
に含有されていてもよい。支持体に対し両面に含有せし
められる場合、各々の面に含有せしめられるポリマーラ
テックスの種類及び/又は量は同じであっても、また異
なっていてもよい。
The polymer latex used in the present invention may be contained on only one side of the support, or may be contained on both sides. When both sides of the support are contained, the type and / or amount of the polymer latex contained on each side may be the same or different.

【0077】更に、ポリマーラテックスの添加される層
は、ハロゲン化銀乳剤層側及びバッキング層側のどの層
においても添加することができる。
Further, the layer to which the polymer latex is added can be added in any of the silver halide emulsion layer side and the backing layer side.

【0078】本発明に用いられる感光材料には、その他
の種々の添加剤が用いられる。例えば、減感剤、可塑
剤、滑り剤、現像促進剤、オイルなどが挙げられる。
Various other additives are used in the light-sensitive material used in the present invention. For example, a desensitizer, a plasticizer, a slipping agent, a development accelerator, an oil and the like can be mentioned.

【0079】−ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法− 本発明によるハロゲン化銀写真感光材料は、露光後、現
像、定着、水洗(または安定化浴)及び乾燥の少なくと
も4プロセスを持つ自動現像機で写真処理されることが
好ましい。
-Processing method for silver halide photographic light-sensitive material-The silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention is an automatic processor having at least four processes of developing, fixing, washing (or stabilizing bath) and drying after exposure. Is preferably photographically processed.

【0080】本発明において用いられる現像液は、公知
の現像主薬を用いることができる。具体的には、ジヒド
ロキシベンゼン類(例えば、ハイドロキノン、ハイドロ
キノンモノスルホネートなど)、3−ピラゾリドン類
(例えば1−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニ
ル−4−メチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−
4−エチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メ
チル−3−ピラゾリドン等)、アミノフェノール類(例
えばo−アミノフェノール、p−アミノフェノール、N
−メチル−o−アミノフェノール、N−メチル−p−ア
ミノフェノール、2,4−ジアミノフェノール等)、ア
スコルビン酸類(アスコルビン酸、アスコルビン酸ナト
リウム、エリソルビン酸等)や金属錯塩(EDTA鉄
塩、DTPA鉄塩、DTPAニッケル塩等)を、単独あ
るいは組み合わせて用いることができる。その中でも、
アスコルビン酸及びその誘導体を含有する現像液を用い
ることが好ましい。アスコルビン酸及びその誘導体は、
現像主薬としては公知であり、例えば、米国特許268
8548号、2688549号、3022168号、3
512981号、4975354号および532681
6号明細書等に記載のものを使用することができる。
As the developing solution used in the present invention, known developing agents can be used. Specifically, dihydroxybenzenes (eg, hydroquinone, hydroquinone monosulfonate, etc.), 3-pyrazolidones (eg, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-
4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-
4-ethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-5-methyl-3-pyrazolidone, etc., aminophenols (for example, o-aminophenol, p-aminophenol, N)
-Methyl-o-aminophenol, N-methyl-p-aminophenol, 2,4-diaminophenol, etc.), ascorbic acids (ascorbic acid, sodium ascorbate, erythorbic acid, etc.) and metal complex salts (EDTA iron salt, DTPA iron) Salt, DTPA nickel salt, etc.) may be used alone or in combination. Among them,
It is preferable to use a developing solution containing ascorbic acid and its derivatives. Ascorbic acid and its derivatives are
Known as a developing agent, for example, US Pat.
8548, 2688549, 3022168, 3
512981, 4975354 and 532681
Those described in the specification of No. 6 and the like can be used.

【0081】本発明においては、アスコルビン酸および
その誘導体の現像主薬と3−ピラゾリドン類(例えば1
−フェニル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−メ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメ
チル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4−エチル−
3−ピラゾリドン、1−フェニル−5−メチル−3−ピ
ラゾリドン等)やアミノフェノール類(例えばo−アミ
ノフェノール、p−アミノフェノール、N−メチル−o
−アミノフェノール、N−メチル−p−アミノフェノー
ル、2,4−ジアミノフェノール等)や親水性基で置換
されたジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロキノン
モノスルホネート、ハイドロキノンモノスルホン酸ナト
リウム塩、2,5−ハイドロキノンジスルホン酸カリウ
ム塩等)の現像主薬を組み合わせて使用することが更に
好ましい。組み合わせて使用する場合、3−ピラゾリド
ン類やアミノフェノール類や親水性基で置換されたジヒ
ドロキシベンゼン類の現像主薬は、通常現像液1リット
ルあたり0.01以上0.2モル未満の量で用いられる
のが好ましい。特に、アスコルビン酸およびその誘導体
と3−ピラゾリドン類の組み合わせ、及び、アスコルビ
ン酸およびその誘導体と3−ピラゾリドン類と親水性基
で置換されたジヒドロキシベンゼン類の組み合わせが好
ましく用いられる。
In the present invention, the developing agents for ascorbic acid and its derivatives and 3-pyrazolidones (for example, 1
-Phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-ethyl-
3-pyrazolidone, 1-phenyl-5-methyl-3-pyrazolidone, etc.) and aminophenols (for example, o-aminophenol, p-aminophenol, N-methyl-o
-Aminophenol, N-methyl-p-aminophenol, 2,4-diaminophenol, etc.) and dihydroxybenzenes substituted with a hydrophilic group (for example, hydroquinone monosulfonate, hydroquinone monosulfonic acid sodium salt, 2,5-hydroquinone) It is more preferable to use a developing agent such as potassium disulfonic acid salt) in combination. When used in combination, the developing agent of 3-pyrazolidones, aminophenols or dihydroxybenzenes substituted with a hydrophilic group is usually used in an amount of 0.01 or more and less than 0.2 mol per liter of the developing solution. Is preferred. In particular, a combination of ascorbic acid and its derivative with 3-pyrazolidones, and a combination of ascorbic acid and its derivative with 3-pyrazolidones and dihydroxybenzenes substituted with a hydrophilic group are preferably used.

【0082】本発明においては、現像液には、アルカリ
剤(水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等)及びpH緩
衝剤(例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸
櫞酸、アルカノールアミン等)が添加されることが好ま
しい。pH緩衝剤としては、炭酸塩が好ましく、その添
加量は1リットル当たり0.5モル以上2.5モル以下
が好ましく、更に好ましくは、0.75モル以上1.5
モル以下の範囲である。また、必要により溶解助剤(例
えばポリエチレングリコール類、それらのエステル、ア
ルカノールアミン等)、増感剤(例えばポリオキシエチ
レン類を含む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化
合物等)、界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤(例えば
臭化カリウム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニ
トロベンズインダゾール、ニトロベンズイミダゾール、
ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール
類、チアゾール類等)、キレート化剤(例えばエチレン
ジアミン四酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢
酸塩、ポリ燐酸塩等)、現像促進剤(例えば米国特許
2,304,025号、特公昭47−45541号に記
載の化合物等)、硬膜剤(例えばグルタルアルデヒド又
は、その重亜硫酸塩付加物等)、あるいは消泡剤などを
添加することができる。現像液のpHは7.5以上1
0.5未満に調整されることが好ましい。更に好ましく
は、pH8.5以上10.4以下である。
In the present invention, the developer contains an alkaline agent (sodium hydroxide, potassium hydroxide, etc.) and a pH buffering agent (eg carbonate, phosphate, borate, boric acid, acetic acid, oxalic acid, alkanolamine). Etc.) are preferably added. The pH buffer is preferably a carbonate, and the amount of the carbonate added is preferably 0.5 mol or more and 2.5 mol or less per liter, more preferably 0.75 mol or more and 1.5 mol or less.
It is in the range of mol or less. If necessary, dissolution aids (eg, polyethylene glycols, esters thereof, alkanolamines, etc.), sensitizers (eg, nonionic surfactants containing polyoxyethylenes, quaternary ammonium compounds, etc.), surfactants, Antifoaming agents, antifoggants (eg, halides such as potassium bromide and sodium bromide, nitrobenzindazole, nitrobenzimidazole,
Benzotriazole, benzothiazole, tetrazoles, thiazoles, etc.), chelating agents (eg ethylenediaminetetraacetic acid or alkali metal salts thereof, nitrilotriacetate salts, polyphosphate salts etc.), development accelerators (eg US Pat. No. 2,304, No. 025, Japanese Patent Publication No. 47-45541, etc.), a hardener (eg glutaraldehyde or its bisulfite adduct), or an antifoaming agent can be added. The pH of the developer is 7.5 or more 1
It is preferably adjusted to less than 0.5. More preferably, the pH is 8.5 or more and 10.4 or less.

【0083】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に通常pHは3
〜8である。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チ
オ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸
塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、
チオシアン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可
溶性安定銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤と
して知られているものを用いることができる。
As the fixing solution, those having a generally used composition can be used. Fixers generally have a pH of 3
~ 8. As a fixing agent, sodium thiosulfate, potassium thiosulfate, thiosulfates such as ammonium thiosulfate, sodium thiocyanate, potassium thiocyanate,
In addition to thiocyanates such as ammonium thiocyanate, organic sulfur compounds capable of forming a soluble stable silver complex salt and known as a fixing agent can be used.

【0084】定着液には、硬膜剤として作用する水溶性
アルミニウム塩、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミ
ニウム、カリ明礬、アルデヒド化合物(例えば、グルタ
ルアルデヒドやグルタルアルデヒドの亜硫酸付加物等)
などを加えることができる。
The fixing solution contains a water-soluble aluminum salt which acts as a hardening agent, such as aluminum chloride, aluminum sulfate, potassium alum, and aldehyde compounds (eg, glutaraldehyde and a sulfite adduct of glutaraldehyde).
Etc. can be added.

【0085】定着液には、所望により、保恒剤(例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩)、pH緩衡剤(例えば酢酸、ク
エン酸)、pH調整剤(例えば硫酸)、硬水軟化能のあ
るキレート剤等の化合物を含むことができる。
If desired, the fixer may contain preservatives (eg, sulfite, bisulfite), pH buffers (eg, acetic acid, citric acid), pH adjusters (eg, sulfuric acid), and chelates having a water softening ability. Compounds such as agents may be included.

【0086】本発明においては定着液中のアンモニウム
イオン濃度が定着液1リットル当たり0.1モル以下で
あることが好ましい。
In the present invention, the ammonium ion concentration in the fixing solution is preferably 0.1 mol or less per liter of the fixing solution.

【0087】アンモニウムイオン濃度は定着液1リット
ル当たり特に好ましくは0〜0.05モルの範囲であ
る。定着主薬としてチオ硫酸アンモニウムの代わりにチ
オ硫酸ナトリウムを使用してもよく、チオ硫酸アンモニ
ウムとチオ硫酸ナトリウムを併用して使用してもよい。
The ammonium ion concentration is particularly preferably in the range of 0 to 0.05 mol per liter of the fixing solution. As the fixing agent, sodium thiosulfate may be used instead of ammonium thiosulfate, or ammonium thiosulfate and sodium thiosulfate may be used in combination.

【0088】本発明においては定着液中の酢酸イオン濃
度が0.33モル/リットル未満であることが好まし
い。酢酸イオンの種類は任意で、定着液中で酢酸イオン
を解離する任意の化合物に対して本発明は適用できる
が、酢酸や酢酸のリチウム、カリウム、ナトリウム、ア
ンモニウム塩などが好ましく用いられ、特にナトリウム
塩、アンモニウム塩が好ましい。酢酸イオン濃度は更に
好ましくは定着液1リットル当たり0.22モル以下、
特に好ましくは0.13モル以下で、これにより酢酸ガ
ス発生量を高度に減少させることができる。最も好まし
いのは酢酸イオンを実質的に含まないものである。
In the present invention, the concentration of acetate ion in the fixing solution is preferably less than 0.33 mol / liter. The type of the acetate ion is arbitrary, and the present invention can be applied to any compound that dissociates the acetate ion in the fixing solution. However, acetic acid and lithium, potassium, sodium, and ammonium salts of acetic acid are preferably used, and particularly sodium salt. Salts and ammonium salts are preferred. The acetate ion concentration is more preferably 0.22 mol or less per liter of the fixing solution,
Particularly preferably, the amount is 0.13 mol or less, whereby the acetic acid gas generation amount can be highly reduced. Most preferably, it is substantially free of acetate ions.

【0089】定着液にはクエン酸、酒石酸、りんご酸、
こはく酸などの塩及びこれらの光学異性体などが含まれ
る。クエン酸、酒石酸、りんご酸、こはく酸などの塩と
してはこれらのリチウム塩、カリウム塩、ナトリウム
塩、アンモニウム塩など、酒石酸の水素リチウム、水素
カリウム、水素ナトリウム、水素アンモニウム、酒石酸
のアンモニウムカリウム、酒石酸のナトリウムカリウム
などを用いてもよい。これらの中でより好ましいものと
してはクエン酸、イソクエン酸、りんご酸、こはく酸及
びこれらの塩である。最も好ましくはりんご酸とその塩
である。
The fixer contains citric acid, tartaric acid, malic acid,
Salts such as succinic acid and optical isomers thereof are included. As salts of citric acid, tartaric acid, malic acid, succinic acid, etc., these lithium salts, potassium salts, sodium salts, ammonium salts, etc., such as lithium hydrogen tartaric acid, potassium hydrogen, sodium hydrogen, ammonium hydrogen, potassium potassium tartaric acid, tartaric acid Sodium potassium and the like may be used. Of these, more preferred are citric acid, isocitric acid, malic acid, succinic acid and salts thereof. Most preferably, malic acid and its salt.

【0090】定着処理後、水洗及び/または安定化浴で
処理される。安定化浴としては、画像を安定化させる目
的で、膜pHを調整(処理後の膜面pHを3〜8に)す
るための無機及び有機の酸及びその塩、またはアルカリ
剤及びその塩(例えばほう酸塩、メタほう酸塩、ホウ
砂、リン酸塩、炭酸塩、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、アンモニア水、モノカルボン酸、ジカルボン酸、
ポリカルボン酸、くえん酸、蓚酸、リンゴ酸、酢酸等を
組み合わせて使用)、アルデヒド類(例えばホルマリ
ン、グリオキザール、グルタルアルデヒド等)、キレー
ト剤(例えばエチレンジアミン四酢酸又はそのアルカリ
金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ燐酸塩等)、防バイ剤
(例えばフェノール、4−クロロフェノール、クレゾー
ル、o−フェニルフェノール、クロロフェン、ジクロロ
フェン、ホルムアルデヒド、p−ヒドロキシ安息香酸エ
ステル、2−(4−チアゾリン)−ベンゾイミダゾー
ル、ベンゾイソチアゾリン−3−オン、ドデシル−ベン
ジル−メチルアンモニウム−クロライド、N−(フルオ
ロジクロロメチルチオ)フタルイミド、2,4,4′−
トリクロロ−2′−ハイドロオキシジフェニルエーテル
等)、色調調整剤及び/または残色改良剤(例えばメル
カプト基を置換基として有する含窒素ヘテロ環化合物;
具体的には2−メルカプト−5−スルホン酸ナトリウム
−ベンズイミダゾール、1−フェニル−5−メルカプト
テトラゾール、2−メルカプトベンズチアゾール、2−
メルカプト−5−プロピル−1,3,4−トリアゾー
ル、2−メルカプトヒポキサンチン等)を含有させる。
その中でも安定化浴中には防バイ剤が含まれることが好
ましい。これらは、液状でも固体状で補充されてもよ
い。
After fixing treatment, washing and / or stabilizing bath is used. As a stabilizing bath, for the purpose of stabilizing an image, inorganic and organic acids and salts thereof, or alkali agents and salts thereof for adjusting the film pH (to adjust the film surface pH after treatment to 3 to 8) ( For example, borate, metaborate, borax, phosphate, carbonate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, aqueous ammonia, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid,
Used in combination with polycarboxylic acid, citric acid, oxalic acid, malic acid, acetic acid, etc.), aldehydes (eg formalin, glyoxal, glutaraldehyde etc.), chelating agents (eg ethylenediaminetetraacetic acid or its alkali metal salts, nitrilotriacetic acid salts) , Polyphosphates, etc., antifungal agents (for example, phenol, 4-chlorophenol, cresol, o-phenylphenol, chlorophene, dichlorophene, formaldehyde, p-hydroxybenzoic acid ester, 2- (4-thiazoline) -benzo. Imidazole, benzisothiazolin-3-one, dodecyl-benzyl-methylammonium chloride, N- (fluorodichloromethylthio) phthalimide, 2,4,4'-
Trichloro-2'-hydroxydiphenyl ether, etc.), color tone adjuster and / or residual color improver (for example, a nitrogen-containing heterocyclic compound having a mercapto group as a substituent;
Specifically, sodium 2-mercapto-5-sulfonate-benzimidazole, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, 2-mercaptobenzthiazole,
Mercapto-5-propyl-1,3,4-triazole, 2-mercaptohypoxanthine, etc.).
Among them, it is preferable that the stabilizing bath contains an anti-binder. These may be replenished in liquid or solid form.

【0091】廃液量の低減の要望から、本発明は、感光
材料の面積に比例した一定量の定着補充を行いながら処
理される。その定着補充量は1m2当たり300ml以
下である。好ましくはそれぞれ1m2当たり30〜25
0mlである。
In order to reduce the amount of waste liquid, the present invention is processed while fixing and replenishing a fixed amount proportional to the area of the photosensitive material. The fixing replenishment amount is 300 ml or less per m 2 . Preferably 30 to 25 per 1 m 2 respectively
0 ml.

【0092】廃液量の低減の要望から、現像補充量は1
2当たり250ml以下であることが好ましく、より
好ましくはそれぞれ1m2当たり30〜200mlであ
る。ここでいう定着補充量および現像補充量とは、補充
される量を示す。具体的には、現像母液および定着母液
と同じ液を補充する場合のそれぞれの液の補充量であ
り、現像濃縮液および定着濃縮液を水で希釈した液で補
充される場合のそれぞれの濃縮液と水の合計量であり、
固体現像処理剤および固体定着処理剤を水で溶解した液
で補充される場合のそれぞれの固体処理剤容積と水の容
積の合計量であり、また固体現像処理剤および固体定着
処理剤と水を別々に補充する場合のそれぞれの固体処理
剤容積と水の容積の合計量である。固体処理剤で補充さ
れる場合は自動現像機の処理槽に直接投入する固体処理
剤の容積と、別に加える補充水の容積を合計した量を表
すことが好ましい。その現像補充液および定着補充液は
それぞれ自動現像機のタンク内の現像母液および定着母
液と同じ液でも、異なった液または固形処理剤でも良
い。
In order to reduce the amount of waste liquid, the development replenishment amount is 1
It is preferably 250 ml or less per m 2 , and more preferably 30 to 200 ml per 1 m 2 . The fixing replenishment amount and the development replenishment amount here indicate the amounts to be replenished. Specifically, it is the replenishing amount of each liquid when replenishing the same liquid as the developing mother liquid and the fixing mother liquid, and each concentrating liquid when replenishing with the liquid obtained by diluting the developing concentrated liquid and the fixing concentrated liquid with water. And the total amount of water,
It is the total amount of each solid processing agent volume and water volume when the solid development processing agent and solid fixing processing agent are replenished with a liquid dissolved in water. It is the total volume of each solid processing agent volume and water volume when replenished separately. When replenished with a solid processing agent, it is preferable to express the total amount of the volume of the solid processing agent directly charged into the processing tank of the automatic developing machine and the volume of the replenishing water added separately. The developing replenisher and the fixing replenisher may be the same as or different from the developing mother liquor and the fixing mother liquor in the tank of the automatic developing machine.

【0093】現像、定着、水洗及び/または安定化浴の
温度は10〜45℃の間であることが好ましく、それぞ
れが別々に温度調整されていてもよい。
The temperature of the developing, fixing, washing and / or stabilizing bath is preferably between 10 and 45 ° C., and the temperature of each may be adjusted separately.

【0094】本発明は現像時間短縮の要望から自動現像
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
(Dry to Dry)が60秒以下10秒以上であ
ることが好ましい。ここでいう全処理時間とは、黒白感
光材料を処理するのに必要な全工程時間を含み、具体的
には処理に必要な、例えば現像、定着、漂白、水洗、安
定化処理、乾燥等の工程の時間を全て含んだ時間、つま
りDry to Dryの時間である。全処理時間が1
0秒未満では減感、軟調化等で満足な写真性能が得られ
ない。更に好ましくは全処理時間(Dry to Dr
y)が15〜50秒である。また、100m2以上の大
量の感光材料を安定にランニング処理するためには、現
像時間は18秒以下2秒以上であることが好ましい。
According to the present invention, the total processing time (Dry to Dry) from when the leading edge of the film is inserted into the automatic developing machine to when it comes out of the drying zone is 60 when the processing is performed by using the automatic developing machine in order to shorten the developing time. It is preferably not more than 10 seconds and not more than 10 seconds. The term "total processing time" as used herein includes the total process time required for processing the black-and-white photosensitive material, and specifically includes processing, such as development, fixing, bleaching, washing, stabilization, and drying. This is a time including all the time of the process, that is, a time of Dry to Dry. Total processing time is 1
If the time is less than 0 second, satisfactory photographic performance cannot be obtained due to desensitization and softening. More preferably, the total processing time (Dry to Dr)
y) is 15 to 50 seconds. Further, in order to stably process a large amount of photosensitive material of 100 m 2 or more, the developing time is preferably 18 seconds or less and 2 seconds or more.

【0095】本発明の効果を顕著に発現させるために
は、自動現像機には60℃以上の伝熱体(例えば60℃
〜130℃のヒートローラー等)あるいは150℃以上
の輻射物体(例えばタングステン、炭素、ニクロム、酸
化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウムの混
合物、炭化ケイ素などに直接電流を通して発熱放射させ
たり、抵抗発熱体から熱エネルギーを銅、ステンレス、
ニッケル、各種セラミックなどの放射体に伝達させて発
熱させたりして赤外線を放出するもの)で乾燥するゾー
ンを持つものが好ましく用いられる。
In order to bring out the effect of the present invention remarkably, a heat transfer member having a temperature of 60 ° C. or higher (for example, 60 ° C.) is used in an automatic processor.
~ 130 ° C heat roller etc.) or radiant object above 150 ° C (for example, tungsten, carbon, nichrome, a mixture of zirconium oxide / yttrium oxide / thorium oxide, silicon carbide, etc.) Heat energy of copper, stainless steel,
Those which transmit infrared rays by transmitting heat to a radiator such as nickel or various ceramics) and have a zone for drying are preferably used.

【0096】用いられる60℃以上の伝熱体としては、
ヒートローラーが例として挙げられる。ヒートローラー
はアルミ製の中空とされたローラーの外周部がシリコン
ゴム、ポリウレタン、テフロンによって被覆されている
ことが好ましい。このヒートローラーの両端部は、耐熱
性樹脂(例えば商品名ルーロン)の軸受によって乾燥部
の搬送口近傍内側に配設され側壁に回転自在に軸支され
ていることが好ましい。
As the heat transfer material having a temperature of 60 ° C. or higher,
A heat roller is mentioned as an example. The heat roller preferably has an aluminum hollow roller whose outer peripheral portion is covered with silicon rubber, polyurethane, or Teflon. Both ends of the heat roller are preferably disposed inside the vicinity of the transport port of the drying unit by bearings made of a heat-resistant resin (for example, Lulon), and are rotatably supported on the side wall.

【0097】また、ヒートローラーの一方の端部にはギ
アが固着されており、駆動手段及び駆動伝達手段によっ
て搬送方向に回転されることが好ましい。ヒートローラ
ーのローラー内には、ハロゲンヒーターが挿入されてお
り、このハロゲンヒーターは自動現像機に配設された温
度コントローラーに接続されていることが好ましい。
Further, it is preferable that a gear is fixed to one end of the heat roller, and the gear is rotated in the carrying direction by the drive means and the drive transmission means. A halogen heater is inserted in the roller of the heat roller, and the halogen heater is preferably connected to a temperature controller provided in the automatic developing machine.

【0098】また、温度コントローラーには、ヒートロ
ーラーの外周面に接触配置されたサーミスタが接続され
ており、温度コントローラーはサーミスタからの検出温
度が60℃〜150℃、好ましくは70℃〜130℃と
なるように、ハロゲンヒーターをオンオフ制御するよう
になっていることが好ましい。
Further, the temperature controller is connected to a thermistor arranged in contact with the outer peripheral surface of the heat roller, and the temperature controller detects the temperature from the thermistor at 60 ° C to 150 ° C, preferably 70 ° C to 130 ° C. Therefore, it is preferable to control the halogen heater on and off.

【0099】150℃以上の放射温度を発する輻射物体
としては以下の例が挙げられる。(好ましくは250℃
以上が良い)タングステン、炭素、タンタル、ニクロ
ム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・酸化トリウ
ムの混合物、炭化ケイ素、二ケイ化モリブデン、クロム
酸ランタンに直接電流を通して発熱放射させて放射温度
を制御するか、抵抗発熱体から熱エネルギーを放射体に
伝達させて制御する方法があるが、放射体例として銅、
ステンレス、ニッケル、各種セラミックスなどが挙げら
れる。
The following examples can be given as examples of the radiant body emitting a radiant temperature of 150 ° C. or higher. (Preferably 250 ° C
Tungsten, carbon, tantalum, nichrome, a mixture of zirconium oxide, yttrium oxide, and thorium oxide, silicon carbide, molybdenum disilicide, lanthanum chromate are directly heated and radiated to control the radiation temperature or resistance. There is a method to control by transmitting heat energy from the heating element to the radiator, but copper,
Examples include stainless steel, nickel, and various ceramics.

【0100】本発明では60℃以上の伝熱体と150℃
以上の反射温度の輻射物体を組み合わせてもよい。又、
従来のような60℃以下の温風を組み合わせてもよい。
In the present invention, a heat transfer material having a temperature of 60 ° C. or higher and 150 ° C.
Radiating objects having the above reflection temperatures may be combined. or,
You may combine the conventional warm air of 60 degrees C or less.

【0101】また、本発明には下記に記載された方法及
び機構を有する自動現像機を好ましく用いることができ
る。
Further, in the present invention, an automatic developing machine having the method and mechanism described below can be preferably used.

【0102】(1)脱臭装置:特開昭64−37560
号544(2)頁左上欄〜545(3)頁左上欄。
(1) Deodorizing device: JP-A-64-37560
No. 544 (2), upper left column to page 545 (3), upper left column.

【0103】(2)水洗水再生浄化剤及び装置:特開平
6−250352号(3)頁「0011」〜(8)頁
「0058」。
(2) Washing water regeneration purifying agent and apparatus: JP-A-6-250352, page (3), page "0011" to page (8), page "0058".

【0104】(3)廃液処理方法:特開平2−6463
8号388(2)頁左下欄〜391(5)頁左下欄。
(3) Waste liquid treatment method: JP-A-2-6463
No. 8, 388 (2) lower left column to 391 (5) lower left column.

【0105】(4)現像浴と定着浴の間のリンス浴:特
開平4−313749号(18)頁「0054」〜(2
1)頁「0065」。
(4) Rinse bath between developing bath and fixing bath: JP-A-4-313749, page (18), "0054" to (2)
1) Page "0065".

【0106】(5)水補充方法:特開平1−28144
6号250(2)頁左下欄〜右下欄。
(5) Water replenishment method: JP-A-1-28144
No. 6, page 250 (2), lower left column to lower right column.

【0107】(6)外気温度湿度検出して自動現像機の
乾燥風を制御する方法:特開平1−315745号49
6(2)頁右下欄〜501(7)頁右下欄および特開平
2−108051号588(2)頁左下欄〜589
(3)頁左下欄。
(6) Method for controlling the drying air of the automatic developing machine by detecting the outside air temperature and humidity: JP-A-1-315745 49
6 (2) lower right column to 501 (7) lower right column and JP-A-2-108051, 588 (2) lower left column to 589
(3) The lower left column of the page.

【0108】(7)定着廃液の銀回収方法:特開平6−
27623号報(4)頁「0012」〜(7)頁「00
71」。
(7) Silver recovery method for fixing waste liquid: JP-A-6-
No. 27623, page (4) “0012” to page (7) “00”
71 ".

【0109】[0109]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
詳述するが、本発明の実施様態はこれに限定されるもの
ではない。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the embodiments of the present invention are not limited thereto.

【0110】実施例1 −シンジオタクチックポリスチレン(SPS)の重合− 特開平3−131843号に準じてSPSペレットを作
製した。触媒の調整から重合反応までは、全て乾燥アル
ゴン気流下で行った。内容積500mlのガラス製容器
に硫酸銅5水塩(CuSO4・5H2O)17.8g(7
1mmol)精製ベンゼン200mlおよびトリメチル
アルミニウム24mlをいれ、40℃で8時間撹拌して
触媒の調整を行った。これをアルゴン気流下No.3ガ
ラスフィルターで濾過して、濾液を凍結乾燥させた。こ
れを取り出し、2lのステンレス製容器にいれ、この中
にさらにトリブチルアルミニウム、ペンタシクロペンタ
ジエチルチタンメトキシドを混合し90℃に加熱した。
Example 1-Polymerization of syndiotactic polystyrene (SPS) -SPS pellets were prepared according to JP-A-3-131843. From the preparation of the catalyst to the polymerization reaction, all were carried out under a dry argon stream. In a glass container having an internal volume of 500 ml, 17.8 g of copper sulfate pentahydrate (CuSO 4 .5H 2 O) (7
(1 mmol) 200 ml of purified benzene and 24 ml of trimethylaluminum were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 8 hours to adjust the catalyst. This was placed under an argon gas flow. After filtering through 3 glass filters, the filtrate was freeze-dried. This was taken out, put in a 2 l stainless steel container, and tributylaluminum and pentacyclopentadiethyl titanium methoxide were further mixed therein, and heated to 90 ° C.

【0111】この中に、精製したスチレンを1l入れ、
さらに、精製したp−メチルスチレン70mlを入れ、
この温度中で8時間重合反応を続けた。この後室温まで
冷却し、1lの塩化メチレンを入れ、さらに撹拌しなが
らナトリウムメチラートのメタノール溶液を加えて触媒
を失活させた。内容物を20lのメタノール中に徐々に
滴下して、更にガラスフィルターで濾過して3回メタノ
ールで洗浄した後、乾燥させた。1,2,4−トリクロ
ルベンゼンを溶媒として、135℃で標準ポリスチレン
で検量したGPCの測定の結果から求めたこの重合体の
重量平均分子量は、415000であった。
1 l of purified styrene was put in this,
Further, add 70 ml of purified p-methylstyrene,
The polymerization reaction was continued at this temperature for 8 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, 1 l of methylene chloride was added, and a methanol solution of sodium methylate was added to the catalyst to deactivate the catalyst while further stirring. The contents were gradually dropped into 20 l of methanol, filtered through a glass filter, washed with methanol three times, and then dried. The weight average molecular weight of this polymer was 415,000, which was obtained from the results of GPC measurement using standard polystyrene at 135 ° C. using 1,2,4-trichlorobenzene as a solvent.

【0112】またこの重合体の融点は、245℃で13
C−NMRの測定からも得られた重合体のは、シンジオ
タクチック構造を有することを確認した。これを押出機
でペレット化した後に、130℃で乾燥させた。
The melting point of this polymer is 13 at 245 ° C.
It was confirmed from the C-NMR measurement that the polymer obtained had a syndiotactic structure. This was pelletized with an extruder and then dried at 130 ° C.

【0113】−シンジオタクチックポリスチレンフィル
ム(SPS)支持体の作成− 押出機で330℃で前記重合例により得られたペレット
を溶融押出した。この溶融ポリマーをパイプを通じて押
し出しダイに押し出した。そしてダイスリットより冷却
したキャスティングドラムに静電印可させながら押し出
して冷却することにより膜厚1000μmのSPS未延
伸シートを得た。
-Preparation of Syndiotactic Polystyrene Film (SPS) Support-The pellets obtained by the above polymerization example were melt extruded at 330 ° C. in an extruder. This molten polymer was extruded through a pipe into an extrusion die. Then, the SPS unstretched sheet having a film thickness of 1000 μm was obtained by extruding while being electrostatically applied to the cooled casting drum through the die slit and cooling.

【0114】作成したシートを115℃で予熱した後に
縦方向に3.3倍延伸した。テンター内で100℃で予
熱したのち130℃で横方向に3.3倍延伸した。更に
やや横方向に緩和させながら225℃で熱固定し100
μm厚のSPSフィルム支持体1を得た。
The prepared sheet was preheated at 115 ° C. and then stretched 3.3 times in the machine direction. It was preheated at 100 ° C in a tenter and then stretched 3.3 times in the transverse direction at 130 ° C. While slightly relaxing in the lateral direction, heat set at 225 ° C to 100
A SPS film support 1 having a thickness of μm was obtained.

【0115】−下引き層の塗設− 得られたSPSフィルム支持体1の両面に、下記組成の
下引き塗布液〈U−1〉を乾燥膜厚が1μmとなるよう
に塗設し試料1の支持体を作成した。
-Coating of Undercoat Layer- Sample 1 was prepared by coating an undercoating coating solution <U-1> having the following composition on both surfaces of the obtained SPS film support 1 so that the dry film thickness was 1 μm. The support was created.

【0116】 〈U−1〉 (樹脂A)アクリル系樹脂(I) 20g 組成:ブチルアクリレート 40重量% スチレン 40重量% 2-ヒドロキシエチルアクリレート 20重量% 溶剤I:シクロヘキサン 750cc 溶剤II:アセトン 250cc 下引き塗布液〈U−1〉中の(溶剤I)をシクロヘキサ
ンから表1に示す溶剤にした以外は同様にして下引き塗
布液を作成し、SPSフィルム支持体1の両面に乾燥膜
厚1μmとなるように塗設し試料2〜14の支持体を作
成した。
<U-1> (Resin A) Acrylic resin (I) 20 g Composition: Butyl acrylate 40 wt% Styrene 40 wt% 2-Hydroxyethyl acrylate 20 wt% Solvent I: Cyclohexane 750 cc Solvent II: Acetone 250 cc Undercoat An undercoating coating solution was prepared in the same manner except that (solvent I) in the coating solution <U-1> was changed from cyclohexane to the solvent shown in Table 1 to give a dry film thickness of 1 μm on both surfaces of the SPS film support 1. Thus, the supports of Samples 2 to 14 were prepared.

【0117】さらに、この両面に18W/(m2・mi
n)のコロナ放電を施した後に、乳剤層塗設側には下記
塗布液A−1を乾燥膜厚が0.1μmとなるように、ま
たバック層塗設側には下記塗布液B−1を乾燥膜厚が
0.8μmとなるように塗設した。
Furthermore, 18 W / (m 2 · mi is provided on both sides.
After corona discharge of n), the following coating solution A-1 was applied to the emulsion layer coating side so that the dry film thickness was 0.1 μm, and the following coating solution B-1 was applied to the back layer coating side. Was applied to give a dry film thickness of 0.8 μm.

【0118】〈塗布液A−1〉 ゼラチン 10g 化合物(UL−1) 0.2g 化合物(UL−2) 0.2g 化合物(UL−3) 0.1g シリカ粒子(平均粒径:3μm) 0.1g 水で仕上げる 1000ml<Coating Liquid A-1> Gelatin 10 g Compound (UL-1) 0.2 g Compound (UL-2) 0.2 g Compound (UL-3) 0.1 g Silica particles (average particle size: 3 μm) 0.1 1g Finish with water 1000ml

【0119】[0119]

【化1】 Embedded image

【0120】 〈塗布液B−1〉 ゼラチン 10g 無機金属酸化物 SnO2/Sb(9/1重量比) 10g 平均粒径0.25μm ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.3g ジヘキシル−α−スルホンサクシナートナトリウム塩 1.2g 水で仕上げる 1000ml −乳剤層・バック層の塗設− 得られた試料1〜14の支持体に、以下の<乳剤層>お
よび<バッキング層>を塗布しハロゲン化銀写真感光材
料を作成した。
<Coating Liquid B-1> Gelatin 10 g Inorganic metal oxide SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio) 10 g Average particle size 0.25 μm Sodium dodecylbenzenesulfonate 0.3 g Dihexyl-α-sulfone succinate sodium Salt 1.2 g Finish with water 1000 ml-Coating of emulsion layer and back layer-The following <emulsion layer> and <backing layer> are coated on the support of the obtained samples 1 to 14 to prepare a silver halide photographic light-sensitive material. It was created.

【0121】(乳剤の調製)硫酸銀溶液と、塩化ナトリ
ウム及び臭化カリウム水溶液に6塩化ロジウム錯体を8
×10-5mol/Agmolとなるように加えた溶液
を、ゼラチン溶液中に流量制御しながら同時添加し、脱
塩後、粒径0.13μ、臭化銀1モル%を含む立方晶、
単分散、塩臭化銀乳剤を得た。
(Preparation of emulsion) A silver sulfate solution and an aqueous solution of sodium chloride and potassium bromide were mixed with 8 parts of a rhodium chloride complex.
A solution added so as to have a concentration of × 10 -5 mol / Agmol was simultaneously added to a gelatin solution while controlling the flow rate, and after desalting, a cubic crystal having a particle size of 0.13 µ and containing 1 mol% of silver bromide,
A monodispersed silver chlorobromide emulsion was obtained.

【0122】この乳剤を通常の方法で硫黄増感して、安
定剤として6-メチル-4-ヒドロキシ−1,3,3a,
7テトラザインデンを添加後、下記の添加剤を加えて乳
剤塗布液を調製した。
This emulsion was sulfur-sensitized by a conventional method to obtain 6-methyl-4-hydroxy-1,3,3a, stabilizer as a stabilizer.
After adding 7 tetrazaindene, the following additives were added to prepare an emulsion coating solution.

【0123】 (乳剤塗布液の調製) ゼラチン 1.0g/m2 化合物(a) 1mg/m2 NaOH(0.5N) pH5.6に調整 化合物(b) 40mg/m2 化合物(c) 30mg/m2 サポニン(20%) 0.5cc/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ 20mg/m2 5−メチルベンゾトリアゾール 10mg/m2 化合物(d) 2mg/m 化合物(e)
10mg/m2 化合物(f) 6mg/m2 ラテックス(m) 1.0g/m2 スチレン−マイレン酸共重合水性ポリマー(増粘剤) 90mg/m2
(Preparation of Emulsion Coating Solution) Gelatin 1.0 g / m 2 Compound (a) 1 mg / m 2 NaOH (0.5 N) Adjusted to pH 5.6 Compound (b) 40 mg / m 2 Compound (c) 30 mg / m 2 saponin (20%) 0.5 cc / m 2 sodium dodecylbenzenesulfonate 20 mg / m 2 5-methylbenzotriazole 10 mg / m 2 compound (d) 2 mg / m 2 compound (e)
10 mg / m 2 compound (f) 6 mg / m 2 latex (m) 1.0 g / m 2 styrene-maleic acid copolymerized aqueous polymer (thickener) 90 mg / m 2 .

【0124】 (乳剤保護層塗布液) ゼラチン 0.5g/m2 化合物(g)(1%) 25cc/m2 化合物(h) 120mg/m2 球状単分散シリカ(8μ) 20mg/m2 〃 (3μ) 10mg/m2 化合物(i) 100mg/m2 ラテックス(m) 0.5g/m2 クエン酸 pH6.0に調整。(Emulsion Protective Layer Coating Solution) Gelatin 0.5 g / m 2 compound (g) (1%) 25 cc / m 2 compound (h) 120 mg / m 2 spherical monodisperse silica (8 μ) 20 mg / m 2 〃 ( 3 μ) 10 mg / m 2 compound (i) 100 mg / m 2 latex (m) 0.5 g / m 2 citric acid pH adjusted to 6.0.

【0125】 (バッキング層塗布液) ゼラチン 1.0g/m2 化合物(j) 100mg/m2 化合物(k) 18mg/m2 化合物(l) 100mg/m2 サポニン(20%) 0.6cc/m2 ラテックス(m) 300mg/m2 5−ニトロインダゾール 20mg/m2 スチレン−マレイン酸共重合水性ポリマー(増粘剤) 45mg/m2 グリオキザール 4mg/m2(Backing Layer Coating Liquid) Gelatin 1.0 g / m 2 compound (j) 100 mg / m 2 compound (k) 18 mg / m 2 compound (l) 100 mg / m 2 saponin (20%) 0.6 cc / m 2 Latex (m) 300 mg / m 2 5-Nitroindazole 20 mg / m 2 Styrene-maleic acid copolymer aqueous polymer (thickener) 45 mg / m 2 Glyoxal 4 mg / m 2 .

【0126】 (バッキング保護層塗布液) ゼラチン 0.5g/m2 化合物(g)(1%) 2cc/m 球状ポリメチルメタクリレート(4μ)
25mg/m2 塩化ナトリウム 70mg/m2 グリオキザール 22mg/m2 化合物(n) 10mg/m
(Backing Protective Layer Coating Liquid) Gelatin 0.5 g / m 2 Compound (g) (1%) 2 cc / m 2 Spherical polymethylmethacrylate (4 μ)
25 mg / m 2 sodium chloride 70 mg / m 2 glyoxal 22 mg / m 2 compound (n) 10 mg / m 2

【0127】[0127]

【化2】 Embedded image

【0128】[0128]

【化3】 Embedded image

【0129】[0129]

【化4】 Embedded image

【0130】以上の様に作成した感光材料1〜14につ
いて以下に記載したような評価を行い、これらの結果を
表1に示した。
The photosensitive materials 1 to 14 prepared as described above were evaluated as described below, and the results are shown in Table 1.

【0131】〈評価方法〉 《感光材料の接着性》試料の現像処理前の乾燥状態にお
ける膜付きを以下の評価方法で評価した。
<Evaluation Method><< Adhesiveness of Photosensitive Material >> The adhesion of a sample to a film in a dry state before development was evaluated by the following evaluation methods.

【0132】現像処理前の試料を、23℃、55%RH
にて24時間放置した後、カミソリで45゜の角度で表
面から支持体にまで達する傷を付け、セロテープを圧着
し、急激に引き剥がし、乳剤層の剥離面積を5段階で評
価した。
The sample before the development treatment was carried out at 23 ° C. and 55% RH.
After leaving it for 24 hours at 40 ° C., it was scratched with a razor at an angle of 45 ° from the surface to the support, a cellophane tape was pressure-bonded, and it was rapidly peeled off, and the peeled area of the emulsion layer was evaluated on a scale of 5.

【0133】評価基準 A:接着力が非常に強く、剥離なし B:接着力が強く、剥離面積は5%未満 C:接着力が強く、剥離面積は5%以上、20%未満 D:剥離面積は20%以上、50%未満 E:剥離面積は50%以上、100%未満 F:完全に剥離する 尚、評価C以上で実用上の接着力を有する。Evaluation Criteria A: Very strong adhesion and no peeling B: Strong adhesion, peeling area less than 5% C: Strong adhesion, peeling area 5% or more, less than 20% D: Peeling area Is 20% or more and less than 50% E: Peeling area is 50% or more and less than 100% F: Completely peeling Incidentally, the evaluation C or more has a practical adhesive force.

【0134】《処理前後寸法差の評価法》得られた試料
を30cm×60cmの大きさに切り、明室プリンター
P−627FM(大日本スクリーン社製)を用いて間隔
約56cmで2本の細線を画像露光し、現像処理したも
のを原稿とした。この原稿、未露光試料(原稿と同じ大
きさ)、プリンター及び自動現像機を23℃、20%R
Hにて12時間調湿した後、原稿に未露光試料を密着
(面−面)露光し、自動現像機で処理した。現像処理さ
れた試料を12時間調湿後、元の原稿に重ね、細線の間
隔がどれくらいずれたかを目盛り付きルーペで測定し
た。測定はn=6で行い、平均をとった。〔処理前後寸
法差(a)値〕 同様の実験を23℃、60%RH下でも行い、20%R
H下での処理前後寸法差の値との差(環境湿度に対する
依存性を示す)をとった。〔(b)値〕 (a)値が±20μを超えると寸法ずれが意識され、ま
た、(b)値が20μを超えると処理前後寸法差が変化
したことが意識され、何らかの作業条件の設定変更が必
要となるレベルである。
<< Evaluation Method of Dimensional Difference Before and After Treatment >> The obtained sample was cut into a size of 30 cm × 60 cm, and two fine lines were separated at a distance of about 56 cm using a bright room printer P-627FM (manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.). Was subjected to image exposure and developed to obtain a document. This original, unexposed sample (the same size as the original), printer and automatic processor at 23 ° C, 20% R
After conditioning the humidity for 12 hours in H, an unexposed sample was contact-exposed (face-to-face) to the original and processed by an automatic developing machine. The humidity of the developed sample was adjusted for 12 hours, then the sample was overlaid on the original document, and the distance between the fine lines was measured with a loupe with a scale. The measurement was performed at n = 6, and the average was taken. [Dimensional difference (a) before and after treatment] The same experiment was performed at 23 ° C. and 60% RH to obtain 20% R
The difference with the value of the dimensional difference before and after the treatment under H (the dependency on the environmental humidity is shown) was taken. [(B) value] When the (a) value exceeds ± 20μ, the dimensional deviation is conscious, and when the (b) value exceeds 20μ, it is conscious that the dimensional difference before and after the treatment is changed, and some working condition is set. This is the level that needs to be changed.

【0135】 (標準処理条件) 工程 温度 時間 液中浸漬時間 現像 28℃ 30秒 26秒 定着 28℃ 26秒 22秒 水洗 18℃ 18秒 18秒 乾燥 45℃ 14秒 合計 66秒 各工程時間は次工程までのいわゆるワタリ搬送時間を含
み液中浸漬時間はワタリ搬送時間を含まない。 〔現像液処方〕 (組成A) 純水(イオン交換水) 150ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2g ジエチレングリコール 50g 亜硫酸カリウム(55%W/V水溶液) 100ml 炭酸カリウム 50g ハイドロキノン 15g 5−メチルベンゾトリアゾール 200mg 1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール 30mg 水酸化カリウム 使用液のpHを10.6にする量 臭化カリウム 4.5g (組成B) 純水(イオン交換水) 3ml ジエチレングリコール 50mg エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 25mg 酢酸(90%水溶液) 0.3ml 5−ニトロインダゾール 110mg 1−フェニル−3−ピラゾリドン 500mg 現像液の使用時に水500ml中に上記組成物A、組成物Bの順に溶かし、1 lに仕上げて用いた。
(Standard Processing Conditions) Process Temperature Time Liquid Immersion Time Development 28 ° C. 30 seconds 26 seconds Fixing 28 ° C. 26 seconds 22 seconds Washing 18 ° C. 18 seconds 18 seconds Drying 45 ° C. 14 seconds Total 66 seconds Each step time is the next step Including the so-called wading transport time up to and including the soaking time does not include the wading transport time. [Developer formulation] (Composition A) Pure water (ion exchanged water) 150 ml Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 2 g Diethylene glycol 50 g Potassium sulfite (55% W / V aqueous solution) 100 ml Potassium carbonate 50 g Hydroquinone 15 g 5-Methylbenzotriazole 200 mg 1- Phenyl-5-mercaptotetrazole 30 mg Potassium hydroxide Amount for adjusting pH of working solution to 10.6 Potassium bromide 4.5 g (Composition B) Pure water (ion exchanged water) 3 ml Diethylene glycol 50 mg Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 25 mg Acetic acid ( 90% aqueous solution) 0.3 ml 5-nitroindazole 110 mg 1-phenyl-3-pyrazolidone 500 mg When the developer is used, the above composition A and composition B are dissolved in 500 ml of water in this order to make 1 l. Used.

【0136】 〔定着液処方〕 (組成A) チオ硫酸アンモニウム(72.5%W/V水溶液) 230ml 亜硫酸ナトリウム 9.5g 酢酸ナトリウム・3水塩 15.9g ほう酸 6.7g クエン酸ナトリウム・2水塩 2g 酢酸(90%W/V水溶液) 8.1ml (組成B) 純水(イオン交換水) 17ml 硫酸(50%W/V水溶液) 5.8g 硫酸アルミニウム (Al23換算含量が8.1%W/Vの水溶液) 26.5g 定着液の使用時に水500ml中に上記組成A、組成Bの順に溶かし、1lに 仕上げて用いた。この定着液pHは約4.3であった。[Fixing Solution Formulation] (Composition A) Ammonium thiosulfate (72.5% W / V aqueous solution) 230 ml Sodium sulfite 9.5 g Sodium acetate trihydrate 15.9 g Boric acid 6.7 g Sodium citrate dihydrate 2 g Acetic acid (90% W / V aqueous solution) 8.1 ml (Composition B) Pure water (ion exchanged water) 17 ml Sulfuric acid (50% W / V aqueous solution) 5.8 g Aluminum sulfate (Al 2 O 3 equivalent content is 8.1) % W / V aqueous solution) 26.5 g When the fixing solution was used, the above composition A and composition B were dissolved in 500 ml of water in this order, and the solution was made up to 1 liter. The pH of this fixer was about 4.3.

【0137】[0137]

【表1】 [Table 1]

【0138】表1の結果から明かなように、本発明の試
料は、写真構成層との接着性が強固であり、現像処理前
後における寸法変化が改良されていることがわかる。
As is clear from the results shown in Table 1, the samples of the present invention have a strong adhesiveness with the photographic constituent layers and have improved dimensional change before and after the development processing.

【0139】実施例2 実施例1の下引き塗布液〈U−3〉の作成において、
(溶剤I)と(溶剤II)の種類と量を表2のようにして
下引き塗布液を作成した以外は同様にして下引き済み支
持体を作成し、その支持体を用い実施例1と同様なハロ
ゲン化銀乳剤層とバック層を塗布し、試料15〜24を
作成した。得られた試料は、実施例1と同様にして評価
し、その結果を表2に示す。
Example 2 In preparing the undercoating coating solution <U-3> of Example 1,
An undercoated support was prepared in the same manner except that the type and amount of (solvent I) and (solvent II) were prepared as shown in Table 2, and the support was used as in Example 1. Samples 15 to 24 were prepared by coating the same silver halide emulsion layer and back layer. The obtained sample was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0140】[0140]

【表2】 [Table 2]

【0141】表2の結果から明かなように、本発明の試
料は、写真構成層との接着性が強固であり、現像処理前
後における寸法変化が改良されていることがわかる。
As is clear from the results shown in Table 2, the samples of the present invention have a strong adhesiveness with the photographic constituent layers and have improved dimensional change before and after the development processing.

【0142】実施例3 下引き塗布液〈U−3〉の作成において、樹脂Aを、以
下の樹脂B〜Lに、溶剤Iをトルエンにして、表3に示
す下引き塗布液を作成した以外は実施例1と同様にして
下引き済み支持体を作成し、その支持体を用い実施例1
と同様なハロゲン化銀乳剤層とバック層を塗布し、試料
25〜35を作成した。得られた試料は、実施例1と同
様にして評価し、その結果を表3に示す。
Example 3 In the preparation of the undercoating coating solution <U-3>, except that the resin A was the following resins B to L and the solvent I was toluene, the undercoating coating solution shown in Table 3 was prepared. Was used to prepare an undercoated support in the same manner as in Example 1, and the support was used in Example 1
Samples 25 to 35 were prepared by coating a silver halide emulsion layer and a back layer similar to the above. The obtained sample was evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 3.

【0143】 (樹脂B)アクリル系樹脂(II) :メチルアクリレート (樹脂C)アクリル系樹脂(III) :エチルアクリレート (樹脂D)アクリル系樹脂(IV) :メチルメタクリレート 90重量% アクリル酸 10重量% (樹脂E)アクリル系樹脂(V) :エチルメタクリレート 90重量% イタコン酸 10重量% (樹脂F)スチレン系樹脂(I) :スチレン (樹脂G)スチレン系樹脂(II) :スチレン 50重量% ブタジエン 50重量% (樹脂H)ポリエステル系樹脂(I) :テレフタル酸ジメチル 25重量% アジピン酸ジメチル 25重量% エチレングリコール 50重量% (樹脂I)ポリウレタン系樹脂 :ポリウレタン (樹脂J)セルロース樹脂(I) :ニトロセルロース (樹脂K)セルロース樹脂(II) :ジアセチルセルロース (樹脂L)ポリカーボネート樹脂 :ポリカーボネート(Resin B) Acrylic resin (II): Methyl acrylate (Resin C) Acrylic resin (III): Ethyl acrylate (Resin D) Acrylic resin (IV): Methyl methacrylate 90% by weight Acrylic acid 10% by weight (Resin E) Acrylic resin (V): 90% by weight of ethyl methacrylate Itaconic acid 10% by weight (Resin F) Styrene resin (I): Styrene (Resin G) Styrene resin (II): Styrene 50% by weight Butadiene 50 % By weight (Resin H) Polyester resin (I): Dimethyl terephthalate 25% by weight Dimethyl adipate 25% by weight Ethylene glycol 50% by weight (Resin I) Polyurethane resin: Polyurethane (Resin J) Cellulose resin (I): Nitro Cellulose (Resin K) Cellulose resin (II): Diacetylcellulose Scan (resin L) polycarbonate resin: Polycarbonate

【0144】[0144]

【表3】 [Table 3]

【0145】表3の結果から明かなように、本発明の試
料は、写真構成層との接着性が強固であり、現像処理前
後における寸法変化が改良されていることがわかる。
As is clear from the results shown in Table 3, the samples of the present invention have a strong adhesiveness with the photographic constituent layers and have improved dimensional change before and after the development process.

【0146】[0146]

【発明の効果】本発明によると、湿度変化に対して寸法
が安定なシンジオタクチックポリスチレンを写真用支持
体として用いるにあたって、写真構成層との接着性を強
固にし、現像処理前後における寸法変化をも改良された
ハロゲン化銀写真感光材料を提供することができる。
According to the present invention, when the syndiotactic polystyrene, which is dimensionally stable against humidity change, is used as a photographic support, the adhesiveness with the photographic constituent layers is strengthened and the dimensional change before and after the development process is suppressed. Can provide an improved silver halide photographic light-sensitive material.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 シンジオタクチックポリスチレンを主成
分とする写真用フィルム支持体上の少なくとも一方の側
に、溶解度パラメーター(SP値)が8.0〜9.8の
溶剤と樹脂を含有する塗布液を塗設した下引層を有し、
該下引層の上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
1. A coating liquid containing a solvent having a solubility parameter (SP value) of 8.0 to 9.8 and a resin on at least one side of a photographic film support containing syndiotactic polystyrene as a main component. Having an undercoat layer coated with,
A silver halide photographic light-sensitive material comprising at least one silver halide emulsion layer on the undercoat layer.
【請求項2】 前記溶剤の溶解度パラメータが8.5〜
9.7であることを特徴とする請求項1記載のハロゲン
化銀写真感光材料。
2. The solubility parameter of the solvent is 8.5 to
2. The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1, which is 9.7.
【請求項3】 前記溶剤を塗布液中の全溶剤に対して1
0体積%以上含有することを特徴とする請求項1または
2記載のハロゲン化銀写真感光材料。
3. The solvent is 1 for all the solvents in the coating liquid.
The silver halide photographic light-sensitive material according to claim 1 or 2, wherein the content is 0% by volume or more.
【請求項4】 前記下引層を構成する樹脂が、アクリル
系、スチレン系及びポリエステル系から選ばれる少なく
とも1種を共重合成分として含有することを特徴とする
請求項1〜3のいずれか1項記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
4. The resin constituting the undercoat layer contains at least one selected from an acrylic type, a styrene type and a polyester type as a copolymerization component. A silver halide photographic light-sensitive material as described in the above item.
【請求項5】 前記支持体の表面を表面張力45dyn
e/cm以上に表面処理した後に、前記下引層を塗設す
ることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の
ハロゲン化銀写真感光材料。
5. The surface tension of the surface of the support is 45 dyn.
The silver halide photographic light-sensitive material according to any one of claims 1 to 4, wherein the undercoat layer is coated after surface treatment to e / cm or more.
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