JPH0968412A - Method and apparatus for inspecting through hole plate - Google Patents

Method and apparatus for inspecting through hole plate

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JPH0968412A
JPH0968412A JP7246632A JP24663295A JPH0968412A JP H0968412 A JPH0968412 A JP H0968412A JP 7246632 A JP7246632 A JP 7246632A JP 24663295 A JP24663295 A JP 24663295A JP H0968412 A JPH0968412 A JP H0968412A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable highly accurate judgment of the degree of unevenness of light transmissivity as caused by abnormality in the dimension of a through hole by presenting the difference between the maximum value and a mean value in variations per standardization data area group generated from a contrast data of an image taken. SOLUTION: Light of a light source 44 passes through a diffusion plate 43 and a through hole of a shadow mask SM and a through hole area SMe to which the light is exposed from an opening 45a is taken by a CCD camera 49. An image data Di obtained is taken as contrast data as density value of an image by an image processor 54 through a camera controller 62. A low frequency portion thereof is removed to generate a standardization data. As the standardization data indicates the unevenness of the light transmissivity caused by abnormality in the dimension of the through hole, the standardization data is scanned for each specified area group to compute the degree of variations of the data for each area and a difference is presented 52 between the maximum value and a mean value computed. Thus, the degree of variations in the data can be recognized with an emphasis thereby enabling highly accurate judgment of the degree of the unevenness of the light transmissivity.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、多数の透孔が概周
期的に配列された透孔板について、透孔の寸法異常に起
因して生じる光透過率のムラを検査する透孔板の検査方
法および検査装置に関し、特にカラーブラウン管用のシ
ャドウマスクや液晶表示パネル用カラーフィルタ等の透
孔板を検査する検査方法および検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a through-hole plate in which a large number of through-holes are arranged in a substantially periodic manner, for inspecting unevenness of light transmittance caused by dimensional abnormality of the through-hole. The present invention relates to an inspection method and an inspection apparatus, and particularly to an inspection method and an inspection apparatus for inspecting a through-hole plate such as a shadow mask for a color CRT or a color filter for a liquid crystal display panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般にシャドウマスクは、フォトエッチ
ング法を用いて金属薄板に多数の透孔を概周期的に配列
させて形成することにより製造される。このシャドウマ
スクの製造方法は、金属薄板の主面に耐エッチング性を
有するレジストを塗布して、金属薄板の主面にレジスト
膜を形成するコーティング工程と、シャドウマスクの電
子ビーム通過孔等に対応する所定のパターンを有するパ
ターン板を介してレジスト膜に光を照射して、レジスト
膜に所定のパターンを焼き付ける焼付工程と、所定のパ
ターンが焼き付けられたレジスト膜に現像液を供給し
て、レジスト膜の所定部分を溶解除去しレジスト膜を所
定のパターンに形成すると共に金属薄板のエッチングさ
れるべき主面を露出させる現像工程と、所定のパターン
に形成されたレジスト膜を有する金属薄板にエッチング
液を供給して、レジスト膜に覆われていない金属薄板の
露出した主面をエッチングして電子ビーム通過孔である
多数の透孔を形成するエッチング工程とからなる。
2. Description of the Related Art Generally, a shadow mask is manufactured by forming a large number of through holes in a thin metal plate by a photo-etching method so as to be arranged almost periodically. This shadow mask manufacturing method corresponds to the coating step of applying a resist having etching resistance to the main surface of the metal thin plate to form a resist film on the main surface of the metal thin plate, and the electron beam passage hole of the shadow mask. By irradiating the resist film with light through a pattern plate having a predetermined pattern, a baking step of baking a predetermined pattern on the resist film, and supplying a developing solution to the resist film on which the predetermined pattern has been baked, A developing step of dissolving and removing a predetermined portion of the film to form a resist film in a predetermined pattern and exposing the main surface of the metal thin plate to be etched, and an etching solution for the metal thin plate having the resist film formed in the predetermined pattern Is supplied to etch the exposed main surface of the thin metal plate that is not covered with the resist film, thereby forming a large number of electron beam passage holes. Consisting of an etching step for forming a through hole.

【0003】上述のコーティング工程において金属薄板
の主面にレジストが均一に塗布されず主面に形成された
レジスト膜の膜厚が不均一な場合や、エッチング工程に
おいて金属薄板の有するレジスト膜にエッチング液が均
一に供給されない場合、金属薄板に形成された多数の透
孔に局所的な寸法異常が発生する。
In the above coating process, when the resist is not uniformly applied to the main surface of the metal thin plate and the film thickness of the resist film formed on the main surface is not uniform, or when the resist film of the metal thin plate is etched in the etching process. If the liquid is not uniformly supplied, local dimensional abnormalities occur in a large number of through holes formed in the thin metal plate.

【0004】この局所的な透孔の寸法異常を検査する手
法として、透孔の形状や孔径等の寸法異常に起因した光
透過率のムラを検査する手法が採られている。具体的に
説明すると、図11に示すように、まず、シャドウマス
クSMを検査員が手で持ち、このシャドウマスクSM
を、光源(図示省略)を内蔵したライトテーブル202
の透光性の傾斜テーブル面204の手前に配置する。そ
して、光源の光を傾斜テーブル面204を経てシャドウ
マスクSMに照射し、シャドウマスクSMを図中に矢印
で示すように揺らしつつ、シャドウマスクSMを目視す
る。この際、シャドウマスクSMに透孔の形状や孔径等
の寸法異常が局所的に起きていれば、検査員により透孔
を通過する光透過率のムラとして認識され、このムラが
許容される範囲であるか否かを過去の経験から判別して
良品のシャドウマスクと不良品のシャドウマスクとが選
別される。透孔の寸法異常に起因した光透過率のムラと
しては、シャドウマスクSMの全面に亘って光の濃淡ム
ラ(光透過率のムラ)が点在する全体ムラや、濃淡ムラ
が部分的に散在する部分ムラ,縦或いは横方向に濃淡ム
ラが筋状に生じる筋ムラ等がある。
As a method for inspecting the local dimensional abnormality of the through hole, a method for inspecting unevenness of the light transmittance due to the dimensional abnormality such as the shape and the hole diameter of the through hole is adopted. More specifically, as shown in FIG. 11, first, an inspector holds the shadow mask SM by hand,
A light table 202 having a built-in light source (not shown)
It is arranged in front of the translucent inclined table surface 204. Then, the light of the light source is irradiated onto the shadow mask SM through the inclined table surface 204, and the shadow mask SM is visually observed while being swayed as indicated by an arrow in the drawing. At this time, if a dimensional abnormality such as the shape of the through hole or the hole diameter locally occurs in the shadow mask SM, it is recognized by the inspector as unevenness of the light transmittance passing through the through hole, and this unevenness is allowed. Based on past experience, it is determined whether the shadow mask is a good shadow mask or a defective shadow mask. As the unevenness of the light transmittance caused by the dimensional abnormality of the through holes, the unevenness of the light and shade of the light (unevenness of the light transmittance) is scattered over the entire surface of the shadow mask SM, and the unevenness of the light and shade is partially scattered. There is partial unevenness, streak unevenness in which light and shade unevenness occurs in the vertical or horizontal direction.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た検査では、検査員の目視判別による都合上、以下のよ
うな問題があった。
However, the above-mentioned inspection has the following problems due to the visual judgment of the inspector.

【0006】検査員は、上述の光透過率のムラに加え、
透孔を通過した分の光量の光そのものをも見ることにな
る。また、検査に際して、限度見本たる良品のシャドウ
マスクSMについて起きるムラと検査対象のシャドウマ
スクSMについて起きるムラとを常時見比べるわけでは
なく、経験的に認識している限度見本のシャドウマスク
SMのムラとの対比を、検査対象のシャドウマスクSM
のムラのみを目視しながら行なっていた。よって、限度
見本と検査対象のシャドウマスクSMのムラの対比を経
た良否判別に、高度の熟練と相当の経験が必要であっ
た。また、熟練の程度や経験がほぼ同一であっても、検
査員の個人差や健康状態等により、良否判別がばらつく
ことがあった。
In addition to the above-mentioned unevenness of light transmittance, the inspector
You will also see the amount of light that has passed through the through holes. Further, in the inspection, it is not always necessary to compare the unevenness occurring in the non-defective shadow mask SM, which is a limit sample, with the unevenness occurring in the shadow mask SM to be inspected. Of the shadow mask SM to be inspected
It was done while visually observing only the unevenness. Therefore, a high level of skill and considerable experience are required to determine the quality by comparing the unevenness of the limit sample and the shadow mask SM to be inspected. Even if the level of skill and experience are almost the same, the quality judgment may vary due to individual differences among the inspectors and the health condition.

【0007】また、シャドウマスクSMにおいて透孔が
形成されている透孔領域のほぼ全域に亘って光量分布が
ほぼ一様な場合には、ムラの良否判別に次のように問題
があった。限度見本との対比判別には、その判別の根拠
となる限度見本を用意しておくことが不可欠であるが、
限度見本の用意には限界がある。これは、ムラの発生の
仕方は、上記した各工程での品質や原材料たる金属薄板
の組成に影響されるため一様ではないからである。よっ
て、限度見本の制約から、全体的に光量分布がほぼ一様
でムラが良好なシャドウマスクSMに僅かな濃淡ムラが
あるような場合には、上記の全体ムラ等が良品のシャド
ウマスクSMとの単純な対比判別では、そのシャドウマ
スクSMは良品とされることがある。しかし、このよう
なシャドウマスクSMは、高品質のブラウン管にあって
は不良品とされることがあり、検査員の目視による良品
との対比判別だけでは不十分な場合があった。
Further, when the light amount distribution is substantially uniform over the entire area of the through hole in the shadow mask SM where the through hole is formed, there is the following problem in determining the quality of unevenness. It is indispensable to prepare the limit sample that is the basis of the judgment in order to judge the contrast with the limit sample.
There is a limit to the preparation of the limit sample. This is because the manner of occurrence of unevenness is not uniform because it is affected by the quality in each of the above-mentioned steps and the composition of the metal thin plate as a raw material. Therefore, due to the limitation of the limit sample, in the case where the shadow mask SM having a substantially uniform light amount distribution and good unevenness has a slight unevenness in light and shade, the above-described overall unevenness is a good shadow mask SM. In the simple contrast determination of, the shadow mask SM may be a good product. However, such a shadow mask SM may be a defective product in a high-quality cathode-ray tube, and in some cases it may not be sufficient to simply make a visual inspection by an inspector to make a comparison with a non-defective product.

【0008】本発明は、上記問題点を解決するためにな
され、シャドウマスク等の透孔板の透孔の寸法異常に起
因して生じる光透過率のムラの良否判別の信頼性を向上
させることを目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and improves the reliability in determining the quality of unevenness in the light transmittance caused by the dimensional abnormality of the through holes of a through hole plate such as a shadow mask. With the goal.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段およびその作用・効果】か
かる課題を解決するため、第1の発明の透孔板の検査方
法は、多数の透孔が概周期的に配列された透孔板につい
て、透孔の寸法異常に起因して生じる光透過率のムラを
検査する透孔板の検査方法において、前記透孔板にその
一方の主面側から光を照射して前記透孔板を他方の主面
側から撮像し、該撮像画像の階調データを求める撮像工
程と、前記階調データに属する個々のデータの分布に表
われる低周波成分を除去し、前記階調データから規格化
データを生成する低周波除去工程と、該規格化データを
所定の領域群ごとに走査し、該領域群に属する個々のデ
ータのばらつきの度合いを前記領域群ごとに演算するば
らつき演算工程と、前記領域群ごとに求めた前記ばらつ
きの度合いの最大値と平均値とを演算し、該演算した最
大値と平均値との差を提示する提示工程と、を有する。
Means for Solving the Problems and Their Actions / Effects In order to solve such problems, the inspection method for a through-hole plate according to the first aspect of the present invention relates to a through-hole plate in which a large number of through-holes are arranged almost periodically. In the inspection method of a through-hole plate for inspecting unevenness of light transmittance caused by dimensional abnormality of the through-hole, the through-hole plate is irradiated with light from one main surface side of the through-hole plate to the other side. Image pickup step of obtaining the gradation data of the picked-up image by removing the low-frequency component appearing in the distribution of the individual data belonging to the gradation data, and the normalized data from the gradation data. A low-frequency removing step for generating a standardized data for each predetermined area group, and a dispersion calculating step for calculating the degree of dispersion of individual data belonging to the area group for each area group; Maximum degree of variation obtained for each group And it calculates an average value, having a presentation step of presenting the difference between the maximum value and the average value the calculation.

【0010】また、上述の課題を解決するため、第2の
発明の透孔板の検査装置は、多数の透孔が概周期的に配
列された透孔板について、透孔の寸法異常に起因して生
じる光透過率のムラを検査する透孔板の検査装置におい
て、前記透孔板を支持し、該支持された透孔板にその一
方の主面側から光を照射する照射手段と、該光の照射さ
れた前記透孔板を他方の主面側から撮像し、該撮像画像
の階調データを求める撮像手段と、前記階調データに属
する個々のデータの分布に表われる低周波成分を除去
し、前記階調データから規格化データを生成する低周波
除去手段と、該規格化データを所定の領域群ごとに走査
し、該領域群に属する個々のデータのばらつきの度合い
を前記領域群ごとに演算するばらつき演算手段と、前記
領域群ごとに求めた前記ばらつきの度合いの最大値と平
均値とを演算し、該演算した最大値と平均値との差を提
示する提示手段と、を有する。
In order to solve the above-mentioned problems, the inspection device for a through hole plate according to the second aspect of the present invention is based on a through hole size abnormality in a through hole plate in which a large number of through holes are arranged almost periodically. In the inspection device of the through-hole plate for inspecting the unevenness of the light transmittance that occurs, an irradiation unit that supports the through-hole plate and irradiates the supported through-hole plate with light from one main surface side thereof, Imaging means for imaging the light-transmitted aperture plate from the other main surface side to obtain gradation data of the captured image, and low frequency components appearing in the distribution of individual data belonging to the gradation data. And a low-frequency removing unit that generates standardized data from the gradation data, and the standardized data is scanned for each predetermined area group, and the degree of variation of individual data belonging to the area group is determined by the area. Variation calculation means for calculating each group, and obtained for each area group It calculates the maximum value of the degree of serial variation and the mean value, having a presenting means for presenting the difference between the maximum value and the average value the calculation.

【0011】上記構成を有する第1の発明の透孔板の検
査方法又は第2の発明の透孔板の検査装置では、透孔板
の一方の主面から光を照射して光を透孔から通過させ
る。これにより、透孔板の透孔からは光が透過し、透孔
板の他方の主面側では、透孔の配置の密度に倣って明暗
の分布が得られる。この明暗の分布は、透孔板の撮像を
経て、画素の濃度値である階調データとして捕らえられ
る。
In the inspection method for a through-hole plate according to the first invention or the inspection device for a through-hole plate according to the second invention, which has the above-mentioned structure, light is emitted from one main surface of the through-hole plate to transmit the light. To pass through. Thereby, light is transmitted through the through holes of the through hole plate, and a light-dark distribution is obtained on the other main surface side of the through hole plate according to the density of the arrangement of the through holes. This distribution of brightness and darkness is captured as gradation data, which is the density value of a pixel, through the imaging of the through-hole plate.

【0012】そして、この階調データは、低周波成分の
除去を受けて、これに属する個々のデータの分布に表わ
れる低周波成分が除去され、規格化データとされる。こ
の規格化データでは、上記の低周波成分の除去により、
低周波成分たるデータ分布、即ち、透孔板の透孔の配置
の密度に倣った明暗の緩やかな分布は除去され、透孔の
寸法異常に起因して生じた光透過率のムラが表われる。
この規格化データに表われた光透過率のムラは、規格化
データの所定の領域群ごとの走査により領域群ごとに捕
らえられ、領域群ごとに演算されたデータのばらつきの
度合いに反映する。つまり、透孔板に表われた光透過率
のムラは、所定の領域群ごとのムラとして把握され、且
つ、その領域群ごとのデータのばらつき度合いとされ
る。そして、光透過率のムラが僅かに濃淡が相違するム
ラであっても、領域群ではそのデータ領域が狭くなるこ
とから、データのばらつきの度合いとしては強調され
る。その一方、領域群ごとに求めたばらつきの度合いの
平均値は、この領域群で走査した透孔板についてのムラ
の指標となる。よって、領域群ごとに求めたばらつきの
度合いの最大値と平均値との差を提示することで、デー
タのばらつきの度合いの程度を強調して認識できるの
で、光透過率のムラの程度を精度よく判別することが可
能となる。
Then, the gradation data is subjected to the removal of the low frequency component, and the low frequency component appearing in the distribution of the individual data belonging to this is removed to be standardized data. In this standardized data, by removing the above low frequency components,
The low frequency component data distribution, that is, the gradual distribution of light and dark that follows the density of the arrangement of the through holes of the through plate is removed, and unevenness of the light transmittance caused by the dimensional abnormality of the through holes appears. .
The unevenness of the light transmittance shown in the standardized data is captured for each area group by scanning the predetermined area group of the standardized data, and is reflected in the degree of variation of the data calculated for each area group. That is, the unevenness of the light transmittance shown on the through-hole plate is grasped as the unevenness of each predetermined area group, and is also regarded as the degree of data variation for each area group. Even if the unevenness of the light transmittance is slightly different, the data area is narrowed in the area group, so that the degree of data unevenness is emphasized. On the other hand, the average value of the degree of variation obtained for each region group serves as an index of unevenness of the through-hole plate scanned in this region group. Therefore, by presenting the difference between the maximum value and the average value of the variation degree obtained for each region group, the degree of variation degree of data can be emphasized and recognized, and the degree of unevenness of light transmittance can be accurately determined. It is possible to distinguish well.

【0013】上記の第1の発明の構成において、前記演
算した最大値と前記平均値との差に基づいて検査対象で
ある前記透孔板についての前記ムラの良否判別を下す判
別工程を、前記提示工程に替えて或いは前記提示工程と
共に有する。
In the configuration of the first aspect of the present invention, the determination step of determining whether the unevenness of the through-hole plate to be inspected is good or bad based on the difference between the calculated maximum value and the average value, Instead of the presentation step, or with the presentation step.

【0014】また、上記の第2の発明の構成において、
前記演算した最大値と前記平均値との差に基づいて検査
対象である前記透孔板についての前記ムラの良否判別を
下す判別手段を、前記提示手段に替えて或いは前記提示
手段と共に有する。
Further, in the above-mentioned configuration of the second invention,
The present invention has a judgment means for judging whether the unevenness of the through-hole plate to be inspected is good or bad based on the difference between the calculated maximum value and the average value instead of the presentation means or together with the presentation means.

【0015】これら構成の透孔板の検査方法又は検査装
置では、領域群ごとに求めたばらつきの度合いの最大値
と平均値との差に基づいて透孔板についてのムラの良否
判別を下すので、この判別を、データのばらつきの度合
いの程度としては強調された状態で、且つ、ムラの指標
との差をもってして下すことができる。よって、これら
構成の透孔板の検査方法又は検査装置によれば、透孔の
寸法異常に起因して生じた光透過率のムラを、そのムラ
の濃淡に拘らず精度よく検出することができ、ムラの良
否判別の信頼性を高めることができる。
In the inspection method or inspection apparatus for a through-hole plate having these configurations, it is possible to judge whether the through-hole plate is good or bad based on the difference between the maximum value and the average value of the degree of variation obtained for each region group. The determination can be made in a state in which the degree of variation of data is emphasized and with a difference from the index of unevenness. Therefore, according to the inspection method or the inspection apparatus for a through-hole plate having these configurations, it is possible to accurately detect the unevenness of the light transmittance caused by the dimensional abnormality of the through-hole regardless of the density of the unevenness. Therefore, it is possible to improve the reliability of determining whether the unevenness is good or bad.

【0016】また、上述の課題を解決するため、第3の
発明の透孔板の検査方法は、多数の透孔が概周期的に配
列された透孔板について、透孔の寸法異常に起因して生
じる光透過率のムラを検査する透孔板の検査方法におい
て、前記透孔板にその一方の主面側から光を照射して前
記透孔板を他方の主面側から撮像し、該撮像画像の階調
データを求める撮像工程と、前記階調データに属する個
々のデータの分布に表われる低周波成分を除去し、前記
階調データから規格化データを生成する低周波除去工程
と、該規格化データを所定の領域群ごとに走査し、該領
域群に属する個々のデータのばらつきの度合いを前記領
域群ごとに演算するばらつき演算工程と、前記領域群ご
とに求めた前記ばらつきの度合いの最大値と頻度とを演
算し、該演算した最大値のばらつきの度合いと最大頻度
のばらつきの度合いとの差を提示する提示工程と、を有
する。
In order to solve the above-mentioned problems, the inspection method for a through hole plate according to the third aspect of the present invention is based on an abnormal size of the through hole for the through hole plate in which a large number of through holes are arranged almost periodically. In the inspection method of the through-hole plate for inspecting the unevenness of the light transmittance caused by, the through-hole plate is irradiated with light from the one main surface side thereof, and the through-hole plate is imaged from the other main surface side, An image pickup step of obtaining gradation data of the picked-up image, and a low frequency removal step of removing low frequency components appearing in a distribution of individual data belonging to the gradation data and generating standardized data from the gradation data. , A variation calculation step of scanning the standardized data for each predetermined area group, and calculating the degree of variation of individual data belonging to the area group for each area group, and the variation calculation step for each of the area groups. The maximum value of the degree and the frequency are calculated, and the calculated value is calculated. It has a presentation step of presenting the difference in the degree of variation in the degree and the maximum frequency variation of Daine, the.

【0017】また、上述の課題を解決するため、第4の
発明の透孔板の検査装置は、多数の透孔が概周期的に配
列された透孔板について、透孔の寸法異常に起因して生
じる光透過率のムラを検査する透孔板の検査装置におい
て、前記透孔板を支持し、該支持された透孔板にその一
方の主面側から光を照射する照射手段と、該光の照射さ
れた前記透孔板を他方の主面側から撮像し、該撮像画像
の階調データを求める撮像手段と、前記階調データに属
する個々のデータの分布に表われる低周波成分を除去
し、前記階調データから規格化データを生成する低周波
除去手段と、該規格化データを所定の領域群ごとに走査
し、該領域群に属する個々のデータのばらつきの度合い
を前記領域群ごとに演算するばらつき演算手段と、前記
領域群ごとに求めた前記ばらつきの度合いの最大値と頻
度とを演算し、該演算した最大値のばらつきの度合いと
最大頻度のばらつきの度合いとの差を提示する提示手段
と、を有する。
In order to solve the above-mentioned problems, the inspection device for a through hole plate according to the fourth aspect of the present invention is a through hole plate in which a large number of through holes are arranged in a substantially periodic manner due to an abnormal size of the through holes. In the inspection device of the through-hole plate for inspecting the unevenness of the light transmittance that occurs, an irradiation unit that supports the through-hole plate and irradiates the supported through-hole plate with light from one main surface side thereof, Imaging means for imaging the light-transmitted aperture plate from the other main surface side to obtain gradation data of the captured image, and low frequency components appearing in the distribution of individual data belonging to the gradation data. And a low-frequency removing unit that generates standardized data from the gradation data, and the standardized data is scanned for each predetermined area group, and the degree of variation of individual data belonging to the area group is determined by the area. Variation calculation means for calculating each group, and obtained for each area group Serial calculates the maximum value and frequency of the degree of variation, having a presenting means for presenting the difference in the degree of variation in the degree and the maximum frequency variation of the maximum value the calculation.

【0018】上記構成を有する第3の発明の透孔板の検
査方法又は第4の発明の透孔板の検査装置では、透孔板
の一方の主面から光を照射して光を透孔から通過させ
る。これにより、透孔板の透孔からは光が透過し、透孔
板の他方の主面側では、透孔の配置の密度に倣って明暗
の分布が得られる。この明暗の分布は、透孔板の撮像を
経て、画素の濃度値である階調データとして捕らえられ
る。
In the inspection method for a through-hole plate according to the third invention or the inspection device for a through-hole plate according to the fourth invention, which has the above-described structure, light is emitted from one main surface of the through-hole plate to transmit the light. To pass through. Thereby, light is transmitted through the through holes of the through hole plate, and a light-dark distribution is obtained on the other main surface side of the through hole plate according to the density of the arrangement of the through holes. This distribution of brightness and darkness is captured as gradation data, which is the density value of a pixel, through the imaging of the through-hole plate.

【0019】そして、この階調データは、低周波成分の
除去を受けて、これに属する個々のデータの分布に表わ
れる低周波成分が除去され、規格化データとされる。こ
の規格化データでは、上記の低周波成分の除去により、
低周波成分たるデータ分布、即ち、透孔板の透孔の配置
の密度に倣った明暗の緩やかな分布は除去され、透孔の
寸法異常に起因して生じた光透過率のムラが表われる。
この規格化データに表われた光透過率のムラは、規格化
データの所定の領域群ごとの走査により領域群ごとに捕
らえられ、領域群ごとに演算されたデータのばらつきの
度合いに反映する。つまり、透孔板に表われた光透過率
のムラは、所定の領域群ごとのムラとして把握され、且
つ、その領域群ごとのデータのばらつき度合いとされ
る。そして、光透過率のムラが僅かに濃淡が相違するム
ラであっても、領域群ではそのデータ領域が狭くなるこ
とから、データのばらつきの度合いとしては強調され
る。その一方、領域群ごとに求めたばらつきの度合いの
最大頻度におけるばらつきの度合いは、数多くの領域群
で求められたものであることから、この領域群で走査し
た透孔板についてのムラの指標となる。よって、領域群
ごとに求めたばらつきの度合いの最大値のばらつきの度
合いと最大頻度のばらつきの度合いとの差を提示するこ
とで、データのばらつきの度合いの程度を強調して認識
できるので、光透過率のムラの程度を精度よく判別する
ことが可能となる。
Then, the gradation data is subjected to the removal of the low frequency component, and the low frequency component appearing in the distribution of the individual data belonging to this is removed to be standardized data. In this standardized data, by removing the above low frequency components,
The low frequency component data distribution, that is, the gradual distribution of light and dark that follows the density of the arrangement of the through holes of the through plate is removed, and unevenness of the light transmittance caused by the dimensional abnormality of the through holes appears. .
The unevenness of the light transmittance shown in the standardized data is captured for each area group by scanning the predetermined area group of the standardized data, and is reflected in the degree of variation of the data calculated for each area group. That is, the unevenness of the light transmittance shown on the through-hole plate is grasped as the unevenness of each predetermined area group, and is also regarded as the degree of data variation for each area group. Even if the unevenness of the light transmittance is slightly different, the data area is narrowed in the area group, so that the degree of data unevenness is emphasized. On the other hand, since the degree of variation in the maximum frequency of the degree of variation obtained for each area group is obtained for a large number of area groups, it is used as an index of the unevenness of the through-hole plate scanned in this area group. Become. Therefore, by presenting the difference between the degree of variation of the maximum value of the degree of variation obtained for each region group and the degree of variation of the maximum frequency, it is possible to emphasize and recognize the degree of variation of the data. It is possible to accurately determine the degree of unevenness in the transmittance.

【0020】上記の第3の発明の構成において、前記演
算した最大値のばらつきの度合いと最大頻度のばらつき
の度合いとの差に基づいて検査対象である前記透孔板に
ついての前記ムラの良否判別を下す判別工程を、前記提
示工程に替えて或いは前記提示工程と共に有する。
In the configuration of the third aspect of the invention, the quality of the unevenness of the through-hole plate to be inspected is determined based on the difference between the calculated degree of variation of the maximum value and the degree of variation of the maximum frequency. It has a discriminating step of replacing the presenting step or together with the presenting step.

【0021】また、上記の第4の発明の構成において、
前記演算した最大値のばらつきの度合いと最大頻度のば
らつきの度合いとの差に基づいて検査対象である前記透
孔板についての前記ムラの良否判別を下す判別手段を、
前記提示手段に替えて或いは前記提示手段と共に有す
る。
Further, in the configuration of the above-mentioned fourth invention,
A discriminating means for discriminating the quality of the unevenness of the through-hole plate to be inspected based on the difference between the degree of variation of the calculated maximum value and the degree of variation of the maximum frequency,
Instead of the presenting means or together with the presenting means.

【0022】これら構成の透孔板の検査方法又は検査装
置では、領域群ごとに求めたばらつき度合いの最大値の
ばらつきの度合いと最大頻度のばらつきの度合いとの差
に基づいて透孔板についてのムラの良否判別を下すの
で、この判別を、データのばらつきの度合いの程度とし
ては強調された状態で、且つ、ムラの指標との差をもっ
てして下すことができる。よって、これら構成の透孔板
の検査方法又は検査装置によれば、透孔の寸法異常に起
因して生じた光透過率のムラを、そのムラの濃淡に拘ら
ず精度よく検出することができ、ムラの良否判別の信頼
性を高めることができる。
In the inspection method or inspection apparatus for a through-hole plate having these configurations, the through-hole plate is detected based on the difference between the degree of variation in the maximum value of the degree of variation obtained for each region group and the degree of variation in the maximum frequency. Since the quality of the unevenness is determined, this determination can be made in a state in which the degree of the variation of the data is emphasized and with a difference from the index of the unevenness. Therefore, according to the inspection method or the inspection apparatus for a through-hole plate having these configurations, it is possible to accurately detect the unevenness of the light transmittance caused by the dimensional abnormality of the through-hole regardless of the density of the unevenness. Therefore, it is possible to improve the reliability of determining whether the unevenness is good or bad.

【0023】[0023]

【発明の他の態様】上記した発明は、以下のような他の
態様を採ることも可能である。第1の態様は、上記の発
明において、前記階調データに属する個々のデータの分
布に表われる低周波成分を除去し、前記階調データから
の規格化データの生成を、前記階調データをm行n列
(m,nは、自然数)のフィルタウィンドを有するメデ
ィアンフィルタにより平滑化して平滑化データを求め、
前記階調データを前記平滑化データで除算して前記規格
化データを生成することでなす。
Other Embodiments of the Invention The above-mentioned invention can also adopt the following other embodiments. According to a first aspect, in the above invention, low-frequency components appearing in a distribution of individual data belonging to the grayscale data are removed, and standardization data is generated from the grayscale data by using the grayscale data. smoothing is performed by a median filter having a filter window of m rows and n columns (m and n are natural numbers) to obtain smoothed data,
The gradation data is divided by the smoothed data to generate the standardized data.

【0024】この第1の態様では、階調データに属する
個々のデータの分布に表われる低周波成分の除去をメデ
ィアンフィルタによる平滑化により効果的に行ない、当
該低周波成分が除去された平滑化データとする。そし
て、この平滑化データでの階調データの除算を経て、低
周波成分たるデータ分布、透孔板の透孔の配置の密度に
倣った明暗の緩やかな分布は除去され、規格化データに
透孔の寸法異常に起因して生じた光透過率のムラを表わ
す。よって、この第1の態様によっても、透孔の寸法異
常に起因して生じた光透過率のムラを、そのムラの濃淡
に拘らず精度よく検出することができ、ムラの良否判別
の信頼性を高めることができる。
In the first mode, the low-frequency components appearing in the distribution of individual data belonging to the gradation data are effectively removed by the smoothing by the median filter, and the low-frequency components are removed and smoothed. Data. After the gradation data is divided by this smoothed data, the low-frequency component data distribution and the gentle distribution of light and dark that follows the density of the arrangement of the through holes in the through-hole plate are removed, and the normalized data is transparent. It represents the unevenness of the light transmittance caused by the dimensional abnormality of the holes. Therefore, according to the first aspect as well, it is possible to accurately detect the unevenness of the light transmittance caused by the dimensional abnormality of the through hole regardless of the density of the unevenness, and the reliability of the determination of the goodness of the unevenness is high. Can be increased.

【0025】また、第2の態様は、上記の第2の発明と
第4の発明の構成において、前記演算手段は、前記規格
化データの前記領域群ごとの走査を、一部範囲で前記領
域群が重なるよう行なう手段を有する。
According to a second aspect of the present invention, in the configuration of the above-mentioned second and fourth inventions, the calculating means scans the standardized data for each area group in a partial range of the area. It has a means for making the groups overlap.

【0026】この第2の態様の検査装置によれば、領域
群が重ならないよう規格化データの走査を行なった場合
にこの前後の領域群に跨って光透過率のムラが存在した
場合であっても、このムラを精度よく検出することがで
き、ムラの良否判別の信頼性をより高めることができ
る。
According to the inspection apparatus of the second aspect, when the standardized data is scanned so that the area groups do not overlap with each other, unevenness in the light transmittance exists across the area groups before and after the area data. However, the unevenness can be accurately detected, and the reliability of the quality determination of the unevenness can be further improved.

【0027】また、第3の態様は、上記の第2の発明と
第4の発明の構成において、前記演算手段は、前記規格
化データを走査する際の前記領域群のサイズを、前記ム
ラの種別に応じて設定する領域群設定手段を有する。
Further, in a third aspect based on the configurations of the second and fourth inventions, the arithmetic means determines the size of the area group when the standardized data is scanned as the unevenness. It has area group setting means for setting according to the type.

【0028】この第3の態様の検査装置によれば、光透
過率のムラの種別によらず当該ムラを、データのばらつ
きの度合いの程度が効果的に強調されるよう領域群に含
ませることができる。例えば、光透過率のムラが透孔板
のほぼ全面に点在する全体ムラや部分的に散在する部分
ムラにあっては、ムラの発生箇所においてそのムラが含
まれる正方サイズ(a行×a列;aは自然数)或いは長
方サイズ(b行×c列;b,cは自然数)の領域群とで
きる。また、光透過率のムラが縦方向に筋状に生じた縦
ムラにあっては、ムラの発生方向に沿った側を長辺とす
る長方サイズ(d行×e列;d,eは自然数でd<e)
の領域群で、その縦ムラの発生箇所において縦ムラを効
果的に含むことができる。また、光透過率のムラが横方
向に筋状に生じた横ムラにあっては、ムラの発生方向に
沿った側を長辺とする長方サイズ(f行×g列;f,g
は自然数でf>g)の領域群で、その横ムラの発生箇所
において横ムラを効果的に含むことができる。このた
め、これら構成の透孔板の検査装置によれば、ムラの種
別に拘らずムラを精度よく検出することができ、ムラの
良否判別の信頼性をより高めることができる。
According to the inspection apparatus of the third aspect, regardless of the type of unevenness of light transmittance, the unevenness is included in the region group so that the degree of the variation of the data is effectively emphasized. You can For example, in the case where the unevenness of the light transmittance is scattered over almost the entire surface of the through-hole plate or the partial unevenness is partially scattered, a square size (a row × a Columns; a is a natural number) or rectangular size (b rows × c columns; b and c are natural numbers) region groups. Further, in the case of vertical unevenness in which the unevenness of the light transmittance occurs in the vertical direction, a rectangular size with the side along the direction of occurrence of the unevenness as the long side (d row × e column; d, e is Natural number d <e)
In the area group, the vertical unevenness can be effectively included at the location where the vertical unevenness occurs. Further, in the case of lateral unevenness in which unevenness of the light transmittance is generated in a stripe pattern in the lateral direction, a rectangular size having the long side on the side in which the unevenness occurs (f row × g column; f, g
Is a group of regions of natural number f> g), and lateral unevenness can be effectively included at the location where the lateral unevenness occurs. Therefore, according to the inspection device for a through-hole plate having these configurations, it is possible to detect unevenness with high accuracy regardless of the type of unevenness, and it is possible to further enhance the reliability in determining whether the unevenness is good or bad.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態をシャ
ドウマスクの検査装置の実施例に基づき説明する。ま
ず、この実施例のシャドウマスク検査装置30の外観構
成について説明する。図1の正面図に示すように、シャ
ドウマスク検査装置30は、シャドウマスクSMを撮像
し画像データを得るための光学測定装置40と、画像デ
ータに基づき種々のデータ処理を行なうデータ処理装置
50とで構成されている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, an embodiment of the present invention will be described based on an embodiment of a shadow mask inspection apparatus. First, the external structure of the shadow mask inspection apparatus 30 of this embodiment will be described. As shown in the front view of FIG. 1, a shadow mask inspection device 30 includes an optical measuring device 40 for capturing an image of a shadow mask SM and obtaining image data, and a data processing device 50 for performing various data processing based on the image data. It is composed of.

【0030】光学測定装置40は、定盤41を備え、こ
の定盤41の上面には照明光を通過させるための開口が
ほぼ中央に形成されている。また、定盤41の上面に
は、光を拡散して透過する拡散板43(例えば、ガラス
板,プラスティック板等)が載置されており、拡散板4
3の下方には、光源44が配置されている。この光源4
4としては、例えば高周波点灯型の蛍光灯が使用され
る。なお、拡散板43の上面には、マスク板45が載置
され、このマスク板45にシャドウマスクSMが粘着テ
ープ等により密着・固定される。
The optical measuring device 40 is provided with a surface plate 41, and an opening for allowing illumination light to pass therethrough is formed at the center of the upper surface of the surface plate 41. A diffusion plate 43 (for example, a glass plate or a plastic plate) that diffuses and transmits light is placed on the upper surface of the surface plate 41.
A light source 44 is disposed below the light source 3. This light source 4
As 4, a high-frequency lighting fluorescent lamp is used, for example. A mask plate 45 is placed on the upper surface of the diffusion plate 43, and the shadow mask SM is attached and fixed to the mask plate 45 with an adhesive tape or the like.

【0031】定盤41からは、上方に伸びるスタンド支
持アーム46が立設されており、スタンド支持アーム4
6には、カメラ保持ビーム47がいわゆる片持ちで設け
られている。また、カメラ保持ビーム47は、スタンド
支持アーム46に図示しない調整機構により調整自在に
取り付けられいるので、カメラ保持ビーム47とCCD
カメラ49とを一体に上下方向(図中Z方向)に移動さ
せることができる。また、CCDカメラ49は、カメラ
保持ビーム47に調整自在に取り付けられ、CCDカメ
ラ49を左右方向(図中X方向)に移動させることがで
きる。このため、種々のサイズのシャドウマスクの撮像
すべき領域とCCDカメラ49の撮像領域とが一致する
ようにCCDカメラ49を上下、左右に移動させること
ができる。
A stand support arm 46 extending upward is erected from the surface plate 41, and the stand support arm 4 is provided.
6, a camera holding beam 47 is provided so-called cantilever. Further, since the camera holding beam 47 is attached to the stand supporting arm 46 so as to be adjustable by an adjustment mechanism (not shown), the camera holding beam 47 and the CCD.
The camera 49 and the camera 49 can be moved together in the vertical direction (Z direction in the drawing). Further, the CCD camera 49 is adjustably attached to the camera holding beam 47, and the CCD camera 49 can be moved in the left-right direction (X direction in the drawing). Therefore, the CCD camera 49 can be moved vertically and horizontally so that the areas to be imaged by the shadow masks of various sizes and the imaging area of the CCD camera 49 coincide with each other.

【0032】CCDカメラ49は、CCD素子を二次元
配置したCCDカメラであり、画像の濃淡を濃淡レンジ
で10ビットのデジタル出力が可能である。なお、CC
Dカメラ49からは、1,534 画素×1,024 画素の画像を
取得することができる。
The CCD camera 49 is a CCD camera in which CCD elements are two-dimensionally arranged, and is capable of digitally outputting 10 bits of light and shade of an image in a light and shade range. Note that CC
An image of 1,534 pixels × 1,024 pixels can be acquired from the D camera 49.

【0033】データ処理装置50は、後述する画像を表
示するディスプレイ52と、種々の画像処理を行う画像
処理装置54と、CCDカメラ49のゲインおよびシャ
ッタースピードを制御するカメラ制御装置62とを備え
ている。
The data processing device 50 comprises a display 52 for displaying an image to be described later, an image processing device 54 for performing various image processings, and a camera control device 62 for controlling the gain and shutter speed of the CCD camera 49. There is.

【0034】次にシャドウマスク検査装置30の電気的
構成について、図2のブロック図を用いて説明する。光
源44から出射された光は、拡散板43と、シャドウマ
スクSMの透孔とを順次通過してCCDカメラ49に入
射する。この際、マスク板45にシャドウマスクSMが
密着・固定され、シャドウマスクSMの透孔が形成され
た領域である透孔領域SMeはマスク板45の開口45
aから露出し、透孔が形成されていないシャドウマスク
SMの周辺領域はマスクされる。よって、CCDカメラ
49は、透孔領域SMeに関してシャドウマスクSMを
撮像し、その2次元に配列された濃淡画像(多値画像)
の画像データDiとして得る。この画像データDiは、
カメラ制御装置62を介して画像処理装置54に取り込
まれ、後述する画像処理が施された後、種々の画像がデ
ィスプレイ52に表示される。
Next, the electrical configuration of the shadow mask inspection apparatus 30 will be described with reference to the block diagram of FIG. The light emitted from the light source 44 sequentially passes through the diffusion plate 43 and the through hole of the shadow mask SM and enters the CCD camera 49. At this time, the shadow mask SM is brought into close contact with and fixed to the mask plate 45, and the through hole region SMe, which is a region where the through hole of the shadow mask SM is formed, is the opening 45 of the mask plate 45.
The peripheral region of the shadow mask SM exposed from a and having no through hole is masked. Therefore, the CCD camera 49 images the shadow mask SM with respect to the through hole area SMe, and the two-dimensionally arranged grayscale image (multivalued image).
Image data Di. This image data Di is
After being captured by the image processing device 54 via the camera control device 62 and subjected to image processing described later, various images are displayed on the display 52.

【0035】画像処理装置54は、予め登録されたプロ
グラムによって様々な処理を行なう汎用型の高速画像処
理装置であり、種々の画像処理等のほか予め定められた
他の処理を行なうCPU66と、画像データDi等のデ
ータの一時的な記憶を行うRAM等の主記憶装置68
と、データの入力のためのキーボード70と、画像デー
タDi等のデータを保存する補助記憶装置72、例えば
フレキシブルディスク装置等と、検査結果等の打ち出し
用のプリンタ74とを備えており、これらは互いにバス
ライン64を介して接続されている。また、この画像処
理装置54のバスライン64には、カメラ制御装置62
とディスプレイ52とが接続されている。
The image processing device 54 is a general-purpose high-speed image processing device that performs various processes according to a pre-registered program, and a CPU 66 that performs various other image processes and other predetermined processes, and an image. Main storage device 68 such as RAM for temporarily storing data such as data Di
A keyboard 70 for inputting data, an auxiliary storage device 72 for storing data such as image data Di, such as a flexible disk device, and a printer 74 for issuing inspection results and the like. They are connected to each other via a bus line 64. In addition, the camera control device 62 is connected to the bus line 64 of the image processing device 54.
And the display 52 are connected.

【0036】次に、本実施例のシャドウマスク検査装置
30が行なうムラの検査処理について、図3以降のフロ
ーチャート等を用いて説明する。
Next, the unevenness inspection process performed by the shadow mask inspection apparatus 30 of this embodiment will be described with reference to the flowcharts of FIG.

【0037】図3のフローチャートは、本実施例にて行
なうシャドウマスクSMのムラの検査処理の概要を示し
ており、当該処理が開始されると以降の処理を行なう上
で必要な初期化を行なう(ステップS100)。例え
ば、検査開始初期画面のディスプレイ52への表示,後
述の処理にて用いるメモリ領域のクリア等を行なう。
The flow chart of FIG. 3 shows an outline of the unevenness inspection processing of the shadow mask SM performed in this embodiment. When the processing is started, initialization necessary for performing the subsequent processing is performed. (Step S100). For example, the inspection start initial screen is displayed on the display 52, and the memory area used in the process described later is cleared.

【0038】この初期化を行なうと、ディスプレイ52
には初期設定画面が表示され、それ以降の検査処理の過
程において必要となる種々の項目(初期設定項目)の入
力箇所は、この初期設定画面ではデータ未入力のままで
ある。
When this initialization is performed, the display 52
An initial setting screen is displayed on the screen, and the input locations of various items (initial setting items) required in the process of the subsequent inspection processing remain uninput on the initial setting screen.

【0039】ステップS100に続いては、検査の過程
において必要となる種々の項目について初期設定を行な
う(ステップS110)。この初期設定では、初期化処
理にてデータ未入力のまま表示された初期設定画面の初
期設定項目に順次データを入力する。つまり、初期設定
処理の詳細処理を表わした図4のフローチャートに示す
ように、検査結果の出力ファイル名(ステップS11
1),検査対象のシャドウマスクSMをマスクするため
に用いるマスク板45のマスクタイプ(ステップS11
2),検査員名(ステップS113)を順次入力する。
これらは、検査終了後に表示或いはプリントアウトする
検査結果に掲載される。なお、出力ファイルは、検査結
果を検査対象のシャドウマスクSMごとに保存するため
のファイルであり、そのデータフォーマットは、検査対
象のシャドウマスクSMのサンプルID(例えば、製造
シリアル番号),検査員名,検査日等を保存できるよう
構築されている。
Subsequent to step S100, various items required in the inspection process are initialized (step S110). In this initial setting, data is sequentially input to the initial setting items on the initial setting screen that is displayed with no data input in the initialization process. That is, as shown in the flowchart of FIG. 4 showing the detailed processing of the initialization processing, the output file name of the inspection result (step S11
1), the mask type of the mask plate 45 used for masking the shadow mask SM to be inspected (step S11
2), The inspector name (step S113) is sequentially input.
These are posted on the inspection result displayed or printed out after the inspection is completed. The output file is a file for storing the inspection result for each shadow mask SM to be inspected, and the data format thereof is the sample ID (for example, manufacturing serial number) of the shadow mask SM to be inspected and the inspector name. , It is constructed so that the inspection date etc. can be saved.

【0040】これら入力が完了すると、検査開始スイッ
チが押圧されるまで待機し(ステップS114)、検査
が開始されれば、出力ファイルをオープンして(ステッ
プS115)、検査結果の出力に備える。なお、この出
力ファイルには、後述のムラについての判別結果等が出
力され、当該データは保存される。その後は、入力され
た出力ファイル名等の初期設定データを出力して(ステ
ップS116)、ディスプレイ52の初期設定画面中に
これら初期設定データを表示し、結果表示画面を設定す
る(ステップS117)。続いて、検査対象のシャドウ
マスクSMについてのムラの良否判別の結果等を表示す
るための結果表示画面をディスプレイ52に表示する
(ステップS118)。なお、このムラの良否判別の結
果等は、後述のムラ判別処理での判別結果に応じて自動
入力され、その項目は、ムラの種別(全体ムラ,部分ム
ラ,縦ムラ,横ムラ)やそのムラごとの良否判別の結果
などである。
When these inputs are completed, the process waits until the inspection start switch is pressed (step S114). When the inspection is started, the output file is opened (step S115) to prepare for the output of the inspection result. It should be noted that this output file outputs the determination result for unevenness described later and the data is saved. After that, the initial setting data such as the input output file name is output (step S116), the initial setting data is displayed on the initial setting screen of the display 52, and the result display screen is set (step S117). Then, a result display screen for displaying the result of the quality determination of the unevenness of the shadow mask SM to be inspected is displayed on the display 52 (step S118). The result of the quality determination of the unevenness or the like is automatically input according to the determination result in the unevenness determination processing described later, and the item is the type of the unevenness (total unevenness, partial unevenness, vertical unevenness, horizontal unevenness) or the like. The result is a result of quality judgment for each unevenness.

【0041】上記した初期設定に続いては、図3に示す
ように、マスク板45が載置された拡散板43への検査
員によるシャドウマスクSMのセット完了を待ち、セッ
ト完了後にスイッチ操作されて発せられる入力開始指示
を待機する(ステップS120)。ここで入力開始指示
があれば、続くステップS122以降の一連の処理によ
り、検査対象のシャドウマスクSMについての透過画像
を取り込み、ムラの検査のための種々の処理を行なう。
まず、ステップS120に続いては、光源44を点灯制
御すると共に、CCDカメラ49によりシャドウマスク
SMの透過画像を撮像する際の撮像条件に合致するよ
う、CCDカメラ49を設定する(ステップS12
2)。具体的に説明すると、予め定められたシャッター
スピード,ゲイン,フォーカス等の撮像条件と検査対象
のシャドウマスクSMの透孔の透孔領域SMe等に基づ
いて、CCDカメラ49のシャッタースピード設定,ゲ
イン設定,フォーカス調整等と、CCDカメラ49のZ
軸位置調整とが行なわれる。
Subsequent to the above-mentioned initial setting, as shown in FIG. 3, the completion of setting the shadow mask SM by the inspector on the diffusion plate 43 on which the mask plate 45 is placed is waited for, and the switch is operated after the setting is completed. And waits for an input start instruction issued (step S120). If there is an input start instruction, the transmission image of the shadow mask SM to be inspected is taken in and a variety of processes for inspecting unevenness are performed by a series of processes in and after step S122.
First, after step S120, the lighting of the light source 44 is controlled, and the CCD camera 49 is set so as to match the image capturing conditions when capturing the transmission image of the shadow mask SM with the CCD camera 49 (step S12).
2). More specifically, the shutter speed and the gain of the CCD camera 49 are set on the basis of the predetermined imaging conditions such as the shutter speed, the gain and the focus, and the through hole area SMe of the through hole of the shadow mask SM to be inspected. , Focus adjustment and Z of CCD camera 49
Axial position adjustment is performed.

【0042】Z軸位置調整は、図示しない調整機構を手
動で操作して、スタンド支持アーム46に対してカメラ
保持ビーム47とCCDカメラ49とを一体に上下方向
に移動させて行われ、シャッタースピード設定、ゲイン
調整等は、カメラ制御装置62により行われる。また、
フォーカス調整はCCDカメラ49のレンズ部77を手
動で調整することにより行われる。この場合、CCDカ
メラ49のフォーカスは、CCDカメラ49の画素の並
びとシャドウマスクSMの透孔の周期的な配列との間で
起きるモアレを除去するために、ぼかし気味に調整され
る。
The Z-axis position adjustment is performed by manually operating an adjusting mechanism (not shown) to vertically move the camera holding beam 47 and the CCD camera 49 integrally with respect to the stand supporting arm 46. Settings, gain adjustments, etc. are performed by the camera control device 62. Also,
Focus adjustment is performed by manually adjusting the lens unit 77 of the CCD camera 49. In this case, the focus of the CCD camera 49 is adjusted so as to blur in order to remove moire that occurs between the pixel array of the CCD camera 49 and the periodic arrangement of the through holes of the shadow mask SM.

【0043】こうしてCCDカメラ49の撮像条件が設
定されると、CCDカメラ49は拡散板43上のシャド
ウマスクSMの撮像を開始し、光源44から照射されシ
ャドウマスクSMの透孔を透過した光の透過画像(以
下、生画像という)をCCDカメラ49で取り込む(ス
テップS124)。CCDカメラ49は、シャドウマス
クSMの生画像を1,534 画素×1,024 画素で濃淡レンジ
が10ビットのデジタル出力で階調データとしてカメラ
制御装置62およびバスライン64を介して主記憶装置
68に出力する。
When the image pickup conditions of the CCD camera 49 are set in this manner, the CCD camera 49 starts image pickup of the shadow mask SM on the diffusion plate 43, and the light emitted from the light source 44 and transmitted through the through holes of the shadow mask SM is transmitted. A transparent image (hereinafter referred to as a raw image) is captured by the CCD camera 49 (step S124). The CCD camera 49 outputs the raw image of the shadow mask SM to the main storage device 68 via the camera control device 62 and the bus line 64 as gradation data with a digital output of 1,534 pixels × 1,024 pixels and a gradation range of 10 bits.

【0044】一般にシャドウマスクSMに形成された多
数の透孔のそれぞれの間隔は、シャドウマスクの中央部
では狭くその周辺方向に向かうに従って広くなる。これ
は、平坦なシャドウマスクSMをドーム状に成形するこ
とを考慮してシャドウマスクSMの透孔の配置が設計さ
れているためである。このことから、シャドウマスクS
Mの透過画像のデータである上述の階調データは、シャ
ドウマスクSMの透孔の配置の密度に倣って、シャドウ
マスクSMの中央部では明るく周辺方向に向かうに従っ
て暗くなる明暗のパターン(以下、このパターンをグレ
ードという)が濃淡レンジとして表れたデータである。
しかも、この階調データには、シャドウマスクSMのム
ラに基づく濃淡も反映されている。
Generally, the intervals between the large numbers of through holes formed in the shadow mask SM are narrow in the central portion of the shadow mask and widen in the peripheral direction. This is because the arrangement of the through holes of the shadow mask SM is designed in consideration of forming the flat shadow mask SM into a dome shape. From this, the shadow mask S
The above-described gradation data, which is the data of the transmission image of M, has a bright and dark pattern (hereinafter, referred to as “dark and bright” in the central portion of the shadow mask SM, which becomes darker in accordance with the density of the arrangement of the through holes of the shadow mask SM. This pattern is referred to as grade) and is the data expressed as a light and shade range.
Moreover, the gradation data also reflects the light and shade based on the unevenness of the shadow mask SM.

【0045】そして、この生画像の階調データは、カメ
ラ制御装置62を経て画像処理装置54に送り出され
る。なお、画像処理装置54へのデータ出力と共に、カ
メラ制御装置62は、生画像をディスプレイ52に表示
する。これにより、CCDカメラ49の撮像領域の確認
ができる。
Then, the gradation data of this raw image is sent to the image processing device 54 via the camera control device 62. Note that the camera control device 62 displays the raw image on the display 52 along with the data output to the image processing device 54. Thereby, the image pickup area of the CCD camera 49 can be confirmed.

【0046】CCDカメラ49により得た生画像の出力
信号(階調データ)には、光源44や拡散板43自体で
引き起こされる発光分布ムラや撮像系の感度ムラ等のも
たらす信号が重畳している。従って、上記のステップS
124での生画像の取り込みに続いては、画像データ
(階調データ)をそのデータ数が等しくされたリファレ
ンスデータ(階調データ)で除算して、シェーディング
補正する(ステップS126)。このリファレンスデー
タは、拡散板43にシャドウマスクSMを載せずマスク
板45のみを載せた状態で予め撮像した画像の階調デー
タであり、主記憶装置68に予め記憶されている。よっ
て、このリファレンスデータは、シェーディング補正時
に読み出される。
The output signal (gradation data) of the raw image obtained by the CCD camera 49 is superposed with a signal such as uneven light emission distribution caused by the light source 44 or the diffusion plate 43 itself, uneven sensitivity of the image pickup system and the like. . Therefore, the above step S
Following the capture of the raw image in 124, the image data (gradation data) is divided by the reference data (gradation data) having the same number of data to perform shading correction (step S126). The reference data is gradation data of an image previously captured with the shadow mask SM not placed on the diffusion plate 43 and only the mask plate 45 placed, and is stored in the main storage device 68 in advance. Therefore, this reference data is read during shading correction.

【0047】続いて、このムラ検査処理で筋ムラの判別
を行なう処理対象領域SMe0 を設定する(ステップS
128)。つまり、図5に示すように、シャドウマスク
SMの透孔の透孔領域SMeはその周縁が湾曲した領域
なので、この湾曲周縁の領域については、後述の偏差演
算を行なう際のデータ数の整合が崩れる。よって、予め
このステップS128により四角形の処理対象領域SM
e0 を、X軸およびY軸で定まる平面領域として規定す
るのである。次に、この設定した処理対象領域SMe0
についての上記シェーディング補正済みの階調データを
31画素×31画素(以下、単に31×31と称す。以
下同様である。)のフィルタウィンドを有するメディア
ンフィルタ(以下、M/Fと略称する)を用いて画像補
正し(ステップS130)、階調データからM/Fによ
り低周波成分が除去されて規格化された規格化データを
得る。
Subsequently, a processing target area SMe0 for discriminating streak unevenness in this unevenness inspection processing is set (step S).
128). That is, as shown in FIG. 5, the through-hole region SMe of the through-hole of the shadow mask SM has a curved peripheral edge, and therefore the curved peripheral edge region has a matching number of data when performing the deviation calculation described later. Collapse. Therefore, the rectangular processing target area SM is previously obtained in step S128.
e0 is defined as a plane area defined by the X axis and the Y axis. Next, the set processing target area SMe0
The shading-corrected grayscale data of the above is a median filter (hereinafter abbreviated as M / F) having a filter window of 31 pixels × 31 pixels (hereinafter simply referred to as 31 × 31. The same applies hereinafter). Image correction is performed using (step S130), and low-frequency components are removed from the gradation data by M / F to obtain standardized standardized data.

【0048】ここで、ステップS130での画像補正処
理の内容について説明する。この画像補正では、以下の
平滑化処理と規格化処理が行なわれる。まず、平滑化処
理は、31×31のフィルタウィンドの各データウィン
ドを埋めるデータ(階調データ)をその大きさの順に並
べてデータ列を作成し、そのデータ列の中央の位置にく
るデータを出力値とする処理を一処理単位とする。そし
て、処理対象領域SMe0 についてのシェーディング補
正済みの階調データについて、M/Fのフィルタリング
領域を変えながら、例えばフィルタウィンドを所定の方
向に1画素ずつ移動させて、上記の一処理単位の処理を
上記階調データのデータ領域(処理対象領域SMe0 )
に亘って繰り返す。
Here, the contents of the image correction processing in step S130 will be described. In this image correction, the following smoothing process and standardization process are performed. First, in the smoothing process, the data (gradation data) that fills each data window of the 31 × 31 filter window is arranged in the order of size to create a data string, and the data that comes to the center position of the data string is output. The processing that takes a value is one processing unit. Then, for the shading-corrected gradation data for the processing target area SMe0, while changing the M / F filtering area, for example, the filter window is moved pixel by pixel in a predetermined direction to perform the above-described processing in one processing unit. Data area of the gradation data (processing target area SMe0)
Repeat over.

【0049】このメディアンフィルタでの平滑化処理に
より、シェーディング補正済みの階調データからは効果
的に高い空間周波数である雑音が低減される。また、小
さな変動が平滑化された画像の平滑化データが得られ
る。そして、この平滑化データにあっては、低周波成分
たるシャドウマスクSMのグレードおよび大きな変動は
反映されているものの、シャドウマスクSMのムラは雑
音或いは小さな変動として低減若しくは除去される。
By the smoothing process by the median filter, noise having a high spatial frequency is effectively reduced from the shading-corrected gradation data. Further, smoothed data of an image in which small fluctuations are smoothed can be obtained. The smoothed data reflects the grade and large fluctuations of the shadow mask SM, which is a low-frequency component, but the unevenness of the shadow mask SM is reduced or eliminated as noise or small fluctuations.

【0050】その後の規格化処理は、シェーディング補
正済みの階調データをM/Fでの平滑化処理済みの平滑
化データで除算して、生画像についての規格化データを
求める。この除算演算に際して、平滑化データのデータ
の値がゼロである場合には、該当するデータでの除算は
行なわず、規格化データの該当データは値ゼロに設定さ
れる。こうして得られた規格化データは、平滑化データ
での階調データの除算を経ていることから、平滑化デー
タに濃淡レンジとして反映したシャドウマスクSMのグ
レードおよび大きな変動(低周波成分)は除去され、透
孔の寸法異常に起因した光透過率のムラを表わすデータ
となる。
In the subsequent normalization process, the shading-corrected gradation data is divided by the smoothed data that has been smoothed in M / F to obtain standardized data for the raw image. In this division operation, when the data value of the smoothed data is zero, the corresponding data is not divided and the corresponding data of the standardized data is set to zero. Since the standardized data thus obtained has undergone division of the gradation data by the smoothed data, the grade and large fluctuation (low frequency component) of the shadow mask SM reflected in the smoothed data as a shade range are removed. , Data representing the unevenness of the light transmittance due to the dimensional abnormality of the through hole.

【0051】なお、規格化データは、上記のように光透
過率のムラを表わすことから、この規格化データに基づ
いてディスプレイ52にムラ画像を表示するよう構成す
ることもできる。この場合、ムラ画像の表示に際して
は、以下の処理が行なわれる。まず、規格化データは実
数データであり画像処理で扱いにくいので、整数データ
に変換すべく所定の整数、例えば4000を乗算して規
格化整数データとされる。次に、この規格化整数データ
に基づいた画像、即ち透孔の寸法異常に起因した光透過
率のムラを濃淡レンジデータの画像として表示すべく、
規格化整数データに可視化画像変換を施してムラ画像を
ディスプレイ52に表示する。
Since the standardized data represents the unevenness of the light transmittance as described above, it is possible to display the unevenness image on the display 52 based on the standardized data. In this case, the following processing is performed when displaying the uneven image. First, since the standardized data is real number data and is difficult to handle in image processing, it is multiplied by a predetermined integer, for example, 4000 in order to convert it into integer data, to obtain standardized integer data. Next, an image based on this standardized integer data, that is, to display the unevenness of the light transmittance due to the dimensional abnormality of the through hole as an image of the light and shade range data,
Visualization image conversion is performed on the standardized integer data to display the uneven image on the display 52.

【0052】ここで、階調データから規格化データが得
られるまでの処理の内容を、ムラ画像の表示のための処
理内容と併せて模式的に説明する。図6に示すように、
CCDカメラ49で撮像された生画像Gは、ステップS
124〜126の処理を経て、シェーディング補正済み
の階調データGDとされる。図中のグラフは、生画像の
横軸に沿った画像における階調データGDを示してい
る。その一方、ステップS130の一部の処理(平滑化
処理)により階調データGDをM/Fにより平滑化処理
した平滑化データM/FDは、図示するように、シャド
ウマスクSMのムラを雑音或いは小さな変動として階調
データGDから低減若しくは除去され、シャドウマスク
SMのグレードのみが反映されたデータとなる。
Here, the contents of the process from the gradation data to the obtaining of the standardized data will be schematically explained together with the contents of the process for displaying the uneven image. As shown in FIG.
The raw image G captured by the CCD camera 49 is the step S.
After the processes of 124 to 126, the shading-corrected gradation data GD is obtained. The graph in the figure shows the gradation data GD in the image along the horizontal axis of the raw image. On the other hand, the smoothed data M / FD obtained by smoothing the grayscale data GD by the M / F by part of the processing (smoothing processing) in step S130, as shown in FIG. The data is reduced or removed from the gradation data GD as a small variation, and only the grade of the shadow mask SM is reflected.

【0053】次いで、ステップS130の残りの処理
(規格化処理)を経ると、階調データGDを平滑化デー
タM/FDで除算した規格化データKDが得られる。そ
して、ムラ画像は、この規格化データKDの整数データ
変換,可視化画像変換を経て表示される。図示するよう
に、このムラ画像は、検査対象のシャドウマスクSMの
ムラのみの画像であり、グレードが除去されていること
から結果的にムラが強調された画像となる。
Then, after the rest of the processing (normalization processing) in step S130, standardized data KD obtained by dividing the gradation data GD by the smoothed data M / FD is obtained. Then, the uneven image is displayed after the integer data conversion of the standardized data KD and the visualization image conversion. As shown in the figure, this uneven image is an image of only the unevenness of the shadow mask SM to be inspected, and since the grade is removed, the unevenness is consequently emphasized.

【0054】上記した画像補正に続いては、光透過率の
ムラの判別処理を行なう(ステップS140)。このム
ラの判別処理では、図7以降のフローチャートに示すよ
うに、ムラの種別(全体ムラ,部分ムラ,縦ムラ,横ム
ラ)ごとの判別処理が行なわれる。つまり、図7のフロ
ーチャートに示すように、まず、全体ムラについての判
別処理を行ない(ステップS150)、その後、部分ム
ラについての判別処理(ステップS170),縦ムラに
ついての判別処理(ステップS190),横ムラについ
ての判別処理(ステップS210)を順次行なう。これ
らのムラの判別処理は、その詳細な処理内容は当該処理
に用いる後述の処理ウィンドが判別対象のムラに応じて
異なるものの、処理内容自体は同一である。よって、全
体ムラについての判別処理(ステップS150)を例に
取り、以下にその詳細な内容を説明する。
Subsequent to the above-described image correction, a process for discriminating unevenness in light transmittance is performed (step S140). In this unevenness determination processing, as shown in the flowcharts of FIG. 7 and subsequent figures, determination processing is performed for each type of unevenness (total unevenness, partial unevenness, vertical unevenness, horizontal unevenness). That is, as shown in the flow chart of FIG. 7, first, the discrimination process for the entire unevenness is performed (step S150), and then the discrimination process for the partial unevenness (step S170) and the discrimination process for the vertical unevenness (step S190). The discrimination processing for lateral unevenness (step S210) is sequentially performed. The details of the unevenness discrimination processing are the same, although the detailed processing contents thereof, which will be described later, used for the unevenness differ depending on the unevenness to be discriminated. Therefore, the detailed content will be described below by taking the determination process (step S150) for the overall unevenness as an example.

【0055】図8のフローチャートに示すように、全体
ムラについての判別処理(ステップS150)が開始さ
れると、まず、判別処理におけるデータ収集に用いる処
理ウィンドのサイズを選定する(ステップS152)。
つまり、全体ムラであっても、光透過率のムラがシャド
ウマスクSMの透孔領域SMeにおける点在の様子やそ
の点在箇所におけるムラの大きさは一様ではない。よっ
て、種々の全体ムラに対応すべく、処理ウィンドのサイ
ズを選定する。具体的には、個々のムラが小さいものに
はサイズの小さな処理ウィンドを用い、個々のムラが大
きければサイズの大きな処理ウィンドを用いる。本実施
例にあっては、20×20,30×30,40×45,
60×60,80×90および240×180(単位は
いずれも画素)のウィンドサイズの処理ウィンドを選定
した。これは、このような正方サイズ或いは長方サイズ
の処理ウィンドを選定すれば、全体ムラにおける個々の
ムラをその大きさに拘らず処理ウィンドに含ませること
ができることによる。
As shown in the flow chart of FIG. 8, when the discrimination processing for the overall unevenness (step S150) is started, first, the size of the processing window used for data collection in the discrimination processing is selected (step S152).
That is, even in the case of the entire unevenness, the unevenness of the light transmittance is not uniform in the scattered state in the through-hole region SMe of the shadow mask SM or the unevenness in the scattered places. Therefore, the size of the processing window is selected so as to deal with various overall unevenness. Specifically, a small-sized processing window is used for small unevenness, and a large-sized processing window is used for large individual unevenness. In this embodiment, 20 × 20, 30 × 30, 40 × 45,
Processing windows having window sizes of 60 × 60, 80 × 90, and 240 × 180 (units are all pixels) were selected. This is because by selecting such a square or rectangular size processing window, individual unevenness in the overall unevenness can be included in the processing window regardless of its size.

【0056】こうしてウィンドサイズを設定した後に
は、その内の一つのサイズの処理ウィンドSWについて
ウィンド走査とデータ演算・記憶を行なう(ステップS
154)。つまり、図9に示すように、処理ウィンドS
Wをその1/2ピッチずつずらしながら処理対象領域S
Me0 の領域に亘って縦・横に走査しつつ、その都度、
処理ウィンドSWに属する階調データの個々のデータを
用いてこれらデータの標準偏差σを以下に記する数式か
ら求め、これを記憶する。
After the window size is set in this way, window scanning and data calculation / storage are performed for the processing window SW of one of the sizes (step S).
154). That is, as shown in FIG. 9, the processing window S
Processing target area S while shifting W by 1/2 pitch
Each time while scanning vertically and horizontally over the Me0 area,
The standard deviation σ of these pieces of grayscale data belonging to the processing window SW is obtained from the following mathematical expression and stored.

【0057】[0057]

【数1】 [Equation 1]

【0058】上記の数式におけるf(x,y)は、処理
ウィンドSW内の座標(x,y)における濃度値(階調
データ値)であり、avはシャドウマスクSMの処理対
象領域SMe0 全域の平均濃度値(階調データ値)であ
り、Nは、処理ウィンドSW内の総データ数(総画素
数,処理ウィンドSWが20×20の処理ウィンドであ
れば400)である。なお、平均濃度avの値は、ステ
ップS124で取り込み済みの階調データについて、ス
テップS128での処理対象領域SMe0 の設定,ステ
ップS130での画像補正を行なった後に算出される。
本実施例にあっては、画像補正の際に、平滑化データM
/FDでの階調データGDの除算を経ていることから、
平均濃度avの値は1である。
In the above equation, f (x, y) is the density value (gradation data value) at the coordinates (x, y) in the processing window SW, and av is the entire processing target area SMe0 of the shadow mask SM. It is an average density value (grayscale data value), and N is the total number of data in the processing window SW (total number of pixels, 400 if the processing window SW is a 20 × 20 processing window). The value of the average density av is calculated after the processing target area SMe0 is set in step S128 and the image correction is performed in step S130 for the gradation data that has been captured in step S124.
In the present embodiment, the smoothed data M is used for image correction.
Since the gradation data GD is divided by / FD,
The value of the average density av is 1.

【0059】この数式から明らかなように、標準偏差σ
は、処理ウィンドSWに属するデータのばらつきの度合
いを表わしており、標準偏差σの値が大きければその処
理ウィンドSWでの走査箇所には、ムラの程度が大きい
ことになる。そして、この標準偏差σは、上記したよう
に処理ウィンドSWが処理対象領域SMe0 の全域に亘
って走査されるまで、処理ウィンドSWの走査の都度に
演算されて記憶される。
As is clear from this equation, the standard deviation σ
Represents the degree of variation of the data belonging to the processing window SW, and if the value of the standard deviation σ is large, the degree of unevenness at the scanning position in the processing window SW is large. The standard deviation σ is calculated and stored each time the processing window SW is scanned until the processing window SW is scanned over the entire processing target area SMe0 as described above.

【0060】その後は、この記憶した総ての標準偏差σ
を用いて、その平均値σav,最大値σmax,最頻度
値σpeakを求める(ステップS156)。平均値σ
avは、個々の標準偏差σの算出の都度に加算平均して
求められ、最大値σmaxは、個々の標準偏差σの算出
の都度の大小比較或いは総ての標準偏差σの算出後の大
小比較を経て求められる。また、最頻度値σpeakに
あっては、個々の標準偏差σの算出の都度に、標準偏差
σの値とその頻度とをプロットして図10に示すヒスト
グラムを作成し、最もその度数が大きい標準偏差σの値
が最頻度値σpeakとして求められる。
After that, all the stored standard deviations σ are stored.
Is used to obtain the average value σav, the maximum value σmax, and the most frequent value σpeak (step S156). Average value σ
av is calculated by adding and averaging each time the standard deviation σ is calculated, and the maximum value σmax is the size comparison after each calculation of the standard deviation σ or the size comparison after the calculation of all standard deviations σ. Is required through. In the case of the most frequent value σpeak, the standard deviation σ value and its frequency are plotted every time each standard deviation σ is calculated to create a histogram shown in FIG. The value of the deviation σ is obtained as the most frequent value σpeak.

【0061】次いで、最大値σmaxと平均値σavと
の差の絶対値|σmax−σav|および最大値σma
xと最頻度値σpeakとの差の絶対値|σmax−σ
peak|を演算し、これらを記憶する(ステップS1
58)。この場合、演算したこれら差の絶対値|σma
x−σav|,|σmax−σpeak|は、処理ウィ
ンドSWのサイズおよびムラ種別(全体ムラ)と対応付
けて記憶されると共に、ディスプレイ52にも表示され
る。従って、検査員は、標準偏差σについての最大値σ
maxと平均値σavとの差の絶対値|σmax−σa
v|および最大値σmaxと最頻度値σpeakとの差
の絶対値|σmax−σpeak|の提示を受けること
になる。
Then, the absolute value | σmax-σav | of the difference between the maximum value σmax and the average value σav and the maximum value σma.
absolute value of the difference between x and the most frequent value σpeak | σmax-σ
peak | is calculated and these are stored (step S1
58). In this case, the calculated absolute value of these differences | σma
x- [sigma] av | and | [sigma] max- [sigma] peak | are stored in association with the size of the processing window SW and the type of unevenness (total unevenness), and are also displayed on the display 52. Therefore, the inspector determines that the maximum value σ for the standard deviation σ
Absolute value of difference between max and average value σav | σmax−σa
v | and the absolute value | σmax−σpeak | of the difference between the maximum value σmax and the most frequent value σpeak will be presented.

【0062】処理ウィンドSWごとの標準偏差σの平均
値σavは、それが平均値であるが故に、処理ウィンド
SWで走査した処理対象領域SMe0 の全域についての
ムラの指標となる。また、処理ウィンドSWごとの標準
偏差σから求められた最頻度値σpeakも、処理対象
領域SMe0 の種々の場所で最も多く得られた標準偏差
σの値であることから、やはり、処理ウィンドSWで走
査した処理対象領域SMe0 の全域についてのムラの指
標となる。その一方、データ領域が狭い処理ウィンドS
Wについて求めた標準偏差σの最大値σmaxは、全体
ムラが僅かに濃淡が相違するに過ぎないムラであって
も、処理ウィンドSWではそのデータ領域が狭くなるこ
とから、このムラをある程度強調して表わすことにな
る。よって、上記の差の絶対値|σmax−σav|,
|σmax−σpeak|の提示を受けた検査員は、全
体ムラの程度を上記の差の絶対値の大きさとして認識で
きるので、ムラの濃淡や検査員の技能に拘らず光透過率
のムラの程度を精度よく判別することができる。
The average value σav of the standard deviation σ for each processing window SW is an index of unevenness in the entire processing target area SMe0 scanned by the processing window SW because it is the average value. Further, since the most frequent value σpeak obtained from the standard deviation σ of each processing window SW is also the value of the standard deviation σ obtained most at various places in the processing target area SMe0, the processing window SW is also the same. It serves as an index of unevenness in the entire scanned processing target area SMe0. On the other hand, the processing window S with a narrow data area
The maximum value σmax of the standard deviation σ obtained for W is such that even if the overall unevenness is a slight unevenness, the data area is narrowed in the processing window SW, so this unevenness is emphasized to some extent. Will be represented. Therefore, the absolute value of the above difference | σmax−σav |,
The inspector who receives the presentation of | σmax-σpeak | can recognize the degree of the overall unevenness as the magnitude of the absolute value of the above difference, so that the unevenness of the light transmittance can be recognized regardless of the shading of the unevenness and the skill of the inspector. The degree can be accurately determined.

【0063】ステップS158での絶対値の演算・記憶
に続いては、これら絶対値を予め主記憶装置68に記憶
されているそれぞれの判別マップ(全体ムラの良否と|
σmax−σav|とを対応つけたマップおよび全体ム
ラの良否と|σmax−σpeak|とを対応つけたマ
ップ)に当てはめて、全体ムラの良否判別をし、その結
果を主記憶装置68に記憶する(ステップS160)。
この場合、全体ムラの良否判別の結果は、上記の差の絶
対値|σmax−σav|,|σmax−σpeak|
と、処理ウィンドSWのサイズおよびムラ種別(全体ム
ラ)と対応付けて記憶される。
Subsequent to the calculation and storage of the absolute values in step S158, these absolute values are stored in the main storage device 68 in advance in the respective discrimination maps (whether the overall unevenness is good or not |
σmax-σav | is associated with the map and whether the overall unevenness is good or bad and | σmax-σpeak | is associated with each other) to determine whether the overall unevenness is good or bad, and the result is stored in the main storage device 68. (Step S160).
In this case, the result of the quality determination of the overall unevenness is the absolute values of the differences | σmax-σav |, | σmax-σpeak |
And the size of the processing window SW and the type of unevenness (total unevenness) are stored.

【0064】その後は、ステップS152で選定した総
ての処理ウィンドSWについて全体ムラの判別が完了し
たか否かを判断する(ステップS162)。そして、否
定判断すれば処理ウィンドSWを変更して(ステップS
164)、上記のステップS154からの処理をこの変
更後の処理ウィンドSWで行なう。一方、ステップS1
62で肯定判断すれば、次の処理、この場合は図7の部
分ムラの判別処理(ステップS170)に進む。
After that, it is determined whether or not the determination of the overall unevenness is completed for all the processing windows SW selected in step S152 (step S162). If the determination is negative, the processing window SW is changed (step S
164), the process from step S154 is performed by the changed process window SW. On the other hand, step S1
If an affirmative decision is made in 62, the operation proceeds to the next processing, in this case the partial unevenness discrimination processing of FIG. 7 (step S170).

【0065】ステップS170での部分ムラの判別処理
では、種々の部分ムラに対応した処理ウィンドのサイズ
を選定した後に、その選定したそれぞれの処理ウィンド
SWで上記の全体ムラの判別と同一の処理を行なう(ス
テップS154〜164)。この部分ムラの判別処理で
選定した処理ウィンドSWは、10×10,20×2
0,30×30,40×40および50×50のウィン
ドサイズの処理ウィンドである。これは、このような正
方サイズの処理ウィンドを選定すれば、部分ムラにおけ
る個々のムラをその大きさに拘らず処理ウィンドに含ま
せることができることによる。
In the partial unevenness discrimination processing in step S170, after the size of the processing window corresponding to various partial unevennesses is selected, the same processing as the above-mentioned determination of the overall unevenness is performed in each selected processing window SW. Perform (steps S154 to 164). The processing window SW selected in this partial unevenness discrimination processing is 10 × 10, 20 × 2.
The processing window has window sizes of 0, 30 × 30, 40 × 40 and 50 × 50. This is because by selecting such a square size processing window, it is possible to include individual unevenness in the partial unevenness in the processing window regardless of its size.

【0066】ステップS170に続くステップS190
での縦ムラの判別処理では、種々の縦ムラに対応した処
理ウィンドのサイズを選定した後に、その選定したそれ
ぞれの処理ウィンドSWで上記の全体ムラの判別と同一
の処理を行なう(ステップS154〜164)。この縦
ムラの判別処理で選定した処理ウィンドSWは、ムラの
発生方向である縦方向に沿った縦長の長方サイズ(10
×60,5×60,5×90,10×90および15×
90)のウィンドサイズの処理ウィンドである。これ
は、このような長方サイズの処理ウィンドを選定すれ
ば、縦ムラにおける個々のムラをそのムラの幅や長さに
拘らず処理ウィンドに含ませることができることによ
る。
Step S190 following step S170
In the vertical unevenness determination processing in step 1, after selecting the size of the processing window corresponding to various vertical unevennesses, the same processing as the above-described determination of overall unevenness is performed in each of the selected processing windows SW (steps S154-). 164). The processing window SW selected in the vertical unevenness determination processing is a vertically long rectangular size (10
X60, 5x60, 5x90, 10x90 and 15x
This is a processing window having a window size of 90). This is because by selecting such a rectangular processing window, it is possible to include individual unevenness in the vertical unevenness in the processing window regardless of the width and length of the unevenness.

【0067】また、ステップS190に続くステップS
210での横ムラの判別処理では、種々の横ムラに対応
した処理ウィンドのサイズを選定した後に、その選定し
たそれぞれの処理ウィンドSWで上記の全体ムラの判別
と同一の処理を行なう(ステップS154〜164)。
この横ムラの判別処理で選定した処理ウィンドSWは、
ムラの発生方向である横方向に沿った横長の長方サイズ
(60×10,60×5,80×10,80×5および
120×10)のウィンドサイズの処理ウィンドであ
る。これは、このような長方サイズの処理ウィンドを選
定すれば、横ムラにおける個々のムラをそのムラの幅や
長さに拘らず処理ウィンドに含ませることができること
による。
Further, step S190 following step S190
In the lateral unevenness determination processing in 210, after the size of the processing window corresponding to various lateral unevenness is selected, the same processing as the above-described overall unevenness determination is performed in each of the selected processing windows SW (step S154). ~ 164).
The processing window SW selected in this lateral unevenness discrimination processing is
It is a processing window of a horizontally long rectangular size (60 × 10, 60 × 5, 80 × 10, 80 × 5 and 120 × 10) along the horizontal direction which is the direction of occurrence of unevenness. This is because by selecting such a rectangular size processing window, it is possible to include individual unevenness in the lateral unevenness in the processing window regardless of the width and length of the unevenness.

【0068】そして、ステップS210までの処理でそ
れぞれのムラのついての良否判別を行なった後には、図
3の処理に戻り、ステップS150〜210での良否判
別結果をディスプレイ52に表示する(ステップS22
0)。この際には、その良否結果をもたらした処理ウィ
ンドSWの種別とムラの種別(全体ムラ,部分ムラ,縦
ムラ,横ムラの別)と上記の差の絶対値|σmax−σ
av|,|σmax−σpeak|も併せてディスプレ
イ52に表示される。その後は、他のシャドウマスクS
Mについての上記した検査を継続して行なう必要がある
か否かを、所定のスイッチの押圧状況から判断する(ス
テップS230)。そして、継続して検査する場合には
上記したステップS120からの処理を繰り返す。な
お、上記の判別結果におけるこれらの項目は、該当する
検査対象のシャドウマスクSMについてサンプルID等
と共に、該当する処理の際に補助記憶装置72に記憶さ
れ、ステップS230にて他のシャドウマスクSMにつ
いての処理を行なう場合には、この他のシャドウマスク
SMの検査に備えて、ディスプレイ52の表示画像の消
去と、この判別処理の過程において一時的に記憶されて
いた種々のデータの主記憶装置68からの消去とが行な
われる。
After the pass / fail determination for each unevenness is performed in the processes up to step S210, the process returns to the process of FIG. 3 and the pass / fail determination result in steps S150 to 210 is displayed on the display 52 (step S22).
0). At this time, the type of the processing window SW and the type of the unevenness (the distinction between the whole unevenness, the partial unevenness, the vertical unevenness, and the horizontal unevenness) and the absolute value of the above difference | σmax-σ
av | and | σmax−σpeak | are also displayed on the display 52. After that, another shadow mask S
Whether or not it is necessary to continuously perform the above-described inspection of M is determined from the pressing state of a predetermined switch (step S230). Then, in the case of continuing the inspection, the processing from step S120 described above is repeated. It should be noted that these items in the above determination result are stored in the auxiliary storage device 72 at the time of the corresponding processing together with the sample ID and the like of the corresponding shadow mask SM to be inspected, and regarding other shadow masks SM in step S230. In the case of performing the process of (1), in preparation for the inspection of the other shadow masks SM, the main storage device 68 for erasing the display image of the display 52 and various data temporarily stored in the process of this determination process. Erased from.

【0069】以上説明したように本実施例のシャドウマ
スク検査装置30では、処理対象領域SMe0 に発生し
た全体ムラ,部分ムラ,縦ムラおよび横ムラのそれぞれ
のムラについて、該当する処理ウィンドSWでの走査の
都度にその処理ウィンドSWに属する濃度値のデータ
(階調データ)から標準偏差σを求める。そして、処理
ウィンドSWの走査ごとに求めた標準偏差σから、その
最大値σmaxと平均値σavと最頻度値σpeakと
を求め、その差の絶対値|σmax−σav|,|σm
ax−σpeak|に基づいて、上記の種々のムラの良
否判別を下す。この良否判別に用いられる標準偏差σの
最大値σmaxは、データの属する領域の狭小化を通し
てムラの程度を強調して表わし、標準偏差σの平均値σ
avと最頻度値σpeakとは平均値化或いは最頻度値
の選択を通して処理対象領域SMe0 の全域についての
ムラの指標である。よって、本実施例のシャドウマスク
検査装置30によれば、上記の種々のムラを、そのムラ
の濃淡が検査対象のシャドウマスクSMにおいて僅かな
場合であっても精度よく検出することができるので、シ
ャドウマスクSMに透孔の寸法異常に起因して生じる種
々のムラ(光透過率のムラ)の良否判別の信頼性を向上
することができる。
As described above, in the shadow mask inspection apparatus 30 of the present embodiment, the respective unevennesses of the whole unevenness, the partial unevenness, the vertical unevenness, and the horizontal unevenness that have occurred in the processing target area SMe0 are processed by the corresponding processing window SW. The standard deviation σ is obtained from the data of density values (gradation data) belonging to the processing window SW each time of scanning. Then, the maximum value σmax, the average value σav, and the most frequent value σpeak are calculated from the standard deviation σ calculated for each scan of the processing window SW, and the absolute values of the differences | σmax−σav |, | σm
Based on ax- [sigma] peak | The maximum value σmax of the standard deviation σ used for this quality judgment is expressed by emphasizing the degree of unevenness by narrowing the area to which the data belongs, and the average value σ of the standard deviation σ.
The av and the most frequent value σpeak are indices of unevenness in the entire processing target region SMe0 through averaging or selection of the most frequent value. Therefore, according to the shadow mask inspection apparatus 30 of the present embodiment, it is possible to accurately detect the various types of unevenness described above even if the density of the unevenness is small in the shadow mask SM to be inspected. It is possible to improve the reliability of the quality judgment of various irregularities (unevenness of light transmittance) caused by the dimensional abnormality of the through holes in the shadow mask SM.

【0070】また、本実施例のシャドウマスク検査装置
30では、全体ムラ,部分ムラ,縦ムラおよび横ムラの
それぞれのムラについて、該当するムラが効果的に含ま
れるようなサイズの処理ウィンドSWを設定する。よっ
て、ムラの種別に拘らずそれぞれのムラを精度よく検出
することができ、ムラの良否判別の信頼性をより向上す
ることができる。
In addition, in the shadow mask inspection apparatus 30 of the present embodiment, the processing window SW is sized so that the corresponding unevenness is effectively included for each of the overall unevenness, the partial unevenness, the vertical unevenness, and the horizontal unevenness. Set. Therefore, it is possible to accurately detect each unevenness regardless of the type of unevenness, and it is possible to further improve the reliability of the quality determination of the unevenness.

【0071】また、本実施例のシャドウマスク検査装置
30では、処理ウィンドSWを処理対象領域SMe0 に
亘って走査する際に、処理ウィンドSWをその1/2ピ
ッチずつずらして走査し、その都度に標準偏差σを算出
した。よって、処理ウィンドSWの走査の都度にその1
/2のウィンドの領域については重なった状態とする
(図9参照)。このため、処理ウィンドSWの周縁に発
生したムラについても次の処理ウィンドSWの走査の際
にそのムラを処理ウィンドSWに含ませて標準偏差σを
得ることができる。よって、本実施例のシャドウマスク
検査装置30によれば、ムラの濃淡に加えその発生箇所
がどこであるかに拘らず、ムラをより精度よく検出する
ことができるので、ムラの良否判別の信頼性をより一層
向上することができる。
Further, in the shadow mask inspection apparatus 30 of the present embodiment, when the processing window SW is scanned over the processing target area SMe0, the processing window SW is shifted by ½ of the pitch and is scanned each time. The standard deviation σ was calculated. Therefore, every time the processing window SW is scanned,
The / 2 window area is in an overlapping state (see FIG. 9). Therefore, regarding the unevenness generated on the periphery of the processing window SW, it is possible to obtain the standard deviation σ by including the unevenness in the processing window SW during the next scanning of the processing window SW. Therefore, according to the shadow mask inspection apparatus 30 of the present embodiment, the unevenness can be detected more accurately regardless of where the unevenness occurs and where the occurrence of the unevenness occurs. Can be further improved.

【0072】更に、それぞれのムラについて下した良否
の判別結果が正確になることから、次のよう効果も奏す
ることができる。つまり、検査対象のシャドウマスクS
Mにムラの不良があった場合には、そのムラの判別結果
をムラの種別等と共にシャドウマスクSMのフォトエッ
チング法における各工程(コーティング工程,焼付工
程,現像工程,エッチング工程等)の品質管理に反映さ
せることができ、これを通して品質向上を図ることがで
きる。
Further, since the quality judgment result for each unevenness is accurate, the following effects can be obtained. That is, the shadow mask S to be inspected
When M has a defect of unevenness, the result of the unevenness determination is used together with the type of the unevenness and the quality control of each step (coating step, baking step, developing step, etching step, etc.) in the photoetching method of the shadow mask SM. Can be reflected in, and quality can be improved through this.

【0073】また、検査対象となったシャドウマスクS
Mについての判別結果に加えて、各処理ウィンドSWで
求めた標準偏差σやその最大値σmax,平均値σa
v,最頻度値σpeak並びにその差の絶対値|σma
x−σav|,|σmax−σpeak|を補助記憶装
置72に記憶するよう構成すれば、次のような効果を奏
することができる。上記のムラ判別処理によりムラが良
品であるとされたシャドウマスクSMが品質不良である
と後日されても、判別処理時の上記のデータを読み出し
て表示すれば、指摘された品質不良と記憶したデータと
を対比することができる。このため、良否判別の妥当性
や良否判別のためのマップの妥当性を再検討したり、判
別結果と品質不良との対比を通した品質不良の原因究明
を容易に行なうことができる。
Further, the shadow mask S to be inspected
In addition to the discrimination result for M, the standard deviation σ obtained in each processing window SW, its maximum value σmax, and the average value σa
v, the most frequent value σpeak and the absolute value of the difference | σma
If x-σav | and | σmax-σpeak | are stored in the auxiliary storage device 72, the following effects can be obtained. Even if the shadow mask SM determined to be non-defective by the unevenness discrimination processing is defective in quality at a later date, if the above data at the time of the discrimination processing is read and displayed, it is stored as the pointed out defective quality. The data can be contrasted. Therefore, it is possible to re-examine the validity of the quality determination and the validity of the map for the quality determination, and to easily investigate the cause of the quality defect by comparing the determination result with the quality defect.

【0074】ここで、上記した実施例のシャドウマスク
検査装置30の変形例について説明する。上記のシャド
ウマスク検査装置30では、標準偏差σの最大値σma
x,平均値σav,最頻度値σpeakから得た差の絶
対値|σmax−σav|と|σmax−σpeak|
とに基づいてムラの良否判別を下す。しかし、上記した
差の絶対値|σmax−σav|と|σmax−σpe
ak|のいずれかのみに基づいてムラの良否判別を下す
構成の変形例とすることもできる。また、全体ムラ,部
分ムラ,縦ムラおよび横ムラのそれぞれのムラについて
も併せて良否判別を下す。しかし、いずれかのムラでそ
の良否判別が不良と判別されれば、その時点で処理を終
了する構成の変形例とすることもできる。これら変形例
の構成であれば、ムラの不良がある場合には、ムラ判別
の処理時間の短縮化を図ることができる。
Here, a modification of the shadow mask inspection apparatus 30 of the above embodiment will be described. In the shadow mask inspection device 30 described above, the maximum value σma of the standard deviation σ is
x, the average value σav, and the absolute value of the difference | σmax-σav | and | σmax-σpeak | obtained from the most frequent value σpeak.
Based on and, the quality of the unevenness is determined. However, the absolute values of the above differences | σmax-σav | and | σmax-σpe
It is also possible to adopt a modified example of the configuration in which the quality of the unevenness is determined based on only one of ak |. In addition, a pass / fail judgment is also made for each of the overall unevenness, the partial unevenness, the vertical unevenness, and the horizontal unevenness. However, if the pass / fail determination is determined to be defective due to any unevenness, the processing may be terminated at that point in time, as a modified example. With the configurations of these modified examples, it is possible to reduce the processing time for determining the unevenness when there is a defective unevenness.

【0075】また、上記したサイズ以外のサイズを有す
る処理ウィンドSWを用いたり、上記したサイズの内で
最適なサイズの処理ウィンドSWのみを用いる構成を採
ることもできる。
It is also possible to use a processing window SW having a size other than the above size, or to use only a processing window SW having an optimum size among the above sizes.

【0076】以上本発明の実施例について説明したが、
本発明はこの様な実施例になんら限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる態
様で実施し得ることは勿論である。
The embodiments of the present invention have been described above.
The present invention is not limited to such embodiments, and it goes without saying that the present invention can be carried out in various modes without departing from the scope of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例のシャドウマスク検査装置30の外観構
成を示す正面図。
FIG. 1 is a front view showing an external configuration of a shadow mask inspection apparatus 30 according to an embodiment.

【図2】図1に示すシャドウマスク検査装置30の電気
的構成を示すブロック図。
FIG. 2 is a block diagram showing an electrical configuration of the shadow mask inspection apparatus 30 shown in FIG.

【図3】シャドウマスク検査装置30が行なうシャドウ
マスクSMのムラの検査処理の全体を表わしたフローチ
ャート。
FIG. 3 is a flowchart showing the entire inspection process for unevenness of the shadow mask SM performed by the shadow mask inspection device 30.

【図4】このムラ検査処理における初期設定処理の詳細
な内容を表わしたフローチャート。
FIG. 4 is a flowchart showing the detailed contents of initial setting processing in the unevenness inspection processing.

【図5】図3に示すムラの検査処理における処理内容を
説明するための説明図。
FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining processing contents in the unevenness inspection processing shown in FIG. 3.

【図6】生画像の階調データから規格化データが得られ
るまでの処理の内容を、ムラ画像の表示のための処理内
容と併せて模式的に説明するするための説明図。
FIG. 6 is an explanatory diagram for schematically explaining the content of the processing from the gradation data of the raw image to the obtaining of the standardized data together with the processing content for displaying the uneven image.

【図7】図3に示すステップS140の内容を表わした
フローチャート。
FIG. 7 is a flowchart showing the contents of step S140 shown in FIG.

【図8】図7に示すステップS150にて行なわれる全
体ムラ判別処理の詳細な内容を表わしたフローチャー
ト。
FIG. 8 is a flowchart showing the detailed content of overall unevenness determination processing performed in step S150 shown in FIG.

【図9】図8に示すステップS154において行なう処
理ウィンドSWの走査の様子を説明するための説明図。
9 is an explanatory diagram for explaining how the processing window SW is scanned in step S154 shown in FIG.

【図10】標準偏差σの値とその頻度とをプロットした
ヒストグラムを説明するための説明図。
FIG. 10 is an explanatory diagram for explaining a histogram in which the value of standard deviation σ and its frequency are plotted.

【図11】シャドウマスクSMについての従来のムラ検
査の様子を説明するための説明図。
FIG. 11 is an explanatory diagram for explaining how a conventional unevenness inspection is performed on the shadow mask SM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

30…シャドウマスク検査装置 40…光学測定装置 41…定盤 43…拡散板 44…光源 45…マスク板 45a…開口 46…スタンド支持アーム 47…カメラ保持ビーム 49…CCDカメラ 50…データ処理装置 52…ディスプレイ 52a…表示領域 54…画像処理装置 62…カメラ制御装置 64…バスライン 66…CPU 68…主記憶装置 70…キーボード 72…補助記憶装置 74…プリンタ 77…レンズ部 SM…シャドウマスク SMe0 …処理対象領域 SMe…透孔領域 SW…処理ウィンド 30 ... Shadow mask inspecting device 40 ... Optical measuring device 41 ... Surface plate 43 ... Diffusing plate 44 ... Light source 45 ... Mask plate 45a ... Opening 46 ... Stand supporting arm 47 ... Camera holding beam 49 ... CCD camera 50 ... Data processing device 52 ... Display 52a ... Display area 54 ... Image processing device 62 ... Camera control device 64 ... Bus line 66 ... CPU 68 ... Main storage device 70 ... Keyboard 72 ... Auxiliary storage device 74 ... Printer 77 ... Lens part SM ... Shadow mask SMe0 ... Processing target Area SMe ... Through hole area SW ... Processing window

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 多数の透孔が概周期的に配列された透孔
板について、透孔の寸法異常に起因して生じる光透過率
のムラを検査する透孔板の検査方法において、 前記透孔板にその一方の主面側から光を照射して前記透
孔板を他方の主面側から撮像し、該撮像画像の階調デー
タを求める撮像工程と、 前記階調データに属する個々のデータの分布に表われる
低周波成分を除去し、前記階調データから規格化データ
を生成する低周波除去工程と、 該規格化データを所定の領域群ごとに走査し、該領域群
に属する個々のデータのばらつきの度合いを前記領域群
ごとに演算するばらつき演算工程と、 前記領域群ごとに求めた前記ばらつきの度合いの最大値
と平均値とを演算し、該演算した最大値と平均値との差
を提示する提示工程と、を有することを特徴とする透孔
板の検査方法。
1. A method of inspecting a through-hole plate, comprising: a through-hole plate in which a large number of through-holes are arranged approximately periodically; An imaging step of irradiating a perforated plate with light from one main surface side thereof to image the perforated plate from the other main surface side, and obtaining gradation data of the captured image; and an individual step belonging to the gradation data. A low-frequency removing step of removing low-frequency components appearing in the data distribution and generating standardized data from the grayscale data, and scanning the standardized data for each predetermined area group, A variation calculation step of calculating the degree of variation of the data for each area group, and a maximum value and an average value of the degree of variation obtained for each area group, and the calculated maximum value and average value. And a presentation step for presenting the difference between Inspection method of the through-hole plate to be.
【請求項2】 請求項1に記載の透孔板の検査方法にお
いて、 前記演算した最大値と前記平均値との差に基づいて検査
対象である前記透孔板についての前記ムラの良否判別を
下す判別工程を、前記提示工程に替えて或いは前記提示
工程と共に有する透孔板の検査方法。
2. The method for inspecting a through-hole plate according to claim 1, wherein the quality of the unevenness of the through-hole plate to be inspected is determined based on a difference between the calculated maximum value and the average value. A method of inspecting a through-hole plate, which has a determining step to be performed instead of or in addition to the presenting step.
【請求項3】 多数の透孔が概周期的に配列された透孔
板について、透孔の寸法異常に起因して生じる光透過率
のムラを検査する透孔板の検査装置において、 前記透孔板を支持し、該支持された透孔板にその一方の
主面側から光を照射する照射手段と、 該光の照射された前記透孔板を他方の主面側から撮像
し、該撮像画像の階調データを求める撮像手段と、 前記階調データに属する個々のデータの分布に表われる
低周波成分を除去し、前記階調データから規格化データ
を生成する低周波除去手段と、 該規格化データを所定の領域群ごとに走査し、該領域群
に属する個々のデータのばらつきの度合いを前記領域群
ごとに演算するばらつき演算手段と、 前記領域群ごとに求めた前記ばらつきの度合いの最大値
と平均値とを演算し、該演算した最大値と平均値との差
を提示する提示手段と、を有することを特徴とする透孔
板の検査装置。
3. A through-hole plate inspection device for inspecting a light-through hole plate in which a large number of through-holes are arranged in a substantially periodic manner for inspecting unevenness of light transmittance caused by dimensional abnormality of the through holes. Irradiation means for supporting the perforated plate and irradiating the supported perforated plate with light from one main surface side thereof, and imaging the perforated plate irradiated with the light from the other main surface side, An image pickup means for obtaining gradation data of a picked-up image, a low frequency removing means for removing low frequency components appearing in a distribution of individual data belonging to the gradation data, and generating standardized data from the gradation data, A variation calculation unit that scans the standardized data for each predetermined area group and calculates the degree of variation of individual data belonging to the area group, and the degree of variation obtained for each area group. The maximum value and the average value of Inspection device of the through-hole plate, characterized in that it comprises a presentation means for presenting the difference between the value and the average value.
【請求項4】 請求項3に記載の透孔板の検査装置にお
いて、 前記演算した最大値と前記平均値との差に基づいて検査
対象である前記透孔板についての前記ムラの良否判別を
下す判別手段を、前記提示手段に替えて或いは前記提示
手段と共に有する透孔板の検査装置。
4. The inspection device for a through-hole plate according to claim 3, wherein the quality of the unevenness of the through-hole plate to be inspected is determined based on a difference between the calculated maximum value and the average value. An inspection device for a perforated plate, which has a determining means to be lowered instead of the presenting means or together with the presenting means.
【請求項5】 多数の透孔が概周期的に配列された透孔
板について、透孔の寸法異常に起因して生じる光透過率
のムラを検査する透孔板の検査方法において、 前記透孔板にその一方の主面側から光を照射して前記透
孔板を他方の主面側から撮像し、該撮像画像の階調デー
タを求める撮像工程と、 前記階調データに属する個々のデータの分布に表われる
低周波成分を除去し、前記階調データから規格化データ
を生成する低周波除去工程と、 該規格化データを所定の領域群ごとに走査し、該領域群
に属する個々のデータのばらつきの度合いを前記領域群
ごとに演算するばらつき演算工程と、 前記領域群ごとに求めた前記ばらつきの度合いの最大値
と頻度とを演算し、該演算した最大値のばらつきの度合
いと最大頻度のばらつきの度合いとの差を提示する提示
工程と、を有することを特徴とする透孔板の検査方法。
5. A through-hole plate inspection method for inspecting unevenness of light transmittance caused by dimensional abnormality of a through-hole plate, wherein a plurality of through-holes are arranged approximately periodically. An imaging step of irradiating a perforated plate with light from one main surface side thereof to image the perforated plate from the other main surface side, and obtaining gradation data of the captured image; and an individual step belonging to the gradation data. A low-frequency removing step of removing low-frequency components appearing in the data distribution and generating standardized data from the grayscale data, and scanning the standardized data for each predetermined area group, A variation calculation step of calculating the degree of variation of the data for each area group, and a maximum value and frequency of the degree of variation obtained for each area group, and the degree of variation of the calculated maximum value. The difference between the maximum frequency variation and Method of inspecting hole plate, characterized in that it comprises a Shimesuru presenting step.
【請求項6】 請求項5に記載の透孔板の検査方法にお
いて、 前記演算した最大値のばらつきの度合いと最大頻度のば
らつきの度合いとの差に基づいて検査対象である前記透
孔板についての前記ムラの良否判別を下す判別工程を、
前記提示工程に替えて或いは前記提示工程と共に有する
透孔板の検査方法。
6. The through-hole plate inspection method according to claim 5, wherein the through-hole plate to be inspected is based on a difference between the degree of variation in the calculated maximum value and the degree of variation in the maximum frequency. The determination step of determining the quality of the unevenness of
A method of inspecting a through-hole plate, which is provided in place of or together with the presenting step.
【請求項7】 多数の透孔が概周期的に配列された透孔
板について、透孔の寸法異常に起因して生じる光透過率
のムラを検査する透孔板の検査装置において、 前記透孔板を支持し、該支持された透孔板にその一方の
主面側から光を照射する照射手段と、 該光の照射された前記透孔板を他方の主面側から撮像
し、該撮像画像の階調データを求める撮像手段と、 前記階調データに属する個々のデータの分布に表われる
低周波成分を除去し、前記階調データから規格化データ
を生成する低周波除去手段と、 該規格化データを所定の領域群ごとに走査し、該領域群
に属する個々のデータのばらつきの度合いを前記領域群
ごとに演算するばらつき演算手段と、 前記領域群ごとに求めた前記ばらつきの度合いの最大値
と頻度とを演算し、該演算した最大値のばらつきの度合
いと最大頻度のばらつきの度合いとの差を提示する提示
手段と、を有することを特徴とする透孔板の検査装置。
7. A through-hole plate inspection apparatus for inspecting unevenness of light transmittance caused by dimensional abnormality of a through-hole plate, wherein a plurality of through-holes are arranged approximately periodically. Irradiation means for supporting the perforated plate and irradiating the supported perforated plate with light from one main surface side thereof, and imaging the perforated plate irradiated with the light from the other main surface side, An image pickup means for obtaining gradation data of a picked-up image, a low frequency removal means for removing low frequency components appearing in a distribution of individual data belonging to the gradation data, and generating standardized data from the gradation data, A variation calculation unit that scans the standardized data for each predetermined area group and calculates the degree of variation of individual data belonging to the area group, and the degree of the variation obtained for each area group. Of the maximum value and the frequency, and the calculated maximum Inspection device of the through-hole plate, characterized in that it has a, and presenting means for presenting the difference in the degree of variation in the degree and the maximum frequency variation of.
【請求項8】 請求項7に記載の透孔板の検査装置にお
いて、 前記演算した最大値のばらつきの度合いと最大頻度のば
らつきの度合いとの差に基づいて検査対象である前記透
孔板についての前記ムラの良否判別を下す判別手段を、
前記提示手段に替えて或いは前記提示手段と共に有する
透孔板の検査装置。
8. The through-hole plate inspection apparatus according to claim 7, wherein the through-hole plate to be inspected is based on a difference between the degree of variation in the calculated maximum value and the degree of variation in the maximum frequency. The determination means for determining the quality of the unevenness of
An inspection device for a through-hole plate, which is provided in place of or together with the presenting means.
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