JPH0967111A - 活性炭の製造方法 - Google Patents
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Abstract
炭を製造する方法において、造粒前の原料炭素質に、二
酸化チタンを添加し、鉄の含有重量が10%以下の容器
で賦活することを特徴とする活性炭の製造方法。 【効果】 活性炭の有害物質の除去能が大幅に向上す
る。
Description
製造方法に係るものである。本発明により製造される活
性炭は、二酸化チタンの活性炭粒への固定化という観点
において極めて優れており、活性炭の細孔を埋めること
なく、表面に二酸化チタンが存在するものである。ま
た、本発明により製造される活性炭は、紫外線や太陽光
照射下において、水中あるいは気相中有害物質の除去能
を大幅に向上させたもので、かかる活性炭は、上水処
理、下水処理、廃液処理、廃気ガス処理、悪臭除去等に
好適に使用される。
吸着能を有しており、水中あるいは気相中有害物質を吸
着除去するのに現在用いられている。近年、生活排水や
産業排水による水質汚染や海洋汚染、大気汚染などが地
球的規模で広がっている。合成洗剤などを含む生活排水
による湖・河川の富栄養化、ハイテク産業やクリーニン
グ店で使われている有機溶剤による地下水や水源の汚
染、ゴルフ場で使用される農薬の流出による水質の汚
染、などがその代表例である。
とんどは活性汚泥法であるが、微生物を用いるため、温
度、pH、ガス雰囲気、毒性などの条件が厳しく、しか
も上述の農薬や有機溶剤(ハロゲン化合物を含む)、界
面活性剤などを分解、除去しにくく、それらに対して無
力であるという欠点をもっている。このような生物学的
に難分解性の有機物の処理法としては、塩素処理法、オ
ゾン処理法、焼却処理法、活性炭吸着法などがある。塩
素処理法は、過剰注入による残留塩素、あるいは、被処
理水中に含まれる有機物と反応して発癌性を持つトリハ
ロメタンに代表される有機ハロゲン化合物を生成するな
どの問題がある。また、最近、浄水場等において、高度
浄水処理法として、オゾン処理が脚光を浴びているが、
設備費、運転費がともに高価であるという問題がある。
焼却処理法は、希薄溶液の場合には現実的でない。活性
炭吸着法は、非常に有効な方法ではあるが、有機ハロゲ
ン化合物の吸着除去能が若干劣り、水中の有害物質全て
に対して有効というわけではなかった。
除去においても、活性炭の吸着除去は有効である。一般
に、気相中の汚染成分を対象とする吸着技術は、水蒸気
や炭酸ガスの共存下で低濃度ガスに対して有効なもので
なければならない。活性炭は、そのような条件下で多種
類の有機、無機化合物に対して使用される。気相用活性
炭は、特に大きい比表面積と小孔径の細孔構造を持ち、
低濃度ガスに対する吸着親和性が大きい。また、その表
面が疎水性であるために水蒸気に対する吸着親和性が小
さく、気相中に混在する有害ガスや臭気物質、特に有機
化合物を効率良く除去することができる。しかし、吸着
親和性が弱いガスもあり、活性炭の吸着除去能は、全て
において万能というわけではなかった。
半導体光電極を用いて、光エネルギーを直接的に水の分
解に利用できることが、1969年に発見されて以来
(本多−藤嶋効果)、二酸化チタンに代表される光触媒
は、光エネルギーを化学エネルギーへ変換する有力な手
段になり得るものとして、世界的に様々な分野で研究開
発が活発に進められている。この光触媒反応は、光の助
けにより進む触媒反応であり、その反応系に触媒が共在
し、それだけでは反応が進まないが、光の照射によって
反応が促進されるものと定義されているが、通常の触媒
反応や光化学反応と深い関わり有する反面、それらの反
応と際だった相違を有するものである。通常の触媒はそ
の駆動力が熱であり、触媒の存在によって反応系が生成
系移行する速度が変化する。したがって、触媒の役割
は、その系の温度、圧力などで規定される平衡状態への
到達速度を制御するものであり、達成される反応は熱力
学的に進行可能な反応に限定される。これに対して、光
化学反応は、反応系に光が吸収され、物質の電子状態や
化学結合性に変化が生じることによって、生成系に変化
するものであり、通常の触媒反応のような熱反応では起
こすことのできない反応を実現できる。
励起状態に置かれた触媒が反応系に作用することにより
触媒表面でのみ反応が進行するものである。この触媒の
電子的励起状態は、光化学反応における励起種と同様、
電子の温度だけが極めて高くなった非平衡の状態に相当
するもので、その結果、熱力学的には反応が不可能であ
る温和な条件下であっても反応が進行する。これは、通
常の触媒反応で知られている「触媒は化学反応の平衡を
変えない」という大原則が光触媒反応では成り立たない
場合のあることを意味しており、光触媒反応の重要な特
徴となっている。この光触媒反応は、(1)半導体が光
を吸収し、励起して電子−正孔対を生じる光励起過程
と、(2)生成した電子および正孔が、半導体粒子内電
位勾配や拡散により各々表面に移動する電荷分離と移動
の過程、(3)表面に移動した正孔および電子が触媒に
吸着した基質と電子移動を起こし、各々酸化還元反応を
行う表面反応過程に分かれる。
37758として、光触媒能を有する二酸化チタンを表
面に適度に存在させた活性炭を提案した。さらに、特願
平7−187954として、粉砕した石炭に二酸化チタ
ンを添加して造粒し、解砕し、炭化し、賦活する石炭系
活性炭の製造方法を提案し、活性炭表面に二酸化チタン
が細孔を埋めることなく強固に固定化された活性炭を製
造した。しかしながら、二酸化チタンの光触媒能をより
高めるため、製造時の容器等からの不純物混入という半
導体励起にマイナス要因となる点を改善する必要があっ
た。
上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、原料炭素質
に二酸化チタンを添加して造粒し、解砕し、炭化し、賦
活する石炭系活性炭の製造方法において、容器として
は、一般に鉄系(ステンレス等)容器が用いられてい
る。全工程における不純物混入の分析を実施したとこ
ろ、特に、賦活時にFeの混入が顕著であることが判明
した。そこで、賦活時に鉄系容器を使用せずに、賦活を
行ったところ、鉄の混入の無い二酸化チタンが表面に存
在する活性炭が製造できることを見い出し本発明に到達
した。
を造粒し、炭化し、賦活して活性炭を製造する方法にお
いて、造粒前の原料炭素質に、二酸化チタンを添加し、
鉄の含有重量が10%以下の容器内で賦活することを特
徴とする活性炭の製造方法に存する。
まず、本発明で用いられる原料炭としては、たとえば、
ヤシ殻炭、コークス、木炭、石炭等があり、基本的に原
料の制約はない。原料炭を微粉砕するが、その粒度とし
ては、100μm以下が好ましく、更に好ましくは、7
5μm以下である。この微粉砕炭に、二酸化チタンと、
必要に応じ粘結剤とを加え、加熱混練し、ペレタイザ
ー、コンパクターや射出プレス等の造粒機で造粒する。
ないが、硬化炭化工程において、空気中150〜300
℃で硬化するものが好ましく、そして900℃以下の温
度で炭化されるものが好ましい。具体的には、コールタ
ール、ピッチ、糖密、樹液、デンプン、熱硬化性樹脂な
どが挙げられる。なお、原料炭として石炭を用いる場合
は通常は特に粘結剤は要さない。
は、ルチル型でも、アナターゼ型でも良く、その結晶形
は問わない。また、粒子径についても、造粒時に支障を
きたさなければ、特に制限するものではないが、通常1
0μm以下が好ましい。最終的な活性炭と二酸化チタン
の割合は、賦活の程度により異なるため、規定はできな
い。原料炭への二酸化チタンの混入量は特に制限するも
のではないが、造粒性を損ねない程度が好ましく、微粉
砕炭に対し大まかに40重量%以下、更に好ましく30
重量%以下が適当である。粘結剤の配合割合は、微粉砕
炭と二酸化チタンの総重量に対し、35〜60重量%程
度が好適である。
よるが、空気中で150〜300℃で硬化後、600〜
900℃程度に加熱乾留して炭素質有機物を分解炭化す
る。次に、賦活処理を行うが、本発明においては、鉄の
含有重量が10%以下の容器で賦活することを特徴とす
る。これにより、不純物の混入を少なくでき、その結
果、より光触媒能の高い二酸化チタンが活性炭粒の表面
に固定化できる点にある。
ついては、ステンレス等に代表される鉄系ものでなけれ
ば良く、特に制限するものではないが、たとえば、石
英、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニ
ア、アルミナ等のセラミックス、耐熱煉瓦、モネル、イ
ンコネル等のNi基合金等が好適に使用される。この賦
活処理は水蒸気の存在下で加熱することによる行う。こ
の賦活時の温度は、炭化時の温度より高い温度であれば
良く、好ましくは、900〜1100℃である。
性炭と同様に使用でき、流動床、固定床等の使用法を問
わない。従来の装置がそのまま使用可能であり、装置を
大型化する必要もない。さらに、本発明の活性炭を紫外
線や太陽光照射下で使用することにより、水中あるいは
気相中の有害物質の除去は、活性炭のみによる吸着除去
に比べ、二酸化チタンの光触媒反応による分解除去が加
わるため、その除去能は飛躍的に増加することになる。
特に、活性炭では従来、吸着除去が難しかった有機ハロ
ゲン化合物、臭気物質などが多く含まれる被処理水ある
いは被処理ガスなどにも好適に使用される。また、活性
炭に藻が生えにくくなることや、活性炭の再生までの時
間がより長くなること等の長所があるため、装置の維持
・管理が今まで以上に容易になる。
するが、本発明は、その要旨を越えない限り、下記実施
例により限定されるものではない。 (実施例1)瀝青炭1kgを1mm程度に粉砕し、石原
産業(株)製二酸化チタン(アナターゼ MC−50)
33gと混合し、更に振動式の粉砕機にて、45μm以
下に粉砕し、造粒後、0.6〜1.2mm程度に解砕し
た。窒素5リットル/min気流中750℃にて炭化を
行い、水蒸気50vol%を含む窒素ガスを1リットル/
minで導入した900℃の石英製キルン内で2h賦活
を行った。カルロエルバ社製(ソープトマチック210
0)の窒素吸着装置でBET法により測定したところ、
比表面積は1000m2/gであった。
ろ、表面に存在する二酸化チタンの結晶形はアナターゼ
とルチルであった。得られた活性炭のSEM観察(含む
EDX、SEM:日立製作所 S−4500、EDX:
Kevex社 Delta System)とTEM観
察(含むEDX、TEM:日立H−9000NA、Ke
vex社 Delta System))を行った。図
1に、SEM写真を示す。数百nmの粒が二酸化チタン
であることは、図2に示すSEM−EDXにより確認し
た(Au、Pdは蒸着粒子によるものである)。図3に
示すTEM写真の粒子の電子線回折(図4に粒子からの
制限視野電子線回折像を、図5に金薄膜の電子線回折リ
ファレンスを示す)によりアナターゼ(JCPDS N
o.21−1272)であることがわかった。この視野
で、図6に示すEDXスペクトルによる分析を行ったと
ころ、Tiのみが検出された(Cuはマイクログリッド
銅メッシュによるもの)。
ホルム20.3ppmの原水130mlに入れ、石英製容器
にて、25℃の恒温振とう機で、振とうしながら、14
0Wの紫外線ランプ照射下で、クロロホルム除去テスト
を行った。2時間後、ヘッドスペース法でクロロホルム
濃度の測定を行ったところ、7.1ppmに減少していた。
ンレス(SUS316)製キルンを用いて賦活を行った
以外は、実施例1と同様にして賦活を行い、比表面積の
測定、SEM観察(含むEDX)、TEM観察(含むE
DX)、クロロホルム除去テストを行った。比表面積は
1050m2/gであった。図7に示す表面の粒子のS
EM−EDXのX線スペクトルより、Ti以外にFeが
存在していることが確認された(Au、Pdは蒸着粒子
によるものである)。Feが検出されたのは、活性炭表
面のTi含有粒子の半分程度であった。電子線回折(写
真5)をとったところ、FeTiO3(イルメナイト
JCPDS No.29−0733)であることが確認
された。クロロホルム除去テストを行ったところ、2時
間後のクロロホルム濃度は9.3ppmであった。
外線ランプを照射しない以外は実施例1と同様にして、
クロロホルム除去テストを行ったところ、2時間後のク
ロロホルム濃度は11.7ppmであった。
外線ランプを照射しない以外は実施例1と同様にして、
クロロホルム除去テストを行ったところ、2時間後のク
ロロホルム濃度は12.1ppmであった。
有害物質の除去能を大幅に向上することができ、多大な
工業的利益を提供するものである。
子構造を示す図
す図
子構造を示す図
回折像による粒子構造を示す図
回折リファレンスによる粒子構造を示す図
示す図
TEM写真による粒子構造を示す図
TEM写真の粒子のEDXスペクトルを示す図
折像による粒子構造を示す図
折リファレンスによる結晶構造を示す図
Claims (1)
- 【請求項1】 原料炭を造粒し、炭化し、賦活して活
性炭を製造する方法において、造粒前の原料炭素質に、
二酸化チタンを添加し、鉄の含有重量が10%以下の容
器内で賦活することを特徴とする活性炭の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24540795A JP3663685B2 (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | 活性炭の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24540795A JP3663685B2 (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | 活性炭の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0967111A true JPH0967111A (ja) | 1997-03-11 |
JP3663685B2 JP3663685B2 (ja) | 2005-06-22 |
Family
ID=17133201
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24540795A Expired - Fee Related JP3663685B2 (ja) | 1995-08-30 | 1995-08-30 | 活性炭の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3663685B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11181969A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-06 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 耐汚染性に優れた高反射性表面処理板 |
JP2001321677A (ja) * | 2000-05-18 | 2001-11-20 | Kohjin Co Ltd | 酸化チタン・炭素複合粒子及びその製造方法 |
JP2007015885A (ja) * | 2005-07-07 | 2007-01-25 | Haruhiko Yamaguchi | 球状活性炭およびその製造方法 |
CN104841431A (zh) * | 2015-04-07 | 2015-08-19 | 上海应用技术学院 | 一种负载铁离子和TiO2的粉末活性炭复合光催化剂及其制备方法 |
KR20210036449A (ko) * | 2019-09-25 | 2021-04-05 | 주식회사 도시광부 | 커피 활성탄 탈취제의 제조방법 |
-
1995
- 1995-08-30 JP JP24540795A patent/JP3663685B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JP3663685B2 (ja) | 2005-06-22 |
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