JPH0957110A - Lewis acid catalyst - Google Patents

Lewis acid catalyst

Info

Publication number
JPH0957110A
JPH0957110A JP7219165A JP21916595A JPH0957110A JP H0957110 A JPH0957110 A JP H0957110A JP 7219165 A JP7219165 A JP 7219165A JP 21916595 A JP21916595 A JP 21916595A JP H0957110 A JPH0957110 A JP H0957110A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
lewis acid
acid catalyst
catalyst according
producing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7219165A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichi Mikami
幸一 三上
Osamu Kodera
治 小寺
Yukihiro Motoyama
幸弘 本山
Toshimichi Maruta
順道 丸田
Hiroaki Sakaguchi
博昭 阪口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Central Glass Co Ltd
Original Assignee
Central Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Central Glass Co Ltd filed Critical Central Glass Co Ltd
Priority to JP7219165A priority Critical patent/JPH0957110A/en
Publication of JPH0957110A publication Critical patent/JPH0957110A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a Lewis acid catalyst accelerated in reaction speed in org. synthesizing reaction due to various electron withdrawing reactions and in creased in catalytic activity by using a complex having a perfluoroalkanesulfonylamide group as a catalyst. SOLUTION: As a Lewis acid catalyst utilized in the production of medicines or agricultural chemicals, a substance represented by formula [X is -N(Tf <1> ) Tf <2> Tf <1> is -SO2 Rf <1> and Tf <2> is -SORf <2> (Rf <1> and R<2> are a lower perfluoroalkyl group}, R<1> is a cyclopentadienyl group, -OR<3> or -N(Tf <3> )R<4> , R<2> is a cylopenradienyl group,-OR<5> or-N(Tf <4> )R<6> Tf <3> is -SO2 Rf <3> , Tf <4> is -SO2 Rf <4> (Rf <4> Rf 4u$4x are a lower perfluoroalkyl group and R<3> -R<6> are a lower alkyl group, M is an element elected from rare earth elements and transition metals, n is an integer of the valency of M-2,-N(Tf <1> )Tf <2> , -N(Tf <3> )R<4> or -N(Tf <4> )R<6> is provided].

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品、農薬、各
種機能材料などの製造、あるいは、それらの中間体など
の製造に有用に利用される一般式[I]
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a general formula [I] useful for the production of pharmaceuticals, agricultural chemicals, various functional materials, and the intermediates thereof.

【0002】[0002]

【化33】 [Chemical 33]

【0003】[式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−
SO2f 1を表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。)を表す。〕を表し、R1は置換もし
くは非置換のシクロペンタジエニル基、−OR3または
−N(Tf 3)R4を表し、R2は置換もしくは非置換のシ
クロペンタジエニル基、−OR5または−N(Tf 4)R6
〔Tf 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3
およびRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パー
フルオロアルキル基を表す。)を表し、R3、R4、R5
およびR6はそれぞれ独立に低級アルキル基を表すか、
または、R3およびR5、R3およびR6、R 4およびR5
あるいは、R4およびR6がいっしょになって2価の基を
形成する。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希土類元
素、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、イン
ジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、
ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルルから
選ばれる元素を表し、nは該当するMの原子価−2の整
数を表し、−N(Tf 1)Tf 2、−N(Tf 3)R4または
−N(Tf 4)R6の少なくとも1つを有する。]で示さ
れるルイス酸触媒に関する。
[Where X is -N (Tf 1) Tf 2[Tf 1Is-
SO2Rf 1Represents Tf 2Is -SO2Rf 2(Rf 1And Rf 2
Are each independently a fluorine atom or a lower perfluoro group.
Represents a rukyl group. ). ], And R1Is a replacement
Or an unsubstituted cyclopentadienyl group, -ORThreeOr
-N (Tf Three) RFourRepresents R2Is a substituted or non-substituted
Clopentadienyl group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6
[Tf ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf Three
And Rf FourAre each independently a fluorine atom or a lower
Represents a fluoroalkyl group. ), RThree, RFour, RFive
And R6Each independently represent a lower alkyl group,
Or RThreeAnd RFive, RThreeAnd R6, R FourAnd RFive,
Alternatively, RFourAnd R6Together with divalent groups
Form. ], M is an alkaline earth metal, rare earth element
Element, transition metal, boron, aluminum, gallium, in
Dium, thallium, silicon, germanium, tin, lead,
From arsenic, antimony, bismuth, selenium or tellurium
Represents the selected element, n is the valence of the corresponding M -2
Represents the number, -N (Tf 1) Tf 2, -N (Tf Three) RFourOr
-N (Tf Four) R6At least one of ]
Lewis acid catalysts.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従来、金属塩をルイス
酸触媒として有機合成反応に用いる場合、通常のハロゲ
ン化物、酢酸塩、炭酸塩などの金属塩ではジクロロメタ
ンなどの非極性溶媒に対する溶解度が極めて小さいた
め、金属イオンに対する配位能が大きいエーテルやアセ
トニトリルなどの非プロトン性極性溶媒を用いる必要が
ある。しかしながら、これらの極性溶媒中では金属イオ
ンに溶媒分子が強く配位するため、反応基質に対する金
属イオンの親電子的なルイス酸触媒活性が極端に減少し
てしまうという問題点がある。
Conventionally, when a metal salt is used as a Lewis acid catalyst in an organic synthesis reaction, ordinary metal salts such as halides, acetates and carbonates have extremely high solubility in a non-polar solvent such as dichloromethane. Since it is small, it is necessary to use an aprotic polar solvent such as ether or acetonitrile, which has a large coordination ability for metal ions. However, in these polar solvents, solvent molecules are strongly coordinated with the metal ion, so that there is a problem that the electrophilic Lewis acid catalytic activity of the metal ion with respect to the reaction substrate is extremely reduced.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、求電子
反応による有機合成反応における触媒活性を増大させた
ルイス酸触媒を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a Lewis acid catalyst having an increased catalytic activity in an organic synthetic reaction by an electrophilic reaction.

【0006】本発明者らは、上記の従来の問題点に鑑
み、鋭意、検討の結果、種々のパーフルオロアルカンス
ルホニルイミド基を有する錯体を触媒として用いること
により、種々の求電子反応による有機合成反応において
反応速度が加速され、選択率および収率が向上し、特に
不斉な配位子を使用することにより、不斉合成反応にお
いて非常に高い選択性で不斉化合物を製造することがで
きることを見出し、本発明に到達した。
In view of the above-mentioned conventional problems, the present inventors have earnestly studied, and as a result, by using a complex having various perfluoroalkanesulfonylimide groups as a catalyst, organic synthesis by various electrophilic reactions is performed. The reaction rate is accelerated in the reaction, the selectivity and the yield are improved, and by using an asymmetric ligand, an asymmetric compound can be produced with extremely high selectivity in an asymmetric synthesis reaction. And has reached the present invention.

【0007】すなわち、本発明の第1は、一般式[I]That is, the first aspect of the present invention is the general formula [I]

【0008】[0008]

【化34】 Embedded image

【0009】[式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−
SO2f 1を表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。)を表す。〕を表し、R1は置換もし
くは非置換のシクロペンタジエニル基、−OR3または
−N(Tf 3)R4を表し、R2は置換もしくは非置換のシ
クロペンタジエニル基、−OR5または−N(Tf 4)R6
〔Tf 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3
およびRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パー
フルオロアルキル基を表す。)を表し、R3、R4、R5
およびR6はそれぞれ独立に低級アルキル基を表すか、
または、R3およびR5、R3およびR6、R 4およびR5
あるいは、R4およびR6がいっしょになって2価の基を
形成する。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希土類元
素、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、イン
ジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、
ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルルから
選ばれる元素を表し、nは該当するMの原子価−2の整
数を表し、−N(Tf 1)Tf 2、−N(Tf 3)R4または
−N(Tf 4)R6の少なくとも1つを有する。]で示さ
れるルイス酸触媒である。
[Wherein X is -N (Tf 1) Tf 2[Tf 1Is-
SO2Rf 1Represents Tf 2Is -SO2Rf 2(Rf 1And Rf 2
Are each independently a fluorine atom or a lower perfluoro group.
Represents a rukyl group. ). ], And R1Is a replacement
Or an unsubstituted cyclopentadienyl group, -ORThreeOr
-N (Tf Three) RFourRepresents R2Is a substituted or non-substituted
Clopentadienyl group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6
[Tf ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf Three
And Rf FourAre each independently a fluorine atom or a lower
Represents a fluoroalkyl group. ), RThree, RFour, RFive
And R6Each independently represent a lower alkyl group,
Or RThreeAnd RFive, RThreeAnd R6, R FourAnd RFive,
Alternatively, RFourAnd R6Together with divalent groups
Form. ], M is an alkaline earth metal, rare earth element
Element, transition metal, boron, aluminum, gallium, in
Dium, thallium, silicon, germanium, tin, lead,
From arsenic, antimony, bismuth, selenium or tellurium
Represents the selected element, n is the valence of the corresponding M -2
Represents the number, -N (Tf 1) Tf 2, -N (Tf Three) RFourOr
-N (Tf Four) R6At least one of ]
It is a Lewis acid catalyst.

【0010】また、本発明の第2は、一般式[II]The second aspect of the present invention is the general formula [II]

【0011】[0011]

【化35】 Embedded image

【0012】[式中、X’はハロゲン原子、−OR
7(R7は水素原子または低級アルキル基を表す。)、−
OOCR8(R8は低級アルキル基を表す。)または−O
3SR9(R 9は低級アルキル基または置換もしくは非置
換のアリール基を表す。)を表し、R1は置換もしくは
非置換のシクロペンタジエニル基、−OR3または−N
(Tf 3)R4を表し、R2は置換もしくは非置換のシクロ
ペンタジエニル基、−OR5または−N(Tf 4)R6〔T
f 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3およ
びRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフル
オロアルキル基を表す。)を表し、R3、R4、R5およ
びR6はそれぞれ独立に低級アルキル基を表すか、また
は、R3およびR5、R3およびR6、R4およびR5、ある
いは、R4およびR6がいっしょになって2価の基を形成
する。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希土類元素、
遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウ
ム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ
素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルルから選
ばれる元素を表し、nは該当するMの原子価−2の整数
を表す。]で示される化合物と一般式[III]
[Wherein X'is a halogen atom, -OR
7(R7Represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ),-
OOCR8(R8Represents a lower alkyl group. ) Or -O
ThreeSR9(R 9Is a lower alkyl group or substituted or non-substituted
Represents an alternative aryl group. ), R1Is replaced or
Unsubstituted cyclopentadienyl group, -ORThreeOr -N
(Tf Three) RFourRepresents R2Is a substituted or unsubstituted cyclo
Pentadienyl group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6[T
f ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf ThreeAnd
And Rf FourAre independently fluorine atom or lower perfume
Represents an oroalkyl group. ), RThree, RFour, RFiveAnd
And R6Each independently represent a lower alkyl group, or
Is RThreeAnd RFive, RThreeAnd R6, RFourAnd RFive,is there
Well, RFourAnd R6Together form a divalent group
I do. ], M is an alkaline earth metal, a rare earth element,
Transition metals, boron, aluminum, gallium, indium
Aluminum, thallium, silicon, germanium, tin, lead,
Select from elemental, antimony, bismuth, selenium or tellurium
Represents the element to be exposed, and n is the integer of the corresponding M valence-2.
Represents ] The compound and general formula [III]

【0013】[0013]

【化36】 Embedded image

【0014】[式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−
SO2f 1を表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。)を表す。〕を表し、M’は−H、−
Ag、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を表し、y
はM’が−H、−Agまたはアルカリ金属の場合には1
であり、M’がアルカリ土類金属の場合には2であ
る。]で示される化合物とを反応させることを特徴とす
る一般式[I]
[Wherein X is -N (T f 1 ) T f 2 [T f 1 is-
Represents SO 2 R f 1 , and T f 2 is —SO 2 R f 2 (R f 1 and R f 2
Each independently represents a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group. ) Represents. ], M'is -H,-
Represents Ag, an alkali metal or an alkaline earth metal, and y
Is 1 when M'is -H, -Ag or an alkali metal.
And is 2 when M ′ is an alkaline earth metal. ] The compound of general formula [I] characterized by reacting with a compound represented by

【0015】[0015]

【化37】 Embedded image

【0016】[式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−
SO2f 1を表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。)を表す。〕を表し、R1は置換もし
くは非置換のシクロペンタジエニル基、−OR3または
−N(Tf 3)R4を表し、R2は置換もしくは非置換のシ
クロペンタジエニル基、−OR5または−N(Tf 4)R6
〔Tf 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3
およびRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パー
フルオロアルキル基を表す。)を表し、R3、R4、R5
およびR6はそれぞれ独立に低級アルキル基を表すか、
または、R3およびR5、R3およびR6、R 4およびR5
あるいは、R4およびR6がいっしょになって2価の基を
形成する。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希土類元
素、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、イン
ジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、
ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルルから
選ばれる元素を表し、nは該当するMの原子価−2の整
数を表し、−N(Tf 1)Tf 2、−N(Tf 3)R4または
−N(Tf 4)R6の少なくとも1つを有する。]で示さ
れるルイス酸触媒の製造方法である。
[Where X is -N (Tf 1) Tf 2[Tf 1Is-
SO2Rf 1Represents Tf 2Is -SO2Rf 2(Rf 1And Rf 2
Are each independently a fluorine atom or a lower perfluoro group.
Represents a rukyl group. ). ], And R1Is a replacement
Or an unsubstituted cyclopentadienyl group, -ORThreeOr
-N (Tf Three) RFourRepresents R2Is a substituted or non-substituted
Clopentadienyl group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6
[Tf ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf Three
And Rf FourAre each independently a fluorine atom or a lower
Represents a fluoroalkyl group. ), RThree, RFour, RFive
And R6Each independently represent a lower alkyl group,
Or RThreeAnd RFive, RThreeAnd R6, R FourAnd RFive,
Alternatively, RFourAnd R6Together with divalent groups
Form. ], M is an alkaline earth metal, rare earth element
Element, transition metal, boron, aluminum, gallium, in
Dium, thallium, silicon, germanium, tin, lead,
From arsenic, antimony, bismuth, selenium or tellurium
Represents the selected element, n is the valence of the corresponding M -2
Represents the number, -N (Tf 1) Tf 2, -N (Tf Three) RFourOr
-N (Tf Four) R6At least one of ]
It is a method for producing a Lewis acid catalyst.

【0017】また、本発明の第3は、一般式[IV]The third aspect of the present invention is to formula [IV]

【0018】[0018]

【化38】 Embedded image

【0019】[式中、R1は置換もしくは非置換のシク
ロペンタジエニル基、−OR3または−N(Tf 3)R4
表し、R2は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニ
ル基、−OR5または−N(Tf 4)R6〔Tf 3は−SO2
f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3およびRf 4はそ
れぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキ
ル基を表す。)を表し、R3、R4、R5およびR6はそれ
ぞれ独立に低級アルキル基を表すか、または、R3およ
びR5、R3およびR6、R4およびR5、あるいは、R4
よびR6がいっしょになって2価の基を形成する。〕を
表す。]で示される化合物と一般式[V]
[Wherein R 1 represents a substituted or unsubstituted cyclopentadienyl group, -OR 3 or -N (T f 3 ) R 4 and R 2 represents a substituted or unsubstituted cyclopentadienyl group. , -OR 5 or -N (T f 4 ) R 6 [T f 3 is -SO 2
Represents R f 3 , T f 4 represents —SO 2 R f 4 (R f 3 and R f 4 independently represent a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group), and R 3 , R 4 , and R 5 and R 6 each independently represent a lower alkyl group, or R 3 and R 5 , R 3 and R 6 , R 4 and R 5 , or R 4 and R 6 together form a divalent group. Form a group. ]] Is represented. ] The compound and general formula [V]

【0020】[0020]

【化39】 Embedded image

【0021】[式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−
SO2f 1を表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。)を表す。〕を表し、Mはアルカリ土
類金属、希土類元素、遷移金属、ホウ素、アルミニウ
ム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマ
ニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレ
ンまたはテルルから選ばれる元素を表し、mは該当する
Mの原子価の整数を表す。]で示される化合物とを反応
させることを特徴とする一般式[I]
[Where X is -N (T f 1 ) T f 2 [T f 1 is-
Represents SO 2 R f 1 , and T f 2 is —SO 2 R f 2 (R f 1 and R f 2
Each independently represents a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group. ) Represents. ], M represents an element selected from alkaline earth metals, rare earth elements, transition metals, boron, aluminum, gallium, indium, thallium, silicon, germanium, tin, lead, arsenic, antimony, bismuth, selenium or tellurium. , M represents an integer corresponding to the valence of M. ] The compound of general formula [I] characterized by reacting with a compound represented by

【0022】[0022]

【化40】 [Chemical 40]

【0023】[式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−
SO2f 1を表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。)を表す。〕を表し、R1は置換もし
くは非置換のシクロペンタジエニル基、−OR3または
−N(Tf 3)R4を表し、R2は置換もしくは非置換のシ
クロペンタジエニル基、−OR5または−N(Tf 4)R6
〔Tf 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3
およびRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パー
フルオロアルキル基を表す。)を表し、R3、R4、R5
およびR6はそれぞれ独立に低級アルキル基を表すか、
または、R3およびR5、R3およびR6、R 4およびR5
あるいは、R4およびR6がいっしょになって2価の基を
形成する。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希土類元
素、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、イン
ジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、
ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルルから
選ばれる元素を表し、nは該当するMの原子価−2の整
数を表し、−N(Tf 1)Tf 2、−N(Tf 3)R4または
−N(Tf 4)R6の少なくとも1つを有する。]で示さ
れるルイス酸触媒の製造方法である。
[Wherein X is -N (Tf 1) Tf 2[Tf 1Is-
SO2Rf 1Represents Tf 2Is -SO2Rf 2(Rf 1And Rf 2
Are each independently a fluorine atom or a lower perfluoro group.
Represents a rukyl group. ). ], And R1Is a replacement
Or an unsubstituted cyclopentadienyl group, -ORThreeOr
-N (Tf Three) RFourRepresents R2Is a substituted or non-substituted
Clopentadienyl group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6
[Tf ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf Three
And Rf FourAre each independently a fluorine atom or a lower
Represents a fluoroalkyl group. ), RThree, RFour, RFive
And R6Each independently represent a lower alkyl group,
Or RThreeAnd RFive, RThreeAnd R6, R FourAnd RFive,
Alternatively, RFourAnd R6Together with divalent groups
Form. ], M is an alkaline earth metal, rare earth element
Element, transition metal, boron, aluminum, gallium, in
Dium, thallium, silicon, germanium, tin, lead,
From arsenic, antimony, bismuth, selenium or tellurium
Represents the selected element, n is the valence of the corresponding M -2
Represents the number, -N (Tf 1) Tf 2, -N (Tf Three) RFourOr
-N (Tf Four) R6At least one of ]
It is a method for producing a Lewis acid catalyst.

【0024】さらに、本発明の第4は、一般式[II]Furthermore, the fourth aspect of the present invention is to formula [II]

【0025】[0025]

【化41】 Embedded image

【0026】[式中、X’はハロゲン原子、−OR
7(R7は水素原子または低級アルキル基を表す。)、−
OOCR8(R8は低級アルキル基を表す。)または−O
3SR9(R 9は低級アルキル基または置換もしくは非置
換のアリール基を表す。)を表し、R1は置換もしくは
非置換のシクロペンタジエニル基、−OR3または−N
(Tf 3)R4を表し、R2は置換もしくは非置換のシクロ
ペンタジエニル基、−OR5または−N(Tf 4)R6〔T
f 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3およ
びRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフル
オロアルキル基を表す。)を表し、R3、R4、R5およ
びR6はそれぞれ独立に低級アルキル基を表すか、また
は、R3およびR5、R3およびR6、R4およびR5、ある
いは、R4およびR6がいっしょになって2価の基を形成
する。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希土類元素、
遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウ
ム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ
素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルルから選
ばれる元素を表し、nは該当するMの原子価−2の整数
を表す。]で示される化合物と一般式[III]
[Wherein X'is a halogen atom, -OR
7(R7Represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ),-
OOCR8(R8Represents a lower alkyl group. ) Or -O
ThreeSR9(R 9Is a lower alkyl group or substituted or non-substituted
Represents an alternative aryl group. ), R1Is replaced or
Unsubstituted cyclopentadienyl group, -ORThreeOr -N
(Tf Three) RFourRepresents R2Is a substituted or unsubstituted cyclo
Pentadienyl group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6[T
f ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf ThreeAnd
And Rf FourAre independently fluorine atom or lower perfume
Represents an oroalkyl group. ), RThree, RFour, RFiveAnd
And R6Each independently represent a lower alkyl group, or
Is RThreeAnd RFive, RThreeAnd R6, RFourAnd RFive,is there
Well, RFourAnd R6Together form a divalent group
I do. ], M is an alkaline earth metal, a rare earth element,
Transition metals, boron, aluminum, gallium, indium
Aluminum, thallium, silicon, germanium, tin, lead,
Select from elemental, antimony, bismuth, selenium or tellurium
Represents the element to be exposed, and n is the integer of the corresponding M valence-2.
Represents ] The compound and general formula [III]

【0027】[0027]

【化42】 Embedded image

【0028】[式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−
SO2f 1を表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。)を表す。〕を表し、M’は−H、−
Ag、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を表し、y
はM’が−H、−Agまたはアルカリ金属の場合には1
であり、M’がアルカリ土類金属の場合には2であ
る。]で示される化合物とを反応させることにより得ら
れるルイス酸触媒である。
[Where X is -N (T f 1 ) T f 2 [T f 1 is-
Represents SO 2 R f 1 , and T f 2 is —SO 2 R f 2 (R f 1 and R f 2
Each independently represents a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group. ) Represents. ], M'is -H,-
Represents Ag, an alkali metal or an alkaline earth metal, and y
Is 1 when M'is -H, -Ag or an alkali metal.
And is 2 when M ′ is an alkaline earth metal. ] It is a Lewis acid catalyst obtained by making it react with the compound shown by these.

【0029】さらには、本発明の第5は、一般式[I
V]
Furthermore, the fifth aspect of the present invention is to provide a compound represented by the general formula [I
V]

【0030】[0030]

【化43】 Embedded image

【0031】[式中、R1は置換もしくは非置換のシク
ロペンタジエニル基、−OR3または−N(Tf 3)R4
表し、R2は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニ
ル基、−OR5または−N(Tf 4)R6〔Tf 3は−SO2
f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3およびRf 4はそ
れぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキ
ル基を表す。)を表し、R3、R4、R5およびR6はそれ
ぞれ独立に低級アルキル基を表すか、または、R3およ
びR5、R3およびR6、R4およびR5、あるいは、R4
よびR6がいっしょになって2価の基を形成する。〕を
表す。]で示される化合物と一般式[V]
[Wherein R 1 represents a substituted or unsubstituted cyclopentadienyl group, -OR 3 or -N (T f 3 ) R 4 and R 2 represents a substituted or unsubstituted cyclopentadienyl group. , -OR 5 or -N (T f 4 ) R 6 [T f 3 is -SO 2
Represents R f 3 , T f 4 represents —SO 2 R f 4 (R f 3 and R f 4 independently represent a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group), and R 3 , R 4 , and R 5 and R 6 each independently represent a lower alkyl group, or R 3 and R 5 , R 3 and R 6 , R 4 and R 5 , or R 4 and R 6 together form a divalent group. Form a group. ]] Is represented. ] The compound and general formula [V]

【0032】[0032]

【化44】 Embedded image

【0033】[式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−
SO2f 1を表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。)を表す。〕を表し、Mはアルカリ土
類金属、希土類元素、遷移金属、ホウ素、アルミニウ
ム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマ
ニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレ
ンまたはテルルから選ばれる元素を表し、mは該当する
Mの原子価の整数を表す。]で示される化合物とを反応
させることにより得られるルイス酸触媒である。
[Where X is -N (T f 1 ) T f 2 [T f 1 is-
Represents SO 2 R f 1 , and T f 2 is —SO 2 R f 2 (R f 1 and R f 2
Each independently represents a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group. ) Represents. ], M represents an element selected from alkaline earth metals, rare earth elements, transition metals, boron, aluminum, gallium, indium, thallium, silicon, germanium, tin, lead, arsenic, antimony, bismuth, selenium or tellurium. , M represents an integer corresponding to the valence of M. ] It is a Lewis acid catalyst obtained by making it react with the compound shown by these.

【0034】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
一般式[I]で示されるルイス酸触媒の中心元素である
Mとしては、従来よりルイス酸として広く使用されてい
るチタン、アルミニウム、ホウ素などはもちろんのこ
と、その他の多くの元素を使用することができ、具体的
には、アルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属、ホウ
素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、
ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモン、
ビスマス、セレンまたはテルルから選ばれる元素を使用
することができる。
The present invention will be described in detail below. As M, which is the central element of the Lewis acid catalyst represented by the general formula [I] of the present invention, not only titanium, aluminum, boron, etc., which have been widely used as Lewis acids, but also many other elements can be used. It can be used, specifically, alkaline earth metals, rare earth elements, transition metals, boron, aluminum, gallium, indium, thallium,
Silicon, germanium, tin, lead, arsenic, antimony,
An element selected from bismuth, selenium or tellurium can be used.

【0035】なお、本発明における上記のアルカリ土類
金属とは、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ス
トロンチウム、バリウムまたはラジウムを示す。また、
本発明における上記の希土類元素とは、スカンジウム、
イットリウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネ
オジム、プロメチウム、サマリウム、ユーロピウム、ガ
ドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウ
ム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウムまたはルテ
チウムを示す。また、本発明における上記の遷移金属と
は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、
ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステ
ン、マンガン、テクネチウム、レニウム、鉄、ルテニウ
ム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニ
ッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミ
ウムまたは水銀を示す。
The above-mentioned alkaline earth metal in the present invention means beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium or radium. Also,
The rare earth element in the present invention is scandium,
Indicates yttrium, lanthanum, cerium, praseodymium, neodymium, promethium, samarium, europium, gadolinium, terbium, dysprosium, holmium, erbium, thulium, ytterbium or lutetium. Further, the above transition metal in the present invention, titanium, zirconium, hafnium, vanadium,
Indicates niobium, tantalum, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium, rhenium, iron, ruthenium, osmium, cobalt, rhodium, iridium, nickel, palladium, platinum, copper, silver, gold, zinc, cadmium or mercury.

【0036】また、本発明の一般式[I]で示されるル
イス酸触媒の中心元素であるMの配位子として使用され
るのは、Xとしては−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−SO2
f 1を表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2はそ
れぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキ
ル基を表す。)を表す。〕が使用され、R1としては置
換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、−OR3
または−N(Tf 3)R4が使用され、R2としては置換も
しくは非置換のシクロペンタジエニル基、−OR5また
は−N(Tf 4)R6〔Tf 3は−SO2f 3を表し、Tf 4
−SO2f 4(R f 3およびRf 4はそれぞれ独立にフッ素
原子または低級パーフルオロアルキル基を表す。)を表
し、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立に低級アル
キル基を表すか、または、R3およびR5、R3および
6、R4およびR5、あるいは、R4およびR6がいっし
ょになって2価の基を形成する。〕が使用される。これ
らの配位子X、R1およびR2は、どのような組み合わせ
としてもよいが、本発明の一般式[I]で示される化合
物が充分なルイス酸活性を示すためには、強力に電子を
引きつけるパーフルオロアルカンスルホニルイミド基−
N(Tf 1)Tf 2、−N(Tf 3)R4または−N(Tf 4
6のうちの少なくとも1つを有することが必要であ
り、より強いルイス酸活性を示すためには、これらのパ
ーフルオロアルカンスルホニルイミド基をより多く有す
ることが好ましい。
The compound represented by the general formula [I] of the present invention is
It is used as a ligand for M, which is the central element of the isosic acid catalyst.
What is X is -N (Tf 1) Tf 2[Tf 1Is -SO2
Rf 1Represents Tf 2Is -SO2Rf 2(Rf 1And Rf 2Haso
Each independently a fluorine atom or lower perfluoroalkyl
Represents a hydroxyl group. ). ] Is used and R1As
A substituted or unsubstituted cyclopentadienyl group, -ORThree
Or -N (Tf Three) RFourIs used and R2As a replacement
Or unsubstituted cyclopentadienyl group, -ORFiveAlso
Is -N (Tf Four) R6[Tf ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents Tf FourIs
-SO2Rf Four(R f ThreeAnd Rf FourAre each independently fluorine
Represents an atom or a lower perfluoroalkyl group. )
Then RThree, RFour, RFiveAnd R6Are independently lower al
Represents a kill group, or RThreeAnd RFive, RThreeand
R6, RFourAnd RFiveOr RFourAnd R6But
To form a divalent group. ] Is used. this
These ligands X and R1And R2What a combination
Or a compound represented by the general formula [I] of the present invention.
In order for a substance to exhibit sufficient Lewis acid activity,
Attracting perfluoroalkanesulfonylimide group-
N (Tf 1) Tf 2, -N (Tf Three) RFourOr -N (Tf Four)
R6Need to have at least one of
In order to exhibit stronger Lewis acid activity, these
-Has more fluoroalkanesulfonylimide groups
Preferably.

【0037】なお、本発明における上記の低級アルキル
基とは、炭素数1〜10の直鎖または分岐鎖を有するア
ルキル基を示し、具体的には、たとえば、メチル基、エ
チル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブ
チル基、iso−ブチル基、sec−ブチル基、ter
t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−
ヘプチル基、n−オクチル基などを挙げることができ
る。また、本発明における上記の低級パーフルオロアル
キル基とは、炭素数1〜10の直鎖または分岐鎖を有す
るパーフルオロアルキル基を示し、具体的には、たとえ
ば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、
n−ヘプタフルオロプロピル基、iso−ヘプタフルオ
ロプロピル基、n−ノナフルオロブチル基、iso−ノ
ナフルオロブチル基、sec−ノナフルオロブチル基、
tert−ノナフルオロブチル基、n−ウンデカフルオ
ロペンチル基、n−トリデカフルオロヘキシル基、n−
ペンタデカフルオロヘプチル基、n−ヘプタデカフルオ
ロオクチル基などを挙げることができる。
The above-mentioned lower alkyl group in the present invention means an alkyl group having a straight or branched chain having 1 to 10 carbon atoms, and specifically, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group. Group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, ter
t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-
Examples thereof include a heptyl group and an n-octyl group. Further, the above-mentioned lower perfluoroalkyl group in the present invention refers to a perfluoroalkyl group having a linear or branched chain having 1 to 10 carbon atoms, and specifically, for example, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group. Base,
n-heptafluoropropyl group, iso-heptafluoropropyl group, n-nonafluorobutyl group, iso-nonafluorobutyl group, sec-nonafluorobutyl group,
tert-nonafluorobutyl group, n-undecafluoropentyl group, n-tridecafluorohexyl group, n-
Examples thereof include a pentadecafluoroheptyl group and an n-heptadecafluorooctyl group.

【0038】また、本発明における上記のR3、R4、R
5、R6は、それぞれが独立に低級アルキル基である場合
の他、R1に含まれるR3またはR4とR2に含まれるR5
またはR6のうちの2つが一組となって、すなわち、R3
およびR5、R3およびR6、R4およびR5、あるいは、
4およびR6がいっしょになって2価の基を形成しても
よく、たとえば、
Further, the above R 3 , R 4 and R in the present invention are
5 and R 6 are each independently a lower alkyl group, or R 3 contained in R 1 or R 5 contained in R 4 and R 2.
Or two of R 6 are in a set, that is, R 3
And R 5 , R 3 and R 6 , R 4 and R 5 , or
R 4 and R 6 may together form a divalent group, for example:

【0039】[0039]

【化45】 Embedded image

【0040】[0040]

【化46】 Embedded image

【0041】[0041]

【化47】 Embedded image

【0042】[0042]

【化48】 Embedded image

【0043】などを挙げることができる。これらの例示
した2価の基は、いずれも不斉な基であり、このような
不斉な2価の基を有する場合には、本発明の一般式
[I]で示されるルイス酸触媒は、特に重要である。
And the like. All of these exemplified divalent groups are asymmetric groups, and when having such asymmetric divalent group, the Lewis acid catalyst represented by the general formula [I] of the present invention is , Especially important.

【0044】すなわち、このような場合には、本発明の
一般式[I]で示される化合物は、ルイス酸性と不斉な
配位子とを合わせ持つ触媒となり、この触媒を有機合成
反応に使用した場合、そのルイス酸性によって反応速度
が加速され、選択率および収率が向上するのと同時に、
その不斉な配位子の働きによって非常に高い選択性で不
斉化合物を製造することができることとなる。したがっ
て、特にこのような不斉な配位子を有する場合には、本
発明の一般式[I]で示されるルイス酸触媒は、医薬品
をはじめ、農薬、液晶材料などのさまざまな分野におい
て、非常に有用であり、かつ、極めて優れた触媒であ
る。
That is, in such a case, the compound represented by the general formula [I] of the present invention becomes a catalyst having both Lewis acidity and an asymmetric ligand, and this catalyst is used in the organic synthesis reaction. In that case, the Lewis acidity accelerates the reaction rate to improve the selectivity and yield, and at the same time,
Due to the action of the asymmetric ligand, an asymmetric compound can be produced with extremely high selectivity. Therefore, especially when it has such an asymmetric ligand, the Lewis acid catalyst represented by the general formula [I] of the present invention can be used in various fields such as pharmaceuticals, agricultural chemicals and liquid crystal materials. Is a very useful catalyst.

【0045】上記の本発明の一般式[I]で示されるル
イス酸触媒は、求電子反応による有機合成反応であれば
いずれの反応においても利用が可能であり、たとえば、
ディールス−アルダー反応、ヘテロ−ディールス−アル
ダー反応、マイケル付加反応、フリーデル−クラフト反
応、アルコール類やアミン類のアシル化反応、エン反
応、アルデヒド類のアリル化反応、アミン類の共役付加
反応、グリコシル化反応、オレフィン類の重合反応など
を挙げることができ、これらの反応において、上述のよ
うに非常に有用、かつ、極めて優れた触媒である。
The Lewis acid catalyst represented by the above general formula [I] of the present invention can be used in any reaction as long as it is an organic synthesis reaction by an electrophilic reaction.
Diels-Alder reaction, hetero-Diels-Alder reaction, Michael addition reaction, Friedel-Crafts reaction, acylation reaction of alcohols and amines, ene reaction, allylation reaction of aldehydes, conjugated addition reaction of amines, glycosyl The reaction is a polymerization reaction of olefins and the like. In these reactions, it is a very useful and extremely excellent catalyst as described above.

【0046】以上のような本発明の一般式[I]で示さ
れるルイス酸触媒は、種々の方法により製造することが
でき、たとえば、一般式[II]
The Lewis acid catalyst represented by the general formula [I] of the present invention as described above can be produced by various methods. For example, the general formula [II]

【0047】[0047]

【化49】 Embedded image

【0048】[式中、X’はハロゲン原子、−OR
7(R7は水素原子または低級アルキル基を表す。)、−
OOCR8(R8は低級アルキル基を表す。)または−O
3SR9(R 9は低級アルキル基または置換もしくは非置
換のアリール基を表す。)を表し、R1は置換もしくは
非置換のシクロペンタジエニル基、−OR3または−N
(Tf 3)R4を表し、R2は置換もしくは非置換のシクロ
ペンタジエニル基、−OR5または−N(Tf 4)R6〔T
f 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3およ
びRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフル
オロアルキル基を表す。)を表し、R3、R4、R5およ
びR6はそれぞれ独立に低級アルキル基を表すか、また
は、R3およびR5、R3およびR6、R4およびR5、ある
いは、R4およびR6がいっしょになって2価の基を形成
する。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希土類元素、
遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウ
ム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ
素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルルから選
ばれる元素を表し、nは該当するMの原子価−2の整数
を表す。]で示される化合物と一般式[III]
[Wherein X'is a halogen atom, -OR
7(R7Represents a hydrogen atom or a lower alkyl group. ),-
OOCR8(R8Represents a lower alkyl group. ) Or -O
ThreeSR9(R 9Is a lower alkyl group or substituted or non-substituted
Represents an alternative aryl group. ), R1Is replaced or
Unsubstituted cyclopentadienyl group, -ORThreeOr -N
(Tf Three) RFourRepresents R2Is a substituted or unsubstituted cyclo
Pentadienyl group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6[T
f ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf ThreeAnd
And Rf FourAre independently fluorine atom or lower perfume
Represents an oroalkyl group. ), RThree, RFour, RFiveAnd
And R6Each independently represent a lower alkyl group, or
Is RThreeAnd RFive, RThreeAnd R6, RFourAnd RFive,is there
Well, RFourAnd R6Together form a divalent group
I do. ], M is an alkaline earth metal, a rare earth element,
Transition metals, boron, aluminum, gallium, indium
Aluminum, thallium, silicon, germanium, tin, lead,
Select from elemental, antimony, bismuth, selenium or tellurium
Represents the element to be exposed, and n is the integer of the corresponding M valence-2.
Represents ] The compound and general formula [III]

【0049】[0049]

【化50】 Embedded image

【0050】[式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−
SO2f 1を表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。)を表す。〕を表し、M’は−H、−
Ag、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を表し、y
はM’が−H、−Agまたはアルカリ金属の場合には1
であり、M’がアルカリ土類金属の場合には2であ
る。]で示される化合物とを反応させることにより製造
することができる。
[Wherein, X is -N (T f 1 ) T f 2 [T f 1 is-
Represents SO 2 R f 1 , and T f 2 is —SO 2 R f 2 (R f 1 and R f 2
Each independently represents a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group. ) Represents. ], M'is -H,-
Represents Ag, an alkali metal or an alkaline earth metal, and y
Is 1 when M'is -H, -Ag or an alkali metal.
And is 2 when M ′ is an alkaline earth metal. ] It can manufacture by reacting with the compound shown by these.

【0051】また、本発明の一般式[I]で示されるル
イス酸触媒は、一般式[IV]
The Lewis acid catalyst represented by the general formula [I] of the present invention has the general formula [IV]

【0052】[0052]

【化51】 [Chemical 51]

【0053】[式中、R1は置換もしくは非置換のシク
ロペンタジエニル基、−OR3または−N(Tf 3)R4
表し、R2は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニ
ル基、−OR5または−N(Tf 4)R6〔Tf 3は−SO2
f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3およびRf 4はそ
れぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキ
ル基を表す。)を表し、R3、R4、R5およびR6はそれ
ぞれ独立に低級アルキル基を表すか、または、R3およ
びR5、R3およびR6、R4およびR5、あるいは、R4
よびR6がいっしょになって2価の基を形成する。〕を
表す。]で示される化合物と一般式[V]
[Wherein R 1 represents a substituted or unsubstituted cyclopentadienyl group, -OR 3 or -N (T f 3 ) R 4 and R 2 represents a substituted or unsubstituted cyclopentadienyl group. , -OR 5 or -N (T f 4 ) R 6 [T f 3 is -SO 2
Represents R f 3 , T f 4 represents —SO 2 R f 4 (R f 3 and R f 4 independently represent a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group), and R 3 , R 4 , and R 5 and R 6 each independently represent a lower alkyl group, or R 3 and R 5 , R 3 and R 6 , R 4 and R 5 , or R 4 and R 6 together form a divalent group. Form a group. ]] Is represented. ] The compound and general formula [V]

【0054】[0054]

【化52】 Embedded image

【0055】[式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−
SO2f 1を表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2
はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフルオロア
ルキル基を表す。)を表す。〕を表し、Mはアルカリ土
類金属、希土類元素、遷移金属、ホウ素、アルミニウ
ム、ガリウム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマ
ニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレ
ンまたはテルルから選ばれる元素を表し、mは該当する
Mの原子価の整数を表す。]で示される化合物とを反応
させることによっても製造することができる。
[Wherein X is -N (T f 1 ) T f 2 [T f 1 is-
Represents SO 2 R f 1 , and T f 2 is —SO 2 R f 2 (R f 1 and R f 2
Each independently represents a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group. ) Represents. ], M represents an element selected from alkaline earth metals, rare earth elements, transition metals, boron, aluminum, gallium, indium, thallium, silicon, germanium, tin, lead, arsenic, antimony, bismuth, selenium or tellurium. , M represents an integer corresponding to the valence of M. ] It can manufacture also by making it react with the compound shown by these.

【0056】これらの本発明の製造方法における出発原
料である一般式[II]で示される化合物、一般式[I
II]で示される化合物、一般式[IV]で示される化
合物および一般式[V]で示される化合物は、市販され
ているか、または、公知の方法により容易に製造するこ
とができ、いずれの化合物も容易に入手することができ
る。
The compound represented by the general formula [II] or the general formula [I] which is the starting material in these production methods of the present invention
The compound represented by II], the compound represented by the general formula [IV] and the compound represented by the general formula [V] are commercially available or can be easily produced by a known method. Can also be easily obtained.

【0057】また、これらの本発明の製造方法における
反応は、通常、溶媒を使用して行われるが、使用される
溶媒としては特に限定はなく、一般に使用されているも
のを広く使用することができ、たとえば、水、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノ
ール、n−ブタノール、iso−ブタノール、sec−
ブタノール、tert−ブタノール、n−ペンチルアル
コール、n−ヘキシルアルコールなどのアルコール類、
n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オク
タンなどの脂肪族炭化水素類、シクロペンタン、シクロ
ヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタンなどの脂環
式炭化水素類、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m
−キシレン、p−キシレンなどの芳香族炭化水素類、四
塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン(EDC)、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼ
ン、m−ジクロロベンゼン、p−ジクロロベンゼンなど
のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン(THF)、エチレングリコー
ルジメチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン
類、酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトンなど
のエステル類、アセトニトリル、ベンゾニトリルなどの
ニトリル類、ピリジンなどの第3級アミン類、N,N−
ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルア
セトアミド(DMAc)、N−メチルピロリドンなどの
酸アミド類、ジメチルスルホキシド(DMSO)、スル
ホランなどの含硫黄化合物類、ニトロメタン、ニトロエ
タンなどのニトロ化合物類、酢酸、プロピオン酸、酪
酸、イソ酪酸などの有機酸類、無水酢酸、無水プロピオ
ン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸などの有機酸無水物類な
どを挙げることができる。
The reaction in these production methods of the present invention is usually carried out using a solvent, but the solvent used is not particularly limited, and commonly used ones may be widely used. Yes, for example, water, methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, iso-butanol, sec-
Alcohols such as butanol, tert-butanol, n-pentyl alcohol and n-hexyl alcohol,
Aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-hexane, n-heptane, and n-octane, alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, and cyclooctane, benzene, toluene, o-xylene, m
-Aromatic hydrocarbons such as xylene and p-xylene, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, dichloromethane, dichloroethane (EDC), chlorobenzene, o-dichlorobenzene, m-dichlorobenzene and p-dichlorobenzene , Ethers such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran (THF) and ethylene glycol dimethyl ether, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate and γ-butyrolactone, acetonitrile, benzonitrile etc. Nitriles, tertiary amines such as pyridine, N, N-
Acid amides such as dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc) and N-methylpyrrolidone, sulfur-containing compounds such as dimethyl sulfoxide (DMSO) and sulfolane, nitro compounds such as nitromethane and nitroethane, acetic acid Examples thereof include organic acids such as propionic acid, butyric acid, and isobutyric acid, and organic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, and isobutyric anhydride.

【0058】[0058]

【発明の実施の形態】以下、実施例により、本発明の実
施の形態を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施
例に限定されるものではない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0059】[0059]

【実施例】実施例1(触媒の調製) ビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸(562m
g、2mmol)をジクロロメタン(8mL)に溶解
し、これに式[VI]で示される化合物(295μL、
1mmol)をアルゴン雰囲気下、室温で添加した。室
温で撹拌後、減圧下、溶媒を留去した。固体の残渣をペ
ンタンで洗浄し、ペンタン/エーテルから再結晶し、式
[VII]で示される化合物を得た。
Example 1 (Preparation of catalyst) Bistrifluoromethanesulfonylimidic acid (562 m
g, 2 mmol) was dissolved in dichloromethane (8 mL), and the compound of the formula [VI] (295 μL,
1 mmol) was added at room temperature under an argon atmosphere. After stirring at room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure. The solid residue was washed with pentane and recrystallized from pentane / ether to give the compound of formula [VII].

【0060】[0060]

【化53】 Embedded image

【0061】[0061]

【化54】 Embedded image

【0062】実施例2(触媒の調製) 式[VIII]で示される化合物(5mmol)を無水
アセトニトリルに溶解し、これにビストリフルオロメタ
ンスルホニルイミド銀(10mmol)の無水アセトニ
トリル溶液を添加し、撹拌した。ろ過後、無色のろ液上
に注意深くヘキサン層を形成した。24時間放置後、式
[IX]で示される化合物を白色の結晶として得た。
Example 2 (Preparation of catalyst) The compound (5 mmol) represented by the formula [VIII] was dissolved in anhydrous acetonitrile, and a solution of bistrifluoromethanesulfonylimide silver (10 mmol) in anhydrous acetonitrile was added and stirred. . After filtration, a hexane layer was carefully formed on the colorless filtrate. After standing for 24 hours, the compound of the formula [IX] was obtained as white crystals.

【0063】[0063]

【化55】 Embedded image

【0064】[0064]

【化56】 Embedded image

【0065】実施例3(触媒の調製) 式[X]で示される化合物(5mmol)を無水アセト
ニトリルに溶解し、これにビストリフルオロメタンスル
ホニルイミド銀(10mmol)の無水アセトニトリル
溶液を添加し、撹拌した。ろ過後、無色のろ液上に注意
深くヘキサン層を形成した。24時間放置後、式[X
I]で示される化合物を結晶として得た。
Example 3 (Preparation of catalyst) A compound (5 mmol) represented by the formula [X] was dissolved in anhydrous acetonitrile, and a solution of bistrifluoromethanesulfonylimide silver (10 mmol) in anhydrous acetonitrile was added and stirred. . After filtration, a hexane layer was carefully formed on the colorless filtrate. After leaving for 24 hours, the formula [X
I] was obtained as a crystal.

【0066】[0066]

【化57】 Embedded image

【0067】[0067]

【化58】 Embedded image

【0068】実施例4(触媒の調製) 式[XII]で示される(1R,2R)−1,2−ジフ
ェニルエチレンジアミンのビストリフィルアミド(48
mg、0.1mmol)をテトラヒドロフラン(2m
L)中、水素化ナトリウム(0.2mmol)と室温で
30分間反応させた。これにビストリフルオロメタンス
ルホニルイミドイッテルビウム(101mg、0.1m
mol)および水(1.2mmol)を添加し、撹拌し
た。1時間撹拌後、減圧下、溶媒を留去し、式[XII
I]で示される化合物を得た。
Example 4 (Preparation of catalyst ) Bistrifilamide of (1R, 2R) -1,2-diphenylethylenediamine represented by the formula [XII] (48)
mg, 0.1 mmol) in tetrahydrofuran (2 m
L) was reacted with sodium hydride (0.2 mmol) at room temperature for 30 minutes. Bistrifluoromethanesulfonylimide ytterbium (101 mg, 0.1 m
mol) and water (1.2 mmol) were added and stirred. After stirring for 1 hour, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the compound of the formula [XII
I] was obtained.

【0069】[0069]

【化59】 Embedded image

【0070】[0070]

【化60】 Embedded image

【0071】実施例5(触媒の調製) ビストリフルオロメタンスルホニルイミドイッテルビウ
ムの代わりにビストリフルオロメタンスルホニルイミド
イットリウムを用いた他は実施例4と全く同様にして式
[XIV]で示される化合物を得た。
Example 5 (Preparation of catalyst) A compound represented by the formula [XIV] was obtained in exactly the same manner as in Example 4 except that yttrium bistrifluoromethanesulfonylimide was used instead of ytterbium. .

【0072】[0072]

【化61】 [Chemical formula 61]

【0073】実施例6(フリーデル−クラフト反応) 実施例1で得られた式[VII]で示される化合物
(0.07mmol)をニトロエタン(3mL)に溶解
し、これにアニソール(109μL、1mmol)およ
び無水酢酸(188μL、2mmol)を室温で添加し
た。室温で5分間撹拌した後、エーテル(5mL)で希
釈し、飽和NaHCO3水溶液(10mL)を加えた。
ろ過後、ろ液をエーテルで3回(合計15mL)抽出し
た。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した。有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去し
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1)により精製し、式[X
V]で示される化合物(R=−CH3)を収率86%で
得た。
Example 6 (Friedel-Crafts reaction) The compound represented by the formula [VII] (0.07 mmol) obtained in Example 1 was dissolved in nitroethane (3 mL), and anisole (109 μL, 1 mmol) was dissolved therein. And acetic anhydride (188 μL, 2 mmol) was added at room temperature. After stirring at room temperature for 5 minutes, it was diluted with ether (5 mL) and saturated NaHCO 3 aqueous solution (10 mL) was added.
After filtration, the filtrate was extracted with ether three times (15 mL in total). The organic layers were combined and washed with saturated saline. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. Purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 3/1), and purified by the formula [X
Compounds represented by V] a (R = -CH 3) was obtained in 86% yield.

【0074】[0074]

【化62】 Embedded image

【0075】実施例7(フリーデル−クラフト反応) 実施例1で得られた式[VII]で示される化合物
(0.02mmol)をニトロエタン(3mL)に溶解
し、これにジフェニルエーテル(1mmol)および無
水酢酸(188μL、2mmol)を室温で添加した。
室温で1時間撹拌した後、エーテル(5mL)で希釈
し、飽和NaHCO3水溶液(10mL)を加えた。ろ
過後、ろ液をエーテルで3回(合計15mL)抽出し
た。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した。有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去し
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ヘ
キサン/酢酸エチル=3/1)により精製し、式[X
V]で示される化合物(R=−C56)を収率60%で
得た。
Example 7 (Friedel-Crafts reaction) The compound of the formula [VII] (0.02 mmol) obtained in Example 1 was dissolved in nitroethane (3 mL), and diphenyl ether (1 mmol) and anhydrous were added thereto. Acetic acid (188 μL, 2 mmol) was added at room temperature.
After stirring at room temperature for 1 hour, the mixture was diluted with ether (5 mL), and saturated aqueous NaHCO 3 solution (10 mL) was added. After filtration, the filtrate was extracted with ether three times (15 mL in total). The organic layers were combined and washed with saturated saline. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. Purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 3/1), and purified by the formula [X
Compounds represented by V] a (R = -C 5 H 6) was obtained in 60% yield.

【0076】実施例8(アルコール類のアシル化反応) 実施例1で得られた式[VII]で示される化合物
(0.01mmol)をジクロロメタン(3mL)に溶
解し、これに1−フェニル−1−プロパノール(137
μL、1mmol)および無水酢酸(113μL、1.
2mmol)を室温で添加した。室温で1分間撹拌した
後、エーテル(5mL)で希釈し、飽和NaHCO3
溶液(10mL)を加えた。ろ過後、ろ液をエーテルで
3回(合計15mL)抽出した。有機層を合わせ、飽和
食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧下、溶媒を留去し、1−アセトキシ−1−フ
ェニルプロパンを収率90%で得た。
Example 8 (Acylation reaction of alcohols) The compound (0.01 mmol) represented by the formula [VII] obtained in Example 1 was dissolved in dichloromethane (3 mL), and 1-phenyl-1 was added thereto. -Propanol (137
μL, 1 mmol) and acetic anhydride (113 μL, 1.
2 mmol) was added at room temperature. After stirring at room temperature for 1 minute, it was diluted with ether (5 mL) and saturated aqueous NaHCO 3 solution (10 mL) was added. After filtration, the filtrate was extracted with ether three times (15 mL in total). The organic layers were combined and washed with saturated saline. After drying the organic layer over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1-acetoxy-1-phenylpropane in a yield of 90%.

【0077】実施例9(アルコール類のアシル化反応) 実施例1で得られた式[VII]で示される化合物
(0.02mmol)をジクロロメタン(3mL)に溶
解し、これにフェノール(1mmol)および無水酢酸
(113μL、1.2mmol)を室温で添加した。室
温で1分間撹拌した後、エーテル(5mL)で希釈し、
飽和NaHCO3水溶液(10mL)を加えた。ろ過
後、ろ液をエーテルで3回(合計15mL)抽出した。
有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去し、ア
セトキシベンゼンを定量的に得た。
Example 9 (Acylation reaction of alcohols) The compound (0.02 mmol) represented by the formula [VII] obtained in Example 1 was dissolved in dichloromethane (3 mL), and phenol (1 mmol) and Acetic anhydride (113 μL, 1.2 mmol) was added at room temperature. After stirring at room temperature for 1 minute, dilute with ether (5 mL),
Saturated aqueous NaHCO 3 solution (10 mL) was added. After filtration, the filtrate was extracted with ether three times (15 mL in total).
The organic layers were combined and washed with saturated saline. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to quantitatively obtain acetoxybenzene.

【0078】実施例10(アルコール類のアシル化反
応) 溶媒としてジクロロメタンの代わりにトルエンを用いた
他は実施例9と全く同様にしてアセトキシベンゼンを定
量的に得た。
Example 10 (Acylation reaction of alcohols)
(V) Acetoxybenzene was quantitatively obtained in the same manner as in Example 9 except that toluene was used as the solvent instead of dichloromethane.

【0079】実施例11(アルコール類のアシル化反
応) 実施例1で得られた式[VII]で示される化合物
(0.02mmol)をジクロロメタン(3mL)に溶
解し、これに2,6−ビス(tert−ブチル)−4−
メチルフェノール(1mmol)および無水酢酸(11
3μL、1.2mmol)を室温で添加した。室温で1
時間撹拌した後、エーテル(5mL)で希釈し、飽和N
aHCO3水溶液(10mL)を加えた。ろ過後、ろ液
をエーテルで3回(合計15mL)抽出した。有機層を
合わせ、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去し、1−アセト
キシ−2,6−ビス(tert−ブチル)−4−メチル
ベンゼンを定量的に得た。
Example 11 (Acylation reaction of alcohols)
The compound of formula [VII] (0.02 mmol) obtained in Example 1 was dissolved in dichloromethane (3 mL), and 2,6-bis (tert-butyl) -4- was added thereto.
Methylphenol (1 mmol) and acetic anhydride (11
3 μL, 1.2 mmol) was added at room temperature. 1 at room temperature
After stirring for an hour, dilute with ether (5 mL) and sat.
Aqueous aHCO 3 solution (10 mL) was added. After filtration, the filtrate was extracted with ether three times (15 mL in total). The organic layers were combined and washed with saturated saline. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to quantitatively obtain 1-acetoxy-2,6-bis (tert-butyl) -4-methylbenzene.

【0080】実施例12(アルコール類のアシル化反
応) 溶媒としてジクロロメタンの代わりにアセトニトリルを
用い、撹拌時間1時間を1分間とした他は実施例11と
全く同様にして1−アセトキシ−2,6−ビス(ter
t−ブチル)−4−メチルベンゼンを定量的に得た。
Example 12 (Acylation reaction of alcohols)
Using acetonitrile instead of dichloromethane as response) solvent, except that the stirring time 1 hour was set to 1 minute in the same manner as in Example 11 1-acetoxy-2,6-bis (ter
tert-Butyl) -4-methylbenzene was quantitatively obtained.

【0081】実施例13(アミン類のアシル化反応) 実施例1で得られた式[VII]で示される化合物
(0.006mmol)をジクロロメタン(3mL)に
溶解し、これに1−フェニルエチルアミン(1mmo
l)および無水酢酸(113μL、1.2mmol)を
0℃で添加した。0℃で5分間撹拌した後、酢酸エチル
(5mL)で希釈し、飽和NaHCO3水溶液(10m
L)を加えた。ろ過後、ろ液を酢酸エチルで3回(合計
15mL)抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗
浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
下、溶媒を留去し、N−(1−フェニルエチル)アセト
アミドを定量的に得た。
Example 13 (Acylation reaction of amines) The compound of the formula [VII] (0.006 mmol) obtained in Example 1 was dissolved in dichloromethane (3 mL), and 1-phenylethylamine ( 1 mmo
1) and acetic anhydride (113 μL, 1.2 mmol) were added at 0 ° C. After stirring at 0 ° C. for 5 minutes, dilute with ethyl acetate (5 mL) and add saturated aqueous NaHCO 3 solution (10 m
L) was added. After filtration, the filtrate was extracted with ethyl acetate three times (15 mL in total). The organic layers were combined and washed with saturated saline. After drying the organic layer over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to quantitatively obtain N- (1-phenylethyl) acetamide.

【0082】実施例14(アミン類のアシル化反応) 実施例1で得られた式[VII]で示される化合物
(0.01mmol)をジクロロメタン(3mL)に溶
解し、これに1−フェニルエチルアミン(1mmol)
および無水安息香酸(1.2mmol)を0℃で添加し
た。0℃で15分間撹拌した後、酢酸エチル(5mL)
で希釈し、飽和NaHCO3水溶液(10mL)を加え
た。ろ過後、ろ液を酢酸エチルで3回(合計15mL)
抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した。有
機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、溶媒を
留去し、N−(1−フェニルエチル)ベンズアミドを定
量的に得た。
Example 14 (Acylation reaction of amines) The compound (0.01 mmol) represented by the formula [VII] obtained in Example 1 was dissolved in dichloromethane (3 mL), and 1-phenylethylamine ( 1 mmol)
And benzoic anhydride (1.2 mmol) were added at 0 ° C. After stirring for 15 minutes at 0 ° C., ethyl acetate (5 mL)
Diluted with and saturated aqueous NaHCO 3 solution (10 mL) was added. After filtration, the filtrate was thrice with ethyl acetate (15 mL in total).
Extracted. The organic layers were combined and washed with saturated saline. After drying the organic layer over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure to quantitatively obtain N- (1-phenylethyl) benzamide.

【0083】実施例15(アミン類の共役付加反応) 実施例1で得られた式[VII]で示される化合物
(0.02mmol)をテトラヒドロフラン(2mL)
に溶解し、これに式[XVI]で示される化合物(1m
mol)およびフェニルメチルアミン(155μL、
1.5mmol)を室温で添加した。撹拌後、酢酸エチ
ル(5mL)で希釈し、飽和NaHCO3水溶液(10
mL)を加えた。ろ過後、ろ液を酢酸エチルで3回(合
計15mL)抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で
洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減
圧下、溶媒を留去し、式[XVII]で示される化合物
を収率25%で得た。
Example 15 (Conjugate addition reaction of amines) The compound (0.02 mmol) represented by the formula [VII] obtained in Example 1 was converted into tetrahydrofuran (2 mL).
And the compound of the formula [XVI] (1 m
mol) and phenylmethylamine (155 μL,
1.5 mmol) was added at room temperature. After stirring, it was diluted with ethyl acetate (5 mL) and saturated aqueous NaHCO 3 solution (10
mL) was added. After filtration, the filtrate was extracted with ethyl acetate three times (15 mL in total). The organic layers were combined and washed with saturated saline. The organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was evaporated under reduced pressure to give the compound represented by the formula [XVII] in a yield of 25%.

【0084】[0084]

【化63】 Embedded image

【0085】[0085]

【化64】 Embedded image

【0086】実施例16(ディールス−アルダー反応) 実施例1で得られた式[VII]で示される化合物
(0.01mmol)をジクロロメタン(2mL)に溶
解し、これにメタクロレイン(166μL、2mmo
l)および1−アセトキシ−1,3−ブタジエン(16
9μL、1mmol)を0℃で添加した。0℃で3時間
撹拌した後、エーテル(5mL)で希釈し、飽和NaH
CO3水溶液(10mL)を加えた。ろ過後、ろ液をエ
ーテルで3回(合計15mL)抽出した。有機層を合わ
せ、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチ
ル=3/1)により精製し、6−ホルミル−6−メチル
シクロヘキサ−2−エニルアセテートを収率54%で得
た。
Example 16 (Diels-Alder reaction) The compound (0.01 mmol) represented by the formula [VII] obtained in Example 1 was dissolved in dichloromethane (2 mL), and methacrolein (166 μL, 2 mmo) was dissolved therein.
1) and 1-acetoxy-1,3-butadiene (16
9 μL, 1 mmol) was added at 0 ° C. After stirring for 3 hours at 0 ° C., dilute with ether (5 mL) and sat.
It was added CO 3 solution (10 mL). After filtration, the filtrate was extracted with ether three times (15 mL in total). The organic layers were combined and washed with saturated saline. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. Purification by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 3/1) gave 6-formyl-6-methylcyclohex-2-enyl acetate in a yield of 54%.

【0087】実施例17(ヘテロ−ディールス−アルダ
ー反応) 実施例4で得られた式[XIII]で示される化合物
(0.1mmol)をトルエン(3mL)に溶解し、−
78℃に冷却し、これにブチルグリオキシレート(13
0mg、1mmol)および3−(tert−ブチルジ
メチルシリルオキシ)−1−メトキシ−1,3−ブタジ
エン(257mg、1.2mmol)を添加した。−7
8℃で30分間撹拌した後、エーテル(15mL)で希
釈し、ろ過した。ろ液を0℃に冷却し、トリフルオロ酢
酸(0.08mL、1.05mmol)を加え、飽和N
aHCO3水溶液を加え、エーテルで3回(合計15m
L)抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄し
た。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、
溶媒を留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=2/1)により精製
し、ブチル(S)−2,3−ジヒドロ−4−オキソ−4
H−ピラン−2−カルボキシレートを収率69%、光学
純度70%eeで得た。
Example 17 (Hetero-Diels-Arda
Over reaction) the compound represented by the formula [XIII] obtained in Example 4 (0.1 mmol) was dissolved in toluene (3 mL), -
Cool to 78 ° C. and add to it butyl glyoxylate (13
0 mg, 1 mmol) and 3- (tert-butyldimethylsilyloxy) -1-methoxy-1,3-butadiene (257 mg, 1.2 mmol) were added. -7
After stirring at 8 ° C for 30 minutes, it was diluted with ether (15 mL) and filtered. The filtrate was cooled to 0 ° C., trifluoroacetic acid (0.08 mL, 1.05 mmol) was added, and saturated N 2
aHCO 3 aqueous solution was added, and 3 times with ether (total 15 m
L) extracted. The organic layers were combined and washed with saturated saline. After drying the organic layer with anhydrous magnesium sulfate, under reduced pressure,
The solvent was distilled off. Purified by silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate = 2/1), butyl (S) -2,3-dihydro-4-oxo-4
H-pyran-2-carboxylate was obtained with a yield of 69% and an optical purity of 70% ee.

【0088】実施例18(ヘテロ−ディールス−アルダ
ー反応) 実施例4で得られた式[XIII]で示される化合物の
代わりに実施例5で得られた式[XIV]で示される化
合物を用いた他は実施例17と全く同様にしてブチル
(S)−2,3−ジヒドロ−4−オキソ−4H−ピラン
−2−カルボキシレートを収率59%、光学純度43%
eeで得た。
Example 18 (Hetero-Diels-Arda
-Reaction) In the same manner as in Example 17, except that the compound represented by the formula [XIV] obtained in Example 5 was used instead of the compound represented by the formula [XIII] obtained in Example 4, (S) -2,3-dihydro-4-oxo-4H-pyran-2-carboxylate yield 59%, optical purity 43%
Obtained in ee.

【0089】実施例19(ヘテロ−ディールス−アルダ
ー反応) 式[XII]で示される(1R,2R)−1,2−ジフ
ェニルエチレンジアミンのビストリフィルアミド(48
mg、0.1mmol)をテトラヒドロフラン(2m
L)に溶解し、これにビストリフルオロメタンスルホニ
ルイミドイッテルビウム(101mg、0.1mmo
l)および水(1.2mmol)を添加し、撹拌した。
1時間撹拌後、減圧下、溶媒を留去した。トルエン(3
mL)を添加し、−78℃に冷却し、これにブチルグリ
オキシレート(130mg、1mmol)および3−
(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)−1−メト
キシ−1,3−ブタジエン(257mg、1.2mmo
l)を添加した。−78℃で30分間撹拌した後、エー
テル(15mL)で希釈し、ろ過した。ろ液を0℃に冷
却し、トリフルオロ酢酸(0.08mL、1.05mm
ol)を加え、飽和NaHCO3水溶液を加え、エーテ
ルで3回(合計15mL)抽出した。有機層を合わせ、
飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧下、溶媒を留去した。シリカゲルカラム
クロマトグラフィー(溶出液:ヘキサン/酢酸エチル=
2/1)により精製し、ブチル(S)−2,3−ジヒド
ロ−4−オキソ−4H−ピラン−2−カルボキシレート
を収率55%、光学純度65%eeで得た。
Example 19 (Hetero-Diels-Arda
-Reaction) Bistrifilamide of (1R, 2R) -1,2-diphenylethylenediamine (48 ) represented by the formula [XII]
mg, 0.1 mmol) in tetrahydrofuran (2 m
L), and added thereto bistrifluoromethanesulfonylimide ytterbium (101 mg, 0.1 mmo
1) and water (1.2 mmol) were added and stirred.
After stirring for 1 hour, the solvent was distilled off under reduced pressure. Toluene (3
mL) and cooled to −78 ° C., to which butyl glyoxylate (130 mg, 1 mmol) and 3-
(Tert-Butyldimethylsilyloxy) -1-methoxy-1,3-butadiene (257 mg, 1.2 mmo
l) was added. After stirring at −78 ° C. for 30 minutes, it was diluted with ether (15 mL) and filtered. The filtrate was cooled to 0 ° C. and trifluoroacetic acid (0.08 mL, 1.05 mm
ol), a saturated aqueous NaHCO 3 solution was added, and the mixture was extracted with ether three times (15 mL in total). Combine the organic layers,
Washed with saturated saline. After the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. Silica gel column chromatography (eluent: hexane / ethyl acetate =
2/1) to obtain butyl (S) -2,3-dihydro-4-oxo-4H-pyran-2-carboxylate with a yield of 55% and an optical purity of 65% ee.

【0090】実施例20(ヘテロ−ディールス−アルダ
ー反応) ビストリフルオロメタンスルホニルイミドイッテルビウ
ムの代わりにビストリフルオロメタンスルホニルイミド
イットリウム(0.1mmol)を用いた他は実施例1
9と全く同様にしてブチル(S)−2,3−ジヒドロ−
4−オキソ−4H−ピラン−2−カルボキシレートを収
率36%、光学純度64%eeで得た。
Example 20 (Hetero-Diels-Arda
Over reaction) was used bistrifluoromethanesulfonylimide yttrium (0.1 mmol) in place of bis-trifluoromethanesulfonyl imide ytterbium Example 1
Butyl (S) -2,3-dihydro-in exactly the same manner as in 9.
4-oxo-4H-pyran-2-carboxylate was obtained with a yield of 36% and an optical purity of 64% ee.

【0091】[0091]

【発明の効果】本発明のルイス酸触媒を用いることによ
り、求電子反応による有機合成反応における反応速度が
加速され、また、選択率および収率が向上する。特に、
不斉な配位子を使用することにより、不斉合成反応にお
いて非常に高い選択性で不斉化合物を製造することがで
きる。
By using the Lewis acid catalyst of the present invention, the reaction rate in the organic synthesis reaction by the electrophilic reaction is accelerated, and the selectivity and the yield are improved. Especially,
By using an asymmetric ligand, an asymmetric compound can be produced with extremely high selectivity in an asymmetric synthesis reaction.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸田 順道 埼玉県川越市今福中台2805番地 セントラ ル硝子株式会社化学研究所内 (72)発明者 阪口 博昭 山口県宇部市大字沖宇部5253番地 セント ラル硝子株式会社化学研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Junmichi Maruta 2805 Imafuku Nakadai, Kawagoe City, Saitama Central Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Hiroaki Sakaguchi 5253 Oki Ube, Ube City, Yamaguchi Prefecture Central Glass Chemical Laboratory Co., Ltd.

Claims (43)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式[I] 【化1】 [式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−SO2f 1
表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2はそれぞれ
独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を
表す。)を表す。〕を表し、R1は置換もしくは非置換
のシクロペンタジエニル基、−OR3または−N
(Tf 3)R4を表し、R2は置換もしくは非置換のシクロ
ペンタジエニル基、−OR5または−N(Tf 4)R6〔T
f 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3およ
びRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフル
オロアルキル基を表す。)を表し、R3、R4、R5およ
びR6はそれぞれ独立に低級アルキル基を表すか、また
は、R3およびR5、R3およびR6、R 4およびR5、ある
いは、R4およびR6がいっしょになって2価の基を形成
する。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希土類元素、
遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウ
ム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ
素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルルから選
ばれる元素を表し、nは該当するMの原子価−2の整数
を表し、−N(Tf 1)Tf 2、−N(Tf 3)R4または−
N(Tf 4)R6の少なくとも1つを有する。]で示され
るルイス酸触媒。
1. A compound represented by the general formula [I]:[In the formula, X is -N (Tf 1) Tf 2[Tf 1Is -SO2Rf 1To
Represent, Tf 2Is -SO2Rf 2(Rf 1And Rf 2Are each
Independently a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group
Represent. ). ], And R1Is substituted or unsubstituted
Cyclopentadienyl group, -ORThreeOr -N
(Tf Three) RFourRepresents R2Is a substituted or unsubstituted cyclo
Pentadienyl group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6[T
f ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf ThreeAnd
And Rf FourAre independently fluorine atom or lower perfume
Represents an oroalkyl group. ), RThree, RFour, RFiveAnd
And R6Each independently represent a lower alkyl group, or
Is RThreeAnd RFive, RThreeAnd R6, R FourAnd RFive,is there
Well, RFourAnd R6Together form a divalent group
I do. ], M is an alkaline earth metal, a rare earth element,
Transition metals, boron, aluminum, gallium, indium
Aluminum, thallium, silicon, germanium, tin, lead,
Select from elemental, antimony, bismuth, selenium or tellurium
Represents the element to be exposed, and n is the integer of the corresponding M valence-2.
, -N (Tf 1) Tf 2, -N (Tf Three) RFourOr-
N (Tf Four) R6At least one of ]
Lewis acid catalyst.
【請求項2】R3およびR5、R3およびR6、R4および
5、あるいは、R4およびR6がいっしょになって 【化2】 【化3】 【化4】 【化5】 で表される基を形成する請求項1記載のルイス酸触媒。
2. R 3 and R 5 , R 3 and R 6 , R 4 and R 5 , or R 4 and R 6 are taken together. Embedded image Embedded image Embedded image The Lewis acid catalyst according to claim 1, which forms a group represented by:
【請求項3】R3およびR5、R3およびR6、R4および
5、あるいは、R4およびR6がいっしょになって 【化6】 で表される基を形成する請求項1記載のルイス酸触媒。
3. R 3 and R 5 , R 3 and R 6 , R 4 and R 5 , or R 4 and R 6 together. The Lewis acid catalyst according to claim 1, which forms a group represented by:
【請求項4】R1およびR2がシクロペンタジエニル基で
ある請求項1記載のルイス酸触媒。
4. The Lewis acid catalyst according to claim 1, wherein R 1 and R 2 are cyclopentadienyl groups.
【請求項5】R1が−OR3であり、R2が−OR5(R3
およびR5はそれぞれ独立に低級アルキル基を表す。)
である請求項1記載のルイス酸触媒。
5. R 1 is —OR 3 and R 2 is —OR 5 (R 3
And R 5 each independently represent a lower alkyl group. )
The Lewis acid catalyst according to claim 1, wherein
【請求項6】R3およびR5がiso−プロピル基である
請求項5記載のルイス酸触媒。
6. The Lewis acid catalyst according to claim 5, wherein R 3 and R 5 are iso-propyl groups.
【請求項7】R1が−OR3であり、R2が−OR5(R3
およびR5はいっしょになって2価の基を形成する。)
である請求項1記載のルイス酸触媒。
7. R 1 is —OR 3 and R 2 is —OR 5 (R 3
And R 5 together form a divalent group. )
The Lewis acid catalyst according to claim 1, wherein
【請求項8】R3およびR5がいっしょになって 【化7】 で表される基を形成する請求項7記載のルイス酸触媒。8. R 3 and R 5 are joined together The Lewis acid catalyst according to claim 7, which forms a group represented by: 【請求項9】R1が−N(Tf 3)R4であり、R2が−N
(Tf 4)R6〔Tf 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−SO
2f 4(Rf 3およびRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子ま
たは低級パーフルオロアルキル基を表す。)を表し、R
4およびR6はいっしょになって2価の基を形成する。〕
である請求項1記載のルイス酸触媒。
9. R 1 is --N (T f 3 ) R 4 and R 2 is --N.
(T f 4) R 6 [T f 3 represents -SO 2 R f 3, T f 4 is -SO
2 R f 4 (R f 3 and R f 4 each independently represent a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group), and R
4 and R 6 together form a divalent group. ]
The Lewis acid catalyst according to claim 1, wherein
【請求項10】R4およびR6がいっしょになって 【化8】 で表される基を形成する請求項9記載のルイス酸触媒。10. R 4 and R 6 are taken together and embedded image The Lewis acid catalyst according to claim 9, which forms a group represented by: 【請求項11】Tf 1、Tf 2、Tf 3およびTf 4が−SO2
CF3である請求項1〜請求項10のいずれかに記載の
ルイス酸触媒。
11. T f 1 , T f 2 , T f 3 and T f 4 are --SO 2.
The Lewis acid catalyst according to claim 1, which is CF 3 .
【請求項12】Mが希土類元素、チタン、ジルコニウ
ム、ハフニウム、ホウ素またはアルミニウムから選ばれ
る元素である請求項1〜請求項11のいずれかに記載の
ルイス酸触媒。
12. The Lewis acid catalyst according to claim 1, wherein M is an element selected from rare earth elements, titanium, zirconium, hafnium, boron or aluminum.
【請求項13】Mがイットリウム、イッテルビウム、チ
タンまたはジルコニウムから選ばれる元素である請求項
1〜請求項11のいずれかに記載のルイス酸触媒。
13. The Lewis acid catalyst according to claim 1, wherein M is an element selected from yttrium, ytterbium, titanium or zirconium.
【請求項14】一般式[II] 【化9】 [式中、X’はハロゲン原子、−OR7(R7は水素原子
または低級アルキル基を表す。)、−OOCR8(R8
低級アルキル基を表す。)または−O3SR9(R 9は低
級アルキル基または置換もしくは非置換のアリール基を
表す。)を表し、R1は置換もしくは非置換のシクロペ
ンタジエニル基、−OR3または−N(Tf 3)R4を表
し、R2は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル
基、−OR5または−N(Tf 4)R6〔Tf 3は−SO2f
3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3およびRf 4はそれぞ
れ独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基
を表す。)を表し、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ
独立に低級アルキル基を表すか、または、R3および
5、R3およびR6、R4およびR5、あるいは、R4およ
びR6がいっしょになって2価の基を形成する。〕を表
し、Mはアルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属、ホ
ウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウ
ム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモ
ン、ビスマス、セレンまたはテルルから選ばれる元素を
表し、nは該当するMの原子価−2の整数を表す。]で
示される化合物と一般式[III] 【化10】 [式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−SO2f 1
表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2はそれぞれ
独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を
表す。)を表す。〕を表し、M’は−H、−Ag、アル
カリ金属またはアルカリ土類金属を表し、yはM’が−
H、−Agまたはアルカリ金属の場合には1であり、
M’がアルカリ土類金属の場合には2である。]で示さ
れる化合物とを反応させることを特徴とする一般式
[I] 【化11】 [式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−SO2f 1
表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2はそれぞれ
独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を
表す。)を表す。〕を表し、R1は置換もしくは非置換
のシクロペンタジエニル基、−OR3または−N
(Tf 3)R4を表し、R2は置換もしくは非置換のシクロ
ペンタジエニル基、−OR5または−N(Tf 4)R6〔T
f 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3およ
びRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフル
オロアルキル基を表す。)を表し、R3、R4、R5およ
びR6はそれぞれ独立に低級アルキル基を表すか、また
は、R3およびR5、R3およびR6、R 4およびR5、ある
いは、R4およびR6がいっしょになって2価の基を形成
する。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希土類元素、
遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウ
ム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ
素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルルから選
ばれる元素を表し、nは該当するMの原子価−2の整数
を表し、−N(Tf 1)Tf 2、−N(Tf 3)R4または−
N(Tf 4)R6の少なくとも1つを有する。]で示され
るルイス酸触媒の製造方法。
14. A compound represented by the general formula [II]:[In the formula, X'is a halogen atom, -OR7(R7Is a hydrogen atom
Alternatively, it represents a lower alkyl group. ), -OOCR8(R8Is
Represents a lower alkyl group. ) Or -OThreeSR9(R 9Is low
A primary alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group
Represent. ), R1Is a substituted or unsubstituted cyclope
Interdienyl group, -ORThreeOr -N (Tf Three) RFourThe table
Then R2Is a substituted or unsubstituted cyclopentadienyl
Group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6[Tf ThreeIs -SO2Rf
ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf ThreeAnd Rf FourEach
Independently fluorine atom or lower perfluoroalkyl group
Represents ), RThree, RFour, RFiveAnd R6Are each
Independently represents a lower alkyl group, or RThreeand
RFive, RThreeAnd R6, RFourAnd RFiveOr RFourAnd
And R6Together form a divalent group. ] To the table
M is an alkaline earth metal, a rare earth element, a transition metal,
Arsenic, aluminum, gallium, indium, tariu
Aluminum, silicon, germanium, tin, lead, arsenic, antimony
Element selected from nitrogen, bismuth, selenium or tellurium
Where n represents the integer of the corresponding M valence-2. ]so
A compound of the formula [III][In the formula, X is -N (Tf 1) Tf 2[Tf 1Is -SO2Rf 1To
Represent, Tf 2Is -SO2Rf 2(Rf 1And Rf 2Are each
Independently a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group
Represent. ). ], M'is -H, -Ag, al
Represents a potassium metal or an alkaline earth metal, and y is M'-
1 in the case of H, -Ag or alkali metal,
It is 2 when M'is an alkaline earth metal. ]
General formula characterized by reacting with a compound
[I][In the formula, X is -N (Tf 1) Tf 2[Tf 1Is -SO2Rf 1To
Represent, Tf 2Is -SO2Rf 2(Rf 1And Rf 2Are each
Independently a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group
Represent. ). ], And R1Is substituted or unsubstituted
Cyclopentadienyl group, -ORThreeOr -N
(Tf Three) RFourRepresents R2Is a substituted or unsubstituted cyclo
Pentadienyl group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6[T
f ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf ThreeAnd
And Rf FourAre independently fluorine atom or lower perfume
Represents an oroalkyl group. ), RThree, RFour, RFiveAnd
And R6Each independently represent a lower alkyl group, or
Is RThreeAnd RFive, RThreeAnd R6, R FourAnd RFive,is there
Well, RFourAnd R6Together form a divalent group
I do. ], M is an alkaline earth metal, a rare earth element,
Transition metals, boron, aluminum, gallium, indium
Aluminum, thallium, silicon, germanium, tin, lead,
Select from elemental, antimony, bismuth, selenium or tellurium
Represents the element to be exposed, and n is the integer of the corresponding M valence-2.
, -N (Tf 1) Tf 2, -N (Tf Three) RFourOr-
N (Tf Four) R6At least one of ]
Method for producing Lewis acid catalyst.
【請求項15】R3およびR5、R3およびR6、R4およ
びR5、あるいは、R4およびR6がいっしょになって 【化12】 【化13】 【化14】 【化15】 で表される基を形成する請求項14記載のルイス酸触媒
の製造方法。
15. R 3 and R 5 , R 3 and R 6 , R 4 and R 5 , or R 4 and R 6 are taken together. Embedded image Embedded image Embedded image 15. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 14, which forms a group represented by:
【請求項16】R3およびR5、R3およびR6、R4およ
びR5、あるいは、R4およびR6がいっしょになって 【化16】 で表される基を形成する請求項14記載のルイス酸触媒
の製造方法。
16. R 3 and R 5 , R 3 and R 6 , R 4 and R 5 , or R 4 and R 6 together. 15. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 14, which forms a group represented by:
【請求項17】R1およびR2がシクロペンタジエニル基
である請求項14記載のルイス酸触媒の製造方法。
17. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 14, wherein R 1 and R 2 are cyclopentadienyl groups.
【請求項18】R1が−OR3であり、R2が−OR5(R
3およびR5はそれぞれ独立に低級アルキル基を表す。)
である請求項14記載のルイス酸触媒の製造方法。
18. R 1 is —OR 3 and R 2 is —OR 5 (R
3 and R 5 each independently represent a lower alkyl group. )
15. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 14.
【請求項19】R3およびR5がiso−プロピル基であ
る請求項18記載のルイス酸触媒の製造方法。
19. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 18, wherein R 3 and R 5 are iso-propyl groups.
【請求項20】R1が−OR3であり、R2が−OR5(R
3およびR5はいっしょになって2価の基を形成する。)
である請求項14記載のルイス酸触媒の製造方法。
20. R 1 is —OR 3 and R 2 is —OR 5 (R
3 and R 5 together form a divalent group. )
15. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 14.
【請求項21】R3およびR5がいっしょになって 【化17】 で表される基を形成する請求項20記載のルイス酸触媒
の製造方法。
21. R 3 and R 5 are joined together 21. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 20, which forms a group represented by:
【請求項22】R1が−N(Tf 3)R4であり、R2が−
N(Tf 4)R6〔Tf 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−S
2f 4(Rf 3およびRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子
または低級パーフルオロアルキル基を表す。)を表し、
4およびR6はいっしょになって2価の基を形成す
る。〕である請求項14記載のルイス酸触媒の製造方
法。
22. R 1 is -N (T f 3 ) R 4 and R 2 is-.
N (T f 4) R 6 [T f 3 represents -SO 2 R f 3, T f 4 is -S
And O 2 R f 4 (R f 3 and R f 4 each independently represent a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group),
R 4 and R 6 together form a divalent group. ] The manufacturing method of the Lewis acid catalyst of Claim 14 which is these.
【請求項23】R4およびR6がいっしょになって 【化18】 で表される基を形成する請求項22記載のルイス酸触媒
の製造方法。
23. R 4 and R 6 are joined together 23. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 22, wherein a group represented by: is formed.
【請求項24】Tf 1、Tf 2、Tf 3およびTf 4が−SO2
CF3である請求項14〜請求項23のいずれかに記載
のルイス酸触媒の製造方法。
24. T f 1 , T f 2 , T f 3 and T f 4 are --SO 2.
Manufacturing method of a Lewis acid catalyst according to any one of CF 3 in which claims 14 to 23.
【請求項25】Mが希土類元素、チタン、ジルコニウ
ム、ハフニウム、ホウ素またはアルミニウムから選ばれ
る元素である請求項14〜請求項24のいずれかに記載
のルイス酸触媒の製造方法。
25. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 14, wherein M is an element selected from rare earth elements, titanium, zirconium, hafnium, boron or aluminum.
【請求項26】Mがイットリウム、イッテルビウム、チ
タンまたはジルコニウムから選ばれる元素である請求項
14〜請求項24のいずれかに記載のルイス酸触媒の製
造方法。
26. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 14, wherein M is an element selected from yttrium, ytterbium, titanium or zirconium.
【請求項27】X’がハロゲン原子または−OR7(R7
は低級アルキル基を表す。)であり、M’が−Hまたは
−Agである請求項14〜請求項26のいずれかに記載
のルイス酸触媒の製造方法。
27. X ′ is a halogen atom or —OR 7 (R 7
Represents a lower alkyl group. ) And M'is -H or -Ag. 27. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 14.
【請求項28】X’が塩素原子またはiso−プロピル
基であり、M’が−Hまたは−Agである請求項14〜
請求項26のいずれかに記載のルイス酸触媒の製造方
法。
28. The method according to claim 14, wherein X'is a chlorine atom or an iso-propyl group, and M'is -H or -Ag.
The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 26.
【請求項29】一般式[IV] 【化19】 [式中、R1は置換もしくは非置換のシクロペンタジエ
ニル基、−OR3または−N(Tf 3)R4を表し、R2
置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、−OR
5または−N(Tf 4)R6〔Tf 3は−SO2f 3を表し、
f 4は−SO2f 4(Rf 3およびRf 4はそれぞれ独立に
フッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を表
す。)を表し、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立
に低級アルキル基を表すか、または、R3およびR5、R
3およびR6、R4およびR5、あるいは、R4およびR6
いっしょになって2価の基を形成する。〕を表す。]で
示される化合物と一般式[V] 【化20】 [式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−SO2f 1
表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2はそれぞれ
独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を
表す。)を表す。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希
土類元素、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウ
ム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、ス
ズ、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテ
ルルから選ばれる元素を表し、mは該当するMの原子価
の整数を表す。]で示される化合物とを反応させること
を特徴とする一般式[I] 【化21】 [式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−SO2f 1
表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2はそれぞれ
独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を
表す。)を表す。〕を表し、R1は置換もしくは非置換
のシクロペンタジエニル基、−OR3または−N
(Tf 3)R4を表し、R2は置換もしくは非置換のシクロ
ペンタジエニル基、−OR5または−N(Tf 4)R6〔T
f 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3およ
びRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子または低級パーフル
オロアルキル基を表す。)を表し、R3、R4、R5およ
びR6はそれぞれ独立に低級アルキル基を表すか、また
は、R3およびR5、R3およびR6、R 4およびR5、ある
いは、R4およびR6がいっしょになって2価の基を形成
する。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希土類元素、
遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウ
ム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ
素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテルルから選
ばれる元素を表し、nは該当するMの原子価−2の整数
を表し、−N(Tf 1)Tf 2、−N(Tf 3)R4または−
N(Tf 4)R6の少なくとも1つを有する。]で示され
るルイス酸触媒の製造方法。
29. A compound represented by the general formula [IV]:[Wherein, R1Is a substituted or unsubstituted cyclopentadiene
Nyl group, -ORThreeOr -N (Tf Three) RFourRepresents R2Is
Substituted or unsubstituted cyclopentadienyl group, -OR
FiveOr -N (Tf Four) R6[Tf ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents
Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf ThreeAnd Rf FourAre independently
Represents a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group
You. ), RThree, RFour, RFiveAnd R6Are independent
Represents a lower alkyl group, or RThreeAnd RFive, R
ThreeAnd R6, RFourAnd RFiveOr RFourAnd R6But
Together they form a divalent group. ]] Is represented. ]so
The compounds shown and the general formula [V][In the formula, X is -N (Tf 1) Tf 2[Tf 1Is -SO2Rf 1To
Represent, Tf 2Is -SO2Rf 2(Rf 1And Rf 2Are each
Independently a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group
Represent. ). ], M is an alkaline earth metal, rare
Earth elements, transition metals, boron, aluminum, galiu
Aluminum, indium, thallium, silicon, germanium, stainless steel
, Lead, arsenic, antimony, bismuth, selenium or te
Represents an element selected from Lulu, m is the valence of the corresponding M
Represents an integer. ] Reacting with a compound represented by
The general formula [I] is characterized by:[In the formula, X is -N (Tf 1) Tf 2[Tf 1Is -SO2Rf 1To
Represent, Tf 2Is -SO2Rf 2(Rf 1And Rf 2Are each
Independently a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group
Represent. ). ], And R1Is substituted or unsubstituted
Cyclopentadienyl group, -ORThreeOr -N
(Tf Three) RFourRepresents R2Is a substituted or unsubstituted cyclo
Pentadienyl group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6[T
f ThreeIs -SO2Rf ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf ThreeAnd
And Rf FourAre independently fluorine atom or lower perfume
Represents an oroalkyl group. ), RThree, RFour, RFiveAnd
And R6Each independently represent a lower alkyl group, or
Is RThreeAnd RFive, RThreeAnd R6, R FourAnd RFive,is there
Well, RFourAnd R6Together form a divalent group
I do. ], M is an alkaline earth metal, a rare earth element,
Transition metals, boron, aluminum, gallium, indium
Aluminum, thallium, silicon, germanium, tin, lead,
Select from elemental, antimony, bismuth, selenium or tellurium
Represents the element to be exposed, and n is the integer of the corresponding M valence-2.
, -N (Tf 1) Tf 2, -N (Tf Three) RFourOr-
N (Tf Four) R6At least one of ]
Method for producing Lewis acid catalyst.
【請求項30】R3およびR5、R3およびR6、R4およ
びR5、あるいは、R4およびR6がいっしょになって 【化22】 【化23】 【化24】 【化25】 で表される基を形成する請求項29記載のルイス酸触媒
の製造方法。
30. R 3 and R 5 , R 3 and R 6 , R 4 and R 5 , or R 4 and R 6 are taken together. Embedded image Embedded image Embedded image 30. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 29, wherein the group represented by: is formed.
【請求項31】R3およびR5、R3およびR6、R4およ
びR5、あるいは、R4およびR6がいっしょになって 【化26】 で表される基を形成する請求項29記載のルイス酸触媒
の製造方法。
31. R 3 and R 5 , R 3 and R 6 , R 4 and R 5 , or R 4 and R 6 are taken together. 30. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 29, wherein the group represented by: is formed.
【請求項32】R1およびR2がシクロペンタジエニル基
である請求項29記載のルイス酸触媒の製造方法。
32. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 29, wherein R 1 and R 2 are cyclopentadienyl groups.
【請求項33】R1が−OR3であり、R2が−OR5(R
3およびR5はそれぞれ独立に低級アルキル基を表す。)
である請求項29記載のルイス酸触媒の製造方法。
33. R 1 is -OR 3 and R 2 is -OR 5 (R
3 and R 5 each independently represent a lower alkyl group. )
30. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 29.
【請求項34】R3およびR5がiso−プロピル基であ
る請求項33記載のルイス酸触媒の製造方法。
34. The process for producing a Lewis acid catalyst according to claim 33, wherein R 3 and R 5 are iso-propyl groups.
【請求項35】R1が−OR3であり、R2が−OR5(R
3およびR5はいっしょになって2価の基を形成する。)
である請求項29記載のルイス酸触媒の製造方法。
35. R 1 is —OR 3 and R 2 is —OR 5 (R
3 and R 5 together form a divalent group. )
30. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 29.
【請求項36】R3およびR5がいっしょになって 【化27】 で表される基を形成する請求項35記載のルイス酸触媒
の製造方法。
36. R 3 and R 5 are joined together 36. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 35, wherein the group represented by: is formed.
【請求項37】R1が−N(Tf 3)R4であり、R2が−
N(Tf 4)R6〔Tf 3は−SO2f 3を表し、Tf 4は−S
2f 4(Rf 3およびRf 4はそれぞれ独立にフッ素原子
または低級パーフルオロアルキル基を表す。)を表し、
4およびR6はいっしょになって2価の基を形成す
る。〕である請求項29記載のルイス酸触媒の製造方
法。
37. R 1 is -N (T f 3 ) R 4 and R 2 is-.
N (T f 4) R 6 [T f 3 represents -SO 2 R f 3, T f 4 is -S
And O 2 R f 4 (R f 3 and R f 4 each independently represent a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group),
R 4 and R 6 together form a divalent group. ] The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 29.
【請求項38】R4およびR6がいっしょになって 【化28】 で表される基を形成する請求項37記載のルイス酸触媒
の製造方法。
38. R 4 and R 6 are joined together 38. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 37, wherein the group represented by: is formed.
【請求項39】Tf 1、Tf 2、Tf 3およびTf 4が−SO2
CF3である請求項29〜請求項38のいずれかに記載
のルイス酸触媒の製造方法。
39. T f 1 , T f 2 , T f 3 and T f 4 are --SO 2.
The method for producing a Lewis acid catalyst according to any one of claims 29 to 38, which is CF 3 .
【請求項40】Mが希土類元素、チタン、ジルコニウ
ム、ハフニウム、ホウ素またはアルミニウムから選ばれ
る元素である請求項29〜請求項39のいずれかに記載
のルイス酸触媒の製造方法。
40. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 29, wherein M is an element selected from rare earth elements, titanium, zirconium, hafnium, boron or aluminum.
【請求項41】Mがイットリウム、イッテルビウム、チ
タンまたはジルコニウムから選ばれる元素である請求項
29〜請求項39のいずれかに記載のルイス酸触媒の製
造方法。
41. The method for producing a Lewis acid catalyst according to claim 29, wherein M is an element selected from yttrium, ytterbium, titanium or zirconium.
【請求項42】一般式[II] 【化29】 [式中、X’はハロゲン原子、−OR7(R7は水素原子
または低級アルキル基を表す。)、−OOCR8(R8
低級アルキル基を表す。)または−O3SR9(R 9は低
級アルキル基または置換もしくは非置換のアリール基を
表す。)を表し、R1は置換もしくは非置換のシクロペ
ンタジエニル基、−OR3または−N(Tf 3)R4を表
し、R2は置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル
基、−OR5または−N(Tf 4)R6〔Tf 3は−SO2f
3を表し、Tf 4は−SO2f 4(Rf 3およびRf 4はそれぞ
れ独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基
を表す。)を表し、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ
独立に低級アルキル基を表すか、または、R3および
5、R3およびR6、R4およびR5、あるいは、R4およ
びR6がいっしょになって2価の基を形成する。〕を表
し、Mはアルカリ土類金属、希土類元素、遷移金属、ホ
ウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウ
ム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、ヒ素、アンチモ
ン、ビスマス、セレンまたはテルルから選ばれる元素を
表し、nは該当するMの原子価−2の整数を表す。]で
示される化合物と一般式[III] 【化30】 [式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−SO2f 1
表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2はそれぞれ
独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を
表す。)を表す。〕を表し、M’は−H、−Ag、アル
カリ金属またはアルカリ土類金属を表し、yはM’が−
H、−Agまたはアルカリ金属の場合には1であり、
M’がアルカリ土類金属の場合には2である。]で示さ
れる化合物とを反応させることにより得られるルイス酸
触媒。
42. A compound represented by the general formula [II]:[In the formula, X'is a halogen atom, -OR7(R7Is a hydrogen atom
Alternatively, it represents a lower alkyl group. ), -OOCR8(R8Is
Represents a lower alkyl group. ) Or -OThreeSR9(R 9Is low
A primary alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group
Represent. ), R1Is a substituted or unsubstituted cyclope
Interdienyl group, -ORThreeOr -N (Tf Three) RFourThe table
Then R2Is a substituted or unsubstituted cyclopentadienyl
Group, -ORFiveOr -N (Tf Four) R6[Tf ThreeIs -SO2Rf
ThreeRepresents Tf FourIs -SO2Rf Four(Rf ThreeAnd Rf FourEach
Independently fluorine atom or lower perfluoroalkyl group
Represents ), RThree, RFour, RFiveAnd R6Are each
Independently represents a lower alkyl group, or RThreeand
RFive, RThreeAnd R6, RFourAnd RFiveOr RFourAnd
And R6Together form a divalent group. ] To the table
M is an alkaline earth metal, a rare earth element, a transition metal,
Arsenic, aluminum, gallium, indium, tariu
Aluminum, silicon, germanium, tin, lead, arsenic, antimony
Element selected from nitrogen, bismuth, selenium or tellurium
Where n represents the integer of the corresponding M valence-2. ]so
A compound of the formula [III][In the formula, X is -N (Tf 1) Tf 2[Tf 1Is -SO2Rf 1To
Represent, Tf 2Is -SO2Rf 2(Rf 1And Rf 2Are each
Independently a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group
Represent. ). ], M'is -H, -Ag, al
Represents a potassium metal or an alkaline earth metal, and y is M'-
1 in the case of H, -Ag or alkali metal,
It is 2 when M'is an alkaline earth metal. ]
Lewis acid obtained by reacting with a compound
catalyst.
【請求項43】一般式[IV] 【化31】 [式中、R1は置換もしくは非置換のシクロペンタジエ
ニル基、−OR3または−N(Tf 3)R4を表し、R2
置換もしくは非置換のシクロペンタジエニル基、−OR
5または−N(Tf 4)R6〔Tf 3は−SO2f 3を表し、
f 4は−SO2f 4(Rf 3およびRf 4はそれぞれ独立に
フッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を表
す。)を表し、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立
に低級アルキル基を表すか、または、R3およびR5、R
3およびR6、R4およびR5、あるいは、R4およびR6
いっしょになって2価の基を形成する。〕を表す。]で
示される化合物と一般式[V] 【化32】 [式中、Xは−N(Tf 1)Tf 2〔Tf 1は−SO2f 1
表し、Tf 2は−SO2f 2(Rf 1およびRf 2はそれぞれ
独立にフッ素原子または低級パーフルオロアルキル基を
表す。)を表す。〕を表し、Mはアルカリ土類金属、希
土類元素、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ガリウ
ム、インジウム、タリウム、ケイ素、ゲルマニウム、ス
ズ、鉛、ヒ素、アンチモン、ビスマス、セレンまたはテ
ルルから選ばれる元素を表し、mは該当するMの原子価
の整数を表す。]で示される化合物とを反応させること
により得られるルイス酸触媒。
43. A compound represented by the general formula [IV]: [In the formula, R 1 represents a substituted or unsubstituted cyclopentadienyl group, —OR 3 or —N (T f 3 ) R 4 , and R 2 represents a substituted or unsubstituted cyclopentadienyl group, —OR
5 or -N (T f 4) R 6 [T f 3 represents -SO 2 R f 3,
T f 4 represents a (. Which represents a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group in each R f 3 and R f 4 independently) -SO 2 R f 4, R 3, R 4, R 5 and R 6 each Independently represents a lower alkyl group, or R 3 and R 5 , R
3 and R 6 , R 4 and R 5 , or R 4 and R 6 together form a divalent group. ]] Is represented. ] And a compound of the general formula [V] [Wherein, X is -N (T f 1 ) T f 2 [T f 1 represents -SO 2 R f 1 , T f 2 represents -SO 2 R f 2 (R f 1 and R f 2 are respectively Independently represents a fluorine atom or a lower perfluoroalkyl group). ], M represents an element selected from alkaline earth metals, rare earth elements, transition metals, boron, aluminum, gallium, indium, thallium, silicon, germanium, tin, lead, arsenic, antimony, bismuth, selenium or tellurium. , M represents an integer corresponding to the valence of M. ] The Lewis acid catalyst obtained by making it react with the compound shown by these.
JP7219165A 1995-08-28 1995-08-28 Lewis acid catalyst Pending JPH0957110A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7219165A JPH0957110A (en) 1995-08-28 1995-08-28 Lewis acid catalyst

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7219165A JPH0957110A (en) 1995-08-28 1995-08-28 Lewis acid catalyst

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0957110A true JPH0957110A (en) 1997-03-04

Family

ID=16731228

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7219165A Pending JPH0957110A (en) 1995-08-28 1995-08-28 Lewis acid catalyst

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0957110A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11240865A (en) * 1998-02-23 1999-09-07 Nissan Chem Ind Ltd Production of optically active compound
US5986120A (en) * 1998-02-10 1999-11-16 The Research Foundation Of The State University Of New York Metal triflimide complexes
FR2827194A1 (en) * 2001-07-11 2003-01-17 Rhodia Chimie Sa The use of gallium salts in presence of sulfonyl anhydrides or sulfonate anions, as Lewis acid catalysts for sulfonylation reactions, e.g. aromatic mesylation
JP2004531492A (en) * 2001-03-12 2004-10-14 ザ クイーンズ ユニバーシティ オブ ベルファスト Metal bistriflimide compound and method for synthesizing metal bistriflimide compound
JP2009214039A (en) * 2008-03-11 2009-09-24 Tosoh Finechem Corp Solid lewis acid catalyst and manufacturing method of diels-alder adduct using this catalyst
DE112011103786T5 (en) 2010-12-17 2013-09-12 Central Glass Company, Limited Bis (trifluoromethanesulfonyl) ethyl bearing compound and acid catalyst and process for producing the same

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5986120A (en) * 1998-02-10 1999-11-16 The Research Foundation Of The State University Of New York Metal triflimide complexes
JPH11240865A (en) * 1998-02-23 1999-09-07 Nissan Chem Ind Ltd Production of optically active compound
JP2004531492A (en) * 2001-03-12 2004-10-14 ザ クイーンズ ユニバーシティ オブ ベルファスト Metal bistriflimide compound and method for synthesizing metal bistriflimide compound
FR2827194A1 (en) * 2001-07-11 2003-01-17 Rhodia Chimie Sa The use of gallium salts in presence of sulfonyl anhydrides or sulfonate anions, as Lewis acid catalysts for sulfonylation reactions, e.g. aromatic mesylation
JP2009214039A (en) * 2008-03-11 2009-09-24 Tosoh Finechem Corp Solid lewis acid catalyst and manufacturing method of diels-alder adduct using this catalyst
DE112011103786T5 (en) 2010-12-17 2013-09-12 Central Glass Company, Limited Bis (trifluoromethanesulfonyl) ethyl bearing compound and acid catalyst and process for producing the same
US9314782B2 (en) 2010-12-17 2016-04-19 Central Glass Company, Limited Bis(trifluoromethanesulfonyl)ethyl-bearing compound and acid catalyst, and method for preparing same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Chikashita et al. 1, 3-Dimethyl-2-phenylbenzimidazoline as a novel and efficient reagent for mild reductive dehalogenation of. alpha.-halo carbonyl compounds and acid chlorides
JPH0957110A (en) Lewis acid catalyst
JPS60169442A (en) Production of cinnamic acid ester
JPH08133999A (en) Production of geranylgeraniol
JP3031851B2 (en) Method for producing alcohols
US7193113B2 (en) Arylbis(perfluoroalkylsulfonyl) methane and metallic salt thereof, and methods for producing the same
JP3631070B2 (en) Optically active fluorinated binaphthol derivatives
JPH09169690A (en) Production of acyl compounds
ES2609020T3 (en) Procedure for creating carbon-carbon bonds from carbonyl compounds
EP1203616B1 (en) Chiral lead catalyst and method of asymmetric aldol reaction
JPH0859554A (en) Asymmetric hydrogenation of ketoisophorone derivative
JPH09241184A (en) Production of friedel-crafts alkylation reaction product
WO2023176687A1 (en) Biphenanthrene compound or alkali metal salt thereof
JPH0714898B2 (en) Process for producing optically active α-hydroxycarboxylic acid ester
JP4618412B2 (en) Alicyclic tetracarboxylic acid compound and process for producing the same
JPH09188683A (en) Scandium-perfluoroalkanesulfonylimide complex and its production
KR970000934B1 (en) PROCESS FOR THE PREPARATION OF Ñß-(4-ISOBUTYLPHENYL) PROPIONIC ACID
JP5362208B2 (en) Adamantane derivatives having vinyl ether groups
JP5254264B2 (en) Method for allylation of sulfonylimidate
JPH10330314A (en) Production of pentaerythritol tetraester
WO2001038286A1 (en) PROCESS FOR PRODUCING t-BUTYL ESTERS OF BRIDGED-RING POLYCARBOXYLIC ACIDS
JPH1017515A (en) Binaphthyl compound and its production
JPS60149540A (en) Production of 2-(4-alkoxyphenyl)-2-methylpropyl chloride
JP2001261585A (en) Method for synthesizing vinyl halide compound
JPH04356446A (en) Production of carbonic acid ester