JPH095506A - 背面ミラ−及びその製造方法 - Google Patents
背面ミラ−及びその製造方法Info
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- JPH095506A JPH095506A JP8145827A JP14582796A JPH095506A JP H095506 A JPH095506 A JP H095506A JP 8145827 A JP8145827 A JP 8145827A JP 14582796 A JP14582796 A JP 14582796A JP H095506 A JPH095506 A JP H095506A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い可視光反射を達成できると共に反射光が
緑がかるのを解消できる背面ミラ−を提供する。 【解決手段】 ガラス基板（１）上の２個の反射増強層
（３，４）上に反射層（２）を堆積することにより製造
された背面ミラ−の緑の反射カラーは、層の材料及び厚
さを選択することにより制御され、ａ値が−６以上の反
射カラーを有し少なくとも６５％の可視光反射好ましく
は少なくとも７０％の可視光反射を実現することができ
る。内側反射増強層（３）及び反射層（５）は好ましく
はシリコンとし、内側反射増強層は１２５ｎｍ以下の光
学厚さを有し、中間反射増強層（４）は酸化シリコンで
構成しその光学厚さは１２５ｎｍ以上とする。このミラ
−はガラスの製造工程中にガラスのホットリボン上に順
次の層（３，４，５）を堆積することにより製造するこ
とができる。
緑がかるのを解消できる背面ミラ−を提供する。 【解決手段】 ガラス基板（１）上の２個の反射増強層
（３，４）上に反射層（２）を堆積することにより製造
された背面ミラ−の緑の反射カラーは、層の材料及び厚
さを選択することにより制御され、ａ値が−６以上の反
射カラーを有し少なくとも６５％の可視光反射好ましく
は少なくとも７０％の可視光反射を実現することができ
る。内側反射増強層（３）及び反射層（５）は好ましく
はシリコンとし、内側反射増強層は１２５ｎｍ以下の光
学厚さを有し、中間反射増強層（４）は酸化シリコンで
構成しその光学厚さは１２５ｎｍ以上とする。このミラ
−はガラスの製造工程中にガラスのホットリボン上に順
次の層（３，４，５）を堆積することにより製造するこ
とができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はミラ−及びミラ−の
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】欧州特許出願公開第５８３８７１号に
は、ガラスの製造工程中に例えばフロートガラスのリボ
ンのようなホットガラスのリボンに反射層及び少なくと
も２個の反射増強層を含むコーティングを被着すること
によりミラ−を製造する方法が記載されている。反射す
べき光の光源から最も遠い位置にある層は反射層とみな
され、反射増強層は光源と反射層との間に位置する。
は、ガラスの製造工程中に例えばフロートガラスのリボ
ンのようなホットガラスのリボンに反射層及び少なくと
も２個の反射増強層を含むコーティングを被着すること
によりミラ−を製造する方法が記載されている。反射す
べき光の光源から最も遠い位置にある層は反射層とみな
され、反射増強層は光源と反射層との間に位置する。
【０００３】反射層は、例えばシリコン、少なくとも
１．９の屈折率を有する酸化シリコン、酸化タンタル、
酸化スズ、又は酸化チタンのような高屈折率の層とする
ことができ、反射増強層は比較的低い屈折率の層と高屈
折率層との交互層とすることができる。高屈折率の反射
増強層は、例えば反射層として上記の高屈折率材料の層
とすることができる。一方、シリコンは可視光に対して
上記金属酸化物よりも大きい吸収を有しているので、欧
州特許出願公開第５８３８７１号の教示に基づき、背面
反射ミラ−においては高屈折率内側反射増強層として金
属酸化物層を用いて必要な高可視光反射を達成すること
が一般に好ましい。従って、背面反射ミラ−の好適構造
として層の配列は以下のようにされる。 ガラス 金属酸化物の内側（反射増強）層 比較的低い屈折率の中間（反射増強）層 シリコンの外側（反射）層
１．９の屈折率を有する酸化シリコン、酸化タンタル、
酸化スズ、又は酸化チタンのような高屈折率の層とする
ことができ、反射増強層は比較的低い屈折率の層と高屈
折率層との交互層とすることができる。高屈折率の反射
増強層は、例えば反射層として上記の高屈折率材料の層
とすることができる。一方、シリコンは可視光に対して
上記金属酸化物よりも大きい吸収を有しているので、欧
州特許出願公開第５８３８７１号の教示に基づき、背面
反射ミラ−においては高屈折率内側反射増強層として金
属酸化物層を用いて必要な高可視光反射を達成すること
が一般に好ましい。従って、背面反射ミラ−の好適構造
として層の配列は以下のようにされる。 ガラス 金属酸化物の内側（反射増強）層 比較的低い屈折率の中間（反射増強）層 シリコンの外側（反射）層
【０００４】低い屈折率の反射増強層は、反射層の屈折
率及び高屈折率の反射増強層の屈折率よりも小さい屈折
率少なくとも２以下の屈折率を有する酸化シリコンで構
成することができる。少なくとも反射増強層はほぼｎλ
／４の厚さの層で構成され、ここでｎは奇数（好ましく
は１）とし、λは可視域の光の波長とする。従って、こ
の層は干渉効果により反射を増強するように作用する。
率及び高屈折率の反射増強層の屈折率よりも小さい屈折
率少なくとも２以下の屈折率を有する酸化シリコンで構
成することができる。少なくとも反射増強層はほぼｎλ
／４の厚さの層で構成され、ここでｎは奇数（好ましく
は１）とし、λは可視域の光の波長とする。従って、こ
の層は干渉効果により反射を増強するように作用する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】欧州特許出願公開第５
８３８７１号のミラ−は通常のミラ−よりも優れた多数
の利点を有している。このミラ−はガラスの製造工程中
に反射コーティングをガラスに被着することにより製造
することができるばかりでなく（反射コーティングを被
着ための個別のオフライン処理の必要性が回避され
る）、ガラスの熱を利用してコーティング層を熱分解処
理（例えば化学気相体積）により形成して高い耐久性の
熱分解コーティングを形成することができる。一方、こ
のミラ−は、通常のミラ−よりも一層強い緑の反射色を
呈する傾向がある。この緑反射になり易い傾向は一般に
反射が増大するにしたがって増大する（λをスペクトル
の可視域の中間波長とした場合に、層特に反射増強層の
厚さがｎλ／４に近づくにしたがって増大する）。さら
に、この傾向は、反射光の大部分がガラスの厚さを２回
通過し、ガラス中の第１鉄の存在により透過光が緑の色
調を呈する背面ミラ−の場合に顕著になる。
８３８７１号のミラ−は通常のミラ−よりも優れた多数
の利点を有している。このミラ−はガラスの製造工程中
に反射コーティングをガラスに被着することにより製造
することができるばかりでなく（反射コーティングを被
着ための個別のオフライン処理の必要性が回避され
る）、ガラスの熱を利用してコーティング層を熱分解処
理（例えば化学気相体積）により形成して高い耐久性の
熱分解コーティングを形成することができる。一方、こ
のミラ−は、通常のミラ−よりも一層強い緑の反射色を
呈する傾向がある。この緑反射になり易い傾向は一般に
反射が増大するにしたがって増大する（λをスペクトル
の可視域の中間波長とした場合に、層特に反射増強層の
厚さがｎλ／４に近づくにしたがって増大する）。さら
に、この傾向は、反射光の大部分がガラスの厚さを２回
通過し、ガラス中の第１鉄の存在により透過光が緑の色
調を呈する背面ミラ−の場合に顕著になる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者は、ミラ−コー
ティングの個々の層の厚さ及び屈折率を適切に選択する
ことにより、少なくとも６５％の可視反射、特に好適実
施例においては少なくとも７０％の可視光反射を有する
共に−６以上のａ値を有する反射カラーを形成できる背
面ミラ−を見出した。
ティングの個々の層の厚さ及び屈折率を適切に選択する
ことにより、少なくとも６５％の可視反射、特に好適実
施例においては少なくとも７０％の可視光反射を有する
共に−６以上のａ値を有する反射カラーを形成できる背
面ミラ−を見出した。
【０００７】本発明では、反射層と少なくとも２個の反
射増強層を有しこれらコーティング層の厚さ及び屈折率
が少なくとも６５％の可視反射を呈すると共に−６以上
のａ値を有する反射カラーを有する反射コーティングを
支持するガラス基板を具える背面ミラ−を提供する。
射増強層を有しこれらコーティング層の厚さ及び屈折率
が少なくとも６５％の可視反射を呈すると共に−６以上
のａ値を有する反射カラーを有する反射コーティングを
支持するガラス基板を具える背面ミラ−を提供する。
【０００８】本明細書及び特許請求の範囲で用いられて
いる「可視光反射」の用語は、所定の基準（イルミナン
ト Ｄ６５ ソース １９３１ オブザバ コンディシ
ョン）の下で反射した光の割合を称する。本明細書及び
特許請求の範囲でａ及び／又はｂ値として規定されてい
る反射カラーは、ＣＩＥシステム（ＡＳＴＭＫ基準：Ｅ
３０８−８５）に基づいて規定されたカラーであり、上
記基準イルミナントＤ６５ ソース １９３１ オブザ
バ コンディションの下で測定した。
いる「可視光反射」の用語は、所定の基準（イルミナン
ト Ｄ６５ ソース １９３１ オブザバ コンディシ
ョン）の下で反射した光の割合を称する。本明細書及び
特許請求の範囲でａ及び／又はｂ値として規定されてい
る反射カラーは、ＣＩＥシステム（ＡＳＴＭＫ基準：Ｅ
３０８−８５）に基づいて規定されたカラーであり、上
記基準イルミナントＤ６５ ソース １９３１ オブザ
バ コンディションの下で測定した。
【０００９】本発明の背面ミラ−は、好ましくは少なく
とも７３％の可視光反射を有する。本発明の背面ミラ−
は、好ましくは−５以上のａ値を有する反射カラーを有
する。ガラス基板はフロートガラスとすることができ、
通常約２ｍｍ以上１２ｍｍ以下の厚さを有することがで
きる。ただし、これらの値に限定されるものではない。
とも７３％の可視光反射を有する。本発明の背面ミラ−
は、好ましくは−５以上のａ値を有する反射カラーを有
する。ガラス基板はフロートガラスとすることができ、
通常約２ｍｍ以上１２ｍｍ以下の厚さを有することがで
きる。ただし、これらの値に限定されるものではない。
【００１０】欧州特許出願第５８３８７１号におけるよ
うに、反射層を高屈折率の層とし反射増強層は高屈折率
の層と低屈折率の層とを交互に形成した層とする。この
反射層は、用いる場合反射すべき光の光源から最も離れ
た層とし、反射増強層は光源と反射層との間に配置す
る。
うに、反射層を高屈折率の層とし反射増強層は高屈折率
の層と低屈折率の層とを交互に形成した層とする。この
反射層は、用いる場合反射すべき光の光源から最も離れ
た層とし、反射増強層は光源と反射層との間に配置す
る。
【００１１】反射増強層の厚さは一般的に既知の方法で
選択でき、ガラスと隣接する反射増強層（すなわち、反
射層から離れた内側の反射増強層）とガラスとの間の界
面及び２個の反射増強層間の界面での反射は中間の反射
増強層に隣接する反射層の面からの反射を増強する。こ
れは、内側及び中間の反射増強層がそれぞれｎλ／４の
光学厚さを有する場合に発生する。ここで、λはスペク
トルの可視域の光の波長すなわち約４００ｎｍから７５
０ｎｍであり、ｎは奇数とする。ｎは各層毎に同一とし
又は相違させることができるが、１とすることが好まし
い。
選択でき、ガラスと隣接する反射増強層（すなわち、反
射層から離れた内側の反射増強層）とガラスとの間の界
面及び２個の反射増強層間の界面での反射は中間の反射
増強層に隣接する反射層の面からの反射を増強する。こ
れは、内側及び中間の反射増強層がそれぞれｎλ／４の
光学厚さを有する場合に発生する。ここで、λはスペク
トルの可視域の光の波長すなわち約４００ｎｍから７５
０ｎｍであり、ｎは奇数とする。ｎは各層毎に同一とし
又は相違させることができるが、１とすることが好まし
い。
【００１２】反射層の厚さは、中間の反射増強層と隣接
する反射層の面（すなわち、これら２個の層間の界面）
での反射がこの反射層の外側の面での反射により補強さ
れるように選択することができる。反射層の外側面がよ
り高い屈折率の層と隣接する限り、この反射補強は、反
射層の光学厚さが約ｎλ／４の場合に発生する。ここ
で、λはスペクトルの可視域の光の波長であり、ｎは奇
数通常は１である。
する反射層の面（すなわち、これら２個の層間の界面）
での反射がこの反射層の外側の面での反射により補強さ
れるように選択することができる。反射層の外側面がよ
り高い屈折率の層と隣接する限り、この反射補強は、反
射層の光学厚さが約ｎλ／４の場合に発生する。ここ
で、λはスペクトルの可視域の光の波長であり、ｎは奇
数通常は１である。
【００１３】所望の高可視光反射は極めて容易に達成さ
れると共に、反射層（すなわち、反射コーティングの外
側層）及び内側（ガラスに最も接近している）の反射増
強層の両方についてシリコンを用いることにより反射カ
ラー中での不所望な強い緑気味になることが回避され
る。
れると共に、反射層（すなわち、反射コーティングの外
側層）及び内側（ガラスに最も接近している）の反射増
強層の両方についてシリコンを用いることにより反射カ
ラー中での不所望な強い緑気味になることが回避され
る。
【００１４】反射カラーが強い緑気味になる傾向を制御
し同時に高光反射を達成するため、光学厚さが１２５ｎ
ｍ以下の内側反射増強層を用いることができ、光学厚さ
が１００ｎｍ以下特に９０ｎｍ以下（ただし、５０ｎｍ
以上）の内側反射増強層を用いることが好ましい。
し同時に高光反射を達成するため、光学厚さが１２５ｎ
ｍ以下の内側反射増強層を用いることができ、光学厚さ
が１００ｎｍ以下特に９０ｎｍ以下（ただし、５０ｎｍ
以上）の内側反射増強層を用いることが好ましい。
【００１５】特に好適な内側反射増強層は厚さが１４ｎ
ｍから１９ｎｍの範囲のシリコンの層である。
ｍから１９ｎｍの範囲のシリコンの層である。
【００１６】反射層の光学厚さは反射増強層の厚さより
も重要ではないが、通常は１００ｎｍ以上とし、吸収に
よる光の損失を接続するため（特に、シリコンの場合）
１５０ｎｍ以下とする。実際には、反射増強層の厚さを
維持しながらシリコン反射層の厚さを厚くすることによ
り反射カラーが緑気味になることが低減され、すなわち
ａが増大し、光学厚さが１２５ｎｍ以上のシリコン反射
層を用いることによりグリーン反射の低減が達成され
る。
も重要ではないが、通常は１００ｎｍ以上とし、吸収に
よる光の損失を接続するため（特に、シリコンの場合）
１５０ｎｍ以下とする。実際には、反射増強層の厚さを
維持しながらシリコン反射層の厚さを厚くすることによ
り反射カラーが緑気味になることが低減され、すなわち
ａが増大し、光学厚さが１２５ｎｍ以上のシリコン反射
層を用いることによりグリーン反射の低減が達成され
る。
【００１７】特に好適な反射層は２０ｎｍ以上の厚さ特
に２５〜３５ｎｍの厚さのシリコン層である。
に２５〜３５ｎｍの厚さのシリコン層である。
【００１８】シリコンの屈折率は５以下の値の場合もあ
るが、約５程度である（シン ソリッド フィルム（１
９８３）第１４１〜１４７頁参照）。
るが、約５程度である（シン ソリッド フィルム（１
９８３）第１４１〜１４７頁参照）。
【００１９】この技術分野において屈折率が波長に応じ
て変化することが既知である。本明細書及び特許請求の
範囲において、屈折率は通常の意味において波長が５５
０ｎｍの光の屈折率を意味するものとする（疑いを回避
するため、光学厚さは波長が５５０ｎｍの光の屈折率か
ら計算した光学厚さを意味するものとする）。実際に、
シリコンの屈折率は正確なシリコンの形態及び例えば酸
素、窒素又は炭素のような不純物の存在に応じて変化す
る。本発明の目的の場合、これらの不純物の存在は、屈
折率が約２．８以下に低減されれば、許容することがで
きる（実際に、酸素及び／又は炭素が含有されないでオ
ンラインシリコンコーティングを形成することは困難で
ある）。従って、本明細書で用いる用語「シリコン」
は、主としてシリコンから構成される材料のの高屈折率
の層を意味するものであり、屈折率が少なくとも２．８
であれば少量の不純物を含有するうことができ、用いる
シリコンの屈折率は少なくとも３．０とすることが好ま
しい。
て変化することが既知である。本明細書及び特許請求の
範囲において、屈折率は通常の意味において波長が５５
０ｎｍの光の屈折率を意味するものとする（疑いを回避
するため、光学厚さは波長が５５０ｎｍの光の屈折率か
ら計算した光学厚さを意味するものとする）。実際に、
シリコンの屈折率は正確なシリコンの形態及び例えば酸
素、窒素又は炭素のような不純物の存在に応じて変化す
る。本発明の目的の場合、これらの不純物の存在は、屈
折率が約２．８以下に低減されれば、許容することがで
きる（実際に、酸素及び／又は炭素が含有されないでオ
ンラインシリコンコーティングを形成することは困難で
ある）。従って、本明細書で用いる用語「シリコン」
は、主としてシリコンから構成される材料のの高屈折率
の層を意味するものであり、屈折率が少なくとも２．８
であれば少量の不純物を含有するうことができ、用いる
シリコンの屈折率は少なくとも３．０とすることが好ま
しい。
【００２０】内側反射増強層を上述した構成として所望
の反射及びカラー特性を得るため、反射層と隣接する中
間の反射増強層は１２５ｎｍ以上の光学厚さを有するこ
とができ、光学厚さが１４０ｎｍ以上の中間反射増強層
を用いるの好適である（しかし、通常は２００ｎｍ以
下）
の反射及びカラー特性を得るため、反射層と隣接する中
間の反射増強層は１２５ｎｍ以上の光学厚さを有するこ
とができ、光学厚さが１４０ｎｍ以上の中間反射増強層
を用いるの好適である（しかし、通常は２００ｎｍ以
下）
【００２１】反射層と隣接する反射増強層は比較的低い
屈折率、一般的には１．８以下の屈折率とする必要があ
り、好ましくは１．６以下の屈折率とする。高い可視光
反射を得るため、反射増強層は可視のスペクトル域にお
いてほぼ吸収のない材料とする必要がある。好適な材料
は酸化シリコンであり、炭素や窒素のような別の少量の
元素を含んでもよく、本明細書において「酸化シリコ
ン」の用語は少量の不純物を含むシリコン酸化物を意味
するものとする。一方、高光透過を得るため、シリコン
と酸素との比が約１：２で低レベルの不純物濃度で屈折
率が１．６以下好ましくは１．５以下のシリコン酸化物
を用いるのが望ましい。
屈折率、一般的には１．８以下の屈折率とする必要があ
り、好ましくは１．６以下の屈折率とする。高い可視光
反射を得るため、反射増強層は可視のスペクトル域にお
いてほぼ吸収のない材料とする必要がある。好適な材料
は酸化シリコンであり、炭素や窒素のような別の少量の
元素を含んでもよく、本明細書において「酸化シリコ
ン」の用語は少量の不純物を含むシリコン酸化物を意味
するものとする。一方、高光透過を得るため、シリコン
と酸素との比が約１：２で低レベルの不純物濃度で屈折
率が１．６以下好ましくは１．５以下のシリコン酸化物
を用いるのが望ましい。
【００２２】特に好適な中間反射増強層は９５〜１３０
ｎｍのの厚さを有する酸化シリコン層である。ただし、
十分に低い屈折率の他の材料、例えば酸化アルミニウム
のような材料を用いることもできる。
ｎｍのの厚さを有する酸化シリコン層である。ただし、
十分に低い屈折率の他の材料、例えば酸化アルミニウム
のような材料を用いることもできる。
【００２３】欧州特許出願第５８３８７１号に記載され
ているように、ガラスの製造工程中に熱分解処理により
必要な屈折率の層をホットガラスのリボンに被着するこ
とができる。化学気相体積プロセスを用いて必要なシリ
コン又はシリコン酸化物層を形成することは一般的に用
いられている。従って、例えば窒素のような気相の希釈
剤中のシリコンガスを用いて化学気相体積によりシリコ
ンをホットガラス基板上に（直接又は間接的に）体積さ
せることができる。モノシランを用いることが最も一般
的であるが、デクロールシランのような別のシランを用
いることもできる。このようなシリコン層を堆積させる
のに好適なプロセスは英国特許出願第１５０７９９６号
にき記載されている。所望の場合、例えばシリコンコー
ティングのアルカリ耐久性を改善するため、反応ガスは
少量の気相の電子供与化合物、特に例えばエチレンのよ
うなエチレン系不飽和炭化水素化合物を添加物として含
むことができる（しかし、この化合物の含有量を高くす
ることは回避する。この化合物の存在によりシリコンコ
ーティングに酸素が含有されていまい屈折率が屈折率が
低下するからである。
ているように、ガラスの製造工程中に熱分解処理により
必要な屈折率の層をホットガラスのリボンに被着するこ
とができる。化学気相体積プロセスを用いて必要なシリ
コン又はシリコン酸化物層を形成することは一般的に用
いられている。従って、例えば窒素のような気相の希釈
剤中のシリコンガスを用いて化学気相体積によりシリコ
ンをホットガラス基板上に（直接又は間接的に）体積さ
せることができる。モノシランを用いることが最も一般
的であるが、デクロールシランのような別のシランを用
いることもできる。このようなシリコン層を堆積させる
のに好適なプロセスは英国特許出願第１５０７９９６号
にき記載されている。所望の場合、例えばシリコンコー
ティングのアルカリ耐久性を改善するため、反応ガスは
少量の気相の電子供与化合物、特に例えばエチレンのよ
うなエチレン系不飽和炭化水素化合物を添加物として含
むことができる（しかし、この化合物の含有量を高くす
ることは回避する。この化合物の存在によりシリコンコ
ーティングに酸素が含有されていまい屈折率が屈折率が
低下するからである。
【００２４】低屈折率の反射増強層（すなわち、中間
層）として用いる酸化シリコン層は同様に酸素が混合さ
れた気相希釈剤中のシランガスから気相堆積により堆積
することができる。
層）として用いる酸化シリコン層は同様に酸素が混合さ
れた気相希釈剤中のシランガスから気相堆積により堆積
することができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】図１を参照するに、背面ミラ−は
反射コーティング２を支持するフロートガラス基板１を
具え、この反射コーティング２はシリコンの内側反射増
強層３、酸化シリコンの中間反射増強層４及びシリコン
の外側反射層５を有する。この少なくとも６５％の可視
光反射及び−６以上のａ値を有するミラ−の製造を以下
の実施例で説明する。図２及び３において、図１の基板
及び層と同一の部材には同一符号を用いる。さらに、図
２は保護層（例えば、酸化スズの薄い層）又は塗料層や
自己接着性フィルムの形態の不透明層である他の層６
（層６が不透明層の場合層６は図示の他の層よりもより
厚い層である）を示す。図３はボードの形態の不透明層
７を有し、この不透明層はフレーム８により組み立てら
れたガラスと隣接する黒化表面を有する。図４は、ガラ
ス溶融段１１、溶融したガラスを連続するリボンに形成
するフロートバス段１２、ガラスリボンをアニールする
リール段１３及び貯蔵及び／又は分配し及び使用するた
めにリボンをガラス片に切断する貯蔵段１４を具えるフ
ロートガラス製造工程を線図的に示す。本発明のミラ−
の製造において、内側層、中間層及び外側層をそれぞれ
形成する３個の各コーティング工程はフロートバス段１
２とリール段１３との間に位置し、本発明の図示の実施
例においてこれら３個の段１５、１６、１７は図４に示
すように、フロートバス段１２中に配置する。各コーテ
ィング工程の位置は、ガラスリボンがほぼ最終の厚さに
達する位置（通常は７５０°Ｃのガラス温度以下）従っ
てガラスリボンがさらに延伸されずコーティング層にク
ラックが発生せず、（少なくとも内側層及び中間層に対
して）別の熱分解層の形成に対して十分に高い温度に維
持される位置に位置するように選択する。
反射コーティング２を支持するフロートガラス基板１を
具え、この反射コーティング２はシリコンの内側反射増
強層３、酸化シリコンの中間反射増強層４及びシリコン
の外側反射層５を有する。この少なくとも６５％の可視
光反射及び−６以上のａ値を有するミラ−の製造を以下
の実施例で説明する。図２及び３において、図１の基板
及び層と同一の部材には同一符号を用いる。さらに、図
２は保護層（例えば、酸化スズの薄い層）又は塗料層や
自己接着性フィルムの形態の不透明層である他の層６
（層６が不透明層の場合層６は図示の他の層よりもより
厚い層である）を示す。図３はボードの形態の不透明層
７を有し、この不透明層はフレーム８により組み立てら
れたガラスと隣接する黒化表面を有する。図４は、ガラ
ス溶融段１１、溶融したガラスを連続するリボンに形成
するフロートバス段１２、ガラスリボンをアニールする
リール段１３及び貯蔵及び／又は分配し及び使用するた
めにリボンをガラス片に切断する貯蔵段１４を具えるフ
ロートガラス製造工程を線図的に示す。本発明のミラ−
の製造において、内側層、中間層及び外側層をそれぞれ
形成する３個の各コーティング工程はフロートバス段１
２とリール段１３との間に位置し、本発明の図示の実施
例においてこれら３個の段１５、１６、１７は図４に示
すように、フロートバス段１２中に配置する。各コーテ
ィング工程の位置は、ガラスリボンがほぼ最終の厚さに
達する位置（通常は７５０°Ｃのガラス温度以下）従っ
てガラスリボンがさらに延伸されずコーティング層にク
ラックが発生せず、（少なくとも内側層及び中間層に対
して）別の熱分解層の形成に対して十分に高い温度に維
持される位置に位置するように選択する。
【００２６】図５を参照するに、本発明の実施に有用な
符号２０で示す二重フロートガス供給装置は、封止され
たキャビティ２６及び２８を画成する離間した内側壁及
び外側壁２２及び２４により形成されるフレームワーク
２１を具え、これらキャビティを介して適当な熱交換媒
体を循環させて供給流を所望の温度に維持する。供給流
路に沿って延在する流体供給導管を介して供給される気
相の前駆物質を、供給導管に沿って離間したドロップラ
イン３２を介してフレームワークにより支持されるヘッ
ダ３６内の分配チャンバ３４に収容する。ドロップライ
ン３２を介して収容した気相の前駆物質は分配チャンバ
３４から流路３８を介してガラス１８（溶融スズのバス
上に浮遊するリボンの形態として図示する）に向けて及
びガラスに沿って図５の矢印の方向の上流及び下流（リ
ボンの移動方向に対して）に放出される。分配チャンバ
内にバッフルプレート４０を設けて供給流路に沿って前
駆物質流を一様にしてガラスに対して前駆物質を流路全
体にわたってスムースに、薄層状に、均一な流れとして
放出させる。消費された前駆材料及びある量の期待ビー
ム付近のガスは収集されて供給流路のサイド部を経て排
気チャンバ４２から排出する。化学気相堆積に好適な種
々の供給装置が既知であり、例えば米国特許第４４６９
０４５号及び第５０６５６９６号に記載されている。
符号２０で示す二重フロートガス供給装置は、封止され
たキャビティ２６及び２８を画成する離間した内側壁及
び外側壁２２及び２４により形成されるフレームワーク
２１を具え、これらキャビティを介して適当な熱交換媒
体を循環させて供給流を所望の温度に維持する。供給流
路に沿って延在する流体供給導管を介して供給される気
相の前駆物質を、供給導管に沿って離間したドロップラ
イン３２を介してフレームワークにより支持されるヘッ
ダ３６内の分配チャンバ３４に収容する。ドロップライ
ン３２を介して収容した気相の前駆物質は分配チャンバ
３４から流路３８を介してガラス１８（溶融スズのバス
上に浮遊するリボンの形態として図示する）に向けて及
びガラスに沿って図５の矢印の方向の上流及び下流（リ
ボンの移動方向に対して）に放出される。分配チャンバ
内にバッフルプレート４０を設けて供給流路に沿って前
駆物質流を一様にしてガラスに対して前駆物質を流路全
体にわたってスムースに、薄層状に、均一な流れとして
放出させる。消費された前駆材料及びある量の期待ビー
ム付近のガスは収集されて供給流路のサイド部を経て排
気チャンバ４２から排出する。化学気相堆積に好適な種
々の供給装置が既知であり、例えば米国特許第４４６９
０４５号及び第５０６５６９６号に記載されている。
【００２７】以下の実施例において本発明を説明する。
ただし、これら実施例に限定されるものではない。実施
例において、ミラ−は、図４に示すコーティング工程１
５、１６（２供給路）及び１７に配置したコーティング
ガス供給装置を有するフロートガラス製造ラインを用い
てオンラインで製造した。これらの実施例において、ガ
ス流は周囲温度及び１バールの圧力下で測定され、全て
のガス流はコーティングされたメートル当たりの幅で示
す。
ただし、これら実施例に限定されるものではない。実施
例において、ミラ−は、図４に示すコーティング工程１
５、１６（２供給路）及び１７に配置したコーティング
ガス供給装置を有するフロートガラス製造ラインを用い
てオンラインで製造した。これらの実施例において、ガ
ス流は周囲温度及び１バールの圧力下で測定され、全て
のガス流はコーティングされたメートル当たりの幅で示
す。
【００２８】
【実施例】実施例１ 背面ミラーとして用いるガラスミラーは、薄い気相コー
ティングプロセスを用いて製造した。図５に図示した４
個の個別の等間隔のコーティング流(coating beam)を用
いてフロートガラスのリボンに連続するシリコン（１ビ
ーム）、酸化シリコン（２ビーム）及びシリコン層（１
ビーム）を供給する。フロートガラスのリボンは４ｍｍ
の厚さを有し、５５５ｍ／時間の焼なまし送り速度で進
行する。コーティング流の各々は、ガラスリボンが溶融
した金属のバスに支持されているフロートバスに位置
し、上流（ガラスの進行方向に対して）のコーティング
流はガラス温度が約７１０℃の位置に位置する。
ティングプロセスを用いて製造した。図５に図示した４
個の個別の等間隔のコーティング流(coating beam)を用
いてフロートガラスのリボンに連続するシリコン（１ビ
ーム）、酸化シリコン（２ビーム）及びシリコン層（１
ビーム）を供給する。フロートガラスのリボンは４ｍｍ
の厚さを有し、５５５ｍ／時間の焼なまし送り速度で進
行する。コーティング流の各々は、ガラスリボンが溶融
した金属のバスに支持されているフロートバスに位置
し、上流（ガラスの進行方向に対して）のコーティング
流はガラス温度が約７１０℃の位置に位置する。
【００２９】４個のコーティング流は以下のガス混合物
と共に供給した。 SiH4 エチレン Ｏ2 Ｎ2 １（上流側） １．３ − − １２０ ２ ２．０ １２ ８ １５０ ３ ２．０ １２ ８ １５０ ４（下流側） ６．５ １ − １２０
と共に供給した。 SiH4 エチレン Ｏ2 Ｎ2 １（上流側） １．３ − − １２０ ２ ２．０ １２ ８ １５０ ３ ２．０ １２ ８ １５０ ４（下流側） ６．５ １ − １２０
【００３０】高反射を有するコートされたリボンをアニ
ールするためにリール条件（焼なまし条件）を変更する
ことは不要であった。通常の方法によりリボンから個々
のミラーに切断し、イルミナント Ｄ６５ ソース １
９７１ オブザーバ コンディションをガラスの非コー
ト側に用いて光学特性を測定し、以下の結果が得られ
た。可視光反射は７３．５％であり反射光は−５．１の
ａ値及び＋０．６のｂ値を有していた。
ールするためにリール条件（焼なまし条件）を変更する
ことは不要であった。通常の方法によりリボンから個々
のミラーに切断し、イルミナント Ｄ６５ ソース １
９７１ オブザーバ コンディションをガラスの非コー
ト側に用いて光学特性を測定し、以下の結果が得られ
た。可視光反射は７３．５％であり反射光は−５．１の
ａ値及び＋０．６のｂ値を有していた。
【００３１】このａ値は好適な最小値−５よりも若干低
いが、（測定された他の光学特性と同様に）膜厚と屈折
率の観測された組合せを有するコーティングされたガラ
スについての計算値と良好に整合していた（内側反射増
強層は厚さ１８ｎｍで屈折率４．４を有していた。中間
の反射増強層は厚さ１０５ｎｍで屈折率１．４６を有し
ていた。外側反射層は厚さ１９ｎｍで屈折率４．３を有
していた。）。厚さ１８ｎｍのシリコンの内側反射増強
層、厚さ１１０ｎｍの酸化シリコンの中間反射増強層及
び厚さ２５ｎｍのシリコンの外側反射層で上述した屈折
率を有するコーティグについても同様な理論が適用さ
れ、対応する結果を以下に示す。 可視光反射 ７４％ ａ値 −３．８ ｂ値 ＋２．３ この結果より明らかなように、本発明の好適なコーティ
ング層は膜厚をわずかに変更することにより同様に製造
することができる。
いが、（測定された他の光学特性と同様に）膜厚と屈折
率の観測された組合せを有するコーティングされたガラ
スについての計算値と良好に整合していた（内側反射増
強層は厚さ１８ｎｍで屈折率４．４を有していた。中間
の反射増強層は厚さ１０５ｎｍで屈折率１．４６を有し
ていた。外側反射層は厚さ１９ｎｍで屈折率４．３を有
していた。）。厚さ１８ｎｍのシリコンの内側反射増強
層、厚さ１１０ｎｍの酸化シリコンの中間反射増強層及
び厚さ２５ｎｍのシリコンの外側反射層で上述した屈折
率を有するコーティグについても同様な理論が適用さ
れ、対応する結果を以下に示す。 可視光反射 ７４％ ａ値 −３．８ ｂ値 ＋２．３ この結果より明らかなように、本発明の好適なコーティ
ング層は膜厚をわずかに変更することにより同様に製造
することができる。
【００３２】上記実施例に基づいて製作したミラー（７
４％可視光反射で−５．０のａ値及び＋０．９のｂ値を
有している）の後側のコーティング上にアクリル接着剤
により２００μｍの黒のポリエチレンフィルムを設け
た。この黒の膜を設けたことにより光学特性はわずかに
変化したにすぎず、測定した可視光反射は７２．５％で
あり、ａ値は−５．６でありｂ値は＋０．１であった。
４％可視光反射で−５．０のａ値及び＋０．９のｂ値を
有している）の後側のコーティング上にアクリル接着剤
により２００μｍの黒のポリエチレンフィルムを設け
た。この黒の膜を設けたことにより光学特性はわずかに
変化したにすぎず、測定した可視光反射は７２．５％で
あり、ａ値は−５．６でありｂ値は＋０．１であった。
【００３３】従って、本発明により、高い耐久性を有す
ると共にニュートラルの反射カラーに近く通常の銀ミラ
ーの反射カラーに近い反射カラー（上述した実施例で用
いたフロートガラスに基づいて形成した場合、ａ＝−
２．５，ｂ＝＋１．５）を有する背面ミラーをオンライ
ンで生産できること明らかである。実施例２ ４ｍｍのフロートガラスリボンを６９０ｍ／時間のリー
ル速度で進行させること、二重フロービーム１（上流）
及び４（下流）を欧州特許出願第３０５１０２号Ｂに記
載されている型式の均一な薄いコーティングビームで置
き換えること、グラファイトのブロックを金属ブロック
に置き換えたこと、及びガス流規制部材を二重フロービ
ームで用いたバッフルプレートに対応する一連のバッフ
ルプレートで置き換えたことを除いて実施例１と同一の
構成である。ガス流は以下に示すものとした（ビーム
１，２及び３についてリットル／分の割合で供給し、ビ
ーム４についてkg／時間で供給し、ビーム２のアセトン
についてはｃｃ／分の割合で供給した）。 SiH4 エチレン アセトン Ｏ2 Ｎ2 １上流 1.4 23 ２ 5.7 11.4 4.4 19.6 ３ 2 12 8 149 ４下流 0.06 0.029 2.6
ると共にニュートラルの反射カラーに近く通常の銀ミラ
ーの反射カラーに近い反射カラー（上述した実施例で用
いたフロートガラスに基づいて形成した場合、ａ＝−
２．５，ｂ＝＋１．５）を有する背面ミラーをオンライ
ンで生産できること明らかである。実施例２ ４ｍｍのフロートガラスリボンを６９０ｍ／時間のリー
ル速度で進行させること、二重フロービーム１（上流）
及び４（下流）を欧州特許出願第３０５１０２号Ｂに記
載されている型式の均一な薄いコーティングビームで置
き換えること、グラファイトのブロックを金属ブロック
に置き換えたこと、及びガス流規制部材を二重フロービ
ームで用いたバッフルプレートに対応する一連のバッフ
ルプレートで置き換えたことを除いて実施例１と同一の
構成である。ガス流は以下に示すものとした（ビーム
１，２及び３についてリットル／分の割合で供給し、ビ
ーム４についてkg／時間で供給し、ビーム２のアセトン
についてはｃｃ／分の割合で供給した）。 SiH4 エチレン アセトン Ｏ2 Ｎ2 １上流 1.4 23 ２ 5.7 11.4 4.4 19.6 ３ 2 12 8 149 ４下流 0.06 0.029 2.6
【００３４】得られたコートガラスは、可視光反射は７
０％であり、反射光は−５．８のａ値及び０．７のｂ値
を有していた。個々の層の厚さ及び屈折率は内側反射増
強層において１９ｎｍ及び４．４であり、中間反射増強
層は８０ｎｍ及び１．４６であり、反射層は２５ｎｍ及
び４．３であった。
０％であり、反射光は−５．８のａ値及び０．７のｂ値
を有していた。個々の層の厚さ及び屈折率は内側反射増
強層において１９ｎｍ及び４．４であり、中間反射増強
層は８０ｎｍ及び１．４６であり、反射層は２５ｎｍ及
び４．３であった。
【００３５】実施例３ ４ｎｍのフロートガラスリボンを７５０ｍ／時間のリー
ル速度で進行させ、二重フロービーム１（上流）及び４
（下流）を欧州特許出願第３０５１０２号に記載の型式
の均一な薄いコーティングビームで置き換えたこと、ガ
ス流を以下のように（ビーム１，２及び３についてリッ
トル／分で供給し、ビーム４についてkg／時間の割合で
供給する）設定したことを除き実施例１と同一の構成と
した。 SiH4 エチレン Ｏ2 Ｎ2 １（上流） 1.6 23 ２ 2.6 15.4 5.1 74＋74 ３ 2.6 15.4 5.1 74＋74 ４（下流） 0.6 0.31 2.6
ル速度で進行させ、二重フロービーム１（上流）及び４
（下流）を欧州特許出願第３０５１０２号に記載の型式
の均一な薄いコーティングビームで置き換えたこと、ガ
ス流を以下のように（ビーム１，２及び３についてリッ
トル／分で供給し、ビーム４についてkg／時間の割合で
供給する）設定したことを除き実施例１と同一の構成と
した。 SiH4 エチレン Ｏ2 Ｎ2 １（上流） 1.6 23 ２ 2.6 15.4 5.1 74＋74 ３ 2.6 15.4 5.1 74＋74 ４（下流） 0.6 0.31 2.6
【００３６】得られたコートガラスは７３％の可視光反
射を有し、反射光が−２．６のａ値及び＋３．２のｂ値
を有していた。個々の層の厚さ及び屈折率は、内側反射
増強層において１８ｎｍ及び４．５であり、中間反射増
強層は１０１ｎｍおよび１．４５であり、反射層は３０
ｎｍ及び約４であった。
射を有し、反射光が−２．６のａ値及び＋３．２のｂ値
を有していた。個々の層の厚さ及び屈折率は、内側反射
増強層において１８ｎｍ及び４．５であり、中間反射増
強層は１０１ｎｍおよび１．４５であり、反射層は３０
ｎｍ及び約４であった。
【００３７】シリコン反射層の膜厚が厚くなると（実施
例１，２及び３を比較して）ａ値が増大する（従って、
ａ値の負の値が小さくなる）だけでなくｂ値も増大す
る。マーケットリサーチの結果は、増大したｂ値は使用
者に容易に受け入れられることを示しており、本発明の
好適なミラーのａ値は−４〜−２の範囲にありｂ値は
２．５〜４．５の範囲にあり、少なくとも７２％の光反
射が達成される。
例１，２及び３を比較して）ａ値が増大する（従って、
ａ値の負の値が小さくなる）だけでなくｂ値も増大す
る。マーケットリサーチの結果は、増大したｂ値は使用
者に容易に受け入れられることを示しており、本発明の
好適なミラーのａ値は−４〜−２の範囲にありｂ値は
２．５〜４．５の範囲にあり、少なくとも７２％の光反
射が達成される。
【図１】本発明によるミラ−の断面図である。
【図２】反射コーティング上に保護層すなわち塗料又は
プラスチィク膜の形態の不透明層が形成されている図１
に示すミラ−の断面図である。
プラスチィク膜の形態の不透明層が形成されている図１
に示すミラ−の断面図である。
【図３】反射コーティング上に個別のプライの形態の不
透明層が形成されている図１に示すミラ−の断面図であ
る。
透明層が形成されている図１に示すミラ−の断面図であ
る。
【図４】本発明の方法によるミラ−の製造におけるフロ
ートガラスの製造ラインのコーティング段の配置を示す
線図である。
ートガラスの製造ラインのコーティング段の配置を示す
線図である。
【図５】化学気相堆積により本発明で用いる反射コーテ
ィング層を堆積するための図４に示すコーティング段１
５、１６及び１７で用いるのに好適なガス供給段を示す
断面図である。
ィング層を堆積するための図４に示すコーティング段１
５、１６及び１７で用いるのに好適なガス供給段を示す
断面図である。
１ フロートガラス基板 ２ 反射コーティング ３ 内側反射増強層 ４ 中間反射増強層 ５ 外側反射増強層 ６ 不透明層
Claims (19)
- 【請求項１】 反射層及び少なくとも２個の反射増強層
を有する反射コーティングを支持するガラス基板を具え
る背面ミラ−において、 前記反射コーティングの層の厚さ及び屈折率を、少なく
とも６５％の可視光反射及び−６以上のａ値を有する反
射カラーを呈するように構成したことを特徴とする背面
ミラ−。 - 【請求項２】 請求項１に記載の背面ミラ−において、
前記反射コーティングの層の厚さ及び屈折率を、−５以
上のａ値を有する反射カラーを呈するように構成したこ
とを特徴とする背面ミラ−。 - 【請求項３】 請求項１又は２に記載の背面ミラ−にお
いて、内側反射増強層を１２５ｎｍ以下の光学厚さとし
たことを特徴とする背面ミラ−。 - 【請求項４】 請求項３に記載の背面ミラ−において、
前記内側反射増強層を１００ｎｍ以下の光学厚さとした
ことを特徴とする背面ミラ−。 - 【請求項５】 請求項１から４までのいずれか１項に記
載の背面ミラ−において、前記内側反射増強層をシリコ
ンで構成したことを特徴とする背面ミラ−。 - 【請求項６】 請求項５に記載の背面ミラ−において、
前記内側反射増強層を、１４ｎｍから１９ｎｍの厚さの
シリコン層としたことを特徴とする背面ミラ−。 - 【請求項７】 請求項１から６までのいずれか１項に記
載の背面ミラ−において、前記中間反射増強層が１２５
ｎｍ以上の光学厚さを有することを特徴とする背面ミラ
−。 - 【請求項８】 請求項７に記載の背面ミラ−において、
前記中間反射増強層が１４０ｎｍ以上の光学厚さを有す
ることを特徴とする背面ミラ−。 - 【請求項９】 請求項１から８までのいずれか１項に記
載の背面ミラ−において、前記中間反射増強層を酸化シ
リコン層としたことを特徴とする背面ミラ−。 - 【請求項１０】 請求項９に記載の背面ミラ−におい
て、前記中間反射増強層を、９５ｎｍから１３０ｎｍ以
上の厚さを有する酸化シリコン層としたことを特徴とす
る背面ミラ−。 - 【請求項１１】 請求項１から１０までのいずれか１項
に記載の背面ミラ−において、反射層をシリコン層とし
たことを特徴とする背面ミラ−。 - 【請求項１２】 ガラス基板を具える背面ミラ−におい
て、 前記ガラス基板が、１００ｎｍ以下の光学厚さのシリコ
ンの内側反射増強層と、１４０ｎｍ以上の光学厚さの酸
化シリコンの中間反射増強層と、シリコンの反射層とを
支持することを特徴とする背面ミラ−。 - 【請求項１３】 背面ミラ−を製造するに際し、 ガラスの製造プロセス中に、ホットガラスのリボン上に
２個の反射増強層及びその後反射層を堆積し、得られた
ミラ−が少なくとも６５％の可視光反射を有し、反射カ
ラーが−６以上のａ値を有することを特徴とする背面ミ
ラ−の製造方法。 - 【請求項１４】 請求項１３に記載の背面ミラ−の製造
方法において、前記層を熱分解により堆積させることを
特徴とする背面ミラ−の製造方法。 - 【請求項１５】 請求項１４に記載の背面ミラ−の製造
方法において、前記層を化学気相堆積により堆積させる
ことを特徴とする背面ミラ−の製造方法。 - 【請求項１６】 請求項１３から１５までのいずれか１
項に記載の背面ミラ−の製造方法により製造された背面
ミラ−。 - 【請求項１７】 請求項１から１２及び１６のいずれか
１項に記載の背面ミラ−において、前記反射層上に不透
明層が形成されていることを特徴とする背面ミラ−。 - 【請求項１８】 請求項１７に記載の背面ミラ−におい
て、前記不透明層を塗料層としたことを特徴とする背面
ミラ−。 - 【請求項１９】 請求項１７に記載の背面ミラ−におい
て、前記不透明層を、ミラ−の背面側に接着されたプラ
スチックの形態の不透明部材としたことを特徴とする背
面ミラ−。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GBGB9511841.0A GB9511841D0 (en) | 1995-06-10 | 1995-06-10 | Mirrors and their production |
| GB9511841:0 | 1995-06-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH095506A true JPH095506A (ja) | 1997-01-10 |
Family
ID=10775881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8145827A Pending JPH095506A (ja) | 1995-06-10 | 1996-06-07 | 背面ミラ−及びその製造方法 |
Country Status (16)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5858458A (ja) |
| EP (1) | EP0747735B1 (ja) |
| JP (1) | JPH095506A (ja) |
| KR (1) | KR970001251A (ja) |
| AT (1) | ATE231979T1 (ja) |
| BR (1) | BR9602715A (ja) |
| CA (1) | CA2178015A1 (ja) |
| CO (1) | CO4560042A1 (ja) |
| CZ (1) | CZ165396A3 (ja) |
| DE (1) | DE69625956T2 (ja) |
| GB (1) | GB9511841D0 (ja) |
| MX (1) | MX9602186A (ja) |
| PL (1) | PL314675A1 (ja) |
| TR (1) | TR199600486A2 (ja) |
| TW (1) | TW326437B (ja) |
| ZA (1) | ZA964507B (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| US7530877B1 (en) * | 1999-06-03 | 2009-05-12 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor processor systems, a system configured to provide a semiconductor workpiece process fluid |
| DE102008003363B4 (de) | 2007-01-15 | 2011-06-01 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Rückseitenspiegel |
| WO2009144095A2 (en) * | 2008-04-18 | 2009-12-03 | Agc Flat Glass Europe Sa | Solar energy reflector |
| JP5548143B2 (ja) * | 2011-01-25 | 2014-07-16 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | Ｌｅｄチップの製造方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| US4673248A (en) * | 1983-04-11 | 1987-06-16 | Nippon Soken, Inc. | Reflecting mirror for an automobile |
| US4504526A (en) * | 1983-09-26 | 1985-03-12 | Libbey-Owens-Ford Company | Apparatus and method for producing a laminar flow of constant velocity fluid along a substrate |
| US4661381A (en) * | 1985-10-07 | 1987-04-28 | Libbey-Owens-Ford Co. | Continuous vapor deposition method for producing a coated glass article |
| US5065696A (en) * | 1987-05-18 | 1991-11-19 | Libbey-Owens-Ford Co. | Temperature controlled distributor beam for chemical vapor deposition |
| DE69305936T3 (de) * | 1992-07-11 | 2004-07-22 | Pilkington United Kingdom Ltd., St. Helens | Verfahren zur Herstellung von reflektierenden Schichten auf Glas |
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| GB9400319D0 (en) * | 1994-01-10 | 1994-03-09 | Pilkington Glass Ltd | Coatings on glass |
-
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-
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- 1996-05-31 ZA ZA964507A patent/ZA964507B/xx unknown
- 1996-06-03 US US08/657,101 patent/US5858458A/en not_active Expired - Fee Related
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